KR20080046109A - Suspension board with circuit and producing method thereof - Google Patents

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KR20080046109A
KR20080046109A KR1020070118392A KR20070118392A KR20080046109A KR 20080046109 A KR20080046109 A KR 20080046109A KR 1020070118392 A KR1020070118392 A KR 1020070118392A KR 20070118392 A KR20070118392 A KR 20070118392A KR 20080046109 A KR20080046109 A KR 20080046109A
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노리유키 준이
가즈노리 문에
사자두르 라만 칸
도시키 나이토
유타카 아오키
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닛토덴코 가부시키가이샤
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  • Adjustment Of The Magnetic Head Position Track Following On Tapes (AREA)
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Abstract

A suspension board with a circuit and a producing method thereof are provided to form an optical waveguide used in an optical assist system with more space than a head slider on a base insulating layer or a cover insulating layer, thereby ensuring freedom in design and improving production efficiency. A suspension board with a circuit(1) comprises a metal supporting board(11), a base insulating layer formed on the metal supporting board, a conductive pattern(13) formed on the base insulating layer, a cover insulating layer formed on the base insulating layer to cover the conductive pattern, and an optical waveguide(19) formed on the base insulating layer or the cover insulating layer.

Description

회로부 서스펜션 기판 및 그의 제조방법{SUSPENSION BOARD WITH CIRCUIT AND PRODUCING METHOD THEREOF}Circuit part suspension substrate and its manufacturing method {SUSPENSION BOARD WITH CIRCUIT AND PRODUCING METHOD THEREOF}

관련출원과의 상호 관계Correlation with Related Applications

본 출원은, 2006년 11월 21일에 출원된 일본 특허 제2006-314149호 및 2007년 7월 31일에 출원된 일본 특허 제2007-199996호의 우선권을 주장하는 것으로, 그 개시 내용은, 그대로 본원에 혼입되는 것으로 한다.This application claims the priority of Japanese Patent No. 2006-314149 for which it applied on November 21, 2006, and Japanese Patent No. 2007-199996 for which it applied on July 31, 2007, The content of this application is applied here as it is. It shall be mixed in.

발명의 분야Field of invention

본 발명은, 회로부 서스펜션 기판 및 그의 제조방법, 구체적으로는 광 어시스트(assist)법이 채용되는 하드 디스크 드라이브 등에 탑재되는 회로부 서스펜션 기판 및 그의 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a circuit part suspension substrate and a method for manufacturing the same, specifically, a circuit part suspension substrate mounted on a hard disk drive or the like employing an optical assist method and a method for manufacturing the same.

관련 기술의 설명Description of the related technology

최근, 하드 디스크 등에 대한 자기(磁氣) 기록 방식으로서, 정보의 기록시에 있어서, 하드 디스크를 광 조사에 의해 가열하여, 그의 보자력(保磁力)을 저하시킨 상태로, 자기 헤드(head)에 의해 기록함으로써 정보를 작은 기록 자계에서 고밀도 로 기록할 수 있는 광 어시스트법(광 어시스트 자기 기록 방식)이 알려져 있다.Recently, as a magnetic recording method for a hard disk or the like, at the time of recording information, the hard disk is heated by light irradiation to reduce the coercive force to the magnetic head. The optical assist method (optical assist magnetic recording method) capable of recording information at a high density in a small recording magnetic field by recording by means of such recording is known.

예컨대, 광 어시스트법을 채용하는 광 어시스트 자기 기록 장치에서는, 헤드 슬라이더(head slider)의 측면에, 자기 재생 소자 및 자기 기록 소자(자기 헤드)와 광 도파로와 광원을 형성함으로써 자기 기록 재생 소자를 설치하고, 이 헤드 슬라이더를 서스펜션에 지지시키는 것이 제안되어 있다 (예컨대, 일본 특허공개 제2000-195002호 공보 참조.).For example, in the optical assist magnetic recording apparatus employing the optical assist method, the magnetic recording and reproducing element is provided on the side of the head slider by forming a magnetic reproducing element and a magnetic recording element (magnetic head), an optical waveguide and a light source. And it is proposed to support this head slider to a suspension (for example, refer Unexamined-Japanese-Patent No. 2000-195002.).

발명의 개요Summary of the Invention

그러나, 헤드 슬라이더는 소형화의 요구에 대응하도록, 비교적 작게 형성되어 있고, 더구나, 자기 헤드가 설치되어 있기 때문에, 그 이외의 부품을 설치하는 것은 스페이스적으로 곤란하다. 그 때문에, 광 어시스트법에 사용되는 광 도파로 및 광원을, 자기 헤드와 함께 헤드 슬라이더에 설치하고자 하면, 레이아웃 상의 제한을 받고, 제조에 손이 많이 가, 제조 비용이 증대한다고 하는 단점이 있다.However, the head slider is formed relatively small so as to meet the demand for miniaturization. Moreover, since the magnetic head is provided, it is difficult to provide other components. Therefore, if the optical waveguide and the light source used in the optical assist method are to be provided in the head slider together with the magnetic head, there are disadvantages in that the layout is restricted, the manufacturing costs are increased, and the manufacturing cost increases.

본 발명의 목적은, 광 어시스트법을 채용할 수 있으면서, 설계상의 자유를 확보할 수 있고, 제조 효율을 향상시킬 수 있음과 동시에, 제조 비용의 저감을 도모할 수 있는 회로부 서스펜션 기판 및 그의 제조방법을 제공하는 것에 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a circuit board suspension substrate and a method of manufacturing the same, which can secure the design freedom, improve the manufacturing efficiency, and reduce the manufacturing cost while employing the optical assist method. Is to provide.

본 발명의 회로부 서스펜션 기판은, 금속 지지 기판과, 상기 금속 지지 기판 상에 형성되는 베이스 절연층과, 상기 베이스 절연층 상에 형성되는 도체 패턴과, 상기 베이스 절연층 상에, 상기 도체 패턴을 피복하도록 형성되는 커버 절연층과, 광 도파로를 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.The circuit part suspension board | substrate of this invention coat | covers the said conductor pattern on a metal support substrate, the base insulation layer formed on the said metal support substrate, the conductor pattern formed on the said base insulation layer, and the said base insulation layer. The cover insulating layer formed so that it may be provided, and an optical waveguide may be provided.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판에서는, 상기 광 도파로가, 상기 베이스 절연층 또는 상기 커버 절연층 상에 설치되어 있는 것이 적합하다.Moreover, in the circuit part suspension board | substrate of this invention, it is suitable that the said optical waveguide is provided on the said base insulating layer or the said cover insulating layer.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판에서는, 상기 광 도파로는, 언더클래 드층과, 상기 언더클래드층 상에 형성되어 상기 언더클래드층보다도 굴절률이 높은 코어층과, 상기 언더클래드층 상에 상기 코어층을 피복하도록 형성되어, 상기 코어층보다도 굴절률이 낮은 오버클래드층을 구비하고, 상기 베이스 절연층이 상기 언더클래드층을 겸하고 있고, 상기 코어층이 상기 베이스 절연층 상에 형성되어 있고, 상기 커버 절연층이 상기 오버클래드층을 겸하고 있는 것이 적합하다.In the circuit part suspension substrate of the present invention, the optical waveguide includes an under cladding layer, a core layer formed on the under cladding layer, and having a higher refractive index than the under cladding layer, and the core layer on the under cladding layer. An over cladding layer having a refractive index lower than that of the core layer, the base insulating layer serving as the under cladding layer, the core layer being formed on the base insulating layer, and the cover insulating layer It is suitable to serve as the above-described over cladding layer.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판에서는, 또한 발광 소자를 갖추고 있고, 그 발광 소자가 상기 광 도파로와 광학적으로 접속되어 있는 것이 적합하다.Moreover, in the circuit part suspension board | substrate of this invention, it is suitable that the light emitting element is further provided and this light emitting element is optically connected with the said optical waveguide.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판에서는, 헤드 슬라이더를 탑재하기 위한 탑재부를 갖추고, 상기 탑재부의 근방에는, 상기 금속 지지 기판을 두께 방향으로 관통하는 개구부가 형성되어 있고, 상기 광 도파로는, 그의 일단(一端)이 상기 발광 소자와 접속되고, 그의 다른 단이 상기 개구부에 임하도록 형성되어 있는 것이 적합하다.In addition, in the circuit part suspension board | substrate of this invention, the mounting part for mounting a head slider is provided, The opening part which penetrates the said metal support substrate in the thickness direction is formed in the vicinity of the said mounting part, The said optical waveguide has one end ( It is preferable that the one end is connected to the light emitting element, and the other end thereof is formed to face the opening.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판에서는, 상기 광 도파로가 상기 도체 패턴이 연장되는 방향에 따라 배치되어 있고, 상기 발광 소자가 상기 금속 지지 기판의 길이 방향 한쪽 측에 배치되고, 상기 탑재부가 상기 금속 지지 기판의 길이 방향 다른 쪽 측에 배치되어 있는 것이 적합하다.Moreover, in the circuit part suspension board | substrate of this invention, the said optical waveguide is arrange | positioned according to the direction from which the said conductor pattern extends, the said light emitting element is arrange | positioned at the side of the longitudinal direction of the said metal support substrate, and the said mounting part supports the said metal It is suitable to arrange | position on the other side in the longitudinal direction of a board | substrate.

본 발명의 회로부 서스펜션 기판에서는, 광 어시스트법에 사용되는 광 도파로를, 헤드 슬라이더보다도 스페이스적으로 여유를 가져 형성할 수 있다. 그 때문 에, 설계상의 자유를 확보할 수 있고, 제조 효율을 향상시킬 수 있음과 동시에, 제조 비용의 저감을 도모할 수 있다.In the circuit part suspension board | substrate of this invention, the optical waveguide used for the optical assist method can be formed with a space margin rather than a head slider. Therefore, design freedom can be secured, manufacturing efficiency can be improved, and manufacturing cost can be reduced.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판의 제조방법은, 금속 지지 기판을 준비하여, 상기 금속 지지 기판 상에 형성되는 베이스 절연층과, 상기 베이스 절연층 상에 형성되는 도체 패턴과, 상기 베이스 절연층 상에 상기 도체 패턴을 피복하도록 형성되는 커버 절연층을 형성하는 공정과, 광 도파로를 상기 베이스 절연층 또는 상기 커버 절연층 상에 형성하는 공정과, 헤드 슬라이더를 탑재하기 위한 탑재부의 근방에, 상기 금속 지지 기판을 두께 방향으로 관통하는 개구부를 형성하는 공정과, 상기 베이스 절연층 및/또는 커버 절연층과 상기 광 도파로를, 상기 개구부측으로부터 상기 광 도파로의 단면이 상기 광 도파로가 연장되는 방향과 교차하도록 절삭하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하고 있다.In addition, a method of manufacturing a circuit part suspension substrate of the present invention includes a base insulating layer formed on a metal support substrate by preparing a metal support substrate, a conductor pattern formed on the base insulating layer, and the base insulating layer on the base insulating layer. Forming a cover insulating layer formed so as to cover the conductor pattern on the substrate; forming an optical waveguide on the base insulating layer or the cover insulating layer; and in the vicinity of a mounting portion for mounting a head slider, the metal Forming an opening that penetrates the support substrate in the thickness direction, and the base insulating layer and / or the cover insulating layer and the optical waveguide intersect a cross section of the optical waveguide from the opening side with a direction in which the optical waveguide extends. It is characterized by including a step of cutting so as to.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판의 제조방법은, 금속 지지 기판을 준비하는 공정과, 상기 금속 지지 기판 상에 언더클래드층을 겸하는 베이스 절연층을 형성하는 공정과, 상기 베이스 절연층 상에 도체 패턴을 형성하는 공정과, 상기 베이스 절연층 상에 상기 베이스 절연층보다도 굴절률이 높은 코어층을 형성하는 공정과, 상기 베이스 절연층 상에 상기 도체 패턴 및 상기 코어층을 피복하도록 오버클래드층을 겸하여, 상기 코어층보다도 굴절률이 낮은 커버 절연층을 형성하는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하고 있다.In addition, the method of manufacturing a circuit part suspension substrate of the present invention includes a step of preparing a metal support substrate, a step of forming a base insulating layer serving as an under cladding layer on the metal support substrate, and a conductor pattern on the base insulating layer. Forming a core layer having a higher refractive index than the base insulating layer on the base insulating layer, and an over cladding layer to cover the conductor pattern and the core layer on the base insulating layer, A step of forming a cover insulating layer having a lower refractive index than that of the core layer is provided.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판의 제조방법에 의하면, 광 어시스트법에 사용되는 광 도파로를, 헤드 슬라이더보다도 스페이스적으로 여유를 가져 베이 스 절연층 또는 커버 절연층 상에 형성할 수 있다. 그 때문에, 설계상의 자유를 확보할 수 있다. 더구나, 베이스 절연층 및/또는 커버 절연층과 광 도파로를, 개구부측으로부터 한번에 절삭하기 때문에, 광 도파로로부터 출사된 광을 원하는 위치로 향해서 확실히 조사시킬 수 있으므로, 간편하고 신속하게 제조할 수 있다. 그 때문에, 제조 효율을 향상시킬 수 있음과 동시에, 제조 비용의 저감을 도모할 수 있다.In addition, according to the manufacturing method of the circuit part suspension board | substrate of this invention, the optical waveguide used for the optical assist method can be formed on a base insulation layer or a cover insulation layer with a space margin rather than a head slider. Therefore, design freedom can be secured. In addition, since the base insulating layer and / or the cover insulating layer and the optical waveguide are cut at once from the opening side, the light emitted from the optical waveguide can be reliably irradiated toward the desired position, thereby making it easy and quick to manufacture. Therefore, manufacturing efficiency can be improved and manufacturing cost can be reduced.

또한, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판 및 그 제조방법에 있어서, 베이스 절연층이 언더클래드층을 겸하고, 커버 절연층이 오버클래드층을 겸하도록 형성하면, 회로부 서스펜션 기판의 박형화, 구성의 간략화 및 제조공수의 저감화를 도모할 수 있고, 제조 효율을 향상시켜, 비용의 저감화를 도모할 수 있다.In addition, in the circuit part suspension substrate and the manufacturing method of the present invention, when the base insulating layer serves as the under cladding layer and the cover insulating layer serves as the over cladding layer, the circuit part suspension substrate can be thinned, the structure can be simplified, and the manufacturing mandate Can be reduced, manufacturing efficiency can be improved, and cost can be reduced.

도 1은 본 발명의 회로부 서스펜션 기판의 1 실시 형태를 나타내는 평면도이고, 도 2는 도 1에 나타내는 회로부 서스펜션 기판에서의 광 도파로에 따르는 단면도이고, 도 3은 도 1에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 배선부에서의 길이 방향에 직교하는 방향(이하, 폭 방향이라고 한다.)에 따르는 단면도로서, 광 도파로가 베이스 절연층 상에 설치되는 형태의 단면도를 나타낸다. 한편, 도 1 및 도 2에 있어서, 베이스 절연층(12) 및 커버 절연층(14)은 생략하고 있다.1 is a plan view showing an embodiment of a circuit portion suspension substrate of the present invention, FIG. 2 is a cross-sectional view taken along an optical waveguide in the circuit portion suspension substrate shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a wiring portion of the circuit portion suspension substrate shown in FIG. 1. Sectional drawing of the form in which an optical waveguide is provided on a base insulating layer is shown as sectional drawing along the direction orthogonal to the longitudinal direction (in the following, a width direction). 1 and 2, the base insulating layer 12 and the cover insulating layer 14 are omitted.

도 1에 있어서, 이 회로부 서스펜션 기판(1)은, 하드 디스크 드라이브에서의 자기 헤드(28)(도 5 참조)를 실장하여, 그 자기 헤드(28)를, 자기 헤드(28)와 하드 디스크(26)(도 5 참조)가 상대적으로 주행할 때의 공기류에 저항하여, 하드 디스크(26)와의 사이에 미세한 간격을 유지하면서 지지하기 위한 금속 지지 기판(11)에, 외부 회로 기판(예컨대, 리드·라이트 기판 등)(2)과 자기 헤드(28)를 접속하기 위한 도체 패턴(13)이 일체적으로 형성되어 있다.1, this circuit part suspension board | substrate 1 mounts the magnetic head 28 (refer FIG. 5) in a hard disk drive, and attaches the magnetic head 28 to the magnetic head 28 and the hard disk ( The external circuit board (for example, to the metal support substrate 11 for supporting while maintaining a small space | interval with the hard disk 26 with respect to the airflow at the time 26 (refer FIG. 5) relatively travels. The conductor pattern 13 for connecting the lead light substrate) 2 and the magnetic head 28 is integrally formed.

이 회로부 서스펜션 기판(1)은, 길이 방향으로 연장되는 평띠상으로 형성되어 있고, 길이 방향 한쪽 측(이하, 후측이라고 한다.)에 배치되는 배선부(3)와, 배선부(3)의 길이 방향 다른 쪽 측(이하, 선측이라고 한다.)에 배치되는 짐벌(gimbal)부(4)를 일체적으로 구비하고 있다.The circuit part suspension board | substrate 1 is formed in the flat strip shape extended in the longitudinal direction, and is arrange | positioned at the wiring part 3 arrange | positioned at the one side (henceforth a rear side) in the longitudinal direction, and the length of the wiring part 3 The gimbal part 4 arrange | positioned at the other side of a direction (henceforth a ship side) is provided integrally.

배선부(3)는, 길이 방향으로 연장되는 평면시 대략 직사각형상으로 형성되어 있다.The wiring portion 3 is formed in a substantially rectangular shape in plan view extending in the longitudinal direction.

짐벌부(4)는, 배선부(3)의 선단에서 연속하여 형성되어, 배선부(3)에 대하여 폭 방향 양 외측에 팽출(膨出)하는 평면시 대략 직사각형상으로 형성되어 있다. 또한, 짐벌부(4)에는, 평면시에 있어서 선측으로 향하여 열리는 대략 U자상의 슬릿부(5)가 형성되어 있다. 또한, 짐벌부(4)는, 슬릿부(5)에 폭 방향에서 협지되는 탕부(6)와, 슬릿부(5)의 폭 방향 양 외측 및 탕부(6)의 선단측에 배치되는 아웃리거(outrigger)부(8)를 일체적으로 구비하고 있다.The gimbal part 4 is formed continuously in the front-end | tip of the wiring part 3, and is formed in substantially rectangular shape in planar view which expands with respect to the wiring part 3 in both width direction outer sides. Further, the gimbal portion 4 is formed with a substantially U-shaped slit portion 5 which opens toward the ship side in plan view. Moreover, the gimbal part 4 is the outrigger arrange | positioned at the both sides of the hot water part 6 clamped by the slit part 5 in the width direction, the outer side of the slit part 5, and the front end of the hot water part 6. The unit 8 is integrally provided.

탕부(6)는, 평면시 대략 직사각형상으로 형성되어 있고, 탑재부(9)와 단자 형성부(10)를 구비하고 있다.The hot water portion 6 is formed in a substantially rectangular shape in plan view, and has a mounting portion 9 and a terminal forming portion 10.

탑재부(9)는, 헤드 슬라이더(27)를 탑재하기 위한 영역으로서, 탕부(6)의 후측에 배치되어, 평면시 대략 직사각형상으로 형성되어 있다.The mounting portion 9 is an area for mounting the head slider 27 and is disposed at the rear side of the hot water portion 6 and is formed in a substantially rectangular shape in plan view.

단자 형성부(10)는, 후술하는 자기 헤드측 접속 단자부(17)가 형성되어 있는 영역으로서, 탑재부(9)의 선측에 배치되어 있다. 또한, 단자 형성부(10)에는, 평면시 대략 직사각형상의 개구부(7)가 형성되어 있다.The terminal formation part 10 is an area | region in which the magnetic head side connection terminal part 17 mentioned later is formed, and is arrange | positioned at the line side of the mounting part 9. In addition, the terminal formation part 10 is provided with the opening part 7 of substantially rectangular planar view.

개구부(7)는, 금속 지지 기판(11)을 두께 방향으로 관통하도록 평면시 대략 직사각형상으로 형성되어 있고, 탑재부(9)의 근방으로서, 단자 형성부(10)에 있어서의 폭 방향 중앙에 형성되어 있다.The opening part 7 is formed in substantially rectangular shape in planar view so that the metal support substrate 11 may penetrate in the thickness direction, and is formed in the width direction center in the terminal formation part 10 as the vicinity of the mounting part 9. It is.

도체 패턴(13)은, 외부측 접속 단자부(16)와, 자기 헤드측 접속 단자부(17)와, 이들 외부측 접속 단자부(16) 및 자기 헤드측 접속 단자부(17)를 접속하기 위한 신호 배선(15)을 일체적으로 연속하여 구비하고 있다.The conductor pattern 13 has signal wirings for connecting the external connection terminal portion 16, the magnetic head side connection terminal portion 17, and the external connection terminal portion 16 and the magnetic head side connection terminal portion 17 ( 15) integrally and continuously.

각 신호 배선(15)은, 회로부 서스펜션 기판(1)의 길이 방향에 따라 복수(4개) 설치되어, 폭 방향에서 서로 간격을 두어 병렬 배치되어 있다.Each signal wiring 15 is provided in plurality (four) along the longitudinal direction of the circuit part suspension board | substrate 1, and is arrange | positioned in parallel at intervals mutually in the width direction.

복수의 신호 배선(15)은, 제 1 배선(15a), 제 2 배선(15b), 제 3 배선(15c) 및 제 4 배선(15d)으로 형성되어 있고, 이들 제 1 배선(15a), 제 2 배선(15b), 제 3 배선(15c) 및 제 4 배선(15d)이 폭 방향 한쪽 측으로부터 폭 방향 다른 쪽 측으로 향하여 순차 배치되어 있다.The plurality of signal wirings 15 are formed of the first wiring 15a, the second wiring 15b, the third wiring 15c, and the fourth wiring 15d, and the first wiring 15a and the first wiring 15d are formed. The 2nd wiring 15b, the 3rd wiring 15c, and the 4th wiring 15d are arrange | positioned in order from one side of the width direction to the other side of the width direction.

보다 구체적으로는, 제 1 배선(15a), 제 2 배선(15b), 제 3 배선(15c) 및 제 4 배선(15d)은, 배선부(3)에 있어서, 서로 병행되어 연장되도록 형성되어 있다. 짐벌부(4)에 있어서, 제 1 배선(15a) 및 제 2 배선(15b)은, 폭 방향 한쪽 측의 아웃리거부(8)에 따르도록 배치되고, 제 3 배선(15c) 및 제 4 배선(15d)은, 폭 방향 다른 쪽 측의 아웃리거부(8)에 따르 도록 배치되어 있다. 제 1 배선(15a), 제 2 배선(15b), 제 3 배선(15c) 및 제 4 배선(15d)은, 선단측의 아웃리거부(8)에 이른 후, 폭 방향 내측으로 연장되어, 더욱이 후측으로 되돌려져, 자기 헤드측 접속 단자부(17)의 선단부에 이르도록 배치되어 있다.More specifically, the first wiring 15a, the second wiring 15b, the third wiring 15c and the fourth wiring 15d are formed to extend in parallel with each other in the wiring portion 3. . In the gimbal part 4, the 1st wiring 15a and the 2nd wiring 15b are arrange | positioned so that the outrigger part 8 of the width direction one side may be arrange | positioned, and the 3rd wiring 15c and the 4th wiring ( 15d) is disposed along the outrigger portion 8 on the other side in the width direction. After the 1st wiring 15a, the 2nd wiring 15b, the 3rd wiring 15c, and the 4th wiring 15d reach | attained the outrigger part 8 of the front end side, it extends inward in the width direction, and is further It is returned to the side and arrange | positioned so that it may reach the front-end | tip part of the magnetic head side connection terminal part 17. As shown in FIG.

한편, 제 1 배선(15a) 및 제 2 배선(15b)은, 배선부(3)에 있어서 후술하는 발광 소자(20)를 폭 방향 내측으로 우회하도록 배치되어 있다.On the other hand, the 1st wiring 15a and the 2nd wiring 15b are arrange | positioned so that the light-emitting element 20 mentioned later in the wiring part 3 may bypass the width direction inside.

외부측 접속 단자부(16)는 배선부(3)의 후단부에 배치되어, 각 배선(15)의 후단부가 각각 접속되도록 복수(4개) 설치되어 있다. 또한, 이 외부측 접속 단자부(16)는, 폭 방향으로 간격을 두고 배치되어 있다. 또한, 외부측 접속 단자부(16)는, 외부측 접속 단자부(16)에 접속하는 제 1 배선(15a), 제 2 배선(15b), 제 3 배선(15c) 및 제 4 배선(15d)에 대응하고, 제 1 외부측 접속 단자부(16a), 제 2 외부측 접속 단자부(16b), 제 3 외부측 접속 단자부(16c) 및 제 4 외부측 접속 단자부(16d)가, 폭 방향 한쪽 측으로부터 폭 방향 다른 쪽 측으로 향하여 순차적으로 배치되어 있다. 이 외부측 접속 단자부(16)에는, 파선으로 나타내는 외부 회로 기판(2)의 도시하지 않은 단자부가 접속된다.The outer connection terminal portions 16 are arranged at the rear ends of the wiring portions 3, and a plurality (four) are provided so that the rear ends of the wirings 15 are respectively connected. The outer connection terminal portions 16 are arranged at intervals in the width direction. Moreover, the outer side connection terminal part 16 respond | corresponds to the 1st wiring 15a, the 2nd wiring 15b, the 3rd wiring 15c, and the 4th wiring 15d connected to the outer side connecting terminal part 16. Moreover, as shown in FIG. The first external connection terminal portion 16a, the second external connection terminal portion 16b, the third external connection terminal portion 16c and the fourth external connection terminal portion 16d are in the width direction from one side in the width direction. It is arranged sequentially toward the other side. The outer side connecting terminal portion 16 is connected to a terminal portion (not shown) of the external circuit board 2 indicated by broken lines.

자기 헤드측 접속 단자부(17)는, 짐벌부(4)에 배치되고, 보다 구체적으로는 탕부(6)의 단자 형성부(10)의 후단부에 배치되어 있다. 자기 헤드측 접속 단자부(17)는, 각 신호 배선(15)의 선단부가 각각 접속되도록 복수(4개) 설치되어 있다.The magnetic head side connecting terminal portion 17 is disposed at the gimbal portion 4, and more specifically, is disposed at the rear end portion of the terminal forming portion 10 of the hot water portion 6. The magnetic head side connecting terminal portion 17 is provided with a plurality (four) so that the tip portions of the respective signal wires 15 are connected to each other.

보다 구체적으로는, 자기 헤드측 접속 단자부(17)는, 단자 형성부(10)의 후단 테두리(탑재부(9)의 선단 테두리)에 따르도록, 폭 방향에서 서로 간격을 두고 배치되어 있다. 또한, 자기 헤드측 접속 단자부(17)는, 이것에 접속하는 제 1 배선(15a), 제 2 배선(15b), 제 3 배선(15c) 및 제 4 배선(15d)에 대응하여, 제 1 자기 헤드측 접속 단자부(17a), 제 2 자기 헤드측 접속 단자부(17b), 제 3 자기 헤드측 접속 단자부(17c) 및 제 4 자기 헤드측 접속 단자부(17d)가 폭 방향 한쪽 측으로부터 폭 방향 다른 쪽 측으로 향하여 순차 배치되어 있다.More specifically, the magnetic head side connection terminal portions 17 are arranged at intervals from each other in the width direction so as to follow the trailing edge of the terminal forming portion 10 (the leading edge of the mounting portion 9). In addition, the magnetic head-side connection terminal portion 17 corresponds to the first wiring 15a, the second wiring 15b, the third wiring 15c, and the fourth wiring 15d to be connected to this. The head side connection terminal part 17a, the 2nd magnetic head side connection terminal part 17b, the 3rd magnetic head side connection terminal part 17c, and the 4th magnetic head side connection terminal part 17d are different from the width direction one side from the width direction one side. It is arrange | positioned toward the side one by one.

이 자기 헤드측 접속 단자부(17)에는, 자기 헤드(28)의 도시하지 않은 단자부가 접속된다.A terminal portion (not shown) of the magnetic head 28 is connected to the magnetic head side connecting terminal portion 17.

그리고, 이 회로부 서스펜션 기판(1)은, 도 3에 나타낸 바와 같이, 금속 지지 기판(11)과, 금속 지지 기판(11) 상에 형성되는 베이스 절연층(12)과, 베이스 절연층(12) 상에 형성되는 도체 패턴(13)과, 베이스 절연층(12) 상에 도체 패턴(13)을 피복하도록 형성되는 커버 절연층(14)을 구비하고 있다.As shown in FIG. 3, the circuit part suspension substrate 1 includes a metal support substrate 11, a base insulating layer 12 formed on the metal support substrate 11, and a base insulating layer 12. And a cover insulating layer 14 formed on the base insulating layer 12 so as to cover the conductor pattern 13.

금속 지지 기판(11)은, 도 1 및 도 3에 나타낸 바와 같이, 회로부 서스펜션 기판(1)의 외형 형상에 대응하여 형성되어 있다.The metal support substrate 11 is formed corresponding to the external shape of the circuit part suspension substrate 1, as shown to FIG. 1 and FIG.

베이스 절연층(12)은, 금속 지지 기판(11)의 주단 테두리가 노출하도록, 배선부(3) 및 짐벌부(4)에 있어서의 도체 패턴(13) 및 광 도파로(19)(후술)가 형성되는 위치에 대응하도록 형성되어 있다. 보다 구체적으로는, 베이스 절연층(12)은, 금속 지지 기판(11)보다 길이 방향 및 폭 방향이 약간 짧게 되는 평띠 상태로 형성되어 있다.The base insulating layer 12 has a conductor pattern 13 and an optical waveguide 19 (described later) in the wiring section 3 and the gimbal section 4 so that the peripheral edge of the metal support substrate 11 is exposed. It is formed to correspond to the position to be formed. More specifically, the base insulating layer 12 is formed in a flat band state in which the longitudinal direction and the width direction are slightly shorter than the metal support substrate 11.

도체 패턴(13)은, 배선부(3) 및 짐벌부(4)에 걸쳐 배치되어, 외부측 접속 단자부(16) 및 자기 헤드측 접속 단자부(17)와, 신호 배선(15)을 일체적으로 연속하 여 구비하는 배선 회로 패턴으로서 형성되어 있다.The conductor pattern 13 is arrange | positioned over the wiring part 3 and the gimbal part 4, and integrates the outer side connection terminal part 16, the magnetic head side connection terminal part 17, and the signal wiring 15 integrally. It is formed as a wiring circuit pattern provided continuously.

커버 절연층(14)은, 배선부(3) 및 짐벌부(4)에 걸쳐 배치되어, 신호 배선(15)이 형성되는 위치에 대응하도록 배치되어 있다. 커버 절연층(14)은, 외부측 접속 단자부(16) 및 자기 헤드측 접속 단자부(17)가 노출하여, 신호 배선(15)을 피복하도록 형성되어 있다. 또한, 커버 절연층(14)은, 베이스 절연층(12) 상에 있어서, 후술하는 광 도파로(19)가 형성되는 영역이 확보되도록 배치되어 있다.The cover insulation layer 14 is arrange | positioned over the wiring part 3 and the gimbal part 4, and is arrange | positioned so that it may correspond to the position in which the signal wiring 15 is formed. The cover insulation layer 14 is formed so that the outer side connection terminal part 16 and the magnetic head side connection terminal part 17 may be exposed and cover the signal wiring 15. In addition, the cover insulating layer 14 is arrange | positioned so that the area | region in which the optical waveguide 19 mentioned later is formed on the base insulating layer 12 is ensured.

그리고, 이 회로부 서스펜션 기판(1)은, 도 1에 나타낸 바와 같이, 광 어시스트법에 사용되는 광 어시스트부(18)를 갖추고 있다.And this circuit part suspension board | substrate 1 is equipped with the optical assist part 18 used for the optical assist method as shown in FIG.

광 어시스트부(18)는, 광 도파로(19)와 발광 소자(20)를 구비하고 있다.The optical assist portion 18 includes an optical waveguide 19 and a light emitting element 20.

광 도파로(19)는, 배선부(3) 및 짐벌부(4)에 걸쳐 배치되어, 도체 패턴(13)이 연장되는 방향에 따라 배치되어 있다.The optical waveguide 19 is disposed over the wiring portion 3 and the gimbal portion 4, and is disposed along the direction in which the conductor pattern 13 extends.

보다 구체적으로는, 광 도파로(19)는, 배선부(3)에 있어서, 폭 방향 한쪽 측, 즉 제 1 배선(15a)과 폭 방향 최외측에 간격을 두고 배치되어 있고, 제 1 배선(15a)과 병행하여 연장되도록 설치되어 있다. 또한, 광 도파로(19)는, 아웃리거부(8)에 있어서의 폭 방향 한쪽 측 및 선단측과 단자 형성부(10)에 있어서, 제 1 배선(15a)에 대한 제 2 배선(15b)의 반대측에 간격을 두고 배치되어, 제 1 배선(15a)과 병행하여 연장되도록 설치되어 있다. 즉, 광 도파로(19)는, 제 1 배선(15a)과 병행하여 연장되어, 선단측의 아웃리거부(8)에서 후측으로 되돌린 후, 짐벌부(4)의 폭 방향 중앙에 따라 연장되어, 개구부(7)에 이르도록 배치되어 있다.More specifically, the optical waveguide 19 is arranged in the wiring portion 3 at intervals on one side in the width direction, that is, on the first wiring 15a and the outermost side in the width direction, and the first wiring 15a. It is installed to extend in parallel with). In addition, the optical waveguide 19 has one side and the front end side in the outrigger portion 8 and the opposite side of the second wiring 15b to the first wiring 15a in the terminal forming portion 10. It is arrange | positioned at intervals and is provided so that it may extend in parallel with the 1st wiring 15a. That is, the optical waveguide 19 extends in parallel with the first wiring 15a, and returns to the rear side from the outrigger portion 8 on the front end side, and then extends along the width direction center of the gimbal portion 4, It is arrange | positioned so that it may reach the opening part 7.

또한, 광 도파로(19)는, 발광 소자(20)와 광학적으로 접속되어 있다. 보다 구체적으로는, 광 도파로(19)는, 그 후단이 발광 소자(20)와 접속됨과 동시에, 그 선단이 개구부(7)에 임하도록 형성되어 있다.The optical waveguide 19 is optically connected to the light emitting element 20. More specifically, the optical waveguide 19 is formed such that the rear end thereof is connected to the light emitting element 20 and the front end thereof faces the opening 7.

발광 소자(20)는, 광 도파로(19)에 광을 입사시키기 위한 광원으로서, 예컨대 전기에너지를 광에너지로 변환하여, 고에너지의 광을 출사하는 광원이다. 이 발광 소자(20)는, 금속 지지 기판(11)의 후단측에 배치되어 있고, 보다 구체적으로는, 배선부(3)의 후단측으로서, 외부측 접속 단자부(16)와 선단측에 간격을 두고 배치되어 있고, 신호 배선(15)(제 1 배선(15a))과 폭 방향 한쪽 측에 간격을 두고 배치되어 있다. 또한, 이 발광 소자(20)는 베이스 절연층(12) 상에 형성되어 있다.The light emitting element 20 is a light source for injecting light into the optical waveguide 19, for example, a light source that converts electrical energy into light energy and emits light of high energy. The light emitting element 20 is arranged on the rear end side of the metal support substrate 11, and more specifically, on the rear end side of the wiring portion 3, a gap is formed between the outer connection terminal portion 16 and the front end side. It arrange | positions, and is arrange | positioned at intervals in the signal wiring 15 (1st wiring 15a) and the width direction one side. This light emitting element 20 is formed on the base insulating layer 12.

또한, 이 발광 소자(20)에는, 발광 소자(20)에 전기에너지를 공급하기 위한 공급 배선(30)이 접속되어 있고, 이 공급 배선(30)에는, 외부 회로 기판(2)의 도시하지 않은 단자부와 접속시키기 위한 공급 단자부(31)가 접속되어 있다. 한편, 공급 배선(30)은, 발광 소자(20)의 후단측에서, 신호 배선(15)(제 1 배선(15a))에 따라 연장되고, 공급 단자부(31)는, 외부측 접속 단자부(16)(제 1 외부측 접속 단자부(16a))와 폭 방향 한쪽 측에 간격을 두고 배치되어 있다. 또한, 공급 배선(30)은 커버 절연층(14)에 피복되어 있고, 공급 단자부(31)는 커버 절연층(14)으로부터 노출되어 있다.In addition, a supply wiring 30 for supplying electric energy to the light emitting element 20 is connected to the light emitting element 20, and the supply wiring 30 is not illustrated in the external circuit board 2. The supply terminal part 31 for connecting with a terminal part is connected. On the other hand, the supply wiring 30 extends along the signal wiring 15 (the first wiring 15a) on the rear end side of the light emitting element 20, and the supply terminal portion 31 is the external connection terminal portion 16. ) (First outer side connecting terminal portion 16a) and one side in the width direction are arranged at intervals. In addition, the supply wiring 30 is covered with the cover insulating layer 14, and the supply terminal part 31 is exposed from the cover insulating layer 14.

이 광 어시스트부(18)에서는, 발광 소자(20)에 있어서, 외부 회로 기판(2)으로부터 공급 단자부(31) 및 공급 배선(30)을 통해서 공급되는 전기에너지가 광에너지로 변환되어, 그 광이 광 도파로(19)에 출사된다. 출사된 광은 광 도파로(19)를 통과하고, 다음에 기술하는 단면(21)에 있어서, 반사되어, 하드 디스크(26)에 조사된다.In this optical assist portion 18, in the light emitting element 20, electrical energy supplied from the external circuit board 2 through the supply terminal portion 31 and the supply wiring 30 is converted into light energy, and the light It is emitted to this optical waveguide 19. The emitted light passes through the optical waveguide 19, is reflected in the cross section 21 described later, and is irradiated to the hard disk 26.

또한, 광 도파로(19)는, 도 5에 나타낸 바와 같이, 그 선단부의 단면(21)이, 예컨대 광 도파로(19)의 길이 방향과 소정의 각도(경사각)α로 교차하도록 형성되어 있다. 이것에 의해, 광 도파로(19)는, 그 단면(21)이 경사각α을 갖는 거울면이 되도록 형성되기 때문에, 광 도파로(19)에 입사한 광은 단면(21)에 의해서 소정의 각도로 광로 변환되어, 광로 변환된 빛이 원하는 위치로 향해서 산란하면서 조사된다. 이러한 경사각α은, 특별히 한정되지 않고, 예컨대 35 내지 55ㅀ, 바람직하게는 40 내지 50ㅀ이며, 보다 구체적으로는 45ㅀ이다.In addition, as shown in FIG. 5, the optical waveguide 19 is formed so that the end surface 21 of the front end part may cross | intersect the longitudinal direction of the optical waveguide 19 by predetermined angle (tilt angle) (alpha), for example. As a result, the optical waveguide 19 is formed such that its end face 21 is a mirror surface having an inclination angle α, so that the light incident on the optical waveguide 19 has an optical path at a predetermined angle by the end face 21. The converted and irradiated light is irradiated while scattering toward the desired position. Such inclination angle α is not particularly limited, and is, for example, 35 to 55 mm, preferably 40 to 50 mm, and more specifically 45 mm.

그리고, 도 3에 나타낸 바와 같이, 이 회로부 서스펜션 기판(1)에서는, 광 도파로(19)는 베이스 절연층(12) 상에 설치되어 있다.And as shown in FIG. 3, in this circuit part suspension board | substrate 1, the optical waveguide 19 is provided on the base insulating layer 12. As shown in FIG.

이러한 광 도파로(19)는, 언더클래드층(22)과, 언더클래드층(22) 상에 형성되는 코어층(23)과, 언더클래드층(22) 상에 코어층(23)을 피복하도록 형성되는 오버클래드층(24)을 구비하고 있다.The optical waveguide 19 is formed to cover the under cladding layer 22, the core layer 23 formed on the under cladding layer 22, and the core layer 23 on the under cladding layer 22. An over cladding layer 24 is provided.

한편, 광 도파로(19)는, 개구부(7)에 임하는 선측 반분에 있어서도, 베이스 절연층(12) 상에 형성되어 있다. 즉, 베이스 절연층(12)은, 광 도파로(19)와 대응하여, 평면시에 있어서 대략 동일 위치가 되도록 개구부(7)에 임하고 있다.On the other hand, the optical waveguide 19 is formed on the base insulating layer 12 also in the line half half facing the opening 7. That is, the base insulating layer 12 faces the opening 7 so as to correspond to the optical waveguide 19 so as to be at substantially the same position in plan view.

오버클래드층(24)은, 그의 폭 방향 양 외측단 테두리가, 언더클래드층(22)의 폭 방향 양 외측단 테두리와 평면시에 있어서 동일 위치가 되도록 형성되어 있다.The over cladding layer 24 is formed so that the width direction both outer edges may become the same position in planar view with the width direction both outer edges of the under cladding layer 22.

도 4는, 도 3에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 제조 공정을 나타내는 단 면도로서, 좌측도는 도 3에 대응하는 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도이고, 우측도는 단자 형성부에서의 길이 방향에 따르는 확대 단면도를 나타낸다.4 is a cross-sectional view showing a manufacturing process of the circuit part suspension substrate shown in FIG. 3, wherein a left side view is a sectional view along a width direction in a wiring portion corresponding to FIG. 3, and a right side view is a longitudinal direction in a terminal formation portion. The following enlarged cross-sectional view is shown.

이어서, 이 회로부 서스펜션 기판(1)의 제조방법에 대하여, 도 4를 참조하여 설명한다.Next, the manufacturing method of this circuit part suspension board | substrate 1 is demonstrated with reference to FIG.

우선, 이 방법에서는, 도 4(a)에 나타낸 바와 같이, 금속 지지 기판(11)을 준비한다.First, in this method, as shown to Fig.4 (a), the metal support substrate 11 is prepared.

금속 지지 기판(11)은, 스테인레스, 42 알로이, 알루미늄, 구리-베릴륨, 인 청동 등의 금속 재료로 형성되어 있다. 금속 지지 기판(11)의 두께는, 예컨대 15 내지 30㎛, 바람직하게는 20 내지 25㎛이다.The metal support board | substrate 11 is formed with metal materials, such as stainless steel, 42 alloy, aluminum, copper- beryllium, and phosphor bronze. The thickness of the metal support substrate 11 is 15-30 micrometers, for example, Preferably it is 20-25 micrometers.

이어서, 이 방법에서는, 도 4(b)에 나타낸 바와 같이, 금속 지지 기판(11) 상에, 베이스 절연층(12), 도체 패턴(13) 및 커버 절연층(14)을 순차 적층한다.Next, in this method, as shown in FIG. 4 (b), the base insulating layer 12, the conductor pattern 13, and the cover insulating layer 14 are sequentially stacked on the metal support substrate 11.

베이스 절연층(12), 도체 패턴(13) 및 커버 절연층(14)을 순차 적층하기 위해서는, 우선 베이스 절연층(12)을 금속 지지 기판(11) 상에 형성한다.In order to sequentially laminate the base insulating layer 12, the conductor pattern 13, and the cover insulating layer 14, the base insulating layer 12 is first formed on the metal support substrate 11.

베이스 절연층(12)은, 예컨대 폴리이미드 수지, 폴리아미드이미드 수지, 아크릴 수지, 폴리에터나이트릴 수지, 폴리에터설폰 수지, 폴리에틸렌테레프탈레이트 수지, 폴리에틸렌나프탈레이트 수지, 폴리염화바이닐 수지 등 합성 수지 등의 절연 재료로 형성되어 있다. 바람직하게는, 폴리이미드 수지로 형성되어 있다.The base insulating layer 12 is, for example, a polyimide resin, a polyamideimide resin, an acrylic resin, a polyether nitrile resin, a polyether sulfone resin, a polyethylene terephthalate resin, a polyethylene naphthalate resin, a polyvinyl chloride resin, or the like. It is formed with insulating materials, such as resin. Preferably, it is formed of polyimide resin.

베이스 절연층(12)을 형성하기 위해서는, 예컨대 금속 지지 기판(11)의 상면에, 감광성의, 상기한 절연 재료의 바니쉬를 도포하여, 건조 후, 포토마스크를 통해 노광하여, 현상 후, 필요에 따라 경화시킨다.In order to form the base insulating layer 12, for example, a photosensitive varnish of the above insulating material is applied to the upper surface of the metal support substrate 11, dried, exposed through a photomask, and then developed. Cured accordingly.

이것에 의해 형성되는 베이스 절연층(12)의 두께는, 예컨대 1 내지 35㎛, 바람직하게는 8 내지 15㎛이다.The thickness of the base insulating layer 12 formed by this is 1-35 micrometers, Preferably, it is 8-15 micrometers.

이어서, 도체 패턴(13)을 상기한 패턴으로 형성한다.Next, the conductor pattern 13 is formed in the pattern mentioned above.

도체 패턴(13)을 형성하는 도체 재료로서는, 예컨대 구리, 니켈, 금, 땜납, 또는 그들의 합금 등의 도체 재료가 사용된다.As the conductor material for forming the conductor pattern 13, for example, a conductor material such as copper, nickel, gold, solder, or an alloy thereof is used.

도체 패턴(13)을 형성하기 위해서는, 예컨대 애디티브법, 서브트랙티브법 등의 공지된 패터닝법을 이용한다. 바람직하게는, 애디티브법을 이용한다.In order to form the conductor pattern 13, well-known patterning methods, such as an additive method and a subtractive method, are used, for example. Preferably, the additive method is used.

이것에 의해 형성되는 도체 패턴(13)에서는, 두께가, 예컨대 3 내지 50㎛, 바람직하게는 5 내지 20㎛이다. 또한, 각 신호 배선(15)의 폭은, 예컨대 10 내지 200㎛, 바람직하게는 20 내지 100㎛이며, 각 신호 배선(15) 사이의 간격은, 예컨대 10 내지 1000㎛, 바람직하게는 20 내지 100㎛이다. 또한, 각 외부측 접속 단자부(16) 및 각 자기 헤드측 접속 단자부(17)의 폭은, 예컨대 20 내지 1000㎛, 바람직하게는 30 내지 800㎛이며, 각 외부측 접속 단자부(16) 사이의 간격 및 각 자기 헤드측 접속 단자부(17) 사이의 간격은, 예컨대 20 내지 1000㎛, 바람직하게는 30 내지 800㎛이다.In the conductor pattern 13 formed by this, thickness is 3-50 micrometers, for example, Preferably it is 5-20 micrometers. In addition, the width of each signal wire 15 is, for example, 10 to 200 μm, preferably 20 to 100 μm, and the interval between each signal wire 15 is, for example, 10 to 1000 μm, preferably 20 to 100. [Mu] m. In addition, the widths of the respective external connection terminal portions 16 and the magnetic head side connection terminal portions 17 are, for example, 20 to 1000 µm, preferably 30 to 800 µm, and are spaced between the respective external connection terminal portions 16. And the interval between the respective magnetic head side connection terminal portions 17 is, for example, 20 to 1000 µm, and preferably 30 to 800 µm.

커버 절연층(14)을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 예컨대 도체 패턴(13) 및 베이스 절연층(12)을 포함하는 금속 지지 기판(11)의 표면에, 감광성의, 상기한 절연 재료의 바니쉬를 도포하고, 건조후, 포토마스크를 통해 노광하여, 현상후, 필요에 따라 경화시킨다.In order to form the cover insulating layer 14 in the above-described pattern, for example, the varnish of the above-described insulating material on the surface of the metal support substrate 11 including the conductor pattern 13 and the base insulating layer 12. Is applied, dried, exposed through a photomask, and cured as necessary after development.

이것에 의해 형성되는 커버 절연층(14)의 두께는, 예컨대 1 내지 40㎛, 바람 직하게는 1 내지 7㎛이다.The thickness of the cover insulation layer 14 formed by this is 1-40 micrometers, for example, Preferably it is 1-7 micrometers.

이것에 의해, 금속 지지 기판(11) 상에, 베이스 절연층(12), 도체 패턴(13) 및 커버 절연층(14)을 순차 적층할 수 있다.Thereby, the base insulating layer 12, the conductor pattern 13, and the cover insulating layer 14 can be laminated on the metal support substrate 11 one by one.

한편, 상기한 도체 패턴(13)의 형성과 동시에, 공급 배선(30) 및 공급 단자부(31)를 상기와 같은 방법에 의해 동시에 형성한다.On the other hand, at the same time as the formation of the conductor pattern 13, the supply wiring 30 and the supply terminal portion 31 are simultaneously formed by the above method.

이어서, 이 방법에서는, 도 4(c)에 나타낸 바와 같이, 광 도파로(19)를 베이스 절연층(12) 상에 형성한다.Subsequently, in this method, as shown in FIG. 4C, the optical waveguide 19 is formed on the base insulating layer 12.

광 도파로(19)를 형성하기 위해서는, 베이스 절연층(12) 상에, 언더클래드층(22), 코어층(23) 및 오버클래드층(24)을 순차 적층한다.In order to form the optical waveguide 19, the under cladding layer 22, the core layer 23, and the overcladding layer 24 are sequentially stacked on the base insulating layer 12.

언더클래드층(22), 코어층(23) 및 오버클래드층(24)을 순차 적층하기 위해서는, 우선 언더클래드층(22)을 베이스 절연층(12) 상에 형성한다.In order to sequentially stack the under cladding layer 22, the core layer 23, and the over cladding layer 24, the under cladding layer 22 is first formed on the base insulating layer 12.

언더클래드층(22)을 형성하는 재료로서는, 예컨대 폴리이미드 수지, 폴리아마이드 수지, 실리콘 수지, 에폭시 수지(지환식 에폭시 수지 등), 아크릴 수지, 또는 플루오렌 유도체 수지, 더욱이, 플루오렌 유도체 수지와 지환식 에폭시 수지의 혼합 수지, 이들 수지와 지환식 에터 화합물(예컨대, 옥세탄 화합물 등)의 혼합 수지가 사용된다. 이들 수지는, 바람직하게는, 감광제를 배합하여, 감광성 수지로서 사용된다. 바람직하게는, 감광성 플루오렌 유도체 수지(원료로서는, 감광성 플루오렌계 에폭시 수지)와 지환식 에폭시 수지의 혼합 수지가 사용된다. 또한, 감광제로서는, 예컨대 공지된 오늄염 등이 사용되고, 보다 구체적으로는, 4,4-비스[다이(β하이드록시에톡시)페닐설피니오]페닐설파이드-비스-헥사플루오로 안티모네이 트 등이 사용된다.Examples of the material for forming the under cladding layer 22 include a polyimide resin, a polyamide resin, a silicone resin, an epoxy resin (such as an alicyclic epoxy resin), an acrylic resin, or a fluorene derivative resin, and a fluorene derivative resin. Mixed resins of alicyclic epoxy resins and mixed resins of these resins and alicyclic ether compounds (for example, oxetane compounds and the like) are used. These resin, Preferably, it mix | blends a photosensitive agent and is used as photosensitive resin. Preferably, the mixed resin of photosensitive fluorene derivative resin (photosensitive fluorene type epoxy resin) and alicyclic epoxy resin is used as a raw material. In addition, as a photosensitizer, a well-known onium salt etc. are used, for example, More specifically, 4, 4-bis [di ((beta) hydroxyethoxy) phenylsulfinio] phenyl sulfide-bis-hexafluoro antimonate, etc. are mentioned. Used.

언더클래드층(22)을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 예컨대 상기한 수지의 바니쉬(수지 용액)를, 공지된 희석제를 이용하여 조제하여, 그 바니쉬를 베이스 절연층(12)의 표면에 도포후, 건조하여, 필요에 따라 경화시킨다. 또한, 감광성 수지가 사용되는 경우에는, 바니쉬의 도포 및 건조 후에, 포토마스크를 통해 노광하여, 공지된 유기 용제 등에 의해 미노광 부분을 용해시킴으로써, 현상하고, 그 후, 필요에 따라 경화시킨다.In order to form the under cladding layer 22 in the above-described pattern, for example, a varnish (resin solution) of the above-mentioned resin is prepared by using a known diluent, and the varnish is applied to the surface of the base insulating layer 12. It is dried and hardened as needed. In addition, when photosensitive resin is used, after application and drying of a varnish, it exposes through a photomask, dissolves an unexposed part with a well-known organic solvent, etc., and develops and hardens it as needed after that.

이렇게 하여 형성되는 언더클래드층(22)의 굴절률은, 예컨대 1.45 내지 1.55이다. 또한, 언더클래드층(22)의 두께는, 예컨대 1 내지 50㎛, 바람직하게는 5 내지 20㎛이며, 폭은, 예컨대 20 내지 200㎛, 바람직하게는 30 내지 100㎛이다.The refractive index of the under cladding layer 22 formed in this way is 1.45-1.55, for example. The thickness of the under cladding layer 22 is, for example, 1 to 50 µm, preferably 5 to 20 µm, and the width is, for example, 20 to 200 µm, preferably 30 to 100 µm.

이어서, 코어층(23)을, 언더클래드층(22) 상에 형성한다.Next, the core layer 23 is formed on the under cladding layer 22.

코어층(23)을 형성하는 재료로서는, 언더클래드층(22)의 수지 재료보다도 굴절률이 높게 되는 수지 재료가 사용된다. 이러한 수지 재료로서는, 예컨대 상기와 같은 수지가 사용되고, 바람직하게는 감광성 플루오렌 유도체 수지(원료로서는, 감광성 플루오렌계 에폭시 수지)와 옥세탄 화합물의 혼합 수지가 사용된다.As the material for forming the core layer 23, a resin material having a higher refractive index than the resin material of the under cladding layer 22 is used. As such a resin material, the above resin is used, for example, Preferably, the mixed resin of the photosensitive fluorene derivative resin (as a raw material photosensitive fluorene type epoxy resin) and an oxetane compound is used.

코어층(23)을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 예컨대 상기한 수지의 바니쉬(수지 용액)를, 공지된 희석제를 이용하여 조제하여, 그 바니쉬를, 언더클래드층(22)을 포함하는 베이스 절연층(12)의 표면에 도포후, 건조하여, 필요에 따라 경화시킨다. 또한, 감광성 수지가 사용되는 경우에는, 바니쉬의 도포 및 건조 후에, 포토마스크를 통해 노광하여, 공지된 유기 용제 등에 의해 미노광 부분을 용해시킴 으로써, 현상하고, 그 후, 필요에 따라 경화시킨다.In order to form the core layer 23 in the above-described pattern, for example, a varnish (resin solution) of the above-mentioned resin is prepared by using a known diluent, and the varnish is subjected to base insulation including the under cladding layer 22. After apply | coating to the surface of the layer 12, it dries and hardens as needed. In addition, when photosensitive resin is used, after application | coating and drying of a varnish, it exposes through a photomask, dissolves an unexposed part with a well-known organic solvent, etc., develops, and hardens as needed after that.

이렇게 하여 형성되는 코어층(23)의 굴절률은, 언더클래드층(22)의 굴절률보다 높게 설정되어 있고, 예컨대 1.55 내지 1.65이다. 또한, 코어층(23)의 두께는, 예컨대 1 내지 30㎛, 바람직하게는 2 내지 20㎛이며, 폭은, 예컨대 1 내지 30㎛, 바람직하게는 2 내지 20㎛이다.The refractive index of the core layer 23 formed in this way is set higher than the refractive index of the under cladding layer 22, for example, 1.55-1.65. The thickness of the core layer 23 is, for example, 1 to 30 µm, preferably 2 to 20 µm, and the width is, for example, 1 to 30 µm, preferably 2 to 20 µm.

이어서, 오버클래드층(24)을, 언더클래드층(22) 상에 코어층(23)을 피복하도록 형성한다.Next, the over cladding layer 24 is formed on the under cladding layer 22 so as to cover the core layer 23.

오버클래드층(24)을 형성하는 재료로서는, 상기한 언더클래드층(22)과 같은 수지 재료가 사용된다.As the material for forming the over clad layer 24, the same resin material as the under clad layer 22 is used.

오버클래드층(24)을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 예컨대 상기한 수지의 바니쉬(수지 용액)를, 공지된 희석제를 이용하여 조제하여, 그 바니쉬를, 코어층(23) 및 언더클래드층(22)을 포함하는 베이스 절연층(12)의 표면에, 도포후, 건조하여, 필요에 따라 경화시킨다. 또한, 감광성 수지가 사용되는 경우에는, 바니쉬의 도포 및 건조 후에, 포토마스크를 통해 노광하여, 공지된 유기 용제 등에 의해 미노광 부분을 용해시킴으로써, 현상하고, 그 후, 필요에 따라 경화시킨다.In order to form the over cladding layer 24 in the above-described pattern, for example, a varnish (resin solution) of the above-mentioned resin is prepared by using a known diluent, and the varnish is prepared using the core layer 23 and the under cladding layer ( After application | coating to the surface of the base insulating layer 12 containing 22), it dries and hardens as needed. In addition, when photosensitive resin is used, after application and drying of a varnish, it exposes through a photomask, dissolves an unexposed part with a well-known organic solvent, etc., and develops and hardens it as needed after that.

이렇게 하여 형성되는 오버클래드층(24)의 굴절률은, 코어층(23)의 굴절률보다 낮게 설정되어 있고, 예컨대 언더클래드층(22)의 굴절률과 같이 설정되어 있다. 또한, 오버클래드층(24)의 코어층(23)의 표면에서의 두께는, 예컨대 1 내지 50㎛, 바람직하게는 5 내지 20㎛이며, 폭은, 예컨대 20 내지 200㎛, 바람직하게는 30 내지 100㎛이다.The refractive index of the over cladding layer 24 formed in this way is set lower than the refractive index of the core layer 23, and is set like the refractive index of the under cladding layer 22, for example. In addition, the thickness at the surface of the core layer 23 of the over cladding layer 24 is, for example, 1 to 50 µm, preferably 5 to 20 µm, and the width is, for example, 20 to 200 µm, preferably 30 to 100 μm.

이렇게 하여, 베이스 절연층(12) 상에, 언더클래드층(22), 코어층(23) 및 오버클래드층(24)을 순차 적층함으로써 이들을 구비한 광 도파로(19)를 형성할 수 있다.In this way, the optical waveguide 19 provided with these can be formed by sequentially laminating the under cladding layer 22, the core layer 23, and the overcladding layer 24 on the base insulating layer 12.

이어서, 이 방법에서는, 도 4(d)에 나타낸 바와 같이, 단자 형성부(10)에 있어서의 금속 지지 기판(11)에 개구부(7)를 형성한다.Next, in this method, as shown in FIG.4 (d), the opening part 7 is formed in the metal support substrate 11 in the terminal formation part 10. FIG.

개구부(7)를 형성하기 위해서는, 예컨대 드릴 등의 천공, 예컨대 건식 에칭, 습식 에칭 등의 에칭 등에 의해 형성한다. 바람직하게는, 에칭에 의해 형성한다.In order to form the opening 7, it is formed by, for example, drilling such as a drill, for example, etching such as dry etching or wet etching. Preferably, it forms by etching.

이 개구부(7)는, 광 도파로(19)의 선단부와 두께 방향에 있어서 겹치도록, 보다 구체적으로는, 폭 방향에 있어서는, 광 도파로(19)의 선단부가 중앙에 배치되고, 길이 방향에 있어서는, 광 도파로(19)의 선단부가 선측 반분에 배치되도록 형성되어 있다.In the width direction, the opening part 7 is arrange | positioned in the center so that the opening part 7 may overlap with the front end part of the optical waveguide 19 more specifically, in the longitudinal direction, The tip end portion of the optical waveguide 19 is formed so as to be disposed at the half side of the line.

이렇게 하여 형성되는 개구부(7)는, 폭이, 예컨대 50 내지 500㎛, 바람직하게는 100 내지 200㎛이며, 길이(길이 방향 길이)가, 예컨대 50 내지 500㎛, 바람직하게는 100 내지 200㎛이다.The opening 7 formed in this way is 50-500 micrometers in width, Preferably it is 100-200 micrometers, and length (length direction length) is 50-500 micrometers, for example, Preferably it is 100-200 micrometers. .

이어서, 이 방법에서는, 도 4(e)에 나타낸 바와 같이, 베이스 절연층(12) 및 광 도파로(19)의 선단부를, 개구부(7)측으로부터 레이저 가공에 의해, 광 도파로(19)의 선단부의 단면(21)이 길이 방향과 교차하도록 절삭한다.Subsequently, in this method, as shown in FIG. 4 (e), the tip end portions of the base insulating layer 12 and the optical waveguide 19 are subjected to laser processing from the opening 7 side to the tip end portions of the optical waveguide 19. The cross section 21 is cut to cross the longitudinal direction.

레이저 가공에서는, 도 4(e)의 파선으로 나타낸 바와 같이, 개구부(7)를 통과하는 레이저광을 길이 방향과 소정의 각도로 교차하도록 개구부(7)측(두께 방향 하측)으로부터, 베이스 절연층(12) 및 광 도파로(19)에 조사함으로써 이들 베이스 절연층(12) 및 광 도파로(19)를 한번에 절삭한다.In the laser processing, as shown by the broken line in FIG. 4E, the base insulating layer is formed from the opening 7 side (the lower side in the thickness direction) so that the laser beam passing through the opening 7 crosses the longitudinal direction at a predetermined angle. The base insulating layer 12 and the optical waveguide 19 are cut at once by irradiating the 12 and the optical waveguide 19.

이것에 의해, 베이스 절연층(12) 및 광 도파로(19)를, 개구부(7)측으로부터, 레이저 가공에 의해, 광 도파로(19)의 선단부의 단면(21)이 길이 방향과 교차하도록 절삭할 수 있다.Thereby, the base insulating layer 12 and the optical waveguide 19 are cut from the opening 7 side by laser processing so that the end surface 21 of the tip end portion of the optical waveguide 19 intersects the longitudinal direction. Can be.

그 후, 배선부(3)의 후단측에서, 광 도파로(19)의 후단과 광학적으로 접속되고, 공급 배선(30)의 선단과 전기적으로 접속되도록, 발광 소자(20)를 베이스 절연층(12) 상에 설치한다. 이것에 의해, 회로부 서스펜션 기판(1)을 얻는다.Thereafter, the light emitting element 20 is connected to the rear end of the optical waveguide 19 at the rear end side of the wiring portion 3 so as to be electrically connected to the front end of the supply wiring 30. Install on). Thereby, the circuit part suspension board | substrate 1 is obtained.

그리고, 이렇게 하여 수득된 회로부 서스펜션 기판(1)에서는, 도 1 및 도 2의 파선으로 나타낸 바와 같이, 배선부(3)에 있어서, 외부측 접속 단자부(16) 및 공급 단자부(31)가, 외부 회로 기판(2)의 도시하지 않은 단자부와 접속된다. 또한, 이 외부 회로 기판(2)에는, 자기 헤드(28)(도 5 참조) 및 발광 소자(20)를 제어하기 위한 IC(32)가 실장되어 있고, 이 IC(32)가 IC 배선(33)을 통해서, 외부측 접속 단자부(16) 및 공급 단자부(31)가 접속되는 단자부와 전기적으로 접속되어 있다.And in the circuit part suspension board | substrate 1 obtained in this way, in the wiring part 3, as for the wiring part 3, the external side connection terminal part 16 and the supply terminal part 31 are external. It is connected with the terminal part which is not shown in figure of the circuit board 2. As shown in FIG. In addition, an IC 32 for controlling the magnetic head 28 (see FIG. 5) and the light emitting element 20 is mounted on the external circuit board 2, and the IC 32 is an IC wiring 33. Is connected electrically to the terminal portion to which the external connection terminal portion 16 and the supply terminal portion 31 are connected.

또한, 회로부 서스펜션 기판(1)에는, 도 1 및 도 5에 나타낸 바와 같이, 짐벌부(4)의 탑재부(9)에 헤드 슬라이더(27)가 탑재된다. 이 헤드 슬라이더(27)에는 자기 헤드(28)가 실장되어 있고, 상기한 헤드 슬라이더(27)의 실장에 의해, 자기 헤드(28)의 도시하지 않은 단자부가 자기 헤드측 접속 단자부(17)와 전기적으로 접속된다. 또한, 상기한 헤드 슬라이더(27)의 실장에 의해, 자기 헤드(28)는 개구부(7)를 임하도록, 광 도파로(19)의 선단부의 단면(21)의 근방에 대향 배치되어 있 다.In addition, as shown in FIGS. 1 and 5, the head slider 27 is mounted on the mounting portion 9 of the gimbal portion 4 on the circuit portion suspension substrate 1. A magnetic head 28 is mounted on the head slider 27. The mounting of the head slider 27 causes the terminal portion (not shown) of the magnetic head 28 to be electrically connected to the magnetic head side connecting terminal portion 17. Is connected. In addition, by mounting the above-described head slider 27, the magnetic head 28 is disposed in the vicinity of the end face 21 of the tip end portion of the optical waveguide 19 so as to face the opening 7.

그리고, 이러한 자기 헤드(28), 헤드 슬라이더(27), 회로부 서스펜션 기판(1) 및 외부 회로 기판(2)이 탑재되는 하드 디스크 드라이브에서는, 광 어시스트법을 채용할 수 있다.In the hard disk drive in which the magnetic head 28, the head slider 27, the circuit part suspension board 1, and the external circuit board 2 are mounted, the optical assist method can be adopted.

이 하드 디스크 드라이브에서는, 예컨대 하드 디스크(26)가, 광 도파로(19)의 선단부의 단면(21) 및 자기 헤드(28)에 대하여, 상대적으로 주행하고 있다. 그리고, 발광 소자(20)로부터 출사된 광이 광 도파로(19)를 통과하여, 그 단면(21)에서, 광로가 상부로 변환 또는 산란되어, 단면(21)의 상측에 대향하는 하드 디스크(26)의 표면에 조사된다. 광 도파로(19)의 단면(21)으로부터의 광의 조사에 의해 하드 디스크(26)의 표면이 가열되고, 이 상태로, 자기 헤드(28)로부터의 자계의 조사에 의해, 하드 디스크(26)에 정보가 기록된다. 그렇다면, 하드 디스크(26)의 보자력이 저하되어 있기 때문에, 이 하드 디스크(26)에 정보를, 작은 자계의 조사에 의해 고밀도로 기록할 수 있다.In this hard disk drive, for example, the hard disk 26 relatively travels with respect to the end face 21 and the magnetic head 28 of the tip portion of the optical waveguide 19. Then, the light emitted from the light emitting element 20 passes through the optical waveguide 19, and in the end face 21, the optical path is converted or scattered upward, and the hard disk 26 facing the upper end face of the end face 21. ) Is irradiated to the surface. The surface of the hard disk 26 is heated by irradiation of light from the end face 21 of the optical waveguide 19, and in this state, the hard disk 26 is irradiated by the magnetic field from the magnetic head 28. The information is recorded. Then, since the coercive force of the hard disk 26 is reduced, information can be recorded in this hard disk 26 at high density by irradiation of a small magnetic field.

그리고, 이 회로부 서스펜션 기판(1)에서는, 광 어시스트법에 사용되는 광 도파로(19)를, 회로부 서스펜션 기판(1)보다 작게 형성되는 헤드 슬라이더(27)보다도, 스페이스적으로 여유를 가져 형성할 수 있다.And in this circuit part suspension board | substrate 1, the optical waveguide 19 used for the optical assist method can be formed with a space margin rather than the head slider 27 formed smaller than the circuit part suspension board | substrate 1. have.

특히, 광 도파로(19)가, 헤드 슬라이더(27)보다도, 스페이스적으로 여유가 있는 베이스 절연층(12) 상에 설치되어 있기 때문에, 설계상의 자유를 확보할 수 있고, 제조 효율을 향상시킬 수 있음과 동시에, 제조 비용의 저감을 도모할 수 있다.In particular, since the optical waveguide 19 is provided on the base insulating layer 12 having more space than the head slider 27, design freedom can be secured and manufacturing efficiency can be improved. In addition, the manufacturing cost can be reduced.

또한, 이 회로부 서스펜션 기판(1)은 발광 소자(20)를 갖추고 있고, 그 발광 소자(20)가 광 도파로(19)와 광학적으로 접속되어 있기 때문에, 베이스 절연층(12) 상에, 발광 소자(20)와 광 도파로(19)를 함께 설치할 수 있다. 그 때문에, 광학적인 접속 신뢰성을 향상시켜, 광 어시스트법을 확실히 실시할 수 있다.Moreover, since this circuit part suspension board | substrate 1 is equipped with the light emitting element 20, and the light emitting element 20 is optically connected with the optical waveguide 19, on the base insulating layer 12, the light emitting element 20 and the optical waveguide 19 can be provided together. Therefore, optical connection reliability can be improved and the optical assist method can be reliably implemented.

또한, 이 회로부 서스펜션 기판(1)은, 탑재부(9)를 갖추고 있기 때문에, 헤드 슬라이더(27)를 확실히 탑재할 수 있다. 또한, 이 회로부 서스펜션 기판(1)에서는, 탑재부(9)의 근방에 개구부(7)가 형성되어 있고, 광 도파로(19)의 선단부가 개구부(7)에 임하도록 형성되어 있기 때문에, 레이저 가공에 의해, 광 도파로(19)의 선단부의 단면(21)을 확실히 절삭할 수 있다.Moreover, since this circuit part suspension board | substrate 1 is equipped with the mounting part 9, the head slider 27 can be mounted reliably. Moreover, in this circuit part suspension board | substrate 1, the opening part 7 is formed in the vicinity of the mounting part 9, and since the front-end | tip part of the optical waveguide 19 is formed so that the opening part 7 may face, for laser processing, As a result, the end face 21 of the tip portion of the optical waveguide 19 can be reliably cut.

즉, 이 회로부 서스펜션 기판(1)의 제조방법에서는, 베이스 절연층(12)과 광 도파로(19)를, 개구부(7)측으로부터 레이저 가공에 의해, 광 도파로(19)의 선단부의 단면(21)이 길이 방향과 교차하도록 절삭한다. 그렇다면, 개구부(7)내에서, 베이스 절연층(12)과 광 도파로(19)를 한번에 절삭할 수 있기 때문에, 단면(21)을 평활한 거울면으로서 확실히 형성할 수 있다. 그 때문에, 회로부 서스펜션 기판(1)에서는, 광 도파로(19)로부터 출사되는 광을 원하는 위치, 즉 하드 디스크(26)의 표면에 확실히 조사시킬 수 있으면서, 이 회로부 서스펜션 기판(1)을 간편하고 또한 신속하게 제조할 수 있다. 그 때문에, 제조 효율을 향상시킬 수 있음과 동시에, 제조 비용의 저감을 도모할 수 있다.That is, in the manufacturing method of this circuit part suspension board | substrate 1, the end surface 21 of the front-end | tip part of the optical waveguide 19 is laser-processed from the opening part 7 side to the base insulation layer 12 and the optical waveguide 19. As shown in FIG. ) So that it crosses the longitudinal direction. Then, since the base insulating layer 12 and the optical waveguide 19 can be cut at once in the opening 7, the end face 21 can be reliably formed as a smooth mirror surface. Therefore, in the circuit part suspension board | substrate 1, while making it possible to reliably irradiate the light radiate | emitted from the optical waveguide 19 to a desired position, ie, the surface of the hard disk 26, this circuit part suspension board | substrate 1 is simple and It can be manufactured quickly. Therefore, manufacturing efficiency can be improved and manufacturing cost can be reduced.

또한, 이 회로부 서스펜션 기판(1)은, 발광 소자(20)가 회로부 서스펜션 기판(1)의 후단측, 즉 배선부(3)의 후단측에 배치되고, 탑재부(9)가 회로부 서스펜션 기판(1)의 선단측, 즉 짐벌부(4)의 탕부(6)에 배치되어 있다. 그 때문에, 발광 소자(19) 및 헤드 슬라이더(27)의 레이아웃의 설계상의 자유를 확실히 확보할 수 있다.In this circuit part suspension substrate 1, the light emitting element 20 is arranged on the rear end side of the circuit part suspension substrate 1, that is, the rear end side of the wiring part 3, and the mounting part 9 is the circuit part suspension substrate 1. ) Is arranged at the tip end side, that is, the hot water part 6 of the gimbal part 4. Therefore, the freedom in designing the layout of the light emitting element 19 and the head slider 27 can be secured.

도 6은, 도 1에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도로서, 광 도파로가 커버 절연층 상에 설치되는 형태의 단면도이고, 도 7은, 도 6에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도로서, 좌측도는 도 6에 대응하는 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도이고, 우측도는 단자 형성부에서의 길이 방향에 따르는 확대 단면도를 나타낸다. 한편, 상기한 각부에 대응하는 부재에 관해서는, 도 6 및 도 7에 있어서 동일한 참조 부호를 붙이고, 그 상세한 설명을 생략한다.FIG. 6 is a cross-sectional view taken along the width direction in the wiring portion of the circuit portion suspension substrate shown in FIG. 1, which is a cross-sectional view of an optical waveguide provided on the cover insulating layer, and FIG. 7 is a portion of the circuit portion suspension substrate shown in FIG. 6. As a sectional drawing which shows a manufacturing process, a left side figure is sectional drawing along the width direction in the wiring part corresponding to FIG. 6, and a right side figure is an enlarged sectional view along the longitudinal direction in a terminal formation part. In addition, about the member corresponding to said each part, the same referential mark is attached | subjected in FIG. 6 and FIG. 7, and the detailed description is abbreviate | omitted.

상기한 설명에서는, 광 도파로(19)를, 베이스 절연층(12) 상에 설치한 것이지만, 예컨대 커버 절연층(14) 상에 설치하는 것도 가능하다.In the above description, the optical waveguide 19 is provided on the base insulating layer 12, but it is also possible to provide the optical waveguide 19 on the cover insulating layer 14, for example.

도 6에 있어서, 이 회로부 서스펜션 기판(1)에서는, 커버 절연층(14)은, 그 주단 테두리가 베이스 절연층(12)의 주단 테두리와 평면시에 있어서 대략 동일 위치가 되도록 형성되어 있다.In FIG. 6, in this circuit part suspension board | substrate 1, the cover insulation layer 14 is formed so that the periphery edge may become substantially the same position in planar view with the periphery edge of the base insulation layer 12. In FIG.

광 도파로(19)는, 배선부(3) 및 짐벌부(4)의 아웃리거부(8)에 있어서, 신호 배선(15)(보다 구체적으로는, 제 1 배선(15a)) 상에 형성되어 있다. 또한, 광 도파로(19)의 코어층(23)은, 배선부(3) 및 짐벌부(4)의 아웃리거부(8)에 있어서, 제 1 배선(15a)과 평면시에 있어서 중복하도록 형성되어 있다.The optical waveguide 19 is formed on the signal wiring 15 (more specifically, the first wiring 15a) in the outrigger portion 8 of the wiring portion 3 and the gimbal portion 4. . In addition, the core layer 23 of the optical waveguide 19 is formed so as to overlap the first wiring 15a in the planar view in the wiring section 3 and the outrigger section 8 of the gimbal section 4. have.

또한, 광 도파로(19)는, 짐벌부(4)의 단자 형성부(10)에 있어서, 커버 절연 층(14) 상에 형성되어 있고, 단자 형성부(10)의 제 1 배선(15a)과 폭 방향 다른 쪽 측에 어긋나도록 배치되어 있고, 보다 구체적으로는, 제 1 배선(15a)과 간격을 두고, 제 1 배선(15a)과 병행하여 연장되도록 배치되어 있다. 즉, 광 도파로(19)는, 단자 형성부(10)에 있어서, 단자 형성부(10)의 중앙에 따라 연장되어, 개구부(7)에 이르도록 배치되어 있다.In addition, the optical waveguide 19 is formed on the cover insulation layer 14 in the terminal forming portion 10 of the gimbal portion 4, and the first wiring 15a of the terminal forming portion 10 is formed. It is arrange | positioned so that it may shift on the other side in the width direction, More specifically, it is arrange | positioned so that it may extend in parallel with the 1st wiring 15a at intervals with the 1st wiring 15a. That is, the optical waveguide 19 extends along the center of the terminal forming portion 10 in the terminal forming portion 10 and is disposed to reach the opening 7.

발광 소자(20)는 커버 절연층(14) 상에 형성되어 있다.The light emitting element 20 is formed on the cover insulating layer 14.

이 회로부 서스펜션 기판(1)을 제조하기 위해서는, 우선 도 7(a)에 나타낸 바와 같이, 금속 지지 기판(11)을 준비하고, 이어서 도 7(b)에 나타낸 바와 같이, 금속 지지 기판(11) 상에 베이스 절연층(12), 도체 패턴(13) 및 커버 절연층(14)을 순차 적층한다. 이어서, 도 7(c)에 나타낸 바와 같이, 광 도파로(19)를 커버 절연층(14) 상에 형성한다. 이어서, 도 7(d)에 나타낸 바와 같이, 단자 형성부(10)에 있어서의 금속 지지 기판(11)에 개구부(7)를 형성하고, 이어서 도 7(e)에 나타낸 바와 같이, 베이스 절연층(12), 커버 절연층(14) 및 광 도파로(19)를, 개구부(7)측으로부터 레이저가공에 의해, 광 도파로(19)의 선단부의 단면(21)이 길이 방향과 교차하도록 절삭한다. 이것에 의해, 회로부 서스펜션 기판(1)을 제조할 수 있다.In order to manufacture this circuit part suspension board | substrate 1, as shown in FIG.7 (a), the metal support board | substrate 11 is prepared first, and as shown in FIG.7 (b), then the metal support board | substrate 11 is shown. The base insulating layer 12, the conductor pattern 13, and the cover insulating layer 14 are sequentially laminated on the substrate. Subsequently, as shown in FIG. 7C, the optical waveguide 19 is formed on the cover insulating layer 14. Subsequently, as shown in FIG. 7D, the opening 7 is formed in the metal support substrate 11 in the terminal forming portion 10, and as shown in FIG. 7E, the base insulating layer. (12) The cover insulating layer 14 and the optical waveguide 19 are cut so that the end surface 21 of the tip end portion of the optical waveguide 19 crosses the longitudinal direction by laser processing from the opening 7 side. Thereby, the circuit part suspension board | substrate 1 can be manufactured.

이와 같이, 광 도파로(19)를 커버 절연층(14) 상에 형성함으로써 베이스 절연층(12)이 스페이스적으로 여유가 없는 경우에도, 광 도파로(19)의 설계상의 자유를 확보할 수 있고, 제조 효율을 향상시킬 수 있음과 동시에, 제조 비용의 저감을 도모할 수 있다.Thus, by forming the optical waveguide 19 on the cover insulating layer 14, even when the base insulating layer 12 can not afford space, the freedom of design of the optical waveguide 19 can be secured, The manufacturing efficiency can be improved and the manufacturing cost can be reduced.

한편, 상기한 설명에서는, 광 도파로(19)를, 제 1 배선(15a)의 폭 방향 한쪽 측에 설치한 것이지만, 그 배치는 한정되지 않고, 예컨대 도시하지 않지만, 제 4 배선(15d)의 폭 방향 다른 쪽 측에 설치할 수 있다. 또한, 제 2 배선(15b)에 대한 제 1 배선(15a)의 반대 측(즉, 제 3 배선(15c)에 대한 제 4 배선(15d)의 반대 측), 제 1 배선(15a)과 제 2 배선(15b) 사이, 제 3 배선(15c)과 제 4 배선(15d) 사이에, 광 도파로(19)를 설치하는 것도 가능하다. 바람직하게는, 스페이스의 관점, 및 광 도파로(19)의 선단부를 짐벌부(4)의 폭 방향 중앙에 배치시키는 관점에서, 광 도파로(19)를, 제 1 배선(15a)의 폭 방향 한쪽 측, 또는 제 4 배선(15d)의 폭 방향 다른 쪽 측에 설치한다.In the above description, the optical waveguide 19 is provided on one side in the width direction of the first wiring 15a. However, the arrangement is not limited and, for example, is not shown, but the width of the fourth wiring 15d is shown. Direction can be installed on the other side. In addition, the opposite side of the first wiring 15a to the second wiring 15b (that is, the opposite side of the fourth wiring 15d to the third wiring 15c), the first wiring 15a and the second wiring It is also possible to provide the optical waveguide 19 between the wirings 15b and between the third wirings 15c and the fourth wirings 15d. Preferably, from the viewpoint of the space and from the viewpoint of disposing the tip of the optical waveguide 19 at the center of the gimbal portion 4 in the width direction, the optical waveguide 19 is one side in the width direction of the first wiring 15a. Or the other side in the width direction of the fourth wiring 15d.

또한, 상기한 설명에서는, 회로부 서스펜션 기판(1)에, 1개의 광 도파로(19)를 설치한 것이지만, 그 개수는 특별히 한정되지 않고, 예컨대 회로부 서스펜션 기판(1)의 용도 및 목적에 따라서, 복수개의 광 도파로(19)를 설치하는 것도 가능하다.In addition, although the optical waveguide 19 is provided in the circuit part suspension board | substrate 1 in the above-mentioned description, the number is not specifically limited, For example, depending on the use and the purpose of the circuit part suspension board | substrate 1, a plurality is provided. It is also possible to provide two optical waveguides 19.

또한, 상기한 설명에서는, 광 도파로(19)에 있어서, 언더클래드층(22) 및 오버클래드층(24)을 설치한 것이지만, 예컨대 언더클래드층(22) 및/또는 오버클래드층(24)을 설치하는 일없이, 광 도파로(19)를 형성할 수도 있다.In addition, in the above description, although the under cladding layer 22 and the over cladding layer 24 are provided in the optical waveguide 19, the under cladding layer 22 and / or the over cladding layer 24 are provided, for example. The optical waveguide 19 can also be formed without providing.

보다 구체적으로는, 커버 절연층(14)의 굴절률이 코어층(23)의 굴절률보다 낮은 경우에, 언더클래드층(22)을 설치하지 않고, 커버 절연층(14)을 언더클래드층(22)으로서 겸용시킬 수 있다.More specifically, when the refractive index of the cover insulating layer 14 is lower than the refractive index of the core layer 23, the under insulating layer 14 is replaced by the under cladding layer 22 without providing the under cladding layer 22. It can be used as.

또한, 베이스 절연층(12)의 굴절률이 코어층(23)의 굴절률보다 낮은 경우에, 언더클래드층(22)을 설치하지 않고, 베이스 절연층(12)을 언더클래드층(22)으로서 겸용시킬 수 있다. 그 경우에 있어서, 커버 절연층(14)의 굴절률이 코어층(23)의 굴절률보다 낮은 경우에는, 또한 커버 절연층(14)과 오버클래드층(24)을 하나의 층으로서 일체적으로 형성할 수 있다.In addition, when the refractive index of the base insulating layer 12 is lower than the refractive index of the core layer 23, the base insulating layer 12 may be used as the under cladding layer 22 without providing the under cladding layer 22. Can be. In that case, when the refractive index of the cover insulating layer 14 is lower than the refractive index of the core layer 23, the cover insulating layer 14 and the over cladding layer 24 may be formed integrally as one layer. Can be.

즉, 오버클래드층(24) 및 언더클래드층(22)을 설치하는 일없이, 커버 절연층(14)을 오버클래드층(24)으로서 겸용시키고, 또한 베이스 절연층(12)을 언더클래드층(22)으로서 겸용시킬 수 있다.That is, without providing the over cladding layer 24 and the under cladding layer 22, the cover insulating layer 14 is also used as the over cladding layer 24, and the base insulating layer 12 is used as the under cladding layer ( 22) can be used as.

이러한 회로부 서스펜션 기판(1)을 제조하기 위해서는, 우선 도 8(a)에 나타낸 바와 같이, 금속 지지 기판(11)을 준비한다.In order to manufacture such a circuit part suspension board | substrate 1, the metal support substrate 11 is prepared first, as shown to FIG. 8 (a).

이어서, 도 8(b)에 나타낸 바와 같이, 금속 지지 기판(11) 상에, 언더클래드층(22)을 겸하는 베이스 절연층(12)을 형성한다. 언더클래드층(22)을 겸하는 베이스 절연층(12)을 형성하기 위해서는, 예컨대 상기한 베이스 절연층(12)을 형성하는 수지 재료 또는 언더클래드층(22)을 형성하는 수지 재료와, 마찬가지의 수지 재료의 바니쉬(수지 용액)를 조제하고, 그 바니쉬를, 금속 지지 기판(11)의 상면에 도포하여, 건조 후, 필요에 따라 포토마스크를 통해 노광 및 현상하여, 필요에 따라 경화시킨다.Subsequently, as shown in FIG. 8B, the base insulating layer 12 also serving as the under cladding layer 22 is formed on the metal support substrate 11. In order to form the base insulating layer 12 which also serves as the under cladding layer 22, the resin similar to the resin material which forms the base insulating layer 12 mentioned above, or the resin material which forms the under cladding layer 22, for example is similar. A varnish (resin solution) of the material is prepared, the varnish is applied to the upper surface of the metal support substrate 11, dried, exposed and developed through a photomask as necessary, and cured as necessary.

베이스 절연층(12)의 굴절률은, 예컨대 1.45 내지 1.70이다. 또한, 베이스 절연층(12)의 두께는, 예컨대 1 내지 35㎛, 바람직하게는 5 내지 15㎛이다.The refractive index of the base insulating layer 12 is 1.45-1.70, for example. In addition, the thickness of the base insulating layer 12 is 1-35 micrometers, Preferably, it is 5-15 micrometers.

그 후, 도 8(c)에 나타낸 바와 같이, 베이스 절연층(12) 상에 도체 패턴(13)을 형성한다. 도체 패턴(13)을 형성하기 위해서는, 예컨대 상기와 같이, 애디티브법, 서브트랙티브법 등의 공지된 패터닝법을 이용한다. 바람직하게는 애디티브법 을 이용한다. 한편, 도체 패턴(13)은, 상기와 같은 도체 재료로부터, 도 1에 나타내는 도체 패턴(13)과 같은 패턴으로 형성된다.Thereafter, as shown in FIG. 8C, the conductor pattern 13 is formed on the base insulating layer 12. In order to form the conductor pattern 13, a well-known patterning method, such as an additive method and a subtractive method, is used as mentioned above, for example. Preferably, the additive method is used. On the other hand, the conductor pattern 13 is formed in the same pattern as the conductor pattern 13 shown in FIG. 1 from the above conductor materials.

한편, 도체 패턴(13)의 형성과 동시에, 공급 배선(30) 및 공급 단자부(31)를 상기와 같은 방법에 의해 동시에 형성한다.On the other hand, simultaneously with the formation of the conductor pattern 13, the supply wiring 30 and the supply terminal portion 31 are simultaneously formed by the above-described method.

계속해서, 도 8(d)에 나타낸 바와 같이, 베이스 절연층(12) 상에 코어층(23)을 형성한다.Subsequently, as shown in FIG. 8 (d), the core layer 23 is formed on the base insulating layer 12.

코어층(23)을 형성하기 위해서는, 상기한 코어층(23)을 형성하는 수지 재료의 바니쉬(수지 용액)를 조제하고, 그 바니쉬를, 베이스 절연층(12)의 상면에, 도포하여, 건조 후, 필요에 따라 포토마스크를 통해 노광 및 현상하고, 필요에 따라 경화시킨다.In order to form the core layer 23, the varnish (resin solution) of the resin material which forms the said core layer 23 is prepared, the varnish is apply | coated to the upper surface of the base insulation layer 12, and it is dried. Then, it exposes and develops through a photomask as needed, and hardens as needed.

코어층(23)의 굴절률은, 베이스 절연층(12) 및 커버 절연층(14)의 굴절률보다 높게 설정되어 있고, 예컨대 1.55 내지 1.65이다. 또한, 코어층(23)의 두께는, 예컨대 1 내지 30㎛, 바람직하게는 2 내지 20㎛이며, 폭은, 예컨대 1 내지 30㎛, 바람직하게는 2 내지 20㎛이다. 또한, 코어층(23)은, 도 1에 나타내는 코어층(23)과 같은 패턴으로 배치된다.The refractive index of the core layer 23 is set higher than the refractive indices of the base insulating layer 12 and the cover insulating layer 14, for example, 1.55-1.65. The thickness of the core layer 23 is, for example, 1 to 30 µm, preferably 2 to 20 µm, and the width is, for example, 1 to 30 µm, preferably 2 to 20 µm. In addition, the core layer 23 is arrange | positioned in the same pattern as the core layer 23 shown in FIG.

이어서, 도 8(e)에 나타낸 바와 같이, 베이스 절연층(12) 상에, 도체 패턴(13)(공급 배선(30)을 포함한다) 및 코어층(23)을 피복하도록 오버클래드층(24)을 겸하는 커버 절연층(14)을 형성한다. 오버클래드층(24)을 겸하는 커버 절연층(14)을 형성하기 위해서는, 예컨대 상기한 커버 절연층(14)을 형성하는 수지 재료 또는 오버클래드층(24)을 형성하는 수지 재료와 같은 수지 재료의 바니쉬(수지 용액)를 조제하고, 그 바니쉬를, 도체 패턴(13) 및 코어층(23)을 포함하는 베이스 절연층(12)의 상면에, 도포하여, 건조 후, 필요에 따라 포토마스크를 통해 노광 및 현상하고, 필요에 따라 경화시킨다. 이것에 의해서, 커버 절연층(14)은, 외부측 접속 단자부(16), 자기 헤드측 접속 단자부(17) 및 공급 단자부(31)가 노출하여, 신호 배선(15), 코어층(23) 및 공급 단자부(31)를 피복하도록 형성된다.Subsequently, as shown in FIG. 8E, the over cladding layer 24 covers the conductor pattern 13 (including the supply wiring 30) and the core layer 23 on the base insulating layer 12. The cover insulating layer 14 which functions also as () is formed. In order to form the cover insulating layer 14 which also serves as the over cladding layer 24, for example, a resin material such as the resin material forming the cover insulating layer 14 or the resin material forming the over cladding layer 24 is formed. A varnish (resin solution) is prepared, and the varnish is applied to the upper surface of the base insulating layer 12 including the conductor pattern 13 and the core layer 23, dried, and then, if necessary, through a photomask. It exposes and develops and hardens as needed. Thereby, the cover insulation layer 14 exposes the external connection terminal part 16, the magnetic head side connection terminal part 17, and the supply terminal part 31, and the signal wiring 15, the core layer 23, and the like. It is formed to cover the supply terminal portion 31.

커버 절연층(14)의 굴절률은, 예컨대 1.45 내지 1.70이다. 또한, 커버 절연층(14)의 두께(코어층의 표면에서의 두께)는, 예컨대 1 내지 40㎛, 바람직하게는 1 내지 12㎛이다.The refractive index of the cover insulating layer 14 is 1.45-1.70, for example. In addition, the thickness (thickness on the surface of the core layer) of the cover insulation layer 14 is 1-40 micrometers, Preferably it is 1-12 micrometers.

그리고, 도 8(f)에 나타낸 바와 같이, 단자 형성부(10)에 있어서의 금속 지지 기판(11)에 개구부(7)를 상기와 같은 방법에 의해 형성하고, 그 후, 도 8(g)에 나타낸 바와 같이, 베이스 절연층(12), 코어층(23) 및 커버 절연층(14)의 선단부를, 개구부(7)측으로부터 레이저 가공에 의해, 그들의 선단부의 단면(21)이 길이 방향과 교차하도록 절삭한다. 이것에 의해, 회로부 서스펜션 기판(1)을 제조할 수 있다.As shown in Fig. 8 (f), the opening 7 is formed in the metal support substrate 11 in the terminal forming portion 10 by the above method, and then Fig. 8 (g). As shown in the figure, the end portions 21 of the tip portions of the base insulation layer 12, the core layer 23, and the cover insulation layer 14 are laser-processed from the opening 7 side so that the end faces 21 of the tip portions thereof are in the longitudinal direction. Cut to cross. Thereby, the circuit part suspension board | substrate 1 can be manufactured.

이와 같이 제조되는 회로부 서스펜션 기판(1)에서는, 베이스 절연층(12)이 언더클래드층(22)을 겸하고, 커버 절연층(14)이 오버클래드층(24)을 겸하고 있고, 도체 패턴(13) 및 코어층(23)이 함께, 베이스 절연층(12)의 상면에서 커버 절연층(14)에 의해 피복된다.In the circuit part suspension substrate 1 manufactured in this way, the base insulating layer 12 doubles as the under cladding layer 22, the cover insulating layer 14 doubles as the over cladding layer 24, and the conductor pattern 13. And the core layer 23 are covered by the cover insulating layer 14 on the upper surface of the base insulating layer 12.

그 때문에, 회로부 서스펜션 기판(1)의 박형화, 구성의 간략화 및 제조공수의 저감화를 도모할 수 있고, 제조 효율을 향상시켜, 비용의 저감화를 도모할 수 있다.Therefore, the circuit part suspension substrate 1 can be reduced in thickness, structure can be simplified, and manufacturing man-hours can be reduced, manufacturing efficiency can be improved, and cost can be reduced.

한편, 상기의 설명에서는, 코어층(23)을 피복하도록 오버클래드층(24) 또는 커버 절연층(14)을 설치한 것이지만, 오버클래드층(24) 또는 커버 절연층(14)을 설치하지 않고, 코어층(23)을 노출, 즉 공기에 폭로시켜, 이른바 에어클래드로 하는 것도 가능하다. 바람직하게는, 코어층(23)의 외적 요인에 의한 손상 방지의 관점에서, 오버클래드층(24) 또는 커버 절연층(14)을 설치한다.In the above description, the over cladding layer 24 or the cover insulating layer 14 is provided so as to cover the core layer 23, but without the over cladding layer 24 or the cover insulating layer 14. The core layer 23 can also be exposed, that is, exposed to air to form a so-called air clad. Preferably, from the viewpoint of preventing damage due to external factors of the core layer 23, the over cladding layer 24 or the cover insulating layer 14 is provided.

또한, 언더클래드층(22)이나 오버클래드층(24) 대신에, 금속박층으로 이루어지는 광반사층을 설치하는 것도 가능하다.In addition, instead of the under cladding layer 22 and the over cladding layer 24, it is also possible to provide the light reflection layer which consists of metal foil layers.

또한, 상기한 설명에서는, 개구부(7)를 짐벌부(4)에 있어서의 폭 방향 중앙에 형성했지만, 그 배치는 이것에 한정되지 않고, 예컨대 폭 방향 일단부 또는 폭 방향 다른 단부에 형성할 수도 있다. 바람직하게는, 헤드 슬라이더(27)의 폭 방향 중앙 부분과 광 도파로(19)의 선단부를, 길이 방향에 있어서 대향 배치시키기 위해 개구부(7)를 짐벌부(4)에 있어서의 폭 방향 중앙에 형성한다.In addition, although the opening part 7 was formed in the width direction center in the gimbal part 4 in the above-mentioned description, the arrangement is not limited to this, For example, it can also be provided in the width direction one end part or the width direction other end part. have. Preferably, the opening part 7 is formed in the width direction center in the gimbal part 4 so that the width direction center part of the head slider 27 and the front end part of the optical waveguide 19 may oppose in the longitudinal direction. do.

실시예Example

이하에 실시예를 나타내어, 본 발명을 더욱 구체적으로 설명하지만, 본 발명은 하등 실시예에 한정되지 않는다.Although an Example is shown to the following and this invention is demonstrated to it further more concretely, this invention is not limited to an Example at all.

실시예 1(광 도파로가 베이스 절연층 상에 설치되는 형태)Example 1 (Optical waveguide is provided on the base insulating layer)

두께 20㎛의 스테인레스로 이루어지는 금속 지지 기판을 준비했다(도 4(a) 참조).A metal support substrate made of stainless steel having a thickness of 20 μm was prepared (see Fig. 4 (a)).

이어서, 폴리이미드 수지로 이루어지는 베이스 절연층을, 금속 지지 기판 상 에, 상기한 패턴으로 형성했다. 이 베이스 절연층의 두께는 1O㎛였다.Subsequently, the base insulating layer which consists of polyimide resin was formed in said pattern on the metal support substrate. The thickness of this base insulating layer was 10 micrometers.

이어서, 애디티브법에 의해, 구리로 이루어지는 도체 패턴과 공급 배선 및 공급 단자부를 동시에 형성했다. 이들의 두께는 1O㎛였다.Subsequently, the additive pattern and supply wiring and supply terminal part which consist of copper were formed simultaneously by the additive method. Their thickness was 10 micrometers.

이어서, 폴리이미드 수지로 이루어지는 커버 절연층을, 베이스 절연층 상에, 상기한 패턴으로 형성했다. 이 커버 절연층의 두께는 5㎛였다. 이것에 의해, 금속 지지 기판 상에, 베이스 절연층, 도체 패턴 및 커버 절연 층을 순차 적층했다(도 4(b) 참조).Next, the cover insulation layer which consists of polyimide resin was formed in said pattern on the base insulation layer. The thickness of this cover insulating layer was 5 micrometers. Thereby, the base insulating layer, the conductor pattern, and the cover insulating layer were sequentially laminated on the metal support substrate (see FIG. 4 (b)).

이어서, 베이스 절연층 상에 광 도파로를 형성했다. 광 도파로를 형성하기 위해서는, 우선 언더클래드층을 형성했다.Next, an optical waveguide was formed on the base insulating layer. In order to form an optical waveguide, the under cladding layer was formed first.

언더클래드층을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 우선 비스페녹시에탄올플루오렌다이글라이시딜에터(플루오렌 유도체, 에폭시 당량 300 g/eq.) 35중량부, 사이클로헥센옥사이드 골격을 갖는 지환식 에폭시 수지(셀록사이드 2081, 다이셀화학사제) 25중량부, 4,4-비스[다이(β하이드록시에톡시)페닐설피니오]페닐설파이드-비스-헥사플루오로 안티모네이트(감광제)의 50% 프로피온카보네이트 용액 2중량부, 3,4-에폭시사이클로헥센일메틸-3',4'-에폭시사이클로헥센카복실레이트(희석제, 지환식 에폭시, 셀록사이드 2021P, 다이셀화학사제) 40중량부를 배합하여 바니쉬를 조제했다. 이어서, 이 바니쉬를 베이스 절연층의 표면에 도포하여, 80℃에서 15분간 가열함으로써 건조했다. 그 후, 포토마스크를 통해 노광하여, 감마 뷰티로락톤계의 유기 용제에 의해 미노광 부분을 용해시킴으로써 현상했다. 그 후, 100℃에서 15분간, 가열하여 경화시킴으로써, 베이스 절연층 상에 언더클래드층을 형성했 다.In order to form the under clad layer in the above-described pattern, first, an alicyclic ring having 35 parts by weight of bisphenoxyethanol fluorene diglycidyl ether (fluorene derivative, epoxy equivalent 300 g / eq.) And a cyclohexene oxide skeleton 25 parts by weight of a formula epoxy resin (Celoxide 2081, manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.), 4,4-bis [di (βhydroxyethoxy) phenylsulfinio] phenylsulfide-bis-hexafluoro antimonate (photosensitive agent) 2 parts by weight of 50% propion carbonate solution, 40 parts by weight of 3,4-epoxycyclohexenylmethyl-3 ', 4'-epoxycyclohexene carboxylate (diluent, alicyclic epoxy, Celoxide 2021P, manufactured by Daicel Chemical Corporation) Varnish was prepared. Subsequently, this varnish was apply | coated to the surface of a base insulating layer, and it dried by heating at 80 degreeC for 15 minutes. Then, it exposed through the photomask and developed by melt | dissolving the unexposed part with the gamma beaurolactone type organic solvent. Then, the under cladding layer was formed on the base insulating layer by heating and hardening at 100 degreeC for 15 minutes.

이 언더클래드층(경화후의 언더클래드층)의 파장 830nm에서의 굴절률은 1.540이었다. 또한, 언더클래드층의 두께는 10㎛, 폭은 30㎛였다.The under cladding layer (the under cladding layer after curing) had a refractive index of 1.540 at a wavelength of 830 nm. The under cladding layer had a thickness of 10 μm and a width of 30 μm.

이어서, 코어층을 언더클래드층 상에 형성했다.Next, a core layer was formed on the under cladding layer.

코어층을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 우선 비스페녹시에탄올플루오렌다이글라이시딜에터(플루오렌 유도체, 에폭시 당량 300g/eq.) 70중량부, 1,1,1-트리스{4-[2-(3-옥세타닐)]뷰톡시페닐}에테인(옥세탄 화합물) 30중량부, 4,4-비스[다이(β하이드록시에톡시)페닐설피니오]페닐설파이드-비스-헥사플루오로 안티모네이트(감광제)의 50% 프로피온카보네이트 용액 1중량부, 락트산에틸(희석제) 30중량부를 배합하여 바니쉬를 조제했다. 이어서, 이 바니쉬를, 언더클래드층을 포함하는 베이스 절연층의 표면에 도포하여, 80℃에서 15분간 가열함으로써 건조했다. 그 후, 포토마스크를 통해 노광하여, 감마 뷰티로락톤계의 유기 용제에 의해 미노광 부분을 용해시킴으로써 현상했다. 그 후, 100℃에서 15분간, 가열하여 경화시킴으로써, 언더클래드층 상에 코어층을 형성했다.In order to form the core layer in the above-described pattern, first, 70 parts by weight of bisphenoxyethanol fluorene diglycidyl ether (fluorene derivative, epoxy equivalent 300 g / eq.), 1,1,1-tris {4 30 parts by weight of-[2- (3-oxetanyl)] butoxyphenyl} ethane (oxetane compound), 4,4-bis [di (βhydroxyethoxy) phenylsulfinio] phenylsulfide-bis-hexa 1 part by weight of a 50% propion carbonate solution of fluoro antimonate (photosensitive agent) and 30 parts by weight of ethyl lactate (diluent) were blended to prepare a varnish. Subsequently, this varnish was apply | coated to the surface of the base insulating layer containing an under cladding layer, and it dried by heating at 80 degreeC for 15 minutes. Then, it exposed through the photomask and developed by melt | dissolving the unexposed part with the gamma beaurolactone type organic solvent. Then, the core layer was formed on the under cladding layer by heating and hardening at 100 degreeC for 15 minutes.

이 코어층(경화후의 코어층)의 파장 830nm에서의 굴절률은 1.594였다. 또한, 코어층의 두께는 5㎛, 폭은 5㎛였다.The refractive index at the wavelength of 830 nm of this core layer (core layer after hardening) was 1.594. In addition, the thickness of the core layer was 5 micrometers, and the width was 5 micrometers.

이어서, 오버클래드층을, 언더클래드층 상에 코어층을 피복하도록 형성했다.Next, the over cladding layer was formed so that a core layer might be covered on an under cladding layer.

오버클래드층을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 우선 상기한 언더클래드층을 형성하기 위한 바니쉬와 마찬가지의 바니쉬를 조제하고, 이어서, 이 바니쉬를, 코어층 및 언더클래드층을 포함하는 베이스 절연층의 표면에 도포하여, 80℃에 서 15분간 가열함으로써 건조했다. 그 후, 포토마스크를 통해 노광하여, 감마 뷰티로락톤계의 유기 용제에 의해 미노광 부분을 용해시킴으로써 현상했다. 그 후, 100℃에서 15분간, 가열하여 경화시킴으로써, 언더클래드층 상에, 코어층을 피복하도록 오버클래드층을 형성했다.In order to form the over cladding layer in the above-described pattern, first, a varnish similar to the varnish for forming the under cladding layer is prepared, and then the varnish is made of a base insulating layer including a core layer and an under cladding layer. It applied to the surface and dried by heating at 80 degreeC for 15 minutes. Then, it exposed through the photomask and developed by melt | dissolving the unexposed part with the gamma beaurolactone type organic solvent. Then, by heating and hardening at 100 degreeC for 15 minutes, the over cladding layer was formed on the under cladding layer so that the core layer may be coat | covered.

이 오버클래드층(경화후의 오버클래드층)의 파장 830nm에서의 굴절률은 1.540이었다. 또한, 오버클래드층의 코어층의 표면에서의 두께는 10㎛, 폭은 30㎛였다.The refractive index at wavelength 830 nm of this over clad layer (over cladding layer after hardening) was 1.540. In addition, the thickness in the surface of the core layer of the over cladding layer was 10 micrometers, and width was 30 micrometers.

이것에 의해, 광 도파로를 베이스 절연층 상에, 제 1 배선과 간격을 두고 형성했다(도 4(c) 참조).As a result, an optical waveguide was formed on the base insulating layer at intervals from the first wiring (see Fig. 4C).

이어서, 단자 형성부에서의 금속 지지 기판에, 습식 에칭에 의해서, 평면시 직사각형상의 개구부를 형성했다(도 4(d) 참조). 이 개구부의 폭은 100㎛, 길이는 1OO㎛였다.Next, the planar rectangular opening part was formed in the metal support substrate by the terminal formation part by wet etching (refer FIG.4 (d)). The width of this opening was 100 µm and the length was 100 µm.

이어서, 베이스 절연층 및 광 도파로를, 개구부측으로부터 레이저 가공에 의해, 광 도파로의 선단부의 단면이 길이 방향과 교차하도록 한번에 절삭했다(도 4(e) 참조). 이 절삭에 의해 형성된 단면의 경사각은 45ㅀ였다.Subsequently, the base insulating layer and the optical waveguide were cut at once so that the cross section of the tip end portion of the optical waveguide crosses the longitudinal direction by laser processing from the opening side (see FIG. 4E). The inclination angle of the cross section formed by this cutting was 45 kPa.

그 후, 이 회로부 서스펜션 기판의 배선부의 후단측에 있어서, 광 도파로의 후단과 광학적으로 접속되고, 공급 배선의 선단과 전기적으로 접속되도록 발광 소자를 베이스 절연층 상에 설치했다(도 1 및 도 2 참조).Thereafter, on the rear end side of the wiring portion of the circuit portion suspension substrate, a light emitting element was provided on the base insulating layer so as to be optically connected to the rear end of the optical waveguide and electrically connected to the front end of the supply wiring (FIGS. 1 and 2). Reference).

실시예 2(광 도파로가 커버 절연층 상에 설치되는 형태)Example 2 (the form in which the optical waveguide is installed on the cover insulation layer)

실시예 1에 있어서, 광 도파로를 커버 절연층에 설치하고, 발광 소자를 커버 절연층 상에 설치한 것 외에는, 실시예 1과 마찬가지로 하여, 회로부 서스펜션 기판을 제조했다(도 1, 도 2 및 도 7 참조).In Example 1, the circuit part suspension board | substrate was manufactured like Example 1 except having provided the optical waveguide in the cover insulation layer and installing the light emitting element on the cover insulation layer (FIG. 1, FIG. 2, and FIG. 7).

즉, 커버 절연층을, 그 주단 테두리가, 베이스 절연층의 주단 테두리와 평면시에 있어서 대략 동일 위치가 되도록 형성했다(도 7(b) 참조).In other words, the cover insulation layer was formed such that its peripheral edge is substantially the same position as the peripheral edge of the base insulating layer in plan view (see Fig. 7 (b)).

또한, 광 도파로를, 배선부 및 짐벌부의 아웃리거부에서, 커버 절연층 상에 제 1 배선과 겹치도록, 단자 형성부에서, 커버 절연층 상에, 제 1 배선부와 폭 방향 다른 쪽 측에 어긋나도록 형성했다. 또한, 발광 소자를 커버 절연층 상에 설치했다.In the terminal forming portion, the optical waveguide overlaps the first wiring on the cover insulating layer in the outrigger portion of the wiring portion and the gimbal portion, and on the other side in the width direction of the first wiring portion on the cover insulating layer. It formed so that it shifted. Moreover, the light emitting element was provided on the cover insulating layer.

실시예 3(베이스 절연층이 언더클래드층을 겸하고, 커버 절연층이 오버클래드층을 겸하는 형태)Example 3 (Form where the base insulating layer doubles as the under cladding layer and the cover insulating layer doubles as the over cladding layer)

두께 20㎛의 스테인레스로 이루어지는 금속 지지 기판을 준비했다(도 8(a) 참조).A metal support substrate made of stainless steel having a thickness of 20 μm was prepared (see Fig. 8 (a)).

이어서, 폴리이미드 수지로 이루어지는 베이스 절연층을, 금속 지지 기판 상에, 상기한 패턴으로 형성했다. 이 베이스 절연층의 파장 830nm에서의 굴절률은 1.541이었다. 또한, 베이스 절연층의 두께는 6㎛이었다(도 8(b) 참조).Next, the base insulating layer which consists of polyimide resin was formed in the said pattern on the metal support substrate. The refractive index at the wavelength of 830 nm of this base insulating layer was 1.541. In addition, the thickness of the base insulating layer was 6 micrometers (refer FIG. 8 (b)).

이어서, 베이스 절연층 상에, 애디티브법에 의해, 구리로 이루어지는 도체 패턴과 공급 배선 및 공급 단자부를 동시에 형성했다(도 8(c) 참조). 이들의 두께는 1O㎛였다.Subsequently, the conductive pattern, supply wiring, and supply terminal part which consist of copper were formed simultaneously on the base insulating layer by the additive method (refer FIG. 8 (c)). Their thickness was 10 micrometers.

이어서, 베이스 절연층 상에 코어층을 형성했다.Next, a core layer was formed on the base insulating layer.

코어층을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 우선 비스페녹시에탄올플루오 렌다이글리시딜에터(플루오렌 유도체, 에폭시 당량 300g/eq.) 70중량부, 1,3,3-트리스{4-[2-(3-옥세타닐)]뷰톡시페닐}에테인(옥세탄 화합물) 30중량부, 4,4-비스[다이(β하이드록시에톡시)페닐설피니오]페닐설파이드-비스-헥사플루오로 안티모네이트(감광제)의 50% 프로피온카보네이트 용액 0.5중량부, 락트산에틸(희석제) 28중량부를 배합하여 바니쉬를 조제했다. 이어서, 이 바니쉬를, 베이스 절연층의 표면에 도포하여, 80℃에서 15분간 가열함으로써 건조했다. 그 후, 포토마스크를 통해 노광하여, 감마 뷰티로락톤계의 유기 용제에 의해 미노광 부분을 용해시킴으로써 현상했다. 그 후, 100℃에서 15분간, 가열하여 경화시킴으로써, 베이스 절연층 상에 코어층을 형성했다(도 8(d) 참조).In order to form the core layer in the above-described pattern, first, 70 parts by weight of bisphenoxyethanol fluorene diglycidyl ether (fluorene derivative, epoxy equivalent 300 g / eq.), 1,3,3-tris {4 30 parts by weight of-[2- (3-oxetanyl)] butoxyphenyl} ethane (oxetane compound), 4,4-bis [di (βhydroxyethoxy) phenylsulfinio] phenylsulfide-bis-hexa 0.5 weight part of 50% propioncarbonate solutions of fluoro antimonate (photosensitive agent), and 28 weight part of ethyl lactate (diluent) were mix | blended and the varnish was prepared. Subsequently, this varnish was apply | coated to the surface of a base insulating layer, and it dried by heating at 80 degreeC for 15 minutes. Then, it exposed through the photomask and developed by melt | dissolving the unexposed part with the gamma beaurolactone type organic solvent. Then, the core layer was formed on the base insulating layer by heating and hardening at 100 degreeC for 15 minutes (refer FIG. 8 (d)).

이 코어층(경화후의 코어층)의 파장 830nm에서의 굴절률은 1.588이었다. 또한, 코어층의 두께는 5㎛, 폭은 5㎛였다.The refractive index at the wavelength of 830 nm of this core layer (core layer after hardening) was 1.588. In addition, the thickness of the core layer was 5 micrometers, and the width was 5 micrometers.

이어서, 커버 절연층을, 베이스 절연층 상에 도체 패턴 및 코어층을 피복하도록, 상기한 패턴으로 형성했다.Subsequently, the cover insulation layer was formed in the said pattern so that a conductor pattern and a core layer might be coat | covered on the base insulation layer.

커버 절연층을 상기한 패턴으로 형성하기 위해서는, 우선 비스페녹시에탄올플루오렌다이글라이시딜에터(플루오렌 유도체, 에폭시 당량 300g/eq.) 35중량부, (3,4-에폭시사이클로헥세인)메틸 3',4'-에폭시사이클로헥실-카복실레이트 40중량부, 사이클로헥센옥사이드 골격을 갖는 지환식 에폭시 수지(셀록사이드 2081, 다이셀화학사제) 25중량부, 4,4-비스[다이(β-하이드록시에톡시)페닐설피니오]페닐설파이드-비스-헥사플루오로 안티모네이트(감광제)의 50% 프로피온카보네이트 용액 1중량부를 배합하여 바니쉬를 조제했다. 이어서, 이 바니쉬를, 도체 패턴 및 코어층 을 포함하는 베이스 절연층의 표면에 도포하여, 80℃에서 15분간 가열함으로써 건조했다. 그 후, 포토마스크를 통해 노광하여, 감마 뷰티로락톤계의 유기 용제에 의해 미노광 부분을 용해시킴으로써 현상했다. 그 후, 100℃에서 15분간, 가열하여 경화시킴으로써, 베이스 절연층 상에, 외부측 접속 단자부, 자기 헤드측 접속 단자부 및 공급 단자부를 노출시켜, 신호 배선, 코어층 및 공급 단자부를 피복하도록 커버 절연층을 형성했다(도 8(e) 참조).In order to form the cover insulation layer in the above-described pattern, first, 35 parts by weight of bisphenoxyethanol fluorene diglycidyl ether (fluorene derivative, epoxy equivalent 300 g / eq.), (3,4-epoxycyclohex) 40 parts by weight of methyl 3 ', 4'-epoxycyclohexyl-carboxylate, 25 parts by weight of an alicyclic epoxy resin (Celoxide 2081, manufactured by Daicel Chemical Co., Ltd.) having a cyclohexene oxide skeleton, 4,4-bis [die 1 part by weight of a 50% propioncarbonate solution of (β-hydroxyethoxy) phenylsulfinio] phenylsulfide-bis-hexafluoro antimonate (photosensitive agent) was blended to prepare a varnish. Subsequently, this varnish was apply | coated to the surface of the base insulating layer containing a conductor pattern and a core layer, and it dried by heating at 80 degreeC for 15 minutes. Then, it exposed through the photomask and developed by melt | dissolving the unexposed part with the gamma beaurolactone type organic solvent. Thereafter, by heating and curing at 100 ° C. for 15 minutes, the cover insulation is exposed to cover the signal wiring, the core layer, and the supply terminal portion by exposing the external connection terminal portion, the magnetic head side connection terminal portion, and the supply terminal portion on the base insulating layer. A layer was formed (see FIG. 8 (e)).

커버 절연층의 파장 830nm에서의 굴절률은 1.542였다. 또한, 커버 절연층의 두께(코어층의 표면에서의 두께)는 1O㎛였다.The refractive index at the wavelength of 830 nm of the cover insulating layer was 1.542. In addition, the thickness (thickness in the surface of a core layer) of the cover insulating layer was 100 micrometers.

이어서, 단자 형성부에서의 금속 지지 기판에, 습식 에칭에 의해, 평면시 직사각형상의 개구부를 형성했다(도 8(f) 참조). 이 개구부의 폭은 100㎛, 길이는 1OO㎛였다.Next, the planar rectangular opening part was formed in the metal support substrate in the terminal formation part by wet etching (refer FIG. 8 (f)). The width of this opening was 100 µm and the length was 100 µm.

이어서, 베이스 절연층, 코어층 및 커버 절연층을, 개구부측으로부터 레이저 가공에 의해, 그들의 선단부의 단면이 길이 방향과 교차하도록 한번에 절삭했다(도 8(g) 참조). 이 절삭에 의해 형성된 단면의 경사각은 45ㅀ였다.Subsequently, the base insulating layer, the core layer, and the cover insulating layer were cut at once by laser processing from the opening side so that the cross sections of their distal ends intersect the longitudinal direction (see Fig. 8 (g)). The inclination angle of the cross section formed by this cutting was 45 kPa.

그 후, 이 회로부 서스펜션 기판의 배선부의 후단측에서, 광 도파로의 후단과 광학적으로 접속되고, 공급 배선의 선단과 전기적으로 접속되도록, 발광 소자를 베이스 절연층 상에 설치했다.Thereafter, a light emitting element was provided on the base insulating layer so as to be optically connected to the rear end of the optical waveguide on the rear end side of the wiring portion of the circuit portion suspension substrate and electrically connected to the front end of the supply wiring.

한편, 상기 설명은 본 발명의 예시의 실시 형태로서 제공했지만, 이것은 단순한 예시에 지나지 않고, 한정적으로 해석하여서는 안된다. 상기 기술 분야의 당업자에 의해 명확한 본 발명의 변형예는 후기의 특허청구의 범위에 포함되는 것이 다.In addition, although the said description was provided as embodiment of an illustration of this invention, this is only a mere illustration and should not interpret it limitedly. Modifications of the invention which are apparent to those skilled in the art are included in the scope of the later claims.

도 1은, 본 발명의 회로부 서스펜션 기판의 1 실시 형태를 나타내는 평면도를 나타낸다.FIG. 1: shows the top view which shows one Embodiment of the circuit part suspension board | substrate of this invention.

도 2는, 도 1에 나타내는 회로부 서스펜션 기판에서의 광 도파로에 따르는 단면도를 나타낸다.FIG. 2: shows sectional drawing along the optical waveguide in the circuit part suspension board | substrate shown in FIG.

도 3은, 도 1에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도로서, 광 도파로가 베이스 절연층 상에 설치되는 형태의 단면도를 나타낸다.FIG. 3 is a cross-sectional view taken along the width direction of the wiring portion of the circuit portion suspension substrate shown in FIG. 1, showing a cross-sectional view of an optical waveguide provided on the base insulating layer. FIG.

도 4는, 도 3에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도로서, 좌측도는 도 3에 대응하는 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도이고, 우측도는 단자 형성부에서의 길이 방향에 따르는 확대 단면도이며, FIG. 4 is a cross-sectional view showing the circuit part suspension substrate manufacturing process shown in FIG. 3, wherein the left side view is a sectional view along the width direction in the wiring portion corresponding to FIG. 3, and the right side view is a longitudinal direction in the terminal formation portion. FIG. Is an enlarged cross-sectional view,

(a)는 금속 지지 기판을 준비하는 공정이고, (a) is a step of preparing a metal support substrate,

(b)는 베이스 절연층, 도체 패턴 및 커버 절연층을 금속 지지 기판 상에 순차 적층하는 공정이고, (b) is a step of sequentially laminating the base insulating layer, the conductor pattern and the cover insulating layer on the metal support substrate,

(c)는 광 도파로를 베이스 절연층 상에 형성하는 공정이고, (c) is a step of forming an optical waveguide on the base insulating layer,

(d)는 개구부를 단자 형성부에서의 금속 지지 기판에 형성하는 공정이고, (d) is a step of forming an opening in the metal support substrate in the terminal forming portion,

(e)는 베이스 절연층 및 광 도파로를 레이저 가공에 의해 광 도파로의 선단부의 단면이 길이 방향과 교차하도록 절삭하는 공정을 나타낸다. (e) shows the process of cutting the base insulation layer and the optical waveguide so that the cross section of the front-end | tip part of an optical waveguide may cross a longitudinal direction by laser processing.

도 5는, 헤드 슬라이더, 자기 헤드 및 도 1에 나타내는 회로부 서스펜션 기판이 탑재된 하드 디스크 드라이버가 광 어시스트법을 채용하여, 하드 디스크에 정 보를 기록하는 상태의 설명도이다.FIG. 5 is an explanatory diagram of a state in which a hard disk driver equipped with a head slider, a magnetic head, and a circuit part suspension substrate shown in FIG. 1 employs an optical assist method to record information on a hard disk.

도 6은, 도 1에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도로서, 광 도파로가 커버 절연층 상에 설치되는 형태의 단면도를 나타낸다.FIG. 6: is sectional drawing along the width direction in the wiring part of the circuit part suspension board shown in FIG. 1, and is sectional drawing of the form in which an optical waveguide is provided on a cover insulating layer.

도 7은, 도 6에 나타내는 회로부 서스펜션 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도로서, 좌측도는 도 6에 대응하는 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도이고, 우측도는 단자 형성부에서의 길이 방향에 따르는 확대 단면도이며,FIG. 7: is sectional drawing which shows the manufacturing process of the circuit part suspension board shown in FIG. 6, A left side figure is sectional drawing along the width direction in the wiring part corresponding to FIG. 6, A right side figure is along the longitudinal direction in a terminal formation part. Is an enlarged cross-sectional view,

(a)는 금속 지지 기판을 준비하는 공정이고, (a) is a step of preparing a metal support substrate,

(b)는 베이스 절연층, 도체 패턴 및 커버 절연층을 금속 지지 기판 상에 순차 적층하는 공정이고, (b) is a step of sequentially laminating the base insulating layer, the conductor pattern and the cover insulating layer on the metal support substrate,

(c)는 광 도파로를 커버 절연층 상에 형성하는 공정이고, (c) is a step of forming an optical waveguide on the cover insulating layer,

(d)는 개구부를 단자 형성부에서의 금속 지지 기판에 형성하는 공정이고, (d) is a step of forming an opening in the metal support substrate in the terminal forming portion,

(e)는 베이스 절연층, 커버 절연층 및 광 도파로를 레이저 가공에 의해 광 도파로의 선단부의 단면이 길이 방향과 교차하도록 절삭하는 공정을 나타낸다.(e) shows the process of cutting the base insulation layer, the cover insulation layer, and the optical waveguide so that the cross section of the front-end | tip part of an optical waveguide may cross a longitudinal direction by laser processing.

도 8은, 회로부 서스펜션 기판의 제조 공정을 나타내는 단면도로서, 좌측도는 배선부에서의 폭 방향에 따르는 단면도이고, 우측도는 단자 형성부에서의 길이 방향에 따르는 확대 단면도이며,8 is a cross-sectional view illustrating a process of manufacturing a circuit part suspension substrate, a left side view is a cross-sectional view along a width direction in a wiring portion, and a right side view is an enlarged cross-sectional view along a length direction in a terminal formation portion.

(a)는 금속 지지 기판을 준비하는 공정이고, (a) is a step of preparing a metal support substrate,

(b)는 금속 지지 기판 상에 언더클래드층을 겸하는 베이스 절연층을 형성하는 공정이고, (b) is a step of forming a base insulating layer serving as an under cladding layer on the metal support substrate,

(c)는 베이스 절연층 상에 도체 패턴을 형성하는 공정이고, (c) is a step of forming a conductor pattern on the base insulating layer,

(d)는 베이스 절연층 상에 코어층을 형성하는 공정이고, (d) is a step of forming a core layer on the base insulating layer,

(e)는 베이스 절연층 상에 도체 패턴 및 코어층을 피복하도록 오버클래드층을 겸하는 커버 절연층을 형성하는 공정이고, (e) is a step of forming a cover insulating layer, which also serves as an over cladding layer, to cover the conductor pattern and the core layer on the base insulating layer,

(f)는 개구부를 단자 형성부에서의 금속 지지 기판에 형성하는 공정이고, (f) is a step of forming an opening in the metal support substrate in the terminal forming portion,

(g)는 베이스 절연층, 코어층 및 커버 절연층의 선단부를 개구부측으로부터 레이저 가공에 의해, 그들의 선단부의 단면이 길이 방향과 교차하도록 절삭하는 공정을 나타낸다.(g) shows the process of cutting | disconnecting the front end part of a base insulation layer, a core layer, and a cover insulation layer by laser processing from an opening side so that the cross section of these front end parts may cross a longitudinal direction.

Claims (8)

금속 지지 기판과, 상기 금속 지지 기판 상에 형성되는 베이스 절연층과, 상기 베이스 절연층 상에 형성되는 도체 패턴과, 상기 베이스 절연층 상에 상기 도체 패턴을 피복하도록 형성되는 커버 절연층과, 광 도파로를 구비하는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판.A metal support substrate, a base insulating layer formed on the metal support substrate, a conductor pattern formed on the base insulating layer, a cover insulating layer formed to cover the conductor pattern on the base insulating layer, and light A circuit part suspension substrate, comprising a waveguide. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광 도파로가, 상기 베이스 절연층 또는 상기 커버 절연층 상에 설치되어 있는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판.The said optical waveguide is provided on the said base insulating layer or the said cover insulating layer, The circuit part suspension board | substrate characterized by the above-mentioned. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 광 도파로는, 언더클래드층과, 상기 언더클래드층 상에 형성되어 상기 언더클래드층보다도 굴절률이 높은 코어층과, 상기 언더클래드층 상에 상기 코어층을 피복하도록 형성되어 상기 코어층보다도 굴절률이 낮은 오버클래드층을 구비하고,The optical waveguide is formed on the under cladding layer, the core layer formed on the under cladding layer and having a higher refractive index than the under cladding layer, and the core layer on the under cladding layer to cover the core layer. With a low over cladding layer, 상기 베이스 절연층이 상기 언더클래드층을 겸하고 있고, 상기 코어층이 상기 베이스 절연층 상에 형성되어 있고, 상기 커버 절연층이 상기 오버클래드층을 겸하고 있는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판.The base insulating layer serves as the under cladding layer, the core layer is formed on the base insulating layer, and the cover insulating layer serves as the over cladding layer. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 발광 소자를 추가로 갖추고 있고,Equipped with an additional light emitting element, 그 발광 소자가 상기 광 도파로와 광학적으로 접속되어 있는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판.The light emitting element is optically connected with the said optical waveguide, The circuit part suspension board | substrate characterized by the above-mentioned. 제 4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 헤드 슬라이더를 탑재하기 위한 탑재부를 갖추고,I have a mount to mount a head slider, 상기 탑재부의 근방에는, 상기 금속 지지 기판을 두께 방향으로 관통하는 개구부가 형성되어 있고,In the vicinity of the mounting portion, an opening penetrating the metal support substrate in the thickness direction is formed, 상기 광 도파로는, 그의 일단이 상기 발광 소자와 접속되고, 그의 다른 단이 상기 개구부에 임하도록 형성되어 있는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판.The said optical waveguide is formed so that one end may be connected with the said light emitting element, and the other end shall be provided in the said opening part. The circuit part suspension substrate. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, wherein 상기 광 도파로가, 상기 도체 패턴이 연장되는 방향에 따라 배치되어 있고,The optical waveguide is disposed along the direction in which the conductor pattern extends, 상기 발광 소자가, 상기 금속 지지 기판의 길이 방향 한쪽 측에 배치되고,The light emitting element is disposed on one side in the longitudinal direction of the metal support substrate, 상기 탑재부가, 상기 금속 지지 기판의 길이 방향 다른 쪽 측에 배치되어 있는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판.The said mounting part is arrange | positioned at the other side in the longitudinal direction of the said metal support substrate, The circuit part suspension board | substrate characterized by the above-mentioned. 금속 지지 기판을 준비하여, 상기 금속 지지 기판 상에 형성되는 베이스 절연층과, 상기 베이스 절연층 상에 형성되는 도체 패턴과, 상기 베이스 절연층 상에, 상기 도체 패턴을 피복하도록 형성되는 커버 절연층을 형성하는 공정과,A base insulating layer formed on the metal supporting substrate, a conductor pattern formed on the base insulating layer, and a cover insulating layer formed on the base insulating layer to cover the conductor pattern. Forming a process, 광 도파로를 상기 베이스 절연층 또는 상기 커버 절연층 상에 형성하는 공정과,Forming an optical waveguide on the base insulating layer or the cover insulating layer; 헤드 슬라이더를 탑재하기 위한 탑재부의 근방에, 상기 금속 지지 기판을 두께 방향으로 관통하는 개구부를 형성하는 공정과,Forming an opening through the metal support substrate in the thickness direction in the vicinity of the mounting portion for mounting the head slider; 상기 베이스 절연층 및/또는 커버 절연층과 상기 광 도파로를, 상기개구부측으로부터, 상기 광 도파로의 단면이 상기 광 도파로가 연장되는 방향과 교차하도록 절삭하는 공정을 구비하는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판의 제조방법.And cutting the base insulating layer and / or the cover insulating layer and the optical waveguide from the opening side so that a cross section of the optical waveguide intersects a direction in which the optical waveguide extends. Method of manufacturing a substrate. 금속 지지 기판을 준비하는 공정과,Preparing a metal support substrate; 상기 금속 지지 기판 상에, 언더클래드층을 겸하는 베이스 절연층을 형성하는 공정과,Forming a base insulating layer, which serves as an under cladding layer, on the metal support substrate; 상기 베이스 절연층 상에, 도체 패턴을 형성하는 공정과,Forming a conductor pattern on the base insulating layer; 상기 베이스 절연층 상에, 상기베이스 절연층보다도 굴절률이 높은 코어층을 형성하는 공정과,Forming a core layer having a higher refractive index than the base insulating layer on the base insulating layer; 상기 베이스 절연층 상에, 상기 도체 패턴 및 상기 코어층을 피복하도록 오버클래드층을 겸하여, 상기 코어층보다도 굴절률이 낮은 커버 절연층을 형성하는 공정을 구비하고 있는 것을 특징으로 하는, 회로부 서스펜션 기판의 제조방법.And a step of forming a cover insulating layer having a refractive index lower than that of said core layer by serving as an over cladding layer on said base insulating layer so as to cover said conductor pattern and said core layer. Manufacturing method.
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