KR20080013081A - Plasma display panel and method for making the same - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 일례를 나타내는 사시도이다.1 is a perspective view illustrating an example of a general plasma display panel.
도 2 내지 도 6은 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널의 제조단계의 일 실시예를 나타내는 단면도로서,2 to 6 are cross-sectional views showing an embodiment of the manufacturing step of the plasma display panel of the present invention.
도 2는 상부패널에 제1유전체층을 형성한 단계를 나타내는 단면도이다. 2 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a first dielectric layer on an upper panel.
도 3은 제2유전체층을 형성한 단계를 나타내는 단면도이다. 3 is a cross-sectional view illustrating a step of forming a second dielectric layer.
도 4는 제2유전체층을 선택적으로 노광하는 단계를 나타내는 단면도이다. 4 is a cross-sectional view illustrating a step of selectively exposing a second dielectric layer.
도 5는 노광된 상태를 나타내는 단면도이다. 5 is a cross-sectional view showing an exposed state.
도 6은 노광된 제2유전체층을 식각하여 제조한 상부패널을 나타내는 단면도이다. 6 is a cross-sectional view illustrating an upper panel manufactured by etching the exposed second dielectric layer.
<도면의 주요 부분에 대한 간단한 설명><Brief description of the main parts of the drawing>
100 : 상부패널 110 : 기판100: upper panel 110: substrate
120 : 유지전극 121 : 투명전극120
122 : 버스전극 123 : 블랙 매트릭스122: bus electrode 123: black matrix
130 : 제1유전체층 140 : 제2유전체층130: first dielectric layer 140: second dielectric layer
143 : 홈 200 : 마스크143: groove 200: mask
본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 고정세의 패턴을 가지는 구조를 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel capable of forming a structure having a high definition pattern and a method of manufacturing the same.
플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel: 이하, PDP)은 방전 현상을 이용하여 화상을 표시하는 발광형 소자의 일종으로서, 각 셀마다 액티브 소자를 장착할 필요가 없어서 제조 공정이 간단하고, 화면의 대형화가 용이하며, 응답속도가 빨라 대형화면을 가지는 화상표시장치의 표시소자로 각광받고 있다.Plasma display panel (PDP) is a type of light emitting device that displays an image by using a discharge phenomenon, and there is no need to mount an active device for each cell, so the manufacturing process is simple and the screen size is increased. It is easy to use and has a fast response speed, making it a popular display device for an image display device having a large screen.
이와 같은 PDP의 구조는 도 1에서 도시하는 바와 같이, 상부패널(10)과 하부패널(20)을 대향시켜 겹친 구조로 되어있다. 상기 상부패널(10)은 상부기판(11)의 내면에 한 쌍의 유지전극(12)이 배열되는데, 보통 이 유지전극(12)은 투명전극과 버스전극(도시되지 않음)으로 나뉘어진다.As shown in FIG. 1, the PDP has a structure in which the
이러한 유지전극(12)은 AC 구동을 위한 유전체층(13)으로 피복되고, 이 유전체층(13)의 표면에는 보호막(14)이 형성된다.The
한편, 상기 하부패널(20)의 내면에는 하부기판(21) 위에 어드레스 전극(22)이 배열되고, 그 위에 어드레스 전극(22)을 보호하는 유전체층(23)이 형성되는데, 이 유전체층(23) 위에는 어드레스 전극(22)을 구획하기 위한 스트라이프 또는 웰 타입의 격벽(24)이 형성되고, 이 격벽(24)에 의해 구획되는 방전셀(25)에는 컬러표 시를 위한 적색, 청색 및 녹색의 형광체층(26)이 도포되어 서브 픽셀(sub pixel)을 이룬다.On the other hand, an inner surface of the
상기 격벽(24)에 의하여 방전셀(25)이 서브 픽셀마다 구획되고, 또한 이 방전셀(25)에는 방전가스가 봉입되며, 하나의 픽셀(one pixel)은 상기 3개의 서브 픽셀로 이루어진다.The
상술한 상부패널(10)의 유전체층(13)을 형성하는 방법의 일례로는, 글래스 분말을 포함하는 페이스트를 이용하여 유전체막을 형성한 후 마스크를 이용한 스퀴징으로 유전체막의 두께를 조절하여 형성하는 방법이 있다.As an example of the method of forming the
또한, 드라이 필름 레지스트(DFR: dry film resist)를 이용하여 라미네이팅 한 후, 에칭법, 샌드블라스팅법 등을 이용하여 유전체막의 두께를 조절하여 유전체층(13)을 형성한 후, 소성과정을 통하여 유전체층(13)을 제작하였다.In addition, after laminating using a dry film resist (DFR), after forming the
그러나 상기와 같은 종래의 방법은 두께 편차를 조절하기에 용이하지 않으며, 고정세의 패턴을 형성할 수 없으며, 특히, 패턴을 갖는 유전체층을 형성하기에 용이하지 않은 문제점이 있었다.However, such a conventional method is not easy to adjust the thickness variation, it is not possible to form a high-definition pattern, in particular, there is a problem that is not easy to form a dielectric layer having a pattern.
본 발명의 기술적 과제는 상기한 바와 같은 문제점을 해결하기 위한 것으로, 고정세의 유전체층 패턴을 형성할 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널 및 그 제조방법을 제공하고자 한다.SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in an effort to solve the problems described above, and to provide a plasma display panel capable of forming a high-definition dielectric layer pattern and a method of manufacturing the same.
상기와 같은 본 발명의 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 플라즈마 디스플 레이 패널의 제조방법에 있어서, 다수의 전극 쌍이 형성된 기판 위에 제1유전체층을 형성하는 단계와; 상기 제1유전체층 위에 감광성 재료를 포함하는 제2유전체층을 형성하는 단계와; 상기 제2유전체층을 선택적으로 노광하는 단계와; 상기 제2유전체층을 식각하는 단계를 포함하여 구성함으로써 달성된다.In order to achieve the object of the present invention as described above, the present invention provides a method of manufacturing a plasma display panel, comprising the steps of: forming a first dielectric layer on a substrate on which a plurality of electrode pairs are formed; Forming a second dielectric layer comprising a photosensitive material on the first dielectric layer; Selectively exposing the second dielectric layer; And by etching the second dielectric layer.
상기 제2유전체층에 포함되는 감광성 재료는 무기물일 수 있으며, 특히, Ag, CeO2, 및 Sb203 중 적어도 어느 하나 이상일 수 있다.The photosensitive material included in the second dielectric layer may be an inorganic material, and in particular, may be at least one of Ag, CeO 2 , and Sb 2 O 3 .
또한, 상기 제2유전체층의 모상유리는, SiO2, Al2O3, Li2O3, 및 K2O 중 적어도 어느 하나 이상을 이용할 수 있다.In addition, at least one or more of SiO 2 , Al 2 O 3 , Li 2 O 3 , and K 2 O may be used for the mother glass of the second dielectric layer.
이때, 상기 제2유전체층 중의 감광성 재료의 조성은, Ag가 0.001 내지 0.005wt%, CeO2가 0.01 내지 0.5wt%, 및 Sb203가 0.01 내지 0.5wt%인 것이 바람직하다.At this time, the composition of the photosensitive material in the second dielectric layer is preferably 0.001 to 0.005wt% Ag, 0.01 to 0.5wt% CeO 2 , and 0.01 to 0.5wt% Sb 2 0 3 .
한편, 상기 제2유전체층을 선택적으로 노광하는 단계는, 상기 각 전극 쌍 사이의 부분을 자외선을 이용하여 노광할 수 있다.On the other hand, in the step of selectively exposing the second dielectric layer, the portion between each electrode pair may be exposed using ultraviolet light.
또한, 상기 제2유전체층을 식각하는 단계는, 불산(HF)을 이용하여 식각할 수 있다.The etching of the second dielectric layer may be performed by using hydrofluoric acid (HF).
상기 발명의 목적을 이루기 위한 다른 관점으로서, 본 발명은, 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 기판과; 상기 기판 위에 위치하며, 다수의 쌍으로 이루어지는 전극과; 상기 전극 위에 위치하는 제1유전체층과; 상기 제1유전체층 위에 위치하며, 감광성 무기물을 포함하는 제2유전체층을 포함하여 구성되는 것을 특징으 로 한다.As another aspect for achieving the above object, the present invention is a plasma display panel, comprising: a substrate; An electrode disposed on the substrate, the electrode comprising a plurality of pairs; A first dielectric layer positioned on the electrode; Located on the first dielectric layer, it comprises a second dielectric layer containing a photosensitive inorganic material.
이때, 상기 제2유전체층의 각 전극 쌍 사이의 부분에는, 상기 전극과 평행한 길이방향의 홈이 형성될 수 있다.In this case, a groove in the longitudinal direction parallel to the electrode may be formed in a portion between each electrode pair of the second dielectric layer.
상기 전극은 유지전극일 수 있으며, 이러한 유지전극은, 상기 기판 위에 위치하는 투명전극과; 상기 투명전극 위에 위치하는 버스전극으로 구성될 수 있다.The electrode may be a sustain electrode, and the sustain electrode may include a transparent electrode positioned on the substrate; It may be composed of a bus electrode positioned on the transparent electrode.
또한, 상기 투명전극과 버스전극 사이에는 블랙 매트릭스가 더 포함될 수 있다.In addition, a black matrix may be further included between the transparent electrode and the bus electrode.
이하, 첨부된 도면을 참고하여 본 발명에 의한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
도 2에서 도시하는 바와 같이, 상부패널(100)을 이루는 기판(110) 위에 유지전극(120)이 형성되고, 이 유지전극(120) 위에 제1유전체층(130)이 형성된다.As shown in FIG. 2, the
이때, 유지전극(120)은 기판(110) 위에 형성되는 투명전극(121)과, 이 투명전극(121) 위에 위치하는 버스전극(122)을 포함할 수 있다.In this case, the
또한, 이러한 투명전극(121)과 버스전극(122) 사이에는 블랙 매트릭스(123: black matrix)가 위치하여 패널의 대비비를 향상시킬 수 있다.In addition, a
이러한 블랙 매트릭스(123)는 그 두께가 투명전극(121)과 버스전극(122) 사이의 전기 전도성에 영향을 주지 않을 정도의 두께로 형성한다.The
도시하는 바와 같이, 상술한 유지전극(120)은 두 개의 전극이 하나의 쌍을 이루어 형성되며, 이러한 한 쌍의 유지전극(120)은 통상 하나의 방전셀(도시되지 않음)에 배치된다.As shown, the above-described
상기 제1유전체층(130)은 유전체 페이스트 또는 그린시트를 이용하여 형성할 수 있다. 이러한 유전체 페이스트 또는 그린시트에는 유전체 파우더, 용매, 분산제 등을 포함될 수 있다.The first
이와 같이 형성된 제1유전체층(130) 위에는, 도 3에서와 같이, 제2유전체층(140)이 형성된다.On the first
이러한 제2유전체층(140)은 제1유전체층(130)과 같이, 유전체 페이스트 또는 그린시트 등이 이용될 수 있으며, 이 제2유전체층(140)의 모체를 이루는 모상유리로는 SiO2, Al2O3, Li2O3, 및 K2O 중 적어도 어느 하나 이상이 이용될 수 있다.Like the first
이와 같은 제2유전체층(140)에는 감광성 재료가 포함되어, 노광을 통하여 패터닝이 가능하도록 조성된다.The second
이러한 감광성 재료는 무기물 재료이며, Ag, CeO2, 및 Sb203 중 적어도 어느 하나 이상이 이용될 수 있다.Such photosensitive material is an inorganic material, and at least one of Ag, CeO 2 , and Sb 2 O 3 may be used.
특히, 이러한 무기물 재료는, Ag, CeO2, 및 Sb203가 모두 포함될 수 있으며, 그 조성은, Ag가 0.001 내지 0.005wt%, CeO2가 0.01 내지 0.5wt%, 및 Sb203가 0.01 내지 0.5wt%로 이루어질 수 있다.In particular, such an inorganic material may include all Ag, CeO 2 , and Sb 2 0 3 , the composition of which is 0.001 to 0.005 wt% Ag, 0.01 to 0.5 wt% CeO 2 , and Sb 2 0 3 It may be made from 0.01 to 0.5wt%.
이러한 제2유전체층(140)은 도포된 후 건조되며, 이러한 건조 후의 두께는 10 내지 100㎛를 이룰 수 있고, 소성된 후에는 5 내지 50㎛의 두께가 될 수 있다.The second
이와 같이, 제2유전체층(140)이 형성된 후에는 도 4에서 도시하는 바와 같이, 마스크(200)를 이용하여 상기 제2유전체층(140)이 자외선과 같은 광선으로 선 택적으로 노광된다.As such, after the second
이때, 노광되는 부분(141)은, 도 4에서와 같이, 각 유지전극(120) 쌍의 사이의 부분이 될 수 있다. 이러한 유지전극(120)은 상술한 바와 같이, 각 방전셀 공간에 배치되므로, 이 노광되는 부분(141)은 각 방전셀 공간의 사이가 될 수 있다. In this case, the exposed
즉, 이러한 노광되는 부분(141)은 각 유지전극(120)과 평행하게 될 수 있다.That is, the exposed
따라서, 이러한 노광되는 부분(141)은 하부패널의 격벽(도시되지 않음)이 위치하는 부분일 수 있다.Therefore, the exposed
이와 같이, 선택적으로 노광되면, 노광된 부분(141)은 도 5에서와 같이, 조직적으로 차이가 나타나게 된다.As such, when selectively exposed, the exposed
이러한, 제2유전체층(140)은 감광성 재료를 포함하고 있으므로, 노광 과정 또는 노광에 의한 열처리 과정에 의하여 노광된 부분(141)이 조직적으로 다르게 되는 것이다.Since the second
이후, 이러한 제2유전체층(140)까지 적층된 구조는 소성된다.Thereafter, the stacked structure up to the second
이와 같이 소성된 후에는 제2유전체층(140) 면이 식각된다. 이때, 식각은 불산(HF)을 이용하여 식각될 수 있다.After firing in this manner, the surface of the second
이러한 식각 과정에서 상기 제2유전체층(140) 면이 식각되는데, 이때, 상술한 바와 같이, 상기 노광된 부분(141)은 노광되지 않은 부분과 구조적인 차이를 보이므로, 보다 빠른 속도로 식각된다.In this etching process, the surface of the
즉, 노광되지 않은 부분(142)은 식각이 거의 이루어지지 않을 때, 상기 노광된 부분은 식각이 많이 이루어지게 된다.That is, when the
이와 같은 식각과정은, 제2유전체층(140)은 자외선에 감광된 부분(141)과 감광되지 않은 부분(142)의 화학적 내구성의 차이에 의하여 불산(HF)에 식각되는 속도의 차이가 발생하는 것이다.In such an etching process, the difference in the rate of etching of the
따라서, 이러한 식각 과정 후에는 도 6에서 도시하는 바와 같이, 제2유전체층(140)의 유지전극(120) 쌍 사이의 부분에, 유지전극(120)과 평행한 홈(143)이 형성될 수 있다.Therefore, after the etching process, as shown in FIG. 6, a
또한, 이러한 홈(143) 부분의 두께는 도 6에는 도시되어 있지 않으나, 20㎛ 이하의 두께를 가질 수도 있다.In addition, the thickness of the
이러한 홈(143)이 형성된 제2유전체층(140)은 차등 유전체 역할을 수행할 수 있다. The
특히, 도 6과 같은 구조를 갖는 제2유전체층(140)은 플라즈마 디스플레이 패널의 구동시 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.In particular, the
즉, 전기적 특성에서 효율은 유지되면서, 방전 전압을 낮출 수 있는 것이다.That is, while maintaining the efficiency in the electrical characteristics, it is possible to lower the discharge voltage.
상기 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 구체적으로 설명하기 위한 일례로서, 본 발명은 상기 실시예에 한정되지 않으며, 다양한 형태의 변형이 가능하고, 이러한 기술적 사상의 여러 실시 형태는 모두 본 발명의 보호범위에 속함은 당연하다.The above embodiment is an example for explaining the technical idea of the present invention in detail, and the present invention is not limited to the above embodiment, various modifications are possible, and various embodiments of the technical idea are all protected by the present invention. It belongs to the scope.
이상과 같은 본 발명은 다름과 같은 효과가 있다.The present invention as described above has the following effects.
첫째, 고정세의 유전체층 패턴 형성이 가능하다.First, a high-definition dielectric layer pattern can be formed.
둘째, 유전체층의 두께를 조절함으로써 패널 구동시 전기적 특성을 향상시킬 수 있다.Second, by controlling the thickness of the dielectric layer it is possible to improve the electrical characteristics when driving the panel.
셋째, 패널 구동시 초기 방전 전압을 낮출 수 있다.Third, it is possible to lower the initial discharge voltage when driving the panel.
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