KR20080047617A - Curable composition, cured layer thereof and multilayer body - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a curable composition for a hard coat which contains (A) 60-94% by mass of a compound having a urethane bond and 3 or more ethylenically unsaturated groups in a molecule, (B) 5-35% by mass of an ethylenically unsaturated group-containing compound having a molecular weight of not more than 290, and (C) 0.01-20% by mass of a radiation (photo)polymerization initiator when the total of (A), (B) and (C) is taken as 100% by mass, while additionally containing (D) one or more solvents selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, methylene chloride, chloroform and tetrahydrofuran.

Description

경화성 조성물, 그의 경화층 및 적층체{CURABLE COMPOSITION, CURED LAYER THEREOF AND MULTILAYER BODY}Curable composition, its cured layer, and laminated body {CURABLE COMPOSITION, CURED LAYER THEREOF AND MULTILAYER BODY}

본 발명은 경화성 조성물 및 그의 경화막에 관한 것이다. 더욱 상세하게는, 우수한 도공성을 갖고, 각종 기재[예를 들면, 폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 트리아세틸셀룰로오스(이하, "TAC"라고 함), ABS 수지, AS 수지, 노르보르넨계 수지 등]의 표면에 고경도인 동시에 내찰상성, 기재 및 기재나 고굴절률층 등의 인접층과의 밀착성이 우수하고, 높은 투명성을 갖는 도막(피막)을 형성할 수 있고, 하드 코팅막용 경화성 조성물, 및 컬링성이 작고, 굴곡성, 내약품성이 우수한 하드 코팅막에 관한 것이다. 또한, 본원 명세서에서 하드 코팅막이란, 후술하는 평가 방법을 이용하여 측정한 경우의 연필 경도가 "H" 이상인 경화막을 말한다. 기재 위에 하드 코팅막을 적층하여 얻어지는 적층체에서는, 이 하드 코팅막을 하드 코팅층이라고도 한다.The present invention relates to a curable composition and a cured film thereof. More specifically, it has excellent coating properties, and various substrates (for example, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, epoxy resin, melamine resin, triacetyl cellulose (hereinafter referred to as "TAC"), ABS resin, AS resin, norbornene-based resin, etc.] to form a coating film (film) having high hardness and excellent scratch resistance, adhesion to substrates and adjacent layers such as substrates and high refractive index layers, and having high transparency. The curable composition for hard-coat films, and the hard coat film | membrane which are small in curling property and excellent in flexibility and chemical-resistance are provided. In addition, in this specification, a hard coat film means the cured film whose pencil hardness at the time of using the evaluation method mentioned later is "H" or more. In the laminated body obtained by laminating | stacking a hard coat film on a base material, this hard coat film is also called a hard coat layer.

최근, 각종 기재 표면의 손상(찰상) 방지나 오염 방지를 위한 보호 코팅재; 각종 기재의 접착제, 실링재; 인쇄 잉크의 결합제재로서, 우수한 도공성을 갖고, 각종 기재의 표면에 경도, 굴곡성, 내찰상성, 내마모성, 저컬링성(경화막의 변형이 작은 것을 말함), 밀착성, 투명성, 내약품성 및 도막면의 외관이 모두 우수한 경화 막을 형성할 수 있는 경화성 조성물이 요구되고 있다(하기 특허 문헌 1 및 2).Recently, protective coating materials for preventing damage (scratches) or contamination of various substrate surfaces; Adhesives and sealing materials of various substrates; As a binder of printing ink, it has excellent coating property, and has hardness, bendability, abrasion resistance, abrasion resistance, low curling property (small deformation of hard film), adhesion, transparency, chemical resistance and coating surface on the surface of various substrates. The curable composition which can form the cured film excellent in all the external appearance is calculated | required (patent document 1 and 2 below).

또한, 필름형 액정 소자, 터치 패널, 플라스틱 광학 부품 등의 반사 방지막의 용도에서는, 상기 요구뿐만 아니라 고굴절률의 경화막을 형성할 수 있는 경화성 조성물이 요구되고 있다.Moreover, in the use of antireflection films, such as a film type liquid crystal element, a touchscreen, and a plastic optical component, the curable composition which can form not only the said request but the cured film of a high refractive index is calculated | required.

기재로서 일반적으로 사용되고 있는 TAC 필름 위에, 예를 들면 아크릴계 수지를 주성분으로 하는 하드 코팅층을 설치한 적층체의 경우, 일반적으로 기재와 하드 코팅층의 굴절률이 상이하기 때문에, 필름 표면에서 반사하는 빛과 필름 이면에서 반사하는 빛의 광로차에 의해 발생하는 간섭 줄무늬가 존재하고, 이 간섭 줄무늬는 필름의 투명성이 높을수록 선명하게 보인다는 문제가 있다. 간섭 줄무늬의 정도는, 상기 적층체의 반사율 프로파일(측정 파장에 대한 반사율을 플롯팅한 도면)의 파상의 프로파일의 진폭의 크기(본 명세서에서 "간섭 불균일"이라고 함)를 지표로 하여 평가할 수 있다.In the case of a laminate having a hard coating layer composed mainly of acrylic resin, for example, on a TAC film generally used as a substrate, since the refractive indexes of the substrate and the hard coating layer are generally different, the light and the film reflecting from the film surface There is a problem that interference fringes generated by the optical path difference of the light reflected from the back surface exist, and the interference fringes are clearly seen as the transparency of the film is higher. The degree of the interference fringe can be evaluated by using the magnitude of the amplitude of the wave profile of the reflectance profile (the figure plotting the reflectance with respect to the measurement wavelength) of the laminate (hereinafter referred to as "interference nonuniformity") as an index. .

또한, 기재층과 하드 코팅층의 밀착력을 개선할 필요가 있다는 지적도 있다. 따라서, 기재로서 TAC와 함께 사용되는 폴리에스테르 수지의 경우, 간섭 줄무늬의 감소나 밀착성의 개량을 목적으로, 광학용 접착 용이 필름이 제안되어 있다(하기 특허 문헌 3 및 4).It is also pointed out that it is necessary to improve the adhesion between the base layer and the hard coating layer. Therefore, in the case of the polyester resin used with TAC as a base material, the easily bonding film for optics is proposed for the purpose of reducing interference fringes, or improving adhesiveness (patent documents 3 and 4 below).

TAC 기재를 사용한 경우에는, 간섭 줄무늬의 감소를 목적으로, 기재 위에 굴절률이 막 두께 방향으로 연속적으로 변화되는 반사 방지층을 설치하고, 반사 방지층과 기재층의 경계면이 명확히 존재하지만, 상기 경계면에서의 반사 방지층의 굴절률을 기재층의 굴절률보다 높게 설정한 기술도 개시되어 있다(하기 특허 문헌 5).In the case of using a TAC substrate, for the purpose of reducing interference fringes, an antireflection layer having a refractive index continuously changed in the film thickness direction is provided on the substrate, and the interface between the antireflection layer and the substrate layer is clearly present, but the reflection at the boundary surface is provided. The technique which set the refractive index of a prevention layer higher than the refractive index of a base material layer is also disclosed (patent document 5 below).

특허 문헌 1: 일본 특허 공개 (평)9-254321호 공보Patent Document 1: Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-254321

특허 문헌 2: 일본 특허 공개 (평)9-300533호 공보Patent Document 2: Japanese Patent Application Laid-Open No. 9-300533

특허 문헌 3: 일본 특허 공개 제2001-129948호 공보Patent Document 3: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-129948

특허 문헌 4: 일본 특허 공개 제2001-71439호 공보Patent Document 4: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-71439

특허 문헌 5: 일본 특허 공개 제2004-12657호 공보Patent Document 5: Japanese Patent Application Laid-Open No. 2004-12657

그러나, 기재 위에 하드 코팅층을 설치한 경우, 간섭 줄무늬, 경도, 기재와 하드 코팅층의 밀착성의 관점에서 만족할 수 없었다.However, when the hard coating layer was provided on the substrate, it could not be satisfied in view of interference fringes, hardness, and adhesion between the substrate and the hard coating layer.

본 발명은 상술한 문제를 감안하여 이루어진 것이며, 우수한 도공성을 갖고, 각종 기재의 표면에 고경도이고, 간섭 줄무늬가 적고, 기재와의 밀착성이 우수하고, 높은 투명성을 갖는 하드 코팅막을 형성할 수 있는 경화성 조성물, 및 내약품성이 우수한 하드 코팅막을 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the above-mentioned problem, and can form the hard-coating film which has the outstanding coating property, is high hardness on the surface of various base materials, there are few interference stripes, it is excellent in adhesiveness with a base material, and has high transparency It is an object of the present invention to provide a hard coating film having excellent curable composition and excellent chemical resistance.

본 발명에 따르면, 이하의 하드 코팅막용 경화성 조성물 및 이것을 경화하여 얻어지는 하드 코팅막을 제공할 수 있다.According to this invention, the following curable compositions for hard-coat films and hard coat films obtained by hardening this can be provided.

[1] 하기 (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여, [1] The total amount of the following components (A), (B) and (C) is 100 mass%,

(A) 분자 내에 우레탄 결합 및 3 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물 60 내지 94 질량%, (A) 60-94 mass% of compounds which have a urethane bond and 3 or more ethylenically unsaturated group in a molecule,

(B) 분자량이 290 이하인 에틸렌성 불포화기 함유 화합물 5 내지 35 질량%, 및(B) 5-35 mass% of ethylenically unsaturated group containing compounds whose molecular weight is 290 or less, and

(C) 방사선 (광)중합 개시제 0.01 내지 20 질량%,(C) 0.01-20 mass% of radiation (photo) polymerization initiators,

And

(D) 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 염화메틸렌, 클로로포름 및 테트라히드로푸란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용제(D) at least one solvent selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, methylene chloride, chloroform and tetrahydrofuran

를 함유하는 하드 코팅막용 경화성 조성물.Curable composition for hard coating films containing these.

[2] 상기 [1]에 있어서, 상기 (B) 성분이 (메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 및 라우릴아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 함유하는 하드 코팅막용 경화성 조성물.[2] The above-mentioned [1], wherein the component (B) is made of (meth) acryloyl morpholine, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-ε-caprolactam, and lauryl acrylate Curable composition for hard-coat films containing 1 or more types of compound chosen from the group.

[3] 상기 [1] 또는 [2]에 있어서, 상기 (A) 성분이 분자 내에 우레탄 결합 및 6 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물인 하드 코팅막용 경화성 조성물.[3] The curable composition for hard coating film according to the above [1] or [2], wherein the component (A) is a compound having a urethane bond and 6 or more ethylenically unsaturated groups in the molecule.

[4] 상기 [1] 내지 [3] 중 어느 하나에 있어서, 상기 (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여, 상기 (B) 성분의 함유량이 10 질량% 이상 20 질량% 미만인 하드 코팅막용 경화성 조성물.[4] The content of the component (B) is any one of [1] to [3], wherein the total amount of the components (A), (B) and (C) is 100 mass%. Curable composition for hard-coat films which is more than 20 mass%.

[5] 상기 [1] 내지 [4] 중 어느 하나에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 하드 코팅막.[5] A hard coat film obtained by curing the curable composition according to any one of the above [1] to [4].

본 발명에 따르면 우수한 도공성을 갖고, 각종 기재의 표면에 고경도이고, 간섭 줄무늬가 적고, 기재와의 밀착성이 우수하고, 높은 투명성을 갖는 하드 코팅막을 형성할 수 있는 경화성 조성물, 및 내약품성이 우수한 하드 코팅막을 제공할 수 있다.According to the present invention, a curable composition having excellent coatability, high hardness on the surface of various substrates, little interference fringes, excellent adhesion to the substrate, and a hard coating film having high transparency, and chemical resistance It is possible to provide an excellent hard coating film.

[도 1] 실시예 1에서 제조한 경화성 조성물을 사용한 평가용 적층체의 하드 코팅층의 내부로부터 기재의 내부까지를 하드 코팅층과 기재의 경계면에 대하여 수직 방향으로 0.3 ㎛씩 이동하면서, 상기 경계면으로부터의 각 거리에서의 오스뮴량을 측정한 결과를 나타내는 그래프이다.1: From the inside of the hard coating layer of the evaluation laminate using the curable composition prepared in Example 1 to the inside of the substrate while moving 0.3 μm each in the vertical direction with respect to the interface between the hard coating layer and the substrate. It is a graph showing the result of measuring the amount of osmium at each distance.

<발명을 실시하기 위한 최선의 형태>Best Mode for Carrying Out the Invention

이하, 본 발명의 하드 코팅막용 경화성 조성물(이하, "본 발명의 경화성 조성물"이라고 함) 및 그의 경화막인 하드 코팅막의 실시 형태를 구체적으로 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment of the hard coat film which is the curable composition for hard coat films (henceforth "the curable composition of this invention") of this invention, and its cured film is demonstrated.

I. 경화성 조성물I. Curable Compositions

본 발명의 경화성 조성물은 하기 (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여, (A) 분자 내에 우레탄 결합 및 3 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물 60 내지 94 질량%, (B) 분자량이 290 이하인 에틸렌성 불포화기 함유 화합물 5 내지 35 질량%, 및 (C) 방사선 (광)중합 개시제 0.01 내지 20 질량%, 및 (D) 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 염화메틸렌, 클로로포름 및 테트라히드로푸란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용제를 함유하는 것을 특징으로 하는 것이다.The curable composition of this invention makes the total amount of the following (A), (B) and (C) component 100 mass%, 60-94 mass% of compounds which have a urethane bond and 3 or more ethylenically unsaturated groups in (A) molecule | numerator, (B) 5-35 mass% of ethylenically unsaturated group containing compounds whose molecular weight is 290 or less, and (C) 0.01-20 mass% of a radiation (photo) polymerization initiator, and (D) acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, and acetic acid It is characterized by containing at least one solvent selected from the group consisting of methyl, ethyl acetate, ethyl lactate, methylene chloride, chloroform and tetrahydrofuran.

이하, 본 발명의 경화성 조성물의 각 구성 성분에 대하여 구체적으로 설명한다.Hereinafter, each structural component of the curable composition of this invention is demonstrated concretely.

1. (A) 분자 내에 우레탄 결합 및 3 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물1. (A) A compound having a urethane bond and at least 3 ethylenically unsaturated groups in the molecule

본 발명에 사용되는 (A) 성분은, 분자 내에 우레탄 결합 및 3 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이면 특별히 한정되지 않지만, 우레탄(메트)아크릴레이트인 것이 바람직하다.The component (A) used in the present invention is not particularly limited as long as it is a compound having a urethane bond and three or more ethylenically unsaturated groups in the molecule, but is preferably urethane (meth) acrylate.

우레탄 결합을 갖는 화합물 (A)인 우레탄(메트)아크릴레이트는 특별히 한정되지 않지만, 기본적으로는 (a) 폴리이소시아네이트 화합물 및 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체를 반응시켜 얻어진다. 우레탄(메트)아크릴레이트는, 다른 올리고머를 주쇄로 하여 그에 우레탄 결합한 것일 수도 있다.Although the urethane (meth) acrylate which is a compound (A) which has a urethane bond is not specifically limited, It is basically obtained by making (a) polyisocyanate compound and (b) hydroxyl-containing (meth) acrylate monomer react. Urethane (meth) acrylate may be a thing obtained by urethane bond to another oligomer as a main chain.

우레탄(메트)아크릴레이트는, 그의 올리고머의 주쇄에 결합한 (메트)아크릴로일기를 3개 이상 함유해야 하며, 4개 이상 함유하는 것이 바람직하고, 6개 이상 함유하는 것이 보다 바람직하다.Urethane (meth) acrylate should contain 3 or more of (meth) acryloyl groups couple | bonded with the main chain of the oligomer, It is preferable to contain 4 or more, It is more preferable to contain 6 or more.

폴리이소시아네이트 화합물 (a)와 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체 (b)를 반응시켜 이루어지는 우레탄(메트)아크릴레이트 (A)의 바람직한 구체예로서는, 예를 들면 하기 화학식 1로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As a preferable specific example of the urethane (meth) acrylate (A) which makes a polyisocyanate compound (a) and the hydroxyl group containing (meth) acrylate monomer (b) react, the compound represented by following formula (1) is mentioned, for example. .

Yr-R2-O-CO-NH-R1-NH-CO-O-R3-YS Y r -R 2 -O-CO-NH-R 1 -NH-CO-OR 3 -Y S

R1은 2가의 유기기이고, 통상적으로 분자량 14 내지 1만, 바람직하게는 분자량 76 내지 500의 2가의 유기기 중에서 선택된다.R 1 is a divalent organic group, and is usually selected from divalent organic groups having a molecular weight of 14 to 10,000, preferably a molecular weight of 76 to 500.

R2, R3은 (r+1)가 및 (s+1)가의 유기기이고, 바람직하게는 쇄상, 분지상 또 는 환상의 포화 탄화수소기, 불포화 탄화수소기 중에서 선택된다.R <2> , R <3> is an organic group of (r + 1) and (s + 1) valence, Preferably it is selected from a chain, branched or cyclic saturated hydrocarbon group, and unsaturated hydrocarbon group.

Y는 활성 라디칼종의 존재하에, 분자간 가교 반응하는 중합성 불포화기를 분자 중에 갖는 1가의 유기기를 나타낸다. 또한, r, s는 바람직하게는 1 내지 20의 정수이고, 더욱 바람직하게는 1 내지 10의 정수, 특히 바람직하게는 1 내지 5의 정수이다.Y represents the monovalent organic group which has in a molecule | numerator the polymerizable unsaturated group which crosslinks intermolecularly in presence of an active radical species. In addition, r and s are preferably integers of 1-20, More preferably, they are integers of 1-10, Especially preferably, they are integers of 1-5.

또한, 식 중 R2, R3 및 Yr, Ys는 동일하거나 상이할 수 있다.In addition, in the formula, R 2 , R 3 and Y r , Y s may be the same or different.

우레탄(메트)아크릴레이트의 합성에 사용하는 (a) 폴리이소시아네이트 화합물 및 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체의 사용 비율은, (a) 폴리이소시아네이트 화합물에 포함되는 이소시아네이트기 1 당량에 대하여, 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체의 수산기가 1.0 내지 2 당량이 되도록 하는 것이 바람직하다.The use ratio of the (a) polyisocyanate compound and (b) hydroxyl-containing (meth) acrylate monomer used for the synthesis | combination of a urethane (meth) acrylate is with respect to 1 equivalent of isocyanate groups contained in (a) polyisocyanate compound, It is preferable to make the hydroxyl group of a hydroxyl-containing (meth) acrylate monomer into 1.0-2 equivalent.

이러한 우레탄(메트)아크릴레이트 (A)를 제조하는 구체적 방법으로서는, 예를 들면 (c) 폴리올 화합물, (a) 폴리이소시아네이트 화합물 및 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체를 일괄적으로 주입하여 반응시키는 방법; (c) 폴리올 화합물 및 (a) 폴리이소시아네이트 화합물을 반응시키고, 이어서 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체를 반응시키는 방법; (a) 폴리이소시아네이트 화합물 및 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체를 반응시키고, 이어서 (c) 폴리올 화합물을 반응시키는 방법; (a) 폴리이소시아네이트 화합물 및 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체를 반응시키고, 이어서 (c) 폴리올 화합물을 반응시키고, 마지막으로 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체를 반응시키는 방법 등을 들 수 있다.As a specific method of manufacturing such a urethane (meth) acrylate (A), the (c) polyol compound, (a) polyisocyanate compound, and (b) hydroxyl-containing (meth) acrylate monomer are collectively injected, for example. Reaction method; a method of reacting (c) the polyol compound and (a) the polyisocyanate compound and then (b) reacting the hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer; a method of reacting (a) a polyisocyanate compound and (b) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer, followed by (c) a polyol compound; a method of reacting (a) a polyisocyanate compound and (b) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer, followed by (c) a polyol compound, and finally (b) a hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer Can be mentioned.

우레탄(메트)아크릴레이트의 합성에 사용되는 (c) 폴리올 화합물로서는, 폴리에테르디올, 폴리에스테르디올, 폴리카르보네이트디올, 폴리카프로락톤디올 등을 사용할 수 있다. 이 중에서 폴리에테르디올이 바람직하지만, 다른 디올을 폴리에테르디올과 병용할 수도 있다. 이들 구조 단위의 중합 양식은 특별히 제한되지 않으며, 랜덤 중합, 블록 중합, 그래프트 중합 중 어느 하나일 수도 있다.As (c) polyol compound used for synthesis | combination of urethane (meth) acrylate, polyetherdiol, polyesterdiol, polycarbonate diol, polycaprolactone diol, etc. can be used. Of these, polyetherdiol is preferred, but other diols may be used in combination with polyetherdiol. The polymerization mode of these structural units is not particularly limited and may be any of random polymerization, block polymerization and graft polymerization.

폴리에테르디올로서는 폴리에틸렌글리콜, 폴리프로필렌글리콜, 폴리테트라메틸렌글리콜, 폴리헥사메틸렌글리콜, 폴리헵타메틸렌글리콜, 폴리데카메틸렌글리콜과 같은 1종의 이온 중합성 환상 화합물을 개환 중합시켜 얻어지는 폴리에테르올레핀디올, 또는 2종 이상의 이온 중합성 환상 화합물을 개환 공중합시켜 얻어지는 폴리에테르디올을 들 수 있다. 이온 중합성 환상 화합물로서는 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드, 부텐-1-옥시드, 이소부텐옥시드, 옥세탄, 3,3-디메틸옥세탄, 3,3-비스클로로메틸옥세탄, 테트라히드로푸란, 2-메틸테트라히드로푸란, 3-메틸테트라히드로푸란, 디옥산, 트리옥산, 테트라옥산, 시클로헥센옥시드, 스티렌옥시드, 에피클로로히드린, 글리시딜메타크릴레이트, 알릴글리시딜에테르, 알릴글리시딜카르보네이트, 부타디엔모노옥시드, 이소프렌모노옥시드, 비닐옥세탄, 비닐테트라히드로푸란, 비닐시클로헥센옥시드, 페닐글리시딜에테르, 부틸글리시딜에테르, 벤조산글리시딜에스테르 등의 환상 에테르류를 들 수 있다.As polyetherdiol, polyether olefindiol obtained by ring-opening-polymerizing 1 type of ionic polymerizable cyclic compounds, such as polyethyleneglycol, polypropylene glycol, polytetramethylene glycol, polyhexamethylene glycol, polyhepta methylene glycol, polydecamethylene glycol, Or polyetherdiol obtained by ring-opening-copolymerizing 2 or more types of ionically polymerizable cyclic compounds is mentioned. Examples of the ionic polymerizable cyclic compound include ethylene oxide, propylene oxide, butene-1-oxide, isobutene oxide, oxetane, 3,3-dimethyloxetane, 3,3-bischloromethyloxetane, tetrahydrofuran, 2-methyltetrahydrofuran, 3-methyltetrahydrofuran, dioxane, trioxane, tetraoxane, cyclohexene oxide, styrene oxide, epichlorohydrin, glycidyl methacrylate, allyl glycidyl ether, Allyl glycidyl carbonate, butadiene monooxide, isoprene monooxide, vinyl oxetane, vinyl tetrahydrofuran, vinyl cyclohexene oxide, phenyl glycidyl ether, butyl glycidyl ether, benzoic acid glycidyl ester Cyclic ethers, such as these, are mentioned.

또한, 상기 이온 중합성 환상 화합물과 에틸렌이민 등의 환상 이민류, γ-프 로피오락톤, 글리콜산락티드 등의 환상 락톤산, 또는 디메틸시클로폴리실록산류를 개환 공중합시킨 폴리에테르디올을 사용할 수도 있다. 상기 2종 이상의 이온 중합성 환상 화합물의 구체적인 조합으로서는, 테트라히드로푸란과 프로필렌옥시드, 테트라히드로푸란과 2-메틸테트라히드로푸란, 테트라히드로푸란과 3-메틸테트라히드로푸란, 테트라히드로푸란과 에틸렌옥시드, 프로필렌옥시드와 에틸렌옥시드, 부텐-1-옥시드와 에틸렌옥시드, 테트라히드로푸란, 부텐-1-옥시드, 에틸렌옥시드의 3원 중합체 등을 들 수 있다. 이들 이온 중합성 환상 화합물의 개환 공중합체는 랜덤으로 결합할 수도 있고, 블록상의 결합일 수도 있다.Moreover, the polyetherdiol which ring-opened-copolymerized the said ionic polymerizable cyclic compound, cyclic imines, such as ethyleneimine, (gamma)-propiolactone, glycolic acid lactide, or dimethylcyclopolysiloxane can also be used. Specific combinations of the two or more ionic polymerizable cyclic compounds include tetrahydrofuran and propylene oxide, tetrahydrofuran and 2-methyltetrahydrofuran, tetrahydrofuran and 3-methyltetrahydrofuran, tetrahydrofuran and ethylene jade Seed, propylene oxide, ethylene oxide, butene-1-oxide, ethylene oxide, tetrahydrofuran, butene-1-oxide, ternary polymer of ethylene oxide, etc. are mentioned. The ring-opening copolymer of these ionically polymerizable cyclic compounds may be bonded at random, or may be a block-like bond.

이들 폴리에테르디올은, 예를 들면 PTMG650, PTMG1000, PTMG2000(이상, 미쯔비시 가가꾸(주) 제조), 에크세놀 1020, 2020, 3020, 프레미놀 PML-4002, PML-5005(이상, 아사히 글래스(주) 제조), 유니세프 DC1100, DC1800, DCB1000(이상, 닛본 유시(주) 제조), PPTG1000, PPTG2000, PPTG4000, PTG400, PTG650, PTG1000, PTG2000, PTG-L1000, PTG-L2000(이상, 호도가야 가가꾸 고교(주) 제조), Z-3001-4, Z-3001-5, PBG2000(이상, 다이이찌 고교 세이야꾸(주) 제조), Acclaim2200, 2220, 3201, 3205, 4200, 4220, 8200, 12000(이상, 라이온델사 제조) 등의 시판품으로서 입수할 수 있다.These polyether diols are, for example, PTMG650, PTMG1000, PTMG2000 (above, manufactured by Mitsubishi Chemical Corporation), ecsenol 1020, 2020, 3020, preminol PML-4002, PML-5005 (above, Asahi Glass Co., Ltd.) Manufactured), UNICEF DC1100, DC1800, DCB1000 (above, Nippon Yushi Co., Ltd.), PPTG1000, PPTG2000, PPTG4000, PTG400, PTG650, PTG1000, PTG2000, PTG-L1000, PTG-L2000 (above, Hodogaya Kagaku High School) Co., Ltd.), Z-3001-4, Z-3001-5, PBG2000 (above, Daiichi Kogyo Seiyaku Co., Ltd.), Acclaim2200, 2220, 3201, 3205, 4200, 4220, 8200, 12000 (more) And Lionel Corporation).

(c) 폴리올 화합물로서는 상기 폴리에테르디올이 바람직하지만, 이외에 폴리에스테르디올, 폴리카르보네이트디올, 폴리카프로락톤디올 등도 사용할 수 있고, 이들 디올을 폴리에테르디올과 병용할 수도 있다. 이들 구조 단위의 중합 양식은 특별히 제한되지 않으며, 랜덤 중합, 블록 중합, 그래프트 중합 중 어느 하나일 수 도 있다.(c) Although the said polyetherdiol is preferable as a polyol compound, polyesterdiol, polycarbonate diol, polycaprolactone diol, etc. can also be used, and these diol can also be used together with polyetherdiol. The polymerization mode of these structural units is not particularly limited and may be any of random polymerization, block polymerization and graft polymerization.

폴리카르보네이트디올의 예는, 디에틸렌카르보네이트를 디올로 알코올 분해함으로써 종래와 같이 제조되는 것이다. 이 디올은, 예를 들면 1,4-부탄디올, 1,6-헥산디올, 1,12-도데칸디올 등의 탄소 원자수 2 내지 12의 알킬렌디올일 수도 있다. 이들 디올의 혼합물도 이용할 수 있다. 폴리카르보네이트디올은, 카르보네이트기 이외에 주쇄 중에 에테르 결합을 포함할 수 있다. 따라서, 예를 들면 알킬렌옥시드계 단량체와 상술한 알킬렌디올의 폴리카르보네이트 공중합체를 사용할 수 있다. 알킬렌옥시드계 단량체로서는, 예를 들면 에틸렌옥시드, 테트라히드로푸란 등을 들 수 있다. 이들 공중합체는, 폴리카르보네이트 단독 중합체에 비해 모듈러스가 낮고, 액상 피복 조성물의 결정화를 저지하는 경화 피막을 생성한다. 폴리카르보네이트디올과 폴리카르보네이트 공중합체의 혼합물도 이용할 수 있다.An example of the polycarbonate diol is one produced conventionally by alcohol-decomposing diethylene carbonate with diol. The diol may be, for example, alkylenediol having 2 to 12 carbon atoms such as 1,4-butanediol, 1,6-hexanediol, and 1,12-dodecanediol. Mixtures of these diols can also be used. Polycarbonate diols may contain ether bonds in the main chain in addition to the carbonate groups. Thus, for example, the polycarbonate copolymer of the alkylene oxide monomer and the alkylene diol described above can be used. As an alkylene oxide type monomer, ethylene oxide, tetrahydrofuran, etc. are mentioned, for example. These copolymers have a low modulus compared to polycarbonate homopolymers, and produce a cured coating that prevents crystallization of the liquid coating composition. Mixtures of polycarbonate diols and polycarbonate copolymers may also be used.

폴리카르보네이트디올로서는, 예를 들면 Duracarb122(PPG Industries사) 및 Permanol KM10-1733(Permuthane사, 미국 매사추세츠주)을 들 수 있다. Duracarb122는 디에틸카르보네이트의 헥산디올에 의한 알코올 분해에 의해 제조된다. 폴리에스테르디올의 예로서는, 포화 폴리카르복실산 또는 이들의 무수물과 디올의 반응 생성물을 들 수 있다. 포화 폴리카르복실산 및 무수물로서는, 예를 들면 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 트리멜리트산, 테트라히드로프탈산, 헥사히드로프탈산, 테트라클로로프탈산, 아디프산, 아젤라산, 세박산, 숙신산, 글루타르산, 말론산, 피멜산, 수베르산, 2,2-디메틸숙신산, 3,3-디메틸글루타르산, 2,2-디메틸글루타르산 등 이들의 무수물 및 이들의 혼합물을 들 수 있다. 디올로서는, 예를 들면 1,4-부탄디올, 1,8-옥탄디올, 디에틸렌글리콜, 1,6-헥산디올, 디메틸올시클로헥산 등을 들 수 있다. 폴리카프로락톤류는 이 분류에 포함되며, 유니온ㆍ카바이드사로부터 Tone Polylol 시리즈, 예를 들면 Tone0200, 0221, 0301, 0310, 2201 및 2221의 상품명으로 시판되어 있다. Tone0301 및 0310은 3 관능성이다.Examples of the polycarbonate diols include Duracarb 122 (PPG Industries Co., Ltd.) and Permanol KM10-1733 (Permuthane Co., Massachusetts, USA). Duracarb122 is prepared by alcohol degradation with hexanediol of diethylcarbonate. As an example of polyesterdiol, the reaction product of saturated polycarboxylic acid or these anhydrides, and diol is mentioned. As the saturated polycarboxylic acid and anhydride, for example, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, trimellitic acid, tetrahydrophthalic acid, hexahydrophthalic acid, tetrachlorophthalic acid, adipic acid, azelaic acid, sebacic acid, succinic acid, glutaric acid And anhydrides thereof, such as malonic acid, pimelic acid, suberic acid, 2,2-dimethylsuccinic acid, 3,3-dimethylglutaric acid, 2,2-dimethylglutaric acid, and mixtures thereof. As a diol, 1, 4- butanediol, 1, 8- octane diol, diethylene glycol, 1, 6- hexanediol, dimethylol cyclohexane etc. are mentioned, for example. Polycaprolactones are included in this classification and are commercially available from Union Carbide under the trade names Tone Polylol series, for example, Tone 0200, 0221, 0301, 0310, 2201 and 2221. Tone0301 and 0310 are trifunctional.

우레탄(메트)아크릴레이트의 합성에 사용되는 (a) 폴리이소시아네이트로서는, 방향족 디이소시아네이트, 지환족 디이소시아네이트, 지방족 디이소시아네이트 등을 들 수 있다. 구체적 화합물로서는, 광경화성 수지 조성물로서 사용할 수 있는 것이면 특별히 제한은 없지만, 바람직한 예로서는 방향족 디이소시아네이트 및 지환식 디이소시아네이트, 보다 바람직하게는 2,4-톨릴렌 디이소시아네이트 및 이소포론 디이소시아네이트를 들 수 있다. 이들 디이소시아네이트 화합물은 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상 병용할 수도 있다.As (a) polyisocyanate used for the synthesis | combination of urethane (meth) acrylate, aromatic diisocyanate, alicyclic diisocyanate, aliphatic diisocyanate, etc. are mentioned. The specific compound is not particularly limited as long as it can be used as the photocurable resin composition, but preferred examples thereof include aromatic diisocyanate and alicyclic diisocyanate, more preferably 2,4-tolylene diisocyanate and isophorone diisocyanate. . These diisocyanate compounds may be used independently and may be used together 2 or more types.

우레탄(메트)아크릴레이트의 합성에 사용되는 (a) 폴리이소시아네이트 화합물의 예로서는, 이소포론디이소시아네이트(IPDI), 테트라메틸크실렌디이소시아네이트(TMXDI), 톨루엔디이소시아네이트(TDI), 디페닐메틸렌디이소시아네이트, 헥사메틸렌디이소시아네이트, 시클로헥실렌디이소시아네이트, 메틸렌디시클로헥산디이소시아네이트, 2,2,4-트리메틸헥사메틸렌디이소시아네이트, m-페닐렌디이소시아네이트, 4-클로로-1,3-페닐렌디이소시아네이트, 4,4'-비페닐렌디이소시아네이트, 1,5-나프틸렌디이소시아네이트, 1,4-테트라메틸렌디이소시아네이트, 1,6-헥사메틸렌디이소시아네이트, 1,10-데카메틸렌디이소시아네이트, 1,4-시클로헥실렌디이소시아네이트 이외에 폴리알킬렌옥시드 및/또는 폴리에스테르글리콜의 양쪽 말단에 톨루엔 디이소시아네이트 등의 디이소시아네이트가 결합한 화합물 등을 들 수 있다. 예를 들면 각각 TDI 말단 정지 폴리테트라메틸렌에테르글리콜 및 TDI 말단 정지 폴리에틸렌아디페이트를 들 수 있다. 이들 디이소시아네이트로서는, 이소포론디이소시아네이트나 톨루엔 디이소시아네이트와 같은 디이소시아네이트 등이 바람직하다.Examples of the (a) polyisocyanate compound used for the synthesis of urethane (meth) acrylate include isophorone diisocyanate (IPDI), tetramethylxylene diisocyanate (TMXDI), toluene diisocyanate (TDI), diphenylmethylene diisocyanate, Hexamethylene diisocyanate, cyclohexylene diisocyanate, methylene dicyclohexane diisocyanate, 2,2,4-trimethylhexamethylene diisocyanate, m-phenylene diisocyanate, 4-chloro-1,3-phenylenedi isocyanate, 4, 4'-biphenylene diisocyanate, 1,5-naphthylene diisocyanate, 1,4-tetramethylene diisocyanate, 1,6-hexamethylene diisocyanate, 1,10-decamethylene diisocyanate, 1,4-cyclohexane Toluene diisocyanate and the like at both ends of the polyalkylene oxide and / or polyester glycol in addition to the silylene diisocyanate The isocyanate may include a combination of compounds. For example, TDI end stop polytetramethylene ether glycol and TDI end stop polyethylene adipate are mentioned, respectively. As these diisocyanate, diisocyanate, such as isophorone diisocyanate and toluene diisocyanate, etc. are preferable.

우레탄(메트)아크릴레이트의 합성에 사용되는 (b) 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체로서는, 폴리이소시아네이트의 이소시아네이트기와의 반응성의 면에서, 수산기가 1급 탄소 원자에 결합된 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체(제1 수산기 함유 (메트)아크릴레이트라고 함) 및 수산기가 2급 탄소 원자에 결합된 수산기 함유 (메트)아크릴레이트(제2 수산기 함유 (메트)아크릴레이트라고 함)가 바람직하다.As the (b) hydroxyl group-containing (meth) acrylate monomer used in the synthesis of urethane (meth) acrylate, in view of the reactivity of the polyisocyanate with an isocyanate group, the hydroxyl group-containing (meth) acryl in which the hydroxyl group is bonded to a primary carbon atom Preferred are acrylate monomers (called first hydroxyl group-containing (meth) acrylates) and hydroxyl group-containing (meth) acrylates in which the hydroxyl groups are bonded to secondary carbon atoms (called second hydroxyl group-containing (meth) acrylates).

제1 수산기 함유 (메트)아크릴레이트로서, 예를 들면 2-히드록시에틸(메트)아크릴레이트, 4-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올모노(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜모노(메트)아크릴레이트, 트리메틸올프로판디(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄디(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As the first hydroxyl group-containing (meth) acrylate, for example, 2-hydroxyethyl (meth) acrylate, 4-hydroxybutyl (meth) acrylate, 1,6-hexanediol mono (meth) acrylate, penta Erythritol tri (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, neopentyl glycol mono (meth) acrylate, trimethylolpropanedi (meth) acrylate, trimethylolethanedi (meth) acrylate, and the like Can be mentioned.

제2 수산기 함유 (메트)아크릴레이트로서, 예를 들면 2-히드록시프로필(메트)아크릴레이트, 2-히드록시부틸(메트)아크릴레이트, 2-히드록시-3-페닐옥시프로필(메트)아크릴레이트, 4-히드록시시클로헥실(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있으며, 추가로 알킬글리시딜에테르, 알릴글리시딜에테르, 글리시딜(메트)아크릴레이트 등의 글리시딜기 함유 화합물과 (메트)아크릴산의 부가 반응에 의해 얻어지는 화합 물을 들 수 있다. 이들 수산기 함유 (메트)아크릴레이트 단량체는 1종 단독으로, 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.As the second hydroxyl group-containing (meth) acrylate, for example, 2-hydroxypropyl (meth) acrylate, 2-hydroxybutyl (meth) acrylate, 2-hydroxy-3-phenyloxypropyl (meth) acryl And 4-hydroxycyclohexyl (meth) acrylate; glycidyl group-containing compounds such as alkylglycidyl ether, allylglycidyl ether, and glycidyl (meth) acrylate; The compound obtained by addition reaction of meth) acrylic acid is mentioned. These hydroxyl-containing (meth) acrylate monomers can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

우레탄(메트)아크릴레이트의 합성에서는, 나프텐산구리, 나프텐산코발트, 나프텐산아연, 디부틸주석디라우레이트, 트리에틸아민, 1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄, 2,6,7-트리메틸-1,4-디아자비시클로[2.2.2]옥탄 등의 우레탄화 촉매를 반응물의 총량에 대하여 0.01 내지 1 질량% 사용하는 것이 바람직하다. 또한, 반응 온도는 통상적으로 5 내지 90 ℃, 특히 10 내지 80 ℃가 바람직하다.In the synthesis of urethane (meth) acrylate, copper naphthenate, cobalt naphthenate, zinc naphthenate, dibutyltin dilaurate, triethylamine, 1,4-diazabicyclo [2.2.2] octane, 2,6 It is preferable to use 0.01-1 mass% of urethanization catalysts, such as a 7-trimethyl- 1, 4- diazabicyclo [2.2.2] octane, with respect to the total amount of a reactant. In addition, the reaction temperature is usually preferably 5 to 90 ° C, particularly 10 to 80 ° C.

우레탄(메트)아크릴레이트의 바람직한 구체예로서, 하기 화학식 2 또는 하기 화학식 3으로 표시되는 우레탄(메트)아크릴레이트 등을 들 수 있다.As a preferable specific example of urethane (meth) acrylate, the urethane (meth) acrylate etc. which are represented by following formula (2) or following formula (3) are mentioned.

Figure 112008027287176-PCT00001
Figure 112008027287176-PCT00001

Figure 112008027287176-PCT00002
Figure 112008027287176-PCT00002

[화학식 2 및 3 중, "Acryl"은 아크릴로일기를 나타냄][In Formula 2 and 3, "Acryl" represents an acryloyl group.]

본 발명에서 사용하는 우레탄(메트)아크릴레이트로서는, 상기한 바와 같이 하여 합성하는 것 이외에 시판품을 사용할 수도 있다. 우레탄(메트)아크릴레이트 로서 시판되어 있는 상품으로서는, 예를 들면 아라까와 가가꾸 고교(주) 제조 상품명: 빔셋 102, 502H, 505A-6, 510, 550B, 551B, 575, 575CB, EM-90, EM92, 산노프코(주) 제조 상품명: 포토머 6008, 6210, 신나까무라 가가꾸 고교(주) 제조 상품명: NK 올리고 U-2PPA, U-4HA, U-6HA, H-15HA, UA-32PA, U-324A, U-4H, U-6H, 도아 고세이(주) 제조 상품명: 아로닉스 M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-1960, 교에샤 가가꾸(주) 제조 상품명: AH-600, AT606, UA-306H, 닛본 가야꾸(주) 제조 상품명: 카야래드 DPHA-40H, UX-2201, UX-2301, UX-3204, UX-3301, UX-4101, UX-6101, UX-7101, 닛본 고세이 가가꾸 고교(주) 제조 상품명: 시꼬 UV-1700B, UV-3000B, UV-6100B, UV-6300B, UV-7000, UV-2010B, 네가미 고교(주) 제조 상품명: 아트레진 UN-1255, UN-5200, HDP-4T, HMP-2, UN-901T, UN-3320HA, UN-3320HB, UN-3320HC, UN-3320HS, H-61, HDP-M20, 다이셀 유씨비(주) 제조 상품명: Ebecryl 6700, 204, 205, 220, 254, 1259, 1290K, 1748, 2002, 2220, 4833, 4842, 4866, 5129, 6602, 8301 등을 들 수 있다. 이들 중에서 (메트)아크릴레이트기를 6개 이상 갖는 것으로서, 카야래드 DPHA-40H 등이 바람직하다.As a urethane (meth) acrylate used by this invention, you may use a commercial item other than synthesize | combining as mentioned above. As a product marketed as a urethane (meth) acrylate, Arakawa Chemical Industries Ltd. make brand name: Beamset 102, 502H, 505A-6, 510, 550B, 551B, 575, 575CB, EM-90 , EM92, Sanofko Co., Ltd. Brand Name: Photomer 6008, 6210, Shinnakamura Kagaku Kogyo Co., Ltd. Brand Name: NK Oligo U-2PPA, U-4HA, U-6HA, H-15HA, UA-32PA , U-324A, U-4H, U-6H, Toagosei Co., Ltd. brand name: Aronix M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-1960, Kyoesha Kagaku Co., Ltd. product name: AH-600, AT606, UA-306H, Nippon Kayakaku Co., Ltd. brand name: Kayarrad DPHA-40H, UX-2201, UX-2301, UX-3204, UX-3301, UX -4101, UX-6101, UX-7101, Nippon Kosei Kagaku Kogyo Co., Ltd. product name: Shiko UV-1700B, UV-3000B, UV-6100B, UV-6300B, UV-7000, UV-2010B, Nagami High School Manufacture name: Atresin UN-1255, UN-5200, HDP-4T, HMP-2, UN-901T, UN-3320HA, UN-3320HB, UN-3320HC, UN-3320HS, H-61, HDP- M20, Daicel WBC The manufacture brand name: Ebecryl 6700, 204, 205, 220, 254, 1259, 1290K, 1748, 2002, 2220, 4833, 4842, 4866, 5129, 6602, 8301, etc. are mentioned. Among them, Kayardrad DPHA-40H and the like are preferable as those having six or more (meth) acrylate groups.

본 발명에 사용되는 우레탄 결합을 갖는 화합물 (A)의 배합(함유)량은, (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여, 60 내지 94 질량% 배합하는 것이 바람직하고, 70 내지 90 질량%가 보다 바람직하다. 60 질량% 미만 또는 94 질량%를 초과하면, 경화물로 했을 때 고경도인 것을 얻을 수 없는 경우가 있고, 도막의 밀착성이 저하될 가능성이 있다.As for the compounding (containing) amount of the compound (A) which has a urethane bond used for this invention, making a total amount of (A), (B) and (C) component 100 mass%, and mix | blending 60-94 mass% Preferably, 70-90 mass% is more preferable. When it is less than 60 mass% or exceeds 94 mass%, when it is set as hardened | cured material, a thing with high hardness may not be obtained, and the adhesiveness of a coating film may fall.

2. (B) 분자량이 290 이하인 에틸렌성 불포화기 함유 화합물2. (B) Ethylenic unsaturated group containing compound whose molecular weight is 290 or less

본 발명에 사용되는 (B) 성분은, 분자량이 290 이하인 에틸렌성 불포화기 함유 화합물이다. (B) 성분은 그의 분자량이 작기 때문에, 경화 전에 TAC 등의 기재에 어느 정도 침투하는 경향이 있다. 이 때문에, 기재와 하드 코팅층의 경계(접촉면)로부터 기재 내부에 침투하여, 기재의 두께 방향으로 (B) 성분의 연속적인 농도 구배가 형성된 상태로 경화되고, 기재와 하드 코팅층의 경계를 포함하여, 기재와 하드 코팅층 사이에 실질적으로 연속된 굴절률의 구배가 형성된다. 그 결과, 기재 위에 하드 코팅층을 갖는 적층체의 간섭 줄무늬가 감소한다.(B) component used for this invention is an ethylenically unsaturated group containing compound whose molecular weight is 290 or less. Since the (B) component has a small molecular weight, it tends to penetrate to some extent, such as TAC, before hardening. For this reason, it penetrates into the inside of the base from the boundary (contact surface) of the base and the hard coating layer, and is cured in a state where a continuous concentration gradient of component (B) is formed in the thickness direction of the base, including the boundary between the base and the hard coating layer, A substantially continuous gradient of refractive index is formed between the substrate and the hard coating layer. As a result, interference fringes of the laminate having the hard coat layer on the substrate are reduced.

기재 중에 침투한 (B) 성분의 존재는, 이하의 방법으로 평가할 수 있다. 통상과 동일한 조작으로 기재 위에 하드 코팅층을 형성한다. 단, 이때의 조사량은 통상의 1/2 내지 1/4 정도로 하고, 미반응된 에틸렌성 불포화기가 잔존하는 정도로 한다. 상기 하드 코팅층을 형성한 기재의 단면을 투과형 전자 현미경으로 관찰하는 것과 동일한 요령으로 절편(切片)을 절단하고, 상기 절편과 사산화오스뮴을 밀폐 용기에 넣어 밤새(16 시간 정도) 정치한다. 이 조작에 의해 에틸렌성 불포화기에 사산화오스뮴이 부가되기 때문에, 이 절편의 오스뮴을 분석 전자 현미경(TEM/AEM)으로 관찰함으로써, 경계면 부근의 기재 중에 (B) 성분에서 유래하는 에틸렌성 불포화기의 존재를 나타내는 대체 지표로 할 수 있다.Presence of (B) component which permeated in a base material can be evaluated with the following method. A hard coat layer is formed on the substrate by the same operation as usual. However, the irradiation amount at this time is about 1/2 to 1/4 normally, and it is about the grade which an unreacted ethylenically unsaturated group remains. The sections are cut in the same manner as the cross section of the substrate on which the hard coating layer is formed, with a transmission electron microscope, and the sections and osmium tetraoxide are placed in an airtight container and left to stand overnight (about 16 hours). Since osmium tetraoxide is added to the ethylenically unsaturated group by this operation, the osmium of this fragment is observed with an analytical electron microscope (TEM / AEM), whereby the ethylenically unsaturated group derived from component (B) It can be used as an alternative indicator of existence.

(B) 성분은, 분자량이 290 이하인 에틸렌성 불포화기 함유 화합물이면 한정되지 않지만, 그의 바람직한 구체예로서는 (메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐, 라우릴아크릴레이트 및 2-히드록시-3-페녹시프로필아크릴레이트 등을 들 수 있다.The component (B) is not limited as long as it is an ethylenically unsaturated group-containing compound having a molecular weight of 290 or less, but preferred examples thereof include (meth) acryloyl morpholine, N-vinyl-2-pyrrolidone, and N-vinyl-ε- Caprolactam, lauryl acrylate, 2-hydroxy-3-phenoxypropyl acrylate, and the like.

본 발명에 사용되는 (B) 성분의 배합량(첨가량)은, (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여, 통상적으로 5 내지 35 질량%이고, 5 내지 25 질량% 미만이 바람직하고, 10 내지 20 질량% 미만이 보다 바람직하다. (B) 성분의 배합량이 5 질량% 이상이면, 기재 위에 하드 코팅층을 갖는 적층체의 간섭 줄무늬를 효과적으로 억제할 수 있다. 또한, (B) 성분의 배합량이 35 질량% 이하이면, 높은 경도를 갖는 하드 코팅막이 얻어진다. 한편, (B) 성분의 배합량이 35 중량%를 초과하면, 경화막의 투명성이 저하되는 경우가 있다.The compounding quantity (addition amount) of (B) component used for this invention makes the total amount of (A), (B), and (C) component 100 mass%, and is 5 to 35 mass% normally, and 5 to 25 mass Less than% is preferable and less than 10-20 mass% is more preferable. If the compounding quantity of (B) component is 5 mass% or more, the interference fringe of the laminated body which has a hard-coat layer on a base material can be suppressed effectively. Moreover, if the compounding quantity of (B) component is 35 mass% or less, the hard coat film which has high hardness is obtained. On the other hand, when the compounding quantity of (B) component exceeds 35 weight%, transparency of a cured film may fall.

3. 방사선 (광)중합 개시제 (C)3. Radiation (Photo) Polymerization Initiator (C)

본 발명의 경화성 조성물에서 사용되는 (C) 성분은, 방사선 (광)중합 개시제이다.The component (C) used in the curable composition of the present invention is a radiation (photo) polymerization initiator.

방사선 (광)중합 개시제 (C)는, 방사선 (광)조사에 의해 활성 라디칼종을 발생시키는 화합물 등이다.Radiation (photo) polymerization initiator (C) is a compound etc. which generate | occur | produce active radical species by radiation (light) irradiation.

방사선 (광)중합 개시제로서는, 광조사에 의해 분해되어 라디칼을 발생하여 중합을 개시시키는 것이면 특별히 제한은 없고, 예를 들면 아세토페논, 아세토페논벤질케탈, 1-히드록시시클로헥실페닐케톤, 2,2-디메톡시-1,2-디페닐에탄-1-온, 크산톤, 플루오레논, 벤즈알데히드, 플루오렌, 안트라퀴논, 트리페닐아민, 카르바졸, 3-메틸아세토페논, 4-클로로벤조페논, 4,4'-디메톡시벤조페논, 4,4'-디아미노벤조페논, 벤조인프로필에테르, 벤조인에틸에테르, 벤질디메틸케탈, 1-(4-이소프로필페닐)-2-히드록시-2-메틸프로판-1-온, 2-히드록시-2-메틸-1-페닐프로판-1-온, 티오크산톤, 디에틸티오크산톤, 2-이소프로필티오크산톤, 2-클로로티오크산톤, 2-메틸-1- [4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노-프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-부타논-1,4-(2-히드록시에톡시)페닐-(2-히드록시-2-프로필)케톤, 2,4,6-트리메틸벤조일디페닐포스핀옥시드, 비스-(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥시드, 올리고(2-히드록시-2-메틸-1-(4-(1-메틸비닐)페닐)프로파논) 등을 들 수 있다.The radiation (photo) polymerization initiator is not particularly limited as long as it is decomposed by light irradiation to generate radicals to initiate polymerization. For example, acetophenone, acetophenonebenzyl ketal, 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone, 2, 2-dimethoxy-1,2-diphenylethan-1-one, xanthone, fluorenone, benzaldehyde, fluorene, anthraquinone, triphenylamine, carbazole, 3-methylacetophenone, 4-chlorobenzophenone, 4,4'-dimethoxybenzophenone, 4,4'-diaminobenzophenone, benzoinpropylether, benzoinethylether, benzyldimethyl ketal, 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2 -Methyl propane-1-one, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropane-1-one, thioxanthone, diethyl thioxanthone, 2-isopropyl thioxanthone, 2-chloro thioxanthone , 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholino-propane-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -buta To non-1,4- (2-hydroxy Phenyl) (2-hydroxy-2-propyl) ketone, 2,4,6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, bis- (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentyl Phosphine oxide, oligo (2-hydroxy-2-methyl-1- (4- (1-methylvinyl) phenyl) propanone), and the like.

방사선 (광)중합 개시제의 시판품으로서는, 예를 들면 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈(주) 제조 상품명: 이르가큐어 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, 다로큐어 1116, 1173, BASF사 제조 상품명: 루시린 TPO, UCB사 제조 상품명: 유베크릴 P36, 프라텔리ㆍ람베르티사 제조 상품명: 에자큐어 KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75/B 등을 들 수 있다.As a commercial item of a radiation (photo) polymerization initiator, the Ciba Specialty Chemicals Co., Ltd. brand name: Irgacure 184, 369, 651, 500, 819, 907, 784, 2959, CGI1700, CGI1750, CGI1850, CG24-61, Tarocure 1116, 1173, BASF Corporation brand name: Lucirin TPO, UCB company brand name: Uvecryl P36, Fratelli Lambertisa brand name: Ezacure KIP150, KIP65LT, KIP100F, KT37, KT55, KTO46, KIP75 / B etc. can be mentioned.

본 발명에서 사용되는 방사선 (광)중합 개시제 (C)의 배합량은, (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여, 0.01 내지 20 질량% 배합하는 것이 바람직하고, 0.1 내지 10 질량%가 보다 바람직하다. 0.01 질량% 미만이면 경화물로 했을 때의 경도가 불충분해지는 경우가 있고, 10 질량%를 초과하면 경화물로 했을 때 내부(하층)까지 경화되지 않는 경우가 있다.As for the compounding quantity of the radiation (photo) polymerization initiator (C) used by this invention, it is preferable to mix | blend 0.01-20 mass%, making the total amount of (A), (B), and (C) component 100 mass%, 0.1-10 mass% is more preferable. When it is less than 0.01 mass%, the hardness at the time of using hardened | cured material may become inadequate, and when it exceeds 10 mass%, it may not harden to the inside (lower layer) when it is set as hardened | cured material.

본 발명의 경화성 조성물을 경화시키는 경우, 필요에 따라 방사선 (광)중합 개시제와 열중합 개시제를 병용할 수 있다.When hardening the curable composition of this invention, a radiation (photo) polymerization initiator and a thermal polymerization initiator can be used together as needed.

바람직한 열중합 개시제로서는, 예를 들면 과산화물, 아조 화합물을 들 수 있고, 구체예로서는 벤조일퍼옥시드, t-부틸-퍼옥시벤조에이트, 아조비스이소부티 로니트릴 등을 들 수 있다.As a preferable thermal polymerization initiator, a peroxide and an azo compound are mentioned, for example, A benzoyl peroxide, t-butyl- peroxy benzoate, azobisisobutyronitrile etc. are mentioned as a specific example.

4. 유기 용제 (D)4. Organic Solvents (D)

본 발명의 경화성 조성물은, (B) 성분이 기재에 침투하는 것을 보조하기 위해 기재를 어느 정도 팽윤시키는 목적과 도막의 두께를 조절하는 목적을 위해, (D) 유기 용제로 희석하여 사용한다. 따라서, 유기 용제 (D)로서는 사용하는 기재에 따라, 그 기재를 팽윤시킬 수 있는 용제인 것이 바람직하다.The curable composition of the present invention is used after dilution with (D) an organic solvent for the purpose of swelling the substrate to some extent and for controlling the thickness of the coating film in order to assist the component (B) to penetrate the substrate. Therefore, it is preferable that it is a solvent which can swell the base material as an organic solvent (D) according to the base material to be used.

(D) 유기 용제의 구체예로서는 기재의 종류에 따라서도 상이하지만, 통상적으로 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 옥탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤(MEK), 메틸이소부틸케톤(MIBK), 메틸아밀케톤(MAK), 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산에틸, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류를 들 수 있다.(D) Although it changes also with the kind of base material as a specific example of an organic solvent, Usually, Alcohol, such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, an octanol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone (MEK), methyl isobutyl ketone (MIBK), methyl amyl ketone (MAK), and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether, diethylene glycol monobutyl ether, and propylene glycol monomethyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Amides, such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone, are mentioned.

기재가 TAC인 경우에는, (D) 유기 용제로서 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 염화메틸렌, 클로로포름 및 테트라히드로푸란 등이 바람직하고, 기재가 노르보르넨계 수지인 경우에는, MEK, 염화메틸렌, 테트라히드로푸란, 시클로헥사논, 시클로헥산 등이 바람직하다. 이들 유기 용제는 1종을 단독으로 사용할 수도 있고, 2종 이상을 병용할 수도 있다.When the base material is TAC, (D) As an organic solvent, acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, methylene chloride, chloroform, tetrahydrofuran and the like are preferable, and the base material is norbornene-based. In the case of resin, MEK, methylene chloride, tetrahydrofuran, cyclohexanone, cyclohexane, etc. are preferable. These organic solvents may be used individually by 1 type, and may use 2 or more types together.

본 발명의 경화성 조성물 중의 (D) 용제의 배합량은, 통상적으로 전체 조성물 중의 30 내지 60 질량%이고, 40 내지 60 질량%가 바람직하다. 30 내지 60 질량%의 범위 내이면 도공성이 양호하다. 상기 범위이면, 본 발명의 경화성 조성물의 점도는 통상적으로 0.1 내지 50,000 mPaㆍ초/25 ℃가 된다. 또한, 도포성의 관점에서, 0.5 내지 10,000 mPaㆍ초/25 ℃인 것이 바람직하다.The compounding quantity of the (D) solvent in the curable composition of this invention is 30-60 mass% in the whole composition normally, and 40-60 mass% is preferable. Coating property is favorable in it being in the range of 30-60 mass%. If it is the said range, the viscosity of the curable composition of this invention will be 0.1-50,000 mPa sec / 25 degreeC normally. Moreover, it is preferable that it is 0.5-10,000 mPa * sec / 25 degreeC from a viewpoint of applicability | paintability.

5. 분자 내에 중합성 불포화기를 갖는, (A) 성분 및 (B) 성분 이외의 화합물 (E)5. Compound (E) other than (A) component and (B) component which has a polymerizable unsaturated group in a molecule | numerator

본 발명의 경화성 조성물에는, 중합성 불포화기를 갖는 (A) 성분 및 (B) 성분 이외의 화합물 (E)를 필요에 따라 첨가할 수 있다. (E) 성분은, 분자 내에 1개의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물일 수도 있고, 분자 내에 2개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물일 수도 있지만, 분자량이 290을 초과하는 화합물로 한정되기 때문에, 구체예의 대부분은 분자 내에 2개 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 (메트)아크릴레이트이다.To the curable composition of this invention, compounds (E) other than (A) component and (B) component which have a polymerizable unsaturated group can be added as needed. The component (E) may be a compound having one ethylenically unsaturated group in the molecule, or may be a compound having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule, but most of the specific examples are limited to compounds having a molecular weight of more than 290. Is a (meth) acrylate having two or more ethylenically unsaturated groups in the molecule.

(E) 성분의 바람직한 구체예로서는, (메트)아크릴에스테르류로서 트리메틸올프로판트리(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨트리(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 글리세린트리(메트)아크릴레이트, 트리스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트트리(메트)아크릴레이트, 에틸렌글루콜디(메트)아크릴레이트, 1,3-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,4-부탄디올디(메트)아크릴레이트, 1,6-헥산디올디(메트)아크릴레이트, 네오펜틸글리콜디(메트)아크릴레이트, 디에틸렌글루콜디(메트)아크릴레이트, 트리에틸렌글루콜디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌글루콜디(메트)아크릴레이트, 비스(2-히드록시에틸)이소시아누레이트디(메트)아크릴레이트 및 이들 출발 알코올류로의 에틸렌옥시드 또는 프로필렌옥시드 부가물의 폴리(메트)아크릴레이트류, 분자 내에 2 이상의 (메트)아크릴로일기를 갖는 올리고에스테르(메트)아크릴레이트류, 올리고에테르(메트)아크릴레이트류 및 올리고에폭시(메트)아크릴레이트류 등을 들 수 있다. 이 중에서 디펜타에리트리톨헥사(메트)아크릴레이트, 디펜타에리트리톨펜타(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨테트라(메트)아크릴레이트, 디트리메틸올프로판테트라(메트)아크릴레이트가 바람직하다.Preferable specific examples of the component (E) include (meth) acrylic esters as trimethylolpropane tri (meth) acrylate, ditrimethylolpropane tetra (meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate and pentaerythritol. Tetra (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, glycerin tri (meth) acrylate, tris (2-hydroxyethyl) isocyanurate tree (Meth) acrylate, ethylene glucol di (meth) acrylate, 1,3-butanedioldi (meth) acrylate, 1,4-butanedioldi (meth) acrylate, 1,6-hexanedioldi (meth) acrylic Latex, neopentylglycoldi (meth) acrylate, diethyleneglucoldi (meth) acrylate, triethyleneglucoldi (meth) acrylate, dipropyleneglucoldi (meth) acrylate, bis (2-hydroxy Poly) isocyanurate di (meth) acrylate and poly (meth) acrylates of ethylene oxide or propylene oxide adducts to these starting alcohols, oligoesters having two or more (meth) acryloyl groups in the molecule (Meth) acrylates, oligoether (meth) acrylates, oligoepoxy (meth) acrylates, etc. are mentioned. Among these, dipentaerythritol hexa (meth) acrylate, dipentaerythritol penta (meth) acrylate, pentaerythritol tetra (meth) acrylate, and ditrimethylol propane tetra (meth) acrylate are preferable.

다관능 (메트)아크릴레이트 화합물의 시판품으로서는, (주)산와 케미컬 제조 상품명: 니칼락 MX-302, 도아 고세이(주) 제조 상품명: 아로닉스 M-400, M-402, M-403, M-404, M-408, M-450, M-305, M-309, M-310, M-313, M-315, M-320, M-325, M-326, M-327, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-1100, M-1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-221, M-203, TO-924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO-756, TO-1343, TO-1382, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, 닛본 가야꾸(주) 제조 상품명: KAYARAD D-310, D-330, DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA-120, DN-0075, DN-2475, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368, SR-415, SR-444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR-272, SR-344, SR-349, SR-368, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, TC-120S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX-220, HX-620, R-551, R- 712, R-167, R-526, R-551, R-712, R-604, R-684, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, 교에샤 가가꾸(주) 제조 상품명: 라이트아크릴레이트 PE-4A, DPE-6A, DTMP-4A 등을 들 수 있다. 상기한 화합물은, 1종 단독으로 또는 2종 이상 조합하여 사용할 수 있다.As a commercial item of a polyfunctional (meth) acrylate compound, Sanwa Chemical Co., Ltd. brand name: Nikalak MX-302, Toagosei Co., Ltd. brand name: Aronix M-400, M-402, M-403, M- 404, M-408, M-450, M-305, M-309, M-310, M-313, M-315, M-320, M-325, M-326, M-327, M-350, M-360, M-208, M-210, M-215, M-220, M-225, M-233, M-240, M-245, M-260, M-270, M-1100, M- 1200, M-1210, M-1310, M-1600, M-221, M-203, TO-924, TO-1270, TO-1231, TO-595, TO-756, TO-1343, TO-1382, TO-902, TO-904, TO-905, TO-1330, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. Brand Name: KAYARAD D-310, D-330, DPHA, DPCA-20, DPCA-30, DPCA-60, DPCA- 120, DN-0075, DN-2475, SR-295, SR-355, SR-399E, SR-494, SR-9041, SR-368, SR-415, SR-444, SR-454, SR-492, SR-499, SR-502, SR-9020, SR-9035, SR-111, SR-212, SR-213, SR-230, SR-259, SR-268, SR-272, SR-344, SR- 349, SR-368, SR-601, SR-602, SR-610, SR-9003, PET-30, T-1420, GPO-303, TC-120S, HDDA, NPGDA, TPGDA, PEG400DA, MANDA, HX- 220, HX-620, R-551, R-712, R-167, R-526, R-551, R-712 , R-604, R-684, TMPTA, THE-330, TPA-320, TPA-330, KS-HDDA, KS-TPGDA, KS-TMPTA, Kyoesha Chemical Co., Ltd. -4A, DPE-6A, DTMP-4A, etc. are mentioned. Said compound can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types.

본 발명에 사용되는 (E) 성분의 함유량은, 유기 용제를 제외한 조성물 전량을 100 질량%로 하여, 0 내지 30 질량%, 바람직하게는 0 내지 25 질량%의 범위 내이다. 0 내지 30 질량%의 범위 내이면, 경화막의 굴곡성, 컬링성의 향상을 기대할 수 있다.Content of (E) component used for this invention makes the composition whole quantity except the organic solvent 100 mass%, and is 0-30 mass%, Preferably it exists in the range of 0-25 mass%. If it exists in the range of 0-30 mass%, the improvement of the curvature and curling property of a cured film can be expected.

6. 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물을 결합시켜 이루어지는 금속 산화물 입자 (F)6. Metal oxide particle (F) formed by bonding organic compound which has a polymerizable unsaturated group

본 발명의 경화성 조성물에는, 발명의 효과를 손상시키지 않는 한도에서 중합성 불포화기를 갖는 유기 화합물을 결합시켜 이루어지는 금속 산화물 입자 (F)를 배합할 수도 있다. 금속 산화물 입자 (Fa)와, 중합성 불포화기를 포함하는 유기 화합물 (Fb)를 결합시켜 이루어지는 입자이다(이하, "반응성 입자"라고 함). 여기서, 결합이란 공유 결합일 수도 있고, 물리 흡착 등의 비공유 결합일 수도 있다.The metal oxide particle (F) formed by bonding the organic compound which has a polymerizable unsaturated group can be mix | blended with the curable composition of this invention as long as the effect of this invention is not impaired. It is a particle | grain formed by combining the metal oxide particle (Fa) and the organic compound (Fb) containing a polymerizable unsaturated group (henceforth "reactive particle"). Here, the bond may be a covalent bond or a non-covalent bond such as physical adsorption.

(1) 금속 산화물 입자 (Fa)(1) metal oxide particles (Fa)

본 발명에 사용되는 금속 산화물 입자 (Fa)는, 얻어지는 경화성 조성물의 경화 피막의 경도와 무색성의 관점에서, 규소, 알루미늄, 지르코늄, 티타늄, 아연, 게르마늄, 인듐, 주석, 안티몬 및 세륨으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1개 이상의 원소의 금속 산화물 입자인 것이 바람직하다.The metal oxide particles (Fa) used in the present invention are selected from the group consisting of silicon, aluminum, zirconium, titanium, zinc, germanium, indium, tin, antimony and cerium from the viewpoint of the hardness and colorlessness of the cured film of the curable composition obtained. It is preferred that they are metal oxide particles of at least one element selected.

이들 금속 산화물 입자 (Fa)로서는, 예를 들면 실리카, 알루미나, 지르코니아, 산화티탄, 산화아연, 산화게르마늄, 산화인듐, 산화주석, 안티몬 함유 산화주석(ATO), 주석 함유 산화인듐(ITO), 산화안티몬, 산화세륨 등의 입자를 들 수 있다. 이 중에서도 고경도의 관점에서 실리카, 알루미나, 지르코니아 및 산화안티몬의 입자가 바람직하고, 특히 지르코니아 입자가 바람직하다. 또한, 지르코늄이나 티타늄 등의 산화물 입자를 사용함으로써 고굴절률의 경화 피막을 얻을 수 있고, ATO 입자 등을 사용함으로써 경화 피막에 도전성을 부여할 수도 있다. 이들은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 나아가서는, 산화물 입자 (Fa)는 분체상 또는 분산액인 것이 바람직하다. 분산액인 경우, 다른 성분과의 상용성, 분산성의 관점에서 분산매는 유기 용제가 바람직하다. 이러한 유기 용제로서는, 예를 들면 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올, 옥탄올 등의 알코올류; 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 시클로헥사논 등의 케톤류; 아세트산에틸, 아세트산부틸, 락트산에틸, γ-부티로락톤, 프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, 프로필렌글리콜모노에틸에테르아세테이트 등의 에스테르류; 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 디에틸렌글리콜모노부틸에테르 등의 에테르류; 벤젠, 톨루엔, 크실렌 등의 방향족 탄화수소류; 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드, N-메틸피롤리돈 등의 아미드류를 들 수 있다. 이 중에서도 메탄올, 이소프로판올, 부탄올, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 톨루엔, 크실렌이 바람직하다.As these metal oxide particles (Fa), for example, silica, alumina, zirconia, titanium oxide, zinc oxide, germanium oxide, indium oxide, tin oxide, tin oxide-containing tin oxide (ATO), tin-containing indium oxide (ITO), and oxidation Particles, such as antimony and a cerium oxide, are mentioned. Among them, particles of silica, alumina, zirconia and antimony oxide are preferable, and zirconia particles are particularly preferable from the viewpoint of high hardness. Moreover, a high refractive index hardened film can be obtained by using oxide particles, such as zirconium and titanium, and electroconductivity can also be provided to a hardened film by using ATO particle | grains. These can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Furthermore, it is preferable that oxide particle (Fa) is powder form or a dispersion liquid. In the case of a dispersion liquid, an organic solvent is preferable from a viewpoint of compatibility with other components, and a dispersibility. As such an organic solvent, For example, Alcohol, such as methanol, ethanol, isopropanol, butanol, an octanol; Ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone; Esters such as ethyl acetate, butyl acetate, ethyl lactate, γ-butyrolactone, propylene glycol monomethyl ether acetate, and propylene glycol monoethyl ether acetate; Ethers such as ethylene glycol monomethyl ether and diethylene glycol monobutyl ether; Aromatic hydrocarbons such as benzene, toluene and xylene; Amides, such as dimethylformamide, dimethylacetamide, and N-methylpyrrolidone, are mentioned. Among these, methanol, isopropanol, butanol, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, ethyl acetate, butyl acetate, toluene and xylene are preferable.

금속 산화물 입자 (Fa)의 수 평균 입경은, 전자 현미경법에 의한 측정으로 0.001 ㎛ 내지 2 ㎛가 바람직하고, 0.001 ㎛ 내지 0.2 ㎛가 보다 바람직하고, 0.001 ㎛ 내지 0.1 ㎛가 특히 바람직하다. 수 평균 입경이 2 ㎛를 초과하면, 경화물로 했을 때의 투명성이 저하되거나, 피막으로 했을 때의 표면 상태가 악화되는 경향이 있다. 또한, 입자의 분산성을 개량하기 위해 각종 계면활성제나 아민류를 첨가할 수도 있다.The number average particle diameter of the metal oxide particles (Fa) is preferably 0.001 µm to 2 µm, more preferably 0.001 µm to 0.2 µm, particularly preferably 0.001 µm to 0.1 µm by measurement by electron microscopy. When a number average particle diameter exceeds 2 micrometers, there exists a tendency for the transparency at the time of using a hardened | cured material to fall, or the surface state at the time of using a film to deteriorate. Moreover, in order to improve the dispersibility of particle | grains, various surfactant and amines can also be added.

실리카 입자의 시판품으로서는, 예를 들면 콜로이달 실리카로서 닛산 가가꾸 고교(주) 제조 상품명: 메탄올실리카졸, IPA-ST, MEK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP, ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL 등을 들 수 있다. 또한, 분체 실리카로서는 닛본 에어로실(주) 제조 상품명: 에어로실 130, 에어로실 300, 에어로실 380, 에어로실 TT600, 에어로실 OX50, 아사히 글래스(주) 제조 상품명: 실덱스 H31, H32, H51, H52, H121, H122, 닛본 실리카 고교(주) 제조 상품명: E220A, E220, 후지 실리시아(주) 제조 상품명: SYLYSIA470, 닛본 시트 글래스(주) 제조 상품명: SG 플레이크 등을 들 수 있다.As a commercial item of a silica particle, Nissan Chemical Industries, Ltd. make is a colloidal silica, for example.The brand name: methanol silicazol, IPA-ST, MEK-ST, NBA-ST, XBA-ST, DMAC-ST, ST-UP , ST-OUP, ST-20, ST-40, ST-C, ST-N, ST-O, ST-50, ST-OL and the like. Moreover, as powder silica, Nippon Aerosil Co., Ltd. brand name: Aerosil 130, Aerosil 300, Aerosil 380, Aerosil TT600, Aerosil OX50, Asahi Glass Co., Ltd. brand name: Sealdex H31, H32, H51, H52, H121, H122, Nippon Silica Co., Ltd. brand name: E220A, E220, Fuji-Silicia Co., Ltd. brand name: SYLYSIA470, Nippon Sheet Glass Co., Ltd. brand name: SG flake, etc. are mentioned.

또한, 알루미나의 수분산품으로서는, 닛산 가가꾸 고교(주) 제조 상품명: 알루미나졸-100, -200, -520; 알루미나의 이소프로판올 분산품으로서는, 스미또모 오사까 시멘트(주) 제조 상품명: AS-150I; 알루미나의 톨루엔 분산품으로서는, 스미또모 오사까 시멘트(주) 제조 상품명: AS-150T; 지르코니아의 톨루엔 분산품으로서는, 스미또모 오사까 시멘트(주) 제조 상품명: HXU-110JC; 안티몬산아연 분말의 수 분산품으로서는, 닛산 가가꾸 고교(주) 제조 상품명: 셀낙스; 알루미나, 산화티탄, 산화주석, 산화인듐, 산화아연 등의 분말 및 용제 분산품으로서는, 씨아이 가세이 (주) 제조 상품명: 나노 테크; 안티몬 도핑 산화주석의 수분산졸로서는, 이시하라 산교(주) 제조 상품명: SN-100D; ITO 분말로서는, 미쯔비시 마테리알(주) 제조의 제품; 산화세륨 수분산액으로서는, 다끼 가가꾸(주) 제조 상품명: 니드랄 등을 들 수 있다.Moreover, as a water dispersion product of alumina, Nissan Chemical Industries, Ltd. brand name: Alumina sol-100, -200, -520; As an isopropanol dispersion product of alumina, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. brand name: AS-150I; As a toluene dispersion product of alumina, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. brand name: AS-150T; As a toluene dispersion of zirconia, Sumitomo Osaka Cement Co., Ltd. brand name: HXU-110JC; As a water dispersion product of the zinc antimonate powder, Nissan Chemical Industries, Ltd. make brand names: Celnax; Examples of powders and solvent dispersions such as alumina, titanium oxide, tin oxide, indium oxide, and zinc oxide are manufactured by Sea Kasei Co., Ltd. Product Name: Nano-Tech; As a water dispersion sol of antimony dope tin oxide, Ishihara Sangyo Co., Ltd. brand name: SN-100D; As ITO powder, the product of Mitsubishi Material Co., Ltd. product; As a cerium oxide aqueous dispersion, Taki Chemical Co., Ltd. brand name: Nydral etc. are mentioned.

금속 산화물 입자 (Fa)의 형상은 구상, 중공상, 다공질상, 막대 형상, 판상, 섬유상 또는 부정형상이고, 바람직하게는 구상이다. 금속 산화물 입자 (Aa)의 비표면적(질소를 사용한 BET 비표면적 측정법에 의해 측정)은, 바람직하게는 10 내지 1000 ㎡/g이고, 더욱 바람직하게는 100 내지 500 ㎡/g이다. 이들 금속 산화물 입자 (Fa)의 사용 형태는, 건조 상태의 분말, 또는 물 또는 유기 용제로 분산시킨 상태에서 사용할 수 있다. 예를 들면, 분산액으로서 당업계에 알려져 있는 미립자상의 금속 산화물 입자의 분산액을 직접 사용할 수 있다. 특히, 경화물이 우수한 투명성을 요구하는 용도에서는, 금속 산화물 입자의 분산액의 이용이 바람직하다.The shape of the metal oxide particles Fa is spherical, hollow, porous, rod-shaped, plate-like, fibrous or indefinite, preferably spherical. The specific surface area (measured by BET specific surface area measurement method using nitrogen) of a metal oxide particle (Aa) becomes like this. Preferably it is 10-1000 m <2> / g, More preferably, it is 100-500 m <2> / g. The use form of these metal oxide particles (Fa) can be used in the state which disperse | distributed to the dry powder, water, or the organic solvent. For example, a dispersion of fine metal oxide particles known in the art can be used directly as a dispersion. In particular, the use of the dispersion liquid of a metal oxide particle is preferable for the use which requires the transparency excellent in hardened | cured material.

(2) 유기 화합물 (Fb)(2) organic compound (Fb)

본 발명에 사용되는 유기 화합물 (Fb)는 중합성 불포화기를 갖는 화합물이고, 하기 화학식 4로 표시되는 기를 포함하는 유기 화합물인 것이 바람직하다. 또한, [-O-C(=O)-NH-]기를 포함하고, 추가로 [-O-C(=S)-NH-]기 및 [-S-C(=O)-NH-]기 중 1개 이상을 포함하는 것이 바람직하다. 또한, 이 유기 화합물 (Ab)는, 분자 내에 실라놀기를 갖는 화합물 또는 가수분해에 의해 실라놀기를 생성하는 화합물인 것이 바람직하다.The organic compound (Fb) used in the present invention is a compound having a polymerizable unsaturated group, and is preferably an organic compound containing a group represented by the following general formula (4). It also contains a [-OC (= O) -NH-] group, and further includes at least one of a [-OC (= S) -NH-] group and a [-SC (= O) -NH-] group. It is desirable to. Moreover, it is preferable that this organic compound (Ab) is a compound which has a silanol group in a molecule | numerator, or a compound which produces a silanol group by hydrolysis.

-A-C(=B)-NH- -A-C (= B) -NH-

[화학식 4 중, A는 NH, O(산소 원자) 또는 S(황 원자)를 나타내고, B는 O 또는 S를 나타냄][In Formula 4, A represents NH, O (oxygen atom) or S (sulfur atom), and B represents O or S.]

(i) 중합성 불포화기(i) polymerizable unsaturated groups

유기 화합물 (Fb)에 포함되는 중합성 불포화기로서는 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 프로페닐기, 부타디에닐기, 스티릴기, 에티닐기, 신나모일기, 말레에이트기, 아크릴아미드기를 적합한 예로서 들 수 있다.Although there is no restriction | limiting in particular as a polymerizable unsaturated group contained in an organic compound (Fb), For example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, propenyl group, butadienyl group, styryl group, ethynyl group, cinnamoyl group, A maleate group and an acrylamide group are mentioned as a suitable example.

이 중합성 불포화기는, 활성 라디칼종에 의해 부가 중합하는 구성 단위이다.This polymerizable unsaturated group is a structural unit which addition-polymerizes with active radical species.

(ii) 상기 화학식 4로 표시되는 기(ii) a group represented by the above formula (4)

특정 유기 화합물에 포함되는 상기 화학식 4로 표시되는 기 [-A-C(=B)-NH-]는, 구체적으로 [-O-C(=O)-NH-], [-O-C(=S)-NH-], [-S-C(=O)-NH-], [-NH-C(=O)-NH-], [-NH-C(=S)-NH-] 및 [-S-C(=S)-NH-]의 6종이다. 이들 기는, 1종 단독으로 또는 2종 이상을 조합하여 사용할 수 있다. 이 중에서도 열안정성의 관점에서, [-O-C(=O)-NH-]기와 [-O-C(=S)-NH-]기 및 [-S-C(=O)-NH-]기 중 하나 이상을 병용하는 것이 바람직하다.The group [-AC (= B) -NH-] represented by the formula (4) contained in the specific organic compound is specifically [-OC (= O) -NH-], [-OC (= S) -NH- ], [-SC (= O) -NH-], [-NH-C (= O) -NH-], [-NH-C (= S) -NH-], and [-SC (= S)- NH-] is 6 species. These groups can be used individually by 1 type or in combination of 2 or more types. Among them, at least one of [-OC (= O) -NH-] group, [-OC (= S) -NH-] group and [-SC (= O) -NH-] group is used in combination from the viewpoint of thermal stability. It is desirable to.

상기 화학식 4로 표시되는 기 [-A-C(=B)-NH-]는, 분자간에서 수소 결합에 의한 적합한 응집력을 발생시키고, 경화막으로 한 경우 우수한 기계적 강도, 기재와의 밀착성 및 내열성 등의 특성을 부여시키는 것이라고 생각된다.The group [-AC (= B) -NH-] represented by the above formula (4) generates suitable cohesive force due to hydrogen bonding between molecules, and when the cured film is used, characteristics such as excellent mechanical strength, adhesion to a substrate, and heat resistance It is thought to give.

(iii) 실라놀기 또는 가수분해에 의해 실라놀기를 생성하는 기(iii) silanol groups or groups that produce silanol groups by hydrolysis

유기 화합물 (Fb)는, 분자 내에 실라놀기를 갖는 화합물 또는 가수분해에 의해 실라놀기를 생성하는 화합물인 것이 바람직하다. 이러한 실라놀기를 생성하는 화합물로서는, 규소 원자에 알콕시기, 아릴옥시기, 아세톡시기, 아미노기, 할로겐 원자 등이 결합된 화합물을 들 수 있지만, 규소 원자에 알콕시기 또는 아릴옥시기가 결합된 화합물, 즉 알콕시실릴기 함유 화합물 또는 아릴옥시실릴기 함유 화합물이 바람직하다.It is preferable that an organic compound (Fb) is a compound which has a silanol group in a molecule | numerator, or a compound which produces a silanol group by hydrolysis. As a compound which produces | generates such a silanol group, The compound which the alkoxy group, the aryloxy group, the acetoxy group, the amino group, the halogen atom, etc. couple | bonded with the silicon atom is mentioned, The compound which the alkoxy group or the aryloxy group couple | bonded with the silicon atom, That is, an alkoxy silyl group containing compound or an aryloxy silyl group containing compound is preferable.

실라놀기 또는 실라놀기를 생성하는 화합물의 실라놀기 생성 부위는, 축합 반응 또는 가수분해에 이어서 발생하는 축합 반응에 의해, 산화물 입자 (Fa)와 결합하는 구성 단위이다.The silanol group generating site of the silanol group or the silanol group-producing compound is a structural unit bonded to the oxide particles (Fa) by a condensation reaction occurring after the condensation reaction or hydrolysis.

(iv) 바람직한 양태(iv) preferred embodiments

유기 화합물 (Fb)의 바람직한 구체예로서는, 예를 들면 하기 화학식 5로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As a preferable specific example of an organic compound (Fb), the compound represented by following formula (5) is mentioned, for example.

Figure 112008027287176-PCT00003
Figure 112008027287176-PCT00003

[화학식 5 중, R4, R5는 동일하거나 상이할 수 있고, 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 8의 알킬기 또는 아릴기이고, 예를 들면 메틸, 에틸, 프로필, 부틸, 옥틸, 페닐, 크실릴기 등을 들 수 있고, 여기서 j는 1 내지 3의 정수임]In Formula 5, R <4> , R <5> may be same or different and is a hydrogen atom or a C1-C8 alkyl group or an aryl group, For example, methyl, ethyl, propyl, butyl, octyl, phenyl, xylyl group Etc., wherein j is an integer of 1 to 3;

[(R4O)jR5 3 - jSi-]로 표시되는 기로서는, 예를 들면 트리메톡시실릴기, 트리에 톡시실릴기, 트리페녹시실릴기, 메틸디메톡시실릴기, 디메틸메톡시실릴기 등을 들 수 있다. 이러한 기 중, 트리메톡시실릴기 또는 트리에톡시실릴기 등이 바람직하다.Examples of the group represented by [(R 4 O) j R 5 3 - j Si-] include trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, triphenoxysilyl group, methyldimethoxysilyl group, dimethylmeth A oxysilyl group etc. are mentioned. Among these groups, trimethoxysilyl group, triethoxysilyl group, and the like are preferable.

R6은, 탄소수 1 내지 12의 지방족 또는 방향족 구조를 갖는 2가의 유기기이고, 쇄상, 분지상 또는 환상의 구조를 포함할 수도 있다. 구체예로서 메틸렌, 에틸렌, 프로필렌, 부틸렌, 헥사메틸렌, 시클로헥실렌, 페닐렌, 크실릴렌, 도데카메틸렌 등을 들 수 있다.R 6 is a divalent organic group having an aliphatic or aromatic structure having 1 to 12 carbon atoms, and may include a chain, branched or cyclic structure. Specific examples include methylene, ethylene, propylene, butylene, hexamethylene, cyclohexylene, phenylene, xylylene, dodecamethylene and the like.

R7은 2가의 유기기이고, 통상적으로 분자량 14 내지 1만, 바람직하게는 분자량 76 내지 500의 2가의 유기기 중에서 선택된다. 구체예로서 헥사메틸렌, 옥타메틸렌, 도데카메틸렌 등의 쇄상 폴리알킬렌기; 시클로헥실렌, 노르보르닐렌 등의 지환식 또는 다환식의 2가의 유기기; 페닐렌, 나프틸렌, 비페닐렌, 폴리페닐렌 등의 2가의 방향족기; 및 이들의 알킬기 치환체, 아릴기 치환체를 들 수 있다. 또한, 이들 2가의 유기기는 탄소 및 수소 원자 이외의 원소를 포함하는 원자단을 포함할 수도 있고, 폴리에테르 결합, 폴리에스테르 결합, 폴리아미드 결합, 폴리카르보네이트 결합을 포함할 수도 있다.R 7 is a divalent organic group and is usually selected from divalent organic groups having a molecular weight of 14 to 10,000, preferably a molecular weight of 76 to 500. As a specific example, Chain polyalkylene groups, such as hexamethylene, octamethylene, and dodecamethylene; Alicyclic or polycyclic divalent organic groups such as cyclohexylene and norbornylene; Divalent aromatic groups such as phenylene, naphthylene, biphenylene and polyphenylene; And alkyl group substituents and aryl group substituents thereof. Moreover, these divalent organic groups may contain the atomic group containing elements other than carbon and a hydrogen atom, and may also contain a polyether bond, a polyester bond, a polyamide bond, and a polycarbonate bond.

R8은 (k+1)가의 유기기이고, 바람직하게는 쇄상, 분지상 또는 환상의 포화 탄화수소기, 불포화 탄화수소기 중에서 선택된다.R 8 is a (k + 1) valent organic group, and is preferably selected from a chain, branched or cyclic saturated hydrocarbon group and unsaturated hydrocarbon group.

Z는 활성 라디칼종의 존재하에, 분자간 가교 반응하는 중합성 불포화기를 분자 중에 갖는 1가의 유기기를 나타낸다. 또한, k는 바람직하게는 1 내지 20의 정 수이고, 더욱 바람직하게는 1 내지 10의 정수, 특히 바람직하게는 1 내지 5의 정수이다.Z represents monovalent organic group which has a polymerizable unsaturated group which intermolecular crosslinking-reacts in a molecule | numerator in presence of an active radical species. In addition, k is preferably an integer of 1 to 20, more preferably an integer of 1 to 10, particularly preferably an integer of 1 to 5.

화학식 5로 표시되는 화합물의 구체예로서, 하기 화학식 6 또는 7로 표시되는 화합물을 들 수 있다.As a specific example of the compound represented by General formula (5), the compound represented by following General formula (6) or 7 is mentioned.

Figure 112008027287176-PCT00004
Figure 112008027287176-PCT00004

Figure 112008027287176-PCT00005
Figure 112008027287176-PCT00005

[화학식 6 및 7 중, "Acryl"은 아크릴로일기를 나타냄][In Formula 6 and 7, "Acryl" represents an acryloyl group.]

본 발명에서 사용되는 유기 화합물 (Fb)의 합성은, 예를 들면 일본 특허 공개 (평)9-100111호 공보에 기재된 방법을 이용할 수 있다. 바람직하게는, 머캅토프로필트리메톡시실란과 이소포론디이소시아네이트를 디부틸주석디라우레이트의 존재하에 혼합하여, 60 내지 70 ℃에서 수 시간 정도 반응시킨 후, 펜타에리트리톨트리 아크릴레이트를 첨가하고, 추가로 60 내지 70 ℃에서 수 시간 정도 반응시킴으로써 제조된다.The synthesis | combination of the organic compound (Fb) used by this invention can use the method of Unexamined-Japanese-Patent No. 9-100111, for example. Preferably, mercaptopropyltrimethoxysilane and isophorone diisocyanate are mixed in the presence of dibutyltin dilaurate, reacted for several hours at 60 to 70 캜, and then pentaerythritol triacrylate is added thereto. And further reacted at 60 to 70 ° C. for several hours.

(3) 반응성 입자 (F)(3) reactive particles (F)

실라놀기 또는 가수분해에 의해 실라놀기를 생성하는 기를 갖는 유기 화합물 (Fb)를 금속 산화물 입자 (Fa)와 혼합하고, 가수분해시켜 양자를 결합시킨다. 얻어지는 반응성 입자 (F) 중의 유기 중합체 성분, 즉 가수분해성 실란의 가수분해물 및 축합물의 비율은, 통상적으로 건조 분체를 공기 중에서 완전히 연소시킨 경우의 질량 감소%의 항량값으로서, 예를 들면 공기 중에서 실온으로부터 통상적으로 800 ℃까지의 열질량 분석에 의해 구할 수 있다.An organic compound (Fb) having a silanol group or a group which generates a silanol group by hydrolysis is mixed with the metal oxide particles (Fa), and hydrolyzed to bind both. The ratio of the organic polymer component, ie, the hydrolyzate and condensate of the hydrolyzable silane, in the obtained reactive particles (F) is usually a drag value of the mass reduction percentage when the dry powder is completely burned in air, for example, in room temperature in air. It can be calculated | required by the thermal mass spectrometry from 800 to 800 degreeC normally.

산화물 입자 (Fa)로의 유기 화합물 (Fb)의 결합량은, 반응성 입자 (F)(금속 산화물 입자 (Fa) 및 유기 화합물 (Fb)의 합계)를 100 질량%로 하여, 바람직하게는 0.01 질량% 이상이고, 더욱 바람직하게는 0.1 질량% 이상, 특히 바람직하게는 1 질량% 이상이다. 금속 산화물 입자 (Fa)에 결합된 유기 화합물 (Fb)의 결합량이 0.01 질량% 미만이면, 조성물 중에서의 반응성 입자 (F)의 분산성이 충분하지 않고, 얻어지는 경화물의 투명성, 내찰상성이 충분하지 않게 되는 경우가 있다. 또한, 반응성 입자 (F) 제조시의 원료 중의 금속 산화물 입자 (Fa)의 배합 비율은, 바람직하게는 5 내지 99 질량%이고, 더욱 바람직하게는 10 내지 98 질량%이다.The amount of the organic compound (Fb) bonded to the oxide particles (Fa) is 100% by mass of the reactive particles (F) (the sum of the metal oxide particles (Fa) and the organic compound (Fb)), preferably 0.01% by mass It is more than 0.1 mass%, More preferably, it is 1 mass% or more. When the amount of the organic compound (Fb) bonded to the metal oxide particles (Fa) is less than 0.01% by mass, the dispersibility of the reactive particles (F) in the composition is not sufficient, and the transparency and the scratch resistance of the cured product obtained are not sufficient. It may become. Moreover, the compounding ratio of the metal oxide particle (Fa) in the raw material at the time of manufacture of a reactive particle | grain (F) becomes like this. Preferably it is 5-99 mass%, More preferably, it is 10-98 mass%.

반응성 입자 (F)의 경화성 조성물 중에서의 배합(함유)량은, 유기 용제를 제외한 조성물 전량을 100 질량%로 하여, 30 내지 80 질량%의 범위 내일 필요가 있고, 40 내지 60 질량%의 범위인 것이 바람직하다. 30 질량% 미만이면 경화막의 경도가 불충분하거나, 또는 고굴절률인 것이 얻어지지 않는 경우가 있다. 80 질량%를 초과하면, 성막성이 불충분해지는 경우가 있다. 이 경우, 반응성 입자 (A)를 구성하는 산화물 입자 (Fa)의 함유량은, 반응성 입자 (F)의 65 내지 95 질량%인 것이 바람직하다. 또한, 반응성 입자 (F)의 양은 고형분을 의미하고, 반응성 입자 (F)가 분산액의 형태로 사용될 때에는, 그 배합량에 분산매의 양을 포함하지 않는다.The compounding (containing) content of the curable composition (F) in the curable composition is required to be in the range of 30 to 80 mass%, with the total amount of the composition excluding the organic solvent being 100 mass%, which is in the range of 40 to 60 mass%. It is preferable. If it is less than 30 mass%, the hardness of a cured film may be inadequate or the thing of high refractive index may not be obtained. When it exceeds 80 mass%, film formability may become inadequate. In this case, it is preferable that content of the oxide particle (Fa) which comprises a reactive particle (A) is 65-95 mass% of reactive particle (F). In addition, the quantity of reactive particle | grains (F) means solid content, and when reactive particle | grains (F) are used in the form of a dispersion liquid, the quantity of a dispersion medium is not included in the compounding quantity.

7. 기타 성분7. Other Ingredients

본 발명의 경화성 조성물에는, 본 발명의 효과를 손상시키지 않는 한, 필요에 따라 광증감제, 중합 금지제, 중합 개시 보조제, 레벨링제, 습윤성 개량제, 계면활성제, 가소제, 자외선 흡수제, 산화 방지제, 대전 방지제, 무기 충전제, 안료, 염료 등을 적절하게 배합할 수 있다.In the curable composition of this invention, as long as the effect of this invention is not impaired, a photosensitizer, a polymerization inhibitor, a polymerization start adjuvant, a leveling agent, a wettability improving agent, surfactant, a plasticizer, a ultraviolet absorber, antioxidant, an electrification charge An inhibitor, an inorganic filler, a pigment, dye, etc. can be mix | blended suitably.

8. 조성물의 제조 방법8. Preparation of Composition

본 발명의 경화성 조성물은, 다음과 같이 하여 제조할 수 있다.The curable composition of this invention can be manufactured as follows.

상기 (A), (B), (C) 및 (D) 성분에 필요에 따라 (E) 성분, (F) 성분, 기타 성분을 교반기 장착 반응 용기에 넣어 35 ℃ 내지 45 ℃에서 1 내지 2 시간 동안 교반하여 본 발명의 경화성 조성물로 한다.(E) component, (F) component, and other components were added to said (A), (B), (C), and (D) component as needed in the reaction container with agitator for 1 to 2 hours at 35 degreeC-45 degreeC It is stirred for a curable composition of the present invention.

9. 조성물의 도포(코팅) 방법9. Method of Application (Coating) of Composition

본 발명의 경화성 조성물은, 기재 위에 도포하고, 바람직하게는 (D) 용제를 휘발시킨 후, 경화시켜 하드 코팅막으로 한다. 본 발명의 경화성 조성물은, 반사 방지막이나 피복재의 용도에 바람직하고, 반사 방지나 피복의 대상이 되는 기재로서는, 예를 들면 폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 트리아세틸셀룰로오스(이하, "TAC"라고 함), ABS 수지, AS 수지, 노르보르넨계 수지 등을 들 수 있다. 이들 기재의 형상은 판상, 필름상 또는 3차원 성형체일 수도 있고, 코팅 방법은 통상적인 코팅 방법, 예를 들면 침지 코팅, 분무 코팅, 플로우 코팅, 샤워 코팅, 롤 코팅, 스핀 코팅, 쇄모 도포 등을 들 수 있다. 이들 코팅에 의한 도막의 두께는, 건조, 경화 후 통상적으로 0.1 내지 400 ㎛이고, 바람직하게는 1 내지 200 ㎛이다.The curable composition of this invention is apply | coated on a base material, Preferably, after volatilizing the (D) solvent, it hardens | cures and it is set as a hard coat film. The curable composition of this invention is suitable for the use of an antireflection film and a coating material, and as a base material which is an object of reflection prevention and a coating, for example, polycarbonate, polymethyl methacrylate, polystyrene, an epoxy resin, a melamine resin, Triacetyl cellulose (hereinafter referred to as "TAC"), ABS resin, AS resin, norbornene-based resin, and the like. The shape of these substrates may be plate-like, film-like or three-dimensional shaped bodies, and the coating method may be a conventional coating method such as dip coating, spray coating, flow coating, shower coating, roll coating, spin coating, hair coating, or the like. Can be mentioned. The thickness of the coating film by these coatings is 0.1-400 micrometers normally after drying and hardening, Preferably it is 1-200 micrometers.

10. 조성물의 경화 방법10. Curing method of the composition

본 발명의 경화성 조성물은 방사선(광), 추가로 필요에 따라 열에 의해 경화시킬 수 있다. 방사선(광)에 의한 경우, 그 선원으로서는 조성물을 코팅 후 단시간에 경화시킬 수 있는 것인 한 특별히 제한은 없지만, 예를 들면 적외선의 선원으로서 램프, 저항 가열판, 레이저 등을, 가시광선의 선원으로서 일광, 램프, 형광등, 레이저 등을, 자외선의 선원으로서 수은 램프, 할라이드 램프, 레이저 등을, 전자선의 선원으로서 시판되어 있는 텅스텐 필라멘트로부터 발생하는 열전자를 이용하는 방식, 금속에 고전압 펄스를 통해 발생시키는 냉음극 방식 및 이온화한 가스상 분자와 금속 전극의 충돌에 의해 발생하는 2차 전자를 이용하는 2차 전자 방식을 들 수 있다. 또한, 알파선, 베타선 및 감마선의 선원으로서, 예를 들면 60Co 등의 핵 분열 물질을 들 수 있고, 감마선에 대해서는 가속 전자를 양극에 충돌시키는 진공관 등을 이용할 수 있다. 이들 방사선은 1종 단독으로 또는 2종 이상을 동시에 또는 일정 기간을 두고 조사할 수 있다. 또한, 열에 의한 경우 그 열원으로서는, 예를 들면 전기 히터, 적외선 램프, 열풍 등을 사용할 수 있다.The curable composition of the present invention can be cured by radiation (light) and, if necessary, by heat. In the case of radiation (light), the source is not particularly limited as long as the composition can be cured in a short time after coating. For example, a lamp, a resistance heating plate, a laser, or the like is used as a source of visible light as a source of visible light. Lamps, fluorescent lamps, lasers, etc. Mercury lamps, halide lamps, lasers, etc., as a source of ultraviolet rays, using a hot electron generated from a commercially available tungsten filament as a source of electron beams, cold cathode And a secondary electron system using secondary electrons generated by collision of the ionized gas phase molecules with the metal electrode. As the source of alpha rays, beta rays, and gamma rays, for example, fission materials such as 60 Co may be mentioned. For gamma rays, a vacuum tube may be used to impinge the accelerator electrons to the anode. These radiations can be irradiated alone or in combination of two or more thereof over a period of time. In the case of heat, for example, an electric heater, an infrared lamp, hot air, or the like can be used.

본 발명의 경화성 조성물의 경화 반응은 공기 분위기하에서도, 질소 등의 혐 기적(嫌氣的) 조건하에서도 행할 수 있고, 혐기적 조건하에서 경화시킨 경우에도 그 경화물은 우수한 내찰상성을 갖는다.The curing reaction of the curable composition of the present invention can be performed even under an air atmosphere or under anaerobic conditions such as nitrogen, and the cured product has excellent scratch resistance even when cured under anaerobic conditions.

II. 하드 코팅막II. Hard coating film

본 발명의 하드 코팅막은 상기 경화성 조성물을 다양한 기재에 도포하고, 바람직하게는 (D) 용제를 휘발시킨 후, 경화시켜 얻을 수 있다. 구체적으로는 경화성 조성물을 코팅하고, 바람직하게는 0 내지 200 ℃에서 휘발 성분을 건조시킨 후, 상술한 방사선(광), 추가로 필요에 따라 열로 경화 처리를 행함으로써 피복 성형체로서 얻을 수 있다. 방사선에 의한 경우, 자외선 또는 전자선을 사용하는 것이 바람직하다. 이와 같은 경우, 바람직한 자외선의 조사 광량은 0.01 내지 10 J/㎠이고, 보다 바람직하게는 0.1 내지 2 J/㎠이다. 또한, 바람직한 전자선의 조사 조건은, 가압 전압은 10 내지 300 KV, 전자 밀도는 0.02 내지 0.30 mA/㎠이고, 전자선 조사량은 1 내지 10 Mrad이다. 열에 의한 경우의 바람직한 경화 조건은 20 내지 150 ℃이고, 10초 내지 24 시간의 범위 내에서 행해진다.The hard coat film of this invention can apply | coat the said curable composition to various base materials, Preferably, after volatilizing the (D) solvent, it can obtain it by hardening | curing. Specifically, after coating a curable composition, and drying a volatile component at 0-200 degreeC preferably, it can obtain as a coating molding by performing hardening treatment with the above-mentioned radiation (light) and further heat as needed. In the case of radiation, it is preferable to use ultraviolet rays or electron beams. In such a case, preferable irradiation light quantity of ultraviolet-ray is 0.01-10 J / cm <2>, More preferably, it is 0.1-2 J / cm <2>. Moreover, the irradiation conditions of a preferable electron beam are 10-300 KV of pressurized voltages, 0.02-0.30 mA / cm <2> of electron densities, and the electron beam irradiation amount is 1-10 Mrad. Preferable hardening conditions in the case of heat are 20-150 degreeC, and it is performed in 10 second-24 hours.

본 발명의 경화층은 고경도이고, 내찰상성 및 기재나 저굴절률층 등의 인접층과의 밀착성이 우수한 도막(피막)을 형성할 수 있다는 특징을 갖기 때문에, 필름형 액정 소자, 터치 패널, 플라스틱 광학 부품 등의 반사 방지막 등에 특히 바람직하게 사용된다.Since the cured layer of the present invention has high hardness and has a feature of forming a coating film (film) having excellent scratch resistance and adhesion to adjacent layers such as a substrate and a low refractive index layer, a film type liquid crystal element, a touch panel, and a plastic It is especially preferably used for antireflection films such as optical parts.

III. 적층체III. Laminate

본 발명의 경화층은, 통상적으로 하드 코팅층으로서 기재 위에 적층되어 사용되는 것이며, 추가로 그 위에 고굴절률층, 저굴절률층을 적층함으로써, 반사 방 지막으로서 바람직한 적층체를 형성할 수 있다. 반사 방지막은 이들 이외의 층을 추가로 가질 수도 있으며, 예를 들면 고굴절률막과 저굴절률막의 조합을 복수개 구비하여 넓은 파장 범위의 빛에 대하여 비교적 균일한 반사율 특성을 갖는 소위 와이드 밴드의 반사 방지막으로 할 수도 있고, 대전 방지층을 구비할 수도 있다.The cured layer of the present invention is usually used by being laminated on a substrate as a hard coating layer, and further, by laminating a high refractive index layer and a low refractive index layer thereon, a laminate suitable as a reflection preventing film can be formed. The anti-reflection film may further have layers other than these, for example, a so-called wide band anti-reflection film having a plurality of combinations of a high refractive index film and a low refractive index film and having a relatively uniform reflectance property with respect to light of a wide wavelength range. The antistatic layer may be provided.

기재로서는 특별히 제한은 없지만, 반사 방지막으로서 사용하는 경우에는, 예를 들면 상술한 플라스틱(폴리카르보네이트, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리스티렌, 폴리에스테르, 폴리올레핀, 에폭시 수지, 멜라민 수지, 트리아세틸셀룰로오스(TAC) 수지, ABS 수지, AS 수지, 노르보르넨계 수지 등) 등을 들 수 있다.Although there is no restriction | limiting in particular as a base material, When using as an anti-reflective film, For example, the above-mentioned plastics (polycarbonate, polymethylmethacrylate, polystyrene, polyester, polyolefin, epoxy resin, melamine resin, triacetyl cellulose ( TAC) resin, ABS resin, AS resin, norbornene-type resin, etc.) are mentioned.

본 발명의 적층체에 사용되는 고굴절률의 막으로서는, 예를 들면 굴절률이 1.65 내지 2.20인 지르코니아 입자 등의 금속 산화물 입자를 함유하는 코팅재 경화막 등을 들 수 있다.As a high refractive index film used for the laminated body of this invention, the coating material cured film containing metal oxide particles, such as a zirconia particle whose refractive index is 1.65-2.20, etc. are mentioned, for example.

본 발명의 적층체에 사용되는 저굴절률의 막으로서는, 예를 들면 굴절률이 1.38 내지 1.45인 불화마그네슘, 이산화규소 등의 금속 산화물막, 불소계 코팅재 경화막 등을 들 수 있다.Examples of the low refractive index film used in the laminate of the present invention include metal oxide films such as magnesium fluoride and silicon dioxide having a refractive index of 1.38 to 1.45, cured films of fluorine-based coating materials, and the like.

상기 본 발명의 경화성 조성물을 기재 위에 도포하고, UV 경화시켜 얻어진 본 발명의 경화물은, 컬링이 감소되고, 굴곡성, 헤이즈가 우수하고, 고경도이다.The cured product of the present invention obtained by applying the curable composition of the present invention on a substrate and UV cured has reduced curling, excellent flexibility, haze, and high hardness.

상기 경화성 조성물을 경화시켜 이루어지는 고굴절률의 경화막 위에 저굴절률의 막을 형성하는 방법으로서는, 예를 들면 금속 산화물막의 경우에는, 진공 증착이나 스퍼터링 등을 들 수 있고, 불소계 코팅재 경화막의 경우에는, 상술한 조성물의 도포(코팅) 방법과 동일한 방법을 들 수 있다.As a method of forming a low refractive index film on the high refractive index cured film formed by hardening the said curable composition, for example, in the case of a metal oxide film, vacuum deposition, sputtering, etc. are mentioned, In the case of a fluorine-type coating material cured film, it mentioned above The same method as the coating (coating) method of a composition is mentioned.

이와 같이 상기 고굴절률의 경화막과 저굴절률의 막을 기재 위에 적층함으로써, 기재 표면에서의 빛의 반사를 유효하게 방지할 수 있다.Thus, by laminating | stacking the said high refractive index cured film and the low refractive index film on a base material, reflection of the light on the surface of a base material can be effectively prevented.

본 발명의 적층체는 내찰상성이 우수하고, 저반사율을 가짐과 동시에 내약품성이 우수하기 때문에, 필름형 액정 소자, 터치 패널, 플라스틱 광학 부품 등의 반사 방지막으로서 특히 바람직하게 사용된다.Since the laminated body of this invention is excellent in scratch resistance, low reflectance, and excellent chemical-resistance, it is especially preferably used as an anti-reflective film, such as a film type liquid crystal element, a touch panel, a plastic optical component.

이하, 본 발명의 실시예를 상세히 설명하지만, 본 발명의 범위는 이들 실시예의 기재로 한정되지 않는다. 또한, 실시예 중, 각 성분의 배합량은 특별히 기재가 없는 한, "부"는 질량부를, "%"는 질량%를 나타내고 있다.Hereinafter, although the Example of this invention is described in detail, the scope of the present invention is not limited to description of these Examples. In addition, in the Example, unless otherwise indicated, the compounding quantity of each component "part" has shown the mass part, and "%" has shown the mass%.

제조예 1: Preparation Example 1:

교반기가 장착된 용기 내의 2,4-톨릴렌디이소시아네이트 16부와, 디부틸주석디라우레이트 0.2부를 포함하는 용액에 대하여, 신나까무라 가가꾸 제조 NK 에스테르 A-TMM-3LM-N(반응에 관여하는 것은, 수산기를 갖는 펜타에리트리톨트리아크릴레이트만임) 93부를 10 ℃에서 1 시간의 조건으로 적하한 후, 60 ℃에서 6 시간의 조건으로 교반하여 반응액으로 하였다.NK ester A-TMM-3LM-N manufactured by Shin-Nakamura Chemical Co., Ltd. for a solution containing 16 parts of 2,4-tolylene diisocyanate and 0.2 part of dibutyltin dilaurate in a container equipped with a stirrer 93 parts of pentaerythritol triacrylate which has a hydroxyl group) was dripped at 10 degreeC on 1 hour conditions, and it stirred at 60 degreeC for 6 hours, and made it the reaction liquid.

이 반응액 중의 잔존 이소시아네이트량을 FT-IR로 측정한 바, 0.1 질량% 이하이고, 반응이 거의 정량적으로 행해졌다는 것을 확인하였다. 또한, 분자 내에 우레탄 결합 및 아크릴로일기(중합성 불포화기)를 포함한다는 것을 확인하였다.When the amount of remaining isocyanate in this reaction liquid was measured by FT-IR, it was 0.1 mass% or less, and it confirmed that reaction was performed almost quantitatively. In addition, it was confirmed that the molecule contains a urethane bond and acryloyl group (polymerizable unsaturated group).

이상으로부터, 상기 화학식 3으로 표시되는 화합물 72부와 펜타에리트리톨테트라아크릴레이트 37부가 얻어졌다.From the above, 72 parts of the compound represented by the formula (3) and 37 parts of pentaerythritol tetraacrylate were obtained.

실시예 1 내지 8 및 비교예 1 내지 4Examples 1-8 and Comparative Examples 1-4

자외선을 차폐한 교반기가 장착된 용기 중에 하기 표 1에 나타낸 각 성분을 첨가하고, 40 ℃에서 1 시간 동안 교반하여 균일한 조성물을 얻었다.Each component shown in following Table 1 was added to the container equipped with the stirrer which shielded the ultraviolet-ray, and it stirred at 40 degreeC for 1 hour, and obtained the uniform composition.

[평가용 적층체의 제조][Manufacture of laminated body for evaluation]

각 실시예 또는 비교예에서 얻어진 각 조성물을, 막 두께에 따른 와이어 바 코터(#12)를 장착한 코터를 사용하여 TAC 필름 위에 도공하고, 오븐 중 80 ℃에서 3분간의 조건으로 건조하여 도막을 형성하였다. 이어서, 대기 중 고압 수은 램프를 사용하여 0.3 J/㎠의 광조사 조건으로 도막을 자외선 경화시켜, 막 두께 6 ㎛의 하드 코팅층 부착 TAC 필름을 얻었다. 얻어진 하드 코팅층 부착 TAC 필름에 대하여, 하기 (1) 내지 (4)의 특성을 평가하였다.Each composition obtained by each Example or the comparative example was coated on TAC film using the coater equipped with the wire bar coater (# 12) according to film thickness, and it dried on the conditions of 3 minutes at 80 degreeC in oven, and coats the coating film. Formed. Subsequently, the coating film was ultraviolet-hardened on 0.3 J / cm <2> light irradiation conditions using the high pressure mercury lamp in air | atmosphere, and the TAC film with a hard-coat layer with a film thickness of 6 micrometers was obtained. About the obtained TAC film with a hard coat layer, the characteristic of following (1)-(4) was evaluated.

(1) 간섭 불균일(1) interference non-uniformity

하기 방법에 의해 반사율 프로파일을 측정하고, 그의 파상의 프로파일의 진폭의 크기(간섭 불균일)를 간섭 줄무늬의 지표로 하였다. 오쯔까 덴시(주) 제조 반사 분광 장치를 사용하여 경화물의 반사율 프로파일을 구하였다. 각 실시예 또는 비교예의 조성물을 사용하여 얻은 하드 코팅층 부착 TAC 필름의 반사율 프로파일의 파장 500 내지 700 ㎚의 범위에서의 진폭(이하, "진폭 x"라고 함)을, 비교예 1에 나타낸 조성물을 사용하여 얻은 하드 코팅층 부착 TAC 필름의 반사율 프로파일의 동상파장역에서의 진폭(이하, "진폭0"이라고 함)과 비교하여, 이하와 같이 간섭 불균일을 평가하였다.The reflectance profile was measured by the following method, and the magnitude | size (interference nonuniformity) of the amplitude of the wave-shaped profile was made into the index of interference fringe. The reflectance profile of the hardened | cured material was calculated | required using the Otsuka Denshi Co., Ltd. reflection spectrometer. Using the composition shown in Comparative Example 1, the amplitude (hereinafter referred to as "amplitude x") in the wavelength range of 500 to 700 nm of the reflectance profile of the TAC film with a hard coat layer obtained using the composition of each example or comparative example was used. The interference nonuniformity was evaluated as follows by comparing with the amplitude in the in-phase wavelength range (henceforth "amplitude 0 ") of the reflectance profile of the obtained TAC film with a hard coat layer.

진폭 x가 진폭0의 1/4배 미만인 경우를 "◎""◎" when amplitude x is less than 1/4 times amplitude 0

진폭 x가 진폭0의 1/4 내지 1/2배 미만인 경우를 "○""○" when amplitude x is less than 1/4 to 1/2 times amplitude 0

진폭 x가 진폭0의 1/2 내지 1배 미만인 경우를 "△""Δ" when amplitude x is less than 1/2 to 1 times amplitude 0

진폭 x가 진폭0의 1배 이상인 경우를 "×""×" when amplitude x is one or more times amplitude 0

(2) 연필 경도(2) pencil hardness

연필 경도 시험기를 사용하여, 하중 500 g의 조건으로 5회 긁고, 무상(無傷)이 4회 이상인 가장 단단한 연필심의 경도를 평가값으로 하였다.Using the pencil hardness tester, it scraped 5 times on the conditions of 500 g of loads, and made the hardness of the hardest pencil core which is four or more free of charge as an evaluation value.

(3) 밀착성(3) adhesion

기재 위에 제막한 경화막의 밀착성을 JIS K5400에서의 바둑판 눈금 셀로판 테이프 박리 시험에 준거하여, 1 ㎟, 합계 100개의 바둑판 눈금에서의 잔막률로 이하의 기준으로 밀착성을 평가하였다.The adhesiveness of the cured film formed into a film on the base material was evaluated based on the checkerboard scale cellophane tape peeling test in JISK5400 by the following reference | standards with the residual film ratio in 1 mm2 and a total of 100 checkerboard scales.

잔막률이 100 내지 90 %인 경우를 "○""○" when the residual film ratio is 100 to 90%

잔막률이 90 미만 내지 50 %인 경우를 "△""△" when the residual film ratio is less than 90 to 50%

잔막률이 50 미만 내지 0 %인 경우를 "×""X" when the residual film ratio is less than 50 to 0%

(4) 헤이즈(4) haze

스가 세이사꾸쇼(주) 제조 컬러 헤이즈미터를 사용하여, ASTM D1003에 따라 헤이즈값(%)을 측정하고, 기재 필름을 포함한 값으로서 평가하였다.Haze value (%) was measured according to ASTMD1003 using the Suga Seisakusho Co., Ltd. color haze meter, and it evaluated as the value containing a base film.

Figure 112008027287176-PCT00006
Figure 112008027287176-PCT00006

표 1 중에 기재된 시판품 등의 내용을 이하에 나타낸다.The contents of the commercial items described in Table 1 are shown below.

DPHA-40H: 하기 화학식 8로 표시되는 10 관능의 우레탄아크릴레이트; 닛본 가야꾸 고교(주) 제조DPHA-40H: 10-functional urethane acrylate represented by the following formula (8); Nippon Kayaku High School Co., Ltd.

Figure 112008027287176-PCT00007
Figure 112008027287176-PCT00007

Irgacure 184: 1-히드록시시클로헥실페닐케톤; 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈(주) 제조, Irgacure 184: 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone; Shiva Specialty Chemicals Co., Ltd.

Irgacure 907: 2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로파논-1; 시바ㆍ스페셜티ㆍ케미컬즈(주) 제조Irgacure 907: 2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropanone-1; Manufacture of Shiba Specialty Chemicals

표 1의 결과로부터 실시예의 경화막은 간섭 줄무늬가 적고, 연필 경도와 밀착성이 우수하고, 헤이즈가 작다는 것을 알 수 있었다.The result of Table 1 showed that the cured film of the Example had little interference fringe, was excellent in pencil hardness and adhesiveness, and had small haze.

이에 비해, 본 발명에서의 (B) 성분을 함유하지 않는 비교예 1 내지 3에서는, 간섭 줄무늬가 크다는 것을 알 수 있었다. 비교예 2 및 3에서는, (B) 성분 대신에 분자량이 290을 초과하는 에틸렌성 불포화기 함유 화합물을 배합하였지만, 결 과는 마찬가지이다. (B) 성분의 양이 많은 비교예 4에서는 간섭 줄무늬는 양호하지만, 헤이즈가 상승한다는 것을 알 수 있었다. 이와 같이, 실시예의 구성으로 함으로써, 고경도이며 간섭 줄무늬가 적고, 투명성이 높은 하드 코팅막이 최초로 얻어진다.On the other hand, in Comparative Examples 1-3 which do not contain the (B) component in this invention, it turned out that an interference fringe is large. In Comparative Examples 2 and 3, an ethylenically unsaturated group-containing compound having a molecular weight of more than 290 was blended in place of the component (B), but the results are the same. In Comparative Example 4, in which the amount of the component (B) was large, the interference fringes were good, but it was found that the haze increased. Thus, by setting it as the structure of an Example, a hard coating film with high hardness, few interference fringes, and high transparency is obtained for the first time.

또한, 참고로서, 상기 실시예 1에서 제조한 경화성 조성물을 사용한 평가용 적층체의 제조에서 광조사 조건을 0.15 J/㎠로 한 것 이외에는, 동일한 조작을 행하여 하드 코팅층 부착 TAC 필름을 얻었다. 상기 하드 코팅층 부착 TAC 필름을 에폭시 수지로 포매(包埋)하고, 필름면과 수직으로 마이크로톰으로 절단하여 박절편을 제조하였다. 50 ㎖의 밀폐 용기에 상기 박절편과 1 ㎣ 정도의 사산화오스뮴(OsO4)을 넣어 17 시간 동안 정치한 후, 상기 절편을 닛본 덴시(주) 제조 투과형 전자 현미경 EM-24015로 관찰하고, 동 전자 현미경에 장착된 서모 노런(주) 제조 에너지 분산형 X선 분석 장치 VANTAGE를 사용하여, 하드 코팅층과 기재의 경계면을 끼우고, 하드 코팅층의 내부로부터 기재의 내부까지를 상기 경계면에 대하여 수직 방향으로 0.3 ㎛씩 이동하면서, 상기 경계면으로부터의 각 거리에서의 오스뮴량을 측정하였다. 보다 상세하게는, 해당 각 거리마다 상기 경계면과 평행하게 전자선을 1.2 ㎛ 주사시켜 얻어진 원소 분석의 결과를 각 거리에서의 측정 결과로 하였다. 사산화오스뮴은 에틸렌성 불포화기에 부가되기 때문에, 에틸렌성 불포화기의 양의 지표가 된다. 그 결과를 도 1에 나타낸다. 오스뮴 원자의 원자%(검출된 원자(탄소, 산소, 오스뮴)의 수의 합계를 100 %로 했을 때의 오스뮴 원자의 비율) 는, 하드 코팅층과 기재의 강화면에 접하는 기재 내에서, 상기 경계면으로부터의 거리에 의존하여 실질적으로 연속 변화되고 있다. 오스뮴 원자의 원자%는, 해당 거리가 0.5 내지 0.6 ㎛에 걸쳐서 급감하였다. 즉, 하드 코팅층을 형성하기 위해 사용한 하드 코팅층용 수지 조성물의 구성 성분 중, 적어도 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물이 기재 내부에 침투하여, 그의 농도가 상기와 같이 실질적으로 연속하여 변화되는 영역을 형성하고 있다.In addition, except for setting light irradiation conditions to 0.15 J / cm <2> in manufacture of the laminated body for evaluation using the curable composition manufactured in the said Example 1, the same operation was performed and the TAC film with a hard coat layer was obtained. The TAC film with the hard coat layer was embedded with an epoxy resin, and cut into a microtome perpendicular to the film surface to prepare a thin section. After placing the thin slices and 1 s of osmium tetraoxide (OsO 4 ) in a 50 ml sealed container and allowing them to stand for 17 hours, the slices were observed with a transmission electron microscope EM-24015 manufactured by Nippon Denshi Co., Ltd. Using an energy dispersive X-ray analyzer VANTAGE manufactured by Thermo-Norlon Co., Ltd. mounted on an electron microscope, the interface between the hard coat layer and the substrate is sandwiched between the interior of the substrate and the interior of the substrate in the direction perpendicular to the interface. The amount of osmium at each distance from the said interface was measured, moving by 0.3 micrometer. In more detail, the result of elemental analysis obtained by scanning the electron beam by 1.2 micrometer in parallel with the said interface at each said distance was made into the measurement result in each distance. Since osmium tetraoxide is added to the ethylenically unsaturated group, it is an index of the amount of the ethylenically unsaturated group. The result is shown in FIG. The atomic percentage of osmium atoms (ratio of osmium atoms when the sum of the number of detected atoms (carbon, oxygen, osmium) is 100%) is obtained from the interface in contact with the hard coating layer and the reinforcement surface of the substrate. It is changing substantially continuously depending on the distance of. Atomic% of the osmium atom decreased sharply over the distance of 0.5 to 0.6 m. That is, among the constituents of the resin composition for hard coating layers used to form the hard coating layer, at least a compound having an ethylenically unsaturated group penetrates into the substrate and forms a region in which the concentration thereof is changed substantially continuously as described above. .

이상 설명한 바와 같이 본 발명의 경화성 조성물, 그의 경화물은, 예를 들면 플라스틱 광학 부품, 터치 패널, 필름형 액정 소자, 플라스틱 용기, 건축 내장재로서의 마루재, 벽재, 인공 대리석 등의 손상(찰상) 방지나 오염 방지를 위한 보호 코팅재; 필름형 액정 소자, 터치 패널, 플라스틱 광학 부품 등의 반사 방지막; 각종 기재의 접착제, 밀봉재; 인쇄 잉크의 결합제재 등으로서, 특히 반사 방지막으로서 바람직하게 사용할 수 있다.As described above, the curable composition of the present invention and the cured product thereof may be used to prevent damage (scratches) of plastic optical components, touch panels, film-type liquid crystal elements, plastic containers, flooring as building interior materials, wall materials, and artificial marble. Protective coatings to prevent contamination; Anti-reflection films such as a film type liquid crystal element, a touch panel and a plastic optical component; Adhesives and sealants of various substrates; Especially as a binder material of printing ink, it can use preferably as an anti-reflective film.

본 발명의 경화성 조성물, 그의 경화물은, 특히 반사 방지 필름, 터치 패널 등의 광학 필름용 하드 코팅, 광디스크용 하드 코팅으로서 유용하다.The curable composition of this invention and its hardened | cured material are especially useful as hard coating for optical films, such as an antireflection film and a touch panel, and hard coating for an optical disk.

Claims (5)

하기 (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여,Let the total amount of following (A), (B) and (C) component be 100 mass%, (A) 분자 내에 우레탄 결합 및 3 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물 60 내지 94 질량%, (A) 60-94 mass% of compounds which have a urethane bond and 3 or more ethylenically unsaturated group in a molecule, (B) 분자량이 290 이하인 에틸렌성 불포화기 함유 화합물 5 내지 35 질량%, 및(B) 5-35 mass% of ethylenically unsaturated group containing compounds whose molecular weight is 290 or less, and (C) 방사선 (광)중합 개시제 0.01 내지 20 질량%,(C) 0.01-20 mass% of radiation (photo) polymerization initiators, And (D) 아세톤, 메틸에틸케톤, 시클로헥사논, 아세트산메틸, 아세트산에틸, 락트산에틸, 염화메틸렌, 클로로포름 및 테트라히드로푸란으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 용제(D) at least one solvent selected from the group consisting of acetone, methyl ethyl ketone, cyclohexanone, methyl acetate, ethyl acetate, ethyl lactate, methylene chloride, chloroform and tetrahydrofuran 를 함유하는 하드 코팅막용 경화성 조성물.Curable composition for hard coating films containing these. 제1항에 있어서, 상기 (B) 성분이 (메트)아크릴로일모르폴린, N-비닐-2-피롤리돈, N-비닐-ε-카프로락탐 및 라우릴아크릴레이트로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상의 화합물을 함유하는 하드 코팅막용 경화성 조성물.The method of claim 1, wherein the component (B) is selected from the group consisting of (meth) acryloyl morpholine, N-vinyl-2-pyrrolidone, N-vinyl-ε-caprolactam, and lauryl acrylate. Curable composition for hard-coat films containing 1 or more types of compound. 제1항에 있어서, 상기 (A) 성분이 분자 내에 우레탄 결합 및 6 이상의 에틸렌성 불포화기를 갖는 화합물인 하드 코팅막용 경화성 조성물.The curable composition for a hard coat film according to claim 1, wherein the component (A) is a compound having a urethane bond and 6 or more ethylenically unsaturated groups in the molecule. 제1항에 있어서, 상기 (A), (B) 및 (C) 성분의 합계량을 100 질량%로 하여, 상기 (B) 성분의 함유량이 10 질량% 이상 20 질량% 미만인 하드 코팅막용 경화성 조성물.The curable composition for hard coating films according to claim 1, wherein the total amount of the components (A), (B) and (C) is 100 mass%, and the content of the component (B) is 10% by mass or more and less than 20% by mass. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 기재된 경화성 조성물을 경화시켜 얻어지는 하드 코팅막.The hard coat film obtained by hardening | curing the curable composition in any one of Claims 1-4.
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