KR20080074862A - 광학소자 및 광학소자 전이함수 제어방법 - Google Patents

광학소자 및 광학소자 전이함수 제어방법 Download PDF

Info

Publication number
KR20080074862A
KR20080074862A KR1020087009325A KR20087009325A KR20080074862A KR 20080074862 A KR20080074862 A KR 20080074862A KR 1020087009325 A KR1020087009325 A KR 1020087009325A KR 20087009325 A KR20087009325 A KR 20087009325A KR 20080074862 A KR20080074862 A KR 20080074862A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
electric field
grating
optical element
electrodes
optical
Prior art date
Application number
KR1020087009325A
Other languages
English (en)
Inventor
미하일 페트로프
Original Assignee
스웨트 옵틱스 게엠베하
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 스웨트 옵틱스 게엠베하 filed Critical 스웨트 옵틱스 게엠베하
Publication of KR20080074862A publication Critical patent/KR20080074862A/ko

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/24—Coupling light guides
    • G02B6/26—Optical coupling means
    • G02B6/34—Optical coupling means utilising prism or grating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/0305—Constructional arrangements
    • G02F1/0311—Structural association of optical elements, e.g. lenses, polarizers, phase plates, with the crystal
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B6/122—Basic optical elements, e.g. light-guiding paths
    • G02B6/124—Geodesic lenses or integrated gratings
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/0305—Constructional arrangements
    • G02F1/0316—Electrodes
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B6/00—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings
    • G02B6/10—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type
    • G02B6/12—Light guides; Structural details of arrangements comprising light guides and other optical elements, e.g. couplings of the optical waveguide type of the integrated circuit kind
    • G02B2006/12083—Constructional arrangements
    • G02B2006/12107—Grating
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/011—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  in optical waveguides, not otherwise provided for in this subclass
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/03—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect
    • G02F1/035—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on ceramics or electro-optical crystals, e.g. exhibiting Pockels effect or Kerr effect in an optical waveguide structure
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F2201/00—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00
    • G02F2201/30—Constructional arrangements not provided for in groups G02F1/00 - G02F7/00 grating
    • G02F2201/307—Reflective grating, i.e. Bragg grating

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Ceramic Engineering (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Optical Integrated Circuits (AREA)
  • Optical Modulation, Optical Deflection, Nonlinear Optics, Optical Demodulation, Optical Logic Elements (AREA)

Abstract

본 발명은 전기광학 재료로 형성되거나 추가층에 삽입된 브래그 위상격자(3)를 구비하는 광학소자에 관한 것이다. 브래그 위상격자(3)는 광 진행방향을 따라 보상재료층(8)과 전기 절연재료층(9)이 코팅된 도파관 표면의 주기적으로 적용된 일련의 돌출부와 후미부로 구성되어 있다. 위상격자(3)는 공간적으로 불균일하고 비주기적인 외부 전기장을 생성하는 수단이 설비되어 있다.
브래그 위상격자, 광도파관, 스펙트럼 필터링

Description

광학소자 및 광학소자 전이함수 제어방법{Optical element and Method for controlling its transfer function}
본 발명은 물리의 광학분야에 속하며, 특히, 광복사의 스펙트럼 필터링을 위한 광학방법 및 장치에 관한 것이다. 이는 전자광학 결정을 기초로 파장변환의 넓은 파동 스펙트럼을 갖는 협대역 필터를 만들고 선택적 광감쇠기 및 광변조기와 광 이퀄라이저를 제조하기 위해 사용된다.
전송되는 정보량은 현재 비례하지 않게 증가하여 통신망의 데이터 전송을 늘릴 수 있는 신기술의 개발을 유도하고 있다. 대부분의 미래지향 방법들 중 하나는 광섬유기반의 데이터 전송망(파장분할방식, WDM) 채널의 신호들을 고려한다. 가까운 장래에, 1530㎚에서 1600㎚에 이르는 등거리 파장의 생성으로 80개의 스펙트럼 채널들의 전송이 광통신망에서 초당 수 테라비트의 전송속도를 달성할 수 있게 한다.
분할기, 라우터, 필터, 변조기, 증폭기 등과 같은 대부분의 광학소자들이 가용하다면 실제로 효율적으로 WDM을 실행할 수 있을 것이다. 새로운 가능성의 효과적인 사용을 위해, 광신호와 전자수단에 의한 광신호의 재형성의 제어 및 변환을 달성하는 것이 또한 필요하게 된다. 이런 식으로, 제어된 광학소자들, 예컨대, 광 학스위치 및 제어가능한 광학필터의 역할이 점점더 커진다. 광복사의 스펙트럼 필터링의 모든 알려진 방법들은 광굴절 결정(photo reflective crystal)에서 정해지고 사전에 기록된 브래그 위상격자(Bragg phase gratings)에서 복사의 회절을 기초로 한다[G. A. Rakuljic, V. Leyva -"Volume holographic narrow-band optical filter". -Opt. Lett. - 1993, Vol. 18, N 6 p.p. 459-461]. 용량과 또한 브래그 위상격자의 파장 가이드 디자인 모두를 사용할 수 있다[J. Hukriede, I. Nee, D. Kip, E. Kraetzig - "Thermally fixed reflection gratings for infrared light in LiNbO3:Ti:Fe Channel waveguides". - Opt. Lett. - 1998, Vol. 23, N 17, p.p. 1405-1407].
실제 스펙트럼 필터링은 다음과 같이 발생한다. 위상격자의 벡터방향에 실제로 평행한 방향으로 광빔에 의한 결정의 조사시, 광은 위상격자에서 브래그 조건에 따르는 파장에서만 반사하며, 반대방향에서도 그러하다. 나머지 파장 스펙트럼의 광은 광학적으로 투명한 결정을 통해 불변인 채로 통과한다. 정확히 하기 위해, 광은 파장의 특정한 좁은 파장 스펙트럼내 위상격자에 반사된다. 광의 중심파장(λB)은 다음의 식에 따른다:
λB = 2nΛ
여기서, n은 결정의 평균 굴절률이고, Λ는 브래그 위상격자의 주기이다.
이러한 필터의 스펙트럼 선택도는 브래그 위상격자의 길이에 따르며 하기 식 에 일치한다:
Figure 112008027745894-PCT00001
여기서, d는 선택적 반사광의 주파대이고, n1은 브래그 위상격자의 굴절률에서 변경 진폭이며, T는 위상격자의 길이이다.
선택된 파장(λ)의 변경을 위해, 전기장 세기가 E인 전기장이 광의 복사 진행방향에 횡으로 가해질 수 있다[R. Muller, J. V. Alvarez-Bravo, L. Arizmendi, J.M. Cabrera. - "Tuning of photorefractive interference filters in LiNbO3. - J. Phys. D: Apll. Phys. - 1994, Vol 27, p.p. 1628-1632]. 선형 전기광학효과로 인해(Pokkels effect), 광굴절 결정에서, 결정의 평균 굴절률(n)은 하기 식과 같이 전기장(E)의 전압에 따른다:
Figure 112008027745894-PCT00002
여기서, Δn은 결정의 굴절률 변화이고, n0는 E=0인 상태에서 결정의 평균 굴절률이며, r은 결정학상 축에 대해 전기장 방향에 따르는 유효전기광학 계수이 다.
전기장 세기(E)의 변형시, 필터는 필터되는 복사의 특정 파장(λB)이 선택된다는 사실에 기인하여 변환된다. 도파관 설계는 전극들 간의 매우 작은 거리(10㎛)로 인해 비교적 낮은 인가전압에서 제어장들의 생성을 가능하게 한다.
협대역 광학필터의 기능을 수행하는 홀로그래픽 광학소자가 알려져 있다[US005440669A]. 이 소자는 브래그 위상격자가 기록되고 고정되는 광굴절 결정으로 구성된다. 소자는 매우 고스펙트럼 선택도를 갖는다(스펙트럼 전이함수의 폭이 적어도 10pm인 필터를 생성할 수 있다). 소자는 진입 곡률도를 갖는 광유도(light guidance)와 다수의 파면의 동시 필터링을 위해 사용될 수 있다. 공지된 홀로그래픽 소자가 광섬유 통신망에 사용되는 경우, 용량 설계가 필요하고 추가로 조준된 광학기들이 필요하다. 이는, 차례로, 정확한 조정을 요구한다. 이는 매우 많은 비용이 들며 따라서 대량생산에 적합하지 못하다.
결정에 일정한 전압의 인가에 의해 공간적으로 균일한 장이 상기 결정에서 생성되는 광굴절 결정에서 홀로그래픽 광학 필터의 전기 변환방법[M.P. Petrov, V.M. Petrov, A. V. Chamrai, C. Denz, T. Tschudi. -"Electrically controlled holographic optical filter". - Proc. 27th Eur. Conf. on Opt. Comm. (ECOC'01 - Amsterdam). - Th.F.3.4, p.p. 628-629 (2001)] 이 알려져 있다. 전기장 세기(E)에서 인가된 전압과 관련된 변화의 변경시, 필터는 필터된 복사의 특정 파장(λB)이 선택되는 사실로 인해 다시 설계된다. 이러한 공정의 단점은 매우 큰 제어전압을 사용해야 하는 것이 필요하며, 이 전압은 사용된 광굴절 재료의 작은 전기광학계수에 의해 결정된다. 또 다른 단점은 전기 방전에 의해 제한된 LiNbO3에 대해 최대 1㎚ 까지 작은 주파대의 변환이다.
다른 전기장 세기 값에서 광굴절 결정의 하나 및 동일한 용량에 몇개의 브래그 위상격자들을 작성하는 것으로 이루어진 전기 멀티플렉싱 공정[M.P. Petrov, S.I. Stepanov, A.A. Kamshilin. - Light diffraction from the volume holograms in electrooptic birefringent crystals". - Opt. Commun. - 1979, No. 29, p.p. 44-48]이 알려져 있다. 이 공정은 필터의 전기적 재설계의 파장 대역을 넓히게 할 수 있다.
그러나, 이 방법이 적용되는 경우, (전기적으로 멀티플렉스된 홀로그램의 최대 개수에 의해 정해진) 스위치된 스펙트럼 채널의 개수와 인접한 채널간에 거리에 제한이 있다. 이 제한은 누화와 관련하여 현재 데이터 전송 시스템에서 매우 높은 요구로 인해 발생한다. 전기 스위칭은 결정에 작성된 모든 격자들의 중심 파장들의 간단한 편이를 초래한다. 격자의 중심 파장대역은 현재 활성화된 스펙트럼 채널의 중심 파장대역에 해당한다. 나머지 격자들은 동시에 추가 잡음을 야기한다. 2개의 전극들이 외부 전기장을 인가하도록 재료의 대향한 가장자리들에 부착된 적어도 하나의 홀로그래픽 격자가 형성된 상유전(paraelectrical) 광굴절 재료를 포함하는 전기 스위치가 알려져 있다(WO 00/02098).
그러나, 스위치의 경우, 위상편이와 유사하게 행동하는 상유전 위상의 결 정(KLTN)으로 사용되어 진다. 이는 실질적으로 이러한 구성의 온도의 안정화에 대한 요구를 높이고 동작 온도범위를 제한한다.
현재, 결정(KLTN)을 이용한 고품질의 도파관의 제조에 대해서는 어떠한 방법도 알려져 있지 않다. 이것이 바로 공지된 전자홀로그래피 방법을 기초로 구성된 용량 설계로만 생산될 수 있고 높은 변환 전압과 복잡한 광학적 튜닝을 요구하는 이유이다.
광스위치(US 004039249A) 방법이 또한 알려져 있다. 이 방법은 제곱 전기광학적 효과(square electro optical effect)를 기초로 한다. 이는 상유전 격자에 작성된 홀로그래픽 격자의 전기 활성을 가능하게 한다. 활성은 결정내 홀로그래픽 격자을 구성하는 공간적으로 변조된 전기장 분포의 상호작용과 공간적으로 균일한 외부 전기장의 영향에 의해 발생된다. 이러한 공지된 방법은 전파 방향과 또한 파장에 따라 모두 광에 대해 변환될 수 있다.
그러나, 이러한 공지된 방법은 고도의 변환 전압과 복잡한 광학적 튜닝을 필요로 한다. 이는 변환시간을 길게 한다.
US005832148A에 기술된 광학소자는 많은 기본적인 특징들 면에서 등록된 소자들과 유사한 구성요소이다. 기판 자체의 굴절률보다 더 큰 굴절률을 갖는 전기광학 재료의 박막이 적용된 기판을 기초로 한다. 상단에 놓이는 박막은 광도파관으로서 사용된다. 이에 대한 향상으로, 특정 전기광학재료(LiNbO3)가 기판으로서 사용되고, 광도파관은 티타늄 이온의 중간층의 확산에 의해 형성된다. 길게 뽑아진 전극 들이 전기광학층의 표면에 부착되고 제어 전압원이 전극들에 연결되어 있다. 브래그 위상격자가 도파관 층에 작성된다.
필터는 매우 큰 스펙트럼 감도를 가지며 전기적으로 조정가능한 협대역 광필터 기능을 수행한다(10pm 보다 작은 스펙트럼 감도를 갖는 필터를 만들 수 있다). 도파관의 설계는 전극들(10㎛) 간의 매우 짧은 거리로 인해 비교적 낮은 전압으로 큰 전기장 세기를 만들 수 있다.
그러나, 이러한 필터의 동조능력(tuneability)의 파장대역은 전기적 파괴방전 전압에 의해 제한되며, 결정(LiNbO3)을 기초로 필터인 경우 기껏 1㎚를 넘는다.
전기광학 재료의 층표면에 인가된 전극에 전기장을 가하는, 프로토타입[aaO]으로 기술된 광필터의 전송기능 제어를 위한 또 다른 공정이 알려져 있다. 전기광학 재료에서, 인가된 제어전압은 브래그 위상격자의 파동 벡터를 따라 지향된 균일한 전기장을 생성한다. 형성된 전기장은 전기광학 재료의 굴절률에서 변화를 일으키고 따라서 도파관내 광속도에서 변화를 초래한다. 이는 특정 파장에 대한 브래그 위상격자에 의해 반사된 광의 광강도에서 변화를 야기한다.
그러나, 이러한 필터의 동조능력 파장은 파괴 방전 전압에 의해 제한되며, 결정(LiNbO3)을 기초로 필터인 경우 기껏 1㎚를 넘는다.
본 발명의 목적은 한편으로는 다기능 용도(동조가능한 광학필터, 선택적 광감쇠기 및 변조기, 광스위치 및 광학 이퀄라이저)를 갖고 높은 스펙트럼 선택도, 동조능력의 넓은 주파대, 큰 역동성, 및 누화에 대한 낮은 영향을 갖는 집적광학 설계의 광학소자들을 제조하는 것이다. 본 발명의 또 다른 목적은 비교적 낮은 컨트롤 전압을 이용하면서 높은 동조능력과 스위칭 속도를 갖는 전이함수의 프로파일, 전이함수의 최대 위치, 선택된 채널 개수 및 위상왜곡의 보상을 전기적으로 제어할 수 있는 상술한 필터들의 제어를 위한 방법을 개발하는 것이다. 진행중인 과제는 한가지 공동목표에 의해 관련된 매우 많은 고안들에 의해 해결된다. 따라서 진행중인 과제는 브래그 위상격자가 형성된 전기광학 재료에 상기 광학소자가 적용되는 사실로 인해 해결된다. 격자는 광복사의 진행방향을 따라 격자 길이의 적어도 일부에 불균일하고 비주기적인 외부 전기장 수단을 갖고 있다. 브래그 위상격자는 광 진행방향으로 도파관 표면의 주기적으로 적용된 돌출부와 후미부 형태의 전기광학 재료로 된 광도파관내에 형성될 수 있다. 재료층이 격자표면에 추가로 도포되며, 격자표면의 굴절률은 기판의 굴절률과 일치하나, 기준 굴절률에서 최대 40% 정도 벗어날 수 있다.
상술한 격자의 양측에 위치된 2개 전극들의 부착에 의해 공간적으로 불균일하고 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단이 형성될 수 있다. 2개 전극들 간의 거리는 복사 진행방향을 따라 선형으로 변한다.
상술한 격자의 양측에 쌍으로 위치된 4개의 상호 절연된 각각의 전극들에 의해 공간적으로 불균일하고 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단이 형성될 수 있다. 각 전극 쌍간의 거리는 복사 진행방향을 따라 선형으로 증가되거나 감소된다.
상술한 격자의 양측에 위치되고, 광복사 방향을 따라 상술한 격자의 다양한 지점들에서 전기장 세기의 제어를 위해 의도된 적어도 3개의 전기적으로 상호 절연된 전극들을 부착함으로써 공간적으로 불균일하고 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단이 형성될 수 있다. 이 구성은 예컨대 상술한 전극들의 개수(N)로 구현될 수 있다: 전극들의 개수(N)는 다음과 같은 식으로부터 도출된다:
N ≥ 2D/d
여기서, D는 필터의 전기 재설계의 파장 대역이다.
진행중인 과제는 브래그 위상격자가 형성되는 전기광학 재료를 기초로 하고, 차례로, 광복사의 진행방향을 따라 격자 길이의 적어도 일부분에 공간적으로 불균일한 비주기적인 외부 전기장을 생성하기 위한 수단을 갖는 필터의 전이함수의 프로파일의 제어는 광복사의 회절에서 최대 변형까지 변화를 야기하는 공간적으로 불균일한 비주기적인 외부 전기장의 격자 중 적어도 일부에 대한 영향에 의해 발생한다는 사실로 인해 해결될 수 있다. 공간적으로 불균일한 비주기적인 외부 전기장의 영향하에서, 상술한 격자의 일부에 대한 전기장 세기의 벡터 방향은 격자의 다른 부분에 대한 전기장 세기의 벡터 방향에 반대 방향으로 형성될 수 있다.
본 발명의 목적은 전기광학적 재료로 형성된 브래그 격자에 대한 회절이 재료내 전기장의 불균일한 분포의 형성에 의해 제어된다는 것이다.
이러한 제어과정의 관계에서, 광복사는 광결정을 통해 전송된 회절 및 광복사로 인한 상술한 격자에 반사된 광복사의 동시 인식으로 격자의 벡터를 따라 도 입(결합)될 수 있다.
컨트롤 전압은 또한 필터된 광복사가 광학 크리스탈내에 형성된 도파관내에 분포되고 전이함수의 속도가 실질적으로 증가되는 사실로 인한 도파관 설계의 이용에 의해 실질적으로 감소될 수 있다.
광 진행방향에서 도파관 표면의 비주기적으로 적용된 돌출부와 후미부로 구성된 브래그 위상격자의 회절 효율이 실질적으로 향상될 수 있다. 이는 광학재료의 추가층을 격자에 도포함으로써 행해지며, 격자의 굴절률은 기판의 굴절률과 일치하나 최대 40%까지 기본 굴절률에서 벗어날 수 있다.
전기 파괴방전량은 또한 실질적으로 증가될 수 있고 따라서 동조가능한 파장의 양이 상당히 증가될 수 있다. 이는 모든 전극들 간에 전체 공간을 채운 전기절연 재료로 된 추가층을 이용하여 행해지며, 상기 절연재료는 실질적으로 파괴방전 전압을 증가시키고 따라서 전극에 가해지는 전압을 높일 수 있다.
공지된 방법들에서처럼, 필터된 복사의 회절은 결정에서 특정 세기의 전기장의 형성에 의해 제어되고, 그 결과 결정의 굴절률이 변하게 된다. 등록 계류중인 방법의 한가지 특별한 특징은 복사 진행방향의 전기장이 불균일하다는 것이다.
결정내 전기장의 필요한 공간분포의 생성시, 광학소자의 필요한 전이함수가 생성될 수 있고, 이는 광학소자의 다기능성을 초래하게 한다.
따라서, 복사 진행방향을 따라 균일하게 변형된 외부 전기장이 사용되는 경우, 격자의 회절효율이 실질적으로 바로 0까지 감소 될 수 있다.
전기 스펙트럼적으로 선택된 광스위치가 이를 토대로 형성될 수 있다. 전기 광학적 제어특성으로 인해, 이러한 스위치의 스위칭 속도는 매우 높고 10-100GHz까지 이를 수 있다.
불균일도가 변경되는 경우 브래그 위상격자의 회절 효율이 제어될 수 있다. 이 경우, 이러한 소자가 전기적으로 제어되는 선택적 광변조기로서 기능을 한다.
브래그 위상격자의 전이함수의 프로파일이 추가로 전기적으로 제어될 수 있다. 반사상태에서 전방전도(forward conduction) 상태로 전이함수의 재구성이 예로서 이용될 수 있다. 이 재구성은 2개의 격자의 동일한 절반부에, 격자의 양 절반 모두에 의해 반사된 광파장들에 대해 π와 동일한 위상편이를 발생하는 전기장이 인가되는 사실에 의해 달성된다.
등록 계류중인 광학소자는 가변 스펙트럼 채널 개수를 갖는 범용광학소자로서 작동할 수 있다. 브래그 위상격자의 특정 개수가 불균일한 전기장내에 위치되고 이에 따라 회절이 있지 않게 된다. 균일한 전기장이 다른 위상격자들에 인가된다. 이것이 바로 회절이 존재하는 이유이다. 이 상황은 선택된 스펙트럼 채널들의 반사를 가능하게 한다.
등록된 광소자들도 또한 전기 제어되는 광학 이퀄라이저로서 작동할 수 있다. 이 경우, 각 개별 기본격자의 회절효율은 외부 전기장의 공간 불균일도에 의해 정의된다.
등록된 광소자는 넓은 파장대역을 갖는 협대역 광학필터로서 작동할 수 있다.
등록 계류중인 광학소자는 또한 광학 스펙트럼 분산 보상기로서 작동할 수 있다.
하기의 도면들은 본 발명의 목적을 설명한다:
도 1은 2개 전극을 갖는 광학소자의 프로토타입을 도시한 것이다(U1 및 U2는 전극에 가해진 전압을 나타낸다. 보상 및 절연층은 도시되어 있지 않다).
도 2는 2개의 전극을 갖는 광학소자를 도시한 것이다. 2개 전극들 간의 거리는 복사 전파방향을 따라 선형적으로 감소한다.
도 3은 4개 전극을 갖는 광학소자이다.
도 4는 4개 전극을 갖는 광학소자이다. 각 전극 쌍들 간의 거리가 복사 전파방향을 따라 선형적으로 변한다.
도 5는 3개 전극을 갖는 광학소자이다.
도 6은 8개 전극을 갖는 광학소자이다.
도 7은 길이방향 횡단면의 광학소자를 도시한 것이다. 브래그 위상격자가 한 층은 보상재료로 다른 한 층은 전기 절연재료로 코팅된 도파관 표면의 일련의 주기적으로 적용된 돌출부 및 후미부로서 설계되어 있다(h는 도파관의 높이이고, Δh는 후미부와 돌출부 간의 높이 차이다). 단면은 (ABC 면에서) 도파관을 따라 이어져 있다.
도 8은 상술한 광학소자의 횡단면을 도시한 것이다. 횡단면은 (DEF 면에서) 도파관의 축에 횡으로 이어져 있다.
도 9는 도 2에 도시된 바와 같이 소자에 전극들의 배열을 위해 복사 전파 방 향을 따라 좌표상에 전기장 세기(E)의 의존도를 도시한 것이다.
도 10은 도 4에 도시된 바와 같이 소자에 전극들의 배열을 위해 복사 전파 방향을 따라 전기장 세기(E)의 의존도를 도시한 것이다.
도 11은 브래그 위상 격자의 반사계수의 공간적 특징을 도시한 것이다(λ는 광복사의 파장이고, λB는 반사된 광복사의 중앙 파장이며, d는 브래그 위상 격자의 전이함수의 폭이다).
도 12는 외부의 균일한 전기장(E)이 가해지는 위상격자가 도시된 광학소자의 프로토 타입을 도시한 것이다(Ebd는 광필터의 전기 파괴방전이 발생하는 전기장 세기이며, -Ebd는 각각의 극성을 갖는 전기장이며, E0는 브래그 위상 격자의 전이함수(d)의 폭 양에서 반사된 복사의 중앙파장을 변경하는 역할을 하는 전기장 세기이며, T는 위상격자의 길이이다).
도 13은 인가된 외부 전기장 세기의 양(a는 전기장이 없는 경우, b는 E = -Ebd의 경우, c는 E=E0의 경우, d는 E=Ebd의 경우)에 대한 광학소자의 스펙트럼 특성의 의존도를 도시한 것이다.
도 14는 광학소자에 인가된 공간적으로 불균일한 외부 전기장의 변화들 중 하나를 도시한 것이다(Eπ/2는 π/2와 같은 광복사의 추가 위상차를 생성하는 격자의 제 1 절반에 대한 전기장 세기이며, -Eπ/2는 -π/2와 같은 광복사의 추가 위상차를 생성하는 격자의 제 2 절반에 대한 전기장 세기이다).
도 15는 도 14에서 전기장이 (연속선은 외부 전기장이 없는 경우, 점선은 외 부 전기장이 있는 경우) 소자에 인가되는 경우 소자의 전이함수를 도시한 것이다.
도 16은 광학소자에 인가된 공간적으로 불균일한 외부 전기장의 또 다른 가능한 변형을 도시한 것이다(Ebd는 격자의 절반에 대한 전기장 세기이며, -Ebd는 격자의 제 2 절반에 대한 전기장 세기이다).
도 17은 도 16에서 열거된 전기장이 (연속선은 외부전기장이 없는 경우, 대시 선들은 외부 전기장이 있는 경우) 필터에 인가되는 경우 소자의 전이함수를 나타낸 것이다.
도 18은 광학소자에 인가된 공간적으로 불균일한 외부 전기장의 또 다른 가능한 변형을 도시한 것이다(Ebd는 광필터의 전기 파괴방전이 발생하는 격자의 첫번째 1/8에 대한 전기장 세기이며, -Ebd는 각각의 극성을 가진 격자의 마지막 8번째에서 전기장 세기이다).
도 19는 도 18에 열거된 전기장이 (연속선은 외부 전기장이 없는 경우, 대시선은 외부 전기장이 있는 경우) 필터에 가해진 경우 소자의 전이함수를 도시한 것이다.
등록 계류중인 광학소자는 광도파관(2)이 형성될 수 있는 전기광학 재료로 만들어진 pc 보드(1)를 포함한다(도 2 참조). LiNbO3, KNbO3, BaTiO3, 또는 SBN과 같은 결정이 전기광학 재료로서 사용될 수 있다. 브래그 위상격자(3)는 pc 보드(1)의 실제 재료와 또한 광도파관(2) 모두에 사용될 수 있다. 상기 격자(3)는 모두가 광 진행방향에서 도파관 표면의 주기적으로 적용된 돌출부(6) 및 후미부(7)의 형태로 형성될 수 있다(도 7 및 도 8 참조). 상기 도파관의 주기적인 돌출부 및 후미부 위에, 재료의 보상층(8)이 도포된다. 이 층은 예컨대 TiO2 또는 SiO2로 구성될 수 있다.
격자(3) 양면에서, 공간적으로 불균일한 비주기적인 외부 전기장 수단들이 전극(4)의 형태로 위치되어 있어, 접촉부(5)를 통해 상기 전극에 전압(U1, U2, U3, ..., UN)이 인가된다(전극(4)의 개수와 구성에 따라, 인가된 전압의 진폭이 같거나 다를 수 있고 극성이 다르거나 같을 수 있다).
전극의 표면, 보상재료의 표면, 전극 사이의 나머지 기저면과 나머지 공간은 전기절연 재료(9)로 채워진다. 이 재료층은 큰 전기저항 계수를 갖는 에폭시 수지 또는 임의의 다른 플라스틱 재료로 구성될 수 있다. 공간적으로 불균일한 비주기적인 외부 전기장은 다른 기하학적 형태를 갖는 전극들(4)에 의해 형성될 수 있다. 따라서, 예컨대, 서로 거리가 복사 전파방향을 따라 선형으로 변하는 2개의 전극들에 의해(도 2 참조); 다른 전압(U1, U2, U3)들로 인해 영향받는 직사각형 전극들에 의해(도 5 참조); 다른 기하학적 구성의 4개 전극들에 의해(도 3 및 도 4 참조); 다른 전압(U1, U2, U3, ..., UN)들로 인해 영향받는 8개의 직사각형 전극들에 의해(도 6 참조); 다음 대응을 갖는 N개 전극들에 의해; N ≥ 2D/d 이다. 상기 주어진 예들은 전극들의 개수와 전극들의 구성의 선택을 제한하지 않는다. 등록 계류중인 광학소자의 전송 기능은 다음과 같이 제어된다. 전기장 세기의 전압의 필요한 분포가 전기광학 재료(1)내에 생성된다.
전기장 세기의 전압의 필요한 분포는 전압(U1,U2)으로 인해 영향받는 전극(4)의 기하학적 형태에 의해 생성될 수 있다. 도 2는 공간적으로 불균일한 비주기적인 전기장의 생성을 위한 전극의 배열의 예를 도시한 것이다. 전기장의 불균일성은 전극들 간의 거리에서 변화에 의해 정해진다. 도 9는 도 2에 도시된 전극들의구성을 위한 전기장 세기의 분포를 도시한 것이다. 전기장 및 관련된 기울기의 최대 가능한 중요도는 전기 파괴방전(Ebd) 양에 의해 정해진다. 도 4는 시스템을 생성함으로써 전기장 세기의 기울기를 증가시켜 그 결과 전극들 간의 거리가 변함에 따라 2개 전극 쌍들의 형태로 불균일한 전기장을 생성하는 확률을 도시한 것이다. 전압(U1,U2)은 각 전극 쌍들에 작용하고, 각 쌍은 반대 극성을 갖는다. 전극들의 이러한 구성에 해당하는 전기광학 재료내에 전기장 세기의 분포가 도 10에 도시되어 있다. 전압(U)이 접촉을 통해 영향을 끼치는 N개 전극들의 형태로 공간적으로 불균일하고 비주기적인 전기장 생성을 위한 수단들로 인해 전기광학 재료내에 전기장 세기의 다른 분포를 생성할 수 있고, 특히 중요한 것은 전기장 세기의 분포 의존 특성은 인가된 전압의 진폭을 변경함으로서 변경될 수 있다.
동일한 전압(U1)이 도파관의 일측에 있는 전극들에 인가되고, 동일한 전압(U2)이 도파관의 타측면상에 위치된 전극들에 인가되는 경우, 공간적으로 균일한 전기장이 전기광학 재료에 생성된다(도 12), 이러한 전기장은 형태를 바꾸지 않고(도 13) 브래그 위상격자의 전이함수의 편이를 야기한다(도 11). 중앙 파장의 편이량은 생성된 전기장 세기에 의해 결정된다. 전기장(E0)은 전이함수(d)(도 13에서 곡선(c))의 폭에 따라 중앙파장의 편이에 해당한다. 인가된 전기장의 극성은 중앙 파장의 편이방향을 결정한다. 인가된 균일한 전기장들(Ebd 및 -Ebd)에 해당하는 전이함수의 중앙 파장들 간의 거리(D)는 중앙파장의 동조능력의 전체 파장범위이다. 이러한 공간적으로 균일한 전기장은 광학소자의 프로토타입이다(도 1 참조). 불균일한 전기장의 가장 간단한 공간 분포방법이 하기에 설명된다. 여기서, 격자의 2개의 절반이 진폭 면에서 동일한 전기장에 영향을 받으나, 극성면에서는 다른 전기장에 영향을 받는다(도 14 및 도 16 참조). 이러한 전기장 세기의 분포는 U1=0, U2=-U3인 경우 도 5에 도시된 전극들의 시스템에 의해 생성될 수 있다. 브래그 위상격자는 편이된 중앙파장들을 갖는 2개의 격자들로 나누어진다. 파장에서 편이량이 전이함수(d)의 폭보다 훨씬 더 큰 경우, 위상조건은 격자의 2개 절반들에 의해 반사된 광복사의 추가에 대해 무시될 수 있다. 이 경우, 광학소자의 전이함수는 브래그 위상격자의 2개 절반의 전이함수의 추가로 변환된다. 이 경우에 대한 전이함수가 도 17에 도시되어 있다.
격자의 다른 절반이 영향받는 전기장 세기의 차의 결과로서 π에 해당하는 반사된 광복사의 위상에서의 차가 생성되는 경우(도 14 참조)가 상당히 중요하게 된다. 격자의 진폭이 낮은 경우(n1/n0≤Λ/T) Eπ/2 = E0, 중앙파장들은 전이함수(d) 의 폭에 의해서만 달라진다. 격자의 다른 절반에 의해 반사된 중앙파장의 진폭은 가간섭적으로 추가된다. 즉, 위상이 고려된다. 이 경우, 국소적 최소화가 전이함수의 중간에 생성된다(도 15 참조). 이 경우, 광학소자는 중앙 파장들을 반사시키는 대신 통과하도록 한다. 이 예는 "반사"상태에서 "통과"상태로 전이함수의 전기광학적 제어 가능성을 명확하게 지적한다.
도 18은 브래그 위상격자가 8개 부분들로 분할되는 경우 전기장 세기의 공간 분포를 도시한 것이다. 이러한 전기장의 분포는 도 6에 도시된 바와 같이 전극 시스템에 의해 생성될 수 있다. 이 경우, 인가된 전압들 간에 다음 조건들이 구현된다: U1=U8, U2=U7, U3=U6, U4=U5. 이동된 중앙 파장들을 갖는 격자의 8개 상호 독립적인 부분들에 대해 광이 반사된다. 이는 추가된 반사계수의 감소와 공간 감도의 가소, 즉, 필터의 전이함수의 삭제를 초래한다(도 19 참조).
균일한 전기장에 영향을 받는 격자 단편(segment)의 길이 감소는 추가된 반사계수의 또 다른 감소와 공간 감도의 감소를 야기한다. 공간적으로 불균일하고 비주기적인 외부전기장의 생성을 위한 수단들이 N개 전극들을 구성하는 경우, 격자 부분(격자의 각 부분에 도관의 양측에 각 2개의 전극)의 N/2에 대해 독립적인 전기장을 생성할 수 있다.
최적의 전극들의 개수는 N≥2D/d 비율로 선택된다. 즉, 회절의 효과적인 제거를 위해(추가된 반사계수의 감소와 공간 감도의 감소를 위해), 격자를 N/2개의 별개의 부분들로 분할하는 것이 필요하다. 개수(N)는 필요한 선택채널의 개수에 의 해 결정된다.
광학소자의 전이함수의 특성이 공간적으로 불균일한 외부 전기장의 도움으로 어떻게 변경될 수 있는 지에 대해 상기와 같이 나타나 내었다. 추가된 반사계수를 감소함으로써 그리고 공간 감도의 저하를 위해 브래그 격자에 대한 회절 제거의 예가 또한 도시되어 있다. 광학소자의 전이함수의 제어방법이 협대역 광학필터, 광감쇄기, 및 위상 분산 보상기에 사용될 수 있다. 그러나, 상기애 나타낸 예들은 전이함수 제어의 적용 가능한 분야를 제한하지 않는다.
본 발명의 상세한 설명에 포함됨.
참조부호 목록
1. PC 보드
2. 광도파관
3. 브래그 위상격자
4. 전극
5. 접촉부
6. 돌출부
7. 후미부
8. 재료 보상층
9. 전기 절연재료
요약
분야: 광학
본 발명은 전기광학 재료로 구성되거나 추가층에 포함되어 있는 브래그 위상격자를 갖는 광학소자에 관한 것이다. 브래그 위상격자는 광 진행방향을 따라 보상재료로 된 한층과 전기 절연재료로 된 한 층이 코팅된 도파관 표면의 주기적으로 적용된 일련의 돌출부와 후미부로 설계되어 있다. 위상격자는 공간적으로 불균일하고 비주기적인 외부 전기장을 생성하는 수단이 설비되어 있다.
발명의 영역
본 발명은 물리학 분야의 광학에 속하며, 실제로는 광 복사의 스펙트럼 필터링을 위한 광학 방법 및 장치에 속한다. 이는 전기광학 결정을 기초로 하며 파장변환의 넓은 파장 스펙트럼을 갖는 협대역 필터를 생산하는데 사용되고 선택적인 광감쇠기와 광변조기 및 광학 이퀄라이저의 제조를 위해 사용된다.
본 발명의 설명
본 발명의 목적은 한편으로는 다기능 용도(동조가능한 광학필터, 선택적 광감쇠기 및 변조기, 광스위치 및 광학 이퀄라이저)를 갖고 고스펙트럼 선택도, 동조능력의 넓은 주파대, 큰 역동성, 및 누화에 대한 낮은 영향을 갖는 집적광학 디자인에서 광학소자들의 제조이다. 본 발명의 또 다른 목적은 비교적 낮은 컨트롤 전압을 이용하면서 높은 동조능력과 스위칭 속도를 갖는 전달기능의 프로파일, 전달기능의 최대 위치, 선택된 채널 개수 및 위상왜곡의 보상을 전기적으로 제어할 수 있는 상술한 필터들의 제어를 위한 방법을 개발하는 것이다.

Claims (14)

  1. 전기광학 재료와 상기 전기광학 재료로 형성된 브래그 격자로 구성된 광학소자로서,
    상기 브래그 위상격자(3)는 광복사 진행방향을 따라 상기 격자의 길의 적어도 일부에 공간적으로 불균일하고, 비주기적이며, 외부 전기장들을 생성하기 위한 수단을 갖는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 브래그 위상격자(3)는 상기 전기광학 재료의 광도파관(2)에 형성되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,
    상기 브래그 위상격자(3)는 광도파관(2)의 광복사 진행방향을 따라 주기적인 돌출부(6)와 후미부(7)로서 형성되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  4. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,
    상기 브래그 위상격자(3)는 굴절률이 사용된 기판의 굴절률과 일치하거나 상기 기판의 굴절률로부터 최대 40%까지 벗어날 수 있는 보상광학재료(8)로 구성된 추가층을 갖는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  5. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서,
    공간적으로 불균일하고, 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단들은 브래그 위상격자(3)의 양 측에 2개의 전극들(4)로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  6. 제 1 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서,
    공간적으로 불균일하고, 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단들은 상기 브래그 위상격자(3)의 양 측에 2개의 전극들(4)로 구성되고, 이에 의해 복사 진행방향에 선형의 형태로 변하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  7. 제 1 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서,
    공간적으로 불균일하고, 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단들은 상기 브래그 위상격자(3)의 양 측에 쌍으로 위치된 4개의 전기절연된 전극들(4)로 구성되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  8. 제 1 항 내지 제 7 항 중 어느 한 항에 있어서,
    공간적으로 불균일하고, 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단들은 상기 브래그 위상격자(3)의 양 측에 쌍으로 위치된 4개의 전기절연된 전극들(4)로 구성되고, 이에 의해 각 전극 쌍들 간의 거리는 복사 진행방향에 선형의 형태로 변 하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  9. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서,
    공간적으로 불균일하고, 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단들은 상기 브래그 위상격자(3)의 양 측에 위치된 적어도 3개의 전기절연된 전극들(4)로 구성되고, 전기장 세기의 제어를 위해, 광복사 진행방향을 따라 격자(3)의 다른 점들에서 구현되는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  10. 제 1 항 내지 제 9 항 중 어느 한 항에 있어서,
    공간적으로 불균일하고, 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단들은 N개 전극들(4)로 구성되고, 이에 의해 전극들(4)의 개수는 수식 N≥2D/d에 해당하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  11. 제 5 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서,
    공간적으로 불균일하고, 비주기적인 외부 전기장을 형성하기 위한 수단들은 모든 전극들(4)간에 공간을 채우는 전기절연가능한 재료(9)의 층을 가지며, 상기 재료(9)는 상기 전극(4)에 인가된 전압을 증폭시키는 역할을 하는 것을 특징으로 하는 광학소자.
  12. 격자의 회절효율을 제어하기 위해, 광복사 진행방향을 따라 격자(3)의 일부 분 위로 공간적으로 불균일한, 비주기적인 외부전기장에 영향을 끼치는 제 1 항에 따른 광학소자의 전이함수 제어방법.
  13. 제 12 항에 있어서,
    상기 광복사 전행방향을 따라 상술한 격자(3)의 일부분 위로 공간적으로 불균일한, 비주기적인 외부전기장의 영향이 격자의 최대 가능한 회절효율을 제어하는 목적을 갖는 것을 특징으로 하는 광학소자의 전이함수 제어방법.
  14. 제 12 항에 있어서,
    상기 격자(3)의 일부에 대한 전기장 세기의 벡터 방향이 상기 격자(3)의 또 다른 부분에 대한 전기장 세기 벡터의 반대방향으로 생성되는 것을 특징으로 하는 광학소자의 전이함수 제어방법.
KR1020087009325A 2005-09-19 2006-09-16 광학소자 및 광학소자 전이함수 제어방법 KR20080074862A (ko)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102005044730.9 2005-09-19
DE102005044730A DE102005044730B4 (de) 2005-09-19 2005-09-19 Optisches Element und Verfahren zur Steuerung seiner Übertragungsfunktion

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20080074862A true KR20080074862A (ko) 2008-08-13

Family

ID=37460208

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020087009325A KR20080074862A (ko) 2005-09-19 2006-09-16 광학소자 및 광학소자 전이함수 제어방법

Country Status (8)

Country Link
US (1) US20080317400A1 (ko)
EP (1) EP1989580A1 (ko)
JP (1) JP2009509182A (ko)
KR (1) KR20080074862A (ko)
CN (1) CN101292185A (ko)
BR (1) BRPI0617568A2 (ko)
DE (1) DE102005044730B4 (ko)
WO (1) WO2007033805A1 (ko)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150141776A (ko) * 2014-06-09 2015-12-21 한국과학기술원 파장 조율이 가능한 구조를 갖는 광 격자 커플러
WO2018106080A1 (ko) * 2016-12-08 2018-06-14 한국과학기술원 위상차 제어 디바이스 및 상기 디바이스를 이용하는 광학 장치

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008035674A1 (de) 2008-07-30 2010-02-04 Swet Optics Gmbh Elektrisch steuerbares optisches Element
EP2187253A1 (en) 2008-11-17 2010-05-19 Swet Optics Gmbh Electrically controllable optical element using an optical fibre
US10241229B2 (en) * 2013-02-01 2019-03-26 Halliburton Energy Services, Inc. Distributed feedback fiber laser strain sensor systems and methods for subsurface EM field monitoring
US10302796B2 (en) 2014-11-26 2019-05-28 Halliburton Energy Services, Inc. Onshore electromagnetic reservoir monitoring
US9651706B2 (en) 2015-05-14 2017-05-16 Halliburton Energy Services, Inc. Fiberoptic tuned-induction sensors for downhole use
WO2017014773A1 (en) 2015-07-22 2017-01-26 Halliburton Energy Services, Inc. Electromagnetic monitoring with formation-matched resonant induction sensors
CN106873192A (zh) * 2016-11-07 2017-06-20 北京交通大学 基于硅波导的电光超快空间调制器
CN111240015B (zh) * 2020-01-17 2020-12-18 北京理工大学 双侧对射出光均匀的衍射波导
CN114609725B (zh) * 2020-12-08 2024-01-05 军事科学院系统工程研究院网络信息研究所 基于微失谐级联滤波器的超窄带滤波方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4039249A (en) * 1973-03-28 1977-08-02 Bell Telephone Laboratories, Incorporated Integrated optical devices including tunable fixed grating
JPS5452562A (en) * 1977-10-03 1979-04-25 Mitsubishi Electric Corp Variable wavelength selection filter
US5832148A (en) * 1995-12-20 1998-11-03 California Institute Of Technology Electrically controlled wavelength multiplexing waveguide filter
CA2197706A1 (en) * 1997-02-14 1998-08-14 Peter Ehbets Method of fabricating apodized phase mask
JP2000235170A (ja) * 1999-02-17 2000-08-29 Nec Corp 可変分散補償器
JP2001183541A (ja) * 1999-12-21 2001-07-06 Mitsubishi Electric Corp 偏波モード分散等化器

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR20150141776A (ko) * 2014-06-09 2015-12-21 한국과학기술원 파장 조율이 가능한 구조를 갖는 광 격자 커플러
WO2018106080A1 (ko) * 2016-12-08 2018-06-14 한국과학기술원 위상차 제어 디바이스 및 상기 디바이스를 이용하는 광학 장치

Also Published As

Publication number Publication date
BRPI0617568A2 (pt) 2011-07-26
DE102005044730B4 (de) 2008-12-11
WO2007033805A1 (de) 2007-03-29
US20080317400A1 (en) 2008-12-25
EP1989580A1 (de) 2008-11-12
CN101292185A (zh) 2008-10-22
DE102005044730A1 (de) 2007-05-31
JP2009509182A (ja) 2009-03-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR20080074862A (ko) 광학소자 및 광학소자 전이함수 제어방법
CA2360937C (en) Dynamically reconfigurable composite grating filters for temporal waveform processing
US5710849A (en) Taper shapes for flatband response and sidelobe suppression in grating assisted optical coupler filters
US6529646B1 (en) Optical modulator
Yao et al. Fully reconfigurable waveguide Bragg gratings for programmable photonic signal processing
US20050175281A1 (en) Optical modulator and optical modulator array
JP4504561B2 (ja) 可変光ファイバ・ブラッグ・長周期グレーティング
WO2004023174A2 (en) Photorefractive devices
JP2001077757A (ja) 光学システム
Kato et al. Switching operation in tunable add-drop multiplexer with si-grating waveguides featuring ferroelectric liquid crystal cladding
EP1535108A1 (en) Method and device for variable optical attenuator
US6816650B2 (en) Planar lightwave filter device
CN106605339B (zh) 可调激光器和调谐激光模式的方法
US7088874B2 (en) Electro-optic devices, including modulators and switches
US20050111792A1 (en) Programmable optical grating device and method
WO2002044780A1 (en) Grating assisted asymmetric directional coupler
Zeng et al. All-optical microwave filters using uniform fiber Bragg gratings with identical reflectivities
EP2187253A1 (en) Electrically controllable optical element using an optical fibre
RU2248022C2 (ru) Оптический элемент, способ управления его спектральной характеристикой, система оптических элементов и способ управления этой системой
Petrov et al. Electrically controlled integrated optical filter
Moghimi et al. Analysis and design of all-optical switching in apodized and chirped Bragg gratings
Poorna Lakshmi et al. MEMS tunable SOI waveguide Bragg grating filter with 1.3 THz tuning range for C-band 100 GHz DWDM optical network
Arora et al. Integrated optical Bragg filter with fast electrically controllable transfer function
WO2003023911A2 (en) Wavelength agile laser
MX2008003614A (en) Optical element and method for controlling its transfer function

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application