KR20080052842A - The cluster-type antireflection sheet and manufacturing method thereof - Google Patents

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KR20080052842A
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김병삼
김동식
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(주)쓰리나인
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Abstract

A complex antireflection sheet and a manufacturing method thereof are provided to improve an antireflection property by depositing a coating film using PVD(Physical Vapor Deposition) and plasma polymerization schemes. A complex antireflection sheet includes a polymer substrate(110), a first coating film(120), a first high refractive antireflection film(130), a low refractive antireflection film(140), a second high refractive antireflection film(150), and a second coating film(160). The first coating film is deposited on the polymer substrate. The first high refractive antireflection film is deposited on the first coating film. The low refractive antireflection film is deposited on the first high refractive antireflection film. The second high refractive antireflection film is deposited on the low refractive antireflection film. The second coating film deposits a low refractive material on the second high refractive antireflection film.

Description

복합형 반사방지 시트 및 그 제조방법 {The cluster-type antireflection sheet and manufacturing method thereof}Composite antireflection sheet and its manufacturing method {The cluster-type antireflection sheet and manufacturing method

도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반사방지 구조를 갖는 시트의 단면도,1 is a cross-sectional view of a sheet having an antireflective structure according to an embodiment of the present invention;

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 복합형 반사방지 시트 제조방법을 나타내는 순서도,2 is a flow chart showing a composite anti-reflective sheet manufacturing method according to an embodiment of the present invention,

도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 반사방지막을 제조하는 물리기상 증착장치를 나타내는 개략도,3 is a schematic view showing a physical vapor deposition apparatus for manufacturing an anti-reflection film according to an embodiment of the present invention,

도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 코딩층을 제조하는 플라즈마 중합장치를 나타내는 개략도.Figure 4 is a schematic diagram showing a plasma polymerization apparatus for producing a coding layer according to an embodiment of the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

100 : 복합형 반사방지 시트 110 : 고분자 기판100: composite antireflection sheet 110: polymer substrate

120 : 제1 코팅막 130 : 제1 고굴절 반사방지막120: first coating film 130: first high refractive index antireflection film

140 : 저굴절 반사방지막 150 : 제2 고굴절 반사방지막140: low refractive index antireflection film 150: second high refractive index antireflection film

160 : 제2 코팅막160: second coating film

300 : 물리기상 증착장치 310 : 진공 챔버300: physical vapor deposition apparatus 310: vacuum chamber

320 : 플라즈마 이온빔 330 : 돔320: plasma ion beam 330: dome

340 : 전자빔 350 : 소재반입도가니 회전판340: electron beam 350: material loading crucible rotating plate

360 : 가스유량조절기 370 : 할로겐히터360: gas flow regulator 370: halogen heater

380 : 두께보정판 390 : 열전대380: thickness compensation plate 390: thermocouple

400 : 플라즈마 중합장치 410 : 진공 챔버400: plasma polymerization apparatus 410: vacuum chamber

420 : 원통형 회전드럼 430 : 구동모터420: cylindrical rotating drum 430: drive motor

440 : 가스주입구 450 : 전원440: gas inlet 450: power

460 : 음극 470 : 진공펌프460: cathode 470: vacuum pump

480 : 플라즈마층480: plasma layer

본 발명은 각종 디스플레이의 화면표시부에 사용되는 고분자 기판에 관한 것으로서, 특히, PMMA(Poly methyl methacrylate; 폴리메틸 메타아크릴레이트) 및 PC(Polycarbonate; 폴리카보네이트) 등의 고분자 기판 상부에 플라즈마 중합(Plasma Polymerization)방법을 이용하여 코팅막을 형성한 후, 물리기상증착 방법 및 플라즈마 중합방법을 이용하여 반사방지막을 증착시킴으로써, 두께조절이 용이하고 반사방지성을 향상시킬 수 있는 복합형 반사방지 시트 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to polymer substrates used in screen displays of various displays, and in particular, plasma polymerization on polymer substrates such as polymethyl methacrylate (PMMA) and polycarbonate (PC). After the coating film is formed using the method, the antireflection film is deposited using a physical vapor deposition method and a plasma polymerization method, so that the thickness can be easily controlled and the antireflection sheet can be improved and its manufacturing method can be improved. It is about.

일반적으로, 사용되는 디스플레이 장치는 화면표시부 기판 자체의 반사로 인한 굴절로 투과율이 낮아져 실제 영상보다 선명도가 떨어져 흐리게 보이는 문제점이 있었으며, 이러한 문제점을 해결하기 위해 다양한 반사방지막 형성 기술이 도입되었다.In general, the display device used has a problem that the transmittance is lowered due to the refraction caused by the reflection of the screen display substrate itself, so that the image is blurred and the image is blurred, and various anti-reflection film forming techniques have been introduced to solve the problem.

그 중 대표적으로 PVD 기술 및 Wet Coating 기술을 들 수 있다. PVD 기술은 고굴절과 저굴절 물질을 이용한 다층성막이 가능해 반사방지성이 우수하지만, 기계적 특성 및 내구성에 따른 생산성 저하의 문제점을 가지고 있다.Typical examples include PVD technology and wet coating technology. PVD technology has excellent anti-reflection property because it enables multi-layered film using high refractive index and low refractive index material, but it has a problem of lowering productivity due to mechanical properties and durability.

그리고, Wet Coating 기술은 상기 PVD 기술과 반대로 기계적 특성 및 내구성에서 우수성이 뛰어나지만, 두께 조절이 어려워 불량률이 높은 단점이 있었다.In addition, the wet coating technology has excellent mechanical properties and durability in contrast to the PVD technology, but has a disadvantage in that a defect rate is high due to difficulty in controlling thickness.

이처럼, 상기 PVD 기술 및 Wet Coating 기술은 각각 장ㆍ단점을 동시에 가지고 있어 모든 디스플레이 장치의 화면표시부에 적용하는데 용이하지 않았다.As such, the PVD technology and the wet coating technology have advantages and disadvantages at the same time, and thus, the PVD technology and the wet coating technology are not easily applied to the screen display part of all display devices.

예를 들면, 디스플레이의 화면표시부에 사용되어지는 PMMA 및 PC 등의 고분자 기판에 Wet Coating 방법을 이용하여 코팅막을 형성하는 경우, 양산성 측면에서 우수성을 가지지만, 고가의 하드코팅액이 요구되므로 제조원가가 상승한다. 더욱이, 균일한 코팅막 형성이 용이하지 않아 그에 따라 불량률이 높아지는 문제점이 있다.For example, when the coating film is formed on the polymer substrates such as PMMA and PC used in the screen display unit by using the wet coating method, it has superiority in terms of mass production, but expensive hard coating liquid is required, and thus manufacturing cost is high. To rise. Moreover, there is a problem in that the uniform coating film is not easy to be formed, thereby increasing the defective rate.

상기와 같은 문제점들을 해결하기 위해 창안된 본 발명은, 고분자 기판 상부에 플라즈마 중합방법을 이용하여 코팅막을 형성한 후, 물리기상증착 방법 및 플라 즈마 중합방법을 이용하여 반사방지막을 증착시킴으로써, 복합형 반사방지 시트 및 그 제조방법을 제공하는데 그 특징적인 목적이 있다.The present invention was devised to solve the above problems, by forming a coating film on the polymer substrate using a plasma polymerization method, by depositing an anti-reflection film using a physical vapor deposition method and a plasma polymerization method, a composite type Its purpose is to provide an antireflection sheet and a method of manufacturing the same.

또한, 본 발명은 플라즈마 중합방법을 이용하여 코팅막을 형성함으로써, 균일한 코팅막 형성할 수 있도록 함에도 그 목적이 있다.In addition, the present invention also has a purpose to form a uniform coating film by forming a coating film using a plasma polymerization method.

그리고, 본 발명은 물리기상증착 방법을 이용하여 다층의 반사방지막을 형성할 수 있도록 함에 그 목적이 있다.In addition, an object of the present invention is to be able to form a multi-layered anti-reflection film by using a physical vapor deposition method.

상기의 목적을 달성하기 위한 복합형 반사방지 시트(100)는, 고분자 기판(110)과, 상기 고분자 기판 상부에 증착되는 제1 코팅막(120)과, 상기 제1 코팅막 상부에 증착되는 제1 고굴절 반사방지막(130)과, 상기 제1 고굴절 반사방지막 상부에 증착되는 저굴절 반사방지막(140)과, 상기 저굴절 반사방지막 상부에 증착되는 제2 고굴절 반사방지막(150)과, 상기 제2 고굴절 반사방지막 상부에 저굴절 물질을 증착시키는 제2 코팅막(160)으로 구성되는 것을 특징으로 한다.The composite antireflective sheet 100 for achieving the above object includes a polymer substrate 110, a first coating film 120 deposited on the polymer substrate, and a first high refractive index deposited on the first coating film. An anti-reflection film 130, a low refractive anti-reflection film 140 deposited on the first high refractive anti-reflection film, a second high refractive anti-reflection film 150 deposited on the low refractive anti-reflection film, and the second high refractive reflection film. And a second coating layer 160 for depositing a low refractive material on the barrier layer.

한편, 복합형 반사방지 시트 제조방법에 있어서, 고분자 기판(110) 상부에 1,000~10,000Å의 두께를 갖는 제1 코팅막(120)을 증착시키는 공정(S220); 상기 제1 코팅막 상부에 제1 고굴절 반사방지막(130)을 증착시키는 공정(S230); 상기 제1 고굴절 반사방지막 상부에 저굴절 반사방지막(140)을 증착시키는 공정(S240); 상기 저굴절 반사방지막 상부에 제2 고굴절 반사방지막(150)을 증착시키는 공정(S250); 및 상기 제2 고굴절 반사방지막 상부에 제2 코팅막(160)을 증착시키는 공정(S260); 을 수행하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, in the composite anti-reflection sheet manufacturing method, the step of depositing a first coating film 120 having a thickness of 1,000 ~ 10,0001 on the polymer substrate 110 (S220); Depositing a first high refractive index anti-reflection film (130) on the first coating layer (S230); Depositing a low refractive index anti-reflection film (140) on the first high refractive index anti-reflection film (S240); Depositing a second high refractive index anti-reflection film (150) on the low refractive index anti-reflection film (S250); And depositing a second coating layer 160 on the second high refractive index anti-reflection film (S260). It characterized in that to perform.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명을 상세하게 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the present invention.

이에 앞서, 본 발명에 관련된 공지 기능 및 그 구성에 대한 구체적인 설명이 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는, 그 구체적인 설명을 생략하였음에 유의해야 할 것이다.Prior to this, when it is determined that the detailed description of the known function and the configuration related to the present invention may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention, it should be noted that the detailed description is omitted.

본 발명의 일실시예에 따른 복합형 반사방지 시트에 관하여 도 1을 참조하여 설명하면 다음과 같다. 도 1은 본 발명의 일실시예에 따른 반사방지 구조를 갖는 시트의 단면도이다.Referring to Figure 1 with respect to the composite anti-reflective sheet according to an embodiment of the present invention. 1 is a cross-sectional view of a sheet having an antireflection structure according to an embodiment of the present invention.

도 1에 도시된 바와 같이, 복합형 반사방지 시트(100)(이하, '반사방지 시트'라 함)는 PMMA 및 PC 등을 포함하는 고분자 기판(110)과, 상기 고분자 기판(110) 상부에 증착되는 제1 코팅막(120)과, 상기 제1 코팅막(120) 상부에 증착되는 제1 고굴절 반사방지막(130)과, 상기 제1 고굴절 반사방지막(130) 상부에 증착되는 저굴절 반사방지막(140)과, 상기 저굴절 반사방지막(140) 상부에 증착되는 제2 고굴절 반사방지막(150)과, 상기 제2 고굴절 반사방지막(150) 상부에 저굴절 물질을 증착시키는 제2 코팅막(160)으로 구성된다.As shown in FIG. 1, the composite anti-reflective sheet 100 (hereinafter referred to as an “reflective sheet”) may include a polymer substrate 110 including PMMA, PC, and the like, and an upper portion of the polymer substrate 110. The first coating film 120 to be deposited, the first high refractive index anti-reflection film 130 deposited on the first coating film 120, and the low refractive index anti-reflection film 140 deposited on the first high refractive index anti-reflection film 130 ), A second high refractive index anti-reflection film 150 deposited on the low refractive index anti-reflection film 140, and a second coating film 160 for depositing a low refractive material on the second high refractive index anti-reflection film 150. do.

본 실시예에 있어서, 상기 제1 코팅막(120)의 두께는 약 1,000~10,000Å인 것이 바람직하다.In the present embodiment, the thickness of the first coating film 120 is preferably about 1,000 ~ 10,000Å.

이때, 상기 제1 고굴절 반사방지막(130) 및 제2 고굴절 반사방지막(150)은 ZrO2, Al2O3, TiO2 및 Ta2O5 재질의 고굴절 물질을 포함하며, 저굴절 반사방지막(140) 및 제2 코팅막(160)은 MgF2, CeO2, SiO2 또는 Nb2O5 재질의 저굴절 물질을 포함한다. In this case, the first high refractive index anti-reflection film 130 and the second high refractive index anti-reflection film 150 may include a high refractive material of ZrO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 and Ta 2 O 5 , and a low refractive antireflection film 140 ) And the second coating layer 160 includes a low refractive material of MgF 2 , CeO 2 , SiO 2 or Nb 2 O 5 .

이하, 상기 반사방지 시트 제조 공정에 대해 도 2 내지 도 4를 참조하여 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, the anti-reflective sheet manufacturing process will be described with reference to FIGS. 2 to 4.

도 2는 본 발명의 일실시예에 따른 복합형 반사방지 시트 제조방법을 나타내는 순서도이고, 도 3은 본 발명의 일실시예에 따른 반사방지막을 제조하는 물리기상 증착장치를 나타내는 개략도이며, 도 4는 본 발명의 일실시예에 따른 코딩층을 제조하는 플라즈마 중합장치를 나타내는 개략도이다.2 is a flow chart showing a method for manufacturing a composite anti-reflective sheet according to an embodiment of the present invention, Figure 3 is a schematic diagram showing a physical vapor deposition apparatus for manufacturing an anti-reflection film according to an embodiment of the present invention, Figure 4 Is a schematic diagram showing a plasma polymerization apparatus for producing a coding layer according to an embodiment of the present invention.

[제 1 공정 - 전처리(S210)] [ First Process-Pretreatment (S210) ]

상술한 구성을 이용하여 반사방지막을 증착시켜 시트를 제조하는 공정에 대하여 도 2를 참조하여 살펴보면, 먼저 열변형 온도가 100℃ 이하가 되도록 고분자 기판(110)을 열처리한 후(S211), 정전방지용 질소총을 이용하여 상기 고분자 기판(110) 자체의 유기 물질 및 대기상의 오염물질을 포함하는 이물질을 제거한다(S212).Referring to Figure 2 with respect to the process of manufacturing a sheet by depositing an anti-reflection film using the above-described configuration, first heat treatment the polymer substrate 110 so that the thermal deformation temperature is 100 ℃ or less (S211), for antistatic Using a nitrogen gun to remove foreign substances including the organic material of the polymer substrate 110 itself and pollutants in the air (S212).

여기서, 상기 고분자 기판(110)에 PMMA 및 PC 등을 포함하는 것으로 설정하였으나, 본 발명이 이에 국한되지 않고, 디스플레이의 화면표시부에 사용되는 다른 고분자 기판도 사용 가능하다.Here, the polymer substrate 110 is set to include PMMA, PC, etc., but the present invention is not limited thereto, and other polymer substrates used in the screen display unit of the display may be used.

다음으로, 상기 고분자 기판(110)을 진공 챔버(Chamber, 310)에 장입(裝入) 하여 내부압력이 4.5×E-5 Torr 이하의 진공도가 되도록 배기(排氣)한다. 가스유량조절기(360)를 조절하여 아르곤(Ar)가스와 산소(O2)가스를 플라즈마 이온빔(Ion-Beam, 320)으로 흘려보내면, 상기 두 가스가 혼합된 플라즈마(Plasma)를 형성한다. 즉, 상기 고분자 기판(110)에 잔존하는 잔류수분을 제거하고, 표면조도(表面粗度)를 향상시킨다(S213).Next, the polymer substrate 110 is charged into a vacuum chamber 310 to evacuate to an internal pressure of 4.5 × E-5 Torr or less. When the argon (Ar) gas and oxygen (O 2 ) gas are flowed into the plasma ion beam (Ion-Beam) 320 by adjusting the gas flow controller 360, a plasma (Plasma) in which the two gases are mixed is formed. That is, residual moisture remaining on the polymer substrate 110 is removed to improve surface roughness (S213).

이때 상기 제 S213 단계는, 도 3에 도시된 반사방지막을 제조하는 물리기상 증착장치(300)에 고분자 기판(110)을 장입시켜 약 3분 정도 진행시키며, 플라즈마 이온빔(320)의 에너지는 150eV를 갖도록 유지시키고, 진공 챔버(310)의 온도는 80(±2)℃로 유지하는 것이 바람직하다.At this time, in step S213, the polymer substrate 110 is charged into the physical vapor deposition apparatus 300 for manufacturing the anti-reflection film shown in FIG. 3, and then proceeds for about 3 minutes. The energy of the plasma ion beam 320 is 150 eV. It is desirable to maintain the temperature of the vacuum chamber 310 at 80 (± 2) ° C.

[제 2 공정 - 제1 코팅막 증착(S220)] [ 2nd process-1st coating film deposition (S220) ]

상기 제 1 공정을 통해 전 처리된 상기 고분자 기판(110) 상부에 소정의 두께를 갖는 제1 코팅막(120)을 증착시킨다.The first coating layer 120 having a predetermined thickness is deposited on the polymer substrate 110 pretreated through the first process.

이때, 상기 제 1 코팅막(120)의 두께는 약 1,000~10,000Å인 것이 바람직하다.At this time, the thickness of the first coating film 120 is preferably about 1,000 ~ 10,000Å.

플라즈마 중합방법을 이용하여 상기 고분자 기판(110) 상부에 제1 코팅막(120)을 증착시키는 공정을 도 4를 참고하여 살펴보면, 진공 챔버(410)의 내부압력이 1~5×10-5torr 가 되도록 진공도를 유지시킨 후(S221), 가스주입구(440)를 통해 1~8×10-3torr의 아르곤(Ar)가스를 원통형 회전드럼(420) 외곽면에 장착된 고분 자 기판(110)의 표면에 인가시키고(S222), 플라즈마층(480)을 형성한 후(S223), 구동모터(430)를 이용하여 상기 원통형 회전드럼(420)을 단방향으로 회전시킴으로써, 플라즈마 중합이 이루어져 제1 코팅막(120)을 형성한다(S224).Looking at the process of depositing the first coating film 120 on the polymer substrate 110 by using a plasma polymerization method with reference to Figure 4, the internal pressure of the vacuum chamber 410 is 1 ~ 5 × 10 -5 torr After maintaining the degree of vacuum (S221), through the gas inlet 440 of argon (Ar) gas of 1 ~ 8 × 10 -3 torr of the polymer substrate 110 mounted on the outer surface of the cylindrical rotating drum 420 After applying to the surface (S222), after forming the plasma layer 480 (S223), by using the driving motor 430 by rotating the cylindrical rotating drum 420 in one direction, the plasma polymerization is made by the first coating film ( 120 is formed (S224).

즉, 상기 고분자 기판(110)이 플라즈마층(480)을 지날 때, 제1 코팅막(120)이 생성된다.That is, when the polymer substrate 110 passes the plasma layer 480, the first coating layer 120 is generated.

상기 S224 단계에 있어서, 플라즈마 중합을 형성시키기 위해 실리콘(Si) 계열의 유기액을 가스상태로 주입시킨 후, 플라즈마를 이용하여 고분자 기판(110)의 상부에 중합함으로써, 제1 코팅막(120)을 증착시킨다.In the step S224, in order to form a plasma polymerization, a silicon (Si) -based organic liquid is injected into a gas state, and then polymerized on the upper portion of the polymer substrate 110 by using a plasma, thereby forming a first coating film 120 Deposit.

이때, 플라즈마를 형성시키기 위해 사용되는 구동모터(430)를 회전 가능하도록 하는 전원(450)은 MF 전원 또는 RF 전원을 사용하는 것이 바람직하다.At this time, it is preferable that the power source 450 for rotating the driving motor 430 used to form the plasma uses MF power or RF power.

[제 3 공정 - 제1 고굴절 반사방지막 증착(S230)] [ 3rd process-1st high refractive anti-reflection film deposition (S230) ]

상기 제 2 공정이 이루어진 후에, 물리기상증착 방법을 이용하여 성막이 가능한 진공도에 도달하면, 상기 제1 코팅막(120) 상부에 제1 고굴절 반사방지막(130)을 증착시킨다.After the second process is performed, the first high refractive index anti-reflection film 130 is deposited on the first coating layer 120 when the degree of vacuum capable of film formation is reached using a physical vapor deposition method.

구체적으로, 제1 고굴절 반사방지막(130)을 상기 제1 코팅막(120) 상부에 증착시키기 위해 물리기상 증착장치(300)의 돔(330)을 일정한 속도로 회전시키고(S231), 전자빔(E-beam, 340)을 이용하여 소재반입 도가니 회전판(350)에 담겨있는 산화물의 불순물 및 수분을 제거하는 소크(Soak)과정을 수행한 후(S232), 진공 챔버(310)의 내부 진공도가 3.8×E-5 torr가 될 때, 제1 고굴절 반사방지막을 증착 시킨다.Specifically, the dome 330 of the physical vapor deposition apparatus 300 is rotated at a constant speed to deposit the first high refractive index anti-reflection film 130 on the first coating film 120 (S231), and the electron beam E- After performing a soak process to remove impurities and moisture of the oxide contained in the material-loading crucible rotating plate 350 using the beam 340 (S232), the internal vacuum degree of the vacuum chamber 310 is 3.8 × E. When it becomes -5 torr, the first high refractive index antireflection film is deposited.

여기서, 상기 산화물은 고굴절 물질로써, ZrO2, Al2O3, TiO2 및 Ta2O5 등을 포함하는 것으로 설정하였으나, 본 발명이 이에 국한되지 않는다.Here, although the oxide is set to include ZrO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 , Ta 2 O 5 , and the like as a high refractive material, the present invention is not limited thereto.

이때, 제1 고굴절 반사방지막(130)의 두께는 상기 제 1 코팅막(120)의 두께와 동일하도록 형성하는 것이 바람직하다.At this time, the thickness of the first high refractive index anti-reflection film 130 is preferably formed to be the same as the thickness of the first coating film (120).

한편, 본 실시예에서 물리기상증착 방법을 수행하기 위해, 진공 챔버(310)의 내부온도를 80℃(±2)로, 산화물의 증착속도는 3.0~8.0Å/sec로, 가스유량조절기(360)를 이용하여 가스유량조절기(360)를 조절하여 플라즈마 이온빔(320)으로 전달되는 18~22sccm의 비율의 산소(O2)의 양을 유지시키고, 플라즈마 이온빔(320)의 애노드 전압(Anode Voltage)은 150eV로, 애노드 전류(Anode Current)는 7.5~8.0A로, 전자빔(340)의 전압은 ACC 7.5kV로, 고굴절 물질의 방사전류(Emission Current)는 490mA로, 저굴절 물질의 방사전류는 180mA로 유지시키는 것이 바람직하나, 이는 제조 공정에 따른 다양한 변수들에 의해 변동되는 것은 자명한 바, 본 발명이 그 수치에 한정되는 것은 아니다.On the other hand, in order to perform the physical vapor deposition method in the present embodiment, the internal temperature of the vacuum chamber 310 to 80 ℃ (± 2), the deposition rate of the oxide is 3.0 ~ 8.0 Å / sec, gas flow regulator 360 To adjust the gas flow controller 360 to maintain the amount of oxygen (O 2 ) in a ratio of 18 to 22 sccm that is delivered to the plasma ion beam 320, and an anode voltage of the plasma ion beam 320. Is 150 eV, anode current is 7.5 ~ 8.0A, voltage of electron beam 340 is ACC 7.5kV, emission current of high refractive material is 490mA, radiation current of low refractive material is 180mA Although it is preferable to keep it as it is, it is obvious that it is changed by various variables according to the manufacturing process, and the present invention is not limited to the numerical value.

참고적으로, 고분자 기판(110) 자체 내의 표면 평균 반사율은 가시광선 영역(400nm~700nm)의 4% 정도이다. 이때, 고분자 기판(110) 양측으로부터 총 8%의 반사율을 얻을 수 있다. 반사방지막을 성막시키는 경우에 최소 단면에서는 총 0.5% 반사율을 획득하고, 양면에서는 총 1% 반사율을 획득할 수 있다.For reference, the surface average reflectance in the polymer substrate 110 itself is about 4% of the visible light region (400 nm to 700 nm). In this case, a total reflectance of 8% may be obtained from both sides of the polymer substrate 110. In the case of forming the anti-reflection film, a total 0.5% reflectance can be obtained at the minimum cross section, and a total 1% reflectance can be obtained at both surfaces.

[제 4 공정 - 저굴절 반사방지막 증착(S240)] [Fourth step - low refractive index anti-reflection coating deposition (S240)]

상기 제 3 공정이 이루어진 후에, 물리기상증착 방법을 이용하여 성막이 가능한 진공도에 도달하면, 상기 제1 고굴절 반사방지막(130) 상부에 저굴절 반사방지막(140)을 증착시킨다.After the third process is performed, a low refractive index anti-reflection film 140 is deposited on the first high refractive index anti-reflection film 130 when the degree of vacuum capable of film formation is reached using a physical vapor deposition method.

상기 저굴절 반사방지막(140)은 제1 고굴절 반사방지막(130)이 형성되는 공정과 동일하며, 저굴절 물질에는 MgF2, CeO2, SiO2 및 Nb2O5 등을 포함하는 것으로 설정하였으나, 본 발명이 이에 국한되지 않는다.The low refractive index anti-reflection film 140 is the same as the process of forming the first high refractive index anti-reflection film 130, the low refractive material is MgF 2 , CeO 2 , SiO 2 and Nb 2 O 5 Although it is set to include, etc., the present invention is not limited thereto.

[제 5 공정 - 제2 고굴절 반사방지막 증착(S250)] [ Fifth Step-Second High Refractive Antireflection Film Deposition (S250) ]

상기 제 4 공정이 이루어진 후에, 물리기상증착 방법을 이용하여 성막이 가능한 진공도에 도달하면, 상기 저굴절 반사방지막(140) 상부에 제2 고굴절 반사방지막(150)을 증착시킨다.After the fourth process is performed, a second high refractive index anti-reflection film 150 is deposited on the low refractive index anti-reflection film 140 when the degree of vacuum capable of film formation is reached using a physical vapor deposition method.

[제 6 공정 - 제2 코팅막 증착(S260)] [ Sixth Step-Second Coating Film Deposition (S260) ]

상기 제 5 공정이 이루어진 후에, 플라즈마 중합방법을 이용하여 성막이 가능한 진공도에 도달하면, 상기 제2 고굴절 반사방지막(150) 상부에 제2 코팅막(160)을 증착시킨다.After the fifth process is performed, the second coating film 160 is deposited on the second high refractive index anti-reflection film 150 when the vacuum film formation reaches a vacuum degree capable of film formation.

다시 말하면, 성막이 가능한 진공도에 도달하면 물리기상증착 방법을 이용하여 반사방지막을 증착시키는데 우선, 제1층은 고굴절 물질로 증착시키고, 제2층은 저굴절 물질로 증착시키며, 제3층은 고굴절 물질로 증착시킨다. 상술한 바와 같이, 제1층 내지 제3층을 물리기상증착방법으로 반사방지막을 증착시킨 후, 플라즈마 중합방법을 이용하여 반사방지막의 최상층을 저굴절 물질로 증착시켜, 반사방지 시트(100)를 형성한다.In other words, when the film formation reaches a possible degree of vacuum, the anti-reflection film is deposited using a physical vapor deposition method. First, the first layer is deposited with a high refractive material, the second layer is deposited with a low refractive material, and the third layer is a high refractive index. Deposition with material. As described above, after the anti-reflection film is deposited on the first to third layers by physical vapor deposition, the uppermost layer of the anti-reflection film is deposited by a low refractive material by using a plasma polymerization method, and thus the anti-reflection sheet 100 is formed. Form.

이때, 플라즈마 중합방법은 상술한 바와 같이 실리콘(Si) 계열의 유기액을 가스상태로 주입시킨 후, 플라즈마를 이용하여 고분자 기판(110)의 상부에 중합함으로써, 제2 코팅막(160)을 형성한다.At this time, in the plasma polymerization method, as described above, a silicon (Si) -based organic liquid is injected into a gas state, and then polymerized on the polymer substrate 110 by using plasma to form a second coating layer 160. .

본 실시예에 있어서, 반사방지막을 총 4층으로 설정하였지만, 본 발명이 이에 한정하지 않고, '고굴절-저굴절-고굴절-저굴절-고굴절'로 형성된 5층 반사방지막 형성이 가능하며, 그 이상도 가능하다.In this embodiment, the anti-reflection film was set to 4 layers in total, but the present invention is not limited thereto, and a 5-layer anti-reflection film formed of 'high refractive index-low refractive index-high refractive index-low refractive index-high refractive index' is possible, and more. It is also possible.

이상에서 설명한 본 발명에 따른 복합형 반사방지 시트 및 그 제조방법은, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 있어 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 전술한 실시예 및 첨부된 도면에 한정되는 것이 아니다.The composite anti-reflective sheet and its manufacturing method according to the present invention described above are various substitutions, modifications and changes within the scope not departing from the technical idea of the present invention for those skilled in the art to which the present invention pertains. The present invention is not limited to the above-described embodiments and the accompanying drawings because modifications are possible.

상기와 같은 본 발명에 따르면, PMMA 및 PC 등의 고분자 기판 상부에 플라즈마 중합방법을 이용하여 코팅막을 형성한 후, 물리기상증착 방법 및 플라즈마 중합방법을 이용하여 반사방지막을 증착함으로써, 두께조절이 용이하고 반사방지성을 향상시킬 수 있는 그 특유의 효과가 있다.According to the present invention as described above, by forming a coating film on the polymer substrate, such as PMMA and PC using a plasma polymerization method, by depositing an anti-reflection film using a physical vapor deposition method and a plasma polymerization method, it is easy to control the thickness And there is a peculiar effect that can improve the antireflection.

그리고, 물리기상증착 공정과 플라즈마 중합공정을 단일공정화시킴으로써, 생산성을 극대화시키고, 모든 디스플레이 화면표시부에 적용 가능한 효과를 가진다.In addition, by physicalizing the physical vapor deposition process and the plasma polymerization process in a single process, the productivity is maximized and can be applied to all display screen displays.

Claims (11)

복합형 반사방지 시트(100)에 있어서,In the composite anti-reflective sheet 100, 고분자 기판(110)과, 상기 고분자 기판 상부에 증착되는 제1 코팅막(120)과, 상기 제1 코팅막 상부에 증착되는 제1 고굴절 반사방지막(130)과, 상기 제1 고굴절 반사방지막 상부에 증착되는 저굴절 반사방지막(140)과, 상기 저굴절 반사방지막 상부에 증착되는 제2 고굴절 반사방지막(150)과, 상기 제2 고굴절 반사방지막 상부에 저굴절 물질을 증착시키는 제2 코팅막(160)으로 구성되는 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트.The polymer substrate 110, the first coating film 120 deposited on the polymer substrate, the first high refractive index film 130 deposited on the first coating film, and the first high refractive film deposited on the antireflection film A low refractive index anti-reflection film 140, a second high refractive index anti-reflection film 150 deposited on the low refractive index anti-reflection film, and a second coating film 160 for depositing a low refractive material on the second high refractive index anti-reflection film Composite antireflection sheet, characterized in that. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고분자 기판(110)은,The polymer substrate 110, PMMA(Poly methyl methacrylate) 및 PC(Polycarbonate)인 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트.Composite antireflection sheet, characterized in that the poly methyl methacrylate (PMMA) and polycarbonate (PC). 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1 코팅막(120)의 두께는,The thickness of the first coating film 120, 1,000~10,000Å인 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트.Composite antireflection sheet, characterized in that 1,000 ~ 10,000Å. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 고굴절 반사방지막은,The high refractive index antireflection film, ZrO2, Al2O3, TiO2 및 Ta2O5 재질인 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트.Composite antireflection sheet, characterized in that the material is ZrO 2 , Al 2 O 3 , TiO 2 and Ta 2 O 5 . 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 저굴절 반사방지막은,The low refractive index antireflection film, MgF2, CeO2, SiO2 및 Nb2O5 재질인 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트.Composite anti-reflective sheet, characterized in that the MgF 2 , CeO 2 , SiO 2 and Nb 2 O 5 material. 제 1 항에 기재된 구성을 이용한 복합형 반사방지 시트 제조방법에 있어서,In the composite anti-reflective sheet production method using the configuration of claim 1, 고분자 기판(110) 상부에 1,000~10,000Å의 두께를 갖는 제1 코팅막(120)을 증착시키는 공정(S220);Depositing a first coating film 120 having a thickness of 1,000 to 10,000 Å on the polymer substrate 110 (S220); 상기 제1 코팅막 상부에 제1 고굴절 반사방지막(130)을 증착시키는 공정(S230);Depositing a first high refractive index anti-reflection film (130) on the first coating layer (S230); 상기 제1 고굴절 반사방지막 상부에 저굴절 반사방지막(140)을 증착시키는 공정(S240);Depositing a low refractive index anti-reflection film (140) on the first high refractive index anti-reflection film (S240); 상기 저굴절 반사방지막 상부에 제2 고굴절 반사방지막(150)을 증착시키는 공정(S250); 및 Depositing a second high refractive index anti-reflection film (150) on the low refractive index anti-reflection film (S250); And 상기 제2 고굴절 반사방지막 상부에 제2 코팅막(160)을 증착시키는 공정(S260); 을 수행하는 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트 제조방법.Depositing a second coating layer 160 on the second high refractive index anti-reflection film (S260); Composite antireflection sheet production method characterized in that to carry out. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 S220 공정 이전에,Before the S220 process, 상기 고분자 기판의 열변형 온도가 100℃ 이하가 되도록 열처리 수행하는 단계(S211); 및 Performing heat treatment such that the thermal deformation temperature of the polymer substrate is 100 ° C. or less (S211); And 정전방지용 질소총을 이용하여 상기 고분자 기판의 이물질을 제거하는 단계(S212); 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트 제조방법.Removing foreign matter on the polymer substrate by using an electrostatic nitrogen gun (S212); Composite anti-reflective sheet manufacturing method comprising a further. 제 7 항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 제 S212 단계 이후에,After the step S212, 진공 챔버(310)에 상기 고분자 기판을 장입하여 4.5×E-5 Torr 이하의 진공도를 유지하는 단계;Charging the polymer substrate in a vacuum chamber 310 to maintain a vacuum degree of 4.5 × E-5 Torr or less; 가스유량조절기(360)를 조절하여 아르곤(Ar)가스와 산소(O2)가스를 플라즈마 이온빔(320)으로 주입하는 단계; 및Controlling the gas flow controller 360 to inject argon (Ar) gas and oxygen (O 2 ) gas into the plasma ion beam 320; And 상기 두 가스가 혼합된 플라즈마를 형성하여 잔류수분제거 및 표면 조도를 향상시키는 단계; 를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트 제조방법.Forming a plasma in which the two gases are mixed to improve residual moisture removal and surface roughness; Composite anti-reflective sheet manufacturing method comprising a further. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 S220 공정은,The S220 process, 진공 챔버(410)의 내부 진공도를 1~5×10-5torr 으로 유지시키는 단계(S221);Maintaining the internal vacuum degree of the vacuum chamber 410 at 1-5 × 10 -5 torr (S221); 가스주입구(440)를 통해 1~8×10-3torr의 아르곤(Ar)가스를 원통형 회전드럼(420) 외곽면에 장착된 고분자 기판(110)의 표면에 인가시키는 단계(S222);Applying an argon (Ar) gas of 1 to 8 × 10 −3 torr to the surface of the polymer substrate 110 mounted on the outer surface of the cylindrical rotating drum 420 through the gas injection hole 440 (S222); 플라즈마층(480)을 형성하는 단계(S223); 및Forming a plasma layer 480 (S223); And 원통형 회전드럼(420)을 단방향으로 회전시켜 플라즈마 중합을 통해서 상기 제1 코팅막을 형성하는 단계(S224); 를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트 제조방법.Rotating the cylindrical rotating drum 420 in one direction to form the first coating film through plasma polymerization (S224); Composite anti-reflective sheet manufacturing method comprising a. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 제 S230 공정은,In step S230, 물리기상 증착장치(300)의 돔(330)을 일정한 속도로 회전시키는 단계(S231); 및 Rotating the dome 330 of the physical vapor deposition apparatus 300 at a constant speed (S231); And 전자빔(340)을 이용하여 소재반입 도가니 회전판(350)에 담겨있는 산화물의 불순물 및 수분을 제거하는 소크(Soak)과정을 수행하는 단계(S232); 를 포함하는 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트 제조방법.Performing a soak process of removing impurities and moisture of the oxide contained in the material loading crucible rotating plate 350 using the electron beam 340 (S232); Composite anti-reflective sheet manufacturing method comprising a. 제 6 항에 있어서, The method of claim 6, 상기 제 S230 공정은,In step S230, 상기 진공 챔버의 내부 진공도가 3.8×E-5 torr가 될 때, 제1 고굴절 반사방지막을 증착시키는 것을 특징으로 하는 복합형 반사방지 시트 제조방법.When the internal vacuum degree of the vacuum chamber is 3.8 × E-5 torr, a first anti-reflection film is deposited, characterized in that the composite antireflection sheet manufacturing method.
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