KR20080055564A - Flat-type chip varistor - Google Patents

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Abstract

A flat type chip varistor is provided to prevent a ceramic wave from being bent in a sintering process by sintering a single bare chip. A flat type chip varistor includes a flat type varistor ceramic(100), a first electrode(210), and a plurality of second electrodes(220). The first electrode is contacted with a whole rear plane of the flat type varistor ceramic. The second electrodes are partitioned and contacted with a predetermined interval on a surface of the flat type varistor ceramic. The predetermined interval is more than a thickness of the flat type varistor ceramic. The thickness of the flat type varistor ceramic is 40% to 100% of a length or a width of the flat type varistor ceramic.

Description

평판형 칩 배리스터 {Flat-type chip varistor}Flat Chip Varistors {Flat-type chip varistor}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판형 칩 배리스터의 구성을 보여주는 사시도이다.1 is a perspective view showing the configuration of a flat chip varistor according to an embodiment of the present invention.

도 2(a) 및 도 2(b)는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 평판형 칩 배리스터의 구성을 보여주는 사시도이다.2 (a) and 2 (b) are perspective views showing the configuration of a flat chip varistor according to another embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 평판형 칩 배리스터를 제조방법을 설명하는 플로차트이다.3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a flat chip varistor according to the present invention.

도 4는 도 3의 플로차트에 대한 제조공정도이다.4 is a manufacturing process diagram of the flowchart of FIG. 3.

본 발명은 평판형 칩 배리스터 및 이를 제조하는 방법에 관한 것으로, 특히 단일 베어 칩에 다수의 배리스터를 구현함과 동시에 이러한 칩 배리스터를 수율 높게 제조할 수 있는 기술에 관련한다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a planar chip varistor and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a technique capable of producing a high yield of such chip varistors while implementing a plurality of varistors in a single bare chip.

최근 들어, 발광 다이오드(Light Emitting Diode; 이하 LED)는 전광판, 휴대폰, 컴퓨터 등 각종 전자기기의 광원 및 전구를 대체할 차기 조명시장의 주역으로 떠오르고 있고 시장의 수요가 폭발적으로 증가하고 있는 추세이다. 이러한, LED는 정전기 방전(ElectroStatic Discharge: 이하 ESD)에 대해 매우 취약한 특성이 있기 때문에, 이에 대한 보호 소자로서 제너 다이오드나 SMD 배리스터를 사용해 오고 있다.Recently, light emitting diodes (LEDs) have emerged as leading players in the next lighting market to replace light sources and light bulbs of various electronic devices such as electronic signs, mobile phones, and computers, and the demand of the market is exploding. Since LEDs are very vulnerable to electrostatic discharge (ESD), Zener diodes or SMD varistors have been used as protection devices.

정전기 보호 소자로서 사용되고 있는 제너 다이오드나 SMD 배리스터는 최근 이슈화되고 있는 고휘도 백색 LED 및 LED 어레이 등에 적용하는데 있어서, 몇 가지 문제점을 가진다.Zener diodes and SMD varistors, which are used as static protection devices, have some problems in application to high-brightness white LEDs and LED arrays, which are recently being issued.

제너 다이오드의 경우, 먼저 과전압에 대한 일 방향성 보호 소자라는데 문제가 있다. 즉, 일 방향성이란, 전기를 한쪽 방향으로만 흐르게 하는 특성을 의미하는데, LED 칩에 병렬 연결되어 사용하는 경우, 반대 방향으로부터의 ESD에 대해서는 전혀 보호 기능을 발휘하지 못하는 문제가 있다. 또한, RGB LED의 조합에 의하여 구현되는 백색 LED나 LED 어레이 등에 있어서, 다수의 LED 소자를 정전기로부터 보호하고자 하는 경우, 제너 다이오드를 여러 개 사용해야 하는데, 이러한 경우, 공간적인 문제와 더불어 작업 비용이 증가하며, 휘도가 낮아지는 단점이 있다.In the case of a Zener diode, there is a problem of being a unidirectional protection device against overvoltage. That is, unidirectional means a characteristic that allows electricity to flow in only one direction, but when used in parallel with the LED chip, there is a problem in that it does not exhibit any protection against ESD from the opposite direction. In addition, in a white LED or an LED array implemented by a combination of RGB LEDs, in order to protect a large number of LED elements from static electricity, multiple zener diodes must be used. In this case, space costs and work costs increase. And, there is a disadvantage that the brightness is lowered.

제너 다이오드의 문제점을 보완하기 위해, 평판형 배리스터를 적용하고자 많은 시도가 있었지만, 지금까지 평판형 칩 배리스터는 제조상 다음과 같은 기술적 문제로 인하여 적용된 사례가 없는 실정이다. Although many attempts have been made to apply the planar varistor to compensate for the problem of the Zener diode, the planar chip varistor has not been applied so far due to the following technical problems in manufacturing.

구체적으로, 평판형 칩 배리스터를 제조하는 방식으로서 일반적인 NTC 서미스터(thermistor)의 베어 칩 제조를 응용하게 되는데, 이러한 방식은 가령 길이 50mm, 폭 50mm, 두께 5mm의 그린 웨이퍼를 소성하여 평탄도를 맞추도록 랩핑 처리한 뒤 전극을 부착하고, 다이 소잉(die sawing) 설비를 이용하여 단위 칩으로 형성 하는 공정을 거치게 된다. Specifically, as a method of manufacturing a planar chip varistor, a bare chip manufacturing of a general NTC thermistor is applied, and such a method is made by firing a green wafer having a length of 50 mm, a width of 50 mm, and a thickness of 5 mm to match flatness. After lapping, electrodes are attached and die sawing is used to form unit chips.

그러나, 이러한 제조 공정에서는 소성 공정 중 세라믹의 수축에 따른 웨이퍼의 뒤틀림이 항상 문제가 되어 그린 웨이퍼의 두께를 낮추기 어렵다는 단점이 있다. 또한, 랩핑 처리 과정 중 세라믹 웨이퍼의 두께를 100㎛ ~ 150㎛ 범위로 제어하는데 수율 및 공정 비용이 문제가 된다. 또한, 세라믹 웨이퍼를 단일 칩으로 자르는 과정에서 고속 회전하는 다이싱 블레이드(dicing blade)에 의해 전극과 세라믹의 접합면과 절단면 등에 깨짐 현상이 발생하는 단점을 가진다. 특히, 다이 소잉 방식으로 절단되는 단일 칩의 사이즈가 일반 제너 다이오드와 같이 길이 250㎛, 폭 250㎛, 두께 150㎛인 경우, 상기에서 언급된 깨짐 불량 현상이 심하게 발생한다.However, in this manufacturing process, the warpage of the wafer due to shrinkage of the ceramic during the firing process is always a problem, it is difficult to lower the thickness of the green wafer. In addition, yield and process costs are problematic in controlling the thickness of the ceramic wafer in the range of 100 μm to 150 μm during the lapping process. In addition, in the process of cutting the ceramic wafer into a single chip, there is a disadvantage in that a cracking phenomenon occurs in the bonding surface and the cutting surface of the electrode and the ceramic by a dicing blade which rotates at a high speed. In particular, when the size of a single chip cut by the die sawing method is 250 μm in length, 250 μm in width, and 150 μm in thickness like a general zener diode, the above-mentioned crack failure phenomenon occurs severely.

또한, 일부 LED 패키지 업체에서는 제너 다이오드 대신 SMD 배리스터 적용하고 있지만, RGB LED의 경우와 같이 다련의 정전기 보호 소자가 필요한 경우, SMD 배리스터의 치수적인 제약 요소가 있어 이 분야로의 적용하는데 걸림돌이 되고 있다.In addition, some LED package companies are applying SMD varistors instead of Zener diodes, but when multiple electrostatic protection devices are required, such as in RGB LEDs, there are dimensional constraints on SMD varistors, making it difficult to apply to this field. .

따라서, 본 발명의 목적은 단일 칩에 다수의 배리스터를 구현하여 공간적인 문제를 해결함과 동시에 작업효율을 높일 수 있는 칩 배리스터를 제공하는 것이다.Accordingly, an object of the present invention is to provide a chip varistor that can implement a plurality of varistors on a single chip to solve the spatial problem and at the same time increase the work efficiency.

본 발명의 다른 목적은 제조상 다이 소잉공정에서 세라믹의 깨짐 불량 현상을 최소화하고 소성공정에서 세라믹의 휨 현상을 최소화할 수 있는 제조방법을 제공하는 것이다.Another object of the present invention is to provide a manufacturing method capable of minimizing a defect in ceramic in a die sawing process and minimizing warpage of a ceramic in a firing process.

상기한 목적은 평판형 배리스터 세라믹; 상기 평판형 배리스터 세라믹의 이면 전면으로 일체로 접합된 1차 전극;및 상기 평판형 배리스터 세라믹의 표면에 일정한 간격으로 구획되어 접합된 다수의 2차 전극을 포함하는 평판형 칩 배리스터에 의해 달성된다.The above object is a planar varistor ceramic; It is achieved by a planar chip varistor including a primary electrode integrally bonded to the front surface of the back surface of the planar varistor ceramic; and a plurality of secondary electrodes partitioned and bonded to the surface of the planar varistor ceramic at regular intervals.

또한, 상기한 목적은 평판형 배리스터 세라믹; 상기 평판형 배리스터 세라믹의 이면에 일정한 간격으로 구획되어 접합된 다수의 1차 전극; 및 상기 평판형 배리스터 세라믹의 표면에 상기 1차 전극에 대응하여 일정한 간격으로 구획되어 접합된 다수의 2차 전극을 포함하는 평판형 칩 배리스터에 의해 달성된다.In addition, the above object is a flat varistor ceramic; A plurality of primary electrodes partitioned and bonded to the rear surface of the plate-type varistor ceramic at regular intervals; And a plurality of secondary electrodes partitioned and joined at regular intervals on the surface of the planar varistor ceramic to correspond to the primary electrodes.

바람직하게, 상기 일정한 간격은 상기 배리스터 세라믹의 두께 이상일 수 있다. Preferably, the predetermined interval may be greater than or equal to the thickness of the varistor ceramic.

또한, 상기 배리스터 세라믹의 두께는 그것의 길이 또는 폭의 40% ~ 100%일 수 있다.In addition, the varistor ceramic may have a thickness of 40% to 100% of its length or width.

또한, 상기 일정한 간격에 의해 형성되는 공간에 절연 물질이 개재될 수 있다. In addition, an insulating material may be interposed in the space formed by the predetermined interval.

상기 배리스터 세라믹은 산화아연, 티탄산 스트론튬 중 어느 하나를 주성분으로 하는 조성물로 이루어질 수 있으며, 상기 전극은 금, 팔라듐, 백금,은, 니켈, 구리 중 어느 하나를 포함할 수 있다.The varistor ceramic may be composed of a composition containing one of zinc oxide and strontium titanate as a main component, and the electrode may include any one of gold, palladium, platinum, silver, nickel, and copper.

상기한 목적은 배리스터 그린시트 적층체를 준비하는 단계; 상기 그린시트 적층체 표면에 1차 전극을 형성하는 단계; 상기 그린시트 적층체 이면에 1차 전극에 대응하는 2차 전극을 형성하는 단계; 상기 그린시트 적층체와 상기 1차 및 2차 전극이 밀착되도록 압착하는 단계; 압착된 상기 그린시트 적층체를 단일 칩 사이즈로 절단하는 단계; 절단된 상기 단일 칩 내에 포함된 바인더를 태워 버리는 탈 바인더 단계; 및 탈 바인더된 상기 단일 칩을 배리스터에 대응하는 조건으로 소성하는 단계를 포함하는 평판형 칩 배리스터 제조방법에 의해 달성된다.The above object is to prepare a varistor green sheet laminate; Forming a primary electrode on a surface of the green sheet laminate; Forming a secondary electrode corresponding to the primary electrode on the rear surface of the green sheet laminate; Pressing the green sheet laminate and the primary and secondary electrodes to be in close contact with each other; Cutting the compressed green sheet stack to a single chip size; A debinding step of burning off the binder included in the cut single chip; And baking the de-binded single chip under conditions corresponding to the varistor.

상기 1차 및 2차 전극은 스크린 인쇄법, 스퍼터링, 및 에칭 중 어느 하나의 방법으로 형성될 수 있다.The primary and secondary electrodes may be formed by any one of screen printing, sputtering, and etching.

또한, 상기 압착 전에 상기 1차 및 2차 전극을 포함하는 그린시트 적층체를 진공 포장하고, 등온 등수압으로 압착할 수 있다.In addition, the green sheet laminate including the primary and secondary electrodes may be vacuum-packed and compressed by isothermal isostatic pressure before the pressing.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 구체적으로 설명한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 평판형 칩 배리스터의 구성을 보여주는 사시도이다.1 is a perspective view showing the configuration of a flat chip varistor according to an embodiment of the present invention.

도 1을 참조하면, 본 발명에 따른 평판형 칩 배리스터는 배리스터 세라믹(100)과, 이 배리스터 세라믹(100)의 표면과 이면에 각각 접합된 전극(210) 및 전극(220)을 포함한다.Referring to FIG. 1, a planar chip varistor according to the present invention includes a varistor ceramic 100 and electrodes 210 and 220 bonded to the front and rear surfaces of the varistor ceramic 100, respectively.

이 실시예에서 배리스터 세라믹(100)의 표면에 접합된 전극(210)은 4개로 분할되어 형성되지만 분할 개수는 이에 한정되지 않는다. 또한, 배리스터 세라믹(100)의 이면에 접합된 전극(220)은 단일체로 형성된다.In this embodiment, the electrode 210 bonded to the surface of the varistor ceramic 100 is divided into four, but the number of divisions is not limited thereto. In addition, the electrode 220 bonded to the back surface of the varistor ceramic 100 is formed in a single body.

이러한 구조에 의하면 배리스터 세라믹(100)을 중심으로 이면에 형성된 단일 전극(220)과 표면에 형성된 다수의 전극(210) 각각에 의해 형성되는 수직구조의 배리스터가 하나의 베어 칩에 다수 개 형성되는 것이기 때문에 베어 칩 면적의 효율 성을 높여 공간적인 문제를 해결할 수 있게 된다.According to such a structure, a plurality of varistors having a vertical structure formed by each of the single electrodes 220 formed on the rear surface and the plurality of electrodes 210 formed on the surface of the varistor ceramic 100 are formed on one bare chip. Therefore, it is possible to solve the spatial problem by increasing the efficiency of the bare chip area.

도 2(a) 및 도 2(b)는 본 발명의 다른 실시 예에 따른 평판형 칩 배리스터의 구성을 보여주는 사시도이다.2 (a) and 2 (b) are perspective views showing the configuration of a flat chip varistor according to another embodiment of the present invention.

도 1과 달리 도 2(a)와 2(b)에서는 배리스터 세라믹(100)의 표면에 접합된 전극(210, 210')과 이면에 접합된 전극(230, 240)은 각각 동일한 형상와 개수로 서로 대응한다. 다시 말해, 표면에 접합된 전극(210, 210')은 이면에 접합된 전극(230, 240)과 배리스터 세라믹(100)을 중심으로 대칭 구조를 갖는다.2 (a) and 2 (b), the electrodes 210 and 210 'bonded to the surface of the varistor ceramic 100 and the electrodes 230 and 240 bonded to the rear surface of the varistor ceramic 100 have the same shape and number, respectively. Corresponds. In other words, the electrodes 210 and 210 ′ bonded to the surface have a symmetrical structure with respect to the electrodes 230 and 240 and the varistor ceramic 100 bonded to the rear surface.

배리스터 세라믹(100)과 전극(210, 210', 220, 230, 240)의 접합은, 배리스터 세라믹(100)에 대응하는 그린시트 적층체(도 4의 1100)의 상하면에 전극(210, 210', 220, 230, 240)에 대응하는 전극 페이스트를 스크린 인쇄법 등에 의해 형성하고, 이를 건조한 후 등온 등수압의 압착 및 탈 바인더 이후 동시 소성하는 과정을 통하여 이루어진다. 이에 대해서는 후술한다.Bonding of the varistor ceramic 100 and the electrodes 210, 210 ′, 220, 230, 240 is performed on the upper and lower surfaces of the green sheet laminate (1100 of FIG. 4) corresponding to the varistor ceramic 100. , 220, 230, 240 to form an electrode paste by the screen printing method, etc., after drying it is made through the process of simultaneous firing after pressing and de-binder of isothermal isostatic pressure. This will be described later.

도 1, 도 2(a) 및 도 2(b)에서의 배리스터 세라믹(100)은 최종 평판형 칩 배리스터에 대해 요구되는 정전용량(Capacitance, 이하 Cp라 함)의 범위에 따라 다양한 유전율을 가지는 세라믹 조성 군이 선택적으로 적용된다. The varistor ceramic 100 in FIGS. 1, 2 (a) and 2 (b) is a ceramic having various dielectric constants depending on the range of capacitance (hereinafter referred to as Cp) required for the final flat chip varistor. Composition groups are optionally applied.

바람직하게, Cp가 10pF 미만인 경우 유전율이 400 ~ 1000 범위인 산화아연(ZnO)을 주성분으로 하는 조성 군을 적용하며, Cp가 10pF을 초과하는 경우는 유전율이 5,000 ~ 20,000 범위를 가지는 티탄산 스트론튬(SrTiO3)이 주성분인 조성 군을 적용할 수 있다.Preferably, when Cp is less than 10 pF, a composition group mainly comprising zinc oxide (ZnO) having a dielectric constant in the range of 400 to 1000 is applied, and when Cp is more than 10 pF, strontium titanate (SrTiO) having a dielectric constant in the range of 5,000 to 20,000. The composition group whose main component is 3 ) can be applied.

본 발명의 칩 배리스터는 전극(210, 210', 220, 230, 240)의 재질은 금, 백금, 팔라듐, 은, 니켈, 구리 중 어느 하나를 적용하되, 배리스터 세라믹(100)의 소성온도 범위 및 소성 분위기 조건, 그리고, 전극(210, 210', 220, 230, 240)과 배리스터 세라믹(100)의 접합성을 고려하여 선택되어야 한다.In the chip varistor of the present invention, the material of the electrodes 210, 210 ′, 220, 230, and 240 may be any one of gold, platinum, palladium, silver, nickel, and copper, and the firing temperature range of the varistor ceramic 100 may be It should be selected in consideration of the firing atmosphere conditions and the bonding property of the electrodes 210, 210 ', 220, 230, 240 and the varistor ceramic 100.

배리스터 세라믹(100) 표면 및 이면에 형성되는 전극(210, 210', 220, 230, 240)은 페이스트 인쇄, 스퍼터링 등의 진공 증착 공법, 또는 에칭 공정을 선택하여 적용 가능하다. 특히, 페이스트 인쇄법을 이용하는 경우, 동시 소성 과정 중 전극 페이스트와 배리스터 세라믹(100)의 접합력을 높이기 위해 전극 페이스트 내에 고온용 글라스 플릿(glass frit)이 포함될 수 있다. The electrodes 210, 210 ′, 220, 230, and 240 formed on the front and back surfaces of the varistor ceramic 100 may be applied by selecting a vacuum deposition method such as paste printing, sputtering, or an etching process. In particular, in the case of using the paste printing method, a high temperature glass frit may be included in the electrode paste in order to increase the bonding force between the electrode paste and the varistor ceramic 100 during the co-firing process.

또한, 도 1, 도 2(a) 및 도 2(b)에 도시된 평판형 배리스터의 표면 또는 이면 상에 배열되는 전극과 전극 사이의 공간(212, 214)은 배리스터 세라믹(100)의 두께와 같거나 그보다 길게 형성하여야 정전기 방전에 대해 효율적으로 회로를 보호할 수 있다. 그러나, 전극과 전극 사이의 공간에 절연성이 높은 물질이 최종 평판형 칩 배리스터에서 존재한다면 전극과 전극 사이의 공간 및 배리스터 세라믹 두께에 대한 설계적 검토는 배제될 수 있다.In addition, the spaces 212 and 214 between the electrodes and the electrodes arranged on the surface or the rear surface of the planar varistors shown in FIGS. 1, 2A and 2B may have the thickness of the varistor ceramic 100. It must be formed equal to or longer than this to effectively protect the circuit against electrostatic discharge. However, if a highly insulating material is present in the final planar chip varistor, the design consideration for the space between the electrode and the varistor ceramic thickness can be ruled out.

이와 같은 구조를 갖는 본 발명의 제조방법을 이하 설명한다.The manufacturing method of this invention which has such a structure is demonstrated below.

도 3은 본 발명에 따른 평판형 칩 배리스터를 제조방법을 설명하는 플로차트이고, 도 4는 도 3의 플로차트에 대한 제조공정도이다.FIG. 3 is a flowchart illustrating a method of manufacturing a flat chip varistor according to the present invention, and FIG. 4 is a manufacturing process diagram of the flowchart of FIG. 3.

먼저, 도 4(a)와 같이, 배리스터 세라믹(100)에 대응되는 그린시트 적층체(1100)를 준비한다(단계 S31). 설명의 편의를 위하여, 단위 칩 4개에 해당되는 사이즈로 축소하여 도시하였지만, 실제 제조에 있어서는 그린시트 적층체(1100)에 2만개 이상의 단위 칩이 존재한다.First, as shown in FIG. 4A, a green sheet laminate 1100 corresponding to the varistor ceramic 100 is prepared (step S31). For convenience of description, although shown to be reduced to the size corresponding to four unit chips, in actual manufacturing, there are more than 20,000 unit chips in the green sheet stack 1100.

그린시트 적층체(1100)의 두께는 단일 칩으로 소성하는 과정 중 휨 현상이 발생되지 않는 조건으로 선택되어야 한다. The thickness of the green sheet laminate 1100 should be selected under conditions in which warpage does not occur during firing with a single chip.

바람직하게는, 최종 완성된 평판형 칩 배리스터의 두께는 길이 또는 폭 크기의 40% ~ 100% 범위 내로 설계하는 것이 휨 발생을 방지할 수 있다. 예를 들어, 완성된 평판형 칩 배리스터의 길이와 폭이 각각 300㎛인 경우, 두께는 120 ~ 300㎛ 범위 내가 되는 것이 바람직하며, 그린시트 적층체(1100)의 두께는 수축률을 감안하여 설계된다.Preferably, the thickness of the finished flat plate varistor is designed to be in the range of 40% to 100% of the length or width size to prevent the occurrence of warpage. For example, when the length and width of the finished flat chip varistor are 300 μm each, the thickness is preferably in the range of 120 μm to 300 μm, and the thickness of the green sheet laminate 1100 is designed in consideration of shrinkage. .

이어, 도 4(b)와 같이, 그린시트 적층체(1100)의 이면에 전극 페이스트를 스크린 인쇄법으로 전면 도포하여 1차 전극(2220)을 형성하고(단계 S32), 도 4(c)에서와 같이, 그린시트 적층체(1100)의 표면에도 스크린 인쇄법을 이용하여 도 1과 같은 패턴으로 2차 전극(2210)을 형성하여 세라믹 웨이퍼(10)를 형성한다(단계 S33). Subsequently, as shown in FIG. 4B, the electrode paste is applied to the entire surface of the green sheet laminate 1100 by screen printing to form a primary electrode 2220 (step S32), and in FIG. 4C. As described above, the secondary electrode 2210 is formed on the surface of the green sheet laminate 1100 in the same pattern as that of FIG. 1 by using the screen printing method to form the ceramic wafer 10 (step S33).

이어, 1차 및 2차 전극(2220, 2210)이 형성된 그린시트 적층체(1100)를 수압을 이용하여 가압하기 위해 진공 포장하고(단계 S34), 등온 등수압 압착을 진행하여(단계 S35) 1차 및 2차 전극(2220, 2210)과 그린시트 적층체(1100)의 접합면의 밀착력을 높인다.Subsequently, in order to pressurize the green sheet laminate 1100 on which the primary and secondary electrodes 2220 and 2210 are formed using water pressure (step S34), isothermal isostatic pressing is performed (step S35) 1 The adhesion between the secondary and secondary electrodes 2220 and 2210 and the green sheet laminate 1100 is increased.

다음, 도 4(d)와 같이, 세라믹 웨이퍼(10)를 단일 칩 사이즈로 절단하여(단계 S36) 단일 칩(11, 12, 13, 14)으로 분할하고, 탈 바인더(단계 S37) 과정을 거쳐 배리스터에 대응되는 온도, 시간 및 분위기 조건으로 소성하여(단계 S38), 도 4(e)와 같이 평판형 칩 배리스터를 제조한다.Next, as shown in FIG. 4D, the ceramic wafer 10 is cut into single chip sizes (step S36), divided into single chips 11, 12, 13, and 14, and subjected to a binder removal process (step S37). It bakes at the temperature, time, and atmospheric conditions corresponding to a varistor (step S38), and manufactures a flat chip varistor as shown in FIG.4 (e).

이와 같이, 소성하기 전에 단일 칩 사이즈로 절단하기 때문에 절단에 따른 깨짐 불량을 최소화할 수 있다. 또한, 단일 칩 상태로 소성하기 때문에 배리스터 세라믹의 두께가 얇더라도 휨 현상을 최소화할 수 있다.As such, since the chips are cut to a single chip size before firing, cracking failure due to cutting can be minimized. In addition, since the firing is performed in a single chip state, the warpage phenomenon can be minimized even if the thickness of the varistor ceramic is thin.

이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 중심으로 설명하였지만 당업자의 수준에서 다양한 변경이 가능하다.In the above description, but with reference to the preferred embodiment of the present invention various modifications are possible at the level of those skilled in the art.

예를 들어, 2차 전극의 개수와 형상은 적절하게 변경될 수 있다. 또한, 제조공정 중 가압은 수압을 반드시 이용할 필요는 없으며 이에 따라 진공 포장 공정이 생략될 수 있다.For example, the number and shape of the secondary electrodes can be changed as appropriate. In addition, the pressurization during the manufacturing process does not necessarily use a hydraulic pressure, and thus the vacuum packaging process may be omitted.

따라서, 본 발명의 범위는 상기한 실시예에 한정되어서는 안 되며, 이하에 기재되는 특허청구범위에 따라 해석되어야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above embodiment, but should be construed according to the claims described below.

이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명에 따르면 여러 가지의 이점을 갖는다.As described above, the present invention has various advantages.

먼저, 평판형 칩 배리스터는 단일 칩 상태로 소성이 되기 때문에, 세라믹 두께가 얇더라도 기존 베어칩 제조 공정에서의 세라믹 웨이퍼의 소성 과정 중 발생하는 휨 현상을 미연에 방지할 수 있고, 전극과 세라믹의 접합면과 절단면의 표면 조도가 균일하도록 제조할 수 있다.First, since the plate-type chip varistor is fired in a single chip state, even if the thickness of the ceramic is thin, it is possible to prevent the warpage phenomenon occurring during the firing process of the ceramic wafer in the existing bare chip manufacturing process. It can be manufactured so that the surface roughness of a joining surface and a cut surface is uniform.

또한, 단일 칩으로 절단하여 소성되기 때문에, 기존의 다이 소잉 방식에 의 한 베어칩 제조 공법보다 생산성이 높으며, 많은 공정 비용을 절감할 수 있다.In addition, since a single chip is cut and fired, productivity is higher than that of a bare chip manufacturing method using a conventional die sawing method, and a lot of process costs can be reduced.

또한, 평판형 칩 배리스터의 전극을 2개 이상으로 구획하여 다련의 평판형 칩 배리스터를 제조할 수 있어, 다수의 보호 소자를 필요로 하는 경우, 공간 최소화 및 공정 비용 절감의 이점이 있다. 특히, 적색-녹색-청색(Red-Green-Blue) LED 및 LED 어레이에 있어서, 다련의 평판형 칩 배리스터는 매우 효율적으로 사용될 수 있다. In addition, a plurality of flat chip varistors can be manufactured by dividing the electrodes of the flat chip varistor into two or more, so that when a large number of protection elements are required, there is an advantage of minimizing space and reducing process costs. In particular, for red-green-blue LEDs and LED arrays, multiple flat chip varistors can be used very efficiently.

Claims (10)

평판형 배리스터 세라믹; Flat varistor ceramics; 상기 평판형 배리스터 세라믹의 이면 전면으로 일체로 접합된 1차 전극;및 A primary electrode integrally bonded to the front surface of the back surface of the planar varistor ceramic; and 상기 평판형 배리스터 세라믹의 표면에 일정한 간격으로 구획되어 접합된 다수의 2차 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터.And a plurality of secondary electrodes partitioned and bonded to the surface of the planar varistor ceramic at regular intervals. 평판형 배리스터 세라믹; Flat varistor ceramics; 상기 평판형 배리스터 세라믹의 이면에 일정한 간격으로 구획되어 접합된 다수의 1차 전극; 및A plurality of primary electrodes partitioned and bonded to the rear surface of the plate-type varistor ceramic at regular intervals; And 상기 평판형 배리스터 세라믹의 표면에 상기 1차 전극에 대응하여 일정한 간격으로 구획되어 접합된 다수의 2차 전극을 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터.And a plurality of secondary electrodes which are partitioned and joined at regular intervals on the surface of the planar varistor ceramic to correspond to the primary electrodes. 청구항 1 또는 2에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 일정한 간격은 상기 배리스터 세라믹의 두께 이상인 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터.The predetermined interval is a flat chip varistor, characterized in that more than the thickness of the varistor ceramic. 청구항 3에 있어서,The method according to claim 3, 상기 배리스터 세라믹의 두께는 그것의 길이 또는 폭의 40% ~ 100%인 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터.And the thickness of the varistor ceramic is 40% to 100% of its length or width. 청구항 1 또는 2에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 일정한 간격에 의해 형성되는 공간에 절연 물질이 개재된 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터.Flat chip varistor, characterized in that the insulating material is interposed in the space formed by the predetermined interval. 청구항 1 또는 2에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 배리스터 세라믹은 산화아연, 티탄산 스트론튬 중 어느 하나를 주성분으로 하는 조성물로 이루어진 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터.The varistor ceramic is a planar chip varistor, characterized in that the composition consisting of a zinc oxide, strontium titanate as a main component. 청구항 1 또는 2에 있어서.The method according to claim 1 or 2. 상기 전극은 금, 팔라듐, 백금,은, 니켈, 구리 중 어느 하나를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터.The electrode is a flat chip varistor, comprising any one of gold, palladium, platinum, silver, nickel, copper. 배리스터 그린시트 적층체를 준비하는 단계;Preparing a varistor green sheet laminate; 상기 그린시트 적층체 표면에 1차 전극을 형성하는 단계;Forming a primary electrode on a surface of the green sheet laminate; 상기 그린시트 적층체 이면에 1차 전극에 대응하는 2차 전극을 형성하는 단계;Forming a secondary electrode corresponding to the primary electrode on the rear surface of the green sheet laminate; 상기 그린시트 적층체와 상기 1차 및 2차 전극이 밀착되도록 압착하는 단계;Pressing the green sheet laminate and the primary and secondary electrodes to be in close contact with each other; 압착된 상기 그린시트 적층체를 단일 칩 사이즈로 절단하는 단계; Cutting the compressed green sheet stack to a single chip size; 절단된 상기 단일 칩 내에 포함된 바인더를 태워 버리는 탈 바인더 단계; 및A debinding step of burning off the binder included in the cut single chip; And 탈 바인더된 상기 단일 칩을 배리스터에 대응하는 조건으로 소성하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터 제조방법.And baking the debonded single chip under conditions corresponding to the varistor. 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8, 상기 1차 및 2차 전극은 스크린 인쇄법, 스퍼터링, 및 에칭 중 어느 하나의 방법으로 형성되는 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터 제조방법.The method of claim 1, wherein the primary and secondary electrodes are formed by any one of screen printing, sputtering, and etching. 청구항 8에 있어서,The method according to claim 8, 상기 압착 전에 상기 1차 및 2차 전극을 포함하는 그린시트 적층체를 진공 포장하고, 등온 등수압으로 압착하는 것을 특징으로 하는 평판형 칩 배리스터 제조방법.A method of manufacturing a flat chip varistor, wherein the green sheet laminate including the primary and secondary electrodes is vacuum-packed and compressed by isothermal isostatic pressure before the pressing.
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