KR20080018322A - Cleaning apparatus for substrate - Google Patents
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Abstract
Description
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 단면도이다.1 and 2 are cross-sectional views of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3 내지 도 5는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치에 포함된 브러시의 단면도 및 사시도이다.3 to 5 are cross-sectional views and perspective views of brushes included in a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 설명** Description of the main parts of the drawings *
100: 공정 챔버 110a: 상부 브러시100:
110b: 하부 브러시 112: 직물110b: lower brush 112: fabric
114: 세정모 120: 회전축114: washing hair 120: rotating shaft
130a: 상부 브라켓 130b: 하부 브라켓130a:
140: 모터140: motor
본 발명은 기판 세정 장치에 관한 것으로 더욱 상세하게는, 이물질의 제거 및 세정력이 우수하며, 반영구적으로 사용할 수 있는 브러시가 구비된 기판 세정 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a substrate cleaning device, and more particularly, to a substrate cleaning device having a brush that can be used semi-permanently, which is excellent in removing and cleaning foreign substances.
일반적으로, 평판 디스플레이(Flat Panel Display) 장치는 액정 표시소 자(Liquid Crystal Display), 플라즈마 디스플레이 소자(Plasma Display Panel), 유기 발광 소자(Organic Light Emitting Diodes) 등을 말한다. 이러한 평판 디스플레이 장치는 기판 상에 사진(photo), 확산(diffusion), 증착(deposition), 식각(etching), 이온 주입(ion implant) 및 세정(cleaning) 등과 같은 공정들을 반복하여 제조한다. In general, a flat panel display device refers to a liquid crystal display, a plasma display panel, an organic light emitting diode, and the like. Such flat panel display devices are manufactured by repeating processes such as photo, diffusion, deposition, etching, ion implantation, and cleaning on a substrate.
이 중, 세정 공정은 기판 상에 붙어 있는 먼지나 유기물 등을 제거하기 위해 수행된다. 그리고 세정 공정은 탈이온수를 사용하여 기판을 수세(rinse)하는 수세 공정 또는 브러시(brush)를 이용한 세정 공정과, 공기를 분사하여 기판에 부착된 탈이온수를 제거하는 건조 공정을 포함한다. Among these, the cleaning process is performed to remove dust, organic matters and the like stuck on the substrate. The washing process includes a washing process for washing the substrate using deionized water or a washing process using a brush, and a drying process for removing deionized water attached to the substrate by injecting air.
이와 같은 공정들 중 브러시를 이용한 세정 공정은 상하로 대향하고 각각 회전하는 브러시 사이로 기판을 통과시킴으로써, 모의 브러싱 작용에 의해 기판 표면의 이물질이 제거된다.Among these processes, the cleaning process using a brush passes the substrate between the brushes facing each other up and down and each rotating brush, so that foreign matter on the surface of the substrate is removed by a simulated brushing action.
그러나, 브러시가 강선으로 이루어진 다수의 모로 이루어진 경우 스크류 타입의 강선을 회전축에 용접해야 한다. 이에 따라 브러시의 무게가 증가하고, 강선의 배열에 따라 브러시 모가 균일하게 배치되지 못하며, 강선으로 이루어진 모가 회전축에서 떨어질 수 있다. 또한, 모가 강선으로 이루어지고 샤프트에 용접되므로 장기간 사용시 부식될 수 있다. However, if the brush consists of a plurality of hairs of steel wire, the screw type steel wire should be welded to the rotation shaft. Accordingly, the weight of the brush increases, the brush hairs may not be uniformly arranged according to the arrangement of the steel wires, and the hairs of the steel wires may fall off the rotation axis. In addition, since the hair is made of steel wire and welded to the shaft, it may be corroded when used for a long time.
본 발명은 상기와 같은 문제점을 고려하여 안출된 것으로서, 이물질의 제거 및 세정력이 우수하며, 반영구적으로 사용할 수 있는 브러시를 포함하는 기판 세정 장치를 제공하는 것을 목적으로 한다.The present invention has been made in view of the above problems, and an object of the present invention is to provide a substrate cleaning apparatus including a brush that is excellent in removing and cleaning foreign substances and can be used semi-permanently.
본 발명의 목적들은 이상에서 언급한 목적들로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 목적들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.The objects of the present invention are not limited to the above-mentioned objects, and other objects that are not mentioned will be clearly understood by those skilled in the art from the following description.
상술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명에 따른 기판 세정 장치는 챔버를 통과하는 기판에 대향하여 설치된 회전축, 회전축을 감싸는 직물 및 직물에 삽입 고정되며 기판과 접촉되는 다수의 세정모가 구비된 브러시를 포함한다. In order to achieve the above object, the substrate cleaning apparatus according to the present invention includes a rotating shaft installed opposite the substrate passing through the chamber, a fabric surrounding the rotating shaft, and a brush having a plurality of cleaning caps inserted into and fixed to the fabric and contacting the substrate. do.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다. 본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다. Specific details of other embodiments are included in the detailed description and the drawings. Advantages and features of the present invention and methods for achieving them will be apparent with reference to the embodiments described below in detail with the accompanying drawings. However, the present invention is not limited to the embodiments disclosed below, but can be implemented in various different forms, and only the embodiments make the disclosure of the present invention complete, and the general knowledge in the art to which the present invention belongs. It is provided to fully inform the person having the scope of the invention, which is defined only by the scope of the claims. Like reference numerals refer to like elements throughout.
이하, 본 발명의 바람직한 실시예에 대해 첨부된 도면을 참조하여 보다 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 1 및 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 단면도이다. 1 and 2 are cross-sectional views of a substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 1 및 도 2에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치는 공정 챔버(100)를 구비하며, 공정 챔버(100)의 양측에는 서로 대응되게 유입구와 유출구가 형성되어 있다. 그리고 공정 챔버(100) 내부에는 유입구에서 유출구로 이어지는 컨베이어(10)가 설치되어 있어 기판(G)을 일 방향으로 이송한다. 이와 같은 컨베이어(10)는 하부에 일정 간격으로 설치된 다수의 롤러(20)들에 의해 일 방향으로 동작하게 된다. As shown in Figure 1 and 2, the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention includes a
그리고, 공정 챔버(100) 내부에는 컨베이어(10)를 통해 이송되는 기판(G)의 상하부면과 접촉하여 이물질을 제거하는 상부 및 하부 브러시(110a, 110b)가 상하로 대향하여 설치되어 있다. In addition, upper and
상부 및 하부 브러시(110a, 110b)는 원통형의 외주면에 탄력성 있는 세정모들이 형성되어 있으며, 이동하는 기판(G)의 표면 전체를 브러싱할 수 있도록 기판(G)의 길이 이상으로 형성되어 있다. 이러한 상부 및 하부 브러시(110a, 110b)는 각각 회전축(120a, 120b)에 장착되어 있어 회전축(120a, 120b)의 회전에 의해 회전하면서 이동하는 기판(G)의 표면을 세정한다. 상부 및 하부 브러시(110a, 110b)에 대해서는 도 3 내지 도 5를 참조하여 보다 상세히 설명하기로 한다. The upper and
또한, 공정 챔버(100) 내부에는 세정액을 분사하는 분사 노즐(200)이 설치되어 있어 컨베이어(10)를 통해 이동하는 기판(G) 표면으로 세정액을 분사한다. 이 때, 세정액은 기판(G)과 브러시(110a, 110b) 사이에서 윤활유 역할을 함과 동시에 기판(G) 상의 이물질을 제거하게 된다. 그리고 공정 챔버(100) 내에는 세정 공정을 마친 기판(G)의 상하부로 공기를 분사하여 기판(G) 표면을 건조시키는 에어 나이프(300)가 설치되어 있다. In addition, an
그리고, 각각의 상부 및 하부 회전축(120a, 120b) 상부 및 하부 브러시(110a, 110b)의 중심을 관통하며, 브러시(110a, 110b)를 각각 회전시키도록 설치되어 있다. 상세히 설명하면, 상부 및 하부 회전축(120a, 120b)의 양단은 상부 및 하부 브라켓(130a, 130b)에 의해 공정 챔버(100)에 고정되어 있으며, 상부 및 하부 브라켓(130a, 130b) 내에는 회전축(120a, 120b)이 회전할 수 있도록 베어링이 설치될 수 있다. 그리고 상부 및 하부 회전축(120a, 120b)의 일단은 상부 및 하부 브라켓(130a, 130b)에서 외부로 연장되어 모터와 같은 액튜에이터(140)에 연결되어 있다. The upper and lower
따라서, 기판(G)이 상부 및 하부 브러시(110a, 110b) 사이로 이송되면, 액튜에이터(140) 및 회전축(120a, 120b)에 의해 회전되는 상부 및 하부 브러시(110a, 110b)를 통과하면서 세정모의 브러싱 작용에 의해 기판(G) 표면이 세정된다.Therefore, when the substrate G is transferred between the upper and
이하, 도 3 내지 도 5를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치의 브러시에 대해 상세히 설명한다. 도 2 내지 도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 세정 장치에 포함된 브러시의 단면도 및 사시도이다.Hereinafter, a brush of the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention will be described in detail with reference to FIGS. 3 to 5. 2 to 4 are cross-sectional views and perspective views of the brush included in the substrate cleaning apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3 내지 도 5에 도시된 바와 같이, 브러시(110)는 원형의 회전축(120)을 감싸는 유연한 직물(112)과 직물(112)에 삽입 고정된 다수의 세정모(114)로 이루어져 있다. 여기서, 직물(112)은 일정한 격자 형태로 촘촘하게 짜여진 천일 수 있다. 그리고 직물(112)과 세정모(114)는 기판(G)을 세정할 때 이용되는 세정액에 의해 변형되지 않는 재질로 이루어진다. As shown in FIGS. 3 to 5, the
또한, 직물(112)에 삽입 고정되는 다수의 세정모(114)는 촘촘한 격자 형태의 직물(112)에 고정되므로 세정모(114)들 사이의 간격을 줄일 수 있어 기판의 세정력을 보다 향상시킬 수 있다. In addition, since the plurality of
이와 같이 직물(112)과 다수의 세정모(114)로 이루어진 브러시(110)는 회전축(120)에 착탈이 가능하다. 그러므로 세정액 또는 장기간 사용으로 인해 세정모(114)가 마모될 경우 교체가 용이하다. As such, the
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상이나 필수적인 특징을 벗어나지 않는 범위 내에서 여러 가지로 치환, 변형 및 변경이 가능하므로 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.Although embodiments of the present invention have been described above with reference to the accompanying drawings, those skilled in the art to which the present invention pertains have various permutations, modifications, and modifications without departing from the spirit or essential features of the present invention. It is to be understood that modifications may be made and other embodiments may be embodied. Therefore, it should be understood that the embodiments described above are exemplary in all respects and not restrictive.
본 발명에 따르면, 직물 및 직물에 삽입 고정되는 다수의 세정모로 이루어진 브러시를 이용함으로써 브러시가 부식되는 것을 방지할 수 있으며, 무게를 줄일 수 있어 브러시가 기판을 손상시키는 것을 방지할 수 있다. According to the present invention, by using a brush composed of a plurality of cleaning hairs inserted into and fixed to the fabric, it is possible to prevent the brush from being corroded and to reduce the weight to prevent the brush from damaging the substrate.
그리고 직물에 세정모를 촘촘하게 배열할 수 있으므로 기판 세정시 이물질의 제거 및 세정력을 향상시킬 수 있다. 또한, 브러시가 가볍고 유연하므로 장기간 사용 또는 세정모 마모로 인한 브러시의 교체가 용이하다. And since the hair can be densely arranged on the fabric, it is possible to improve the removal and cleaning power of foreign substances when cleaning the substrate. In addition, since the brush is light and flexible, it is easy to replace the brush due to long-term use or wear of the cleaning hair.
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