KR20070111787A - 박막증착용 샤워헤드 - Google Patents

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KR20070111787A
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Abstract

본 발명에 따른 박막증착용 샤워헤드는 웨이퍼가 배치되는 리액터의 내부 공간에 상기 웨이퍼의 상방에 배치되며, 제1소스가스가 유입되는 제1공급유로와, 상기 제1공급유로와 상호 격리되게 형성되며 제2소스가스가 유입되는 제2공급유로가 형성된 유로부를 가지는 탑 플레이트; 상기 탑 플레이트의 하방에 배치되며, 상기 탑 플레이트와의 사이에 상기 제2공급유로와 통하며 상기 제2공급유로를 통해 유입된 상기 제2소스가스가 확산되는 공간인 제2소스가스 확산공간이 밀폐되게 형성되며, 상기 제1공급유로와 통하는 제1관통공과, 상기 제1관통공과 격리되게 배치되며 상기 제2소스가스 확산공간과 통하도록 형성된 다수의 제2관통공을 가지는 미드 플레이트; 상기 미드 플레이트의 하방에 배치되며, 상기 미드 플레이트와의 사이에 상기 제1관통공과 통하며 상기 제1관통공을 통해 유입된 상기 제1소스가스가 확산되는 공간인 제1소스가스 확산공간이 밀폐되게 형성되며, 상기 제1소스가스 확산공간과 연결되는 다수의 제1배출공과, 상기 제2관통공들 각각과 통하도록 상기 제2관통공들 각각과 대응되는 위치에 형성되며 상기 제1배출공과 격리되게 배치되어 있는 다수의 제2배출공을 가지는 엔드 플레이트; 및 상기 탑 플레이트의 유로부를 상기 미드 플레이트에 고정시키는 고정수단;을 구비하는 것을 특징으로 한다.

Description

박막증착용 샤워헤드{Shower-head for depositing thin film on wafer}
도 1은 종래의 일례에 따른 박막증착장치의 개략적인 단면도이다.
도 2는 도 1에 도시된 샤워헤드의 개략적인 평면도이다.
도 3은 도 2의 Ⅲ-Ⅲ선 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워헤드의 개략적인 평면도이다.
도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선 단면도이다.
도 6은 도 4의 Ⅵ-Ⅵ선 단면도이다.
도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선 단면도이다.
도 8은 본 발명의 다른 실시예에 따른 샤워헤드의 개략적인 단면도이다.
도 9는 도 8에 도시된 볼트의 평면도이다.
<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명>
10...탑 플레이트 11...유로부
20...미드 플레이트 21...돌출부
22...제2소스가스 확산공간 23...결합 돌출부
30...엔드 플레이트 W...웨이퍼
31...접촉부 32...제1소스가스 확산공간
40...히팅부재 50...단열부재
60...게스켓 71...슬리브
72...부싱 73,B...볼트
74...플러그 100, 100a...박막증착용 샤워헤드
111...제1공급유로 112...제2공급유로
113...결합공 113a...나사공
200...리액터 201...제1관통공
202...제2관통공 301...제1배출공
302...제2배출공 601...통공
721...공간부 A...용접부
본 발명은 박막증착용 샤워헤드에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 웨이퍼에 박막이 형성되도록 그 웨이퍼를 향해 소스가스를 분사하는 박막증착용 샤워헤드에 관한 것이다.
박막증착장치에는 물리적기상증착장치, 화학적기상증착장치 및 원자층 증착장치 등 여러 가지가 있으며, 최근에는 박막을 얇게 증착할 수 있을 뿐만 아니라 그 박막의 조성도 용이하게 제어할 수 있다는 장점 때문에 원자층 증착장치가 널리 사용되고 있다.
이러한 박막증착장치의 일례는 도 1 내지 도 3에 도시되어 있다. 도 1 내지 도 3에 도시되어 있는 바와 같이 박막증착장치(1)는 내부공간을 가지는 리액터(200)와, 상기 리액터(200)의 내부공간에 승강 가능하게 설치되며 웨이퍼(W)가 배치되는 히터(300)와, 상기 히터(300)에 배치된 웨이퍼(W)에 박막이 형성되도록 그 웨이퍼를 향해 소스 가스를 분사하는 샤워헤드(100')를 구비한다.
상기 샤워헤드(100')는 상기 웨이퍼의 상방에 서로 순차적으로 적층되며 그 테두리부가 서로 나사 결합되는 탑 플레이트(10')와, 미드 플레이트(20')와, 엔드 플레이트(30')를 구비한다.
상기 탑 플레이트(10')에는 제1소스가스가 공급되는 제1공급유로(111')와, 상기 제1공급유로(111')와 서로 격리되도록 형성되며 제2소스가스가 공급되는 제2공급유로(112')가 형성되어 있다. 그리고, 상기 탑 플레이트(10')의 내측면에는 상기 탑 플레이트(10')를 가열하기 위한 히팅부재(40')와, 상기 히팅부재(40')에서 발생된 열을 단열시키는 단열부재(50')가 배치되어 있다.
상기 미드 플레이트(20')에는 상기 제1공급유로(111')와 통하는 제1관통공(201')과, 상기 제1관통공(201')과 격리되게 형성된 다수의 제2관통공(202')이 형성되어 있다. 상기 제1관통공(201')은 상기 미드 플레이트(20')의 내측 바닥면에 대해 돌출 형성된 돌출부(21')에 형성되어 있으며, 상기 돌출부(21')와 상기 탑 플레이트(10') 사이에는 니켈로 이루어진 게스켓(60')이 개재되어 있다. 상기 탑 플레이트(10')와 미드 플레이트(20') 사이에는, 일측은 상기 제2공급유로(112')와 통하며 타측은 상기 제2관통공(202')과 통하도록 밀폐되게 형성된 제2소스가스 확산공간(22')이 형성되어 있다.
상기 엔드 플레이트(30')의 내측 바닥면에는 상기 제2관통공(202')들 각각과 대응되는 위치에 돌출되게 형성된 다수의 접촉부(31')가 마련되어 있다. 상기 각 접촉부(31')는 상기 미드 플레이트(20')의 외측 바닥면과 접촉하도록 배치된다. 상기 각 접촉부(31')에는 상기 각 제2관통공(202')과 연결되도록 관통 형성된 제2배출공(302')이 마련되어 있다. 그리고, 상기 제2배출공(302')들 사이에는 상기 제2배출공(302)과 격리되게 형성된 제1배출공(301')이 마련되어 있다. 상기 미드 플레이트(20')와 엔드 플레이트(30') 사이에는, 일측은 상기 제1공급유로(111')와 통하며 타측은 상기 제1배출공(301')과 통하도록 밀폐되게 형성된 제1소스가스 확산공간(32')이 형성되어 있다.
상술한 바와 같이 구성된 박막증착장치의 샤워헤드(100')에 있어서는, 제1공급유로(111')를 통해서 공급된 제1소스가스가 제2소스가스 확산공간(22')으로 확산되는 것이 방지되도록 탑 플레이트(10')의 외측 바닥면과 미드 플레이트의 돌출부(21') 사이에 게스켓(60')이 설치되어 있다. 그러나, 탑 플레이트(10')의 내측면에 배치된 히팅부재(40')에 의해 탑 플레이트(10')가 가열되는 경우에는 그 탑 플레이트(10')가 변형되는 현상이 빈번하게 발생하게 되며, 이로 인하여 탑 플레이트(10')와 게스켓(60')이 밀착 결합되지 못함으로써 제1공급유로(111')를 통해서 공급된 제1소스가스가 제2소스가스 확산공간(22')으로 확산되는 현상이 자주 발생하게 된다. 이와 같이 제1소스가스가 제2소스가스 확산공간(22')로 확산되게 되면, 제2소스가스의 공급시 제2소스가스 확산공간(22')에 남아있는 제1소스가스와 제2소스가스가 혼합되게 되며, 결국 제1소스가스와 제2소스가스가 혼합된 가스가 웨이퍼로 분사되게 된다. 따라서, 웨이퍼에 원하는 조성의 박막을 형성할 수 없게 되는 문제점이 있었다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 본 발명의 목적은 제1소스가스 및 제2소스가스가 혼합되지 않고 각각 분사될 수 있도록 구조가 개선되어 웨이퍼에 원하는 조성의 박막을 형성시킬 수 있도록 하는 박막증착용 샤워헤드를 제공하는 것이다.
상기 목적을 달성하기 위해, 본 발명에 따른 박막증착용 샤워헤드는 웨이퍼가 배치되는 리액터의 내부 공간에 상기 웨이퍼의 상방에 배치되며, 제1소스가스가 공급되는 제1공급유로와, 상기 제1공급유로와 상호 격리되게 형성되며 제2소스가스가 공급되는 제2공급유로가 형성된 유로부를 가지는 탑 플레이트; 상기 탑 플레이트의 하방에 배치되며, 상기 탑 플레이트와의 사이에 상기 제2공급유로와 통하며 상기 제2공급유로를 통해 유입된 상기 제2소스가스가 확산되는 공간인 제2소스가스 확산공간이 밀폐되게 형성되며, 상기 제1공급유로와 통하는 제1관통공과, 상기 제1관통공과 격리되게 배치되며 상기 제2소스가스 확산공간과 통하도록 형성된 다수의 제2관통공을 가지는 미드 플레이트; 상기 미드 플레이트의 하방에 배치되며, 상기 미드 플레이트와의 사이에 상기 제1관통공과 통하며 상기 제1관통공을 통해 유입된 상기 제1소스가스가 확산되는 공간인 제1소스가스 확산공간이 밀폐되게 형성되며, 상기 제1소스가스 확산공간과 연결되는 다수의 제1배출공과, 상기 제2관통공들 각 각과 통하도록 상기 제2관통공들 각각과 대응되는 위치에 형성되며 상기 제1배출공과 격리되게 배치되어 있는 다수의 제2배출공을 가지는 엔드 플레이트; 및 상기 탑 플레이트의 유로부를 상기 미드 플레이트에 고정시키는 고정수단;을 구비하는 것을 특징으로 한다.
이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예들을 첨부된 도면들을 참조하여 상세히 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 샤워헤드의 개략적인 평면도이고, 도 5는 도 4의 Ⅴ-Ⅴ선 단면도이며, 도 6은 도 4의 Ⅵ-Ⅵ선 단면도이며, 도 7은 도 6의 Ⅶ-Ⅶ선 단면도이다.
도 4 내지 도 7을 참조하면, 본 실시예의 박막증착용 샤워헤드(100)는 종래 기술에서 설명한 바와 마찬가지로 웨이퍼(W)가 배치되는 리액터(200)의 내부 공간에 상기 웨이퍼(W)의 상방에 배치된다. 상기 박막증착용 샤워헤드(100)는 탑 플레이트(10)와, 미드 플레이트(20)와, 엔드 플레이트(30)와, 고정수단을 구비한다.
상기 탑 플레이트(10)의 중앙에는 상기 탑 플레이트(10)의 내측 바닥면에 대해 돌출되게 형성된 유로부(11)가 마련되어 있다. 상기 유로부(11)에는 제1공급유로(111)와, 제2공급유로(112)와, 결합공(113)이 관통 형성되어 있다. 상기 제1공급유로(111)는 상기 유로부(11)의 중앙에 상하 방향으로 길게 형성되어 있다. 상기 제1공급유로(11)는 제1소스가스, 예를 들어 NH3가 공급되는 유로이다. 상기 제2공급유로(112)는 상기 제1공급유로(111)와 상호 격리되게 상하 방향으로 길게 형성 되어 있다. 상기 제2공급유로(112)는 제2소스가스, 예를 들어 TiCl4가 공급되는 유로이다. 상기 결합공(113)은 후술하는 고정수단에 포함되는 구성요소가 설치되는 부분이며, 이와 관련해서는 고정수단을 설명하는 부분에서 보다 상세하게 언급하기로 한다. 본 실시예에서, 상기 결합공(113)은 상기 제1공급유로(111)를 중심으로 대칭이 되도록 한 쌍이 마련되어 있다.
상기 탑 플레이트(10)의 내측면에는, 상기 유로부(11)를 가열하기 위한 히팅부재(40)와, 상기 히팅부재(40)를 덮는 단열부재(50)가 순차적으로 적층되어 있다. 상기 히팅부재(40)에 의해 상기 탑 플레이트의 유로부(11)가 가열되게 되므로, 상기 제1공급유로(111) 및 제2공급유로(112)로 각각 공급되는 상기 제1소스가스 및 제2소스가스는 기체 상태가 유지되게 된다.
상기 미드 플레이트(20)는 상기 탑 플레이트(10)와 마주하도록 상기 탑 플레이트(10)의 하방에 배치된다. 상기 미드 플레이트(20)의 중앙에는 상기 미드 플레이트(20)의 내측 바닥면에 대해 돌출되게 형성된 돌출부(21)가 마련되어 있다. 그리고, 상기 돌출부(21) 주위에는 결합 돌출부(23)가 배치되어 있다. 상기 결합 돌출부(23)는 상기 미드 플레이트(20)의 내측 바닥면에 대해 돌출되게 형성되어 있다. 상기 결합 돌출부(23)는 상기 탑 플레이트(10)의 외측 바닥면과 접촉되도록 배치되어 있다. 또한, 상기 결합 돌출부(23)는 상기 탑 플레이트의 유로부의 결합공(113)들과 대응되는 위치에 한 쌍이 마련되어 있다. 상기 결합 돌출부(23)에는 후술하는 고정수단에 포함되는 구성요소가 설치되며, 이와 관련해서는 고정수단을 설명하는 부분에서 상술하기로 한다.
상기 미들 플레이트(20)에는 제1관통공(201)과, 제2관통공(202)이 형성되어 있다. 상기 제1관통공(201)은 상기 미드 플레이트의 돌출부(21)에 관통 형성되어 있다. 상기 제1관통공(201)은 상기 제1공급유로(111)와 통하도록 형성되어 있다. 상기 제2관통공(202)은 상기 제1관통공(201)과 격리되게 다수 형성되어 있다. 그리고, 상기 돌출부(21)와 상기 탑 플레이트(10)의 바닥면 사이에는 니켈 등과 같은 금속으로 이루어진 게스켓(60)이 개재되어 있다. 상기 게스켓(60)에는 상기 제1공급유로(111)와 제1관통공(201)과 각각 연결되게 형성된 통공(601)이 형성되어 있다.
상기 미드 플레이트(20)와 상기 탑 플레이트(10) 사이에는 제2소스가스 확산공간(22)이 밀폐되게 형성되어 있다. 본 실시예에 있어서, 상기 제2소스가스 확산공간(22)은 상기 미드 플레이트(20)의 내측 바닥면과 상기 탑 플레이트(10)의 외측 바닥면 사이에 형성되어 있다. 상기 제2소스가스 확산공간(22)은 그 일측이 상기 제2공급유로(112)와 연결되며 그 타측이 상기 제2관통공(202)들과 통하도록 형성되어 있다. 상기 제2공급유로(112)를 통해서 공급된 상기 제2소스가스는 상기 제2소스가스 확산공간(22)에서 확산된 후에 상기 제2관통공(202)들 각각을 통해서 배출된다.
상기 엔드 플레이트(30)는 상기 미드 플레이트(20)와 마주하도록 상기 미드 플레이트(20)의 하방에 배치된다. 상기 엔드 플레이트(30)에는 상기 엔드 플레이트(30)의 바닥면에 대해 돌출되게 형성된 다수의 접촉부(31)가 배치되어 있다. 상 기 다수의 접촉부(31)는 상기 제2관통공(202)들과 대응되는 위치에 형성되어 있다. 상기 다수의 접촉부(31)는 상기 미드 플레이트(20)의 외측 바닥면과 접촉하도록 배치되어 있다.
상기 엔드 플레이트(30)와 상기 미드 플레이트(20) 사이에는 제1소스가스 확산공간(32)이 밀폐되게 형성되어 있다. 본 실시예에 있어서, 상기 제1소스가스 확산공간(32)은 상기 엔드 플레이트(30)의 내측 바닥면과 상기 미드 플레이트(20)의 외측 바닥면 사이에 형성되어 있다. 상기 제1소스가스 확산공간(32)은 상기 제1관통공(201)과 연결되어 있다. 상기 제1관통공(201)을 통해서 유입된 상기 제1소스가스는 상기 제1소스가스 확산공간(32)에서 확산된다.
상기 엔드 플레이트(30)에는 제1배출공(301)과, 제2배출공(302)이 형성되어 있다. 상기 제1배출공(301)은 상기 제1소스가스 확산공간(32)과 연결되도록 다수 배치되어 있다. 따라서, 상기 제1소스가스 확산공간(32)에서 확산된 상기 제1소스가스는 상기 제1배출공(301)들을 통해서 하방으로 분사되게 된다. 상기 제2배출공(302)은 상기 각 접촉부(31)에 관통 형성되어 있다. 상기 제2배출공(302)들은 상기 제1배출공(301)들과 상호 격리되게 형성되어 있다. 상기 제2배출공(302)은 상기 제2관통공(202)과 연결되어 있다. 따라서, 상기 제2소스가스 확산공간(22)에서 확산된 상기 제2소스가스는 상기 제2관통공(202)들과 제2배출공(302)들을 통해서 하방으로 분사되게 된다.
상기 탑 플레이트(10)와, 미드 플레이트(20)와, 엔드 플레이트(30)는 그 테두리부에 나사 결합되는 다수의 볼트(B)에 의해 상호 결합되어 있다.
상기 고정수단은 상기 탑 플레이트의 유로부(11)를 상기 미드 플레이트(20)에 고정시킨다. 상기 고정수단은 슬리브(71)와, 부싱(72)과, 볼트(73)와, 플러그(74)를 구비한다.
상기 슬리브(71)는 금속성 소재, 예를 들어 니켈 계열의 하스텔로이(hastelloy)로 이루어져 있으며, 양측이 개방된 중공 형상으로 이루어져 있다. 상기 슬리브(71)는 상기 탑 플레이트의 유로부의 결합공(113)들에 각각 삽입되도록 한 쌍이 마련되어 있다. 그리고, 상기 각 슬리브(71)는 상기 제2소스가스 확산공간(22)이 밀폐되도록 상기 탑 플레이트의 유로부(11)에 삽입되어 있다. 본 실시예에 있어서, 상기 각 슬리브(71)의 바닥면의 둘레는 도 7에 도시되어 있는 바와 같이 상기 유로부의 각 결합공(113)의 하단 둘레와 용접되어 있다. 도 7에 도시된 참조부호 "A"는 용접부를 지시한다. 이와 같이 상기 각 슬리브(71)의 바닥면 둘레가 용접되면, 상기 제2소스가스 확산공간(22)에서 확산된 상기 제2소스가스가 상기 각 슬리브(71)의 외주면과 상기 각 결합공(113)의 내주면 사이의 미세한 틈새를 통해서 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있게 된다.
상기 부싱(72)은 상기 각 슬리브(71)에 용접 등의 방법에 의해 결합되도록 한 쌍이 마련되어 있다. 상기 각 부싱(72)에는 상기 슬리브(71)와 통하며 양측으로 개방된 공간부(721)가 형성되어 있다. 상기 각 부싱(72)은 상기 슬리브(71)와 동일한 소재, 예를 들어 니켈 계열의 하스텔로이(hastelloy)로 이루어지는 것이 바람직하다.
상기 볼트(72)는 상기 각 슬리브(71)를 관통하여 상기 미드 플레이트의 각 결합 돌출부(23)에 까지 나사 결합되도록 한 쌍이 마련되어 있다. 본 실시예에 있어서, 상기 각 볼트(72)는 상기 미드 플레이트(20)를 관통하지 않도록 결합되어 있다.
상기 플러그(74)는 상기 부싱의 공간부(721)에 대응되는 형상으로 이루어져 있다. 상기 플러그(74)는 한 쌍이 마련되어 있으며, 상기 각 플러그(74)는 상기 각 부싱의 공간부(721)에 끼워진다. 상기 각 플러그(74)는 니켈 계열의 하스텔로이(hastelloy) 등과 같은 금속성 소재로 이루어져 있다. 이와 같이, 상기 플러그(74)가 상기 부싱의 공간부(721)에 끼워짐으로써, 상기 제2소스가스 확산공간에서 확산된 상기 제2소스가스가 상기 볼트(72)의 외주면과 상기 슬리브(71)의 내주면 사이의 미세한 틈새를 통해서 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있게 된다.
상술한 바와 같이 구성된 박막증착용 샤워헤드(100)에 있어서는, 제1공급유로(111)를 통해서 공급되는 제1소스가스는 미드 플레이트의 제1관통공(201)을 통해서 제1소스가스 확산공간(32)으로 유입되어 그 제1소스가스 확산공간(32)에서 확산된 후에, 엔드 플레이트의 제1배출공(301)들을 통해서 하방으로 분사되게 되다. 그리고, 제2공급유로(112)를 통해서 공급되는 제2소스가스는 제2소스가스 확산공간(22)으로 유입되어 그 제2소스가스 확산공간(22)에서 확산된 후에, 미드 플레이트의 제2관통공(202)들과 엔드 플레이트의 제2배출공(302)들을 통해서 하방으로 분사되게 된다. 상술한 바와 같이 제1소스가스와 제2소스가스가 하방으로 번갈아가면서 분사됨으로써, 샤워헤드(100)의 하방에 배치되는 웨이퍼(W)에 박막이 형성되게 된다.
한편, 상술한 박막증착 과정에서는, 제1소스가스 및 제2소스가스가 기체 상태로 분사되도록, 히팅부재(40)에 의해 탑 플레이트가 고온, 예를 들어 400℃ 이상까지 가열된다. 그리고, 이와 같은 고온 상태에서 탑 플레이트(10)에 변형이 유발되는 경우에 있어서도, 본 실시예에 있어서는 종래와 달리 탑 플레이트의 유로부(11)가 한 쌍의 볼트(73)에 의해 미드 플레이트(20)에 고정되어 있으므로, 탑 플레이트(10)와 게스켓(60)이 밀착 결합되게 된다. 따라서, 제1공급유로(111)와 제1관통공(201)이 주위와 밀폐되게 서로 연결되게 되며, 이에 따라 종래와 달리 비록 탑 플레이트(10)가 가열되는 경우에도 탑 플레이트의 제1공급유로(111)를 통해서 공급되는 제1소스가스가 제2소스가스 확산공간(22)으로 확산되게 현상을 방지할 수 있게 된다. 이와 같이 제1소스가스가 제2소스가스 확산공간(22)으로 확산되는 현상을 방지되게 되어, 제1소스가스 및 제2소스가스는 서로 섞이지 않고 분사 가능 하게 되며, 이에 따라 웨이퍼(W)에 원하는 조성의 박막을 증착할 수 있게 된다.
또한, 본 실시예에 있어서는, 각 슬리브(71)의 바닥면 둘레가 도 7에 도시되어 있는 바와 같이 용접되어 있으므로, 제2소스가스 확산공간(22)에서 확산된 제2소스가스가 각 슬리브(71)의 외주면과 각 결합공(113)의 내주면 사이의 미세한 틈새를 통해서 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있게 된다. 더불어, 각 부싱의 공간부(721)에 플러그(74)가 삽입되어 있으므로, 제2소스가스 확산공간(22)에서 확산된 제2소스가스가 각 볼트(72)와 슬리브(71) 사이의 미세한 틈새를 통해서 외부로 누설되는 현상을 방지할 수 있게 된다.
한편, 본 실시예에 있어서는 고정수단이 슬리브와, 부싱과, 볼트와, 플러그 를 포함하도록 구성되어 있으나, 고정수단이 볼트만을 구비하도록 구성할 수 있다. 즉, 도 8에 도시되어 있는 바와 같이 본 발명의 다른 실시예에 따른 박막증착용 샤워헤드(100a)에 있어서는, 탑 플레이트의 유로부(11)와 미드 플레이트의 결합 돌출부(23)에 각각 한 쌍의 나사공(113a)이 형성되어 있으며 각 나사공(113a)에 볼트(72)가 나사결합됨으로써 탑 플레이트의 유로부(11)가 미드 플레이트(20)에 고정되게 된다. 따라서, 비록 탑 플레이트(10)가 히팅부재(40)에 의해 가열되는 경우에 있어서도 종래와 달리 제1공급유로(111)와 제1관통공(201)이 주위와 밀폐되게 서로 연결되게 되므로, 탑 플레이트의 제1공급유로(111)를 통해서 공급되는 제1소스가스가 제2소스가스 확산공간(22)으로 확산되게 현상을 방지할 수 있게 된다. 또한, 볼트의 머리(731) 둘레가 도 9에 도시되어 있는 바와 같이 나사공(113a)의 상측 주위와 용접되어 있으므로, 제2소스가스 확산공간(22)이 밀폐되게 형성된다. 도 9에 도시된 참조부호 "A"는 용접부를 지시한다. 따라서, 제2소스가스 확산공간(22)에서 확산된 제2소스가스가 볼트(73)와 나사공(113a) 사이의 미세한 틈새를 통해서 외부로 유출되는 것을 방지할 수 있게 된다.
이상, 본 발명을 바람직한 실시예들을 들어 상세하게 설명하였으나, 본 발명은 상기 실시예들에 한정되지 않으며, 본 발명의 기술적 사상 내에서 당 분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의하여 여러 가지 많은 변형이 가능함은 명백하다.
예를 들어, 본 발명의 일 실시예에 있어서는 한 쌍의 슬리브와 부싱과 볼트와 플러그가 구비되는 것으로 구성되어 있으나, 슬리브, 부싱, 볼트 및 플러그의 갯수가 이에 한정되는 것은 아니다.
또한, 본 발명의 일 실시예에 있어서는 고정수단이 슬리브, 부싱, 볼트 및 플러그를 포함하도록 구성되어 있으나, 고정수단이 슬리브와 볼트만을 포함하도록 구성할 수도 있다. 이와 같이, 고정수단으로서 슬리브와 볼트만이 구비된 경우에는, 슬리브를 탑 플레이트의 유로부에 삽입한 후 볼트를 슬리브를 관통하여 미드 플레이트의 결합 돌출부에 까지 나사결합시키고, 더불어 슬리브의 바닥면 둘레 및 볼트의 머리 둘레를 용접하여 구성할 수도 있다.
상기한 구성의 본 발명에 따르면, 제1소스가스 및 제2소스가스가 혼합되지 않고 각각 웨이퍼로 분사될 수 있게 되며, 이에 따라 웨이퍼에 원하는 조성을 가지는 박막을 형성시킬 수 있게 된다.
또한, 슬리브의 바닥면 둘레가 용접되어 있을 뿐만 아니라 부싱에 플러그가 삽입되어 있으므로, 제2소스가스 확산공간에서 확산된 제2소스가스가 슬리브와 결합공 사이의 미세한 틈새 또는 슬리브와 볼트 사이의 미세한 틈새를 통해서 외부로 누설되는 현상을 방지할 수 있게 된다.

Claims (9)

  1. 웨이퍼가 배치되는 리액터의 내부 공간에 상기 웨이퍼의 상방에 배치되며, 제1소스가스가 공급되는 제1공급유로와, 상기 제1공급유로와 상호 격리되게 형성되며 제2소스가스가 공급되는 제2공급유로가 형성된 유로부를 가지는 탑 플레이트;
    상기 탑 플레이트의 하방에 배치되며, 상기 탑 플레이트와의 사이에 상기 제2공급유로와 통하며 상기 제2공급유로를 통해 유입된 상기 제2소스가스가 확산되는 공간인 제2소스가스 확산공간이 밀폐되게 형성되며, 상기 제1공급유로와 통하는 제1관통공과, 상기 제1관통공과 격리되게 배치되며 상기 제2소스가스 확산공간과 통하도록 형성된 다수의 제2관통공을 가지는 미드 플레이트;
    상기 미드 플레이트의 하방에 배치되며, 상기 미드 플레이트와의 사이에 상기 제1관통공과 통하며 상기 제1관통공을 통해 유입된 상기 제1소스가스가 확산되는 공간인 제1소스가스 확산공간이 밀폐되게 형성되며, 상기 제1소스가스 확산공간과 연결되는 다수의 제1배출공과, 상기 제2관통공들 각각과 통하도록 상기 제2관통공들 각각과 대응되는 위치에 형성되며 상기 제1배출공과 격리되게 배치되어 있는 다수의 제2배출공을 가지는 엔드 플레이트; 및
    상기 탑 플레이트의 유로부를 상기 미드 플레이트에 고정시키는 고정수단;을 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 고정수단은 상기 탑 플레이트의 유로부를 관통하며 상기 미드 플레이트에까지 나사 결합되는 볼트를 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  3. 제 1항에 있어서,
    상기 볼트는 상기 제2소스가스 확산공간이 밀폐되도록 상기 탑 플레이트의 유로부에 결합되는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 고정수단은 상기 탑 플레이트의 유로부에 삽입되며 상기 볼트가 관통 결합되는 슬리브를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  5. 제 4항에 있어서,
    상기 슬리브는 금속성 소재로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  6. 제 4항에 있어서,
    상기 슬리브는 상기 제2소스가스 확산공간이 밀폐되도록 상기 탑 플레이트의 유로부에 삽입되어 있는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  7. 제 4항에 있어서,
    상기 고정수단은 상기 슬리브의 내부공간과 통하며 양측이 개방된 공간부를 가지며 상기 슬리브에 결합되는 부싱과, 상기 부싱의 공간부에 끼워지는 플러그를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  8. 제 7항에 있어서,
    상기 부싱과 플러그는 각각 금속성 소재로 이루어져 있는 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
  9. 제 5항 또는 제 8항에 있어서,
    상기 금속성 소재는 니켈 계열의 하스텔로이(hastelloy)인 것을 특징으로 하는 박막증착용 샤워헤드.
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