KR20080039367A - Apparatus for glass etching for tft-lcd - Google Patents
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Abstract
Description
본 발명은 TFT-LCD용 글라스의 표면 식각장치에 관한 것으로, 노즐에 의한 스프레이 방식으로 글라스 표면을 식각하여 글라스면의 균일한 에칭이 이루어지도록 하며, 카세트에 안치된 다수개의 글라스가 컨베이어에 의해 1차 세정부, 식각부, 2차 세정부, 건조부를 순차적으로 거치면서 글라스의 표면 식각과 세정을 위해 단계적으로 분리되어 행해지던 각 공정이 자동으로 하나의 사이클로 이루어져 생산성이 좋으며 효율적인 TFT-LCD 용 글라스의 표면 식각장치에 관한 것이다.The present invention relates to a surface etching apparatus for a glass for TFT-LCD, by which the surface of the glass is etched by a spray method by a nozzle so that uniform etching of the glass surface is performed, and a plurality of glasses placed in a cassette are formed by a conveyor. Highly productive and efficient TFT-LCD glass as each process, which is separated and processed step by step for the surface etching and cleaning of the glass, is sequentially performed through the secondary cleaning unit, etching unit, secondary cleaning unit, and drying unit in sequence It relates to a surface etching apparatus of.
일반적으로 TFT(Thin film transister) LCD(liquid crystal display)는 하판에 해당하는 TFT와 상판에 해당하는 CF(color filter)사이에 액정이 삽입되어 셀(cell) 형태로 제조되게 된다. In general, a thin film transister (TFT) liquid crystal display (LCD) is manufactured in a cell form by inserting a liquid crystal between a TFT corresponding to a lower plate and a color filter (CF) corresponding to an upper plate.
상기의 하판을 제조하기 위하여 TFT 공정이 완료된 글라스는 LCD 판넬에 적용하게 되는데 전자제품의 슬림형을 추구하는 현대에는 글라스의 표면을 엷게 가공 하는 방법의 중요성이 대두되고 있다.In order to manufacture the lower plate, the glass having the TFT process is applied to the LCD panel. In the modern pursuit of slimness of electronic products, the importance of the method of thinly processing the surface of the glass is emerging.
LCD 글라스 식각을 위한 에칭(etching)공정은 불산을 이용한 식각 배스에서의 식각 공정, 세정 배스에서의 초순수를 이용한 세정공정, 건조 배스에서의 건조공기를 이용한 건조 공정의 단계를 거쳐 이루어진다.An etching process for etching an LCD glass is performed through an etching process in an etching bath using hydrofluoric acid, a cleaning process using ultrapure water in a cleaning bath, and a drying process using dry air in a drying bath.
이 때, 하나 이상의 글라스를 하나의 유닛형태로 형성하여 이송수단에 의해 각 배스로 이송되면서 상기의 각 공정이 진행되게 된다.At this time, at least one glass is formed in one unit form and is transferred to each bath by a transfer means, thereby allowing each of the above processes to proceed.
하지만, 종래의 이러한 식각 방식은 식각 공정과 세정 공정을 수행하기 위해 식각용액 및 세정용액을 구비한 배스 내에 글라스를 일정시간 담궈서 일련의 과정을 수행하게 하는 디핑(dipping) 방식으로 균일한 두께를 유지하는 식각공정이 수행되지 못하여 평탄도가 떨어지며 광특성이 저하되는 등의 문제점이 있었다.However, such a conventional etching method maintains a uniform thickness by dipping (dipping) to perform a series of processes by immersing the glass in a bath having an etching solution and a cleaning solution for a certain time to perform the etching process and the cleaning process. There was a problem that the etching process is not performed because the flatness is lowered and the optical properties are lowered.
또한, 종래의 이러한 식각 방식은 식각이 완료된 글라스가 후공정인 세정공정 혹은 건조공정을 위해 로봇암 등에 의해 이송되는 과정에서 불산물이 유착되는 등의 문제점이 있었고, 이로 인해 글라스 표면의 균일한 식각이 이루어지지 못하여 불량품을 양산하게 되는 문제점이 있었다.In addition, the conventional etching method has a problem in that the fluorine is coalesced in the process of transporting the glass, which is completed by etching, by a robot arm for a cleaning process or a drying process, which is a post process, thereby uniformly etching the glass surface. There was a problem that mass production of defective products could not be made.
본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 세정공정, 식각공정, 건조공정의 순으로 분리되어 단일로 이루어지던 글라스의 표면 에칭을 위한 단계별 공정을 자동으로 하나의 사이클로 이루어지게 하여 보다 효과적인 글라스 세정 및 식각이 이루어질 수 있는 식각장치를 제공함을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, it is separated into the cleaning process, etching process, drying process in order to make a step-by-step process for the surface etching of the glass made of a single automatic one more effective An object of the present invention is to provide an etching apparatus capable of glass cleaning and etching.
또한, 카세트의 이송 과정에서 글라스에 유착될 수 있는 불순물의 유입을 최소화하여 글라스의 오염을 방지하여 균일한 품질의 글라스의 식각이 이루어지도록 하는데 그 목적이 있다.In addition, the object of the present invention is to minimize the inflow of impurities that may be adhered to the glass during the transfer of the cassette to prevent the contamination of the glass to etch the glass of uniform quality.
본 발명은 크게 부분으로 여섯 부분으로 구성되는 바, LCD 글라스(1)가 만입될 수 있는 프레임(11a)이 형성된 지그(11)가 바닥면에 수직으로 하나 이상 형성된 카세트(10)와, 양측에 로딩부(21)와 언로딩부가(22)가 각각 설치되되, 로딩부(21)와 언로딩부(22) 사이에는 2열로 설치되는 이송 컨베이어(23)와 리턴 컨베이어(24)로 구성되어 상기 카세트(10)가 자동으로 이송되도록 하는 주프레임(20)과, 상기 로딩부(21)의 전측에 설치되되, 공급관(31)으로 유입된 세정액을 노즐(32)로 스프레이 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1)를 세정하는 1차 세정부(30)와, 상기 1차 세정부(30)의 후측에 설치되되, 공급관(41)으로 유입된 식각용액을 노즐(42)로 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1)를 애칭하 도록 하는 식각부(40)와, 상기 식각부(40)의 후측에 설치되되, 식각된 글라스를 공급관(51)으로 유입된 세정액을 노즐(52)로 스프레이 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1) 면을 정리하도록 하는 2차 세정부(50)와, 상기 로딩부(21)의 후측에 설치되되, 상기 2차 세정부(50)에 의해 세정된 글라스(1)를 CDA(Clean Dry Air)로 건조시키는 건조부(60)로 구성되어 글라스 식각 및 세정 공정이 하나의 사이클로 이루어지도록 하여 생산성이 좋으며 균일한 에칭면이 양산되도록 하여 효율적인 글라스 가공이 이루어지도록 한 대략적인 구성을 갖는다.According to the present invention, the
상기와 같은 구성을 갖는 본 발명은, 지그에 의해 카세트에 안치된 다수개의 글라스를 이송 컨베이어를 통해 순차적으로 이동시키되, 선세정-식각-후세정-건조의 공정을 하나의 사이클로 이루어지도록 하며 공정이 완료되어 언로딩된 카세트를 다시 리턴 컨베이어를 통해 로딩부로 이송시킴으로써 작업의 흐름이 끊기지 않고 계속적인 공정이 수행될 수 있는 특징이 있다.The present invention having the configuration as described above, while moving the plurality of glasses placed in the cassette by the jig sequentially through the conveying conveyor, the process of pre-cleaning-etching-after-cleaning-drying to be made in one cycle By transferring the completed and unloaded cassette back to the loading unit through the return conveyor, a continuous process can be performed without interrupting the work flow.
또한, 모든 공정이 자동으로 이루어짐으로써 균일한 품질의 글라스를 양산할 수 있으며, 불량률이 최소화되어 생산성이 좋고 효율적인 글라스 식각이 이루어지는 효과가 있다.In addition, since all processes are made automatically, glass of uniform quality can be mass produced, and the defect rate is minimized, so that productivity and good glass etching can be achieved.
본 발명은 TFT-LCD 글라스의 표면 식각장치에 관한 것으로, 노즐에 의한 스 프레이 방식으로 글라스 표면을 식각하여 글라스의 균일한 에칭이 이루어지도록 하며, 카세트에 안치된 다수개의 글라스가 컨베이어에 의해 1차 세정부, 식각부, 2차 세정부, 건조부를 순차적으로 거치면서 글라스의 표면 식각과 세정을 위해 단계적으로 분리되어 행해지던 각 공정이 자동으로 하나의 사이클로 이루어져 생산성이 좋으며 효율적인 TFT-LCD 글라스의 표면 식각장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface etching apparatus of a TFT-LCD glass, in which a glass surface is etched by a spray method by a nozzle so that uniform etching of the glass is performed, and a plurality of glasses placed in a cassette are primarily formed by a conveyor. Productive and efficient TFT-LCD glass surface by automatically performing one cycle of each process, which is performed by the cleaning, etching, secondary cleaning, and drying sections sequentially and separated by steps for etching and cleaning the glass. It relates to an etching apparatus.
이하 본 발명의 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, described in detail with reference to the accompanying drawings of the present invention.
도 1은 본 발명의 평면도를 도시한 것이고, 도 2는 본 발명의 정단면도를 나타낸 것이며, 도 3 ~ 6은 본 발명의 실시에 따른 각 공정부를 나타낸 측단면도를 나타낸 것이고, 도 7는 본 발명의 실시에 따른 지그의 정면도를 나타낸 것으로, Figure 1 shows a plan view of the present invention, Figure 2 shows a front cross-sectional view of the present invention, Figures 3 to 6 shows a side cross-sectional view showing each process unit according to the practice of the present invention, Figure 7 shows the present invention The front view of the jig according to the implementation of
우선 카세트(10)의 구성을 살펴보면, 글라스가 만입될 만입부(11b)를 갖는 프레임(11a)과, 만입된 글라스가 프레임(11a)과 체결되도록 하는 체결부재(11c)가 다수 개 결합된 지그(11)가 바닥면에 수직으로 다수 개 안치되는 구조를 갖는다.First, referring to the configuration of the
본 발명의 실시 예에서는 4개의 글라스가 하나의 지그(11)에 만입되도록 구성되며, 상기 지그(11) 5개가 바닥면에 수직으로 카세트(10)에 결합되도록 하여 총 20장의 글라스가 하나의 카세트(10)에 안치되어 하나의 유닛형태로 발현되는 구성을 갖으나, 다수개의 글라스가 안치될 수 있는 지그(11)가 형성된 카세트(10)의 구성이면 족하고, 글라스는 카세트(10)에 체결되는 지그(11)의 수에 따라 더 부가될 수 있다.In the embodiment of the present invention, four glasses are configured to be indented in one
한편, 주 프레임(20)의 구성을 살펴보면, 양측에 각각 로딩부(21)와 언로딩부(22)가 배치되되, 상기 로딩부(21)와 언로딩부(22) 사이에 2열의 컨베이어가 설치되게 되는데, 하나는 로딩된 카세트(10)를 공정을 수행하기 위한 각 공정부로 이송시켜주는 이송 컨베이어(23)이며, 또 다른 하나는 전 공정을 수행한 후 언로딩된 카세트(10)를 로딩부(21)로 회귀시키는 리턴 컨베이어(24)로 구성된다. On the other hand, looking at the configuration of the
본 발명의 상기 로딩부(21)는 상기의 지그(11)에 글라스를 만입시킨 후, 글라스가 장착된 다수개의 지그(11)를 카세트(10)에 안착시킴으로써, 식각 공정을 수행하기 위한 하나의 유닛 형태의 글라스 카세트(10)가 마련되게 하며, 글라스가 장착된 상기 카세트(10)는 이송 컨베이어(23)를 통해 공정을 수행하기 위한 각 공정부로 이동되게 된다.After loading the glass into the
반면에 언로딩부(22)에서는 전 공정을 완료한 카세트(10)에서 글라스를 해체한 후 비어 있는 카세트(10)를 로딩부(21)로 복귀시키게 되는데, 이때에는 이송 컨베이어(23)의 역방향으로 이송시켜 주는 리턴 컨베이어(24)에 의해 이송이 이루어진다.On the other hand, in the
한편, 상기 로딩된 글라스 카세트(10)는 1차 세정부(30)로 이송되게 되는데, 1차 세정부(30)의 구성을 살펴보면, 세정용액이 저장탱크(미도시)에서 공급되는 공급관(31)과 공급관(31)을 따라 유입되는 세정용액이 스프레이 분사되도록 하는 노 즐(32)로 구성되어 글라스 에칭 작업 전에 초순수를 이용하여 글라스의 1차 세정을 하도록 하는 구성을 갖는다.On the other hand, the loaded
그런 후, 상기 1차 세정된 글라스 카세트(10)는 식각부(40)로 이송되게 되는데, 식각부(40)의 구성을 살펴보면, 식각용액이 저장탱크(미도시)에서 공급되는 공급관(41)과 공급관(41)을 따라 유입되는 식각용액이 스프레이 분사되도록 하는 노즐(42)로 구성되어 글라스의 표면 식각공정을 수행하도록 하는 구성을 갖는다.Thereafter, the primary cleaned
본 발명에서 상기의 식각용액은 희망하는 식각 두께에 따라 상업적으로 성공한 어떠한 불산용액을 사용하여도 무방하며, 또한, PH3 이하의 강산을 첨가하여 슬리밍 효과를 높일 수도 있다.In the present invention, the etching solution may use any commercially successful hydrofluoric acid solution according to the desired etching thickness, and may also increase the slimming effect by adding a strong acid of PH3 or less.
본 발명의 실시에 따른 상기의 식각부(40)는 6 ∼ 12㎛/min의 에칭이 이루어지도록 한다. In the
상기 식각된 글라스 카세트(10)는 2차 세정을 하게 되는데, 상기의 과정을 수행하게 되는 2차 세정부(50)는 세정용액이 저장탱크(미도시)에서 공급되는 공급관(51)과 공급관(51)을 따라 유입되는 세정용액이 스프레이 분사되도록 하는 노즐(52)로 구성되어 에칭이 완료된 글라스를 초순수를 이용하여 2차 세정을 하도록 하는 구성을 갖는다.The
마지막으로, 세정된 글라스는 건조부(60)로 이송되어 건조되게 되는데, 노 즐(61)을 통해 건조공기를 뿜어주어 CDA(Clean Dry Air)에 의해 글라스(1)의 표면이 건조되게 된다. Finally, the cleaned glass is transferred to the
상기의 1차 세정과, 식각 및 2차 세정, 건조부의 노즐은, 각개 지그(11) 사이사이의 양측으로 다수 개 배치되도록 하여 분사시 글라스의 양 측면으로 분사되게 함으로써, 균일하고 완전한 세정 및 식각과 건조가 이루어지도록 한다.The nozzles of the primary cleaning, etching and secondary cleaning and drying units are arranged on both sides between the
상기의 구성을 가지는 본 발명의 작동상태를 살펴보면, 지그(11)를 포함하는 카세트(10)가 마련된 로딩부(21)에서 각각의 지그(11)에 글라스를 만입시켜 하나의 글라스 카세트(10) 유닛이 형성되면, 상기 카세트(10)를 이송 컨베이어(23)에 진입시킨다.Looking at the operating state of the present invention having the above configuration, one
이송 컨베이어(23)를 통해 이동하는 글라스 카세트(10)는 먼저, 1차 세정부(30)에 도달하게 되며, 도달시 노즐(32)을 통해 세정액이 스프레이 분사되어 1차 세정이 이루어져 식각 작업 전에 글라스 면을 정리하게 된다.The
1차 세정이 이루어진 카세트(10)는 식각부(40)로 이송되게 되며, 노즐(42)을 통해 식각 용액이 스프레이 분사되어 글라스 표면 에칭이 이루어지며, 글라스의 에칭이 완료되면, 이송 컨베이어(23)에 의해 2차 세정부(50)로 이송되게 된다.The
2차 세정부(50)에서는 식각 공정 후 유착되었을 염려가 있는 불순물을 제거하기 위해 글라스를 후세정 하게 되며, 이 역시 노즐(52)을 통해 세정액을 스프레이 분사하여 완전한 세정이 이루어지게 한다. In the
상기 세정과 식각이 완료된 글라스는 건조부(60)로 이송되게 되며, 건조부(60)에서 CDA(Clean Dry Air)를 이용해 완전 건조되면 글라스의 표면 식각을 위한 전 공정이 완료되게 된다. The glass, which has been cleaned and etched, is transferred to the
공정이 완료된 글라스는 언로딩부(22)로 이송됨과 동시에 카세트(10)에서 가공이 완료된 글라스를 인출시키고, 카세트(10)는 리턴 컨베이어(24)에 의해 로딩부(23)로 복귀되어, 상기의 공정의 흐름이 끊기지 않고 반복적으로 수행될 수 있게 한다. The glass after the process is transferred to the
도 1은 본 발명의 평면도1 is a plan view of the present invention
도 2는 본 발명의 정단면도2 is a front cross-sectional view of the present invention.
도 3은 본 발명의 실시에 따른 1차 세정부의 측단면도Figure 3 is a side cross-sectional view of the primary cleaning unit according to the practice of the present invention
도 4는 본 발명의 실시에 따른 식각부의 측단면도Figure 4 is a side cross-sectional view of the etching portion in accordance with an embodiment of the present invention
도 5는 본 발명의 실시에 따른 2차 세정부의 측단면도Figure 5 is a side cross-sectional view of the secondary cleaning unit according to the practice of the present invention
도 6은 본 발명의 실시에 따른 건조부의 측단면도Figure 6 is a side cross-sectional view of the drying unit according to the embodiment of the present invention.
도 7은 본 발명의 실시에 따른 지그체의 정면도7 is a front view of a jig body according to an embodiment of the present invention.
[ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ][Description of Code for Major Parts of Drawing]
10 : 카세트 11 : 지그체10: cassette 11: jig
11a : 프레임 11b : 만입부11a:
11c : 체결부재 20 : 주프레임11c: fastening member 20: main frame
21 : 로딩부 22 : 언로딩부21: loading unit 22: unloading unit
23 : 이송 컨베이어 24 : 리턴 켄베이어23: conveying conveyor 24: return Kenvey
30 : 1차 세정부 31, 41, 51, 61 : 공급관30:
32, 42, 52, 62 : 노즐 40 : 식각부32, 42, 52, 62: nozzle 40: etching part
50 : 2차 세정부 60 : 건조부50: secondary cleaning unit 60: drying unit
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
A302 | Request for accelerated examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E601 | Decision to refuse application |