KR20080020376A - Stack chip package - Google Patents

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KR20080020376A KR1020060083795A KR20060083795A KR20080020376A KR 20080020376 A KR20080020376 A KR 20080020376A KR 1020060083795 A KR1020060083795 A KR 1020060083795A KR 20060083795 A KR20060083795 A KR 20060083795A KR 20080020376 A KR20080020376 A KR 20080020376A
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Abstract

A stack chip package is provided to reduce the size by electrically connecting chips using solder bumps or solder balls without using bonding wires. A stack chip package includes a substrate(110), first, second, and third semiconductor chips(130,150,170), metal wires, a sealing material(210), and solder balls(220). The substrate includes connection pads at an upper surface and ball lands at a lower surface. The first semiconductor chip includes a redistribution layer having first bonding pads attached on the substrate in face-up, second bonding pad disposed on the first bonding pads, and third bonding pads disposed on the second bonding pads. The second semiconductor chip is bonded with the third bonding pads. The third semiconductor chip is bonded with the second bonding pads on the second semiconductor chip. The metal wires are used for connecting the first bonding pads and connection pads of the substrate. The sealing material is used for sealing an upper surface of the substrate including the first to third semiconductor chips and metal wires. The solder balls are attached to the ball lands.

Description

적층 칩 패키지{STACK CHIP PACKAGE} Multilayer Chip Packages {STACK CHIP PACKAGE}

도 1은 종래 기술에 따른 적층 칩 패키지를 도시한 단면도.1 is a cross-sectional view showing a laminated chip package according to the prior art.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 적층 칩 패키지를 도시한 단면도.2 is a cross-sectional view showing a stacked chip package according to an embodiment of the present invention.

도 3a 내지 3d는 본 발명의 실시예에 따른 적층 칩 패키지의 제조 과정을 설명하기 위하여 도시한 단면도.3A to 3D are cross-sectional views illustrating a manufacturing process of a stacked chip package according to an exemplary embodiment of the present invention.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

110 : 기판 130 : 제1반도체 칩110: substrate 130: first semiconductor chip

140a : 제1본딩 패드 140b : 제2본딩 패드 140a: first bonding pad 140b: second bonding pad

140c : 제3본딩 패드 150 : 제2반도체 칩140c: third bonding pad 150: second semiconductor chip

160 : 제1통전 수단 170 : 제3반도체 칩160: first power supply means 170: third semiconductor chip

180 : 제2통전 수단 190 : 본딩 와이어180: second conducting means 190: bonding wire

210 : 봉지부 220 : 솔더볼210: sealing portion 220: solder ball

본 발명은 반도체 패키지에 관한 것으로써, 더욱 상세하게는, 각 반도체 칩의 크기에 관계없이 다중 적층이 가능하고 경박단소하며 전기적인 특성이 우수한 적층 칩 패키지에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a semiconductor package, and more particularly, to a multilayer chip package capable of multiple stacking, thin and small, and excellent electrical characteristics regardless of the size of each semiconductor chip.

전기·전자 제품이 고성능화되고 전자기기들이 경박단소화됨에 따라 핵심 소자인 패키지의 고밀도, 고실장화가 중요한 문제로 대두되고 있으며, 또한 컴퓨터의 경우 기억 용량의 증가에 따라 대용량의 램(Random Access Memory) 및 플래쉬 메모리(Flash Memory)와 같이 칩의 용량은 증대되지만, 패키지는 소형화되는 경향으로 연구되고 있어 한정된 크기의 기판에 더 많은 수의 패키지를 실장하기 위한 여러 가지 기술들이 제안·연구되고 있다. As electrical and electronic products are getting higher performance and electronic devices are lighter and shorter, the high density and high mounting of packages, which are key components, are becoming an important issue.In the case of computers, as the memory capacity increases, a large amount of RAM (Random Access Memory) As chips have increased capacities, such as flash memory, but packages are being miniaturized, various techniques for mounting a larger number of packages on a limited size substrate have been proposed and studied.

이러한 패키지의 크기를 줄이기 위해 제안된 방법들은 동일한 기억 용량을 가지는 복수개의 칩 또는 패키지를 실장하는 것으로, 주로 반도체 칩 및 패키지가 기판 상에 평면적인 배열 방법으로 실장되기 때문에 제작에 한계가 있었다.The proposed methods for reducing the size of such a package are to mount a plurality of chips or packages having the same memory capacity, and there is a limitation in manufacturing because the semiconductor chip and the package are mounted in a planar arrangement method on a substrate.

이러한 한계를 극복하기 위하여 동일한 기억 용량의 칩을 일체적으로 복수개 적층한 패키지 기술이 제안된바, 이것은 적층 칩 패키지(Stack Chip Package)라 통칭된다. In order to overcome this limitation, a package technology in which a plurality of chips having the same storage capacity are integrally stacked is proposed, which is collectively referred to as a stacked chip package.

전술된 적층 칩 패키지의 기술은 단순화된 공정으로 패키지의 제조 단가를 낮출 수 있으며, 또한 대량 생산 등의 잇점이 있는 반면, 적층되는 칩의 수 및 크기 증가에 따른 패키지 내부의 전기적 연결을 위한 배선 공간이 부족하다는 단점이 있다.The above-described stacked chip package technology can reduce the manufacturing cost of the package by a simplified process, and also has advantages such as mass production, while wiring space for electrical connection inside the package according to the increase in the number and size of stacked chips. There is a drawback to this lack.

도 1은 종래 기술에 따른 적층 칩 패키지를 도시한 단면도이다. 1 is a cross-sectional view illustrating a stacked chip package according to the prior art.

도시된 바와 같이, 종래의 적층 칩 패키지는 기판(10)상에 다수의 반도체 칩(20, 30, 40)이 적층되어 패키징 된 구조를 갖는데, 상기 각각의 반도체 칩(20, 30, 40)의 서로 대향되는 면과 기판(10)에 접하는 면이 접착제(14)로 서로 부착되며, 기판(10)과 접착되지 않은 타측면에 다수의 본딩 패드(18a, 18b, 18c)가 형성되어 있다. As shown, a conventional stacked chip package has a structure in which a plurality of semiconductor chips 20, 30, and 40 are stacked and packaged on a substrate 10, wherein each of the semiconductor chips 20, 30, and 40 is packaged. Surfaces facing each other and surfaces in contact with the substrate 10 are attached to each other with an adhesive 14, and a plurality of bonding pads 18a, 18b, and 18c are formed on the other side of the substrate 10 that is not bonded to the substrate 10.

반도체 칩(20, 30, 40)의 본딩 패드(18a, 18b, 18c)는 기판(10)의 상부면에 형성된 전도성 패턴(12)들과 각각 대응되어 본딩 와이어(16a, 16b, 16c)에 의해 전기적으로 연결되고, 반도체 칩(20, 30, 40) 및 기판(10) 상부면에 형성된 전기적 연결 부분은 에폭시 계열의 봉지 수지(22)로 봉지되어 있고, 기판(10)의 하부에 형성된 볼랜드(미도시)에는 솔더볼(24)이 부착되어 있다.The bonding pads 18a, 18b, and 18c of the semiconductor chips 20, 30, and 40 are respectively corresponded to the conductive patterns 12 formed on the upper surface of the substrate 10 by the bonding wires 16a, 16b, and 16c. Electrically connected, the electrical connection portion formed on the semiconductor chip 20, 30, 40 and the upper surface of the substrate 10 is encapsulated with an epoxy-based encapsulation resin 22, the ball land formed on the lower portion of the substrate ( The solder ball 24 is attached to the not shown).

그러나, 전술한 종래의 적층 칩 패키지의 경우 본딩 와이어를 사용함에 따라 배선 공간의 부족으로 본딩 와이어의 스윕(Sweep) 현상 등에 의하여 전기적인 쇼트가 발생할 수 있고, 긴 본딩 와이어의 길이로 인하여 소요 전력이 증가되어 전기적 특성이 나빠지는 문제점을 가진다.However, in the case of the conventional multilayer chip package described above, an electrical short may occur due to the sweep phenomenon of the bonding wire due to the lack of wiring space due to the use of the bonding wire, and the power consumption may be reduced due to the length of the long bonding wire. There is a problem that the electrical properties are increased and worsened.

또한, 두 개 이상의 반도체 칩을 사용하여 두배 이상의 메모리 용량을 구현하고자 할 경우, 두 개 이상의 반도체 칩을 전기적으로 연결하기 위한 배선 디자인이 불가능한 경우가 발생할 수 있다. In addition, when two or more semiconductor chips are used to implement twice or more memory capacities, a wiring design for electrically connecting two or more semiconductor chips may be impossible.

따라서, 본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위해 안출된 것으로서, 본 발명은 배선 공간 부족 문제를 해결하고 좁은 공간에서도 패키징이 가능하며 경박단소한 적층 칩 패키지를 제공함에 그 목적이 있다.Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, the present invention is to solve the problem of lack of wiring space and to provide packaging in a narrow space and to provide a light and simple laminated chip package.

상기와 같은 목적을 달성하기 위하여, 본 발명은, 상면에 접속 패드와 하면에 볼랜드를 구비한 기판; 상기 기판 상에 페이스 업 타입으로 부착되고, 가장 자리에 배치되는 제1본딩 패드들과 상기 제1본딩 패드들의 내측에 배치되는 제2본딩 패드들 및 상기 제2본딩 패드들의 내측에 배치되는 제3본딩 패드들로 이루어진 재배선층이 구비된 제1반도체 칩; 상기 제1반도체 칩 상에 제3본딩 패드와 플립 칩 본딩되는 제2반도체 칩; 상기 제2반도체 칩의 상부에 배치되며, 상기 제1반도체 칩의 제2본딩 패드와 플립 칩 본딩되는 제3반도체 칩; 상기 제1반도체 칩의 제1본딩 패드와 기판의 접속 패드를 연결하는 금속 와이어; 상기 제1 내지 제3반도체 칩과 금속 와이어를 포함한 기판의 상면을 밀봉하는 봉지부; 상기 기판의 볼랜드에 부착된 솔더볼을 포함하여 이루어진다.In order to achieve the above object, the present invention provides a substrate having a connection pad on the upper surface and a ball land on the lower surface; Third bonding pads attached to the substrate in a face-up type and disposed at edges thereof, second bonding pads disposed inside the first bonding pads, and third bonding pads disposed inside the second bonding pads. A first semiconductor chip having a redistribution layer formed of bonding pads; A second semiconductor chip that is flip chip bonded with a third bonding pad on the first semiconductor chip; A third semiconductor chip disposed on the second semiconductor chip, the third semiconductor chip being flip chip bonded to the second bonding pad of the first semiconductor chip; A metal wire connecting the first bonding pad of the first semiconductor chip and the connection pad of the substrate; An encapsulation part sealing an upper surface of the substrate including the first to third semiconductor chips and the metal wire; It includes a solder ball attached to the ball land of the substrate.

(실시예)(Example)

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세하게 설명하도록 한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명의 실시예에 따른 적층 칩 패키지를 도시한 단면도이다.2 is a cross-sectional view illustrating a stacked chip package according to an exemplary embodiment of the present invention.

도시된 바와 같이, 다수의 본딩 패드들(140a, 140b, 140c)이 형성되어 있는 제1반도체 칩(130)이 접착 테이프(미도시)를 매개로 페이스 업(Face Up) 타입으로 내부에 회로 패턴(미도시)이 형성되어 있고 상면에 접속 패드(미도시)가 그리고 하면에 볼랜드(미도시)가 각각 구비되어 있는 기판(110) 상에 부착되어 있다. 그리고, 다수의 본딩 패드(미도시) 상에 제1통전 수단(160)이 형성되어 있으며 상기 제1반도체 칩(130)보다 작은 크기를 가지는 제2반도체 칩(150)이 상기 제1반도체 칩(130)에 페이스 다운(Face Down) 타입으로 실장되어 있다. 또한, 다수의 본딩 패드(미도시) 상에 제2통전 수단(180)이 형성되어 있고 상기 제2반도체 칩(150)보다 큰 크기를 가지는 제3반도체 칩(170)이 페이스 다운 타입으로 상기 제2반도체 칩(150)의 상부에 위치하면서 상기 제1반도체 칩(130) 상에 실장되어 있다. 여기서, 상기 반도체 칩들(130, 150, 170)과 기판(110)간의 전기적인 패스를 형성하기 위하여 상기 1반도체 칩(130)에 구비된 제1본딩 패드(140a)와 상기 기판(110) 상에 구비된 접속 패드(미도시)는 본딩 와이이로 연결되어 있다. 그리고, 상기 반도체 칩들(130, 150, 170)과 본딩 와이어(190)를 포함한 기판(110)의 상면이 봉지부(210)로 밀봉되어 있고, 상기 기판(110)의 하면에 형성되어 있는 다수의 볼랜드(미도시)에 외부와의 전기적 연결을 이루는 솔더볼(220)로 구성된다.As illustrated, the first semiconductor chip 130 having the plurality of bonding pads 140a, 140b, and 140c formed thereon is a circuit pattern therein in a face up type through an adhesive tape (not shown). (Not shown) are formed, and a connection pad (not shown) is attached to the upper surface and a borland (not shown) is provided on the lower surface, respectively. In addition, a first conductive means 160 is formed on a plurality of bonding pads (not shown), and the second semiconductor chip 150 having a size smaller than that of the first semiconductor chip 130 is the first semiconductor chip ( 130 is mounted as a Face Down type. In addition, a second conducting means 180 is formed on a plurality of bonding pads (not shown), and the third semiconductor chip 170 having a size larger than that of the second semiconductor chip 150 is a face down type. The semiconductor device is mounted on the first semiconductor chip 130 while being positioned on the second semiconductor chip 150. Here, on the first bonding pad 140a and the substrate 110 provided in the first semiconductor chip 130 to form an electrical path between the semiconductor chips 130, 150, and 170 and the substrate 110. The provided connection pads (not shown) are connected by bonding wires. In addition, a plurality of upper surfaces of the substrate 110 including the semiconductor chips 130, 150, and 170 and the bonding wires 190 are sealed by the encapsulation unit 210 and formed on the lower surface of the substrate 110. Borland (not shown) is composed of a solder ball 220 to form an electrical connection to the outside.

여기서, 제1반도체 칩(130)에 구비되어 있는 다수의 본딩 패드들(140a, 140b, 140c)은 제1반도체 칩(130)에 형성된 재배선층(Redistribution Layer : RDL)들로 형성된다. Here, the plurality of bonding pads 140a, 140b, and 140c provided in the first semiconductor chip 130 are formed of redistribution layers (RDLs) formed in the first semiconductor chip 130.

그리고, 상기 제1본딩 패드(140a)들은 제1반도체 칩(130)의 가장 자리에 배치되고 제2본딩 패드(140b)들은 상기 제1본딩 패드(140a)들의 내측에 배치되며 상기 제2본딩 패드(140b)들은 제3본딩 패드(140c)들의 내측에 배치되어 있다. In addition, the first bonding pads 140a are disposed at the edge of the first semiconductor chip 130, and the second bonding pads 140b are disposed inside the first bonding pads 140a and the second bonding pads. The 140b are disposed inside the third bonding pads 140c.

아울러, 상기 제2반도체 칩(150)의 입출력 패드(미도시)에 형성된 다수의 제1통전 수단(160)은 상기 1반도체 칩(130)에 구비된 제3본딩 패드(140c)들과 그리고 제3반도체 칩(170)의 입출력 패드(미도시)에 형성된 다수의 제2통전 수단(180)은 상기 1반도체 칩(130)에 구비된 제2본딩 패드(140b)들과 일대일 대응으로 부착되어 전기적, 물리적으로 연결을 이룬다. In addition, the plurality of first conducting means 160 formed on the input / output pads (not shown) of the second semiconductor chip 150 may include the third bonding pads 140c provided on the first semiconductor chip 130. The plurality of second conducting means 180 formed on the input / output pads (not shown) of the three semiconductor chips 170 may be attached to the second bonding pads 140b of the first semiconductor chip 130 in a one-to-one correspondence. It is physically connected.

또한, 상기 제1통전 수단(160)은 솔더 범프와 같은 범프 등이 사용될 수 있고 웨이퍼 레벨 단위의 공정에서 웨이퍼의 소잉(Sawing) 공정 전에 형성되며, 상기 제2통전 수단(180)은 솔더볼이 사용될 수 있고 웨이퍼 레벨 단위의 공정에서 소잉 공정 전 또는 솔더볼 마운트 공정 등에서 형성된다.In addition, the first conducting means 160 may be a bump, such as a solder bump, etc. may be used and is formed before the sawing process of the wafer in a wafer level process, the second conducting means 180 is a solder ball is used It may be formed before the sawing process or in the solder ball mounting process in the wafer level unit process.

그리고, 상기 제1반도체 칩(130)과 제2반도체 칩(150) 또는 제1반도체 칩(130) 내지 제3반도체 칩(170) 사이는 봉지부(210)를 형성하는 봉지제가 채워져 있으나 제1통전 수단(160)과 제2통전 수단(180) 및 접합부들을 보호하기 위하여 봉지제를 대신하여 매립재를 추가할 수도 있다.The encapsulant forming the encapsulation portion 210 is filled between the first semiconductor chip 130 and the second semiconductor chip 150 or between the first semiconductor chip 130 and the third semiconductor chip 170, but the first semiconductor chip 130 and the first semiconductor chip 130 and the third semiconductor chip 170 are filled with the encapsulant 210. A buried material may be added in place of the encapsulant to protect the energizing means 160 and the second energizing means 180 and the joints.

이와 같은 본 발명의 적층 칩 패키지는 각 반도체 칩의 크기에 관계없이 다중 적층이 가능하고, 적층되는 칩들간의 전기적인 연결이 금속 와이어가 아닌 솔더 범프 또는 솔더볼을 이용하여 이루어지기 때문에 몰딩 공정에서 긴 본딩 와이어에 의한 스윕 등이 발생하지 않아 전기적인 쇼트 등의 문제를 방지할 수 있다.The multilayer chip package of the present invention can be multi-layered regardless of the size of each semiconductor chip, and since the electrical connection between the stacked chips is made using solder bumps or solder balls instead of metal wires, the multilayer chip package is long in the molding process. Sweep due to the bonding wire does not occur, and it is possible to prevent a problem such as an electrical short.

이하에서는 본 발명의 실시예에 따른 적층 칩 패키지의 제조 과정을 도 3a 내지 도 3d를 참조하여 설명하도록 한다.Hereinafter, a manufacturing process of a multilayer chip package according to an exemplary embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS. 3A to 3D.

먼저, 도 3a를 참조하면, 내부에 회로 패턴(미도시)이 형성되어 있고 상면에 접속 패드(미도시)가 그리고 하면에는 볼랜드(미도시)가 형성되어 있는 기판(110) 상에 재배선층들로 형성된 제1, 제2, 제3본딩 패드(140a, 140b, 140c)들이 구비되어 있는 제1반도체 칩(130)을 접착 테이프(미도시)를 매개로 페이스 업 타입으로 부착시킨다. 여기서 상기 제1, 제2, 제3본딩 패드(140a, 140b, 140c)들을 형성하는 재배선층은 일반적인 웨이퍼 레벨 공정인 포토 리소그라피 공정과 전기 도금등의 공정으로 형성된다.First, referring to FIG. 3A, redistribution layers are formed on a substrate 110 having a circuit pattern (not shown) formed therein, a connection pad (not shown) formed on an upper surface thereof, and a borland (not shown) formed on a lower surface thereof. The first semiconductor chip 130 provided with the first, second, and third bonding pads 140a, 140b, and 140c may be attached to the face-up type via an adhesive tape (not shown). The redistribution layer forming the first, second, and third bonding pads 140a, 140b, and 140c may be formed by a photolithography process, an electroplating process, or the like, which is a general wafer level process.

그런 다음, 도 3b에 도시된 바와 같이, 상기 제1반도체 칩(130)보다 작은 크기를 가지고 다수의 입출력 패드(미도시) 상에 제1통전 수단(160)들이 형성되어 있는 제2반도체 칩(150)을 상기 제1반도체 칩(130) 상에 페이스 다운 타입으로 실장시킨다. 이때, 상기 제2반도체 칩(150)에 형성된 제1통전 수단(160)과 상기 제1반도체 칩(130)에 구비된 제3본딩 패드(140c)들은 서로 일대일 대응으로 부착시킨다. Next, as shown in FIG. 3B, the second semiconductor chip (1) having a smaller size than the first semiconductor chip 130 and having the first conducting means 160 formed on a plurality of input / output pads (not shown) 150 is mounted on the first semiconductor chip 130 as a face down type. In this case, the first conducting means 160 formed on the second semiconductor chip 150 and the third bonding pads 140c provided on the first semiconductor chip 130 are attached to each other in a one-to-one correspondence.

이어서, 도 3c에 도시된 바와 같이, 다수의 입출력 패드(미도시) 상에 제2통전 수단(180)이 형성되어 있고 상기 제2반도체 칩(150)보다 큰 크기를 가지는 제3반도체 칩(170)을 페이스 다운 타입으로 상기 제2반도체 칩(150)의 상부에 위치하도록 하면서 상기 제1반도체 칩(130) 상에 실장시킨다. 이때, 상기 제3반도체 칩(170)에 형성된 다수의 제2통전 수단(180)과 상기 1반도체 칩(130)에 구비된 제2본딩 패드(140b)들은 일대일 대응으로 부착시킨다.Subsequently, as shown in FIG. 3C, the second conductive means 180 is formed on the plurality of input / output pads (not shown) and has a size larger than that of the second semiconductor chip 150. ) Is mounted on the first semiconductor chip 130 while being positioned on the second semiconductor chip 150 as a face down type. In this case, the plurality of second conducting means 180 formed on the third semiconductor chip 170 and the second bonding pads 140b provided on the first semiconductor chip 130 are attached in a one-to-one correspondence.

이후, 상기 제1반도체 칩(130)에 구비된 제1본딩 패드(140a)와 기판(110)에 구비된 접속 패드(미도시)를 본딩 와이어(190)로 연결시켜 제1, 제2, 제3 반도체 칩들(130, 150, 170)과 기판(110) 사이에 전기적 패스를 형성시킨다. Subsequently, the first bonding pad 140a of the first semiconductor chip 130 and the connection pad (not shown) provided of the substrate 110 are connected to each other by a bonding wire 190. An electrical path is formed between the three semiconductor chips 130, 150, and 170 and the substrate 110.

마지막으로, 상기 제1 내지 제3반도체 칩(130, 150, 170)과 본딩 와이어(190)를 포함한 기판(110)의 상면을 밀봉하기 위하여 봉지부(210)를 형성시키고, 상기 기판(110)의 하면에 형성되어 있는 다수의 볼랜드(미도시)에 외부와의 전기적 연결을 이루는 솔더볼(220)을 부착하여 적층 칩 패키지를 완성한다.Finally, an encapsulation part 210 is formed to seal the top surface of the substrate 110 including the first to third semiconductor chips 130, 150, and 170 and the bonding wire 190, and the substrate 110 is formed. A solder ball 220 forming an electrical connection to the outside is attached to a plurality of borland (not shown) formed on the lower surface of the lower surface to complete the stacked chip package.

여기서 본 발명은 본딩 와이어가 아닌 솔더 범프와 같은 제1통전 수단과 솔더볼과 같은 제2통전 수단을 이용하여 반도체 칩과 기판 사이의 전기적 패스를 형성함으로써 전기 신호의 경로가 단축시켜 전기적으로 우수한 특성을 가지는 적층 패키지를 제작할 수 있다. The present invention forms an electrical path between the semiconductor chip and the substrate by using a first conducting means such as solder bumps and a second conducting means such as solder balls, rather than a bonding wire, thereby shortening a path of an electrical signal to provide excellent electrical characteristics. The branch can manufacture a laminated package.

이상, 여기에서는 본 발명을 특정 실시예에 관련하여 도시하고 설명하였지만, 본 발명이 그에 한정되는 것은 아니며, 이하의 특허청구의 범위는 본 발명의 정신과 분야를 이탈하지 않는 한도 내에서 본 발명이 다양하게 개조 및 변형될 수 있다는 것을 당업계에서 통상의 지식을 가진 자가 용이하게 알 수 있다.As mentioned above, although the present invention has been illustrated and described with reference to specific embodiments, the present invention is not limited thereto, and the following claims are not limited to the scope of the present invention without departing from the spirit and scope of the present invention. It can be easily understood by those skilled in the art that can be modified and modified.

이상에서와 같이, 각 반도체 칩의 크기에 관계없이 다중 적층이 가능한 구조로 패키지의 전기 배선 구조를 변경하고 본딩 와이어가 아닌 솔더 범프 또는 솔더볼로 전기적 연결을 이룸으로써 적층 칩 패키지의 배선 공간 부족 문제를 해결하여 좁은 공간에서도 전기 배선이 가능하고 경박단소한 적층 칩 패키지를 제공할 수 있다.As described above, the stacking structure of the package can be multi-layered regardless of the size of each semiconductor chip, and the wiring space of the stacked chip package can be solved by making the electrical connection with solder bumps or solder balls instead of bonding wires. The solution can provide electrical wiring in a narrow space and provide a thin and stacked chip package.

그리고, 적층되는 각 칩들간의 전기적인 연결이 솔더 범프 또는 솔더볼로 이루어지기 때문에 몰딩 공정에서 본딩 와이어에 의한 스윕 등이 발생하지 않아 전기적인 쇼트 등의 문제를 방지할 수 있고, 전기 신호의 경로가 단축되어 전기적인 특성이 우수한 적층 칩 패키지를 제작할 수 있다. In addition, since the electrical connection between the stacked chips is made of solder bumps or solder balls, a sweep due to the bonding wire does not occur in the molding process, thereby preventing a problem such as an electrical short. It can be shortened to produce a multilayer chip package having excellent electrical characteristics.

Claims (2)

상면에 접속 패드와 하면에 볼랜드를 구비한 기판;A substrate having a connection pad on an upper surface and a ball land on a lower surface thereof; 상기 기판 상에 페이스 업 타입으로 부착되고, 가장 자리에 배치되는 제1본딩 패드들과 상기 제1본딩 패드들의 내측에 배치되는 제2본딩 패드들 및 상기 제2본딩 패드들의 내측에 배치되는 제3본딩 패드들로 이루어진 재배선층이 구비된 제1반도체 칩; Third bonding pads attached to the substrate in a face-up type and disposed at edges thereof, second bonding pads disposed inside the first bonding pads, and third bonding pads disposed inside the second bonding pads. A first semiconductor chip having a redistribution layer formed of bonding pads; 상기 제1반도체 칩 상에 제3본딩 패드와 플립 칩 본딩되는 제2반도체 칩;A second semiconductor chip that is flip chip bonded with a third bonding pad on the first semiconductor chip; 상기 제2반도체 칩의 상부에 배치되며, 상기 제1반도체 칩의 제2본딩 패드와 플립 칩 본딩되는 제3반도체 칩;A third semiconductor chip disposed on the second semiconductor chip, the third semiconductor chip being flip chip bonded to the second bonding pad of the first semiconductor chip; 상기 제1반도체 칩의 제1본딩 패드와 기판의 접속 패드를 연결하는 금속 와이어;A metal wire connecting the first bonding pad of the first semiconductor chip and the connection pad of the substrate; 상기 제1 내지 제3반도체 칩과 금속 와이어를 포함한 기판의 상면을 밀봉하는 봉지부; 및An encapsulation part sealing an upper surface of the substrate including the first to third semiconductor chips and the metal wire; And 상기 기판의 볼랜드에 부착된 솔더볼;을 Solder ball attached to the ball land of the substrate; 포함하는 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지.Laminated chip package comprising a. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1반도체 칩과 제2반도체 칩 사이 또는 제1반도체 칩과 제3반도체 칩 사이에 매립재가 더 추가된 것을 특징으로 하는 적층 칩 패키지.And a buried material is further added between the first semiconductor chip and the second semiconductor chip or between the first semiconductor chip and the third semiconductor chip.
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