KR20080037796A - 조리기기 - Google Patents

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KR20080037796A
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최흥식
김현정
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엘지전자 주식회사
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Abstract

본 발명은 조리실과, 상기 조리실에 구비된 전도체 트레이와, 상기 전도체 트레이를 유도 가열하는 유도 가열 코일와, 상기 유도 가열 코일과 전도체 트레이 사이에 구비된 유전체 플레이트와, 상기 전도체 트레이를 중심으로 상기 유도 가열 코일과 반대쪽에 위치된 조리실의 일부분과 연결된 마그네트론을 포함함으로써, 마이크로파 공급 유닛과 유도 가열 유닛 모두 독립적인 가열을 할 수 있고, 열효율이 높고, 안전적인 조리기기를 제공한다.
Figure P1020060104881
조리기기, 조리실, 마이크로파, 마그네트론, 유도 가열, 유도 가열 코일, 전도체 트레이, 유전체

Description

조리기기{Cooking Device}
도 1은 본 발명에 따른 조리기기의 단면도이다.
도 2는 도 1의 A-A선에 따른 단면도이다.
도 3은 본 발명에 따른 조리기기의 주요 제어 블록도이다.
<도면의 주요 부분에 관한 부호의 설명>
2 ; 캐비닛 4 ; 조리실
6 ; 전도체 트레이 8 ; 유전체 플레이트
10 ; 마이크로파 공급 유닛 12 ; 마그네트론
14 ; 도파관 16 ; 교반 유닛
20 ; 유도 가열 유닛 22 ; 유도 가열 히터
24 ; 유도 가열 회로부 30 ; 제어 유닛
40 ; 전도체 트레이 탑재 감지 유닛 42 ; 제1센서부
44 ; 제2센서부 46 ; 센서 배리어
본 발명은 음식물 등 조리 대상에 열원을 공급하여 조리 대상이 조리되게 하는 조리기기에 관한 것으로서, 특히 마이크로파와 유도 가열 코일 열원을 동시에 사용할 수 있는 조리기기에 관한 것이다.
일반적으로 조리기기는 조리실에 수납된 음식물, 스팀 타월 등의 조리 대상에 열원을 공급하여, 조리 대상을 해동, 데우기, 소독 등 조리하는데 주로 사용된다.
상기 조리기기에 적용되는 열원으로는 마이크로파나 여러 유형의 히터가 있다. 이러한 조리기기에 적용되는 열원은 각각, 열원을 공급할 수 있는 조리 대상의 종류나 위치, 조리 대상이 담아질 수 있는 조리 용기의 종류가 한정적이다.
따라서 조리 대상의 종류나, 위치, 조리 용기의 종류 등 다양한 조리 조건에 대응하여 항상 균일 조리를 비롯한 최적의 조리 모드를 구현할 수 있는 조리기기가 요구되고 있다.
본 발명은 조리 대상의 종류나 위치, 조리 용기의 종류 등 다양한 조리 조건에 대응하여 항상 최적의 조리 모드를 구현할 수 있는 조리기기를 제공하는데 그 목적이 있다.
상기한 과제를 해결하기 위해 본 발명은 조리실과, 상기 조리실에 구비된 전도체 트레이와, 상기 전도체 트레이를 유도 가열하는 유도 가열 코일와, 상기 유도 가열 코일과 전도체 트레이 사이에 구비된 유전체 플레이트와, 상기 전도체 트레이를 중심으로 상기 유도 가열 코일과 반대쪽에 위치된 조리실의 일부분과 연결된 마그네트론을 포함하는 조리기기를 제공한다.
상기 전도체 트레이는 착탈 가능할 수 있다.
상기 조리실에 장착된 전도체 트레이와 조리실 사이 간격은, λ/4 미만일 수 있다.
상기 전도체 트레이의 탑재 여부를 감지하기 위한 트레이 탑재 감지 유닛을 포함할 수 있다.
상기 트레이 탑재 감지 유닛은 스위치와 센서 방식 중 적어도 어느 하나일 수 있다.
이하, 본 발명의 실시 예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.
도 1은 본 발명에 따른 조리기기의 단면도이고, 도 2는 도 1의 A-A선에 따른 단면도이고, 도 3은 본 발명에 따른 조리기기의 주요 제어 블록도이다.
본 발명에 따른 조리기기는 캐비닛(2)과, 상기 캐비닛(2)에 개폐 가능토록 설치된 도어(미도시)와, 상기 캐비닛(2) 내부에 설치된 조리실(4)과, 상기 조리 실(4)에 마이크로파를 공급하는 마이크로파 공급 유닛(10)과, 상기 조리실(6)에 유도 가열 열원을 공급하는 유도 가열 유닛(20)과, 조리기기의 전자 제어를 위한 제어 유닛(30)을 포함하여 구성될 수 있다.
상기 조리실(4)에는 음식물 등 조리 대상이 올려질 수 있는 트레이가(6)가 구비된다. 상기 트레이(6)는 조리실의 실제 용적율이 가능한 클 수 있도록 상기 조리실(4) 내 하측부에 위치될 수 있다. 상기 트레이(6)는 상기 마이크로파를 통과시키지 않고 상기 유도 가열 유닛(20)에 의해 유도 가열될 수 있도록 전도체 재질로 이루어질 수 있다. 이하 상기 트레이(6)를 전도체 트레이(6)라 한다. 상기 전도체 트레이(6)는 상기 마이크로파가 상기 트레이(6)와 조리실(4) 사이를 통해서도 통과하지 못하도록 상기 조리실(4)을 상하방향으로 구획토록 설치될 수 있다. 이 때 상기 전도체 트레이(6)는 상기 조리실(4)에 영구 고정되는 것도 가능하고, 상기 조리실(4)에 착탈 가능토록 구비되는 것도 가능하다. 상기 전도체 트레이(6)는 상기 조리실(4)에 착탈되는 경우, 상기 조리실(4)에 용이하게 착탈되되, 상기 조리실(4)과의 사이로 마이크로파가 누설되지 않도록, 상기 조리실(4)에 장착시 상기 조리실(4)과의 사이 간격(6T)이 λ/4 미만을 유지할 수 있도록 구성될 수 있다. 상기 λ는 상기 마그네트론(12)에서 방출하는 마이크로파의 파장이다.
상기 전도체 트레이(6)는 전체적으로 평평한 형태를 취하는 것도 가능하고, 어느 정도 깊이가 있는 공간을 갖는 용기 형태를 취하는 것도 가능하다.
또한 상기 조리실(4)에는 상기 유도 가열 유닛(20)에 의한 자계는 통과시키되, 열에 강한 유전체 플레이트(8)가 구비된다. 상기 유전체 플레이트(8)는 여러 재질 중 세라믹 재질로 구현될 수 있다. 상기 유전체 플레이트(8)는 상기 전도체 트레이(6)를 지지하고 상기 유도 가열 유닛(20)에 의해 상기 전도체 트레이(6)가 유도 가열될 수 있도록, 상기 전도체 트레이(6) 하측에 위치될 수 있다. 상기 유전체 플레이트(8)는 상기 조리실(4)의 상하방향으로 구획토록 설치될 수 있다. 상기 유전체 플레이트(8)는 상기 조리실(4)의 바닥과 상기 유전체 플레이트(8) 사이에, 후술할 유도 가열 코일(22)이 위치될 수 있도록 상기 조리실(4) 바닥으로부터 소정 간격 이격될 수 있다.
상기 마이크로파 공급 유닛(10)은 상기 캐비닛(2) 내 조리실(6) 외측에 위치 되어 마이크로파를 발생시키는 마그네트론(12)과, 상기 마그네트론(12)에서 발생된 마이크로파가 상기 조리실(6)로 유도될 수 있도록 일측이 상기 마그네트론(12)과 연결되고 타측이 상기 조리실(6)과 연결된 도파관(14)을 포함할 수 있다. 상기 도파관(14)은 상기 조리실(6)과 연결되는 타측이, 상기 마이크로파의 균일 방사 등 최적의 조리 모드 구현을 위해, 도 1에 도시된 바와 같이 한 곳일 수도 있고, 본 발명의 실시 예로 기술되지 않았지만 둘 이상의 복수 곳일 수 있다.상기 도파관(14)은 상기 조리실(6)과 연결되는 타측이, 상기 마이크로파의 균일 방사 등 최적의 조리 모드 구현을 위해, 도 1에 도시된 바와 같이 상기 조리실(6)의 상측면에 연결될 수도 있고, 본 발명의 실시 예로 기술되지 않았지만 상기 조리실(6)의 상측면 외 다른 면에 연결될 수도 있다.
한편 상기 마이크로파 공급 유닛(10)은 상기 조리실(6)과 연결되는 타측(14B)에, 상기 마이크로파의 균일 방사 등 최적의 조리 모드 구현을 위해, 상기 조리실(6)에 공급되는 마이크로파를 교반하는 교반 유닛(16)이 포함될 수 있다. 상기 교반 유닛(16)은 일측이 상기 도파관(14)과 연결되고 타측이 상기 조리실(6) 내부에 위치된 교반 축(17)과, 상기 교반 축(17)을 회전시키는 모터와 같은 교반 축 동력원(18)과, 상기 조리실(6)에 위치되고 상기 교반 축(17)과 일체로 회전토록 결합된 교반 날개(19)로 구성될 수 있다.
상기 유도 가열 유닛(20)은 상기 유전체 플레이트(8) 하측에 위치되도록 상기 조리실(2) 내부에 위치된 유도 가열 코일(22)과, 상기 유도 가열 코일(22)에 전원을 인가되게 하는 유도 가열 회로부(미도시)를 포함할 수 있다.
한편, 본 실시 예와 같이 상기 전도체 트레이(4)의 착탈이 가능한 경우, 상기 전도체 트레이(4)의 탈거시 상기 조리실(4)에 마이크로파가 공급되어 상기 유도 가열 유닛(20)이 오작동되지 않도록, 안정 장치의 하나로서 상기 전도체 트레이(4)의 탑재 여부를 감지하는 트레이 탑재 감지 유닛(40)이 더 포함될 수 있다.
상기 트레이 탑재 감지 유닛(40)은 기계적, 전자석 스위치 방식으로 구현되는 것도 가능하고, 센서 방식으로 구현되는 것도 가능하다. 본 실시 예에서는 일 예로써, 상기 트레이 탑재 감지 유닛(40)이 센서 방식으로 구현되는 것으로 한정하여 설명한다. 즉 상기 트레이 탑재 감지 유닛(40)은 상기 조리실(4) 내부에 위치되어 상호 신호 송수신이 가능토록 이격된 제1,2센서부(42)(44)와, 상기 전도체 트레이(6)에 구비되어 상기 전도체 트레이(6)가 상기 조리실(4)에 장착되면 상기 제1,2센서부(42)(44) 사이를 가로막는 센서 배리어(46)로 이루어질 수 있다. 상기 제1,2센서부(42)(44)는 오조작되지 않도록 상기 조리실(4)의 내벽에 형성된 센서 홈(4A) 내부에 삽입되게 위치될 수 있다. 상기 제1,2센서부(42)(44)는 상기 전도체 트레이(6)의 착탈시 상기 센서 배리어(46)와 상기 조리실(4)이 간섭을 일으키지 않도록, 상기 도어와 대향되는 상기 조리실(4)의 후면에 위치될 수 있다.
상기와 같이 구성된 본 발명의 동작을 살펴보면 다음과 같다.
상기 전도체 트레이(6)가 상기 조리실(4)에 장착되면, 상기 센서 배리어(46)가 상기 제1,2센서부(42)(44) 사이에 위치되어 상기 제1,2센서부(42)(44) 간 통신이 두절된다. 그러면, 상기 제어 유닛(30)이 상기 제1,2센서부(42)(44) 간 통신이 두절된 것을 통해 상기 전도체 트레이(6)가 장착된 것으로 판단하여 상기 유도 가열 유닛(20)은 물론 상기 마이크로파 공급 유닛(10)의 작동이 가능한 상태가 된다.
따라서 상기 조리실(4) 내 음식물 등 조리 대상이 상기 마이크로파 공급 유닛(10)과 상기 유도 가열 유닛(20)에 의해 가열될 수 있다. 즉, 상기 마이크로파 공급 유닛(10)이 작동되면, 상기 마그네트론(12)에서 마이크로파가 발생되고, 상기 발생된 마이크로파가 상기 도파관(14)을 따라 상기 조리실(4) 쪽으로 유도되고, 상기 유도된 마이크로파가 상기 교반 유닛(16)에 의해 상기 조리실(4)에 방사될 수 있다. 이 때, 상기 조리실(4)에 방사된 마이크로파는 상기 전도체 트레이(6)를 투과하지 못함은 물론, 상기 조리실(4)과 전도체 트레이(6) 사이로도 통과하지 못한다. 그렇기 때문에 상기 유전체 플레이트(8) 및 유도 가열 코일(22)이 상기 조리실(4)에 방사된 마이크로파에 의해 영향을 받지 않는다. 그리고, 상기 유도 가열 유닛(20)이 작동되면, 상기 유도 가열 코일(22)에 전원이 공급되고, 상기 전도체 트레이(6)가 자성 재질이기 때문에 유도 가열되어 상기 전도체 트레이(6) 상 조리 대상이 열을 받아 가열될 수 있다.
반면, 상기 전도체 트레이(6)가 상기 조리실(4)로부터 착탈되면, 상기 제1,2센서부(42)(44) 사이를 가로막고 있던 센서 배리어(46)가 상기 전도체 트레이(6)와 함께 탈거되기 때문에, 상기 제1,2센서부(42)(44)가 상호 통신될 수 있고, 상기 제어 유닛(30)이 상기 전도체 트레이(6)가 탈거된 것으로 판단하여 상기 마이크로파 공급 유닛(10)이 작동되지 않게 한다. 따라서 상기 조리실(4) 내 조리 대상은 상기 유도 가열 유닛(20)에 의해서만 가열될 수 있다.
이상 상기와 같이 구성, 작용되는 본 발명에 따른 조리기기의 실시 예를 설명하였으나, 본 발명은 상술한 실시 예와 도면에 한정되지 않고, 그 발명의 기술 사상 범위 내에서 당업자에 의해 다양한 변형이 가능함은 물론이다.
즉, 본 발명은 전도체 트레이가 착탈 가능하고, 조리실에 장착된 전도체 트레이와 조리실 사이에 마이크로파 흡수 내지 누설 방지를 위한 필터 등의 구조가 적용되는 것도 가능한다. 또한 본 발명은 조리실에 장착된 전도체 트레이와 조리실 사이에 단열 구조가 적용되는 것도 가능하다. 또한 본 발명은 전도체 트레이 탑재 감지 유닛의 경우, 상술한 실시 예의 제1,2센서부 위치에 스위치 단자를 설치하고, 상술한 실시 예의 센서 배리어가 스위치 단자를 스위칭하는 스위치 로드로 구현되는 것도 가능하다.
본 발명에 따른 조리기기는 마이크로파는 통과하지 못하고 유도 가열될 수 있는 전도체 트레이가 조리실에 구비됨으로써, 조리실에 방사된 마이크로파에 의해 유도 가열 유닛이 영향을 받지 않기 때문에 마이크로파 공급 유닛과 유도 가열 유닛 모두 독립적인 가열을 할 수 있어 다양한 조리 조건에 대응하여 최적의 조리 모드를 구현할 수 있고, 상기 마이크로파에 의한 유도 가열 유닛의 오조작이 방지될 수 있고, 상기 마이크로파에 의한 유도 가열 유닛의 오조작 방지를 위한 복잡한 제어 설계나 부품 알고리즘이 필요없는 이점이 있다.
또한 본 발명은 유도 가열 유닛이 전도체 트레이를 직접 유도 가열하고 전도체 트레이의 전도를 이용해 조리실 내부를 가열할 수 있고, 이 때 유도 가열 코일 자체가 발열하지는 않기 때문에 열효율이 높고, 유도 가열 유닛의 냉각을 위한 구조가 불필요하고, 화재, 화상에 대해서 안전적인 이점이 있다.

Claims (5)

  1. 조리실과;
    상기 조리실에 구비된 전도체 트레이와;
    상기 전도체 트레이를 유도 가열하는 유도 가열 코일와;
    상기 유도 가열 코일과 전도체 트레이 사이에 구비된 유전체 플레이트와;
    상기 전도체 트레이를 중심으로 상기 유도 가열 코일과 반대쪽에 위치된 조리실의 일부분과 연결된 마그네트론을 포함하는 조리기기.
  2. 청구항 1에 있어서,
    상기 전도체 트레이는 착탈 가능한 조리기기.
  3. 청구항 2에 있어서,
    상기 조리실에 장착된 전도체 트레이와 조리실 사이 간격은, 마이크로파의 파장(λ)/4 미만인 조리기기.
  4. 청구항 1에 있어서,
    상기 전도체 트레이의 탑재 여부를 감지하기 위한 트레이 탑재 감지 유닛을 포함하는 조리기기.
  5. 청구항 4에 있어서,
    상기 트레이 탑재 감지 유닛은 스위치와 센서 방식 중 적어도 어느 하나인 조리기기.
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WO2021215593A1 (ko) 2020-04-21 2021-10-28 엘지전자 주식회사 조리기기

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