KR20080039367A - Apparatus for glass etching for tft-lcd - Google Patents

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Abstract

An apparatus for etching a surface of a TFT(Thin Film Transistor)-LCD(Liquid Crystal Display) glass is provided to prevent contamination of a glass by minimizing an infiltration of impurities that may be attached on the glass in the process of transferring a cassette. A cassette(10) includes a jig(11) with a frame, into which an LCD glass is introduced, vertically formed on the bottom thereof. A main frame(20) includes a loading unit(21) and an unloading unit(22) formed at both sides thereof, and also includes a transfer conveyer(23) and a return conveyer(24) installed as two rows between the loading unit and the unloading unit, and allows the cassette to be automatically transferred. The primary cleaning unit(30) is installed at a front side of the loading unit and jets a cleaner introduced in a supply pipe through a nozzle to clean the glass transferred by the transfer conveyer. An etching unit(40) is installed at a rear side of the first cleaning unit and jets an etching solution introduced into a supply pipe through a nozzle to etch the glass transferred by the transfer conveyer. A secondary cleaning unit(50) is installed at a rear side of the etching unit and jets a cleaner introduced into a supply pipe through a nozzle to the etched glass to clean the glass transferred by the transfer conveyer. A drying unit(60) is installed at a rear side of the loading unit and dries the cleaned glass in CDA(Clean Dry Air).

Description

TFT-LCD용 글라스의 표면 식각장치 {APPARATUS FOR GLASS ETCHING FOR TFT-LCD}Glass etching apparatus for TFT-LCD {APPARATUS FOR GLASS ETCHING FOR TFT-LCD}

본 발명은 TFT-LCD용 글라스의 표면 식각장치에 관한 것으로, 노즐에 의한 스프레이 방식으로 글라스 표면을 식각하여 글라스면의 균일한 에칭이 이루어지도록 하며, 카세트에 안치된 다수개의 글라스가 컨베이어에 의해 1차 세정부, 식각부, 2차 세정부, 건조부를 순차적으로 거치면서 글라스의 표면 식각과 세정을 위해 단계적으로 분리되어 행해지던 각 공정이 자동으로 하나의 사이클로 이루어져 생산성이 좋으며 효율적인 TFT-LCD 용 글라스의 표면 식각장치에 관한 것이다.The present invention relates to a surface etching apparatus for a glass for TFT-LCD, by which the surface of the glass is etched by a spray method by a nozzle so that uniform etching of the glass surface is performed, and a plurality of glasses placed in a cassette are formed by a conveyor. Highly productive and efficient TFT-LCD glass as each process, which is separated and processed step by step for the surface etching and cleaning of the glass, is sequentially performed through the secondary cleaning unit, etching unit, secondary cleaning unit, and drying unit in sequence It relates to a surface etching apparatus of.

일반적으로 TFT(Thin film transister) LCD(liquid crystal display)는 하판에 해당하는 TFT와 상판에 해당하는 CF(color filter)사이에 액정이 삽입되어 셀(cell) 형태로 제조되게 된다. In general, a thin film transister (TFT) liquid crystal display (LCD) is manufactured in a cell form by inserting a liquid crystal between a TFT corresponding to a lower plate and a color filter (CF) corresponding to an upper plate.

상기의 하판을 제조하기 위하여 TFT 공정이 완료된 글라스는 LCD 판넬에 적용하게 되는데 전자제품의 슬림형을 추구하는 현대에는 글라스의 표면을 엷게 가공 하는 방법의 중요성이 대두되고 있다.In order to manufacture the lower plate, the glass having the TFT process is applied to the LCD panel. In the modern pursuit of slimness of electronic products, the importance of the method of thinly processing the surface of the glass is emerging.

LCD 글라스 식각을 위한 에칭(etching)공정은 불산을 이용한 식각 배스에서의 식각 공정, 세정 배스에서의 초순수를 이용한 세정공정, 건조 배스에서의 건조공기를 이용한 건조 공정의 단계를 거쳐 이루어진다.An etching process for etching an LCD glass is performed through an etching process in an etching bath using hydrofluoric acid, a cleaning process using ultrapure water in a cleaning bath, and a drying process using dry air in a drying bath.

이 때, 하나 이상의 글라스를 하나의 유닛형태로 형성하여 이송수단에 의해 각 배스로 이송되면서 상기의 각 공정이 진행되게 된다.At this time, at least one glass is formed in one unit form and is transferred to each bath by a transfer means, thereby allowing each of the above processes to proceed.

하지만, 종래의 이러한 식각 방식은 식각 공정과 세정 공정을 수행하기 위해 식각용액 및 세정용액을 구비한 배스 내에 글라스를 일정시간 담궈서 일련의 과정을 수행하게 하는 디핑(dipping) 방식으로 균일한 두께를 유지하는 식각공정이 수행되지 못하여 평탄도가 떨어지며 광특성이 저하되는 등의 문제점이 있었다.However, such a conventional etching method maintains a uniform thickness by dipping (dipping) to perform a series of processes by immersing the glass in a bath having an etching solution and a cleaning solution for a certain time to perform the etching process and the cleaning process. There was a problem that the etching process is not performed because the flatness is lowered and the optical properties are lowered.

또한, 종래의 이러한 식각 방식은 식각이 완료된 글라스가 후공정인 세정공정 혹은 건조공정을 위해 로봇암 등에 의해 이송되는 과정에서 불산물이 유착되는 등의 문제점이 있었고, 이로 인해 글라스 표면의 균일한 식각이 이루어지지 못하여 불량품을 양산하게 되는 문제점이 있었다.In addition, the conventional etching method has a problem in that the fluorine is coalesced in the process of transporting the glass, which is completed by etching, by a robot arm for a cleaning process or a drying process, which is a post process, thereby uniformly etching the glass surface. There was a problem that mass production of defective products could not be made.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로, 세정공정, 식각공정, 건조공정의 순으로 분리되어 단일로 이루어지던 글라스의 표면 에칭을 위한 단계별 공정을 자동으로 하나의 사이클로 이루어지게 하여 보다 효과적인 글라스 세정 및 식각이 이루어질 수 있는 식각장치를 제공함을 목적으로 한다.The present invention has been made to solve the above problems, it is separated into the cleaning process, etching process, drying process in order to make a step-by-step process for the surface etching of the glass made of a single automatic one more effective An object of the present invention is to provide an etching apparatus capable of glass cleaning and etching.

또한, 카세트의 이송 과정에서 글라스에 유착될 수 있는 불순물의 유입을 최소화하여 글라스의 오염을 방지하여 균일한 품질의 글라스의 식각이 이루어지도록 하는데 그 목적이 있다.In addition, the object of the present invention is to minimize the inflow of impurities that may be adhered to the glass during the transfer of the cassette to prevent the contamination of the glass to etch the glass of uniform quality.

본 발명은 크게 부분으로 여섯 부분으로 구성되는 바, LCD 글라스(1)가 만입될 수 있는 프레임(11a)이 형성된 지그(11)가 바닥면에 수직으로 하나 이상 형성된 카세트(10)와, 양측에 로딩부(21)와 언로딩부가(22)가 각각 설치되되, 로딩부(21)와 언로딩부(22) 사이에는 2열로 설치되는 이송 컨베이어(23)와 리턴 컨베이어(24)로 구성되어 상기 카세트(10)가 자동으로 이송되도록 하는 주프레임(20)과, 상기 로딩부(21)의 전측에 설치되되, 공급관(31)으로 유입된 세정액을 노즐(32)로 스프레이 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1)를 세정하는 1차 세정부(30)와, 상기 1차 세정부(30)의 후측에 설치되되, 공급관(41)으로 유입된 식각용액을 노즐(42)로 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1)를 애칭하 도록 하는 식각부(40)와, 상기 식각부(40)의 후측에 설치되되, 식각된 글라스를 공급관(51)으로 유입된 세정액을 노즐(52)로 스프레이 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1) 면을 정리하도록 하는 2차 세정부(50)와, 상기 로딩부(21)의 후측에 설치되되, 상기 2차 세정부(50)에 의해 세정된 글라스(1)를 CDA(Clean Dry Air)로 건조시키는 건조부(60)로 구성되어 글라스 식각 및 세정 공정이 하나의 사이클로 이루어지도록 하여 생산성이 좋으며 균일한 에칭면이 양산되도록 하여 효율적인 글라스 가공이 이루어지도록 한 대략적인 구성을 갖는다.According to the present invention, the jig 11 formed with a frame 11a into which the LCD glass 1 can be indented is composed of six parts. The loading unit 21 and the unloading unit 22 are installed respectively, and are composed of a transfer conveyor 23 and a return conveyor 24 installed in two rows between the loading unit 21 and the unloading unit 22. It is installed on the main frame 20 and the loading unit 21 in front of the main frame 20 to automatically transfer the cassette 10, the spraying spraying the cleaning liquid introduced into the supply pipe 31 to the nozzle 32 transfer conveyor 23 Primary cleaning unit 30 for cleaning the glass (1) transported by the) and the rear side of the primary cleaning unit 30, the etching solution introduced into the supply pipe 41 to the nozzle 42 Etching portion 40 for spraying and nicking the glass 1 conveyed by the conveying conveyor 23, and after the etching portion 40 The secondary cleaning unit 50 is installed in the secondary cleaning unit 50 to spray the cleaning liquid introduced into the supply pipe 51, the etched glass to the nozzle 52 to clean the surface of the glass (1) transported by the transfer conveyor 23 And, it is installed on the rear side of the loading unit 21, the glass 1 by the secondary cleaning unit 50 is composed of a drying unit 60 for drying the glass 1 by CDA (Clean Dry Air) glass etching And the cleaning process is performed in one cycle so that the productivity is good and the uniform etching surface is mass-produced to have an effective glass processing.

상기와 같은 구성을 갖는 본 발명은, 지그에 의해 카세트에 안치된 다수개의 글라스를 이송 컨베이어를 통해 순차적으로 이동시키되, 선세정-식각-후세정-건조의 공정을 하나의 사이클로 이루어지도록 하며 공정이 완료되어 언로딩된 카세트를 다시 리턴 컨베이어를 통해 로딩부로 이송시킴으로써 작업의 흐름이 끊기지 않고 계속적인 공정이 수행될 수 있는 특징이 있다.The present invention having the configuration as described above, while moving the plurality of glasses placed in the cassette by the jig sequentially through the conveying conveyor, the process of pre-cleaning-etching-after-cleaning-drying to be made in one cycle By transferring the completed and unloaded cassette back to the loading unit through the return conveyor, a continuous process can be performed without interrupting the work flow.

또한, 모든 공정이 자동으로 이루어짐으로써 균일한 품질의 글라스를 양산할 수 있으며, 불량률이 최소화되어 생산성이 좋고 효율적인 글라스 식각이 이루어지는 효과가 있다.In addition, since all processes are made automatically, glass of uniform quality can be mass produced, and the defect rate is minimized, so that productivity and good glass etching can be achieved.

본 발명은 TFT-LCD 글라스의 표면 식각장치에 관한 것으로, 노즐에 의한 스 프레이 방식으로 글라스 표면을 식각하여 글라스의 균일한 에칭이 이루어지도록 하며, 카세트에 안치된 다수개의 글라스가 컨베이어에 의해 1차 세정부, 식각부, 2차 세정부, 건조부를 순차적으로 거치면서 글라스의 표면 식각과 세정을 위해 단계적으로 분리되어 행해지던 각 공정이 자동으로 하나의 사이클로 이루어져 생산성이 좋으며 효율적인 TFT-LCD 글라스의 표면 식각장치에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a surface etching apparatus of a TFT-LCD glass, in which a glass surface is etched by a spray method by a nozzle so that uniform etching of the glass is performed, and a plurality of glasses placed in a cassette are primarily formed by a conveyor. Productive and efficient TFT-LCD glass surface by automatically performing one cycle of each process, which is performed by the cleaning, etching, secondary cleaning, and drying sections sequentially and separated by steps for etching and cleaning the glass. It relates to an etching apparatus.

이하 본 발명의 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, described in detail with reference to the accompanying drawings of the present invention.

도 1은 본 발명의 평면도를 도시한 것이고, 도 2는 본 발명의 정단면도를 나타낸 것이며, 도 3 ~ 6은 본 발명의 실시에 따른 각 공정부를 나타낸 측단면도를 나타낸 것이고, 도 7는 본 발명의 실시에 따른 지그의 정면도를 나타낸 것으로, Figure 1 shows a plan view of the present invention, Figure 2 shows a front cross-sectional view of the present invention, Figures 3 to 6 shows a side cross-sectional view showing each process unit according to the practice of the present invention, Figure 7 shows the present invention The front view of the jig according to the implementation of

우선 카세트(10)의 구성을 살펴보면, 글라스가 만입될 만입부(11b)를 갖는 프레임(11a)과, 만입된 글라스가 프레임(11a)과 체결되도록 하는 체결부재(11c)가 다수 개 결합된 지그(11)가 바닥면에 수직으로 다수 개 안치되는 구조를 갖는다.First, referring to the configuration of the cassette 10, the jig in which the frame 11a having the indentation portion 11b into which the glass is indented, and the fastening member 11c for coupling the indented glass to the frame 11a are coupled to each other. (11) has a structure in which a plurality of the settled perpendicular to the bottom surface.

본 발명의 실시 예에서는 4개의 글라스가 하나의 지그(11)에 만입되도록 구성되며, 상기 지그(11) 5개가 바닥면에 수직으로 카세트(10)에 결합되도록 하여 총 20장의 글라스가 하나의 카세트(10)에 안치되어 하나의 유닛형태로 발현되는 구성을 갖으나, 다수개의 글라스가 안치될 수 있는 지그(11)가 형성된 카세트(10)의 구성이면 족하고, 글라스는 카세트(10)에 체결되는 지그(11)의 수에 따라 더 부가될 수 있다.In the embodiment of the present invention, four glasses are configured to be indented in one jig 11, and the five jig 11 is coupled to the cassette 10 perpendicularly to the bottom surface so that a total of 20 glasses are in one cassette. It is settled in (10) has a configuration that is expressed in one unit form, but it is sufficient if the configuration of the cassette 10 is formed with a jig 11 in which a plurality of glass can be placed, the glass is fastened to the cassette 10 It may be further added depending on the number of jig 11.

한편, 주 프레임(20)의 구성을 살펴보면, 양측에 각각 로딩부(21)와 언로딩부(22)가 배치되되, 상기 로딩부(21)와 언로딩부(22) 사이에 2열의 컨베이어가 설치되게 되는데, 하나는 로딩된 카세트(10)를 공정을 수행하기 위한 각 공정부로 이송시켜주는 이송 컨베이어(23)이며, 또 다른 하나는 전 공정을 수행한 후 언로딩된 카세트(10)를 로딩부(21)로 회귀시키는 리턴 컨베이어(24)로 구성된다. On the other hand, looking at the configuration of the main frame 20, the loading unit 21 and the unloading unit 22 is disposed on both sides, respectively, two rows of conveyor between the loading unit 21 and the unloading unit 22 It is installed, one is a transport conveyor 23 for transferring the loaded cassette 10 to each process unit for performing the process, the other is to load the unloaded cassette 10 after performing the entire process It consists of the return conveyor 24 which returns to the part 21. As shown in FIG.

본 발명의 상기 로딩부(21)는 상기의 지그(11)에 글라스를 만입시킨 후, 글라스가 장착된 다수개의 지그(11)를 카세트(10)에 안착시킴으로써, 식각 공정을 수행하기 위한 하나의 유닛 형태의 글라스 카세트(10)가 마련되게 하며, 글라스가 장착된 상기 카세트(10)는 이송 컨베이어(23)를 통해 공정을 수행하기 위한 각 공정부로 이동되게 된다.After loading the glass into the jig 11, the loading part 21 of the present invention seats a plurality of jig 11 with glass on the cassette 10, thereby performing one etching process. The glass cassette 10 in the form of a unit is provided, and the cassette 10 equipped with glass is moved to each process unit for performing a process through the transfer conveyor 23.

반면에 언로딩부(22)에서는 전 공정을 완료한 카세트(10)에서 글라스를 해체한 후 비어 있는 카세트(10)를 로딩부(21)로 복귀시키게 되는데, 이때에는 이송 컨베이어(23)의 역방향으로 이송시켜 주는 리턴 컨베이어(24)에 의해 이송이 이루어진다.On the other hand, in the unloading unit 22, after dismantling the glass in the cassette 10 having completed the entire process, the empty cassette 10 is returned to the loading unit 21. In this case, the conveying conveyor 23 is reversed. The transfer is made by a return conveyor 24 which is transferred to.

한편, 상기 로딩된 글라스 카세트(10)는 1차 세정부(30)로 이송되게 되는데, 1차 세정부(30)의 구성을 살펴보면, 세정용액이 저장탱크(미도시)에서 공급되는 공급관(31)과 공급관(31)을 따라 유입되는 세정용액이 스프레이 분사되도록 하는 노 즐(32)로 구성되어 글라스 에칭 작업 전에 초순수를 이용하여 글라스의 1차 세정을 하도록 하는 구성을 갖는다.On the other hand, the loaded glass cassette 10 is to be transferred to the primary cleaning unit 30, looking at the configuration of the primary cleaning unit 30, the supply pipe 31, the cleaning solution is supplied from the storage tank (not shown) ) And a nozzle 32 to spray-inject the cleaning solution flowing along the supply pipe 31 to have a primary cleaning of the glass using ultrapure water before the glass etching operation.

그런 후, 상기 1차 세정된 글라스 카세트(10)는 식각부(40)로 이송되게 되는데, 식각부(40)의 구성을 살펴보면, 식각용액이 저장탱크(미도시)에서 공급되는 공급관(41)과 공급관(41)을 따라 유입되는 식각용액이 스프레이 분사되도록 하는 노즐(42)로 구성되어 글라스의 표면 식각공정을 수행하도록 하는 구성을 갖는다.Thereafter, the primary cleaned glass cassette 10 is transferred to the etching unit 40. Looking at the configuration of the etching unit 40, the supply pipe 41 to which the etching solution is supplied from a storage tank (not shown) is provided. And a nozzle 42 for spray-etching the etching solution flowing along the supply pipe 41 to have a surface etching process of the glass.

본 발명에서 상기의 식각용액은 희망하는 식각 두께에 따라 상업적으로 성공한 어떠한 불산용액을 사용하여도 무방하며, 또한, PH3 이하의 강산을 첨가하여 슬리밍 효과를 높일 수도 있다.In the present invention, the etching solution may use any commercially successful hydrofluoric acid solution according to the desired etching thickness, and may also increase the slimming effect by adding a strong acid of PH3 or less.

본 발명의 실시에 따른 상기의 식각부(40)는 6 ∼ 12㎛/min의 에칭이 이루어지도록 한다. In the etching unit 40 according to the embodiment of the present invention, the etching of 6 to 12 μm / min is performed.

상기 식각된 글라스 카세트(10)는 2차 세정을 하게 되는데, 상기의 과정을 수행하게 되는 2차 세정부(50)는 세정용액이 저장탱크(미도시)에서 공급되는 공급관(51)과 공급관(51)을 따라 유입되는 세정용액이 스프레이 분사되도록 하는 노즐(52)로 구성되어 에칭이 완료된 글라스를 초순수를 이용하여 2차 세정을 하도록 하는 구성을 갖는다.The etched glass cassette 10 is subjected to secondary cleaning, and the secondary cleaning unit 50 which performs the above process includes a supply pipe 51 and a supply pipe in which a cleaning solution is supplied from a storage tank (not shown). It is composed of a nozzle 52 for spraying the cleaning solution flowing along the 51) to have a secondary cleaning of the glass, the etching is completed using ultrapure water.

마지막으로, 세정된 글라스는 건조부(60)로 이송되어 건조되게 되는데, 노 즐(61)을 통해 건조공기를 뿜어주어 CDA(Clean Dry Air)에 의해 글라스(1)의 표면이 건조되게 된다. Finally, the cleaned glass is transferred to the drying unit 60 to be dried, and blows dry air through the nozzle 61 to dry the surface of the glass 1 by CDA (Clean Dry Air).

상기의 1차 세정과, 식각 및 2차 세정, 건조부의 노즐은, 각개 지그(11) 사이사이의 양측으로 다수 개 배치되도록 하여 분사시 글라스의 양 측면으로 분사되게 함으로써, 균일하고 완전한 세정 및 식각과 건조가 이루어지도록 한다.The nozzles of the primary cleaning, etching and secondary cleaning and drying units are arranged on both sides between the jig 11 so that the nozzles are sprayed on both sides of the glass during the spraying, thereby uniform and complete cleaning and etching. Allow to dry.

상기의 구성을 가지는 본 발명의 작동상태를 살펴보면, 지그(11)를 포함하는 카세트(10)가 마련된 로딩부(21)에서 각각의 지그(11)에 글라스를 만입시켜 하나의 글라스 카세트(10) 유닛이 형성되면, 상기 카세트(10)를 이송 컨베이어(23)에 진입시킨다.Looking at the operating state of the present invention having the above configuration, one glass cassette 10 by injecting the glass into each jig 11 in the loading section 21 provided with the cassette 10 including the jig 11 Once the unit is formed, the cassette 10 enters the transfer conveyor 23.

이송 컨베이어(23)를 통해 이동하는 글라스 카세트(10)는 먼저, 1차 세정부(30)에 도달하게 되며, 도달시 노즐(32)을 통해 세정액이 스프레이 분사되어 1차 세정이 이루어져 식각 작업 전에 글라스 면을 정리하게 된다.The glass cassette 10 moving through the transfer conveyor 23 first reaches the first cleaning unit 30, and upon reaching the glass cassette 10, the cleaning liquid is spray-sprayed through the nozzle 32, and the first cleaning is performed before the etching operation. The glass surface is arranged.

1차 세정이 이루어진 카세트(10)는 식각부(40)로 이송되게 되며, 노즐(42)을 통해 식각 용액이 스프레이 분사되어 글라스 표면 에칭이 이루어지며, 글라스의 에칭이 완료되면, 이송 컨베이어(23)에 의해 2차 세정부(50)로 이송되게 된다.The cassette 10 having the primary cleaning is transferred to the etching unit 40, and the etching solution is spray-sprayed through the nozzle 42 to etch the glass surface. When the etching of the glass is completed, the transfer conveyor 23 is completed. ) Is transferred to the secondary cleaning unit 50.

2차 세정부(50)에서는 식각 공정 후 유착되었을 염려가 있는 불순물을 제거하기 위해 글라스를 후세정 하게 되며, 이 역시 노즐(52)을 통해 세정액을 스프레이 분사하여 완전한 세정이 이루어지게 한다. In the secondary cleaning unit 50, the glass is post-washed to remove impurities that may be adhered after the etching process, which is also sprayed with the cleaning liquid through the nozzle 52 to perform a complete cleaning.

상기 세정과 식각이 완료된 글라스는 건조부(60)로 이송되게 되며, 건조부(60)에서 CDA(Clean Dry Air)를 이용해 완전 건조되면 글라스의 표면 식각을 위한 전 공정이 완료되게 된다. The glass, which has been cleaned and etched, is transferred to the drying unit 60, and when the drying unit 60 is completely dried using the CDA (Clean Dry Air), the entire process for etching the surface of the glass is completed.

공정이 완료된 글라스는 언로딩부(22)로 이송됨과 동시에 카세트(10)에서 가공이 완료된 글라스를 인출시키고, 카세트(10)는 리턴 컨베이어(24)에 의해 로딩부(23)로 복귀되어, 상기의 공정의 흐름이 끊기지 않고 반복적으로 수행될 수 있게 한다. The glass after the process is transferred to the unloading unit 22 and at the same time withdraw the finished glass from the cassette 10, the cassette 10 is returned to the loading unit 23 by the return conveyor 24, The flow of the process can be performed repeatedly without interruption.

도 1은 본 발명의 평면도1 is a plan view of the present invention

도 2는 본 발명의 정단면도2 is a front cross-sectional view of the present invention.

도 3은 본 발명의 실시에 따른 1차 세정부의 측단면도Figure 3 is a side cross-sectional view of the primary cleaning unit according to the practice of the present invention

도 4는 본 발명의 실시에 따른 식각부의 측단면도Figure 4 is a side cross-sectional view of the etching portion in accordance with an embodiment of the present invention

도 5는 본 발명의 실시에 따른 2차 세정부의 측단면도Figure 5 is a side cross-sectional view of the secondary cleaning unit according to the practice of the present invention

도 6은 본 발명의 실시에 따른 건조부의 측단면도Figure 6 is a side cross-sectional view of the drying unit according to the embodiment of the present invention.

도 7은 본 발명의 실시에 따른 지그체의 정면도7 is a front view of a jig body according to an embodiment of the present invention.

[ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명 ][Description of Code for Major Parts of Drawing]

10 : 카세트 11 : 지그체10: cassette 11: jig

11a : 프레임 11b : 만입부11a: frame 11b: indent

11c : 체결부재 20 : 주프레임11c: fastening member 20: main frame

21 : 로딩부 22 : 언로딩부21: loading unit 22: unloading unit

23 : 이송 컨베이어 24 : 리턴 켄베이어23: conveying conveyor 24: return Kenvey

30 : 1차 세정부 31, 41, 51, 61 : 공급관30: 1st cleaning part 31, 41, 51, 61: supply pipe

32, 42, 52, 62 : 노즐 40 : 식각부32, 42, 52, 62: nozzle 40: etching part

50 : 2차 세정부 60 : 건조부50: secondary cleaning unit 60: drying unit

Claims (2)

TFT-LCD용 글라스의 표면 식각장치에 있어서, In the surface etching apparatus of the glass for TFT-LCD, LCD 글라스(1)가 만입될 수 있는 프레임(11a)이 형성된 지그(11)가 바닥면에 수직으로 하나 이상 형성된 카세트(10)와, A cassette 10 having one or more jig 11 formed therein with a frame 11a through which the LCD glass 1 can be indented perpendicularly to a bottom surface thereof, 양측에 로딩부(21)와 언로딩부가(22)가 각각 설치되되, 로딩부(21)와 언로딩부(22) 사이에는 2열로 설치되는 이송 컨베이어(23)와 리턴 컨베이어(24)로 구성되어 상기 카세트(10)가 자동으로 이송되도록 하는 주프레임(20)과, The loading part 21 and the unloading part 22 are respectively installed on both sides, and the conveying conveyor 23 and the return conveyor 24 are installed in two rows between the loading part 21 and the unloading part 22. Main frame 20 to automatically transfer the cassette 10, 상기 로딩부(21)의 전측에 설치되되, 공급관(31)으로 유입된 세정액을 노즐(32)로 스프레이 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1)를 세정하는 1차 세정부(30)와,The primary cleaning unit is installed on the front side of the loading unit 21 and sprays the cleaning liquid introduced into the supply pipe 31 to the nozzle 32 to clean the glass 1 transported by the transfer conveyor 23 ( 30) and, 상기 1차 세정부(30)의 후측에 설치되되, 공급관(41)으로 유입된 식각용액을 노즐(42)로 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1)를 애칭하도록 하는 식각부(40)와,An etching unit installed at the rear side of the primary cleaning unit 30 to spray the etching solution introduced into the supply pipe 41 to the nozzle 42 to etch the glass 1 transferred by the transfer conveyor 23. 40, 상기 식각부(40)의 후측에 설치되되, 식각된 글라스를 공급관(51)으로 유입된 세정액을 노즐(52)로 스프레이 분사하여 이송 컨베이어(23)에 의해 이송되는 글라스(1) 면을 정리하도록 하는 2차 세정부(50)와,It is installed on the rear side of the etching unit 40, to spray the cleaning liquid introduced into the supply pipe 51 to the etched glass to the nozzle 52 to clean the surface of the glass (1) transported by the conveying conveyor (23) Second cleaning unit 50 to be, 상기 로딩부(21)의 후측에 설치되되, 상기 2차 세정부(50)에 의해 세정된 글라스(1)를 CDA(Clean Dry Air)로 건조시키는 건조부(60)로 구성됨을 특징으로 하는 TFT-LCD 글라스용 표면 식각장치.TFT which is installed at the rear side of the loading unit 21 and comprises a drying unit 60 for drying the glass 1 cleaned by the secondary cleaning unit 50 with CDA (Clean Dry Air). -Surface etching device for LCD glass. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 카세트(10)는, 4개의 글라스가 만입될 수 있는 4개의 만입부(11b)가 형성된 프레임(11a)의 구조로 형성되되, 체결부재(11b)로 글라스를 결속시키는 지그(11)가 카세트(10) 바닥면에 수직으로 5열을 이루도록 하여 총 20장의 글라스가 하나의 카세트(10)에 로딩되는 구성을 갖는 TFT-LCD 글라스용 표면 식각장치.The cassette 10 has a structure of a frame 11a having four indentations 11b through which four glasses can be indented, and a jig 11 for binding the glass to the fastening member 11b includes a cassette ( 10) A surface etching apparatus for TFT-LCD glass having a configuration in which a total of 20 glasses are loaded in one cassette 10 by forming five rows perpendicular to the bottom surface.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102617042A (en) * 2012-03-29 2012-08-01 广州普耀光学科技有限公司 Method and equipment for etching glass
KR101240959B1 (en) * 2011-06-22 2013-03-11 주식회사 이코니 Apparatus including nozzle for spraying etching solution and apparatus for etching glass substrate
KR101516275B1 (en) * 2014-01-08 2015-05-04 주식회사 엠엠테크 apparatus for processing glass

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101240959B1 (en) * 2011-06-22 2013-03-11 주식회사 이코니 Apparatus including nozzle for spraying etching solution and apparatus for etching glass substrate
CN102617042A (en) * 2012-03-29 2012-08-01 广州普耀光学科技有限公司 Method and equipment for etching glass
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