KR20070105523A - Apparatus for inspecting glass substrate - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 종래의 기판 검사 장치의 구성을 설명하는 개략도이다. 1 is a schematic diagram illustrating a configuration of a conventional substrate inspection apparatus.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치의 구성을 설명하는 개략도이다. 2 is a schematic view illustrating a configuration of a substrate inspection apparatus according to an embodiment of the present invention.
도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 기판 검사 장치의 변형예를 도시하는 개략도이다. 3 is a schematic view showing a modification of the substrate inspection apparatus according to the embodiment of the present invention.
도 4는 도 3의 기판 검사 장치에 의한 조사 형상을 도시하는 도면이다. It is a figure which shows the irradiation shape by the board | substrate inspection apparatus of FIG.
< 도면의 주요부에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>
10, 110 : 광원부 20, 120 : 반사부10, 110:
30, 130 : 집광부 40, 140 : 산란부30, 130:
50 : 기판 60 : 검사자50: substrate 60: inspector
150 : 렌즈부150: lens unit
본 발명은 LCD 기판의 결함을 검사하기 위한 기판 검사 장치에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 광원부와 반사부 사이에 빛의 조사 면적과 조도를 조절할 수 있는 렌즈부를 더 구비하여 다양한 결함 검사에 대응할 수 있는 기판 검사 장치에 관한 것이다. The present invention relates to a substrate inspection apparatus for inspecting defects of an LCD substrate, and more particularly, further includes a lens unit capable of adjusting an irradiation area and illuminance of light between a light source unit and a reflector to cope with various defect inspections. It relates to a substrate inspection device.
일반적으로 반도체 웨이퍼나 LCD, PDP, EL 등의 대형 기판을 생산할 때 기판에 남아 있는 이물이나 얼룩 등의 결함을 발견하기 위하여 목시검사, 즉 육안으로결함을 검사한다. 이때, 결함의 발견을 용이하게 하기 위하여 기판 전체를 균일하게 조명하는 조명장치가 사용된다.In general, when producing large sized substrates such as semiconductor wafers, LCDs, PDPs, and ELs, visual inspection, that is, visual inspection, is performed to detect defects such as foreign substances or stains remaining on the substrates. At this time, an illumination device for uniformly illuminating the entire substrate is used to facilitate the detection of defects.
종래, LCD 기판의 결함 검사에는 도 1에 나타낸 바와 같은 조명장치가 이용되고 있었다. 즉, 광원부(10)로부터의 빛이 반사부(20)에서 반사되어 집광부(30)와 산란부(40)를 투과한 후, 검사대상 기판(50)에 조사된다. 그리고 상기 기판(50)에 의하여 반사된 빛은 검사자(60) 부근으로 향하게 되고, 검사자는 그 반사된 빛을 관찰함으로써 상기 기판(50)의 결함여부를 검사하게 되는 것이다. 즉, 결함이 없는 기판 표면에서 반사되는 빛과 결함에서 반사되는 빛의 강도 및 반사각의 차이에 의해 기판의 결함여부를 확인하는 육안 검사가 행해지는 것이다. Conventionally, the illumination device as shown in FIG. 1 was used for defect inspection of an LCD substrate. That is, the light from the
이때 상기 반사부(20)는 광원부(10)에서 출발한 빛의 경로를 집광부(30) 쪽으로 변화시키기 위하여 사용되는 것이다. 이 반사부(20)는 그 각도를 조정할 수 있도록 미동가능하게 마련된다. 또한 상기 집광부(30)는 빛을 집광하여, 산란광을 직진광으로 만들기 위한 구성요소이며, 일반적으로 이 집광부(30)는 프레넬 렌즈(fresnel lens)로 구성된다. 한편 상기 산란부(40)는 집광부(30)를 통과한 빛을 산란시켜 부드러운 빛이 발생하도록 하는 도구이다. 특히 상기 산란부(140)는 액정산 란판으로 구비되는데 상기 액정산란판은 전압인가 여부에 따라 투명과 불투명 상태로 변화되기 때문에, 상기 액정산란판을 통과하는 빛을 수렴광 또는 산란광으로 전환 가능하게 한다. At this time, the reflecting
그런데 이러한 종래의 기판 검사 장치에서는 광원부와 집광부 사이의 거리가, 장비의 높이 및 클린룸 여건상, 고정되는 구조를 가진다. 따라서 기판 상에 조사되는 빛의 조사 면적과 조도 역시 고정되어 기판상의 다양한 결함을 검사하지 못하는 문제점이 있다. By the way, in the conventional board | substrate inspection apparatus, the distance between a light source part and a light condensing part has a structure in which the height of an equipment and a clean room condition are fixed. Therefore, the irradiation area and illuminance of the light irradiated on the substrate is also fixed, there is a problem that can not inspect the various defects on the substrate.
본 발명의 목적은 광원부와 반사부 사이에 빛의 조사면적과 조도를 조절할 수 있는 렌즈부를 더 구비하여 다양한 결함의 검사가 가능한 기판 검사 장치를 제공함에 있다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a substrate inspection apparatus capable of inspecting various defects by further including a lens unit capable of adjusting an irradiation area and illuminance of light between a light source unit and a reflecting unit.
전술한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은, 기판의 표면 검사에 사용되는 빛을 최초로 조사하는 광원부; 상기 광원부로부터 조사되는 빛의 경로를 검사 대상 기판이 위치된 방향으로 변경시키는 반사부; 상기 반사부로부터 반사되는 빛을 집광시키는 집광부; 상기 집광부와 인접한 위치에 평행하게 설치되며, 상기 집광부를 통과한 빛을 산란시키는 산란부; 상기 광원부와 반사부 사이에 배치되며, 상기 광원부에서 조사되는 빛의 조사면적과 조도를 조절하는 렌즈부;를 포함하여 구성되는 기판 검사 장치를 제공한다.In order to achieve the above object, the present invention, the light source unit for first irradiating the light used for the surface inspection of the substrate; A reflector for changing a path of light irradiated from the light source to a direction in which a test target substrate is located; A light condenser condensing light reflected from the reflector; A scattering unit disposed in parallel with the light collecting unit and scattering light passing through the light collecting unit; And a lens unit disposed between the light source unit and the reflecting unit, and configured to adjust an irradiation area and illuminance of light emitted from the light source unit.
이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 구체적인 일 실시예를 상세하게 설명한다. Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a specific embodiment of the present invention.
본 실시예에 따른 기판 검사 장치는 도 2에 도시된 바와 같이, 광원부(110); 반사부(120); 집광부(130); 산란부(140); 렌즈부(150);를 포함하여 구성된다. 여기에서 광원부(110), 반사부(120), 집광부(130), 산란부(140)는 종래의 그것과 동일한 구조 및 기능을 가지므로 반복하여 설명하지 않는다. Substrate inspection apparatus according to the present embodiment, as shown in Figure 2, the
한편 본 실시예에 따른 렌즈부(150)는, 상기 광원부(110)와 반사부(120) 사이에 배치되며, 상기 광원부(110)에서 조사되는 빛의 조사면적과 조도를 조절하는 구성요소이다. On the other hand, the
본 실시예에서는 이 렌즈부(150)를 2가지 형식으로 구성한다. 먼저, 도 2에 도시된 바와 같이, 렌즈부(150)가 광경로 상에 삽입되거나 제거될 수 있는 방식으로 구성한다. 이 경우에는 상기 렌즈부(150)가 렌즈 수용부와 렌즈 삽입/제거부로 구성되는 것이 바람직하다. 여기에서 렌즈 수용부는, 일정한 렌즈를 수용하고, 상기 광원부에서 조사되는 빛의 광경로 상에서 그 빛의 조사 면적과 조도를 조절하는 구성요소이다. 즉, 일정한 형상의 렌즈를 수용하면서 렌즈를 보호하는 구성요소이다. 그리고 상기 렌즈 삽입/제거부는, 상기 렌즈 수용부를 상기 광경로에 수직되는 방향으로 이동시켜, 상기 렌즈를 광경로 상에 삽입하고, 제거하는 구성요소이다. 즉, 이 렌즈 삽입/제거부가 상기 렌즈 수용부와 결합하여 상기 렌즈 수용부를 광경로 상에 삽입하거나 제거하는 것이다. 물론 이 렌즈 삽입/제거부가 렌즈 수용부의 중개 없이 렌즈와 직접 결합할 수도 있다. In the present embodiment, the
한편 상기 렌즈 수용부에는 다양한 렌즈가 구비되는 것이 바람직하다. 이때 다양한 렌즈는 다양한 초점거리를 가지는 것으로서, 이렇게 다양한 렌즈를 구비하는 것은, 광경로 상에 다양한 렌즈를 삽입하여 매우 다양한 조사 면적과 조도를 얻어서 기판상의 다양한 결함의 검사에 대응할 수 있는 장점이 있다. On the other hand, the lens receiving portion is preferably provided with a variety of lenses. In this case, the various lenses have various focal lengths, and having such various lenses has an advantage of being able to cope with inspection of various defects on a substrate by inserting various lenses on an optical path to obtain a very different irradiation area and illuminance.
한편 본 실시예에 따른 렌즈부(150)를, 도 3에 도시된 바와 같이, 광경로 상에서 렌즈를 이동시키는 방식으로 구성할 수도 있다. 이 경우에는 상기 렌즈부(150)가 렌즈 수용부 및 렌즈 이동부로 구성되는 것이 바람직하다. 여기에서 렌즈 수용부는 전술한 바와 마찬가지로, 일정한 렌즈를 수용하고, 상기 광원부에서 조사되는 빛의 광경로 상에서 그 빛의 조사 면적과 조도를 조절하는 구성요소이다. 그리고 렌즈 이동부는, 상기 렌즈 수용부를 상기 광경로와 일치되는 방향으로 이동시키는 구성오소이다. 이 렌즈 이동부는 동일한 렌즈를 광원에서 조사되는 빛의 광경로 상에서 이동시킴으로써, 다양한 조사 면적 및 조도를 얻을 수 있도록 한다. Meanwhile, as shown in FIG. 3, the
즉, 렌즈부가 도 3에 도시된 바와 같이, a의 위치에 존재하는 경우에는 도 4에 도시된 바와 같이, 조사면적이 넓으며, 조도는 약간 떨어진다. 그리고 렌즈부가 b의 위치에 존재하는 경우에는 도 4에 도시된 바와 같이, 조사면적이 좁아지며, 조도는 높아진다. That is, when the lens portion is present in the position of a, as shown in Fig. 3, as shown in Fig. 4, the irradiation area is wide, the roughness is slightly dropped. When the lens portion is present at the position b, as shown in Fig. 4, the irradiation area is narrowed and the illuminance is increased.
따라서 이러한 경우에는 하나의 렌즈로 다양한 조사면적 및 조도를 얻을 수 있는 장점이 있다. 즉, 다수개의 렌즈를 구비하지 않고, 한편 광원부와 집광부 사 이의 거리를 조절하지도 않으면서 다양한 조사면적 및 조도를 얻는 것이다. Therefore, in such a case, there is an advantage that various irradiation areas and illuminance can be obtained with one lens. That is, it is possible to obtain various irradiation areas and illuminances without providing a plurality of lenses and adjusting the distance between the light source unit and the light collecting unit.
물론 전술한 2가지 방식을 조합하여 렌즈 이동부와 렌즈 삽입/제거부가 동시에 구비되는 방식으로 렌즈부를 구성할 수도 있다. Of course, the lens unit may be configured in such a manner that the lens shift unit and the lens insertion / removal unit are simultaneously provided by combining the above two methods.
본 발명에 따르면, 광원부와 반사부 사이에 빛의 조사면적과 조도를 조절할 수 있는 렌즈부를 더 구비하여 다양한 결함의 검사가 가능한 장점이 있다. According to the present invention, there is provided an additional lens unit for adjusting the irradiation area and illuminance of the light between the light source unit and the reflecting unit, which is advantageous in that inspection of various defects is possible.
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