KR20080027816A - A device and a method for coating an elongated metallic element with a layer of metal - Google Patents

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KR20080027816A KR1020087000045A KR20087000045A KR20080027816A KR 20080027816 A KR20080027816 A KR 20080027816A KR 1020087000045 A KR1020087000045 A KR 1020087000045A KR 20087000045 A KR20087000045 A KR 20087000045A KR 20080027816 A KR20080027816 A KR 20080027816A
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얀-에리크 에릭손
벵트 뤼드홀름
위징 리우
탐페 스테판 이스라엘손
괴테 탈베크
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에이비비 에이비
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Abstract

A device and a method for controlling the thickness of a metallic coating on an elongated metallic element (1), wherein the coating is adapted to be applied by continuously transporting the element through a bath (2) of molten metal, and the element is transported from the bath in a transport direction (3) along a predetermined transport path (x). The device comprises at least one pair of electromagnetic wiping members, comprising one wiping member on each side of the element (1) for wiping off excessive molten metal from the element by applying a travelling magnetic field, and wherein each wiping member comprises a wiping pole (5). The device comprises at least one pair of electromagnetic stabilizing members, comprising one stabilizing member on each side of the element (1) for stabilizing the position of the element with respect to the predetermined transport path (x), the stabilizing member comprising a stabilizing pole (5). The wiping member and the stabilizing member on the same side of the element (1) are arranged such that the wiping pole (5) and the stabilizing pole (5) coincide. ® KIPO & WIPO 2008

Description

기다란 금속 요소에 금속 층을 코팅하는 장치 및 방법 {A DEVICE AND A METHOD FOR COATING AN ELONGATED METALLIC ELEMENT WITH A LAYER OF METAL}A DEVICE AND A METHOD FOR COATING AN ELONGATED METALLIC ELEMENT WITH A LAYER OF METAL}

본 발명은 기다란 금속 요소의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치로서, 상기 코팅은 기다란 금속 요소가 용융금속 욕을 연속적으로 통과할 때 형성되고, 상기 요소는 미리 결정된 이송경로를 따라 이송방향으로 욕으로부터 이송된다. The present invention is a device for controlling the thickness of a metal coating of an elongated metal element, wherein the coating is formed when the elongated metal element passes continuously through the molten metal bath, the element being conveyed from the bath in a conveying direction along a predetermined conveying path. do.

또한, 본 발명은 기다란 금속요소의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법에 관한 것이다. 상기 코팅은 요소가 용융된 금속 욕을 연속적으로 통과할 때 형성된다. The invention also relates to a method of controlling the metal coating thickness of an elongated metal element. The coating is formed when the elements pass continuously through the molten metal bath.

이러한 장치 및 방법은 연속적으로 금속 스트립을 아연 도금할 때 특히 이롭다. 이하, 본 발명은 이러한 적용과 관련하여 기술한다. 그러나, 본 발명은 와이어, 로드, 관이나 다른 기다란 요소 등의 다른 금속 대상물에도 아연도금을 적용할 수 있다. 또한, 본 발명은 길어진 금속 요소를 아연외에도 다른 코팅, 예를 들어, 주석이나 알루미늄 또는 이들의 혼합물 또는 다른 금속으로 코팅하는 것에도 적용가능하다.Such an apparatus and method is particularly advantageous when galvanizing a metal strip continuously. The invention is described below in connection with such an application. However, the present invention may also apply galvanization to other metal objects such as wires, rods, tubes or other elongated elements. The invention is also applicable to coating elongated metal elements with other coatings besides zinc, such as tin or aluminum or mixtures thereof or other metals.

금속 스트립을 연속적으로 아연도금 할 때 예를 들어,강철 스트립에 있어서 일반적으로 이 강철 스트립은 아연 용융 금속을 포함하는 욕을 연속적으로 통과한 다. 욕에서, 일반적으로 스트립은 침지 롤러 아래를 통과한 후에 안정화 및 보정 롤러를 통해 상방으로 이동한다. 상기 스트립은 욕에서부터 빠져나와 와이퍼 장치를 통해 이송되는데 이 와이퍼 장치는 예를 들어, 가스나이프나 전자기 와이퍼이다. 전자기 와이퍼는 가변 자기장을 발생시키고 이 자기장이 코팅 두께를 조절하고 금속 욕에서 임의의 잉여 아연을 제거하기 위해 이용된다. 상기 잉여 아연은 욕으로 되돌아가서 재사용될 수도 있다. 그 다음에, 상기 스트립은 코팅이 냉각되고 고체화될 때까지 지지없이 이송된다. 그 다음에, 개별 스트립 요소로 스트립을 절삭하거나 스트립을 롤러에 권취하기 위해서 코팅 된 스트립은 상부 롤러를 통해 배열체로 안내되거나 향하게 된다. 일반적으로, 상기 스트립은 보정 및 안정화 롤러와 와이퍼 장치를 통해 침지 롤러와 가스나이프로부터 상부 롤러로 수직방향으로 이동한다.When continuously galvanizing metal strips, for example in steel strips, this steel strip generally passes continuously through a bath comprising zinc molten metal. In the bath, the strip generally moves upward through the stabilization and correction rollers after passing under the immersion rollers. The strip exits the bath and is transported through a wiper device, for example a gas knife or an electromagnetic wiper. Electromagnetic wipers generate a variable magnetic field which is used to control the coating thickness and to remove any excess zinc from the metal bath. The excess zinc may be returned to the bath and reused. The strip is then conveyed without support until the coating cools and solidifies. The coated strip is then directed or directed through the upper roller to the arrangement for cutting the strip into individual strip elements or winding the strip onto the rollers. In general, the strip moves vertically from the immersion roller and gas knife to the upper roller via a calibration and stabilization roller and wiper device.

강철 스트립이 아연도금될 때, 평평하고 얇은 코팅 두께를 목적으로 한다. 코팅 두께를 조절하는 공통적인 방법은, 잉여 용융금속이 밴드에서 제거되고 이 코팅이 응고된 후에, 예를 들어 스트립이 상방 롤러를 통과한 후에 코팅의 양을 측정하는 것이다. 이 기록은 상기 가스 나이프를 제어하는데 이용되고, 따라서 코팅 두께를 조절한다. 그러나, 강철 스트립의 외형, 지지받지 못한 스트립 거리, 스트립의 속도 및 전자기 와이퍼 때문에, 금속 스트립은 본질적으로 이송 방향에 수직방향으로 움직이거나 진동한다. 롤러를 보정하거나 안정화하는데 이용하는 특정 조치와 강철 스트립 속도를 제어 및/또는 상기 스트립이 지지받지 못하는 거리를 조절하는 것은 상기 횡방향 이동을 줄이기 위해서 수행된다. 만약 상기 횡 방향 이동이 줄지않으면, 이 횡방향으로 이동하는 것은 정확하게 제거하는 것을 상당히 교란시키고 그 결과, 코팅 두께가 울퉁불퉁해진다. 더 나아가, 스트립의 교란력은 와이퍼 장치에 의해 발생 될 수 있다. WO 02/14574 는 금속 스트립의 코팅두께를 조절하는 장치를 공지한다. 이 장치는 스트립의 각 측에 배치된 전자기 와이핑 부재를 포함하고, 전자기 와이핑 부재는 스트립의 이동방향으로 차례로 배치된 두 개의 와이핑 폴을 포함한다. 잉여 용융금속은 코팅에 자기력을 가하여 와이핑 부재에 의해 스트립에서 제거된다. 또한 상기 장치는 전자기안정화 장치를 포함하며, 이 전자기안정화 장치는 스트립의 각 측에 배치되고, 세 개의 안정화 폴을 포함한다. 상기 스트립의 자유길이와 와이핑 부재에서 발생된 교란력에 의해 발생된 스트립의 진동을 감쇠시키기 위하여, 각 전자기 와이핑 폴은 스트립의 이송방향으로 두 개의 안정화 폴 사이에 배치된다. When the steel strip is galvanized, it is intended for flat and thin coating thicknesses. A common way to control the coating thickness is to measure the amount of coating after excess molten metal is removed from the band and the coating solidifies, for example after the strip passes through the upper roller. This recording is used to control the gas knife, thus adjusting the coating thickness. However, due to the shape of the steel strip, unsupported strip distance, the speed of the strip and the electromagnetic wiper, the metal strip essentially moves or vibrates perpendicular to the conveying direction. Specific measures used to calibrate or stabilize the rollers and controlling the steel strip speed and / or adjusting the distance that the strip is not supported are performed to reduce the transverse movement. If the transverse movement is not diminished, this transverse movement significantly disturbs the removal correctly, resulting in a rugged coating thickness. Furthermore, the disturbing force of the strip can be generated by the wiper device. WO 02/14574 known a device for controlling the coating thickness of metal strips. The apparatus includes an electromagnetic wiping member disposed on each side of the strip, and the electromagnetic wiping member includes two wiping poles arranged in turn in the direction of movement of the strip. The excess molten metal is removed from the strip by the wiping member by applying magnetic force to the coating. The device also includes an electromagnetic stabilization device, which is arranged on each side of the strip and comprises three stabilizing poles. In order to damp the vibrations of the strip generated by the free length of the strip and the disturbing forces generated in the wiping member, each electromagnetic wiping pawl is arranged between two stabilizing pawls in the conveying direction of the strip.

본 발명은 금속 스트립을 코팅할 때, 금속 코팅의 두께를 제어하는 장치를 개선하는데 그 목적을 두고 있으며, 따라서 코팅된 스트립의 질은 향상된다. The present invention aims at improving an apparatus for controlling the thickness of a metal coating when coating the metal strip, so that the quality of the coated strip is improved.

첫 번째 양태에 따르면, 본 발명은 청구항 1 에 따라 기다란 금속요소에 금속 코팅 두께를 조절하기 위한 장치에 관한 것이다. 상기 기다란 금속요소는 바람직하게는 금속 스트립이다. According to a first aspect, the invention relates to an apparatus for controlling the thickness of a metal coating on an elongated metal element according to claim 1. The elongated metal element is preferably a metal strip.

금속 스트립의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치에 있어서, 상기 코팅은 스트립이 용융 금속 욕을 연속적으로 통과할 때 형성된다. 상기 스트립은 미리 결정된 이송 경로를 따라, 이송 방향으로 욕으로부터 이송되며, 상기 장치는 한 쌍 이상의 전자기 와이핑 부재를 포함하며, 상기 스트립에 이동자기장을 가함으로써 스트립으로부터 잉여 용융 금속을 제거하기 위해서 스트립의 각 측에 하나의 와이핑 부재가 배치되며 각 와이핑 부재는 와이핑 폴을 포함한다. 상기 장치는 한 쌍 이상의 전자기 안정화 부재를 포함하고, 미리 결정된 이동 경로에 대한 스트립의 위치를 안정시키기 위해 상기 스트립의 각 측에 하나의 안정화 부재를 포함하며 각 안정화 부재는 안정화 폴을 포함한다. 상기 와이핑 부재와 안정화 부재는 스트립의 동일한 측에 있는 와이핑 폴과 안정화 폴이 일치하도록 한다. 이리하여 안정화 부재로부터의 안정화 자기력이 와이핑 부재로부터의 교란력과 같은 영역에서 발생된다. 상기 안정화력은 와이핑 부재로부터 발생된 스트립에 대한 교란과 같은 영역에 작용하기 때문에, 시트의 휨과 진동이 줄어든다. 또 다른 이점은 장치가 종래기술의 장치보다 더 컴팩트한 구성을 제공한다는 것이다. 상기 와이핑 부재와 안정화 부재는 바람직하게 공통 자기코어를 가진다. 상기 공통 자기코어는 후방 및 전방 자기 코어부를 포함한다.In an apparatus for controlling the metal coating thickness of a metal strip, the coating is formed when the strip continuously passes through the molten metal bath. The strip is conveyed from the bath in a conveying direction, along a predetermined conveying path, the apparatus comprising one or more pairs of electromagnetic wiping members, for removing excess molten metal from the strip by applying a moving magnetic field to the strip. One wiping member is disposed on each side of the wiping member and each wiping member includes a wiping pawl. The apparatus includes one or more pairs of electromagnetic stabilizing members, including one stabilizing member on each side of the strip to stabilize the position of the strip with respect to a predetermined movement path, each stabilizing member comprising a stabilizing pawl. The wiping member and the stabilizing member allow the wiping pawl and the stabilizing pawl on the same side of the strip to coincide. Thus, the stabilizing magnetic force from the stabilizing member is generated in the same region as the disturbing force from the wiping member. Since the stabilizing force acts on areas such as disturbances to the strip generated from the wiping member, the bending and vibration of the sheet are reduced. Another advantage is that the device provides a more compact configuration than the prior art devices. The wiping member and the stabilizing member preferably have a common magnetic core. The common magnetic core includes a rear and front magnetic core portion.

일 실시예에 따라, 와이핑 부재와 안정화 부재는 통합된 장치를 형성하며, 이로써 본 장치의 구성이 컴팩트하게 된다. According to one embodiment, the wiping member and the stabilizing member form an integrated device, which makes the configuration of the device compact.

일 실시예에 따라, 와이핑 부재는 2 개의 상 권선을 갖는다. 잉여 금속을 제거하기 위해 종래와 같이 3 개의 상 권선이 아닌 2 개의 상 권선 만을 가짐으로써, 잉여 코팅을 양호하게 제거하기에 충분한 코팅의 제거력의 단지 하나의 피크가 얻어진다. 이는 또한 와이핑 장치에서 발생된 교란이 스트립의 이송방향을 가로질러 스트립의 영역에서만 발생됨을 의미한다. According to one embodiment, the wiping member has two phase windings. By having only two phase windings rather than three phase windings as conventionally to remove excess metal, only one peak of the removal force of the coating sufficient to satisfactorily remove the excess coating is obtained. This also means that disturbances generated in the wiping device occur only in the region of the strip across the conveying direction of the strip.

일 실시예에 따라, 안정화 부재는 안정화 권선을 포함한다. 상기 안정화 권선은 스트립과 상 권선 사이에 배열된다. 스트립과 상 권선 사이의 안정화 권선을 배열함으로써, 안정화 부재는 와이핑 부재와 같은 영역에서 작용할 수 있다.According to one embodiment, the stabilizing member comprises a stabilizing winding. The stabilization winding is arranged between the strip and the phase winding. By arranging the stabilizing windings between the strip and the phase windings, the stabilizing member can act in the same area as the wiping member.

일 실시예에 따라, 자기코어는 본질적으로 T 형 횡단면을 갖고 베이스와 루프를 포함한다. 상기 베이스는 실질적으로 전방 자기 코어부로 구성되고, 이 자기 코어부는 와이핑 폴과 안정화 폴을 포함하며, 루프는 실질적으로 후방 자기 코어부를 포함한다. 상기 루프는 본질적으로 이송방향에 평행한 방향으로 배치되고, 베이스는 스트립을 향한 방향으로 지붕에서부터 연장되어 있다.According to one embodiment, the magnetic core has an essentially T-shaped cross section and comprises a base and a loop. The base consists essentially of a front magnetic core portion, the magnetic core portion comprising a wiping pole and a stabilizing pawl and the loop substantially comprising a rear magnetic core portion. The loops are arranged essentially in a direction parallel to the conveying direction and the base extends from the roof in the direction towards the strip.

일 실시예에 따라, 안정화 권선은 베이스 주위에 배열되고 상 권선은 베이스의 각 측에서 루프 주위에 배치된다. 따라서, 컴팩트한 구성이 얻어지고, 그 결과 안정화 부재에서 발생된 안정화 자기력이 와이핑 부재로부터 발생된 교란이 발생하는 영역과 같은 영역에 작용한다. 안정화력이 와이핑 부재로부터 발생된 교란과 같은 영역에서 작용하기 때문에, 시트의 휨 및 진동이 줄어들 것이고 이와 동시에 코팅의 질은 유지되거나 향상된다.According to one embodiment, the stabilizing winding is arranged around the base and the phase winding is disposed around the loop on each side of the base. Thus, a compact configuration is obtained, and as a result, the stabilizing magnetic force generated in the stabilizing member acts on the same region as that in which disturbance generated from the wiping member occurs. Since the stabilizing force acts in the same area as the disturbance generated from the wiping member, the warpage and vibration of the sheet will be reduced and at the same time the quality of the coating is maintained or improved.

다른 실시예에 따라, 상기 장치는 제 2 쌍의 와이핑 부재를 갖고, 이들 와이핑 부재는 이송방향을 가로지르는 방향으로 제 1 쌍의 와이핑 부재로부터 떨어져 배치된다. 더 나아가, 그 결과 스트립의 폭을 가로질러 두께를 조절하는 것이 향상되고, 코팅된 스트립의 질은 향상된다.According to another embodiment, the apparatus has a second pair of wiping members, which are disposed away from the first pair of wiping members in a direction transverse to the conveying direction. Furthermore, as a result, adjusting the thickness across the width of the strip is improved, and the quality of the coated strip is improved.

일 실시예에 따라, 장치는 제 3 쌍의 와이핑 부재를 포함하며, 이들 와이핑 부재는 이송 방향을 가로지르는 방향으로 제 1 및 2 쌍의 와이핑 부재로부터 떨어져 있다. 이송 방향을 가로지르고 스트립의 폭을 따라 세 개의 와이핑 부재를 배열함으로써, 각 와이핑 부재에 의해 덮이는 바로 그 영역에서 현재의 필요에 맞게 제거력과 안정화력을 제어할 수 있다. 예를 들어, 하나의 와이핑 부재는 스트립의 중심선을 가로질러 위치되고, 이 중심선을 가로질러 배치된 와이핑 부재의 양 측에 다른 두 와이핑 부재가 위치된다. 그 결과 부가적으로, 스트립의 폭 두께를 조절하는 것을 향상시키고 이는 코팅된 스트립의 질을 향상시킨다.According to one embodiment, the apparatus comprises a third pair of wiping members, which are away from the first and second pair of wiping members in a direction transverse to the conveying direction. By arranging three wiping members across the conveying direction and along the width of the strip, it is possible to control the removal and stabilizing forces in accordance with the current needs in the very area covered by each wiping member. For example, one wiping member is located across the centerline of the strip and the other two wiping members are located on both sides of the wiping member disposed across the centerline. As a result, in addition, the adjustment of the width thickness of the strip is improved, which improves the quality of the coated strip.

일 실시예에 따라, 미리 결정된 이송 경로에 대한 스트립의 위치를 감지하는 하나 이상의 센서가 하나 이상의 와이핑 부재의 근처에 배치된다. 하나 이상의 센서를 교란력이 발생되는 지점 예를 들어, 와이핑 부재에 근접하여 배치함으로써, 스트립의 위치를 감지하는 것이 향상된다. 이는 다시 말해, 스트립을 안정시키는 제어가 향상되고, 그러므로 코팅된 스트립의 질은 향상된다.According to one embodiment, one or more sensors for sensing the position of the strip with respect to the predetermined transport path are arranged in the vicinity of the one or more wiping members. By placing one or more sensors close to the point where disturbances are generated, for example near the wiping member, sensing the position of the strip is enhanced. In other words, the control of stabilizing the strip is improved and therefore the quality of the coated strip is improved.

일 실시예에 따라, 장치는 스트립에 가장 가까이 있는 안정화 폴의 일부분의 투자율을 제어하는 안정화 요소를 포함한다. 안정화 요소는 예를 들어, 안정화 권선의 외부에 배치되는 외부코일을 포함한다. 안정화 폴의 상기 부분의 투자율은 각 안정화 폴까지의 스트립 거리에 기초하여 결정된다. 안정화 폴의 상기 부분의 투자율을 조절함으로써, 안정화 폴 사이의 스트립의 위치가 조절된다.According to one embodiment, the device comprises a stabilizing element that controls the permeability of the portion of the stabilizing pawl closest to the strip. The stabilizing element comprises, for example, an outer coil disposed outside of the stabilizing winding. The permeability of this portion of the stabilization pole is determined based on the strip distance to each stabilization pole. By adjusting the permeability of this part of the stabilizing pawl, the position of the strip between the stabilizing pawls is adjusted.

일 실시예에 따라, 본 장치는 전기회로를 포함하며, 이 전기회로는 보충 제거력을 발생시키기 위해 스트립의 한 가장자리에 전류를 공급하게 된다. 상기 스트립의 일 가장자리에서 가해진 전류는 스트립의 다른 가장자리에서, 예컨대 폐회로를 통해 또는, 단락 (short-circuiting) 에 의하여 나온다. 상기 보충 제거력은 상기 가해진 전류와 와이핑 폴에서 발생된 자기장의 조합에 의해 형성되고, 또한 욕을 향해 하방으로 향하는 보충 제거력을 형성한다. 상기 회로는 적어도 스트립의 일 가장자리에 가해진 전류를, 스트립의 폭을 따른 코팅 두께의 요청된 값에 비교된 스트립의 폭을 따른 코팅 실제 두께에 기초하여 조절하게 한다. 상기 코팅의 실제두께는 예를 들어, 와이핑 부재 뒤에 배열된 제어 장치에서 측정된다. 상기 보충 제거력은 일반적으로 스트립의 가장자리에서 가장 크고, 필요한 경우 스트립을 가로지르는 더 균일한 와이핑을 허용한다. According to one embodiment, the device comprises an electrical circuit, which supplies current to one edge of the strip to generate a supplemental removal force. The current applied at one edge of the strip emerges at the other edge of the strip, for example through a closed circuit or by short-circuiting. The supplementary removal force is formed by the combination of the applied current and the magnetic field generated in the wiping pole, and also forms a supplemental removal force directed downward toward the bath. The circuit allows at least a current applied to one edge of the strip to be adjusted based on the actual thickness of the coating along the width of the strip compared to the requested value of the coating thickness along the width of the strip. The actual thickness of the coating is measured, for example, in a control device arranged behind the wiping member. The replenishment removal force is generally the largest at the edge of the strip and allows more uniform wiping across the strip if necessary.

두 번째 양태에 따르면, 본 발명은 청구항 17 에 따라 기다란 금속 요소의 금속 코팅두께를 제어하는 방법에 관한 것이다. 일 실시예에 따르면, 기다란 금속 요소는 금속 스트립이다.According to a second aspect, the invention relates to a method for controlling the metal coating thickness of an elongated metal element according to claim 17. According to one embodiment, the elongated metal element is a metal strip.

금속 스트립의 금속 코팅의 두께를 조절할 때, 코팅은 스트립이 연속적으로 용융 금속 욕을 통과하면서 형성된다. 상기 스트립은 미리 결정된 이송 경로를 따라 이송방향으로 이송되며, 스트립의 잉여 용융 금속은 스트립에 있는 아직 응고되지 않은 코팅에 이동 자기장을 가하여 제거된다. 더욱이, 스트립의 위치는 이동 자기장이 스트립에 작용하는 영역과 동일한 영역에서 스트립에 안정화 자기력을 가함으로써 미리 결정된 이송 경로에 대해 안정화된다. 이러한 방법으로, 상기 스트립은 교란이 발생하는 영역과 같은 영역에서 안정화되고, 이로써 스트립의 휨이나 진동이 줄어들고 그러므로, 와이퍼의 더 큰 힘 밀도를 허용하며, 이리하여 스트립속도가 증가되고 스트립의 질이 유지되거나 향상되면서 더 신속한 처리를 허용한다.When adjusting the thickness of the metal coating of the metal strip, the coating is formed while the strip continuously passes through the molten metal bath. The strip is conveyed in a conveying direction along a predetermined conveying path, and excess molten metal of the strip is removed by applying a moving magnetic field to the yet uncoagulated coating on the strip. Moreover, the position of the strip is stabilized with respect to the predetermined conveying path by applying a stabilizing magnetic force to the strip in the same region where the moving magnetic field acts on the strip. In this way, the strip is stabilized in the same area as the disturbance occurs, thereby reducing the deflection or vibration of the strip and thus allowing a greater force density of the wiper, thus increasing the strip speed and improving the quality of the strip. Maintain or improve to allow faster processing.

코팅의 두께는 잉여 용융 금속이 제거된 후에 측정되고, 측정된 두께와 요청된 두께치는 이동 자기장을 발생시키는 2 개의 상 권선에 흐르는 전류를 제어한다. The thickness of the coating is measured after the excess molten metal is removed, and the measured thickness and the requested thickness value control the current flowing in the two phase windings that generate a moving magnetic field.

일 실시예에 따르면, 이송 경로에 대한 스트립의 위치는 파라메타 수치를 발생시키는 하나 이상의 센서에 의해 결정되고, 상기 파라메타 수치는 예를 들어, 스트립의 실제 위치와 미리 결정된 이송 경로 사이의 거리이고 안정화 자기력의 크기를 조절한다. 그 후에, 상기 안정화 자기력은 스트립의 위치에 반응하는 스트립에 제공한다.According to one embodiment, the position of the strip with respect to the conveying path is determined by one or more sensors which generate a parameter value, said parameter value being, for example, the distance between the actual position of the strip and the predetermined conveying path and stabilizing magnetic force. Adjust the size of the. The stabilizing magnetic force is then applied to the strip in response to the position of the strip.

일 실시예에 따르면, 스트립은 적어도 스트립에 가장 근처에 있는 안정화 폴 의 일부분의 투자율을 제어함으로써 안정화된다. 안정화 폴의 상기 부분의 투자율은 안정화요소에 의하여 제어되고, 안정화요소는 예를 들어, 외부 코일을 포함한다. 상기 와이핑 폴사이에 금속 스트립이 위치하는 지점에 기초하여 투자율을 제어함으로써, 금속 스트립이 자기력으로 인하여 한 폴을 향해 움직이는 것이 억제되지만, 대신에 스트립은 와이핑 폴 사이의 중앙에 위치된다. According to one embodiment, the strip is stabilized by controlling the permeability of at least a portion of the stabilizing pole closest to the strip. The permeability of this part of the stabilizing pawl is controlled by the stabilizing element, which for example comprises an external coil. By controlling the permeability based on the point where the metal strip is located between the wiping poles, the metal strip is prevented from moving toward one pole due to the magnetic force, but instead the strip is located in the center between the wiping poles.

본 발명의 일 실시예에 따르면, 전류는 금속 스트립의 하나 이상의 가장자리에 제공된다. 상기 와이핑 폴에서 발생된 자기장과 조합된 전류를 제공함으로써, 균일한 와이핑 작용을 얻는데 기여하는 하방 힘이 얻어진다. 하방 힘은 스트립의 가장자리에서 가장 크다. According to one embodiment of the invention, current is provided at one or more edges of the metal strip. By providing a current combined with the magnetic field generated in the wiping pole, a downward force is obtained which contributes to obtaining a uniform wiping action. The downward force is greatest at the edge of the strip.

본 발명은 첨부도면을 참고하여 실시예를 가지고 더 상세히 설명된다.The invention is explained in more detail with examples by reference to the accompanying drawings.

도 1 은 측에서 바라본 금속 스트립의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치의 일 실시예에서 취한 단면도를 개략적으로 나타낸다.1 schematically shows a cross section taken in one embodiment of an apparatus for controlling the metal coating thickness of a metal strip viewed from the side.

도 2 는 전방에서 바라본 도 1 의 장치의 제 1 실시예를 개략적으로 나타낸다.FIG. 2 schematically shows a first embodiment of the apparatus of FIG. 1 seen from the front.

도 3 은 전방에서 바라본 도 1 의 장치의 제 2 실시예를 개략적으로 나타낸다.3 shows schematically a second embodiment of the device of FIG. 1 seen from the front.

도 4 는 전방에서 바라본 도 1 의 장치의 제 3 실시예를 개략적으로 나타낸다. 4 schematically shows a third embodiment of the device of FIG. 1 seen from the front.

도 5 는 스트립에 가장 가까이 배치된 와이핑 폴의 단부의 포화를 나타낸다.5 shows the saturation of the end of the wiping pole disposed closest to the strip.

이하 기술은 장치 및 방법에 관한 것이다. 도 1 은 금속 스트립 (1) 의 금속 코팅의 두께를 조절하는 장치를 나타낸다. 상기 스트립 (1) 은 욕 (2) 을 연속적으로 통과하면서 용융 금속 층으로 코팅된다. 상기 스트립은 미리 결정된 경로 (x) 를 따라 이송 방향 (3) 으로 욕으로부터 이송된다. 상기 미리 결정된 이송 경로 (x) 는 실질적으로 욕 (2) 에 침지된 롤과 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b) 다음에 배치된 상부 롤러 사이에 뻗어 있다. 상기 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b) 는 스트립 (1) 으로부터 잉여 금속을 제거하게 하고 스트립 (1) 을 안정화시킨다. 상기 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b) 는 와이핑 부재와 안정화 부재 및 공통 자기코어 (12a,12b) 를 포함하며, 이 와이핑 부재는 제 1 상을 위한 제 1 상 권선 (phase winding) (6a,6b) 과 제 2 상을 위한 제 2 상 권선 (7a,7b) 을 포함하며, 상기 안정화 부재는 안정화 권선 (8a,8b) 을 포함하며, 상기 공통 자기 코어는 와이핑 및 안정화 폴 (5a,5b) 을 포함한다. 상기 와이핑과 안정화 장치 (4a,4b) 는 스트립의 양 측에서 본질적으로 같은 높이에 위치된다. The following description relates to apparatus and methods. 1 shows an apparatus for adjusting the thickness of the metal coating of the metal strip 1. The strip 1 is coated with a molten metal layer while continuously passing through the bath 2. The strip is conveyed from the bath in the conveying direction 3 along the predetermined path x. The predetermined conveying path x substantially extends between the roll immersed in the bath 2 and the upper rollers disposed after the wiping and stabilizing devices 4a, 4b. The wiping and stabilizing devices 4a and 4b allow to remove excess metal from the strip 1 and to stabilize the strip 1. The wiping and stabilizing device 4a, 4b comprises a wiping member, a stabilizing member and a common magnetic core 12a, 12b, which wiping the first phase winding for the first phase ( 6a, 6b and second phase windings 7a, 7b for the second phase, said stabilizing member comprising stabilizing windings 8a, 8b, said common magnetic core being a wiping and stabilizing pole 5a. , 5b). The wiping and stabilizing devices 4a, 4b are located at essentially the same height on both sides of the strip.

상기 자기 코어 (12a,12b) 는 후방 자기코어부 (9a,9b) 와 전방 자기 코어 부분을 포함하며, 실질적으로 T 형 단면을 가지며, 여기서 단면은 베이스와 루프를 포함한다. 상기 베이스는 실질적으로 전방 자기 코어부로 구성되며, 이 전방 자기코어부는 와이핑 및 안정화 폴 (5a,5b) 을 포함하며 루프는 실질적으로 후방 자기 코어부 (9a,9b) 로 구성된다. 상기 루프는 본질적으로 이송 방향 (3) 에 평행한 방향으로 배치되며, 베이스는 스트립 (1) 쪽 방향으로 루프에서부터 연장되어 있다. 상기 안정화 권선 (8a,8b) 은 베이스 주위에 배열되며 상 권선 (6a,6b,7a,7b) 은 베이스의 각 측에서 루프 주위에 배열된다.The magnetic cores 12a, 12b comprise rear magnetic core portions 9a, 9b and front magnetic core portions, and have a substantially T-shaped cross section, wherein the cross section comprises a base and a loop. The base consists essentially of the front magnetic core portion, which comprises the wiping and stabilizing pawls 5a, 5b and the loop consists essentially of the rear magnetic core portions 9a, 9b. The loops are arranged essentially in a direction parallel to the conveying direction 3 and the base extends from the loop in the direction towards the strip 1. The stabilizing windings 8a, 8b are arranged around the base and the phase windings 6a, 6b, 7a, 7b are arranged around the loop on each side of the base.

상기 상 권선 (6a,6b,7a,7b) 에는 교류 (미 도시) 가 공급되고, 스트립 (1) 에 이동 자기장이라고도 부르는 교번 자기장이 발생된다. 이 자기장은 코팅 (미 도시) 에 전류 경로 (Ⅰ) 를 발생시키고, 스트립의 이송 방향에 반대방향으로 코팅에 힘이 작용한다. 전자기장을 발생시키기 위해 전자기 교반기 또는 선형 모터의 원리에 따라 와이핑 부재가 작용한다. 이러한 방법으로, 잉여 코팅 물질은 스트립의 길이 방향으로 제거된다. The phase windings 6a, 6b, 7a, 7b are supplied with alternating current (not shown), and an alternating magnetic field, also called a moving magnetic field, is generated in the strip 1. This magnetic field generates a current path (I) in the coating (not shown) and forces act on the coating in the direction opposite to the transport direction of the strip. The wiping member acts according to the principle of an electromagnetic stirrer or linear motor to generate an electromagnetic field. In this way, excess coating material is removed in the longitudinal direction of the strip.

상기 안정화 권선 (8a,8b) 에는 직류가 공급되어 안정화력이 스트립 (1) 에 수직으로 작용하게 된다. 상기 안정화 폴 (5a,5b) 이 와이핑 폴 (5a,5b) 과 일치하도록 되어 있기 때문에, 안정화력은 상기 와이핑 폴에 의한 교란이 일어나는 영역과 같은 영역에서 스트립에 작용할 수 있다. 교란 또는 진동은 물론 와이핑 부재 이외의 다른 원인에 의해서도 발생될 수 있는데 예를 들어, 스트립 (1) 의 자유 길이 (스트립 (1) 이 지지되지 않는 길이) 때문에 발생될 수 있다. 또한 이러한 교란 또는 진동은 상기 와이핑 부재로 안정화될 수 있다. 상기 와이핑 및 안정화 폴 (5a,5b) 은 미리 결정된 이송 경로 (x) 에서 특정 거리에 배치된다. 상기 거리는 물론 스트립 (1) 의 현재 두께와 코팅의 두께에 따라 변화한다.Direct current is supplied to the stabilization windings 8a and 8b so that the stabilizing force acts perpendicular to the strip 1. Since the stabilizing pawls 5a, 5b are adapted to coincide with the wiping pawls 5a, 5b, the stabilizing force can act on the strip in the same area as the disturbance caused by the wiping pawl. Disturbance or vibration can of course also be caused by other causes besides the wiping member, for example due to the free length of the strip 1 (the length at which the strip 1 is not supported). This disturbance or vibration can also be stabilized with the wiping member. The wiping and stabilizing pawls 5a, 5b are arranged at a certain distance in the predetermined transport path x. The distance varies, of course, depending on the current thickness of the strip 1 and the thickness of the coating.

도 1 에서 보듯이, 미리 결정된 이송 경로 (x) 에 대한 스트립 (1) 의 위치를 감지하기 위한 센서 (10a,10b) 가 스트립 (1) 의 각 측에 배열된다. 상기 센서 (10a, 10b) 는 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b) 에 근접하게 배치된다. 상기 센서 (10a,10b) 는 미리 결정된 이송 경로 (x) 에 대한 스트립의 위치에 의존하는 파라메터의 값을 검출하게 되며, 이에 의해 안정화 부재는 검출된 값에 상응하는 힘을 스트립 (1) 에 가한다. 센서 (10a,10b) 에서 발생된 신호는 신호 처리 장치 (미 도시) 에서 처리되며, 컨버터의 제어 프로그램 (미 도시) 이 스트립 (1) 을 안정화시키기 위해 안정화 권선 (8a, 8b) 에 흐르는 전류를 제어한다.As shown in FIG. 1, sensors 10a, 10b for sensing the position of the strip 1 with respect to the predetermined transport path x are arranged on each side of the strip 1. The sensors 10a, 10b are arranged in close proximity to the wiping and stabilizing devices 4a, 4b. The sensors 10a, 10b detect the value of the parameter depending on the position of the strip with respect to the predetermined feed path x, whereby the stabilizing member exerts a force on the strip 1 corresponding to the detected value. do. The signal generated by the sensors 10a, 10b is processed in a signal processing device (not shown), and a control program (not shown) of the converter receives current flowing through the stabilization windings 8a, 8b to stabilize the strip 1. To control.

층 두께를 측정하기 위한 제어 장치 (11a, 11b) 가 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b) 후방에 배치한다.Control devices 11a and 11b for measuring the layer thickness are arranged behind the wiping and stabilizing devices 4a and 4b.

도 2 는 도 1 에 따른 제 1 쌍의 와이핑 및 안정화 장치의 제 1 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b) 가 스트립의 폭을 따라 어떻게 배치되어 있는지를 개략적으로 나타낸다.FIG. 2 schematically shows how the first wiping and stabilizing devices 4a, 4b of the first pair of wiping and stabilizing devices according to FIG. 1 are arranged along the width of the strip.

도 3 은 제 2 쌍의 와이핑 및 안정화 장치의 제 2 와이핑 및 안정화 장치 (17a,17b) 가 이송 방향 (3) 을 가로지르는 방향으로 제 1 쌍으로부터 어떻게 떨어져 배치되는 지를 개략적으로 나타낸다.FIG. 3 schematically shows how the second wiping and stabilizing devices 17a, 17b of the second pair of wiping and stabilizing devices are arranged away from the first pair in a direction crossing the conveying direction 3.

도 4 는 제 3 쌍의 와이핑 및 안정화 장치의 제 3 와이핑 및 안정화 장치 (18a,18b) 가 이송 방향 (3) 을 가로지르는 방향으로 제 2 쌍으로부터 어떻게 떨어져 배치되는 지를 개략적으로 나타낸다. 또한, 도 4 는 코팅에 다른 제거력을 생성하기 위해 스트립 (1) 의 일 가장자리 (13a) 에 전류 (I) 를 가하도록 회로 (16) 가 어떻게 배치되는지를 나타낸다. 상기 제거력은 와이핑 부재 (4a,4b,4c) 에서 발생된 전자기력과의 조합으로 전류 (Ⅰ) 에 의해 생성된다. 상기 전류 (I) 는 스트립 (13b) 의 다른 가장자리에서 나온다.4 schematically shows how the third wiping and stabilizing devices 18a, 18b of the third pair of wiping and stabilizing devices are arranged away from the second pair in the direction crossing the conveying direction 3. 4 also shows how the circuit 16 is arranged to apply a current I to one edge 13a of the strip 1 to create another removal force on the coating. The removal force is generated by the current I in combination with the electromagnetic force generated in the wiping members 4a, 4b, 4c. The current I comes from the other edge of the strip 13b.

도 5 는 적어도 안정화 폴 (5a,5b) 의 일부분 (15a,15b) (스트립에 가장 근접하게 배치된 부분) 의 투자율이 예를 들어 외부 코일을 포함하는 안정화 요소에 의해 제어되는 것을 나타낸다. 각 부분 (15a,15b) 의 투자율은 금속 스트립이 한 쌍의 와이핑 및 안정화 장치의 와이핑 폴 (5a,5b) 사이에 위치되는 지점을 기초로 하여 제어된다. 상기 투자율을 제어함으로써, 금속 스트립이 자기력으로 인하여 한 폴을 향해 움직이는 것이 억제되지만, 대신에 스트립은 와이핑 폴 (5a,5b) 사이의 중앙에 위치된다. FIG. 5 shows that at least the permeability of the portions 15a, 15b of the stabilizing poles 5a, 5b (the portion disposed closest to the strip) is controlled by a stabilizing element comprising, for example, an outer coil. The permeability of each part 15a, 15b is controlled based on the point where the metal strip is located between the wiping pawls 5a, 5b of the pair of wiping and stabilizing devices. By controlling the permeability, the metal strip is suppressed from moving toward one pole due to the magnetic force, but instead the strip is located in the center between the wiping poles 5a, 5b.

상기 발명은 상기 나타낸 실시예에 국한되지 않으며, 그러나 이 기술분야의 당업자는 물론 청구항에 규정된 본 발명의 범위안의 다수의 방법으로 변경할 수 있다. 예를 들어, 3 쌍의 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b,17a,17b,18a,18b) 가 이송 방향 (3) 을 가로질러 배열되는 경우에, 가장 바깥에 있는 두 와이핑 및 안정화 장치 (4a,4b,18a,18b) 는 이송 방향을 가로질러 스트립을 따라 동일한 선을 따라 배치될 수 있으며, 가운데 있는 와이핑 및 안정화 장치 (17a,17b) 는 가장 바깥에 있는 두 와이핑 및 안정화 장치의 앞 또는 뒤에 배치될 수 있다.The invention is not limited to the embodiments shown above, but one of ordinary skill in the art can, of course, vary in many ways within the scope of the invention as defined in the claims. For example, if three pairs of wiping and stabilizing devices 4a, 4b, 17a, 17b, 18a, 18b are arranged across the conveying direction 3, the two outermost wiping and stabilizing devices ( 4a, 4b, 18a, 18b can be arranged along the same line along the strip across the conveying direction, with the middle wiping and stabilizing device 17a, 17b of the two outermost wiping and stabilizing devices. It can be placed before or after.

Claims (21)

기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치로서, 상기 코팅은 기다란 금속 요소 (1) 가 용융금속 욕 (2) 을 연속적으로 통과할 때 형성되고, 상기 요소는 미리 결정된 이송경로 (x) 를 따라 이송방향 (3) 으로 욕 (2) 으로부터 이송되며, 상기 장치는 한 쌍 이상의 전자기 와이핑 부재를 포함하며, 요소에 이동 자기장을 가함으로써 요소로부터 잉여 용융 금속을 제거하기 위해서 요소의 각 측에 하나의 와이핑 부재가 배치되며, 각 와이핑 부재는 와이핑 폴 (5a,5b) 을 포함하며, 또한 상기 장치는 한 쌍 이상의 전자기 안정화 부재를 포함하고, 미리 결정된 이송 경로 (x) 에 대한 요소의 위치를 안정시키기 위하여 상기 요소의 각 측에 하나의 안정화 부재가 배치되는 상기 장치에 있어서, A device for controlling the metal coating thickness of an elongated metal element (1), wherein the coating is formed when the elongated metal element (1) continuously passes through the molten metal bath (2), the element being a predetermined feed path (x). Conveyed from the bath (2) in the conveying direction (3) along the direction, the apparatus comprising one or more pairs of electromagnetic wiping members, each of the elements being removed to remove excess molten metal from the element by applying a moving magnetic field to the element. One wiping member is arranged on the side, each wiping member comprises wiping pawls 5a, 5b, and the device also comprises one or more pairs of electromagnetic stabilizing members, in a predetermined conveying path (x). In the apparatus, in which one stabilizing member is disposed on each side of the element to stabilize the position of the element relative to the element, 와이핑 부재는 제 1 및 제 2 상 권선 (6a,6b,7a,7b) 을 갖고 요소의 동일한 측에 있는 상기 와이핑 부재와 안정화 부재는 와이핑 폴 (5a,5b) 과 안정화 폴 (5a,5b) 이 일치하도록 배치되는 것을 특징으로 하는, 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치. The wiping member has first and second phase windings 6a, 6b, 7a, 7b and the wiping member and the stabilizing member on the same side of the element are the wiping pawls 5a, 5b and the stabilizing pawls 5a, 5b) is arranged to coincide, characterized in that the device for controlling the thickness of the metal coating of the elongated metal element (1). 제 1 항에 있어서, 기다란 금속 요소는 금속 스트립(1) 인 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치. 2. Device according to claim 1, characterized in that the elongated metal element is a metal strip (1). 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 와이핑 부재와 안정화 부재는 공통 자기 코 어 (12a,12b) 를 갖는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.Apparatus according to claim 1 or 2, characterized in that the wiping member and the stabilizing member have a common magnetic core (12a, 12b). 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서, 와이핑 부재와 안정화 부재는 통합된 장치를 형성하는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.Apparatus according to any one of the preceding claims, characterized in that the wiping member and the stabilizing member form an integrated device. 제 1 항 내지 제 4 항 중 어느 한 항에 있어서, 안정화 부재는 안정화 권선 (8a,8b) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.5. The device as claimed in claim 1, wherein the stabilizing member comprises stabilizing windings (8a, 8b). 6. 제 2 항 내지 제 5 항 중 어느 한 항에 있어서, 안정화 권선 (8a,8b) 은 스트립 (1) 과 상 권선 (6a,6b,7a,7b) 사이에 배치되는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.The elongated metal element according to claim 2, wherein the stabilizing windings 8a, 8b are arranged between the strip 1 and the phase windings 6a, 6b, 7a, 7b. 1) Device to control the metal coating thickness. 제 2 항 내지 제 6 항 중 어느 한 항에 있어서, 자기 코어 (12) 는 실질적으로 T 형 단면을 갖고 베이스와 루프를 가지며, 루프는 실질적으로 이송 방향 (3) 에 평행인 방향으로 배치되며 베이스는 스트립 (1) 쪽 방향으로 루프로부터 연장되어 있는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치. 7. The magnetic core 12 according to any one of claims 2 to 6, wherein the magnetic core 12 has a substantially T-shaped cross section and has a base and a loop, the loops being arranged in a direction substantially parallel to the conveying direction 3 and the base Device for controlling the thickness of the metal coating of the elongated metal element (1), characterized in that it extends from the loop in the direction towards the strip (1). 제 7 항에 있어서, 안정화 권선 (8) 은 베이스 주위에 배치되며, 상 권선 (6a,6b,7a,7b) 은 베이스의 각 측에서 루프 주위에 배치되는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.Elongated metal element (1) according to claim 7, characterized in that the stabilizing winding (8) is arranged around the base, and the phase windings (6a, 6b, 7a, 7b) are arranged around the loop on each side of the base. Device to control the metal coating thickness of the. 제 1 항 내지 제 8 항 중 어느 한 항에 있어서, 장치는 제 2 쌍의 와이핑 부재를 갖고, 이들 와이핑 부재는 이송 방향 (3) 을 가로지르는 방향으로 제 1 쌍의 와이핑 부재로부터 떨어져 배치되어 있는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.The device according to any one of the preceding claims, wherein the device has a second pair of wiping members, which are separated from the first pair of wiping members in a direction transverse to the conveying direction (3). Apparatus for controlling the metal coating thickness of the elongated metal element (1), which is arranged. 제 9 항에 있어서, 상기 장치는 제 3 쌍의 와이핑 부재를 포함하며, 이들 와이핑 부재는 이송 방향 (3) 을 가로지르는 방향으로 제 1 및 제 2 쌍의 와이핑 부재로 부터 떨어져 배치되는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.10. The device according to claim 9, wherein the device comprises a third pair of wiping members, which are disposed away from the first and second pair of wiping members in a direction transverse to the conveying direction (3). Device for controlling the metal coating thickness of the elongated metal element (1). 제 2 항 내지 제 10 항 중 어느 한 항에 있어서, 미리 결정된 이송 경로 (x) 에 대한 스트립 (1) 의 위치를 감지하는 하나 이상의 센서 (10a, 10b) 가 하나 이상의 와이핑 부재의 근처에 배치되는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.The apparatus according to any one of claims 2 to 10, wherein at least one sensor (10a, 10b) for sensing the position of the strip (1) relative to the predetermined conveying path (x) is arranged in the vicinity of at least one wiping member. Device for controlling the thickness of the metal coating of the elongated metal element (1). 제 3 항 내지 제 11 항 중 어느 한 항에 있어서, 스트립 (1) 에 가장 가까이 있는 안정화 폴 (5a,5b) 의 일부분 (15a,15b) 의 투자율을 제어하는 안정화 요소를 포함하는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.12. A stapling element according to any one of claims 3 to 11, characterized in that it comprises a stabilizing element that controls the permeability of the portions 15a, 15b of the stabilizing poles 5a, 5b closest to the strip 1. Device for controlling the metal coating thickness of the elongated metal element 1. 제 12 항에 있어서, 안정화 요소는 안정화 권선 (8a,8b) 의 외부에 배치되는 외부 코일 (14a,14b) 을 포함하는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.13. Apparatus according to claim 12, characterized in that the stabilizing element comprises an outer coil (14a, 14b) disposed outside of the stabilizing winding (8a, 8b). 제 2 항 내지 제 13 항 중 어느 한 항에 있어서, 추가 제거력을 발생시키기 위해 스트립 (1) 의 적어도 하나의 가장자리 (13a,13b) 에 전류를 제공하는 회로 (16) 를 포함하는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.14. A circuit as claimed in any one of claims 2 to 13, characterized in that it comprises a circuit (16) for providing a current to at least one edge (13a, 13b) of the strip (1) to generate an additional removal force. Device for controlling the metal coating thickness of the elongated metal element 1. 제 14 항에 있어서, 회로 (16) 는 제거 후에 측정된 코팅 두께에 근거하여 전류 (Ⅰ) 를 조절하도록 되어 있는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 장치.15. The apparatus of claim 14, wherein the circuit (16) is adapted to adjust the current (I) based on the coating thickness measured after removal. 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법에 있어서, 코팅은 기다란 금속 요소가 용융금속 욕 (2) 을 연속적으로 통과할 때 형성되고, 이 방법 은In the method of controlling the metal coating thickness of the elongated metal element 1, the coating is formed when the elongated metal element passes continuously through the molten metal bath 2, which method - 상기 요소 (1) 를 미리 결정된 이송경로 (x) 를 따라 이송방향 (3) 으로 이송시키며,The element 1 is conveyed in a conveying direction 3 along a predetermined conveying path x, - 아직 응고되지 않은 금속 코팅을 갖는 요소 (1) 에 이동 자기장을 가하여 상기 기다란 금속 요소 (1) 에서 잉여 용융 금속을 제거하고,Applying a moving magnetic field to the element 1 with the metal coating not yet solidified to remove excess molten metal from the elongated metal element 1, - 잉여 용융 금속을 제거한 후의 코팅두께를 측정하며, 측정된 두께와 희망 두께 값의 차에 따라 이동 자기장을 발생시키는 상 권선 (6a,6b,7a,7b) 에 흐르는 전류를 제어하며,Measuring the coating thickness after removing excess molten metal and controlling the current flowing in the phase windings 6a, 6b, 7a, 7b to generate a moving magnetic field according to the difference between the measured thickness and the desired thickness value, - 이동 자기장이 요소에 작용하는 영역과 같은 영역에서 자기력을 기다란 금속 요소 (1) 로 가하여 미리 결정된 이송 경로 (x) 에 대한 대상물의 위치를 안정화시키는 것을 특징으로 하는, 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법.Of the elongated metal element 1, characterized in that it is applied to the elongated metal element 1 in the same region as the moving magnetic field acts on the element to stabilize the position of the object with respect to the predetermined transport path x. How to control metal coating thickness. 제 16 항에 있어서, 기다란 금속은 금속 스트립 (1) 인 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법.17. The method according to claim 16, wherein the elongated metal is a metal strip (1). 제 17 항에 있어서, The method of claim 17, - 안정화 자기력의 크기를 제어하는 파라메터 값을 생성하는 하나 이상의 센서 (10a, 10b) 에 의해, 미리 결정된 이송 경로 (x) 에 대한 스트립 (1) 의 위치를 결정하고,Determine the position of the strip 1 with respect to the predetermined conveying path x by means of one or more sensors 10a, 10b that produce parameter values that control the magnitude of the stabilizing magnetic force, - 스트립 (1) 의 위치에 따라서 상기 안정화 자기력을 스트립에 가하는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법. A method for controlling the thickness of the metal coating of the elongated metal element (1), characterized in that the stabilizing magnetic force is applied to the strip according to the position of the strip (1). 제 17 항 및 제 18 항에 있어서, 스트립 (1) 은 적어도 스트립 (1) 에 가장 근접한 안정화 폴 (5) 의 일부분 (15a,15b) 의 투자율을 조절함으로써 안정화되는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법. 19. Elongated metal element according to claim 17 and 18, characterized in that the strip (1) is stabilized by adjusting the permeability of the portions (15a, 15b) of the stabilizing pole (5) at least closest to the strip (1). 1) to control the metal coating thickness. 제 19 항에 있어서, 적어도 스트립 (1) 에 가장 근접한 안정화 폴 (5) 의 일부분 (15a,15b) 의 투자율은 외부 코일 (14a,14b) 에 의해 제어되는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법.20. Elongated metal element (1) according to claim 19, characterized in that the magnetic permeability of the portions (15a, 15b) of at least the stabilizing pole (5) closest to the strip (1) is controlled by the outer coils (14a, 14b). To control the metal coating thickness. 제 17 항 내지 제 20 항 중 어느 한 항에 있어서, 이동 자기장과 함께 욕 (2) 을 향한 제거력이 생성되도록 스트립 (1) 의 적어도 하나의 가장자리 (13a,13b) 에 전류를 가하는 것을 특징으로 하는 기다란 금속 요소 (1) 의 금속 코팅 두께를 제어하는 방법. 21. The method according to any one of claims 17 to 20, characterized in that a current is applied to at least one edge (13a, 13b) of the strip (1) such that a removal force towards the bath (2) with a moving magnetic field is produced. A method of controlling the metal coating thickness of an elongated metal element 1.
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