KR20080037785A - Elevating drive apparatus for a elevator of the load-lock chamber - Google Patents
Elevating drive apparatus for a elevator of the load-lock chamber Download PDFInfo
- Publication number
- KR20080037785A KR20080037785A KR1020060104856A KR20060104856A KR20080037785A KR 20080037785 A KR20080037785 A KR 20080037785A KR 1020060104856 A KR1020060104856 A KR 1020060104856A KR 20060104856 A KR20060104856 A KR 20060104856A KR 20080037785 A KR20080037785 A KR 20080037785A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- elevator
- step motor
- control unit
- lock chamber
- encoder
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/6773—Conveying cassettes, containers or carriers
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67703—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations
- H01L21/67712—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations between different workstations the substrate being handled substantially vertically
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67739—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
- H01L21/67742—Mechanical parts of transfer devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
- H01L21/677—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
- H01L21/67763—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading
- H01L21/67772—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations the wafers being stored in a carrier, involving loading and unloading involving removal of lid, door, cover
Abstract
Description
도 1은 종래의 로드락 챔버를 보여주는 개략 구성도, 1 is a schematic configuration diagram showing a conventional load lock chamber,
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 로드락 챔버의 엘리베이터 승강구동장치를 보여주는 개략 구성도이다. Figure 2 is a schematic diagram showing the elevator lift drive device of the load lock chamber according to an embodiment of the present invention.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>
10 : 웨이퍼 카세트 20 : 트랜스퍼용 로봇암10
100 : 로드락 챔버 102 : 본체100: load lock chamber 102: main body
102a : 도어 104 : 엘리베이터102a: Door 104: Elevator
104a : 스테이지 104b : 승강구동축104a:
104c : 드라이브암 104c-1 : 너트부104c:
106 : 승강구동장치부 106a : 리드스크류106:
106a-1 : 리드스크류측 풀리 106b : 전동벨트106a-1: Lead
106c : 스텝모터 106c-1 : 회전축106c:
106c-2 : 모터측 풀리 106d : 엔코더106c-2:
106e : 선형이동검출수단 106e-1 : 가동부106e: linear movement detecting means 106e-1: movable part
106e-2 : 실린더부 106e-2-1 : 유체106e-2:
106e-2-2 : 변형판 106e-2-3 : 변형검출수단106e-2-2:
106e-3 : 고정부 106e-4 : 피스톤부106e-3: Fixed
108 : 제어부 w : 웨이퍼 108: control unit w: wafer
본 발명은 반도체 소자 제조용 로드락 챔버(load-lock chamber)의 엘리베이터(elevator) 승강구동장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 스텝모터의 회전 구동에 따라 엘리베이터가 실제로 정확하게 승강되었는지를 검출하여 엘리베이터가 비정상적으로 승강 작동된 경우 바로 이상조치를 취할 수 있게 됨으로써 이후의 엘리베이터상에 놓인 웨이퍼 카세트에 대한 트랜스퍼용 로봇암의 충돌 및 그에 따른 웨이퍼 파손을 미연에 방지할 수 있게 되는 로드락 챔버의 엘리베이터 승강구동장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE
일반적으로, 반도체 소자를 제조하기 위한 여러 단위 공정장치들은 대부분 밀폐된 가공공간을 형성하기 위하여 공정챔버(chamber)를 구비하게 되며, 해당 공정챔버의 내부는 통상 고진공, 고압, 고온과 같은 특수환경 조건으로 조성되게 된다. In general, various unit processing apparatuses for manufacturing a semiconductor device have a process chamber to form an enclosed processing space, and the interior of the process chamber is usually subjected to special environmental conditions such as high vacuum, high pressure, and high temperature. It will be composed.
그리고, 특수환경 조건의 공정챔버내로 공정대상물인 웨이퍼(wafer)를 바로 직접적으로 투입하게 되면, 해당 웨이퍼가 급격한 스트레스(stress)를 받아 손상되게 되고, 또한 외부 영향으로 공정챔버내의 환경 조건이 불량해질 수 있게 된다. In addition, if a wafer, which is a process object, is directly injected into a process chamber under a special environmental condition, the wafer may be damaged by a sudden stress, and environmental conditions in the process chamber may be poor due to external influences. It becomes possible.
따라서, 이러한 문제점들을 방지하고자 웨이퍼가 공정챔버내로 투입되기에 앞서 해당 공정챔버와 내부 환경조건이 근접하는 로드락 챔버(load-lock chamber)내에 우선적으로 웨이퍼를 투입한 다음, 해당 웨이퍼를 다시 공정챔버내로 옮겨 로딩(loading)하게 되며, 즉 로드락 챔버는 일종의 완충 챔버의 역할을 하게 된다. Therefore, in order to prevent these problems, prior to the wafer being introduced into the process chamber, the wafer is preferentially introduced into a load-lock chamber in which the process chamber is close to the internal environmental conditions, and then the wafer is placed back into the process chamber. It will be loaded into and loaded, that is, the load lock chamber will act as a kind of buffer chamber.
도 1은 종래의 반도체 소자 제조용 로드락 챔버에 대한 개략 구성도이다. 1 is a schematic configuration diagram of a load lock chamber for manufacturing a conventional semiconductor device.
로드락 챔버(100)는, 다수매의 웨이퍼(w)가 상하로 적재되어 있는 웨이퍼 카세트(cassette)(10)의 출입을 위한 도어(door)(102a)가 일측에 형성되고 그 밀폐되는 내부에는 공정챔버와 근접하는 환경조건이 형성되게 되는 본체(102)와, 본체(102)내에 구비되어 로딩되는 웨이퍼 카세트(10)를 상면상에 안착한 상태에서 승강되게 되는 엘리베이터(elevator)(104)와, 엘리베이터(104)를 승강 구동시키기 위해 외부에 구비되게 되는 승강구동장치부(106)와, 승강구동장치부(106)에 대한 작동 제어를 실시하게 되는 제어부(108)를 포함하게 된다. In the
전술한 엘리베이터(104)는, 본체(102)내에 구비되어 그 상면상에 웨이퍼 카세트(10)가 안착되게 되는 스테이지(stage)(104a)와, 이 스테이지(104a)의 하부측에 그 상단부가 결합되어 본체(102) 외부로 연장되도록 수직되게 구비되게 되는 승강구동축(104b)과, 일단은 승강구동축(104b)에 고정 결합을 이루고 타단은 후술하는 리드스크류(106a)측과 나사 결합을 이루는 너트부(104c-1)로 형성되어 수평방향으로 구비되게 되는 드라이브암(drive arm)(104c)으로 구성되게 된다. The above-mentioned
승강구동장치부(106)는, 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b)과 평행하도록 일측에 수직되게 구비되게 되는 리드스크류(lead screw)(106a)와, 제어부(108)의 제어에 따라 작동되어 리드스크류(106a)를 소정량 회전시키게 되는 스텝모터(step motor)(106c)와, 스텝모터(106c)의 회전축(106c-1)상의 모터측 풀리(pully)(106c-2)와 리드스크류(106a)측 풀리(106a-1)간을 전동 연결하도록 구비되게 되는 전동벨트(belt)(106b)와, 스텝모터(106c)의 실제 회전된 양을 측정하여 제어부(108)로 송출함으로써 제어부(108)로 하여금 스텝모터(106c)가 정확하게 작동되었는지를 확인할 수 있도록 하기 위해 스텝모터(106c)의 회전축(106c-1)에 대해 구비되게 되는 엔코더(encoder)(106d)로 이루어지게 된다. The elevating
따라서, 외부로부터 웨이퍼 카세트(10)가 이송되어 본체(102)내의 엘리베이터(104)의 스테이지(104a)상에 안착된 상태에서, 제어부(108)의 작동 제어에 따라 스텝모터(106c)가 회전 작동되게 되면, 스텝모터(106c)의 회전 구동력이 전동벨트(106b)를 통해 리드스크류(106a)측으로 전달되어 리드스크류(106a)가 회전되게 되고, 리드스크류(106a)의 회전에 따라 해당 리드스크류(106a)에 대해 일단의 너트부(104c-1)를 통해 나사 결합을 이루고 있는 드라이브암(104c)이 승강되게 되며, 해당 드라이브암(104c)의 승강에 따라 고정 결합을 이루고 있는 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b) 및 스테이지(104a)가 함께 승강되게 된다. Therefore, in a state where the
그리고, 이와 같이 엘리베이터(104)가 승강되게 되면, 해당 스테이지(104a)상의 웨이퍼 카세트(10)가 승강되게 되고, 웨이퍼 카세트(10)가 승강됨에 따라 해당 웨이퍼 카세트(10)내에 상하로 적재되어 있는 웨이퍼들(w)의 높이 위치가 변화하게 되므로, 별도로 로드락 챔버(100)와 공정챔버간에 구비되어 있는 트랜스퍼(transfer)용 로봇암(robot arm)(20)이 그와 동일한 높이 위치로 맞추어지게 되 는 웨이퍼 카세트(10)내의 웨이퍼(w)를 한매씩 꺼내어 공정챔버측으로 순차적으로 이송하게 된다. When the
이때, 엘리베이터(104)가 승강되는 정도는 제어부(108)가 스텝모터(106c)를 작동 제어하는 것에 의해 조정되게 되며, 즉 제어부(108)가 작동신호를 스텝모터(106c)측으로 발신하여 스텝모터(106c)가 적당량 작동되도록 하고, 그에 대해 스텝모터(106c)가 정확하게 작동되었는지를 엔코더(106d)를 이용하여 확인하게 된다. At this time, the degree to which the
덧붙여, 주지된 바와 같이, 엔코더(106d)는 스텝모터(106c)의 회전축(106c-1)에 대해 구비되어 스텝모터(106c)와 동기화되어 작용되게 되는 것으로, 스텝모터(106c)의 회전축(106c-1)에 대해 결합되어 있는 패턴원판상에 등간격으로 형성되어 있는 패턴들이 회전시 통과하는 개수를 광검출수단 등으로 검출하여 그 검출 결과를 제어부(108)측으로 송출하여 제어부(108)가 그 결과신호를 통해 스텝모터(106c)의 회전된 정도를 확인할 수 있도록 하게 된다. In addition, as is well known, the
그러나, 이상과 같은 종래에 있어서는 제어부(108)의 작동 제어에 의해 스텝모터(106c)가 정확하게 회전 작동되어 엔코더(106d)를 통해서는 스텝모터(106c)가 정확하게 작동된 것으로 확인되더라도, 실제로는 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b)이 그에 상응하도록 승강되지 못하는 경우가 발생되고 있다. However, in the conventional art as described above, even if the
이는, 스텝모터(106c)측으로부터 리드스크류(106a)측으로의 구동력 전달에 있어서의 이상에 의해 주로 발생되는 것으로 확인되고 있으며, 즉 장시간 사용에 따라 풀리(106a-1, 106c-2) 및 전동벨트(106b)에 마모가 발생되고, 또한 전동벨트(106b)의 장력이 느슨해지게 됨으로써, 회전시 전동벨트(106b)가 겉돌게 되는 이 상이 발생되게 되어, 그에 따라 결국 리드스크류(106a)가 비정상적인 양만큼만 회전되어 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b)이 충분히 승강되지 못하게 된다. It is confirmed that this is mainly caused by an abnormality in the transmission of the driving force from the
이와 같이, 엘리베이터(104)가 정확하게 승강되지 못하게 되면, 이후 트랜스퍼용 로봇암(20)이 잘못된 높이 위치에 있게 되는 웨이퍼 카세트(10)나 엘리베이터(104)에 대해 충돌하게 됨으로써, 웨이퍼(w) 파손과 같은 심각한 사고를 유발하게 되어, 생산수율을 저하시키고 또한 원활한 공정수행을 방해하게 된다. As such, when the
본 발명은 상기와 같은 제반 문제점을 해결하기 위하여 창안된 것으로서, 엘리베이터의 승강구동축이 실제로 승강된 정도를 검출하여 제어부로 송출할 수 있는 선형이동검출수단을 추가로 구비함으로써 엔코더를 통해서는 정상적인 작동이 확인되더라도 선형이동검출수단을 통해 비정상적인 작동이 확인되는 경우 공정진행 중지와 같은 이상조치를 즉시 발생시켜 이후의 트랜스퍼용 로봇암의 충돌 및 그에 따른 웨이퍼 파손을 방지할 수 있게 되는 로드락 챔버의 엘리베이터 승강구동장치를 제공하는데 그 목적이 있다. The present invention was devised to solve the above problems, and further includes a linear movement detecting means capable of detecting the degree of actually lifting the elevator drive shaft and sending it to the control unit. Even if it is confirmed, if abnormal operation is confirmed through the linear movement detection means, an elevator hatch in the load lock chamber can immediately prevent an abnormal action such as stopping the process to prevent a collision of the transfer robot arm and subsequent wafer breakage. The purpose is to provide a copper device.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 로드락 챔버의 엘리베이터 승강구동장치는, 로드락 챔버의 엘리베이터를 승강시키기 위해 상기 엘리베이터의 승강구동축측이 나사 결합을 이루어 그 회전에 따라 상기 엘리베이터가 승강되도록 하게 되는 리드스크류와, 상기 리드스크류를 회전시키기 위한 스텝모터와, 상기 스텝모터의 회전 정도를 측정하게 되는 엔코더와, 상기 스텝모터에 대한 작동 제어를 실시하고 상기 엔코더를 통해 상기 스텝모터가 정확히 작동되었는지를 확인하게 되는 제어부를 구비하는 로드락 챔버의 엘리베이터 승강구동장치에 있어서, 상기 엘리베이터의 실제 승강된 정도를 측정하여 상기 제어부로 송출함으로써 상기 제어부가 상기 엔코더로부터 전송되는 상기 스텝모터의 회전된 정도값과 대비하여 상기 엘리베이터가 목표량 만큼 정확하게 승강되었는지를 확인하도록 하게 되는 선형이동검출수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. Elevator lifting drive device of the load lock chamber of the present invention for achieving the above object, the lifting drive shaft side of the elevator to make the elevator in order to lift the elevator of the load lock chamber so that the elevator is lifted according to its rotation A lead screw, a step motor for rotating the lead screw, an encoder for measuring the degree of rotation of the step motor, operation control of the step motor, and the step motor is operated correctly through the encoder. In the elevator lift drive device of the load lock chamber having a control unit for checking the, the degree of rotation of the step motor transmitted from the encoder by the control unit by measuring the actual lifting degree of the elevator and sending it to the control unit In contrast with the elevator is aimed It characterized in that it comprises a linear movement detecting means to confirm whether the lift as accurately as the amount.
본 발명의 상기 목적과 여러 가지 장점은 이 기술분야에 숙련된 사람들에 의해 첨부된 도면을 참조하여 아래에 기술되는 발명의 바람직한 실시예로부터 더욱 명확하게 될 것이다. The above objects and various advantages of the present invention will become more apparent from the preferred embodiments of the invention described below with reference to the accompanying drawings by those skilled in the art.
이하, 첨부된 도면을 참조로 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하기로 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 로드락 챔버의 엘리베이터 승강구동장치를 보여주는 개략 구성도이다. Figure 2 is a schematic diagram showing the elevator lift drive device of the load lock chamber according to an embodiment of the present invention.
설명에 앞서, 종래와 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면부호를 부기하고, 그에 대한 상세한 설명을 일부 생략함을 밝힌다. Prior to the description, the same reference numerals are given to the same elements as in the related art, and a detailed description thereof will be omitted.
본 발명에 따르면, 리드스크류(106a)에 대해 나사 결합을 이루어 리드스크류(106a)의 회전에 따라 승강되게 되는 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b)의 실제적인 승강 정도를 검출할 수 있는 선형이동검출수단(106e)이 추가적으로 구비되게 되며, 이 선형이동검출수단(106e)은 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b)의 실제 승강된 정도를 측정하여 제어부(108)로 송출하게 된다. According to the present invention, a linear movement capable of detecting the actual lifting degree of the elevating
즉, 제어부(108)의 작동 제어에 의해 스텝모터(106c)가 적당량 회전 구동되어 엘리베이터(104)가 승강됨에 있어서, 스텝모터(106c)에 대해 구비되어 있는 엔코더(106d)로부터 스텝모터(106c)가 회전 작동된 정도가 측정되어 제어부(108)로 송출되게 됨과 아울러, 선형이동검출수단(106e)으로부터 엘리베이터(104)가 실제 승강 이동된 정도가 측정되어 또한 제어부(108)로 송출되게 되며, 따라서 제어부(108)는 스텝모터(106c)가 실제 회전 작동된 정도와 엘리베이터(104)가 실제 승강 이동된 정도를 대비하여 확인함으로써, 스텝모터(106c)의 회전된 정도에 비례하여 엘리베이터(104)가 승강 이동되지 못한 것으로 확인되는 경우에는 즉시 이상조치를 발생시키게 된다. That is, the
이때, 제어부(108)가 이상조치로서 발생시킬 수 있는 것으로는 이후의 공정진행을 전반적으로 정지시켜 즉, 트랜스퍼용 로봇암(20)의 작동을 정지시켜 해당 트랜스퍼용 로봇암(20)이 잘못된 높이에 위치되어 있는 웨이퍼 카세트(10)에 대해 충돌하는 것이 방지되도록 하면서, 외부로 이상 상황을 알리는 알람(alarm)을 발생시켜 작업자 등이 인식할 수 있도록 하는 방식 등으로 실시될 수 있다. At this time, the
바람직하게, 전술한 선형이동검출수단(106e)은, 승강되는 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b)이나 그 승강구동축(104b)에 대해 고정 결합을 이루고 있는 드라이브암(104c)에 대해 고정되도록 결합을 이루어 승강구동축(104b)의 승강에 따라 함께 선형 이동되게 되는 가동부(106e-1)와, 이 가동부(106e-1)에 대해 이격되어 대향되도록 고정되게 구비되게 되는 고정부(106e-3)와, 전술한 가동부(106e-1) 또는 고정부(106e-3)의 어느 하나에 대해 결합되도록 구비되게 되는 피스톤부(106e- 4)와, 이 피스톤부(106e-4)가 일부 삽입되도록 가동부(106e-1) 또는 고정부(106e-3)의 다른 하나에 대해 결합되도록 구비되며 그 내부에는 오일과 같은 유체가 충진되게 되고 삽입된 피스톤부(106e-4)에 의해 가해지는 압력에 의해 내부 유체(106e-2-1)가 변형됨에 따라 변형되게 되는 변형판(106e-2-2)과 이 변형판(106e-2-2)의 변형을 감지하기 위한 스트레인 게이지(strain gauge)와 같은 변형검출수단(106e-2-3)을 구비하게 되는 실린더부(106e-2)로 이루어질 수 있다. Preferably, the above-described linear
여기서, 실린더부(106e-2)내에 내장되는 변형판(106e-2-2)은 두께가 매우 얇은 탄성체 판으로 형성될 수 있고, 해당 변형판(106e-2-2)의 가장자리부는 실린더부(106e-2)의 내측벽측에 대해 고정될 수 있으며, 변형판(106e-2-2)의 일측, 즉 피스톤부(106e-4)가 위치한 측의 실린더부(106e-2)내에는 전술한 유체(106e-2-1)가 채워지게 되고, 변형판(106e-2-2)의 타측면상에는 변형검출수단(106e-2-3)이 부착되어 구비될 수 있다. Here, the
따라서, 스텝모터(106c)가 회전 작동되어 리드스크류(106a)가 회전함에 따라 승강되게 되는 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b) 및 드라이브암(104c)측에 대해 고정되도록 결합되어 있는 가동부(106e-1)가 대향되는 고정부(106e-3)에 대해 상대적으로 선형 이동하게 되면, 피스톤부(106e-4)가 실린더부(106e-2)내로 삽입되는 정도가 변화하게 되고, 이에 따라 피스톤부(106e-4)에 의해 실린더부(106e-2)내의 유체(106e-2-1)가 가압되는 정도가 변경되게 되어 해당 유체(106e-2-1)를 매개로 민감하게 변형판(106e-2-2)이 형상 변화를 하게 되며, 이 형상 변화를 변형검출수단(106e-2-3)이 검출하여 제어부(108)측으로 송출하게 됨으로써, 제어부(108)가 엘 리베이터(104)의 실제 승강된 정도를 확인할 수 있게 된다. Accordingly, the
이로써, 제어부(108)는 엔코더(106d)로부터는 스텝모터(106c)가 실제 회전 작동된 정도값을 송출받게 되고, 또한 변형검출수단(106e-2-3)으로부터는 엘리베이터(104)가 실제로 승강된 정도값을 송출받게 되므로, 전송되는 두 값의 비례성 여부를 확인하는 것에 의해 엘리베이터(104)가 정확하게 승강되었는지를 확인할 수 있게 된다. As a result, the
이상에서, 선형이동검출수단(106e)의 가동부(106e-1)가 바람직하게 엘리베이터(104)의 승강구동축(104b)이나 드라이브암(104c)측에 대해 고정 결합되도록 구비되는 것으로 나타내었으나, 해당 가동부(106e-1)는 직접 리드스크류(106a)에 대해 나사 결합되는 너트부를 갖어 리드스크류(106a)의 회전시 또한 독립적으로 승강되도록 구비될 수도 있을 것이다. In the above, although the
또한, 이상에서 선형이동검출수단(106e)이 실린더 형태인 것에 대하여 예시적으로 설명하였으나, 그 외의 다른 구성으로는 가동부(106e-1) 또는 고정부(106e-3)의 어느 하나측에는 일직선상에 등간격씩 다수개의 패턴이 형성되고 다른 하나측에는 가동부(106e-1)의 선형 이동에 따라 통과되는 해당 패턴의 개수를 인식할 수 있는 센서 등이 구비되는 것으로 이루어질 수도 있는 등, 기타 여러 다양한 수단이 채택될 수 있음은 물론이다. In addition, although the linear
이로써, 본 발명에 의하면, 스텝모터(106c)가 정상적으로 작동되었더라도 실제로는 엘리베이터(104)가 적절히 승강되지 못한 경우를 바로 검출하여 이상조치를 취할 수 있게 되므로, 이후의 웨이퍼 카세트(10)에 대한 트랜스퍼용 로봇암(20)의 충돌을 차단하여 웨이퍼(w)가 파손되는 것을 방지할 수 있게 됨으로써, 생산수율 향상 및 안정적인 공정수행이 가능하도록 할 수 있게 된다. As a result, according to the present invention, even if the
이상, 상기 내용은 본 발명의 바람직한 일 실시예를 단지 예시한 것으로 본 발명의 당업자는 본 발명의 요지를 변경시킴이 없이 본 발명에 대한 수정과 변경을 가할 수 있음을 인지해야 한다.In the foregoing description, it should be understood that those skilled in the art can make modifications and changes to the present invention without changing the gist of the present invention as merely illustrative of a preferred embodiment of the present invention.
본 발명에 따르면, 엘리베이터가 정확한 높이 위치로 승강 작동되지 않은 경우를 검출하여 바로 이상조치를 취할 수 있게 되므로, 엘리베이터상에 놓인 웨이퍼 카세트에 대한 트랜스퍼용 로봇암의 충돌 및 그에 따른 웨이퍼 파손을 미연에 방지할 수 있게 되어, 생산수율 향상 및 안정적인 공정수행이 가능하도록 할 수 있는 효과가 달성될 수 있다. According to the present invention, it is possible to detect abnormal cases in which the elevator is not lifted to the correct height position and take an abnormal action immediately, thereby preventing the collision of the transfer robot arm to the wafer cassette placed on the elevator and the resulting wafer breakage. It can be prevented, the effect can be achieved to improve the production yield and enable stable process performance.
Claims (3)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060104856A KR100850063B1 (en) | 2006-10-27 | 2006-10-27 | Elevating drive apparatus for a elevator of the load-lock chamber |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020060104856A KR100850063B1 (en) | 2006-10-27 | 2006-10-27 | Elevating drive apparatus for a elevator of the load-lock chamber |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20080037785A true KR20080037785A (en) | 2008-05-02 |
KR100850063B1 KR100850063B1 (en) | 2008-08-04 |
Family
ID=39646680
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020060104856A KR100850063B1 (en) | 2006-10-27 | 2006-10-27 | Elevating drive apparatus for a elevator of the load-lock chamber |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100850063B1 (en) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190002935A (en) * | 2017-06-30 | 2019-01-09 | 주식회사 케이씨텍 | Substrate processing chamber and Control method for lift position of the substrate processing chamber |
WO2020219241A1 (en) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | Applied Materials, Inc. | Pedestal lift for semiconductor processing chambers |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN103663262B (en) * | 2012-09-03 | 2016-02-10 | 北京北方微电子基地设备工艺研究中心有限责任公司 | Lifting mechanism and the substrate loading device with it |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR200267583Y1 (en) | 2001-11-29 | 2002-03-09 | 아남반도체 주식회사 | Apparatus for sensing a home position of load lock chamber |
KR200297282Y1 (en) | 2002-09-17 | 2002-12-11 | 아남반도체 주식회사 | Load lock chamber of an ion implanter |
KR20040079615A (en) * | 2003-03-08 | 2004-09-16 | 삼성전자주식회사 | Load-lock chamber for semiconductor device manufacture including the sensor for position control of wafer cassette |
-
2006
- 2006-10-27 KR KR1020060104856A patent/KR100850063B1/en not_active IP Right Cessation
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR20190002935A (en) * | 2017-06-30 | 2019-01-09 | 주식회사 케이씨텍 | Substrate processing chamber and Control method for lift position of the substrate processing chamber |
WO2020219241A1 (en) * | 2019-04-26 | 2020-10-29 | Applied Materials, Inc. | Pedestal lift for semiconductor processing chambers |
CN113795608A (en) * | 2019-04-26 | 2021-12-14 | 应用材料公司 | Susceptor lift for semiconductor processing chamber |
US11251067B2 (en) | 2019-04-26 | 2022-02-15 | Applied Materials, Inc. | Pedestal lift for semiconductor processing chambers |
CN113795608B (en) * | 2019-04-26 | 2024-02-20 | 应用材料公司 | Susceptor elevation for semiconductor processing chamber |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100850063B1 (en) | 2008-08-04 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR102181121B1 (en) | Substrate transfer apparatus and control method of substrate transfer apparatus | |
CN107818932B (en) | Turntable positioning device, loading and conveying system and plasma processing equipment | |
US7750818B2 (en) | System and method for introducing a substrate into a process chamber | |
KR100387525B1 (en) | system for detecting position of semiconductor wafer and method of detecting wafer position | |
KR100850063B1 (en) | Elevating drive apparatus for a elevator of the load-lock chamber | |
JP2008300608A (en) | Substrate carrier provided with elevating/lowering position confirmation means and semiconductor manufacturing device provided with the same | |
KR101350145B1 (en) | Apparatus for discriminating existence of substrate using lift pin and method for carrying in and testing substrate using the same | |
KR20100013124A (en) | Substrate processing appratus | |
CN110444493B (en) | Device for preventing arm from impacting wafer | |
US20220384233A1 (en) | Substrate processing apparatus and substrate processing method | |
CN116581059A (en) | Wafer position detection device, machine and detection method in chamber | |
KR100763251B1 (en) | Apparatus for moving wafer | |
KR20130002796U (en) | Wafer lifting apparatus for semiconductor manufacturing equipment | |
KR101870163B1 (en) | Apparatus for Transferring Substrate | |
KR20220161926A (en) | Wafer test and cleaning apparatus | |
JP3674063B2 (en) | Wafer transfer device | |
KR100503285B1 (en) | A safety apparatus of elevator for load lock chamber | |
KR20120006492U (en) | Wafer lifting apparatus for semiconductor manufacturing equipment | |
KR20070013913A (en) | Wafer transfer | |
KR20040079615A (en) | Load-lock chamber for semiconductor device manufacture including the sensor for position control of wafer cassette | |
KR100974425B1 (en) | Apparatus for sensing loading state of wafer and methods of the same | |
KR100564693B1 (en) | Wafer flat zone aligner and apparatus for processing a wafer having the same | |
US20240087843A1 (en) | Apparatus for treating substrate and method for treating substrate | |
KR101005675B1 (en) | Apparatus for removing a boat of a vertical furnace | |
KR20040009243A (en) | cassette loader equipment of semiconductor device manufacturing equipment |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
LAPS | Lapse due to unpaid annual fee |