KR20080059935A - Pre-discharging apparatus for slit coater - Google Patents

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KR20080059935A
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Abstract

A pre-discharge apparatus for a slit coater is provided to absolutely remove a chemical by increasing a contact cleaning force against a roller, thereby improving a cleaning efficiency. A pre-discharge apparatus includes a roller(31) preliminarily discharged with a solution from a slit nozzle(20), and an accommodation base(32) rotatably supporting the roller and exposing an upper edge of the roller towards the slit nozzle. Brush members(50) are installed in the accommodation base filled with a cleaning solution, and is in contact with the lower edge of the roller. The brush member is formed in a roll type, and is rotated in the same direction as a rotation direction of the roller.

Description

슬릿코터용 예비토출장치{Pre-discharging apparatus for slit coater}Pre-discharging apparatus for slit coater

도 1은 스핀리스코팅법에 의한 종래 슬릿코터의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a conventional slit coater by a spin coating method.

도 2는 도 1에 도시된 슬릿코터용 예비토출장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of the preliminary discharging device for the slit coater shown in FIG.

도 3은 본 발명에 따른 슬릿코터용 예비토출장치의 일실시 단면 상태도이다.Figure 3 is a cross-sectional state of one embodiment of a pre-discharge device for a slit coater according to the present invention.

도 4는 본 발명에 따른 슬릿코터용 예비토출장치의 다른 실시 단면 상태도이다.Figure 4 is another embodiment cross-sectional state of the pre-discharge device for a slit coater according to the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

20 : 슬릿노즐 21 : 슬릿20: slit nozzle 21: slit

31 : 롤러 32 : 수용부31: roller 32: receiving portion

41 : 제1분사노즐 42 : 나이프41: first spray nozzle 42: knife

43 : 제2분사노즐 44 : 제3분사노즐43: second injection nozzle 44: third injection nozzle

45 : 나이프 46 : 제4분사노즐45: knife 46: fourth injection nozzle

50 : 브러쉬기재 51 : 회동축50: brush base 51: rotation axis

60 : 브러쉬기재 61 : 캠60: brush base 61: cam

62 : 탄성수단62: elastic means

본 발명은 슬릿코터용 예비토출장치에 관한 것으로, 더욱 상세하는 슬릿코터의 슬릿노즐이 기판에 약액 도포하기전 슬릿에 잔류된 약액을 예비토출받아 처리하는 슬릿코터용 예비토출장치에 관한 것이다.The present invention relates to a preliminary discharging apparatus for a slit coater, and more particularly, to a preliminary discharging apparatus for a slit coater in which a slit nozzle of a slit coater in detail receives and dispenses the chemical liquid remaining in the slit before the chemical liquid is applied to a substrate.

일반적으로 반도체 디바이스 또는 평판 디스플레이(FPD; flat panel display)의 제조공정에서는 피처리기판(실리콘 웨이퍼 또는 유리 기판)상의 특정 기능을 수행하는 박막, 예를 들면, 산화 박막, 금속 박막, 반도체 박막 등이 원하는 형상으로 패터닝(patterning)되도록 광원과 반응하는 감광액(sensitive material)을 상기 박막상에 도포하는 공정이 수행된다.In general, in the manufacturing process of a semiconductor device or flat panel display (FPD), a thin film that performs a specific function on a substrate (silicon wafer or glass substrate), for example, an oxide thin film, a metal thin film, a semiconductor thin film, etc. A process of applying a sensitive material on the thin film, which reacts with a light source, is patterned so as to be patterned into a desired shape.

이처럼 피처리기판의 박막에 소정의 회로패턴이 구현되도록 감광액을 도포하여 감광막 코팅하고, 회로패턴에 대응하여 상기 감광막을 노광하며, 노광된 부위 또는 노광되지 않은 부위를 현상처리하여 제거하는 일련의 과정을 사진공정 또는 포토리소그래피(Photolithography)공정이라 한다.As described above, a photoresist is coated by applying a photoresist to a thin film of the substrate to be processed so as to realize a predetermined circuit pattern, the photoresist is exposed in correspondence with the circuit pattern, and a series of processes are developed by removing the exposed or unexposed areas. This is called a photo process or a photolithography process.

특히, 상기 사진공정에서는 감광막이 소정 두께로 균일하게 생성되어야 제조공정 중 불량이 발생되지 않는다. 예를 들어, 감광막이 기준치보다 두껍게 생성될 경우 박막 중 원하는 부분이 식각되지 않을 수 있고, 감광막이 기준치보다 얇게 생성될 경우 박막이 원하는 식각량보다 더 많이 식각될 수 있다.In particular, in the photographing process, the photoresist film should be uniformly formed to a predetermined thickness so that no defects occur during the manufacturing process. For example, when the photoresist film is formed thicker than the reference value, a desired portion of the thin film may not be etched. When the photoresist film is formed thinner than the reference value, the thin film may be etched more than the desired etching amount.

이처럼 피처리기판에 균일한 두께의 감광막을 생성하려면, 우선 피처리기판에 감광액을 균일한 두께로 도포하는 것이 중요하다.In order to produce a photosensitive film having a uniform thickness on the substrate to be processed as described above, it is important to first apply a photosensitive liquid having a uniform thickness on the substrate to be processed.

이에 유리 기판의 경우, 기판을 정반(surface plate)에 지지한 상태에서, 기 판을 가로지르는 방향으로 감광액을 배출하는 슬릿(slit)이 형성된 슬릿노즐을 상기 슬릿이 형성된 방향과 직교하는 방향으로 기판형에서 주행시키는 동시에 상기 슬릿을 통하여 기판 표면에 감광액을 도포하는 스핀리스코팅(spinless coating)법 또는 슬릿코팅(slit coating)법이 주로 사용된다.Accordingly, in the case of a glass substrate, a slit nozzle in which a slit for discharging the photosensitive liquid is discharged in a direction transverse to the substrate while the substrate is supported on a surface plate in a direction perpendicular to the direction in which the slit is formed. A spinless coating method or a slit coating method is mainly used in which a photoresist is applied to the surface of a substrate through the slit while traveling in a plate shape.

도 1은 스핀리스코팅법에 의한 종래 슬릿코터의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a conventional slit coater by a spin coating method.

도 1을 참조하면, 종래 슬릿코터는 감광액 처리될 기판(S)이 로딩되어 지지되는 정반(10)과, 상기 정반(10)상에 로딩된 기판(S)에 감광액을 도포하는 슬릿노즐(20)을 포함한다.Referring to FIG. 1, the conventional slit coater has a surface plate 10 on which a substrate S to be treated is loaded and supported, and a slit nozzle 20 for applying photoresist to a substrate S loaded on the surface plate 10. ).

상기 슬릿노즐(20)은 그 저단부에 기판(S)의 너비(W)에 대응하는 길이의 슬릿(미도시)이 형성되어 정반(10)의 일측에서 대기하다가 기판(S)에 감광액 도포할 시 기판(S)측으로 전진이동하며 상기 슬릿을 통하여 기판(S) 표면에 감광액 도포하고, 감광액 도포작업이 완료되면 정반(10) 일측으로 후진이동하여 대기한다.The slit nozzle 20 has a slit (not shown) having a length corresponding to the width W of the substrate S at a lower end thereof, and then waits on one side of the surface plate 10 to apply photoresist to the substrate S. When moving forward to the substrate (S) side and the photosensitive liquid is applied to the surface of the substrate (S) through the slit, and when the photosensitive liquid coating operation is completed, the substrate 10 is moved to the side of the stand by waiting.

한편, 종래 슬릿코터는 슬릿노즐(20)이 감광액 도포한 후 상기 슬릿 및 상기 슬릿 주변의 양측 립(lip)에 유기절연물질 또는 감광액의 일부가 잔류된다. 이와같이 슬릿노즐(20)은 잔류된 감광액이 도포작업과 도포작업 사이의 대기시간에 외기와의 접촉에 의해 그 속성이 변화되거나, 대기 후 도포 작업을 수행할시 서지(surge)현상이 발생되어 기판에 균질한 도포막을 생성하는데 악영향을 끼칠 수 있다.Meanwhile, in the conventional slit coater, after the slit nozzle 20 is coated with a photoresist, a portion of the organic insulating material or the photoresist remains on the slit and both lips around the slit. In this way, the slit nozzle 20 has a property that the remaining photoresist is changed by contact with the outside air during the waiting time between the coating operation and the coating operation, or a surge occurs when performing the coating operation after waiting. This may adversely affect the creation of a homogeneous coating film.

따라서, 종래 슬릿코터는 슬릿노즐(20)이 기판(S)에 도포액을 도포하기 직전 에 잔류되어 있는 도포액을 제거하거나 도포시 서지현상 방지를 위한 토출을 수행하는 예비토출장치(30)가 구비된다.Therefore, in the conventional slit coater, the preliminary ejection apparatus 30 which removes the coating liquid remaining immediately before the slit nozzle 20 applies the coating liquid to the substrate S or performs discharge for preventing a surge phenomenon during coating is provided. It is provided.

도 2는 도 1에 도시된 슬릿코터용 예비토출장치의 단면도이다.2 is a cross-sectional view of the preliminary discharging device for the slit coater shown in FIG.

도 2를 참조하면, 종래 슬릿코터용 예비토출장치는 슬릿노즐(20)로 부터 토출액을 예비토출받는 롤러(31)와, 상기 롤러(31)를 회전가능하게 지지하여 내부에 수용하는 수용부(32)와, 상기 수용부(32) 내에서 상기 롤러의 회전방향을 따라 설치되는 복수의 세정모듈(41, 42, 43, 44, 45, 46)를 포함한다.Referring to FIG. 2, the conventional slit coater preliminary discharging device includes a roller 31 for preliminarily discharging the discharged liquid from the slit nozzle 20 and an accommodating part to rotatably support the roller 31. 32 and a plurality of cleaning modules 41, 42, 43, 44, 45, and 46 installed along the rotational direction of the roller in the receiving portion 32.

상기 롤러(31)는 수용부(32) 내에서 회전하는 동시에 그 상측의 슬릿노즐(20)로 부터 슬릿에 잔류된 잔류액을 토출받는다.The roller 31 rotates in the accommodating part 32 and discharges the residual liquid remaining in the slit from the slit nozzle 20 on the upper side thereof.

상기 수용부(32)는 하측에 저장된 세정액에 롤러(31)를 침지시켜 롤러(31) 외연의 토출액을 제거한다.The accommodating part 32 removes the discharge liquid of the outer edge of the roller 31 by immersing the roller 31 in the cleaning liquid stored below.

또한 수용부(32)는 롤러(31)가 더욱 효과적으로 세정되도록 그 내부에 롤러(31)의 회전방향을 따라 세정액을 분사하는 제1분사노즐(41)과, 롤러(31) 외연에 접촉하여 이물질을 제거하는 나이프(42)와, 세정액을 분사하는 제2분사노즐(43)과, 롤러(31)의 세정액 침지 후 재차 세정액 분사하는 제3분사노즐(44)과, 잔류 세정액 제거하는 나이프(45)와, 건조공기를 분사하는 제4분사노즐(46)이 설치된다.In addition, the accommodating part 32 contacts the outer surface of the first spray nozzle 41 and the roller 31 outside the first spray nozzle 41 for spraying the cleaning liquid along the rotational direction of the roller 31 so that the roller 31 is more effectively cleaned. , A second spray nozzle 43 for spraying the cleaning liquid, a third spray nozzle 44 for spraying the cleaning liquid again after immersion of the cleaning liquid of the roller 31, and a knife 45 for removing the residual cleaning liquid. ) And a fourth spray nozzle 46 for spraying dry air.

그러나 종래 슬릿코터용 예비토출장치는 롤러(31)에 토출된 약액의 종류, 약액 상태, 약액 토출량에 상관없이 롤러(31)의 침지 전/후로 각 나이프(42, 43)에 의해 1회 접촉세정하는 방식이므로, 롤러(31)에 토출된 약액을 완벽하게 제거하지 못하는 경우가 발생되는 문제점이 있었다.However, in the conventional slit coater preliminary discharging device, irrespective of the kind of the chemical liquid discharged to the roller 31, the chemical liquid state, and the chemical liquid discharge amount, the contact cleaning is performed once by each knife 42 and 43 before and after the roller 31 is immersed. Since it is a way to do, there was a problem that does not completely remove the chemical liquid discharged to the roller 31.

상기와 같은 문제점을 감안한 본 발명은, 롤러에 대한 접촉 세정력을 증가시킬 수 있는 슬릿코터용 예비토출장치를 제공함에 그 목적이 있다.In view of the above problems, the present invention has an object to provide a preliminary discharging device for a slit coater which can increase the contact cleaning force on the roller.

상기와 같은 목적을 달성하기 위한 본 발명은, 슬릿노즐에서 토출액을 예비토출받는 롤러와, 상기 롤러를 회전 가능하게 지지하여 수용하되 상기 롤러의 상측 외연을 상기 슬릿노즐측으로 노출시키고 하측 외연을 세정액에 침지시키는 수용부와, 상기 수용부 내부의 세정액이 저장된 부위에 설치되어 상기 롤러의 하측 외연을 접촉세정하는 브러쉬기재를 포함한다.The present invention for achieving the above object, the roller receiving the discharge liquid preliminarily discharged from the slit nozzle, and rotatably supporting the roller to accommodate the exposed outer edge of the roller to the slit nozzle side and the lower outer edge cleaning liquid And a brush base installed at a site where the cleaning liquid inside the container is stored, the contact part being immersed in the container, and contact cleaning the lower outer edge of the roller.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예들을 상세하게 설명한다. 그러나 이하의 실시 예들은 이 기술분야에서 통상적인 지식을 가진 자에게 본 발명이 충분히 이해되도록 제공되는 것으로서 여러 가지 다른 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 다음에 기술되는 실시 예들에 한정되는 것은 아니다. 도면상에서 동일 부호는 동일한 요소를 지칭한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. However, the following embodiments are provided to those skilled in the art to fully understand the present invention can be modified in various forms, the scope of the present invention is limited to the embodiments described below It is not. Like numbers refer to like elements in the figures.

<실시예 1><Example 1>

도 3은 본 발명에 따른 슬릿(21)코터용 예비토출장치의 제1실시 단면 상태도이다.3 is a cross-sectional view of the first embodiment of the preliminary discharging device for the slit 21 coater according to the present invention.

도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 슬릿(21)코터용 예비토출장치의 제1실시예 는 슬릿노즐(20)에서 토출액을 예비토출받는 롤러(31)와, 상기 롤러(31)를 회전 가능하게 지지하여 수용하되 상기 롤러(31)의 상측 외연을 상기 슬릿노즐(20)측으로 노출시키고 하측 외연을 세정액에 침지시키는 수용부(32)와, 상기 수용부(32) 내부의 세정액이 저장된 부위에 설치되어 상기 롤러(31)의 하측 외연을 접촉세정하는 롤형의 브러쉬기재(50)를 포함한다.Referring to FIG. 3, the first embodiment of the preliminary discharging device for the slit 21 coater according to the present invention rotates the roller 31 and the roller 31 for preliminarily discharging the discharged liquid from the slit nozzle 20. It is supported and accommodated, but the receiving portion 32 for exposing the upper outer edge of the roller 31 to the slit nozzle 20 side and immersing the lower outer edge in the cleaning liquid, and a portion where the cleaning liquid inside the receiving portion 32 is stored. It is installed in the roller-type brush base material for contact cleaning the lower outer edge of the roller 31.

상기 롤러(31)는 원통형상으로 슬릿노즐(20)의 슬릿(21)에 잔류되어 있던 잔류액을 모두 토출받도록 슬릿노즐(20)의 슬릿(21) 길이와 같거나 그 이상의 길이로 형성되는 것이 바람직하다. The roller 31 is formed to have a length equal to or greater than the length of the slit 21 of the slit nozzle 20 so as to discharge all residual liquid remaining in the slit 21 of the slit nozzle 20 in a cylindrical shape. desirable.

상기 수용부(32)는 그 내부에 롤러(31)를 회전가능하게 지지하여 수용하되, 슬릿노즐(20)에서의 토출액이 롤러(31)에 토출될 수 있도록 상단부가 일부 개구되어 롤러(31)의 상측 외연을 슬릿노즐(20)의 하측으로 노출시킨다. The accommodating part 32 accommodates and rotatably supports the roller 31 therein, and the upper end part is partially opened so that the discharge liquid from the slit nozzle 20 can be discharged to the roller 31. The upper outer edge of the () is exposed to the lower side of the slit nozzle (20).

이러한 수용부(32)는 그 내부 하측에 롤러(31)의 하측 외연을 침지시키는 세정액이 저장된다. 이에 롤러(31)는 수용부(32)에 수용되어 연속 회전하므로 토출액이 토출된 부위가 수용부(32)의 침지부로 진입하여 습식 세정되고, 세정완료된 부위가 슬릿노즐(20)의 하측으로 재위치되는 과정이 반복된다.The receiving part 32 is stored in the lower side of the cleaning liquid for immersing the lower outer edge of the roller 31. Accordingly, since the roller 31 is accommodated in the receiving part 32 and rotates continuously, the discharged part enters the immersion part of the receiving part 32 to be wet-cleaned, and the cleaned part is the lower side of the slit nozzle 20. The process of repositioning is repeated.

그리고 롤러(31)는 시계방향(CW) 또는 시계반대방향(CCW)으로 회전될 수 있고, 수용부(32)에 저장되어 롤러(31)를 세정하는 세정액은 탈이온수나 초순수나 솔벤트 등이 될 수 있다.The roller 31 may be rotated clockwise (CW) or counterclockwise (CCW), and the cleaning liquid stored in the accommodating part 32 to clean the roller 31 may be deionized water, ultrapure water, solvent, or the like. Can be.

상기에서, 수용부(32)는 그 내부에 롤러(31)의 회전방향을 따라 설치되는 복수의 세정모듈(41 내지 46)을 포함할 수 있다.In the above, the accommodating part 32 may include a plurality of cleaning modules 41 to 46 installed in the rotational direction of the roller 31 therein.

예컨데 세정모듈은 종래 기술에서 상술한 바와 같이 롤러(31)의 반시계 회전방향을 따라 순차 설치될 수 있는데, 세정액을 분사하는 제1분사노즐(41)과, 롤러(31) 외연에 접촉하여 이물질을 제거하는 나이프(42)와, 세정액을 분사하는 제2분사노즐(43)과, 롤러(31)의 세정액 침지 후 재차 세정액 분사하는 제3분사노즐(44), 잔류 세정액 제거하는 나이프와(45), 건조공기를 분사하는 제4분사노즐(46)을 포함할 수 있다.For example, the cleaning module may be sequentially installed along the counterclockwise rotation direction of the roller 31 as described above in the prior art. The cleaning module may contact the first injection nozzle 41 for spraying the cleaning liquid and the outer edge of the roller 31 so as to contact foreign substances. And a second spray nozzle 43 for spraying the cleaning liquid, a third spray nozzle 44 for spraying the cleaning liquid again after immersion of the cleaning liquid of the roller 31, and a knife for removing the residual cleaning liquid (45). ), And a fourth spray nozzle 46 for spraying dry air.

본 제1실시예에서는 수용부(32) 내부에 상술한 세정모듈(41 내지 46)의 일부 또는 전체와 함께 설치되거나, 상술한 세정모듈(41 내지 46)을 생략하고 단독으로 설치될 수 있는 롤형의 브러쉬기재(50)를 포함한다.In the first embodiment, a roll type may be installed in the accommodating part 32 together with some or all of the above-described cleaning modules 41 to 46 or may be installed alone without omitting the above-described cleaning modules 41 to 46. Brush base material 50 is included.

상기 브러쉬기재(50)는 수용부(32) 내부의 세정액이 저장된 부위에 침지된 상태로 설치되는 것이 바람직하다. 따라서 브러쉬기재(50)는 항시 세정액에 담겨진 상태이므로 별도로 세정액을 공급하기 위한 수단을 생략가능하여 장치를 간소화할 수 있는 것은 물론 세정액에 의해 자체 세정이 진행되므로 메인터넌스에 대한 부담이 최소화된다는 장점이 있다.The brush base 50 is preferably installed in a state of being immersed in the site where the cleaning liquid in the receiving portion 32 is stored. Therefore, since the brush base 50 is always contained in the cleaning liquid, it is possible to omit the means for separately supplying the cleaning liquid, thereby simplifying the apparatus, and the self-cleaning is performed by the cleaning liquid, thereby minimizing the burden on maintenance. .

상기에서, 브러쉬기재(50)는 롤러(31)의 회동방향에 대하여 동일한 방향으로 회동되는 것이 바람직하다.In the above, the brush base 50 is preferably rotated in the same direction with respect to the rotation direction of the roller 31.

상기 브러쉬기재(50)는 롤러(31)의 하측 외연에 접촉한 채 고정설치된 것일 수도 있으나, 회동축(51)을 기준으로 롤러(31)의 회동방향에 대하여 동일한 방향으로 회동함으로써 롤러(31)에 대한 접촉세정효율을 더욱 향상시킬 수 있는 장점이 있다.The brush base 50 may be fixed while being in contact with the lower outer edge of the roller 31, the roller 31 by rotating in the same direction with respect to the rotation direction of the roller 31 relative to the rotating shaft 51 There is an advantage that can further improve the contact cleaning efficiency.

예컨데 롤러(31)와 브러쉬기재(50)는 서로 다른 회전중심을 기준으로 상호 외연부가 접촉된 상태이므로, 롤러(31)와 브러쉬기재(50)가 상호 동일한 회전방향 예컨데 시계 또는 반시계방향으로 회동되면, 상대적으로 롤러(31)와 브러쉬기재(50)의 접촉부위에서는 상호 역방향으로 회전하며 접촉세정이 진행되어 세정효율을 극대화하는 장점이 있다.For example, since the roller 31 and the brush base 50 are in contact with each other on the basis of different centers of rotation, the roller 31 and the brush base 50 rotate in the same rotational direction, for example, clockwise or counterclockwise. In this case, the roller 31 and the contact portion of the brush base 50 relatively rotates in the opposite direction and the contact cleaning proceeds has the advantage of maximizing the cleaning efficiency.

<실시예 2><Example 2>

도 4는 본 발명에 따른 슬릿코터용 예비토출장치의 제2실시 단면 상태도이다. 4 is a cross-sectional view illustrating a second embodiment of the preliminary discharging device for a slit coater according to the present invention.

도 4를 참조하면, 본 발명에 따른 슬릿코터용 예비토출장치의 제2실시예는 슬릿노즐(20)에서 토출액을 예비토출받는 롤러(31)와, 상기 롤러(31)를 회전 가능하게 지지하여 수용하되 상기 롤러(31)의 상측 외연을 상기 슬릿노즐(20)측으로 노출시키고 하측 외연을 세정액에 침지시키는 수용부(32)와, 상기 수용부(32) 내부의 세정액이 저장된 부위에 설치되어 상기 롤러(31)의 하측 외연을 접촉세정하는 판형의 브러쉬기재(60)를 포함한다.Referring to FIG. 4, the second embodiment of the preliminary discharging device for the slit coater according to the present invention supports the roller 31 and the roller 31 rotatably discharging the discharge liquid from the slit nozzle 20. And the receiving part 32 for exposing the upper outer edge of the roller 31 to the slit nozzle 20 side and immersing the lower outer edge in the cleaning liquid, and the cleaning liquid inside the receiving part 32. It includes a plate-shaped brush base 60 for contact cleaning the lower outer edge of the roller (31).

본 제2실시예에서는 수용부(32) 내부에 상술한 세정모듈(41 내지 46)의 일부 또는 전체와 함께 설치되거나, 상술한 세정모듈(41 내지 46)을 생략하고 단독으로 설치될 수 있는 판형의 브러쉬기재(60)를 포함한다.In the second embodiment, a plate type which may be installed together with some or all of the above-described cleaning modules 41 to 46 in the accommodation part 32, or may be installed alone without omitting the above-described cleaning modules 41 to 46. Brush base material 60 is included.

상기 브러쉬기재(60)는 수용부(32) 내부의 세정액이 저장된 부위에 침지된 상태로 설치되는 것이 바람직하다. 따라서 브러쉬기재(60)는 항시 세정액에 담겨진 상태이므로 별도로 세정액을 공급하기 위한 수단을 생략가능하여 장치를 간소화할 수 있는 것은 물론 세정액에 의해 자체 세정이 진행되므로 메인터넌스에 대한 부담이 최소화된다는 장점이 있다.The brush base 60 is preferably installed in a state of being immersed in the site where the cleaning liquid in the receiving portion 32 is stored. Therefore, since the brush base 60 is always contained in the cleaning liquid, it is possible to omit the means for separately supplying the cleaning liquid, thereby simplifying the apparatus, and the self-cleaning is performed by the cleaning liquid, thereby minimizing the burden on maintenance. .

상기에서, 브러쉬기재(60)는 좌우로 수평 왕복이송되는 것이 바람직하다. 상기 브러쉬기재(60)는 롤러(31)의 하측 외연에 접촉한 채 고정설치된 것일 수도 있으나, 좌우로 수평 왕복이송됨으로써 롤러(31)에 대한 접촉세정효율을 더욱 향상시킬 수 있는 장점이 있다.In the above, the brush base 60 is preferably horizontally reciprocated to the left and right. The brush base 60 may be fixed while being in contact with the lower outer edge of the roller 31, there is an advantage to further improve the contact cleaning efficiency for the roller 31 by horizontal reciprocating to the left and right.

예컨데, 브러쉬기재(60)는 그의 일측으로 설치되는 캠(61)과 접촉하여 캠(61)의 회동에 따라 캠(61)의 장축과 단축에 교번하여 접촉되어 좌우로 수평이송되도록 구성될 수 있고, 대향측에는 브러쉬기재(60)를 복귀시킬 수 있는 탄성수단(62)이 설치될 수 있다.For example, the brush base 60 may be configured to be in contact with the cam 61 is installed to one side thereof in contact with the long axis and short axis of the cam 61 in alternating contact with the cam 61 is installed to move horizontally from side to side. On the opposite side, elastic means 62 may be installed to return the brush base 60.

이상에서는 본 발명을 특정의 바람직한 실시 예들을 들어 도시하고 설명하였으나, 본 발명은 상기한 실시 예들에 한정되지 않으며 본 발명의 개념을 벗어나지 않는 범위 내에서 당해 발명이 속하는 기술 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 다양한 변경과 수정이 가능하다.The present invention has been shown and described with reference to certain preferred embodiments, but the present invention is not limited to the above-described embodiments and has ordinary skill in the art to which the present invention pertains without departing from the concept of the present invention. Various changes and modifications are possible by the user.

상기한 바와 같이 본 발명은, 롤러에 대한 접촉 세정력을 증가시켜 약액을 완벽하게 제거해 낼 수 있으므로 세정효율을 월등하게 향상시킬 수 있는 효과가 있 다.As described above, the present invention can effectively remove the chemical liquid by increasing the contact cleaning force on the roller has an effect that can significantly improve the cleaning efficiency.

또한 본 발명은, 브러쉬기재가 수용부에 침지된 상태이므로 자체 세정되어 별도의 세정작업이 필요치 않아 메인터넌스가 용이하다는 장점이 있다.In addition, the present invention has the advantage that the brush base is immersed in the accommodating part, so that it is self-cleaned and does not require a separate cleaning operation, so that maintenance is easy.

Claims (5)

슬릿노즐에서 토출액을 예비토출받는 롤러;A roller for preliminarily discharging the discharge liquid from the slit nozzle; 상기 롤러를 회전 가능하게 지지하여 수용하되, 상기 롤러의 상측 외연을 상기 슬릿노즐측으로 노출시키고 하측 외연을 세정액에 침지시키는 수용부; 및An accommodating part for rotatably supporting the roller and accommodating the roller, exposing an upper outer edge of the roller to the slit nozzle side and immersing a lower outer edge in a cleaning liquid; And 상기 수용부 내부의 세정액이 저장된 부위에 설치되어 상기 롤러의 하측 외연을 접촉세정하는 브러쉬기재를 포함하는 슬릿코터용 예비토출장치.A preliminary discharging device for a slit coater, comprising: a brush base installed at a portion where the cleaning liquid is stored inside the accommodating part and contacting and cleaning the lower outer edge of the roller. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 브러쉬기재는 롤형으로 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿코터용 예비토출장치.The brush base is a pre-discharge device for a slit coater, characterized in that formed in a roll shape. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 브러쉬기재는 상기 롤러의 회동방향에 대하여 동일한 방향으로 회동되는 것을 특징으로 하는 슬릿코터용 예비토출장치.And the brush base material is rotated in the same direction with respect to the rotation direction of the roller. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 브러쉬기재는 판형으로 형성된 것을 특징으로 하는 슬릿코터용 예비토출장치.The brush base is a pre-discharge device for a slit coater, characterized in that formed in a plate shape. 제4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 브러쉬기재는 좌우로 수평 왕복이송되는 것을 특징으로 하는 슬릿코터용 예비토출장치.The brush base is a pre-discharge device for a slit coater, characterized in that the horizontal reciprocating transfer to the left and right.
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