KR20070099203A - Glass cassette for etching system for tft lcd glass and etching system employed with the cassette - Google Patents

Glass cassette for etching system for tft lcd glass and etching system employed with the cassette Download PDF

Info

Publication number
KR20070099203A
KR20070099203A KR1020060030284A KR20060030284A KR20070099203A KR 20070099203 A KR20070099203 A KR 20070099203A KR 1020060030284 A KR1020060030284 A KR 1020060030284A KR 20060030284 A KR20060030284 A KR 20060030284A KR 20070099203 A KR20070099203 A KR 20070099203A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
glass
cassette
etching apparatus
etching
tft lcd
Prior art date
Application number
KR1020060030284A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
노승민
Original Assignee
(주)에스티아이
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by (주)에스티아이 filed Critical (주)에스티아이
Priority to KR1020060030284A priority Critical patent/KR20070099203A/en
Priority to TW095118758A priority patent/TWI310220B/en
Publication of KR20070099203A publication Critical patent/KR20070099203A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02FOPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D67/00Processes specially adapted for manufacturing semi-permeable membranes for separation processes or apparatus
    • B01D67/0002Organic membrane manufacture
    • B01D67/0023Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes
    • B01D67/0032Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes by elimination of segments of the precursor, e.g. nucleation-track membranes, lithography or laser methods
    • B01D67/0034Organic membrane manufacture by inducing porosity into non porous precursor membranes by elimination of segments of the precursor, e.g. nucleation-track membranes, lithography or laser methods by micromachining techniques, e.g. using masking and etching steps, photolithography
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65HHANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL, e.g. SHEETS, WEBS, CABLES
    • B65H2301/00Handling processes for sheets or webs
    • B65H2301/40Type of handling process
    • B65H2301/42Piling, depiling, handling piles
    • B65H2301/422Handling piles, sets or stacks of articles
    • B65H2301/4225Handling piles, sets or stacks of articles in or on special supports
    • B65H2301/42254Boxes; Cassettes; Containers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Weting (AREA)

Abstract

A glass cassette used in the etching device of a TFT(Thin Film Transistor) LCD(Liquid Crystal Display) glass and the etching device including the same are provided to prevent non-uniformity of etching generated by the bending of a glass during operations and to prevent the damage of the glass caused by collision between neighboring glasses. Side walls(240) of four sides include a closed type to smooth up/down circulation of chemical solution within a cassette(200). At least one pair of side supports(210) are installed in the inside walls of the right/left of the cassette to insert and fix plural glasses. C-shaped grooves are formed in the side supports at regular intervals. A plurality of collision preventing members(230) are installed at regular intervals between the C-shaped grooves of the side supports to prevent collision between the neighboring glasses inserted into the cassette.

Description

TFT LCD용 글라스의 식각장치에 사용되는 글라스 카세트 및 이를 포함하는 식각장치{Glass Cassette for Etching System for TFT LCD Glass and Etching System Employed with the Cassette}Glass Cassette for Etching Device of TFT LCD for Glass and Etching Device Comprising the Same {Glass Cassette for Etching System for TFT LCD Glass and Etching System Employed with the Cassette}

제1도는 식각 장치에 사용되는 종래의 글라스 카세트(glass cassette)의 개략적인 사시도이다.1 is a schematic perspective view of a conventional glass cassette used in an etching apparatus.

제2도는 종래의 글라스 카세트에 사용되는 한 부품으로 좌우의 측부에서 글라스를 지지하기 위한 측부지지대(110)의 개략적인 사시도이다.2 is a schematic perspective view of the side support 110 for supporting the glass on the left and right sides as one component used in a conventional glass cassette.

제3도는 식각장치에 사용되는 본 발명에 따른 글라스 카세트의 개략적인 사시도이다.3 is a schematic perspective view of a glass cassette according to the present invention for use in an etching apparatus.

제4도는 본 발명에 따른 글라스 카세트에 사용되는 한 부품으로 좌우의 측부에서 글라스를 지지하기 위한 측부지지대(210)의 개략적인 사시도이다.4 is a schematic perspective view of the side support 210 for supporting the glass at the left and right sides as one component used in the glass cassette according to the present invention.

제5도는 본 발명에 따른 측부지지대(210)와 충돌방지부재(230)가 설치된 글라스 카세트의 개략적인 평면도이다.5 is a schematic plan view of the glass cassette in which the side support 210 and the collision preventing member 230 according to the present invention are installed.

제6도는 본 발명에 따른 글라스 카세트의 하부에 설치되는 하부지지대(220)의 두 구체예를 도시한 사시도이다.6 is a perspective view showing two specific examples of the lower support 220 is installed in the lower portion of the glass cassette according to the present invention.

제7도는 본 발명의 글라스 카세트(200)가 배스(900) 내에 위치하고, 그 하부 에 버블(bubble) 생성장치(400)와 미세한 버블을 생성하기 위한 다공판(500)이 설치된 개략적인 단면도이다.FIG. 7 is a schematic cross-sectional view in which the glass cassette 200 of the present invention is located in the bath 900, and a bubble generating device 400 and a porous plate 500 for generating fine bubbles are installed below.

제8도는 본 발명에 따른 버블생성장치(400)의 세 구체예를 도시한 평면도이다.8 is a plan view showing three specific examples of the bubble generating device 400 according to the present invention.

제9도는 본 발명에 따른 미세버블생성 다공판(500)의 구체예를 도시한 평면도이다. 9 is a plan view showing a specific example of the microbubble generating porous plate 500 according to the present invention.

제10도는 본 발명에 따른 식각장치에서 버블 및 식각액의 흐름을 개략적으로 도시한 도면이다.10 is a view schematically showing the flow of bubbles and etching liquid in the etching apparatus according to the present invention.

* 도면의 주요부호에 대한 간단한 설명 *Brief description of the main symbols in the drawing

100, 200: 글라스 카세트 110, 210: 측부지지대        100, 200: glass cassette 110, 210: side support

120, 220: 하부지지대 111: V자 홈        120, 220: lower support 111: V-shaped groove

150: 관통영역 211: C자 홈        150: through area 211: C-shaped groove

221: 합성수지 바(bar) 222: 완충부재        221: synthetic resin bar 222: buffer member

230: 충돌방지부재 240: 측면벽        230: collision preventing member 240: side wall

300: 글라스 400: 버블생성장치        300: glass 400: bubble generator

401: 파이프(pipe) 402, 501: 홀(hole)        401: pipe 402, 501: hole

500: 다공판 900: 배스(bath)        500: porous plate 900: bath

발명의 분야Field of invention

본 발명은 TFT LCD용 글라스를 식각하기 위한 식각장치에 관한 것이다. 보다 구체적으로 본 발명은 식각장치의 식각 배스(etching bath), 린스 배스(rinse bath) 또는 건조 배스 내부에 위치하여 다수의 글라스가 장착되는 글라스 카세트에 관한 것이다.The present invention relates to an etching apparatus for etching a glass for a TFT LCD. More specifically, the present invention relates to a glass cassette in which a plurality of glasses are mounted in an etching bath, a rinse bath, or a drying bath of an etching apparatus.

발명의 배경 Background of the Invention

TFT LCD용 글라스를 식각하기 위한 식각(에칭: etching) 장치는 본 출원인이 이미 개발하여 특허받은 기술이다(대한민국 특허 제10-218724호: 1996. 10. 30출원).An etching (etching) apparatus for etching a glass for a TFT LCD is a technology already developed and patented by the present applicant (Korean Patent No. 10-218724: filed on October 30, 1996).

상기 특허는 불화수소(HF) 용액을 이용하여 글라스를 식각하기 위하여 HF 식각 배스, 린스(QDR: Quick Dump Rinse) 배스, 및 건조 배스로 이루어지는 식각 장치에 관한 것으로, 식각 배스의 하부에 질소기체 버블(bubble)을 균일하게 생성할 수 있는 다공성의 버블판이 설치된다. 또한 각 배스 내에는 다수의 글라스가 삽입되어 지지되는 글라스 카세트가 구비된다. 즉 다수의 글라스를 카세트에 수직방향으로 일정한 간격을 유지하면서 삽입하고, 글라스가 삽입된 카세트를 각 배스에 삽입시켜 소정의 식각 공정을 행하게 된다.The patent relates to an etching apparatus comprising an HF etching bath, a rinse (QDR: Quick Dump Rinse) bath, and a dry bath for etching a glass using a hydrogen fluoride (HF) solution. A porous bubble plate capable of uniformly generating bubbles is installed. In addition, a glass cassette in which a plurality of glasses are inserted and supported is provided in each bath. That is, a plurality of glasses are inserted into the cassette while maintaining a constant interval in the vertical direction, and the cassette into which the glass is inserted is inserted into each bath to perform a predetermined etching process.

그런데 TFT LCD용 글라스의 기술이 발전함에 따라 글라스의 크기가 계속하여 증가하고 있다. 즉 1세대 글라스부터 시작하여 현재 5.5세대에 이를 만큼 글라스의 크기가 증가하고 있다.However, as the technology of TFT LCD glass develops, the size of glass continues to increase. In other words, the size of glass is increasing from the first generation glass to 5.5 generation.

종래의 식각장치로는 4세대의 한 예인 600×720 ㎜ 크기의 글라스를 처리하는데 큰 어려움이 없었다. 그러나 5세대 글라스의 한 예인 1100×1250 ㎜ 크기의 글라스에 접어들면서 상기와 같은 식각장치는 여러 가지 문제점이 발생하기 시작하였다. 물론 글라스의 크기가 커지면서 식각장치의 규모가 그에 비례하여 커져왔다. 특히 식각장치의 규모가 커지면서 글라스를 지지하는 카세트의 크기도 커지고 있다. 그런데 종래의 카세트로는 큰 사이즈의 글라스를 식각하기에 많은 문제점을 야기시켰다.Conventional etching apparatus has not had a great deal of difficulty in processing a glass size of 600 × 720 mm, an example of the fourth generation. However, the etching apparatus as described above has started to have various problems as it enters a glass of 1100 × 1250 mm, which is an example of the fifth generation glass. Of course, as the size of the glass has increased, the size of the etching apparatus has increased in proportion. In particular, as the size of the etching apparatus increases, the size of the cassette supporting the glass also increases. However, conventional cassettes have caused many problems in etching large sized glass.

글라스를 식각하는 작업은 글라스를 얼마만큼 균일하게 식각하고 그리고 글라스를 파손시키지 않고 식각하는 것이 중요하다. 즉 글라스의 크기가 커지면서 균일한 식각의 어려움, 작업 중에 발생하는 글라스의 휨 현상, 인접한 글라스 간의 충돌로 인한 파손 결함, 글라스 하중의 증가로 인한 파손 등이 중요한 문제로 등장한 것이다.Etching the glass is important to uniformly etch the glass and etch it without breaking the glass. That is, as the size of the glass increases, the difficulty of uniform etching, the warpage of the glass occurring during the work, the failure defect due to the collision between adjacent glass, the damage caused by the increase of the glass load appeared as an important problem.

본 발명자는 글라스의 크기가 커짐으로써 야기되는 상기와 같은 문제점을 해결하고자 우선 글라스 카세트의 구조를 개선하고 식각액이나 린스액을 균일하게 순환시켜 넓은 면적의 글라스를 균일하게 식각할 수 있는 버블생성장치를 포함한 배스의 구조를 개선하여 본 발명의 식각장치를 개발하기에 이른 것이다.The present inventors first improved the structure of the glass cassette in order to solve the above problems caused by the increase in the size of the glass and a bubble generating device that can uniformly etch the glass of a large area by uniformly circulating the etching liquid or rinse liquid It is to develop the etching apparatus of the present invention by improving the structure of the bath.

본 발명의 목적은 5세대 이상의 넓은 면적의 글라스를 식각하기 위한 글라스 카세트를 제공하기 위한 것이다.An object of the present invention is to provide a glass cassette for etching a glass of a large area of 5 generations or more.

본 발명의 다른 목적은 작업 중에 글라스가 휨으로써 발생하는 불균일한 식각을 예방할 수 있는 글라스 카세트를 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide a glass cassette capable of preventing the non-uniform etching caused by the bending of the glass during operation.

본 발명의 또 다른 목적은 인접한 글라스 간의 충돌로 인한 글라스의 파손을 예방할 수 있는 글라스 카세트를 제공하기 위한 것이다.Still another object of the present invention is to provide a glass cassette capable of preventing breakage of the glass due to collision between adjacent glasses.

본 발명의 또 다른 목적은 글라스 하중의 증가로 인한 글라스의 파손을 예방할 수 있는 글라스 카세트를 제공하기 위한 것이다.Still another object of the present invention is to provide a glass cassette capable of preventing breakage of glass due to an increase in glass load.

본 발명의 또 다른 목적은 본 발명에 따른 글라스 카세트를 포함하여 처리 용액을 균일하게 순환시켜 글라스를 균일하게 식각할 수 있는 버블생성장치를 구비한 식각장치를 제공하기 위한 것이다.Still another object of the present invention is to provide an etching apparatus having a bubble generating apparatus capable of uniformly circulating the treatment solution including the glass cassette according to the present invention to uniformly etch the glass.

본 발명의 상기 및 기타의 목적들은 모두 하기 설명되는 본 발명에 의하여 모두 달성될 수 있다.The above and other objects of the present invention can all be achieved by the present invention described below.

발명의 요약Summary of the Invention

본 발명의 TFT LCD용 글라스 식각장치에 사용되는 글라스 카세트는 4개의 측면이 개방형이 아닌 폐쇄형 구조의 측면벽(240)으로 이루어지고, 측부에서 카세트 본체에 고정되어 다수의 글라스(300)를 삽입 고정하도록 다수의 C자 홈(211)이 일정간격으로 형성된 측부지지대(210)가 좌우 측부에 1쌍 이상 설치되고, 인접한 글라스(300)간의 충돌을 방지하기 위하여 상부의 측부지지대(210)의 상기 C자 홈 사 이에 다수의 충돌방지부재(230)가 일정한 간격으로 설치되고, 하중의 증가로 인한 글라스의 파손을 방지하기 위하여 본체 하부 내부에 완충부재(222)가 구비된 하부지지대(220)가 설치되는 것을 그 특징으로 한다.The glass cassette used in the glass etching apparatus for the TFT LCD of the present invention has four side surfaces formed of a side wall 240 of a closed structure rather than an open type, and is fixed to the cassette body at the side to insert a plurality of glass 300. One or more pairs of side support parts 210 formed with a plurality of C-shaped grooves 211 at fixed intervals are fixed to the left and right sides, and the upper side support parts 210 of the upper side support parts 210 are formed to prevent collision between adjacent glass 300. A plurality of anti-collision members 230 are installed at regular intervals between the C-shaped grooves, and a lower support 220 having a cushioning member 222 is provided inside the lower part of the main body to prevent breakage of the glass due to an increase in load. It is characterized by being installed.

또한 본 발명의 식각장치는 상기 글라스 카세트를 이용하고 식각 배스 또는 린스 배스의 하부에 버블생성장치(400)가 설치되고, 그 버블생성장치 위에 다공판(500)이 설치된다.In addition, the etching apparatus of the present invention uses the glass cassette, the bubble generating device 400 is installed on the lower portion of the etching bath or rinse bath, the porous plate 500 is installed on the bubble generating device.

상기 버블생성장치는 배스(900)의 바닥면에 설치하지 않고 바닥면으로부터 일정한 간격(약 5㎝ 이상)을 유지시켜 카세트 내외부에서의 처리액과 버블의 흐름을 원활하게 하여 글라스를 균일하게 식각할 수 있다.The bubble growth value is not installed on the bottom surface of the bath 900 to maintain a predetermined interval (about 5 cm or more) from the bottom surface to smoothly flow the processing liquid and bubbles in and out of the cassette to uniformly etch the glass. Can be.

이하 첨부된 도면을 참고로 본 발명의 내용을 하기에 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail the contents of the present invention.

발명의 구체예에 대한 상세한 설명Detailed Description of the Invention

제1도는 식각 장치에 사용되는 종래의 글라스 카세트(glass cassette)의 개략적인 사시도이고, 제2도는 종래의 글라스 카세트에 사용되는 한 부품으로 좌우의 측부에서 글라스를 지지하기 위한 측부지지대(110)의 개략적인 사시도이다.FIG. 1 is a schematic perspective view of a conventional glass cassette used in an etching apparatus, and FIG. 2 is a part used for a conventional glass cassette. A schematic perspective view.

제1도에 도시된 바와 같이, 글라스 카세트(100)는 상부에서 하부쪽으로 다수의 글라스를 한 장씩 삽입하여 고정할 수 있도록 측부에 최소한 한 쌍의 측부지지대(110)가 조립된다. 제1도에는 상부에 한 쌍의 측부지지대가 조립된 카세트를 도시하고 있지만 그 하부쪽으로 한 쌍 이상의 측부지지대가 더 조립된다. 카세트에 삽입된 글라스는 하부에 설치된 복수개의 하부지지대(120)에 의하여 그 하중이 지 지된다. As shown in Figure 1, the glass cassette 100 is assembled with at least a pair of side support 110 on the side to be fixed by inserting a plurality of glass one by one from the top to the bottom. 1 shows a cassette in which a pair of side supports are assembled at the top, but more than one pair of side supports are further assembled to the bottom thereof. The glass inserted into the cassette is supported by a plurality of lower supporters 120 installed at the bottom thereof.

종래의 글라스 카세트는 측부지지대(110)가 다수의 글라스를 일정간격으로 지지하기 위하여 다수의 V자홈(111)이 일정간격으로 형성된다. 즉 하나의 V자홈에 한 장의 글라스가 수직방향으로 삽입되어 고정된다. 그런데 이 V자홈에 글라스의 단부가 삽입되면 삽입되는 단부 부분에서 균일하지 못한 식각이 일어난다. 본 발명에서는 이러한 결점을 해결하기 위하여 글라스의 양쪽 단부가 삽입되는 측부지지대의 홈을 개선하였다.In the conventional glass cassette, a plurality of V-shaped grooves 111 are formed at regular intervals so that the side support 110 supports a plurality of glasses at regular intervals. That is, one glass is inserted and fixed in the vertical direction in one V-shaped groove. However, when the end of the glass is inserted into this V-shaped groove, uneven etching occurs at the end portion to be inserted. In the present invention, to solve this drawback, the grooves of the side support into which both ends of the glass are inserted are improved.

또한 종래의 글라스 카세트는 4면의 측면벽이 모두 다수의 관통영역(150)을 갖는 개방형으로 이루어져 있다. 이러한 개방형 측면벽은 4세대 이하의 소형 글라스를 처리하는 데에는 큰 문제가 없었다. 하지만 5세대 이상의 대형 글라스를 처리하는 경우에는 식각액과 같은 유체의 흐름를 원활하게 하지 못하였고, 그 결과 식각의 불균일을 초래하였던 것이다. 본 발명에서는 4면의 측면벽을 종래의 개방형에서 폐쇄형으로 제작함으로써 카세트 내부에서는 유체가 상승하고 외부에서는 유체가 하강하도록 하여 유체의 흐름을 원활하게 하였다.In addition, the conventional glass cassette has an open type in which all four side walls have a plurality of through areas 150. Such open sidewalls have not been a major problem in dealing with small size glass below 4G. However, in the case of processing large glass of 5 generations or more, the flow of the fluid such as the etchant was not smoothed, and as a result, the etching was uneven. In the present invention, the side wall of the four sides is manufactured from the conventional open type to the closed type so that the fluid rises inside the cassette and the fluid descends outside, thereby smoothing the flow of the fluid.

종래의 글라스 카세트는 소형이기 때문에 글라스가 휘는 현상이 심각하지 않았으나 대형 글라스로 발전하면서 휨 현상은 심각한 문제를 야기시켰다. 즉 글라스가 휨으로써 인접한 글라스가 서로 충돌하는 현상이 발생하고, 그럼으로써 글라스가 파괴되거나 식각이 균일하지 못한 결과를 초래한 것이다. 본 발명에서는 이러한 충돌 현상도 방지할 수 있도록 고안되었다.Since the conventional glass cassette is small in size, the glass is not severely warped, but as the glass is developed into a large sized glass, the warpage phenomenon causes a serious problem. In other words, as the glass is bent, adjacent glass collides with each other, which causes the glass to be broken or the etching is not uniform. In the present invention, it is designed to prevent such a collision phenomenon.

종래의 글라스 카세트는 하부에 복수개의 하부지지대(120)가 설치되어 하부 에서 글라스를 지지해주는 역할을 하여 왔다. 하부지지대는 본체와 같이 고강도 플라스틱으로 제작되어 왔다. 그런데 글라스가 대형화하면서 글라스의 하단부가 하부지지대 위에 놓여질 때 글라스의 하중에 의하여 글라스의 하단부 모서리가 파손되는 경우가 발생하고 있다. 본 발명에서는 이러한 결점도 해결할 수 있도록 고안되었다. Conventional glass cassette has a plurality of lower supporters 120 are installed at the bottom to serve to support the glass from the bottom. The lower support has been made of high strength plastic as the body. By the way, when the glass is enlarged and the lower end of the glass is placed on the lower support, the lower edge of the glass is broken by the load of the glass. In the present invention, it is designed to solve such drawbacks.

제3도는 식각장치에 사용되는 본 발명에 따른 글라스 카세트의 개략적인 사시도이다. 제4도는 본 발명에 따른 글라스 카세트에 사용되는 한 부품으로 좌우의 측부에서 글라스를 지지하기 위한 측부지지대(210)의 개략적인 사시도이다. 측부지지대(210)의 홈이 종래의 V자홈에서 C자홈(211)으로 고안된 것이다. 본 발명의 C자홈은 글라스의 모서리가 삽입되는 입구를 좁게 하고, 홈의 안쪽을 넓게 설계함으로써 식각액의 흐름 저항을 최소화하도록 한 것이다. 식각액의 흐름저항을 최소화함으로써 모서리 부에서 나타나는 식각의 불균일 문제를 해소한 것이다. 3 is a schematic perspective view of a glass cassette according to the present invention for use in an etching apparatus. 4 is a schematic perspective view of the side support 210 for supporting the glass at the left and right sides as one component used in the glass cassette according to the present invention. The groove of the side support 210 is designed as a C-shaped groove 211 in the conventional V-shaped groove. The C-shaped groove of the present invention narrows the inlet into which the edge of the glass is inserted, thereby minimizing the flow resistance of the etchant by designing the wide side of the groove. By minimizing the flow resistance of the etchant, it solves the problem of non-uniformity of etching.

제3도에 도시된 바와 같이, 본 발명에서는 4면의 측면벽을 종래의 개방형에서 폐쇄형으로 제작함으로써 카세트 내부에서는 유체가 상승하고 외부에서는 유체가 하강하도록 하여 유체의 흐름을 원활하게 하였다. 식각액과 같은 유체의 흐름을 원활하게 함으로써 유체의 흐름으로 인한 식각의 불균일 문제를 해소할 수 있다. As shown in FIG. 3, in the present invention, four side walls are manufactured from a conventional open type to a closed type so that fluid flows up inside the cassette and fluid flows down outside. By smoothing the flow of the fluid, such as the etchant, it is possible to solve the non-uniformity of the etching caused by the flow of the fluid.

대형 글라스로 발전하면서 카세트 내에서 휨 현상이 발생하고, 글라스가 휨으로써 인접한 글라스가 서로 충돌하는 현상이 발생하고, 그럼으로써 글라스가 파괴되거나 식각이 균일하지 못한 결과를 초래하였는데, 본 발명에서는 이러한 충돌 현상도 방지할 수 있도록 카세트 상부에 다수의 충돌방지부재(230)를 일정한 간격 으로 설치하였다. 제5도는 본 발명에 따른 측부지지대(210)와 충돌방지부재(230)가 설치된 글라스 카세트의 개략적인 평면도이다.As the glass is developed into a large glass, warpage occurs in the cassette, and the glass bends, causing adjacent glass to collide with each other, thereby causing the glass to be broken or etching not uniform. In order to prevent the phenomenon, a plurality of anti-collision members 230 were installed at regular intervals on the cassette. 5 is a schematic plan view of the glass cassette in which the side support 210 and the collision preventing member 230 according to the present invention are installed.

제5도에 도시된 바와 같이, 각각의 C자홈(211)에 한 장의 글라스가 삽입되고 그 사이에 인접하는 글라스가 서로 충돌하지 않도록 충돌방지부재(230)를 일정간격으로 설치한다. 충돌방지부재는 카세트 본체와 같은 또는 다른 재질의 플라스틱으로 제작될 수 있으며, 각각의 충돌방지무재는 나사(도시되지 않음)로써 측부지지대(210)에 조립된다. As shown in FIG. 5, a piece of glass is inserted into each C-shaped groove 211, and the collision preventing member 230 is installed at regular intervals so that adjacent glass does not collide with each other. The anti-collision member may be made of plastic of the same or different material as the cassette body, and each anti-collision material is assembled to the side support 210 with screws (not shown).

종래의 하부지지대(120) 본체와 같이 고강도 플라스틱으로 제작되어 왔는데 글라스가 대형화하면서 글라스의 하단부가 하부지지대 위에 놓여질 때 글라스의 하중에 의하여 글라스의 하단부 모서리가 파손되는 경우가 발생하고 있다. 이 결점을 해결하기 위하여 본 발명에서는 하부지지대가 완충성을 갖도록 고안되었다. 제6도는 본 발명에 따른 글라스 카세트의 하부에 설치되는 하부지지대(220)의 두 구체예를 도시한 사시도이다.Conventional lower support 120 has been made of high-strength plastic, such as the main body, but when the lower end of the glass is placed on the lower support while the glass is enlarged, there is a case that the lower edge of the glass is damaged by the load of the glass. In order to solve this drawback, the lower support is designed to have a buffer. 6 is a perspective view showing two specific examples of the lower support 220 is installed in the lower portion of the glass cassette according to the present invention.

제6(A)도는 종래의 고강도 플라스틱으로 제작된 합성수지 바(bar)(221)의 상단부 즉 글라스의 모서리가 닿는 부위에 탄성을 갖는 완충부재(222)가 결합된 하부지지대(220)를 도시한다. 완충부재는 탄성을 갖는 고무부재가 바람직하게 사용될 수 있는 것으로 이는 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자에 의하여 용이하게 실시될 수 있다. 제6(B)도는 종래의 고강도 플라스틱으로 제작된 합성수지 바(bar)(221)의 외부 전체에 탄성을 갖는 완충부재(222) 층을 코팅한 구조의 하부지지대(220)를 도시한다.FIG. 6 (A) shows the lower support 220 to which the shock absorbing member 222 having elasticity is coupled to the upper end portion of the synthetic resin bar 221 made of a conventional high strength plastic, that is, the area where the edge of the glass touches. . The cushioning member may be preferably a rubber member having elasticity, which can be easily implemented by those skilled in the art. FIG. 6 (B) shows the lower supporter 220 having a structure in which a buffer layer 222 having elasticity is coated on the entire exterior of the synthetic resin bar 221 made of a conventional high strength plastic.

제7도는 본 발명의 글라스 카세트(200)가 배스(900) 내에 위치하고, 그 하부에 버블(bubble) 생성장치(400)와 미세한 버블을 생성하기 위한 다공판(500)이 설치된 개략적인 단면도이다. 배스(900) 내에서 버블(bubble) 생성장치(400)에 의하여 버블을 생성시키고, 글라스의 균일한 식각을 위하여 이 버블을 다시 미세한 버블로 만들기 위한 다공판(500)이 설치된다. FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of the glass cassette 200 of the present invention located in the bath 900 and having a bubble generating device 400 and a porous plate 500 for generating fine bubbles therein. In the bath 900, a bubble is generated by the bubble generating device 400, and a porous plate 500 is installed to make the bubble into fine bubbles for uniform etching of the glass.

제8도는 본 발명에 따른 버블생성장치(400)의 세 구체예를 도시한 평면도이다. 버블생성장치는 제8도에 도시된 바와 같이 버블을 배출하기 위한 다수의 홀(hole)(402)이 형성된 파이프(401)가 일정간격으로 다수 배열되는 구조로 이루어진다. 전체 식각배스의 균일한 버블생성을 위하여 버블생성장치에 각각의 독립된 버블블록 다기관(manifold) 방식이 채용될 수도 있고, 균일한 버블을 위한 버블 파이프의 홀(402) 간격을 제8도와 같이 상이하게 설계할 수도 있다. 8 is a plan view showing three specific examples of the bubble generating device 400 according to the present invention. As shown in FIG. 8, the bubble live growth value has a structure in which a plurality of pipes 401 having a plurality of holes 402 for discharging bubbles are arranged at regular intervals. Independent bubble block manifolds may be employed in the bubble generator for uniform bubble generation of the entire etch bath, and the spacing of holes 402 of the bubble pipe for uniform bubbles may be different as shown in FIG. You can also design.

제9도는 본 발명에 따른 미세버블생성 다공판(500)의 세 구체예를 도시한 평면도이다. 제9도에 도시된 바와 같이, 다공판(500)의 홀(501) 배열을 상이하게 하거나 홀 사이즈를 변형하여 미세버블을 생성할 수 있도록 하였다. 즉 상기 다공판은 중앙부에서 외곽부로 갈수록 통공의 크기가 축소되도록 배열하거나, 행과 열을 맞추어 정렬하지 않고 서로 위치가 대각선 방향으로 교차되도록 배열할 수 있다. 또한 상기 버블파이프도 버블이 방출되는 통공간의 간격을 2 종류 이상으로 하여 규칙적으로 배열하거나, 상기 버블파이프의 통공을 행과 열을 맞추어 정렬하지 않고 서로 위치가 대각선 방향으로 교차되도록 배열할 수 있다. 9 is a plan view showing three specific examples of the microbubble generating porous plate 500 according to the present invention. As illustrated in FIG. 9, the arrangement of the holes 501 of the porous plate 500 may be made different or the size of the holes may be modified to generate microbubbles. That is, the perforated plate may be arranged to reduce the size of the through hole from the center to the outer portion, or may be arranged so that the positions cross each other diagonally without aligning the rows and columns. In addition, the bubble pipes may be regularly arranged with two or more types of spaces in which the bubbles are discharged, or may be arranged so that the positions of the bubble pipes cross each other diagonally without aligning rows and columns. .

제10도는 본 발명에 따른 식각장치에서 버블 및 식각액의 흐름을 개략적으로 도시한 개략적인 모형도로서, 4면의 측면벽을 종래의 개방형에서 폐쇄형으로 제작함으로써 카세트 내부에서는 유체가 상승하고 외부에서는 유체가 하강하도록 하여 유체의 흐름을 원활하게 하였다. 또한 버블생성장치를 배스(900)의 바닥면에 설치하지 않고 바닥면으로부터 일정한 간격(약 5㎝ 이상)을 유지하도록 설치함으로써 카세트 내부에서는 유체가 상승하고 외부에서는 유체가 하강하도록 하여 유체의 흐름을 원활하게 하고, 그 결과 글라스를 균일하게 식각할 수 있도록 하였다.FIG. 10 is a schematic model diagram schematically illustrating the flow of bubbles and etching liquid in an etching apparatus according to the present invention, wherein four side walls are manufactured from a conventional open type to a closed type. It was allowed to descend to facilitate the flow of the fluid. In addition, by installing the bubble generating device to maintain a constant distance (about 5 cm or more) from the bottom surface without installing the bottom surface of the bath 900, the fluid rises inside the cassette and the fluid flows down to the outside to reduce the flow of fluid. It was made smooth, and as a result, the glass was able to be etched uniformly.

본 발명은 5세대 이상의 넓은 면적의 글라스를 식각하고, 작업 중에 글라스가 휨으로써 발생하는 식각의 불균일을 예방할 수 있으며, 인접한 글라스 간의 충돌로 인한 글라스의 파손을 예방할 수 있고, 글라스 하중의 증가로 인한 글라스의 파손을 예방할 수 있는 글라스 카세트를 제공하는 발명의 효과를 갖는다. 또한 본 발명은 본 발명에 따른 글라스 카세트를 포함하여 처리 용액을 균일하게 순환시켜 대형화된 글라스를 균일하게 식각할 수 있는 버블생성장치를 구비한 식각장치를 제공하는 효과를 갖는다. The present invention can be used to etch a glass of a large area of 5 generations or more, to prevent the unevenness of the etching caused by the glass bent during operation, to prevent the breakage of the glass due to the collision between adjacent glass, and to increase the glass load The invention has the effect of providing a glass cassette capable of preventing breakage of the glass. In another aspect, the present invention has the effect of providing an etching apparatus having a bubble generating apparatus capable of uniformly etching the enlarged glass by uniformly circulating the treatment solution including the glass cassette according to the present invention.

본 발명의 단순한 변형 내지 변경은 이 분야의 통상의 지식을 가진 자에 의하여 용이하게 이용될 수 있으며, 이러한 변형이나 변경은 모두 본 발명의 영역에 포함되는 것으로 볼 수 있다.Simple modifications and variations of the present invention can be readily used by those skilled in the art, and all such variations or modifications can be considered to be included within the scope of the present invention.

Claims (16)

TFT LCD용 글라스 식각장치에 사용되는 글라스 카세트에 있어서, 카세트 내부에서 화학액의 상하 순환을 원활하게 하도록 4면의 측면벽이 폐쇄형으로 제작되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.A glass cassette for use in a glass etching apparatus for a TFT LCD, wherein the four side walls of the glass cassette are manufactured to be closed in order to facilitate up and down circulation of the chemical liquid inside the cassette. TFT LCD용 글라스 식각장치에 사용되는 글라스 카세트에 있어서, 다수의 글라스(300)가 삽입 고정되도록 C자 홈(211)이 일정간격으로 형성된 측부지지대(210)가 카세트의 좌우 내측면벽에 1쌍 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.In a glass cassette used in a glass etching apparatus for a TFT LCD, at least one pair of side supports 210 having a C-shaped groove 211 formed at regular intervals so that a plurality of glasses 300 are inserted and fixed on the left and right inner side walls of the cassette Glass cassette, characterized in that installed. TFT LCD용 글라스 식각장치에 사용되는 글라스 카세트에 있어서, 카세트에 삽입된 인접한 글라스(300) 간의 충돌을 방지하기 위하여 상부 측부지지대(210)의 C자 홈 사이에 다수의 충돌방지부재(230)가 일정한 간격으로 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.In a glass cassette used in a glass etching apparatus for a TFT LCD, a plurality of anti-collision members 230 are provided between the C-shaped grooves of the upper side support 210 to prevent collision between adjacent glass 300 inserted in the cassette. Glass cassettes, characterized in that installed at regular intervals. TFT LCD용 글라스 식각장치에 사용되는 글라스 카세트에 있어서, 본체 하부 내부에 완충부재(222)가 구비된 하부지지대(220)가 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.A glass cassette for use in a glass etching apparatus for a TFT LCD, the glass cassette characterized in that the lower support 220 is provided with a buffer member 222 inside the lower body. 제1항에 있어서, 다수의 글라스(300)가 삽입 고정되도록 C자 홈(211)이 일정간격으로 형성된 측부지지대(210)가 카세트의 좌우 내측면벽에 1쌍 이상 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.The glass cassette according to claim 1, wherein at least one pair of side supports 210 having a C-shaped groove 211 formed at a predetermined interval so that a plurality of glasses 300 are inserted and fixed is provided on the left and right inner side walls of the cassette. . 제5항에 있어서, 상부 측부지지대(210)의 C자 홈 사이에 다수의 충돌방지부재(230)가 일정한 간격으로 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.The glass cassette according to claim 5, wherein a plurality of anti-collision members (230) are installed at regular intervals between the C-shaped grooves of the upper side support (210). 제6항에 있어서, 카세트의 본체 하부 내부에 완충부재(222)가 구비된 하부지지대(220)가 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.The glass cassette according to claim 6, wherein a lower support (220) having a cushioning member (222) is provided inside the lower body of the cassette. 제1항에 있어서, 카세트의 본체 하부 내부에 완충부재(222)가 구비된 하부지지대(220)가 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.The glass cassette according to claim 1, wherein a lower support (220) having a cushioning member (222) is provided inside the lower body of the cassette. 제2항에 있어서, 상부 측부지지대(210)의 C자 홈 사이에 다수의 충돌방지부재(230)가 일정한 간격으로 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.The glass cassette according to claim 2, wherein a plurality of anti-collision members (230) are installed at regular intervals between the C-shaped grooves of the upper side support (210). 제2항에 있어서, 카세트의 본체 하부 내부에 완충부재(222)가 구비된 하부지지대(220)가 설치되는 것을 특징으로 하는 글라스 카세트.The glass cassette according to claim 2, wherein a lower support (220) having a cushioning member (222) is provided inside the lower body of the cassette. 상기 제1항 내지 제7항의 어느 한 항에 따른 글라스 카세트를 채용하고 식각 배스 또는 린스 배스의 하부에 버블생성장치(400)가 설치되고, 그 버블생성장치 위에 다공판(500)이 설치되는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스 식각장치.Employing the glass cassette according to any one of claims 1 to 7, wherein the bubble generating device 400 is installed on the lower portion of the etching bath or rinse bath, the porous plate 500 is installed on the bubble generating device Glass etching apparatus for TFT LCD characterized in that. 제11항에 있어서, 상기 버블생성장치는 배스(900)의 바닥면으로부터 5 ㎝ 이상의 거리를 유지시켜 카세트 내외부에서의 화학액과 버블의 흐름을 원활하게 하는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스 식각장치.12. The glass etching apparatus of claim 11, wherein the bubble growth is maintained at a distance of 5 cm or more from the bottom surface of the bath 900 to smoothly flow chemicals and bubbles in and out of the cassette. . 제11항에 있어서, 상기 다공판은 중앙부에서 외곽부로 갈수록 통공의 크기가 축소되도록 배열함을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스 식각장치.12. The glass etching apparatus of claim 11, wherein the porous plate is arranged such that the size of the through hole is reduced from the center portion to the outer portion thereof. 제11항에 있어서, 상기 다공판은 행과 열을 맞추어 정렬하지 않고 서로 위치가 대각선 방향으로 교차되도록 배열함을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스 식각장치.12. The glass etching apparatus according to claim 11, wherein the perforated plates are arranged so that their positions cross each other in a diagonal direction without being aligned in rows and columns. 제11항에 있어서, 상기 버블파이프는 버블이 방출되는 통공간의 간격을 2 종류 이상으로 하여 규칙적으로 배열되는 것을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스 식각장치.12. The glass etching apparatus according to claim 11, wherein the bubble pipes are regularly arranged with two or more kinds of spaces between the spaces through which bubbles are discharged. 제11항에 있어서, 상기 버블파이프의 통공은 행과 열을 맞추어 정렬하지 않고 서로 위치가 대각선 방향으로 교차되도록 배열함을 특징으로 하는 TFT LCD용 글라스 식각장치.12. The glass etching apparatus according to claim 11, wherein the through-holes of the bubble pipe are arranged so that their positions cross each other in a diagonal direction without being aligned in rows and columns.
KR1020060030284A 2006-04-03 2006-04-03 Glass cassette for etching system for tft lcd glass and etching system employed with the cassette KR20070099203A (en)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060030284A KR20070099203A (en) 2006-04-03 2006-04-03 Glass cassette for etching system for tft lcd glass and etching system employed with the cassette
TW095118758A TWI310220B (en) 2006-04-03 2006-05-26 Glass cassette used in etching apparatus for glass of tft lcd and etching apparatus including the same

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020060030284A KR20070099203A (en) 2006-04-03 2006-04-03 Glass cassette for etching system for tft lcd glass and etching system employed with the cassette

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070099203A true KR20070099203A (en) 2007-10-09

Family

ID=38804689

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060030284A KR20070099203A (en) 2006-04-03 2006-04-03 Glass cassette for etching system for tft lcd glass and etching system employed with the cassette

Country Status (2)

Country Link
KR (1) KR20070099203A (en)
TW (1) TWI310220B (en)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105448009A (en) * 2015-12-31 2016-03-30 钦州市中玻玻璃有限责任公司 Crashproof fluorescent glass

Also Published As

Publication number Publication date
TWI310220B (en) 2009-05-21
TW200739664A (en) 2007-10-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100861876B1 (en) Etching System for LCD Large Scale Glass and Method of Etching the Glass
JP3343033B2 (en) Substrate processing equipment
KR20070099203A (en) Glass cassette for etching system for tft lcd glass and etching system employed with the cassette
KR20090038088A (en) Wafer cassette
KR102399869B1 (en) substrate processing equipment
KR100924863B1 (en) Wet cleaning apparatus for manufacturing a semiconductor device
JPH05166793A (en) Dipping type substrate treatment apparatus
JP7002969B2 (en) Board processing equipment
KR20090124519A (en) Apparatus for processing a substrate
KR20070066795A (en) Inner bath in the wet station having uniform chemical flow
JP2007105626A (en) Substrate treatment apparatus
AU2020353550B9 (en) Air diffuser
KR101079324B1 (en) Apparatus of megasonic cleaner
KR200291774Y1 (en) Cassette for cell fixing
JP2011243814A (en) Carrier for substrate transfer and manufacturing method of electronic circuit substrate
JP2699229B2 (en) Apparatus and method for treating substrate surface
CN117637590A (en) Wet etching clamp capable of placing magnetic stirring rod
KR20100055695A (en) Apparatus of absorbing vibration and appratus of processing substrate having the same
JP2008288442A (en) Substrate treatment method and substrate treatment apparatus
KR100230394B1 (en) Cleaning bath and cleaning apparatus of wafer
KR200239049Y1 (en) Wafer Boat
KR970000384Y1 (en) Carrier plate for wafer cleaning process
TWM595378U (en) Fixture for printed circuit board manufacturing process
JP5153399B2 (en) Substrate case and processing method
JP2013209137A (en) Device for damping wave height in liquid tank

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E90F Notification of reason for final refusal
E601 Decision to refuse application
E801 Decision on dismissal of amendment