KR20070118597A - Coating composition and coated article - Google Patents

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Abstract

Disclosed is a coating composition which enables form a coating film that can maintain low refractive index, high abrasion resistance, high antifouling property, high chemical resistance and high crack resistance even when it is formed on a plastic base material such as bases made of plastics and exposed to high temperatures during or after the coating film formation. Specifically disclosed is a coating composition containing a silane compound represented by the general formula (A) below and an epoxy group-containing organic compound which has one or more epoxy groups in a molecule, wherein the silane compound content is 60-97% by weight relative to the total amount of resin components and the epoxy group-containing organic compound content is 3-10% by weight relative to the total amount of resin components. XmR13-mSi-Y-SiR13-mXm (A) [In the formula, R1 represents a monovalent hydrocarbon group having 1-6 carbon atoms; Y represents a divalent organic group having one or more fluorine atoms; X represents a hydrolyzable group; and m represents an integer of 1-3.] A coating film made of such a coating composition is able to maintain high crack resistance even when it is exposed to high temperatures.

Description

코팅재 조성물 및 도장품{COATING COMPOSITION AND COATED ARTICLE}Coating material composition and paints {COATING COMPOSITION AND COATED ARTICLE}

본 발명은, 저굴절율이고, 높은 내찰상성, 방오성, 내약품성, 내크랙성을 실현할 수 있는 코팅재 조성물 및 그 경화 피막을 형성한 도장품에 관한 것이다.The present invention relates to a coating material composition having a low refractive index and capable of realizing high scratch resistance, antifouling property, chemical resistance, and crack resistance, and a coated article formed with the cured coating film.

종래에는, 코팅재 조성물로서, 내약품성이 요구되는 용도로는, 화학적으로 강한 불소 수지가 주로 이용되어 왔다. 또한, 불소 수지가 본질적으로 갖고 있는 굴절율의 낮음을 이용하고, 디스플레이 등의 반사 방지 용도에도 적용되어 있다. 또한, 불소 수지는, 고무 혹은 코팅제로서 응용되고 있지만, 그 분자구조 때문에 내찰상성이 우수한 경질의 보호 코팅제로 하는 것은 어려웠었다.Conventionally, chemically strong fluorine resin has been mainly used as a coating material composition for the use which requires chemical resistance. Moreover, the low refractive index which a fluororesin has essentially is utilized, and it is applied also to antireflection use, such as a display. In addition, the fluorine resin has been applied as a rubber or a coating agent, but it has been difficult to make a hard protective coating excellent in scratch resistance because of its molecular structure.

또한, 최근, 퍼플루오로알킬기를 갖는 가수분해성 실란화합물이 개발되어서, 그 특성을 살려, 발수성, 발유성, 방오성, 반사 방지성 등의 각종 코팅제가 개발되고 있다. 그렇지만, 그 특성을 갖는 퍼플루오로알킬기는 부피가 크고, 불활성이기 때문에, 경화 피막의 가교밀도가 낮아져, 그 결과, 불소 수지와 비교하면 제법 경질이 되어 있다 하더라도, 내찰상성은 아직 불충분하다.In addition, in recent years, hydrolyzable silane compounds having a perfluoroalkyl group have been developed, and various coating agents such as water repellency, oil repellency, antifouling property, antireflection, etc. have been developed utilizing their properties. However, since the perfluoroalkyl group having such a characteristic is bulky and inert, the crosslinking density of the cured film is low, and as a result, even if it is quite hard compared with the fluorine resin, scratch resistance is still insufficient.

또한, 내찰상성을 높이는 목적으로, 이하의 것이 개발되어 있다.Moreover, the following things are developed for the purpose of improving scratch resistance.

우선, (1) 일본국 특허공개 2002-53805호 공보에 개시되어 있는 것과 같이, 퍼플루오로알킬기 함유 실란과 테트라알콕시실란 등의 각종 실란 화합물을 공가수 분해하는 방식이다.First, (1) As disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 2002-53805, it is a method of cohydrolyzing various silane compounds such as perfluoroalkyl group-containing silane and tetraalkoxysilane.

또한, (2) 일본국 특허공개 평6-29332호 공보에 개시되어 있는 바와 같이, 퍼플루오로알킬기 함유 실란에 퍼플루오로알킬렌을 스페이서로 함유하는 디실란 화합물과, 테트라알콕시실란을 병용하는 시스템이다.Moreover, as disclosed in (2) JP-A-6-29332, a disilane compound containing perfluoroalkylene as a spacer in a perfluoroalkyl group-containing silane and tetraalkoxysilane are used together. System.

또한, (3) 특허 제2629813호 공보에 개시되어 있는 바와 같이, 퍼플루오로알킬렌을 스페이서로 함유하는 디실란 화합물과, 에폭시 관능성 실란을 병용하는 시스템이 제안되어 있다.In addition, as disclosed in (3) Japanese Patent No. 2629813, a system using a disilane compound containing a perfluoroalkylene as a spacer and an epoxy functional silane is proposed.

이들의 기술에 의해, 목적으로 하는 방오성, 내찰상성, 밀착성 및 반사 방지성은 비교적 양호한 레벨을 확보할 수 있었다. 그러나, 불소함유율이 저하되기 때문에 본질적으로 양호했던 가정용 세제 등의 약제에 대한 내약품성, 특히 폴리실록산계의 약점인 내알카리성이 부족하게 되어 실용상 문제가 있었다.By these techniques, the target antifouling property, scratch resistance, adhesiveness, and antireflection property were able to ensure the comparatively favorable level. However, since the fluorine content is lowered, there is a problem in practical use due to the lack of chemical resistance, particularly alkali resistance, which is a weak point of the polysiloxane system, which is inherently good for drugs such as household detergents.

또한, 특허공개2004-315712호 공보에 개시되어 있는 조성물에서는, 특정한 구조를 갖는 디실란화합물 또는 그 (부분)가수분해물을 함유하는 것에 의해, 이전보다도 높은 레벨의 내약품성을 달성하고 있다. 그러나, 성막이나 그 밖의 공정에 있어서 높은 열이 가해질 때나, 피막 형성 후에 있어서 높은 열이 가해지거나 할 때에는 크랙이 발생하기 쉬운 문제가 있고, 특히 플라스틱 등의 가소성의 기재에 피막을 형성할 때에는 상기와 같은 크랙의 발생이 현저하다는 문제가 있었다.Moreover, in the composition disclosed by Unexamined-Japanese-Patent No. 2004-315712, a higher level of chemical resistance is achieved by containing the disilane compound which has a specific structure, or its (partial) hydrolyzate. However, there is a problem that cracks are likely to occur when high heat is applied in film formation or other processes, or when high heat is applied after film formation. Particularly, when a film is formed on a plastic substrate such as plastic, There was a problem that the occurrence of the same crack was remarkable.

발명의 개시Disclosure of the Invention

본 발명은 상기의 점에 비추어 이루어진 것이며, 플라스틱 기재 등의 가소성의 기재에 피막을 형성했을 경우에도, 피막 형성시나, 피막 형성 후에 고온하에 노출시켰을 때에, 저굴절율이고, 높은 내찰상성, 방오성, 내약품성, 내크랙성을 유지 할 수 있는 코팅재 조성물 및 이 코팅재 조성물로 피막을 형성한 도장품을 제공하는 것을 목적으로 하는 것이다.The present invention has been made in view of the above-mentioned point, and even when a film is formed on a plastic substrate such as a plastic substrate, the film has a low refractive index, high scratch resistance, antifouling resistance, and resistance against corrosion when exposed to high temperature after film formation or after film formation. An object of the present invention is to provide a coating material composition capable of maintaining chemical resistance and crack resistance, and a coating product having a coating film formed from the coating material composition.

본 발명에 의한 코팅재 조성물은, 하기 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물과, 분자 중에 1개 이상의 에폭시기를 함유하는 에폭시기 함유 유기 화합물을 함유하고, 상기 실란 화합물의 함유량이 수지성분 전체량에 대하여 60~97중량%이며, 상기 에폭시기 함유 유기 화합물의 함유량이 수지성분 전체량에 대하여 3~10중량%인 것을 특징으로 하는 것이다.The coating material composition by this invention contains the silane compound represented by the following general formula (A), and the epoxy group containing organic compound containing 1 or more epoxy groups in a molecule | numerator, and content of the said silane compound is with respect to resin component whole quantity. It is 60 to 97 weight%, and content of the said epoxy group containing organic compound is 3 to 10 weight% with respect to the resin component whole quantity, It is characterized by the above-mentioned.

Figure 112007063327024-PCT00001
Figure 112007063327024-PCT00001

[R1은 탄소수 1~6의 1가 탄화수소기. Y는 불소원자를 1개 이상 함유하는 2가 유기기. X는 가수분해성기. m은 1~3의 정수이다.][R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Y is a divalent organic group containing one or more fluorine atoms. X is a hydrolyzable group. m is an integer of 1 to 3.]

이러한 코팅재 조성물로 형성되는 피막은, 높은 내크랙성을 고온하에 노출시킬 때에도 유지할 수 있다.The film formed from such a coating material composition can be maintained even when high crack resistance is exposed under high temperature.

상기 에폭시기 함유 유기 화합물은, 하기 일반식 (B)로 표시되는 화합물과, 하기 일반식 (C)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 함유하는 것이 바람직하다.It is preferable that the said epoxy group containing organic compound contains the compound represented by the following general formula (B), and at least 1 sort (s) of compound chosen from the compound represented by the following general formula (C).

Figure 112007063327024-PCT00002
Figure 112007063327024-PCT00002

[R2, R3은 탄소수 1~16의 유기기이며, 적어도 한쪽은 에폭시기를 포함한다. Z는 가수분해성기. n, p는 0~2의 정수이며 1≤n+p≤3이다.][R <2> , R <3> is a C1-C16 organic group and at least one contains an epoxy group. Z is a hydrolyzable group. n and p are integers of 0 to 2 and 1 ≦ n + p ≦ 3.]

[화학식 1][Formula 1]

Figure 112007063327024-PCT00003
Figure 112007063327024-PCT00003

[R4~R15는 유기기이며, 또한, 이 중 적어도 하나는 에폭시기를 포함한다. q, r, s, t는 0~12의 정수이다.][R 4 to R 15 are organic groups, and at least one of them contains an epoxy group. q, r, s, t are integers from 0 to 12.]

또한, 상기 에폭시기 함유 유기 화합물은, 분자 중에 에폭시기를 2개 이상 함유하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the said epoxy group containing organic compound contains 2 or more epoxy groups in a molecule | numerator.

또한, 상기 코팅재 조성물은, 하기 일반식 (D)로 표시되는 불화 알킬기 함유 알콕시실란을 함유하는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that the said coating material composition contains the alkyl fluoride-containing alkoxysilane represented by the following general formula (D).

Figure 112007063327024-PCT00004
Figure 112007063327024-PCT00004

[Rf는 불소원자를 1개 이상 함유하는 1가 유기기. X는 가수분해성기.][R f is a monovalent organic group containing one or more fluorine atoms. X is a hydrolyzable group.]

또한, 상기 코팅재 조성물은 충전재를 함유하는 것이 바람직하다.In addition, the coating composition preferably contains a filler.

또한, 상기 에폭시기 함유 유기 화합물의 함유량은, 상기 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물에 대하여 3~10중량%인 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that content of the said epoxy group containing organic compound is 3 to 10 weight% with respect to the silane compound represented by the said General formula (A).

또한, 본 발명에 의한 도장품은, 기재의 표면에 상기와 같은 코팅재 조성물의 경화 피막을 형성해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 것이다.The coated article according to the present invention is formed by forming a cured coating film of the above coating material composition on the surface of a base material.

발명을 실시하기Implement the invention 위한 최선의 형태 Best form for

이하, 본 발명을 실시하기 위한 최선의 형태에 대해서 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, the best form for implementing this invention is demonstrated.

본 발명에 의한 코팅재 조성물은, 하기 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물과, 분자 중에 1개 이상의 에폭시기를 함유하는 에폭시기 함유 유기 화합물을 필수성분으로서 함유한다.The coating material composition which concerns on this invention contains as an essential component the silane compound represented by the following general formula (A), and the epoxy group containing organic compound containing one or more epoxy groups in a molecule | numerator.

Figure 112007063327024-PCT00005
Figure 112007063327024-PCT00005

[R1은 탄소수 1~6의 1가 탄화수소기. Y는 불소원자를 1개 이상 함유하는 2가유기기. X는 가수분해성기. m은 1~3의 정수이다.][R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Y is a divalent organic device containing at least one fluorine atom. X is a hydrolyzable group. m is an integer of 1 to 3.]

식(A) 중의 Y는, 불소원자를 1개 이상 가지는 2가 유기기이지만, 불소원자의 개수는 바람직하게는 4~50개, 특히 바람직하게는 8~24개로 한다. 특히, 반사 방지성, 방오성, 발수성 등의 여러 가지 기능을 양호한 기준에서 발현시키기 위해서는, 불소원자를 다량으로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 또한, 퍼플루오로알킬렌기는 강직하기 때문에, 고경도이고 내찰상성이 풍부한 피막을 얻기 위해서는, 불소원자를 될 수 있는 한 다량으로 함유하고 있는 것이 바람직하다. 불소원자를 다량으로 함유하고 있으면, 내약품성도 좋아진다. 따라서, Y로서는 하기의 구조인 것이 바람직하다.Y in Formula (A) is a divalent organic group having one or more fluorine atoms, but the number of fluorine atoms is preferably 4 to 50, particularly preferably 8 to 24. In particular, in order to express various functions, such as antireflection, antifouling property, and water repellency, on a good standard, it is preferable to contain a large amount of fluorine atoms. In addition, since a perfluoroalkylene group is rigid, it is preferable to contain as much fluorine atoms as possible in order to obtain a film with high hardness and abrasion resistance. If the fluorine atom is contained in a large amount, the chemical resistance is also improved. Therefore, as Y, it is preferable that it is the following structure.

Figure 112007063327024-PCT00006
Figure 112007063327024-PCT00006

[n은 2~20의 정수][n is an integer from 2 to 20]

상기 구조중의 n으로서는 2~20의 값을 만족할 필요가 있지만, 보다 바람직하게는 4~12, 특히 바람직하게는 4~10의 범위를 만족하는 것이 좋다. 이보다 적으면, 반사 방지성, 방오성, 발수성 등의 여러 가지 기능, 및 내약품성을 충분히 얻을 수 없는 경우가 있고, 지나치게 많으면, 가교 밀도를 저하시키기 때문에 충분한 내찰상성을 얻을 수 없는 경우가 생긴다.As n in the said structure, it is necessary to satisfy the value of 2-20, More preferably, it is 4-12, Especially preferably, it is good to satisfy the range of 4-10. When less than this, various functions, such as antireflection property, antifouling property, and water repellency, and chemical-resistance may not be fully acquired, and when too much, sufficient crosslinking density may fall and sufficient scratch resistance may not be obtained.

R1은 탄소수 1~6의 1가 탄화수소기를 나타내지만, 구체적으로는, 메틸기, 에틸기, 프로필기, 부틸기, 헥실기, 시클로헥실기 등의 알킬기, 페닐기 등을 예시할 수 있다. 양호한 내찰상성을 얻기 위해서는, 메틸기가 바람직하다.Although R <1> represents a C1-C6 monovalent hydrocarbon group, specifically, alkyl groups, such as a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a hexyl group, and a cyclohexyl group, a phenyl group, etc. can be illustrated. In order to acquire favorable scratch resistance, a methyl group is preferable.

m은 1~3의 정수이지만, 바람직하게는 2 또는 3으로 하는 것이며, 특히 고경도한 피막으로 하기 위해서는 m=3으로 하는 것이 바람직하다.Although m is an integer of 1-3, Preferably it is set to 2 or 3. In order to make especially a highly hard film, it is preferable to set it as m = 3.

X는 가수분해성기를 나타낸다. 구체예로는, Cl 등의 할로겐 원자, ORx(Rx는 탄소수 1~6의 1가 탄화수소기)로 표시되는 오르가노옥시기, 특히 메톡시기, 에톡시기, 프로폭시기, 이소프로폭시기, 부톡시기 등의 알콕시기, 이소프로페녹시기 등의 알케녹시기, 아세톡시기 등의 아실옥시기, 메틸에틸케톡심기 등의 케톡심기, 메톡시에톡시기 등의 알콕시알콕시기 등을 들 수 있다. 이들 중에서 알콕시기가 바람직하고, 특히 메톡시기, 에톡시기의 실란 화합물이 취급하기가 쉽고, 가수분해시의 반응의 제어도 쉽기 때문에 바람직하다.X represents a hydrolyzable group. Specific examples include, halogen atoms, OR x (R x is a monovalent group having 1 to 6 carbon atoms hydrocarbon group) in time by Organo nook represented by, in particular methoxy, ethoxy, propoxy, iso-propoxy group, such as Cl, Alkoxy groups, such as an alkoxy group, such as a butoxy group, an alkenoxy group, such as an isopropenoxy group, an acyloxy group, such as an acetoxy group, a ketoxime group, such as methyl ethyl ketoxim group, an alkoxyalkoxy group, such as a methoxyethoxy group, etc. are mentioned. . Among these, an alkoxy group is preferable, and in particular, a silane compound of a methoxy group and an ethoxy group is preferable because it is easy to handle and the control of the reaction during hydrolysis is also easy.

이러한 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 하기의 것을 들 수 있다.As a specific example of the silane compound represented by such a general formula (A), the following are mentioned, for example.

[화학식 2][Formula 2]

Figure 112007063327024-PCT00007
Figure 112007063327024-PCT00007

상기 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물은, 코팅재 조성물 중에 있어서, 수지성분 전체량에 대하여 60~97중량%의 범위, 바람직하게는 65~85중량%의 범위로 함유되는 것이다. 이 때문에, 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물에 의한 피막의 내약품성의 향상을 도모할 수 있고, 종래의 폴리실록산계의 피막의 문제점이었던 내알카리성의 향상을 도모할 수 있는 것이다.The silane compound represented by the said General formula (A) is contained in the range of 60-97 weight% with respect to resin component whole quantity, Preferably it is 65-85 weight% in a coating material composition. For this reason, the chemical-resistance of the film by the silane compound represented by General formula (A) can be improved, and the alkali resistance which was a problem of the conventional polysiloxane film can be aimed at.

또한, 분자중에 1개 이상의 에폭시기를 함유하는 에폭시기 함유 유기 화합물로서는, 적당한 것을 이용할 수 있지만, 특히 분자중에 에폭시기를 2개 이상 함유하는 것을 사용하는 것이 바람직하고, 이 경우 피막의 내약품성을 더욱 향상시킬 수 있는 것이다. 이러한 분자중에 에폭시기를 2개 이상 함유하는 에폭시기 함유 유기 화합물은, 수지성분 전체량에 대하여 3~10중량%의 범위에서 함유시킨다. 3중량%보다도 적으면 피막의 내크랙성을 충분히 향상시킬 수가 없고, 또한 10중량%보다 많으면 피막의 내약품성을 충분히 향상시킬 수가 없게 되며, 또한 피막의 내마모성이 저하할 우려가 있다.As the epoxy group-containing organic compound containing at least one epoxy group in the molecule, a suitable one can be used. In particular, it is preferable to use two or more epoxy groups in the molecule, and in this case, the chemical resistance of the film can be further improved. It can be. The epoxy group containing organic compound containing two or more epoxy groups in such a molecule | numerator is contained in 3 to 10 weight% with respect to the resin component whole quantity. If it is less than 3% by weight, the crack resistance of the film cannot be sufficiently improved, and if it is more than 10% by weight, the chemical resistance of the film cannot be sufficiently improved, and the wear resistance of the film may be deteriorated.

이 에폭시기 함유 유기 화합물로서는, 바람직하게는 하기 일반식 (B)로 표시되는 화합물과, 하기 일반식 (C)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 것을 사용하는 것이며, 이러한 화합물로부터 1종 또는 복수종을 이용할 수 있다. 이 경우, 피막의 내약품성 및 내마모성을 저하시키지 않고 내크랙성을 더욱 향상시킬 수가 있다. 이 에폭시기 함유 유기 화합물의 합계의 함유량은, 수지성분 전체량에 대하여 3~10중량%의 범위인 것이 바람직하고, 이 함유량이 너무 적으면 내크랙성을 충분히 향상시킬 수 없는 우려가 있고, 또한 이 함유량이 과잉이면 내약품성 및 내마모성을 저하시킬 우려가 있다.As this epoxy group containing organic compound, Preferably, what is chosen from the compound represented by the following general formula (B) and the compound represented by the following general formula (C) is used, One or more types can be used from such a compound. Can be. In this case, the crack resistance can be further improved without lowering the chemical resistance and the wear resistance of the film. It is preferable that content of the sum total of this epoxy group containing organic compound is 3 to 10 weight% with respect to resin component whole quantity, and when this content is too small, there exists a possibility that it may not fully improve crack resistance, When content is excess, there exists a possibility that chemical resistance and abrasion resistance may fall.

Figure 112007063327024-PCT00008
Figure 112007063327024-PCT00008

[R2, R3은 탄소수 1~16의 유기기이며, 적어도 한쪽은 에폭시기를 포함한다. Z는 가수분해성기. n, p는 0~2의 정수이며 1≤n+p≤3이다.][R <2> , R <3> is a C1-C16 organic group and at least one contains an epoxy group. Z is a hydrolyzable group. n and p are integers of 0 to 2 and 1 ≦ n + p ≦ 3.]

[화학식 3][Formula 3]

Figure 112007063327024-PCT00009
Figure 112007063327024-PCT00009

[R4~R15는 유기기이며, 또한 이 중 적어도 하나는 에폭시기를 포함한다. q, r, s, t는 0~12의 정수이다.][R 4 to R 15 are organic groups, and at least one of them contains an epoxy group. q, r, s, t are integers from 0 to 12.]

상기 일반식 (B)로 표시되는 화합물로서는, 기재에의 부착성, 얻어지는 도막의 경도 및 저반사성, 조성물의 수명 등의 목적에 따라 적의 선택된다. 예를 들면, 글리시독시메틸트리메톡시실란, 글리시독시메틸트리에톡시실란, α-글리시독시에틸트리메톡시실란, α-글리시독시에틸트리에톡시실란, β-글리시독시에틸트리에톡시실란, β-글리시독시프로필트리메톡시실란, α-글리시독시프로필트리메톡시실란, α-글리시독시프로필트리에톡시실란, β-글리시독시프로필트리에톡시실란, γ- 글리시독시프로필트리메톡시실란, (3,4-에폭시시클로헥실)메틸트리메톡시실란, γ-글리시독시프로필비닐디에톡시실란, γ-글리시독시프로필페닐디에톡시실란, δ-(3, 4-에폭시시클로헥실)부틸트리에톡시실란 등을 들 수 있다.As a compound represented by the said General formula (B), it selects suitably according to the objectives, such as adhesiveness to a base material, the hardness and low reflectance of the coating film obtained, the life of a composition, etc. For example, glycidoxy methyl trimethoxy silane, glycidoxy methyl triethoxy silane, (alpha)-glycidoxy ethyl trimethoxysilane, (alpha)-glycidoxy ethyl triethoxysilane, (beta)-glycidoxy ethyl Triethoxysilane, β-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltrimethoxysilane, α-glycidoxypropyltriethoxysilane, β-glycidoxypropyltriethoxysilane, γ -Glycidoxypropyltrimethoxysilane, (3,4-epoxycyclohexyl) methyltrimethoxysilane, γ-glycidoxypropylvinyldiethoxysilane, γ-glycidoxypropylphenyldiethoxysilane, δ- ( 3, 4- epoxycyclohexyl) butyl triethoxysilane etc. are mentioned.

또한, 상기 일반식 (C)로 표시되는 화합물로는, 식중의 R4~R15는 메틸기 등의 적당한 탄화수소기 등의 유기기를 들 수 있다. 또한, 이 R4~R15중 적어도 하나는 에폭시기를 포함하는 것이며, 예를 들면, 하기 구조를 갖는 것을 들 수 있다.Moreover, as a compound represented by the said General formula (C), R <4> -R <15> in formula represents organic groups, such as suitable hydrocarbon groups, such as a methyl group. In addition, at least one of these R <4> -R <15> contains an epoxy group, for example, what has the following structure is mentioned.

[화학식 4][Formula 4]

Figure 112007063327024-PCT00010
Figure 112007063327024-PCT00010

이러한 상기 일반식 (C)로 표시되는 화합물의 구체예로서는, 예를 들면, 하기에 나타내는 것을 들 수 있다.As a specific example of the compound represented by said general formula (C), what is shown below is mentioned, for example.

[화학식 5][Formula 5]

Figure 112007063327024-PCT00011
Figure 112007063327024-PCT00011

[화학식 6][Formula 6]

Figure 112007063327024-PCT00012
Figure 112007063327024-PCT00012

또한, 에폭시기 함유 유기 화합물로서는, 상기 일반식 (B)(C)에 나타낸 이외에 적당한 에폭시 화합물을 사용할 수도 있다. 이러한 에폭시 화합물로서는, 예를 들면, 하기에 나타내는 것을 들 수 있다.Moreover, as an epoxy group containing organic compound, you may use a suitable epoxy compound other than what was shown to the said general formula (B) (C). As such an epoxy compound, what is shown below is mentioned, for example.

[화학식 7][Formula 7]

Figure 112007063327024-PCT00013
Figure 112007063327024-PCT00013

에폭시기 함유 유기 화합물의 함유량은 적의 조정되는 것이지만, 바람직하게는 상기 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물에 대하여 3~10중량%의 범위가 되도록 하는 것으로써, 피막의 내약품성 및 내마모성을 저하시키는 일 없이, 내크랙성을 더욱 향상시킬 수 있다. 이 함유량이 상기 범위보다 너무 적으면 내크랙성을 충분히 향상시키는 것이 어렵게 되고, 이 범위보다도 과잉하면 내약품성이나 내마모성이 저하할 우려가 있다.Although content of an epoxy group containing organic compound is adjusted suitably, Preferably it is made into the range of 3 to 10 weight% with respect to the silane compound represented by the said General formula (A), and to reduce the chemical-resistance and abrasion resistance of a film Without work, crack resistance can be further improved. When this content is too small than the said range, it will become difficult to fully improve crack resistance, and when it exceeds this range, there exists a possibility that chemical resistance and abrasion resistance may fall.

또한, 코팅재 조성물 중에는, 하기 일반식 (D)로 표시되는 불화 알킬기 함유 알콕시실란을 함유시킬 수도 있다.Moreover, in a coating material composition, you can also contain the alkyl fluoride-containing alkoxysilane represented by the following general formula (D).

Figure 112007063327024-PCT00014
Figure 112007063327024-PCT00014

[Rf는 불소원자를 한 개 이상 함유하는 1가 유기기. X는 가수분해성기.][R f is a monovalent organic group containing at least one fluorine atom. X is a hydrolyzable group.]

이러한 것을 함유시키면, 형성되는 피막의 굴절율을 더욱 저감시킬 수 있다.By containing such a thing, the refractive index of the film formed can further be reduced.

상기 일반식 (D)에 있어서, Rf에 있어서의 불소원자의 수는 3~25개, 특히 3~17개인 것이 바람직하다. 그 중에서도,In the general formula (D), the number of fluorine atoms in R f is preferably 3 to 25, particularly 3 to 17. inter alia,

Figure 112007063327024-PCT00015
Figure 112007063327024-PCT00015

가 극성부분을 포함하고 있지 않기 때문에 바람직하다.Is preferable because it does not contain a polar moiety.

또한, 가수분해성기인 X는, 상기 일반식 (A)에 있는 것과 같은 것으로 할 수 있다.In addition, X which is a hydrolysable group can be the same as what is in the said general formula (A).

이러한 일반식 (D)에 나타내는 불화 알킬기 함유 알콕시실란으로는, 예를 들면, 하기에 나타내는 것을 들 수 있다.As a fluorinated alkyl group containing alkoxysilane represented by such general formula (D), what is shown below is mentioned, for example.

Figure 112007063327024-PCT00016
Figure 112007063327024-PCT00016

이 일반식 (D)로 표시되는 불화 알킬기 함유 알콕시실란과 그 가수분해물(부분가수분해물)의 함유량은 적의 조정되지만, 첨가량이 많아지면 피막의 내찰상성이 저하되기 때문에, 조성물중의 수지성분 전체량에 대하여 1~30중량%의 범위로 하는 것이 바람직하고, 특히 1~10중량%이 바람직하다.Although content of the alkyl fluoride-containing alkoxysilane represented by this general formula (D) and its hydrolyzate (partially hydrolyzate) is adjusted suitably, when the addition amount increases, the scratch resistance of a film falls, so that the total amount of the resin component in a composition It is preferable to set it as the range of 1-30 weight% with respect to, and 1-10 weight% is especially preferable.

또한, 코팅제 조성물로는, 피막의 경도, 내찰상성, 도전성 등의 물성을 조정하는 것을 목적으로 하여, 충전재로서 실리카, 산화 알루미늄, 산화 티탄, 산화 아연, 산화 지르코늄, 산화 세륨, 산화 주석, 산화 인듐, 혹은 이들의 복합 산화물 등의 무기산화물 미립자, 또한 이들의 중공상 졸을 배합해도 좋다. 그 중에서, 피막을 저굴절율에 유지하고자 할 경우에는, 콜로이달 실리카, 중공상 실리카 졸을 사용하는 것이 바람직하다. 적합한 무기미립자는, 그 평균 일차 입자경이 0.001~0.1㎛인 것이 바람직하고, 더욱 바람직하게는 0.001~0.05㎛로 된다. 평균 일차 입자경이 0.1㎛를 초과할 경우에는, 조제되는 조성물에 의해 형성되는 경화 피막의 투명성이 저하하는 경향이 있다. 이들의 무기산화물 미립자는, 그 표면을 실란계, 티탄계, 알루미늄계, 혹은 지르코늄계 커플링제 등의 유기금속화합물로 처리한 것을 사용해도 좋다.In addition, as a coating composition, silica, aluminum oxide, titanium oxide, zinc oxide, zirconium oxide, cerium oxide, tin oxide, indium oxide as a filler for the purpose of adjusting physical properties, such as hardness, abrasion resistance, electroconductivity of a film, Inorganic oxide fine particles, such as these complex oxides, and these hollow sol may be mix | blended. In particular, when the film is to be kept at a low refractive index, it is preferable to use colloidal silica and a hollow silica sol. It is preferable that the average primary particle diameter of a suitable inorganic fine particle is 0.001-0.1 micrometer, More preferably, it becomes 0.001-0.05 micrometer. When average primary particle diameter exceeds 0.1 micrometer, there exists a tendency for transparency of the cured film formed with the composition to be prepared to fall. These inorganic oxide fine particles may use those obtained by treating the surfaces with organometallic compounds such as silane, titanium, aluminum, or zirconium coupling agents.

또한, 충전재로서는, 외각이 금속산화물로 형성된 중공 미립자를 배합할 수도 있다. 이러한 중공 미립자로서는 중공 실리카 미립자를 사용할 수 있다. 중공 실리카 미립자는 외각의 내부에 공동(空洞)이 형성된 것이며, 이러한 것이면 특히 한정되는 것은 아니지만, 구체적으로는 다음과 같은 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 실리카계 무기산화물로 이루어지는 외각(셀)의 내부에 공동을 갖는 중공 실리카 미립자를 이용할 수 있다. 실리카계 무기산화물은, (A)실리카 단일층, (B)실리카와 실리카 이외의 무기산화물로 이루어지는 복합 산화물의 단일층 및 (C) 상기 (A)층과 (B)층의 2중층을 포함하는 것을 말한다. 외각은 세공을 갖는 다공질인 것이어도 좋고, 세공이 후술하는 조작에 의해 폐색되어서 공동을 밀봉한 것이어도 좋다. 외각은 내측의 제1 실리카 피복층 및 외측의 제2 실리카 피복층으로 이루어지는 복수의 실리카계 피복층인 것이 바람직하다. 외측에 제2 실리카 피복층을 설치하는 것에 의해, 외각의 미세공을 폐색시켜서 외각을 치밀화하거나, 또한, 외각에 내부의 공동을 밀봉한 중공 실리카 미립자를 얻을 수 있다.Moreover, as a filler, you may mix | blend the hollow microparticles | fine-particles whose outer shell was formed from the metal oxide. As such hollow fine particles, hollow silica fine particles can be used. The hollow silica fine particles have a cavity formed in the inside of the outer shell, and are not particularly limited as long as they are such, but specifically, the following may be used. For example, hollow silica fine particles having a cavity inside an outer shell (cell) made of a silica-based inorganic oxide can be used. The silica-based inorganic oxide includes (A) a single layer of silica, (B) a single layer of a composite oxide composed of inorganic oxides other than silica and silica, and (C) a double layer of (A) and (B) layers. Say that. The outer shell may be porous having pores, or the pores may be blocked by the operation described later to seal the cavity. It is preferable that an outer shell is a some silica type coating layer which consists of an inner 1st silica coating layer and an outer 2nd silica coating layer. By providing a 2nd silica coating layer outside, the hollow microparticles | fine-particles which closed the micropore of an outer shell and densified an outer shell or sealed the cavity inside the outer shell can be obtained.

제1 실리카 피복층의 두께는 1~50nm, 특히 5~20nm의 범위로 하는 것이 바람직하다. 제1 실리카 피복층의 두께가 1nm 미만이면 입자형상을 유지하기가 어렵게 되고, 중공 실리카 미립자를 얻을 수 없는 우려가 있으며, 또한 제2 실리카 피복층을 형성할 때에, 유기 규소화합물의 부분가수분해물 등이 상기 핵입자의 세공에 들어가 핵입자구성 성분의 제거가 어렵게 되는 우려가 있다. 반대로, 제1 실리카 피복층의 두께가 50nm를 초과하면, 중공 실리카 미립자중의 공동의 비율이 감소해서 굴절율의 저하가 불충분하게 되는 우려가 있다. 또한, 외각의 두께는, 평균 입자경의 1/50~1/5의 범위에 있는 것이 바람직하다. 제2 실리카 피복층의 두께는, 제1 실리카 피복층의 합계 두께가 상기 1~50nm의 범위가 되도록 하면 좋고, 특히 외각를 치밀화하는 한 20~49nm의 범위가 바람직하다.It is preferable that the thickness of a 1st silica coating layer shall be 1-50 nm, especially the range of 5-20 nm. If the thickness of the first silica coating layer is less than 1 nm, it becomes difficult to maintain the particle shape, there is a fear that hollow silica fine particles cannot be obtained, and when forming the second silica coating layer, the partial hydrolyzate of the organosilicon compound is There exists a possibility that it may become difficult to remove a nuclear particle component by entering a pore of a nuclear particle. On the contrary, when the thickness of the first silica coating layer exceeds 50 nm, there is a fear that the proportion of the cavities in the hollow silica fine particles decreases and the decrease in the refractive index becomes insufficient. In addition, it is preferable that the thickness of an outer shell exists in the range of 1 / 50-1 / 5 of an average particle diameter. The thickness of the second silica coating layer may be such that the total thickness of the first silica coating layer is in the range of 1 to 50 nm, preferably in the range of 20 to 49 nm as long as the outer shell is densified.

공동에는 중공 실리카 미립자를 조제할 때에 사용하는 용매, 및 건조시에 침입하는 기체 중, 적어도 어느 하나가 존재하고 있다. 또한, 공동에는 공동을 형성하기 위한 전구체 물질이 잔존하고 있어도 좋다. 전구체 물질은, 외각에 부착되어서 약간 잔존하고 있는 것도 있고, 공동내의 대부분을 차지하는 것도 있다. 여기에서, 전구체 물질이란, 제1 실리카 피복층을 형성하기 위한 핵입자로부터 그 구성 성분의 일부를 제거한 후에 잔존하는 다공질물질이다. 핵입자로는, 실리카와 실리카 이외의 무기산화물로 이루어지는 다공질의 복합 산화물입자를 사용한다. 무기산화물로서는, Al2O3, B2O3, TiO2, ZrO2, SnO2, Ce2O3, P2O5, Sb2O3, MoO3, ZnO2, WO3 등의 1종 또는 2종 이상을 들 수 있다. 2종 이상의 무기산화물로서 TiO2-Al2O3, TiO2-ZrO2 등을 예시할 수 있다. 또한, 이 다공질 물질의 세공내에서도 상기 용매 혹은 기체가 존재하고 있다. 이 때의 구성 성분의 제거량이 많아지면 공동의 용적이 증대하고, 굴절률이 저하하는 중공 실리카 미립자가 얻어지며, 이 중공 실리카 미립자를 배합하여 얻어지는 투명피막은 저굴절률이고 반사 방지성능이 우수하다.At least any one of the solvent used when preparing hollow silica microparticles | fine-particles, and the gas which permeates at the time of drying exists in a cavity. In addition, the precursor material for forming a cavity may remain in the cavity. The precursor substance adheres to the outer shell and remains slightly, and occupies most of the cavity. Here, the precursor material is a porous material remaining after removing a part of its constituents from the nuclear particles for forming the first silica coating layer. As the nucleus particles, porous composite oxide particles composed of silica and inorganic oxides other than silica are used. As the inorganic oxide, at least, such as Al 2 O 3, B 2 O 3, TiO 2, ZrO 2, SnO 2, Ce 2 O 3, P 2 O 5, Sb 2 O 3, MoO 3, ZnO 2, WO 3 Or 2 or more types can be mentioned. TiO 2 -Al 2 O 3 , TiO 2 -ZrO 2 , and the like can be exemplified as two or more kinds of inorganic oxides. The solvent or gas also exists in the pores of the porous material. When the amount of removal of the constituent components at this time increases, hollow silica fine particles are obtained in which the void volume increases and the refractive index decreases. The transparent coating obtained by blending the hollow silica fine particles has a low refractive index and is excellent in antireflection performance.

본 발명에 의한 코팅재 조성물은, 상기의 매트릭스 형성 재료와 중공 미립자를 배합함으로써 조제할 수 있다. 코팅재 조성물에 있어서, 중공 미립자와 그 밖의 성분과의 중량 비율은, 특히 한정되는 것은 아니지만, 중공 미립자/그 밖의 성분(고형분)=80/20~10/90의 범위가 되도록 설정하는 것이 바람직하고, 보다 바람직하게는 50/50~15/85이다. 중공 미립자가 80보다 많으면, 코팅재 조성물에 의해 얻어지는 경화 피막의 기계적 강도가 저하하는 우려가 있고, 반대로 중공 미립자가 10보다 적으면, 경화 피막의 저굴절율을 발현시키는 효과가 작아질 우려가 있다.The coating material composition which concerns on this invention can be prepared by mix | blending said matrix formation material and hollow fine particles. In the coating material composition, the weight ratio between the hollow fine particles and the other components is not particularly limited, but it is preferable to set so as to be in the range of hollow fine particles / other components (solid content) = 80/20 to 10/90, More preferably, it is 50 / 50-15 / 85. When there are more hollow microparticles | fine-particles, there exists a possibility that the mechanical strength of the cured film obtained by a coating material composition may fall, On the contrary, when there are few hollow microparticles | fine-particles, there exists a possibility that the effect of expressing the low refractive index of a cured film may become small.

또한, 코팅재 조성물에는, 외각의 내부가 공동이 아닌 실리카 입자를 첨가할 수 있다. 이 실리카 입자를 배합함으로써, 코팅재 조성물에 의해 형성되는 경화 피막의 기계적 강도를 향상시킬 수 있는 것이며, 또한 표면평활성과 내크랙성도 개선할 수 있다. 이 실리카 입자의 형태로서는, 특별히 한정되는 것은 아니고, 예를 들면, 분체상의 형태이어도, 졸상의 형태이어도 좋다. 실리카 입자를 졸상의 형태, 즉 콜로이달 실리카로서 사용하는 경우, 특히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 물분산성 콜로이달 실리카 혹은 알코올 등의 친수성의 유기용매 분산성 콜로이달을 사용할 수 있다. 일반적으로 이러한 콜로이달 실리카는, 고형분으로서의 실리카를 20~50중량% 함유하고 있고, 이 값으로부터 실리카 배합량을 결정할 수 있다. 이 실리카 입자의 첨가량은, 코팅재 조성물 중에 있어서 고형분 전체량에 대하여, 0.1~30중량%인 것이 바람직하다. 0.1중량% 미만에서는 이 실리카 입자의 첨가에 의한 효과가 얻어지지 않을 우려가 있고, 반대로 30중량%을 초과하면 경화 피막의 굴절율을 높게 하는 것과 같은 악영향을 미치게 할 우려가 있다.In addition, silica particles in which the inside of an outer shell is not a cavity can be added to a coating material composition. By mix | blending this silica particle, the mechanical strength of the hardened film formed by a coating material composition can be improved, and surface smoothness and crack resistance can also be improved. The form of the silica particles is not particularly limited, and may be, for example, a powder form or a sol form. When the silica particles are used in the form of a sol, that is, colloidal silica, a hydrophilic organic solvent dispersible colloidal such as, for example, water dispersible colloidal silica or alcohol can be used. Generally, such colloidal silica contains 20 to 50 weight% of silica as solid content, and a silica compounding quantity can be determined from this value. It is preferable that the addition amount of this silica particle is 0.1-30 weight% with respect to solid content whole quantity in a coating material composition. If it is less than 0.1 weight%, the effect by the addition of this silica particle may not be acquired, and if it exceeds 30 weight% on the contrary, there exists a possibility that it may have an adverse effect, such as raising the refractive index of a cured film.

상기한 바와 같이, 충전재를 함유시키면, 도막의 내마모성의 향상을 더 기대할 수 있고, 또한 특히 저굴절율인 불화 마그네슘이나 중공상의 입자 등의 저굴절율의 충전재를 첨가하면, 굴절율을 더 저하시키는 것을 기대할 수 있다.As mentioned above, when a filler is contained, the improvement of abrasion resistance of a coating film can be anticipated further, and when a low refractive index filler, such as magnesium fluoride and hollow particle which are especially low refractive index, is added, it can be expected to further reduce refractive index. have.

또한, 상기 성분 이외에 병용하는 것이 가능한 다른 유기 규소 화합물로서는, 하기 일반식에 나타내는 디알킬실록시계의 가수분해성 오르가노실란을 들 수 있다.Moreover, as another organosilicon compound which can be used together other than the said component, the dialkyl siloxy type hydrolyzable organosilane represented by the following general formula is mentioned.

[화학식 8][Formula 8]

Figure 112007063327024-PCT00017
Figure 112007063327024-PCT00017

[R1, R2, R은 알킬기, m은 1~3의 정수, n은 2~200의 정수][R 1 , R 2 , R are alkyl groups, m is an integer of 1 to 3, n is an integer of 2 to 200]

이러한 디알킬실록시계의 가수분해성 오르가노실란으로서는, 예를 들면, 하기에 나타내는 구조의 것을 들 수 있다.As such a dialkyl siloxy type hydrolyzable organosilane, the thing of the structure shown below is mentioned, for example.

[화학식 9][Formula 9]

Figure 112007063327024-PCT00018
Figure 112007063327024-PCT00018

또한, 다른 유기 규소 화합물로서는, 상기의 것 이외에 테트라에톡시실란 등의 실리케이트류, 메틸트리메톡시실란, 헥실트리메톡시실란, 데실트리메톡시실란 등의 알킬실란류, 페닐트리메톡시실란 등의 페닐실란류, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴록시프로필트리메톡시실란, γ-멜캅토프로필트리메톡시실란 등의 실란커플링제류 등의 각종 화합물을 들 수 있다.As other organosilicon compounds, silicates such as tetraethoxysilane, alkylsilanes such as methyltrimethoxysilane, hexyltrimethoxysilane, and decyltrimethoxysilane, phenyltrimethoxysilane, etc. And various compounds such as silane coupling agents such as phenylsilanes, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane and γ-melcaptopropyltrimethoxysilane.

이들의 유기 규소 화합물은, 수지성분 전체량에 대하여 30중량% 이하로 하는 것이 바람직하다. 이 함유량이 과잉이면 피막의 내크랙성이 저하하거나 친수성이 높아져 내약품성이 저하할 우려가 있다.It is preferable to make these organosilicon compounds into 30 weight% or less with respect to resin component whole quantity. When this content is excessive, crack resistance of a film may fall or hydrophilicity may become high and chemical resistance may fall.

상술한 식(A), (B), (D)에 나타내는 화합물, 혹은 상기 병용가능한 다른 유기 규소 화합물은, 그대로 사용해도 좋고, (부분)가수분해한 형태, 혹은 하기 용제중에서 가수분해한 형태로도 사용해도 좋다. 특히 코팅 후의 경화 속도를 높이는 관점에서는, (부분)가수분해한 형태로 사용하는 방법이 바람직하다. 가수분해를 하는 경우에는, 가수분해성기에 대하여, 가수분해에 관여하는 물의 몰비가 0.1~10의 범위가 되도록 하는 것이 바람직하고, The compound shown in Formula (A), (B), (D) mentioned above, or the said other organosilicon compound which can be used together may be used as it is, in the form of (partial) hydrolysis, or in the form hydrolyzed in the following solvent You may also use. In particular, from the viewpoint of increasing the curing rate after coating, a method of using in the form of (partly) hydrolysis is preferable. In the case of hydrolysis, it is preferable that the molar ratio of water involved in the hydrolysis relative to the hydrolyzable group is in the range of 0.1 to 10,

가수분해는 종래 공지의 방법을 적용할 수 있고, 이 가수분해용 촉매 혹은 가수분해·축합경화용 촉매로서, 염산, 아세트산, 말레인산 등의 산류, 수산화나트륨(NaOH), 암모니아, 트리에틸아민, 디부틸아민, 헥실아민, 옥틸아민, 디부틸아민 등의 아민 화합물, 및 아민 화합물의 염류, 염화벤질트리에틸암모늄, 테트라메틸암모늄히드록시드 등의 제4급 암모늄염 등의 염기류, 불화 칼륨, 불화 나트륨과 같은 불화염, 고체산성촉매 혹은 고체염기성촉매(예를 들면, 이온교환 수지촉매 등), 철-2-에틸헥소에이트, 티탄나프테이트, 아연스테아레이트, 디부틸주석디아세테이트 등의 유기 카르복실산의 금속염, 테트라부톡시티탄, 테트라-i-프로폭시티탄, 디부톡시-(비스-2,4-펜탄디오네이트)티탄, 디-i-프로폭시(비스-2,4-펜탄디오네이트)티탄 등의 유기 티탄에스테르, 테트라부톡시지르코늄, 테트라-i-프로폭시지르코늄, 디부톡시-(비스-2,4-펜탄디오네이트)지르코늄, 디-i-프로폭시(비스-2,4-펜탄디오네이트)지르코늄 등의 유기 지르코늄에스테르, 알루미늄트리이소프로폭시드 등의 알콕시알루미늄 화합물, 알루미늄아세틸아세토네이트 착체 등의 알루미늄킬레이트 화합물 등의 유기금속화합물, γ-아미노프로필트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필트리메톡시실란, N-(β-아미노에틸)-γ-아미노프로필트리에톡시실란 등의 아미노 알킬 치환 알콕시실란이 예시되고, 이들을 단독으로 또는 혼합해서 사용해도 좋다.Conventionally well-known methods can be used for hydrolysis, As this hydrolysis catalyst or a catalyst for hydrolysis-condensation hardening, Acids, such as hydrochloric acid, an acetic acid, a maleic acid, sodium hydroxide (NaOH), ammonia, triethylamine, di Amine compounds such as butylamine, hexylamine, octylamine, dibutylamine, salts of amine compounds, bases such as quaternary ammonium salts such as benzyltriethylammonium chloride and tetramethylammonium hydroxide, potassium fluoride and sodium fluoride Organic carboxyls such as fluorinated salts, solid acidic catalysts or solid basic catalysts (e.g., ion-exchange resin catalysts), iron-2-ethylhexate, titanium naphate, zinc stearate, dibutyltin diacetate Metal salts of acids, tetrabutoxytitanium, tetra-i-propoxytitanium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) titanium, di-i-propoxy (bis-2,4-pentanedionate) Organic titanium esters such as titanium Tetrabutoxy zirconium, tetra-i-propoxy zirconium, dibutoxy- (bis-2,4-pentanedionate) zirconium, di-i-propoxy (bis-2,4-pentanedionate) zirconium Organometallic compounds such as alkoxyaluminum compounds such as organic zirconium esters and aluminum triisopropoxide, aluminum chelate compounds such as aluminum acetylacetonate complexes, gamma -aminopropyltrimethoxysilane, gamma -aminopropyltriethoxysilane, Amino alkyl substituted alkoxysilanes such as N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltrimethoxysilane and N- (β-aminoethyl) -γ-aminopropyltriethoxysilane are exemplified, and these alone or You may mix and use.

이러한 촉매의 첨가량은, (부분)가수분해 되어야 할 화합물 100중량부에 대하여, 0.01~10중량부, 바람직하게는 0.1~1중량부이다. 이 양이 0.01중량부 보다 적으면 반응 완결까지 지나치게 시간이 걸리거나, 반응이 진행하지 않을 경우가 있다. 또한, 10중량부를 초과하면, 비용면에서 불리하고, 얻어지는 조성물 혹은 경화물이 착색해버리거나, 부반응이 많아지는 경우가 있다.The addition amount of such a catalyst is 0.01-10 weight part, Preferably it is 0.1-1 weight part with respect to 100 weight part of compounds which should be (partial) hydrolyzed. When this amount is less than 0.01 part by weight, it may take too long to complete the reaction or the reaction may not proceed. Moreover, when it exceeds 10 weight part, it is disadvantageous in terms of cost, and the composition or hardened | cured material obtained may color, or a side reaction may increase.

또한, 본 조성물은 용제로 희석해서 사용할 수 있다. 이 용제로서는, 메탄올, 에탄올, 프로필알코올, 이소프로필알코올, n-부틸알코올, 이소부틸알코올, sec-부틸알코올, tert-부틸알코올, 디아세톤알코올 등의 알코올류, 에틸렌글리콜모노메틸에테르, 에틸렌글리콜모노에틸에테르, 프로필렌글리콜모노메틸에테르, 프로필렌글리콜모노에틸에테르 등의 글리콜에테르류, 아세톤, 메틸에틸케톤, 메틸이소부틸케톤, 아세틸아세톤 등의 케톤류, 아세트산에틸, 아세트산부틸, 아세토아세트산에틸 등의 에스테르류, 크실렌, 톨루엔 등을 들 수 있다. 용제의 첨가량은 임의이지만, 도장의 용이함, 코팅 막두께 제어의 용이함, 및 코팅제 조성물의 안정성을 고려하면, 조성물 중의 용제의 함유량은 50~99중량%인 것이 바람직하고, 특히 바람직하게는 70~98중량%이다.In addition, this composition can be diluted and used with a solvent. Examples of the solvent include alcohols such as methanol, ethanol, propyl alcohol, isopropyl alcohol, n-butyl alcohol, isobutyl alcohol, sec-butyl alcohol, tert-butyl alcohol and diacetone alcohol, ethylene glycol monomethyl ether and ethylene glycol Glycol ethers such as monoethyl ether, propylene glycol monomethyl ether, propylene glycol monoethyl ether, ketones such as acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, acetyl acetone, esters such as ethyl acetate, butyl acetate and ethyl acetoacetate And xylene, toluene and the like. Although the addition amount of a solvent is arbitrary, when the ease of coating, the control of coating film thickness, and stability of a coating composition are considered, it is preferable that content of the solvent in a composition is 50-99 weight%, Especially preferably, it is 70-98 % By weight.

그리고, 상기한 바와 같이 조제한 코팅재 조성물을 기재의 표면에 도장해서 피막을 형성함과 더불어 이 피막을 건조 경화시킴으로써, 표면에 저굴절율을 갖는 경화 피막이 형성된 도장품을 얻을 수 있다. 또한, 코팅재 조성물이 도장되는 기재로서는, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 유리로 대표되는 무기계 기재, 금속기재, 아크릴수지, 폴리카보네이트, 폴리에틸렌테레프탈레이트로 대표되는 유기계 기재를 들 수 있고, 또한, 기재의 형상으로서는, 판상이나 필름상 등을 들 수 있다. 또한, 기재의 표면에 1층 이상의 층이 형성되어 있어도 상관없다.And the coating material composition prepared as mentioned above is apply | coated to the surface of a base material, and a coating is formed, and this coating is dried and hardened | cured, and the coated article in which the cured film which has a low refractive index is formed in the surface can be obtained. The substrate on which the coating material composition is coated is not particularly limited, and examples thereof include an inorganic base represented by glass, a metal base, an acrylic resin, a polycarbonate, and an organic base represented by polyethylene terephthalate. As a shape of a base material, plate shape, a film shape, etc. are mentioned. Moreover, one or more layers may be formed in the surface of a base material.

코팅재 조성물을 기재의 표면에 도장하는 것에 있어서, 그 방법은 특별히 한정되는 것은 아니지만, 예를 들면, 솔칠, 스프레이 코트, 침지(딥핑, 딥 코트), 롤 코트, 플로우 코트, 커튼 코트, 나이프 코트, 스핀 코트, 테이블 코트, 시트 코트, 매엽(leaf) 코트, 다이 코트, 바 코트 등의 통상의 각종 도장 방법을 선택할 수 있다.In coating the coating composition on the surface of the substrate, the method is not particularly limited, but, for example, brushing, spray coat, dipping (dip, dip coat), roll coat, flow coat, curtain coat, knife coat, Various conventional coating methods, such as a spin coat, a table coat, a sheet coat, a leaf coat, a die coat, and a bar coat, can be selected.

기재의 표면에 형성하는 경화 피막의 막두께는, 사용 용도나 목적에 따라서 적당히 선택할 수가 있고, 특별히 한정되는 것은 아니지만, 50~150nm의 범위가 바람직하다. 여기에서, 경화 피막의 굴절율과 막두께의 곱이 광학 막두께이며, 파장λ의 광이 최저반사율이 되기 위해서는, 경화 피막의 광학 막두께가 1/4λ로 설정될 필요가 있다. 그리고 반사 방지의 대상이 되는 파장λ=540nm의 광이 최저반사율이 되기 위해서는, 경화 피막의 굴절율이 1.35인 경우에는, 경화 피막의 막두께는 100nm인 것이 필요하다(광학 막두께=1.35×100=135≒1/4λ). 또한, 경화 피막의 굴절율이 1.42인 경우에는, 경화 피막의 막두께는 95nm인 것이 필요하다(광학 막두께=1.42×95=134.9≒1/4λ). 이와 같이 반사 방지 피막으로서 광학 설계하는 경우, 경화 피막의 막두께는 50~150nm의 범위가 바람직한 것이다.The film thickness of the cured coating film formed on the surface of a base material can be suitably selected according to a use use and an objective, and although it does not specifically limit, the range of 50-150 nm is preferable. Here, the product of the refractive index and the film thickness of the cured film is the optical film thickness, and the optical film thickness of the cured film needs to be set to 1/4? In order for the light having the wavelength? And in order for the light of wavelength (lambda) = 540 nm which is object of reflection prevention to become a minimum reflectance, when the refractive index of a cured film is 1.35, the film thickness of a cured film needs to be 100 nm (optical film thickness = 1.35 * 100 =). 135 ≒ 1/4 λ). In addition, when the refractive index of a cured film is 1.42, the film thickness of a cured film needs to be 95 nm (optical film thickness = 1.42x95 = 134.9 x 1/4 lambda). Thus, when optically designing as an anti-reflective film, the film thickness of a cured film has a preferable range of 50-150 nm.

그리하여, 본 발명에 의한 코팅재 조성물을 사용하면, 저굴절율의 경화 피막을 용이하게 형성할 수 있고, 반사 방지 용도에 적합하다. 예를 들면, 기재의 굴절율이 1.60 이하인 경우에는, 이 기재의 표면에 굴절율이 1.60 이상인 경화 피막을 형성해서 이것을 중간층으로 하고, 또한, 이 중간층의 표면에, 본 발명에 의한 코팅재 조성물로 경화 피막을 형성하는 것이 유효하다. 중간층을 형성하기 위한 경화 피막은, 공지의 고굴절율 재료를 이용해서 형성할 수 있고, 또한 이 중간층의 굴절율이 1.60 이상이면, 본 발명에 의한 코팅재 조성물로 경화 피막과의 굴절율의 차이가 커지게 되고, 반사 방지 성능이 뛰어난 반사 방지 기재를 얻을 수 있는 것이다. 또한, 반사 방지 기재의 경화 피막의 착색을 완화하기 위해서, 중간층을 굴절율이 다른 복수의 층으로 형성해도 좋다. 반사 방지의 용도로서는, 예를 들면, 반사 방지용의 필름이나, 디스플레이의 최표면, 자동차의 사이드미러, 프론트 유리, 사이드 유리, 리어(rear) 유리의 내면, 그외 차량용 유리, 건재 유리 등을 들 수 있다.Thus, when the coating material composition according to the present invention is used, a low refractive index cured film can be easily formed, and is suitable for antireflection applications. For example, when the refractive index of the base material is 1.60 or less, a cured film having a refractive index of 1.60 or more is formed on the surface of the base material, which is used as an intermediate layer, and the cured film is formed on the surface of the intermediate layer by the coating material composition according to the present invention. It is effective to form. If the cured film for forming an intermediate | middle layer can be formed using a well-known high refractive index material, and if the refractive index of this intermediate | middle layer is 1.60 or more, the difference of the refractive index with a cured coating will become large with the coating material composition by this invention. It is possible to obtain an antireflection base material having excellent antireflection performance. Moreover, in order to relieve coloring of the cured film of an antireflection base material, you may form an intermediate | middle layer by several layer from which refractive index differs. Examples of the antireflection use include an antireflection film, an outermost surface of a display, a side mirror of an automobile, a front glass, a side glass, an inner surface of a rear glass, other vehicle glass, building glass, and the like. have.

또한, 본 발명에 의한 코팅재 조성물에서 형성되는 피막은, 높은 내찰상성, 방오성, 내약품성, 내크랙성도 갖고 있는 것이며, 또한 이들의 성능은, 특히 높은 내크랙성을, 피막 형성시나 피막 형성 후에 고온하에서 노출시켰을 경우에도 양호하게 유지할 수 있는 것이며, 이 때문에 플라스틱 기재 등의 가소성의 기재에 피막을 형성하는 경우이어도 가열시에 크랙이 잘 발생하지 않는 피막을 형성할 수 있는 것이다.In addition, the film formed from the coating material composition according to the present invention also has high scratch resistance, antifouling property, chemical resistance, and crack resistance, and their performance is particularly high crack resistance at high temperature during film formation or after film formation. Even if it is exposed under the same conditions, it can be maintained satisfactorily. Therefore, even when a film is formed on a plastic substrate such as a plastic substrate, it is possible to form a film which hardly causes cracks during heating.

이하, 본 발명을 실시예에 의해 구체적으로 설명한다. 또한, 특별히 한정하지 않는 한, 「부」는 모두 「질량부(중량부)」를, 「%」는 후술하는 반사율을 제외하고 전부 「질량%(중량%)」을 나타낸다. 또한, 「고형분」에 대해서는, 전부 산화물환산한 값을 나타낸다.Hereinafter, an Example demonstrates this invention concretely. In addition, unless otherwise indicated, all "parts" represent a "mass part (weight part)", and "%" shows all the "mass% (weight%)" except the reflectance mentioned later. In addition, about the "solid content", the value converted into all oxides is shown.

(실시예 1)(Example 1)

하기 식(1)에 나타내는 실란 화합물 47.8부(0.08몰)에 메탄올 312.4부를 가하고, 또한, 에폭시기 함유 유기 화합물로서 γ-글리시독시프로필트리메톡시실란 4.7부(0.02몰), 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 36부를 더 가하고, 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 2시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 용액에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 935부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.312.4 parts of methanol was added to 47.8 parts (0.08 mol) of the silane compound represented by the following formula (1), and 4.7 parts (0.02 mol) of γ-glycidoxypropyltrimethoxysilane as the epoxy group-containing organic compound, 0.1 N (0.1 mol) 36 parts of hydrochloric acid aqueous solution / L) was further added, and the mixed liquid which mixed this well was obtained. This liquid mixture was stirred for 2 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 935 parts of propylene glycol monomethyl ethers were added and diluted to this solution, and the coating material composition of 3% of solid content was obtained.

Figure 112007063327024-PCT00019
Figure 112007063327024-PCT00019

(실시예 2)(Example 2)

상기 식(1)에 나타내는 실란 화합물 47.8부(0.08몰)에 메탄올 317.1부를 가하고, 또한 에폭시기 함유 유기 화합물로서 하기 식 (2)에 나타내는 실록산올리고머 3.65부(0.01몰), 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 36부를 더 가하고, 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 2시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 용액에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 1028부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.317.1 parts of methanol was added to 47.8 parts (0.08 mol) of the silane compound represented by said Formula (1), and 3.65 parts (0.01 mol) of siloxane oligomers represented by following formula (2) as an epoxy-group containing organic compound, 0.1N (0.1 mol / L) 36 parts of aqueous hydrochloric acid solution) was added, and the mixed liquid which mixed this well was obtained. This liquid mixture was stirred for 2 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 1028 parts of propylene glycol monomethyl ethers were added to this solution and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

[화학식 10][Formula 10]

Figure 112007063327024-PCT00020
Figure 112007063327024-PCT00020

(실시예 3)(Example 3)

상기 식(1)에 나타내는 실란 화합물 47.8부(0.08몰)에 메탄올 315.3부를 가하고, 또한 에폭시기 함유 유기 화합물로서 하기 식 (3)에 나타내는 에폭시 화합물3.5부(0.02몰), 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 36부를 더 가하고, 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 2시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 용액에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 939.3부를 가해서 희석하고, 고형물이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.315.3 parts of methanol was added to 47.8 parts (0.08 mol) of the silane compound represented by said Formula (1), and 3.5 parts (0.02 mol) of epoxy compounds represented by following formula (3) as an epoxy group containing organic compound, 0.1N (0.1 mol / L) 36 parts of aqueous hydrochloric acid solution) was added, and the mixed liquid which mixed this well was obtained. This liquid mixture was stirred for 2 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 939.3 parts of propylene glycol monomethyl ethers were added to this solution and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

[화학식 11][Formula 11]

Figure 112007063327024-PCT00021
Figure 112007063327024-PCT00021

(실시예 4)(Example 4)

불화 알킬기 함유 알콕시실란으로서 하기 식 (4)에 나타내는 것을 21.8부(0.10몰)에 메탄올 109.2부를 가하고, 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 18부를 더 가하여, 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 24시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 실리콘 수지 10부와 실시예 2에서 얻어지는 실리콘 수지 90부를 혼합하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 233.3부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.As an alkyl fluoride-containing alkoxysilane, 109.2 parts of methanol was added to 21.8 parts (0.10 mol) of what was shown by following formula (4), 18 parts of 0.1N (0.1 mol / L) hydrochloric acid aqueous solution were added, and the mixed liquid which mixed this well was obtained. This liquid mixture was stirred for 24 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 10 parts of this silicone resin and 90 parts of the silicone resin obtained in Example 2 were mixed, 233.3 parts of propylene glycol monomethyl ether was added and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

Figure 112007063327024-PCT00022
Figure 112007063327024-PCT00022

(실시예 5)(Example 5)

테트라에톡시실란을 20.8부(0.10몰)에 메탄올 37.3부를 가하고, 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 1.8부를 더 가하여 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 2시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 실리콘 수지 10부와, 실시예 2에서 얻어진 실리콘 수지 90부를 혼합하여 프로필렌글리콜모노메틸에테르 233.3부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.37.3 parts of methanol was added to 20.8 parts (0.10 mol) of tetraethoxysilane, 1.8 parts of 0.1N (0.1 mol / L) hydrochloric acid aqueous solution was added, and the mixed liquid which mixed this well was obtained. This liquid mixture was stirred for 2 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 10 parts of this silicone resin and 90 parts of the silicone resin obtained in Example 2 were mixed, and 233.3 parts of propylene glycol monomethyl ether was added and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

(실시예 6)(Example 6)

중공 실리카 미립자로서 중공 실리카 IPA(이소프로판올) 분산졸(고형분 20%, 평균 일차입자경 60nm, 외각 두께 약 10nm, 촉매화성주식회사제조)을 사용하고, 이것을 메탄올로 고형분 10%로 희석시켜 분산 졸을 얻었다. 이 분산 졸 10부와 실시예 2에서 얻어진 실리콘 수지 90부를 혼합하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 233.3부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.As hollow silica fine particles, a hollow silica IPA (isopropanol) dispersion sol (solid content 20%, average primary particle diameter 60 nm, outer thickness about 10 nm, manufactured by Catalytic Co., Ltd.) was used, and this was diluted with methanol to 10% solid content to obtain a dispersion sol. 10 parts of this dispersion sol and 90 parts of the silicone resin obtained in Example 2 were mixed, 233.3 parts of propylene glycol monomethyl ether was added and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

(비교예 1)(Comparative Example 1)

상기 식(1)에 나타내는 실란 화합물 598부(0.10몰)에 메탄올 364.1부를 가하고, 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 36부를 더 가하여 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 2시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 용액에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 1073.1부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.364.1 parts of methanol was added to 598 parts (0.10 mol) of the silane compounds shown in said Formula (1), 36 parts of 0.1N (0.1 mol / L) hydrochloric acid aqueous solution was added, and the mixed liquid which mixed this well was obtained. This liquid mixture was stirred for 2 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 1073.1 parts of propylene glycol monomethyl ethers were added to this solution and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

(비교예 2)(Comparative Example 2)

상기 식(1)에 나타내는 실란 화합물 23.9부(0.04몰)에 메탄올 320.1부를 가하고, 또한, 상기 식(2)에 나타내는 실록산올리고머 21.8부(0.06몰), 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 36부를 더 가하여 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 2시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 용액에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 937.5부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.320.1 parts of methanol is added to 23.9 parts (0.04 mol) of the silane compound represented by said Formula (1), and 21.8 parts (0.06 mol) of siloxane oligomer shown by said Formula (2), and 0.1N (0.1 mol / L) hydrochloric acid aqueous solution 36 parts were further added and the mixed liquid which mixed this well was obtained. This liquid mixture was stirred for 2 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 937.5 parts of propylene glycol monomethyl ethers were added to this solution and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

(비교예 3)(Comparative Example 3)

실시예 4에서 얻어진 실리콘 수지 50부와, 실시예 2에서 얻어진 실리콘 수지 50부를 혼합하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 233.3부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.50 parts of the silicone resin obtained in Example 4 and 50 parts of the silicone resin obtained in Example 2 were mixed, 233.3 parts of propylene glycol monomethyl ether was added and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

(비교예 4)(Comparative Example 4)

실시예 5에서 얻어진 실리콘 수지 50부와, 실시예 2에서 얻어진 실리콘 수지 50부를 혼합하고, 프로필렌글리콜모노메틸에테르 233.3부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.50 parts of the silicone resin obtained in Example 5 and 50 parts of the silicone resin obtained in Example 2 were mixed, 233.3 parts of propylene glycol monomethyl ether was added and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

(비교예 5)(Comparative Example 5)

상기 (1)에 나타내는 실란 화합물 41.8부(0.07몰)에 메탄올 341.7부를 가하고, 또한 상기 식(2)에 나타내는 실록산올리고머 10.9부(0.03몰), 0.1N(0.1몰/L)의 염산 수용액 36부를 더 가하고, 이것을 잘 혼합한 혼합액을 얻었다. 이 혼합액을 25℃의 항온조에서 2시간 교반해서 고형분 10%의 실리콘 수지를 얻었다. 이 용액 에 프로필렌글리콜모노메틸에테르 1004.4부를 가해서 희석하고, 고형분이 3%인 코팅재 조성물을 얻었다.341.7 parts of methanol was added to 41.8 parts (0.07 mol) of the silane compounds shown in said (1), and 10.9 parts (0.03 mol) of siloxane oligomers shown in said Formula (2), and 36 parts of 0.1N (0.1 mol / L) hydrochloric acid aqueous solution It further added and obtained the mixed liquid which mixed this well. This liquid mixture was stirred for 2 hours in a 25 degreeC thermostat, and the silicone resin of 10% of solid content was obtained. 1004.4 parts of propylene glycol monomethyl ether was added to this solution and diluted to obtain a coating material composition having a solid content of 3%.

(조성)(Furtherance)

이상의 각 실시예 및 비교예의 코팅재 조성물에 있어서의 배합 비율(중량%)을 하기 표 1에 나타낸다.The compounding ratio (weight%) in the coating material composition of each of the above Examples and Comparative Examples is shown in Table 1 below.

표 1Table 1

Figure 112007063327024-PCT00023
Figure 112007063327024-PCT00023

a: 식(A)로 표시되는 실란 화합물의 함유량a: content of the silane compound represented by Formula (A)

b: 에폭시기 함유 유기화합물의 함유량b: content of epoxy group-containing organic compound

(피막 형성)(Film formation)

각 실시예 및 비교예에서 얻어진 코팅재 조성물을 1시간 방치한 후에, 미리 UV-오존 세정기(우시오 전기사제조 엑시머 램프 「형식 HOO11」)로 표면 세정한 아크릴판(아사히 화성사제조 「데라그라스 TMHA」, 양면 하드 코트 처리, 하드 코트 굴절율 1.52)의 하드 코트면에, 와이어 바코터로 도장해서 막두께가 약 100nm이 되도록 형성하고, 100℃에서 30분간 처리함으로써, 경화 피막을 얻었다.After leaving the coating material composition obtained by each Example and the comparative example for 1 hour, the acrylic plate (The Asahi Chemical Co., Ltd. make "Deragrass TMHA") which surface-washed previously with the UV-ozone washing machine (Excimer lamp "model HOO11" made by Ushio Electric Corporation) And a hard coat surface having a double-sided hard coat treatment and a hard coat refractive index of 1.52) were coated with a wire bar coater to form a film thickness of about 100 nm and treated at 100 ° C. for 30 minutes to obtain a cured coating film.

이 경화 피막에 대하여, 하기와 같이 최소반사율, 내마모성, 지문제거성, 내 알카리성, 내크랙성에 관한 평가 시험을 행하였다.About this cured film, the evaluation test regarding minimum reflectance, abrasion resistance, fingerprint removal property, alkali resistance, and crack resistance was done as follows.

(최소반사율)Minimum reflectance

분광 광도계(히다치 제작소제조「U-4100」)을 사용하고, 5°상대 최소반사율을 측정했다.The 5 degree relative minimum reflectance was measured using the spectrophotometer ("U-4100" by Hitachi Ltd.).

(내마모성)(Wear resistance)

마모 시험기(신속과학사제조 「HEIDON-14DR」, 스틸울#0000, 하중 9.8kPa(100g/㎠))로 경화 피막의 표면을 마찰하여, 경화 피막에 발생하는 손상의 발생 레벨을 관찰해서 하기 평가 기준에서 기계적 강도를 판정했다.Rub the surface of the cured film with abrasion tester (HEIDON-14DR manufactured by Rapid Science, Inc., steel wool # 0000, load 9.8 kPa (100 g / cm 2)), and observe the level of occurrence of damage occurring on the cured film. The mechanical strength was determined at.

A: 손상이 발생하지 않는다.A: No damage occurs.

B: 손상이 약간 발생한다.B: Slight damage occurs.

C: 손상이 발생한다.C: Damage occurs.

D: 손상이 다수발생한다 (또는 박리한다).D: Many damages occur (or peel).

(지문 제거성)(Fingerprint removal)

경화 피막 표면에 대하여 지문을 부착시켜 그 지문 자국을 OA 토레시(토레 주식회사제조)로 닦아낸 후의 형상을 관찰하고, 하기 평가기준으로 지문 제거성을 판정했다.Fingerprints were affixed to the surface of the cured coating film, and the shape after wiping the fingerprint marks with OA Toreshi (manufactured by Toray Corporation) was observed, and fingerprint removability was determined by the following evaluation criteria.

A: 수회로 제거할 수 있다.A: It can be removed by several times.

B: 십수회 정도로 제거할 수 있다.B: It can be removed about ten times.

C: 부단히 닦으면 어떻게든 제거할 수 있다.C: You can get rid of it if you wipe it hard.

D: 제거할 수 없다(자국이 남는다).D: It cannot be removed (marks are left).

(내알카리성)(Alkali resistance)

25℃의 0.1N(0.1몰/L) 수산화나트륨 수용액 중에, 경화 피막을 1시간 침지한 후의 피막의 모양을 관찰하고, 하기 평가 기준으로 내알카리성을 평가했다.In 25 degreeC 0.1N (0.1 mol / L) sodium hydroxide aqueous solution, the shape of the film after immersing a hardened film for 1 hour was observed, and alkali resistance was evaluated by the following evaluation criteria.

A: 피막에 변화 없음.A: No change to the film.

B: 피막에 침지한 자국이 보이지만, 수건으로 마찰시켜도 박리까지는 나타나지 않는다.B: Although the marks immersed in the film | membrane are seen, even if it rubs with a towel, it does not appear until peeling.

C: 침지만으로는 박리는 보이지 않지만, 수건으로 마찰시키면 박리한다.C: Peeling is not seen only by dipping, but peels off when rubbed with a towel.

D: 침지에 의해 박리한다.D: It peels by immersion.

(내크랙성)(Crack resistance)

피막을 형성한 아크릴판을, 110℃에서 30분간, 이어서 120℃에서 30분간, 130℃에서 30분간 더 소성하고, 피막에 크랙이 발생하는 소성 온도에서 내크랙성을 평가했다.The acrylic plate on which the film was formed was further baked at 110 degreeC for 30 minutes, then 120 degreeC for 30 minutes, and 130 degreeC for 30 minutes, and the crack resistance was evaluated at the baking temperature at which a crack generate | occur | produces in a film.

A: 130℃에서도 크랙 미발생.A: No crack occurred even at 130 ° C.

B: 130℃에서 크랙 발생.B: Crack generation at 130 ° C.

C: 120℃에서 크랙 발생.C: Crack generation at 120 ° C.

D: 110℃에서 크랙 발생.D: Crack generation at 110 ° C.

이상의 결과를 하기 표 2에 나타낸다.The above results are shown in Table 2 below.

표 2TABLE 2

Figure 112007063327024-PCT00024
Figure 112007063327024-PCT00024

이 결과와 같이, 실시예 1~6에서는 평가가 모두 A 혹은 일부의 평가가 B로 되어 있는 것에 대해서, 비교예 1~5에서는 모든 평가가 B이상으로 된 것이 없고, 이것에 의해, 본 발명의 코팅재 조성물에서는 저반사에서 높은 내마모성, 지문제거성, 내알카리성, 내크랙성을 실현할 수 있는 것이 확인되었다.As in this result, in Examples 1 to 6, all of the evaluations were A or some of the evaluations were B, whereas in Comparative Examples 1 to 5, all the evaluations did not become B or more, and accordingly, In the coating composition, it was confirmed that high abrasion resistance, fingerprint removal property, alkali resistance and crack resistance can be realized at low reflection.

본 발명은 플라스틱 기재 등의 가소성의 기재에 피막을 형성한 경우에 있어서도, 피막 형성시나, 피막형성 후에 고온하에 노출시켰을 때에, 저굴절율이며, 높은 내찰상성, 방오성, 내약품성, 내크랙성을 유지할 수 있는 코팅재 조성물 및 이 코팅재 조성물로 피막을 형성한 도장품에 적용할 수 있다.The present invention has a low refractive index and maintains high scratch resistance, antifouling property, chemical resistance, and crack resistance even when a film is formed on a plastic substrate such as a plastic substrate, when exposed to high temperature after film formation or after film formation. It is applicable to the coating material composition which can be used, and the coating goods which formed the film with this coating material composition.

본 발명에 의하면, 높은 반사 방지성, 내찰상성, 방오성, 내약품성, 내크랙성을 갖는 피막을 형성할 수 있고, 또한 이들의 성능, 특히 높은 내크랙성을 고온하에 노출시켰을 때에도 유지할 수 있는 것이다.According to the present invention, it is possible to form a film having high anti-reflective property, scratch resistance, antifouling property, chemical resistance and crack resistance, and to maintain these performances, especially when high crack resistance is exposed under high temperature. .

Claims (7)

하기 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물과, 분자중에 1개 이상의 에폭시기를 함유하는 에폭시기 함유 유기 화합물을 함유하고, 상기 실란 화합물의 함유량이 수지성분 전체량에 대하여 60~97중량%이며, 상기 에폭시기 함유 유기 화합물의 함유량이, 수지성분 전체량에 대하여 3~10중량%인 것을 특징으로 하는 코팅재 조성물.The silane compound represented by the following general formula (A) and the epoxy group containing organic compound containing one or more epoxy groups in a molecule | numerator are contained, Content of the said silane compound is 60-97 weight% with respect to the resin component whole quantity, Content of an epoxy-group containing organic compound is 3 to 10 weight% with respect to resin component whole quantity, The coating material composition characterized by the above-mentioned.
Figure 112007063327024-PCT00025
Figure 112007063327024-PCT00025
[R1은 탄소수 1~6의 1가 탄화수소기. Y는 불소 원자를 1개 이상 함유하는 2가 유기기. X는 가수분해성기. m은 1~3의 정수이다.][R 1 is a monovalent hydrocarbon group having 1 to 6 carbon atoms. Y is a divalent organic group containing one or more fluorine atoms. X is a hydrolyzable group. m is an integer of 1 to 3.]
제1항에 있어서, 상기 에폭시기 함유 유기 화합물이, 하기 일반식 (B)로 표시되는 화합물과 하기 일반식 (C)로 표시되는 화합물로부터 선택되는 적어도 1종의 화합물을 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅재 조성물.The coating material according to claim 1, wherein the epoxy group-containing organic compound contains at least one compound selected from compounds represented by the following general formula (B) and compounds represented by the following general formula (C). Composition.
Figure 112007063327024-PCT00026
Figure 112007063327024-PCT00026
[R2, R3는 탄소수 1~16의 유기기이며, 적어도 한쪽은 에폭시기를 포함한다. Z는 가수분해성기. n, p는 0~2의 정수이며 1≤n+p≤3이다.][R <2> , R <3> is a C1-C16 organic group and at least one contains an epoxy group. Z is a hydrolyzable group. n and p are integers of 0 to 2 and 1 ≦ n + p ≦ 3.] [화학식 1][Formula 1]
Figure 112007063327024-PCT00027
Figure 112007063327024-PCT00027
[R4~R15는 유기기이며, 또한 이 중 적어도 하나는 에폭시기를 포함한다. q, r, s, t는 0~12의 정수이다.][R 4 to R 15 are organic groups, and at least one of them contains an epoxy group. q, r, s, t are integers from 0 to 12.]
제1항 또는 제2항에 있어서, 상기 에폭시기 함유 유기 화합물이, 분자 중에 에폭시기를 2개 이상 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅재 조성물.The coating material composition according to claim 1 or 2, wherein the epoxy group-containing organic compound contains two or more epoxy groups in a molecule. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 하기 일반식 (D)로 표시되는 불화 알킬기 함유 알콕시 실란을 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅재 조성물.The coating material composition according to any one of claims 1 to 3, which contains an alkyl fluoride-containing alkoxy silane represented by the following general formula (D).
Figure 112007063327024-PCT00028
Figure 112007063327024-PCT00028
[Rf는 불소원자를 한 개 이상 함유하는 1가 유기기. X는 가수분해성기.][R f is a monovalent organic group containing at least one fluorine atom. X is a hydrolyzable group.]
제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서, 충전재를 함유하는 것을 특징으로 하는 코팅재 조성물.The coating material composition according to any one of claims 1 to 4, which contains a filler. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 에폭시기 함유 유기 화합물의 함유량이, 상기 일반식 (A)로 표시되는 실란 화합물에 대하여 3~10중량%인 것을 특징으로 하는 코팅재 조성물. Content of the said epoxy group containing organic compound is 3 to 10 weight% with respect to the silane compound represented by the said General formula (A), The coating material composition in any one of Claims 1-5 characterized by the above-mentioned. 기재의 표면에 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 기재된 코팅재 조성물의 경화 피막을 형성해서 이루어지는 것을 특징으로 하는 도장품.The hardened | cured film of the coating material composition of any one of Claims 1-6 is formed in the surface of a base material, The coating goods characterized by the above-mentioned.
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Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TW200821036A (en) * 2006-11-06 2008-05-16 Far Eastern Textile Ltd Preparing method of sol used for manufacturing low reflection film and manufacturing method of low reflection film using the sol
JP2010180375A (en) * 2009-02-09 2010-08-19 Shin-Etsu Chemical Co Ltd Photocurable coating composition, film forming method, and coated article
US9353268B2 (en) * 2009-04-30 2016-05-31 Enki Technology, Inc. Anti-reflective and anti-soiling coatings for self-cleaning properties
US9376593B2 (en) 2009-04-30 2016-06-28 Enki Technology, Inc. Multi-layer coatings
KR101800743B1 (en) 2011-01-10 2017-11-24 삼성전자주식회사 Composition for coating film for preventing a fingerprint from becoming conspicuous, coating film for preventing a fingerprint from becoming conspicuous using the composition, and article comprising the coating film
US9109140B2 (en) 2013-01-22 2015-08-18 Xerox Corporation Mixed organosiloxane networks for tunable surface properties for blanket substrates for indirect printing methods
US9493676B2 (en) * 2013-03-19 2016-11-15 Xerox Corporation Formulation composition for fluorinated organosiloxane network
US9399720B2 (en) 2014-07-14 2016-07-26 Enki Technology, Inc. High gain durable anti-reflective coating
US9382449B2 (en) 2014-09-19 2016-07-05 Enki Technology, Inc. Optical enhancing durable anti-reflective coating
US9598586B2 (en) 2014-07-14 2017-03-21 Enki Technology, Inc. Coating materials and methods for enhanced reliability
WO2016051750A1 (en) * 2014-09-30 2016-04-07 日本板硝子株式会社 Low reflection coating, glass plate, glass substrate and photoelectric conversion device
KR20220132328A (en) * 2021-03-23 2022-09-30 삼성에스디아이 주식회사 Curable resin composition, thin layer including same, and color conversion panel and display device including thin layer

Family Cites Families (26)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS58222160A (en) * 1982-06-16 1983-12-23 Tokuyama Soda Co Ltd Coating composition
JPS5943070A (en) * 1982-09-02 1984-03-09 Seiko Epson Corp Composite having cured film
JPS59115840A (en) * 1982-12-24 1984-07-04 旭硝子株式会社 Low reflectivity coating
JPS60262833A (en) * 1984-06-11 1985-12-26 Tokuyama Soda Co Ltd Coated synthetic resin material
JPS6110043A (en) 1984-06-26 1986-01-17 Asahi Glass Co Ltd Glass of low reflectance having anti-staining property
DE3583598D1 (en) * 1984-12-27 1991-08-29 Asahi Glass Co Ltd Curable resin mix.
JPS61276832A (en) * 1985-05-31 1986-12-06 Nippon Sheet Glass Co Ltd Production of molded and coated article of plastic having excellent abrasion resistance
JPH0778186B2 (en) * 1986-05-23 1995-08-23 旭硝子株式会社 Curable composition
JPS6424422A (en) 1987-07-20 1989-01-26 Sanyo Electric Co Formation of fine pattern
JP2629813B2 (en) * 1988-04-28 1997-07-16 旭硝子株式会社 Low reflection transparent molded body
JP3155025B2 (en) * 1991-05-17 2001-04-09 旭硝子株式会社 Surface-treated building / building article and method of manufacturing the article
JPH04343366A (en) * 1991-05-20 1992-11-30 Asahi Glass Co Ltd Surface treating agent for electrophotographic carrier and carrier treated with the agent
JP2819371B2 (en) * 1992-03-27 1998-10-30 信越化学工業株式会社 Room temperature curable organopolysiloxane composition and cured product thereof
JPH0625599A (en) * 1992-07-10 1994-02-01 Asahi Optical Co Ltd Antireflection composition applicable by spin-coating
JPH0629332A (en) 1992-07-13 1994-02-04 Nec Corp Suction jig for semiconductor element
JPH06347605A (en) 1993-06-04 1994-12-22 Asahi Optical Co Ltd Production of coating composition
JPH08311408A (en) * 1995-03-15 1996-11-26 Seiko Epson Corp Coating composition, and its production and laminate
US6001163A (en) * 1997-04-17 1999-12-14 Sdc Coatings, Inc. Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate
US6348269B1 (en) * 1998-10-23 2002-02-19 Sdc Coatings, Inc. Composition for providing an abrasion resistant coating on a substrate having improved adhesion and improved resistance to crack formation
JP2002543235A (en) * 1999-04-23 2002-12-17 エスディーシー、コーティングズ、インコーポレーテッド Composition for forming an abrasion resistant coating
JP3657869B2 (en) 1999-10-29 2005-06-08 株式会社巴川製紙所 Low reflection material
CN100478292C (en) * 2000-06-20 2009-04-15 日挥触媒化成株式会社 Inorganic compound particle and process for preparation thereof
JP4126521B2 (en) 2000-08-04 2008-07-30 信越化学工業株式会社 Method for producing fluoroorganopolysiloxane resin for film forming composition
EP1386951B1 (en) * 2001-04-02 2007-08-15 Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. Water-repellent film and method for preparing the same, and ink-jet head and ink-jet type recording device using the same
JP4126545B2 (en) 2003-04-18 2008-07-30 信越化学工業株式会社 Coated article and multilayer laminate
JP4887784B2 (en) 2003-12-19 2012-02-29 日産化学工業株式会社 Coating with low refractive index and large water contact angle

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Publication number Publication date
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