KR20070096677A - Fluid treating apparatus - Google Patents

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KR20070096677A
KR20070096677A KR1020060027594A KR20060027594A KR20070096677A KR 20070096677 A KR20070096677 A KR 20070096677A KR 1020060027594 A KR1020060027594 A KR 1020060027594A KR 20060027594 A KR20060027594 A KR 20060027594A KR 20070096677 A KR20070096677 A KR 20070096677A
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resistors
cavitation
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KR1020060027594A
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그리고리예비치 셀레펜 알렉산더
이바노비치 볼코프 비야체슬라브
아나똘리예비치 자솔로츠키 미하일
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국중빈
국형원
이바노비치 볼코프 비야체슬라브
그리고리예비치 셀레펜 알렉산더
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    • F16L55/00—Devices or appurtenances for use in, or in connection with, pipes or pipe systems

Abstract

An apparatus for treating fluid is provided to enhance the fluid treating efficiency by positioning at least two resistors in a single liquid flow path. A treating apparatus for fluid(6) comprises a ceramic tube(1) through which the fluid flows, a first resistor(2), which is positioned in the ceramic tube to resist against the fluid flow, and a second resistor(3), which is positioned at a rear part of the first resistor to resist against the fluid flow. The first and second resistors are installed such that streamlines(5) of the fluid form a vapor pocket(4). The first and second resistors are fixed to a wall of the ceramic directly or by means of a fixing member having a narrow width. The first and second resistors have a conical shape or a pyramidal shape.

Description

유체처리장치 {Fluid treating apparatus}Fluid treating apparatus

도 1은 본 발명의 하나의 구체예에 따른 유체처리장치를 개략적으로 도시한 측단면도이다.1 is a side cross-sectional view schematically showing a fluid treatment apparatus according to one embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 다른 하나의 구체예에 따른 유체처리장치를 개략적으로 도시한 측단면도이다.Figure 2 is a side cross-sectional view schematically showing a fluid treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 3은 본 발명의 또 다른 하나의 구체예에 따른 유체처리장치를 개략적으로 도시한 측단면도이다.Figure 3 is a side cross-sectional view schematically showing a fluid treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 4는 본 발명의 또 다른 하나의 구체예에 따른 유체처리장치를 개략적으로 도시한 측단면도이다.Figure 4 is a side cross-sectional view schematically showing a fluid treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 A-A선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.FIG. 5 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 4.

도 6은 도 4의 B-B선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.6 is a cross-sectional view taken along line B-B of FIG. 4.

도 7은 도 4의 유체처리장치의 외관을 도시한 측면도이다.FIG. 7 is a side view illustrating the appearance of the fluid treatment apparatus of FIG. 4. FIG.

도 8은 도 1의 유체처리장치에 연결되는 제2인입구의 단부 부분을 확대하여 도시한 측단면도이다.FIG. 8 is an enlarged side cross-sectional view of an end portion of the second inlet connected to the fluid treatment apparatus of FIG. 1. FIG.

도 9는 도 1의 유체처리장치에 연결되는 노즐인입구를 도시한 측단면도이다.9 is a side cross-sectional view illustrating a nozzle inlet connected to the fluid treatment apparatus of FIG. 1.

도 10은 도 9의 A-A선을 따라 절단하여 도시한 단면도이다.FIG. 10 is a cross-sectional view taken along the line A-A of FIG. 9.

도 11은 본 발명의 또 다른 하나의 구체예에 따른 유체처리장치의 동작원리 를 설명하기 위하여 측단면도로 도시한 구성도이다.11 is a schematic sectional view showing the operation principle of the fluid treatment apparatus according to another embodiment of the present invention.

도 12는 본 발명의 또 다른 하나의 구체예에 따른 유체처리장치에서 중심도관을 사용하여 유화효과를 높인 장치의 동작원리를 설명하기 위하여 측단면도로 도시한 구성도이다.FIG. 12 is a cross-sectional view illustrating a principle of operation of a device having a high emulsification effect using a central conduit in a fluid treatment device according to another embodiment of the present invention.

※ 도면의 주요부분에 대한 부호의 설명※ Explanation of code for main part of drawing

1 : 도관 2 : 제1저항체1: Conduit 2: First resistor

3 : 제2저항체 4 : 캐비테이션공동3: second resistor 4: cavitation cavity

5 : 유선 6 : 유체5: wired 6: fluid

11 : 도관 12 : 협폭부11: conduit 12: narrow section

13 : 제1저항체 14 : 캐비테이션공동13: first resistor 14: cavitation cavity

15 : 제2저항체 16 : 제3저항체15: second resistor 16: third resistor

17 : 제4저항체 18 : 제5저항체17: fourth resistor 18: fifth resistor

21 : 도관 22 : 제1저항체21: conduit 22: first resistor

23 : 캐비테이션공동 24 : 유체23: cavitation cavity 24: fluid

25 : 격자판 31 : 도관25 grating 31 conduit

32 : 중심저항체 33 : 주변저항체32: center resistor 33: peripheral resistor

34 : 부분저항체 35 : 고정수단34: part resistor 35: fixing means

36 : 유로 51 : 도관36: Euro 51: conduit

52 : 인입구 53 : 인입필터52: inlet 53: inlet filter

54 : 인출구 55 : 인출필터54: outlet 55: outlet filter

56 : 제2인입구 57 : 인입통공56: second entrance 57: incoming communication

58 : 인입단부 61 : 중심도관58: drawn end 61: center conduit

71 : 저항체 72 : 돌기부71: resistor 72: protrusion

X : 제1의 허니컴배치 Y : 제2의 허니컴배치X: first honeycomb batch Y: second honeycomb batch

α : 변위각α: displacement angle

본 발명은 유체처리장치에 관한 것이다. 보다 상세하게는 본 발명은 유체의 흐름 중에 설치되는 저항체에 의한 캐비테이션을 이용하여 유체를 처리, 즉 혼합작용, 정화작용 및 산화작용의 효율을 높이도록 하기 위하여 단일의 유체흐름 중에 적어도 2개 이상의 저항체들이 위치하도록 구성되는 유체처리장치에 관한 것으로서, 원유 가공, 화학 및 기타 다른 산업 분야에서 기술적 공정을 향상시키고, 중유 형태의 연료를 균질화 처리하며, 혼합 공정에서 액적의 유동을 유체역학적으로 처리하고, 기체상태, 액체상태 또는 고체상태의 용질을 효과적으로 산포시킬 수 있는 유체처리장치를 제공하는 것에 관한 것이다. 즉, 액체상태의 매질 속에 기체상태, 액체상태 및 고체상태의 매체를 산포시키며, 아스팔트, 지붕재료, 물이 산포된 페인트 등을 생산하기 위한 물-역청 에멀젼 등의 제조와 물에 용해되지 않는 폐기물(염소 유기 폐기물을 포함) 에멀젼을 로에서 소각하기 위한 전처리수단 등으로 활용될 수 있다.The present invention relates to a fluid treatment apparatus. More specifically, the present invention uses at least two resistors in a single fluid flow to increase the efficiency of mixing, purifying and oxidizing the fluid using cavitation by a resistor installed in the flow of the fluid. To a technical process in crude oil processing, chemistry and other industries, to homogenize heavy oil fuels, to hydrodynamically treat the flow of droplets in a mixing process, A fluid treatment apparatus capable of effectively dispersing solutes in gaseous, liquid or solid state. That is, wastes that are insoluble in water, such as water-bitumen emulsions for dispersing gaseous, liquid and solid media in liquid media, asphalt, roofing materials, water-spread paints, etc. The emulsion (including chlorine organic waste) can be used as a pretreatment means for incineration in a furnace.

액체 중에 기체상태, 액체상태 또는 고체상태의 용질을 분산, 용해 또는 혼합하는 것은 중요한 공정 중의 하나이다.Dispersing, dissolving or mixing solutes in gaseous, liquid or solid state in a liquid is one of the important processes.

대한민국 등록실용신안공보 등록번호 제20-0372646호에는 “액체 균질화 장치”라는 고안의 명칭으로, 알코올과 물의 혼합처럼 서로 다른 특성의 액체를 혼합하여 균질화된 혼합물을 짧은 시간에 얻을 수 있는 액체 균질화 장치를 제공하는 것을 목적으로 하고 있으며, 서로 다른 종류의 액체가 혼합된 혼합물을 수용하는 수용탱크; 고압발생장치에 의해 구동되어 수용탱크에 압력을 인가하는 압축실린더; 수용탱크로부터 배출되는 가압된 혼합물의 내부압력을 감소시켜 혼합물 내부에 기포가 발생하도록 하는 기포발생유닛; 및 혼합물이 흐르는 경로 상에서 혼합물에 압력을 가하여 발생된 기포를 파괴하는 균질화유닛을 포함하는 구성을 갖는 것이 개시되어 있다. 그러나, 이 액체 균질화 장치는 본래 의미의 캐비테이션을 이용하는 것이 아니고, 서로 다른 2종 이상의 액체의 혼합물에 기포발생유닛에 의해 발생되는 기포를 가압하여 파괴시켜 그 파괴에 의한 충격에너지에 의해 서로 다른 특성을 갖는 액체가 상호작용을 하여 균질하게 혼합되도록 구성된 것이며, 이를 위한 기포발생유닛 등에 의해 형성되는 기포의 크기나 양에 제한이 있고, 장치가 복잡하다는 단점을 갖는다.Republic of Korea Utility Model Registration No. 20-0372646 is the designation of the "liquid homogenizer," a liquid homogenizer that can obtain a homogenized mixture in a short time by mixing liquids of different characteristics, such as a mixture of alcohol and water It is intended to provide a, receiving tank for receiving a mixture of different types of liquid mixed; A compression cylinder driven by a high pressure generator to apply pressure to the receiving tank; Bubble generation unit for reducing the internal pressure of the pressurized mixture discharged from the receiving tank to generate bubbles in the mixture; And a homogenizing unit that breaks bubbles generated by applying pressure to the mixture on a path through which the mixture flows. However, this liquid homogenizing device does not use cavitation in its original meaning, but presses and destroys the bubbles generated by the bubble generating unit to a mixture of two or more different liquids, thereby differentiating the characteristics by the impact energy caused by the destruction. It is configured to have a homogeneous mixing of the liquids having an interaction, there is a limitation in the size or amount of bubbles formed by the bubble generating unit for this purpose, has the disadvantage that the device is complicated.

2종 이상의 액체를 혼합하는 데에는 여러 가지 방법이 있다. There are several ways to mix two or more liquids.

물과 기름과 같이 섞이지 않는 물질을 혼합, 유화하는 방법에는 스크류나 날개의 회전을 이용하는 기계적인 혼합 방법, 유화제·계면 활성제를 첨가하는 화학적 혼합 방법, 이 두 가지를 혼합한 기계적·화학적 혼합 방법과, 초음파를 이용하 는 방법이 있습니다. 실제로 초음파를 이용하여 세제나 비누 같은 계면활성제 없이도 설겆이를 할 수 있는 세척기기가 공지되어 있다. 기계적인 혼합이란 믹서기의 원리를 생각하면 쉽게 이해될 수 있다. 그러나 기계적 혼합은 미세하고 균질한 유화물을 형성할 수 없을 뿐만 아니라, 마모로 인해 스크류 및 날개에서 떨어져 나온 미세한 금속 가루 등 불순물이 유화물에 포함되고, 미립성 및 안정성이 떨어진다. 화학적 혼합은 다량의 계면활성제로 표면장력을 감소시키는 방법인데, 필연적으로 다른 물질(유화제/계면활성제)를 첨가할 수밖에 없다. 초음파 혼합은 초음파 공동현상(ultrasonic cavitation)을 이용하는 방법인데, 초음파를 수용액 속에 조사하였을 때 발생하는 공동화 기포 내부의 온도와 압력이 매우 높고 그 기포들이 성장하여 파열될 때 고온, 고압의 충격파가 발생하기 때문에 그것이 매우 높은 에너지원으로 작용하여 섞이는 현상을 이용한 것이다. 액체에는 보통 기체가 녹아 있으므로 초음파를 가하면 원자나 분자 크기에 비례하는 크기의 기포가 성장하고, 이후 기포는 더욱이 발달하여 최대가 된 후 차츰 단열압축되어 고온고압의 작은 기포가 되며, 드디어는 파괴되어 분자 형태로 미세하게 분열된다. 파괴가 일어나는 순간에는 기포에 수백 ℃의 고온과 수십 ㎏/㎠ 압력의 충격파가 발생하게 되는데, 이러한 작용에 의해 액체 내에 격렬한 잡음이 발생하면서 액체가 충돌하여 합쳐지거나 파괴되기도 하면서 섞이게 된다.Methods of mixing and emulsifying non-mixing substances such as water and oil include mechanical mixing using a screw or blade rotation, chemical mixing using an emulsifier and a surfactant, and mechanical and chemical mixing methods of the two. There is a way to use ultrasound. Indeed, cleaning devices are known that can use ultrasonic waves to wash dishes without detergents such as detergents or soaps. Mechanical mixing can be easily understood given the principles of the blender. However, mechanical mixing is not only able to form fine and homogeneous emulsions, but also includes impurities such as fine metal powders falling off the screw and wings due to abrasion, and has poor granularity and stability. Chemical mixing is a method of reducing surface tension with a large amount of surfactants, inevitably adding other substances (emulsifiers / surfactants). Ultrasonic mixing is a method using ultrasonic cavitation. When the ultrasonic wave is irradiated in aqueous solution, the temperature and pressure inside the cavitation bubble are very high, and when the bubbles grow and rupture, high-temperature and high-pressure shock waves are generated. Because of this, they use a very high energy source to mix. Since gas is usually dissolved in the liquid, the ultrasonic wave grows bubbles of size proportional to the size of atoms or molecules, and then the bubbles are further developed and maximized, and then gradually adiabatic and become small bubbles of high temperature and high pressure. Finely divided in molecular form. When the breakdown occurs, the bubble generates a shock wave of a high temperature of several hundred degrees Celsius and a pressure of several tens of kilograms / cm 2, which causes intense noise in the liquid and collides with the liquid, causing it to be mixed or destroyed.

미합중국 특허 제6,935,770 B2호에는 “캐비테이션 믹서(cavitation mixer)”라는 명칭으로 원통 속에서 회전하는 터빈구조를 갖는 믹서가 기술되어 있다. 또한 미합중국 특허 제5,522,553호에는 미세하게 분할된 물질을 액체 현탁액을 제 조하기 위한 방법 및 장치가 기술되어 있다. 미합중국 특허 제4,511,254호에는 “캐비테이터”라는 명칭의 믹서가 기술되어 있다. 그러나 이들 선행기술들은 모두 가동부를 포함하는 것으로서, 여전히 터빈구조나 고주파로 진동하는 진동자들을 포함하고 있어 미세하고 균질한 유화물을 형성할 수 없을 뿐만 아니라, 마모로 인해 스크류 및 날개에서 떨어져 나온 미세한 금속 가루 등 불순물이 유화물에 포함되고, 미립성 및 안정성이 떨어진다는 문제점을 여전히 완전히 해결하지는 못하고 있다.U. S. Patent No. 6,935, 770 B2 describes a mixer having a turbine structure which rotates in a cylinder under the name of “cavitation mixer”. U. S. Patent No. 5,522, 553 also describes a method and apparatus for preparing a liquid suspension of finely divided material. U.S. Patent No. 4,511,254 describes a mixer named "cavator". However, these prior arts all include moving parts, which still include turbine structures or high frequency oscillators, which are unable to form fine and homogeneous emulsions, as well as the fine metal powders that fall off the screws and wings due to wear. It is still not completely solved the problem that such impurities are contained in the emulsion and the fineness and the stability are poor.

한편, 현재까지 알려진 캐비테이션을 이용한 유체처리장치의 적용범위는 다음과 같다.On the other hand, the application range of the fluid treatment apparatus using cavitation known to date is as follows.

1. 중유의 연소 효율 향상을 위한 물-중유 에멀젼(emulsion)의 생산에의 적용으로 중유소비량을 1 내지 5% 정도 감소시키고, 물-중유 에멀젼의 연소에 따른 질소산화물 배출량을 40 내지 60% 정도 감소시키고, 발암물질의 일종인 벤자필렌(benzapilene)과 매연 배출을 90% 까지 감소시킨다.1. Reduction of heavy oil consumption by 1 ~ 5% by application of water-heavy oil emulsion (emulsion) to improve the combustion efficiency of heavy oil, and about 40 ~ 60% of nitrogen oxide emission by combustion of water-heavy oil emulsion. It also reduces benzapilene, a type of carcinogen, and soot emissions by 90%.

2. 윤활-냉각제(lubrication-cooling liquid)의 생산에의 적용으로 사용기한을 30% 이상 연장시킨다.2. Application to the production of lubrication-cooling liquids extends the shelf life by more than 30%.

3. 응고(coagulation) 방식을 적용하여 폐수의 정화에 캐비테이션 장치를 사용함으로써, 이로 인해 미세하게 산포된 입자의 정화 효율이 현저하게 향상된다.3. The use of a cavitation device for the purification of waste water by applying a coagulation method, which significantly improves the purification efficiency of finely dispersed particles.

4. 부유(flotation) 설비에서 폐수에 함유된 기름이나 지방의 정화에 캐비테이션 장치를 사용할 수 있다.4. Cavitation equipment may be used to purify oil or fat contained in waste water in a flotation facility.

5. 폐수 혼합물의 산화에 캐비테이션 장치를 사용할 수 있다.5. Cavitation equipment can be used to oxidize the wastewater mixture.

6. 가솔린 분류(分溜)의 배출을 증대시키기 위하여 원유의 정제에 캐비테이션 장치를 사용하여 가솔린 분류의 배출을 15 내지 20% 정도 증가시킨다.6. Increase the emissions of gasoline fractions by 15 to 20% using cavitation devices to refine crude oil to increase emissions of gasoline fractions.

7. 오래된, 기준 이하의 중유를 재생, 처리하는 데 캐비테이션 장치를 사용하여 중유의 질을 상승시킬 수 있다.7. Cavitation equipment can be used to regenerate and process older, substandard heavy oils.

8. 역청(bitumen)의 생산에 사용되어 역청의 질을 현저히 상승시킨다.8. Used to produce bitumen, which significantly increases the quality of bitumen.

9. 물이 산포되어 쓸모없게 된 페인트의 환원 및 재생에 사용된다.9. Used for the reduction and regeneration of paints that have become scattered and useless.

10. 식료품 및 화장품 산업에서 주로 유화작용에 캐비테이션 장치를 사용하여 마요네즈, 크림 등을 생산하는데 사용된다.10. It is mainly used in the food and cosmetics industry to produce mayonnaise, cream, etc., using cavitation devices for emulsification.

11. 경유(디젤 연료)의 연소 효율 향상을 위한 물-경유 에멀젼(emulsion)의 생산에의 적용으로 디젤 연료의 연소효율이 개선되어 연료 소비율이 저감되고, 질산화물(NOX), 그을음, 분진 등 대기오염물질이 저감된다.11. Indirect water for improvement of combustion efficiency (diesel fuel) applied to the combustion efficiency of diesel fuel in the production of diesel emulsion (emulsion) are improved fuel consumption rate is reduced, nitrogen oxides (NO X), soot, dust, etc. Air pollutants are reduced.

또한 종래의 캐비테이션 장치들은 액적의 통과 단면이 작기 때문에 운전 중 막힘 현상으로 인해 가동이 중단되는 문제점과, 기상(가스 형태)의 물질을 장치에 인입시키는 것이 구조적으로 불가능하다는 문제점과, 장치의 내벽을 따라 통과하는 액적의 흐름이 산포되지 못하는 등의 문제점이 있었다.In addition, the conventional cavitation device has a small cross-section of the droplet, the operation is stopped due to clogging during operation, the problem that it is structurally impossible to introduce gaseous (gas form) material into the device, and the inner wall of the device There was a problem such that the flow of droplets passing through it could not be scattered.

따라서 구동부가 없으면서도 충분히 캐비테이션의 형성을 높여서 혼합작용, 정화작용 및 산화작용의 효율을 높일 수 있도록 하기 위한 장치의 개발이 요구되고 있다.Therefore, there is a demand for the development of a device to increase the efficiency of the mixing, purifying and oxidation by sufficiently increasing the formation of cavitation without a driving unit.

본 발명의 목적은 유체의 흐름 중에 설치되는 저항체에 의한 캐비테이션을 이용하여 유체를 처리, 즉 혼합작용, 정화작용 및 산화작용의 효율을 높이도록 하기 위하여 단일의 유체흐름 중에 적어도 2개 이상의 저항체들이 위치하도록 구성되는 유체처리장치에 관한 것으로서, 원유 가공, 화학 및 기타 다른 산업 분야에서 기술적 공정을 향상시키고, 중유 형태의 연료를 균질화 처리하며, 혼합 공정에서 액적의 유동을 유체역학적으로 처리하고, 기체상태, 액체상태 또는 고체상태의 용질을 효과적으로 산포시킬 수 있는 유체처리장치를 제공하는 데 있다.It is an object of the present invention to locate at least two resistors in a single fluid stream in order to increase the efficiency of mixing, purifying and oxidizing the fluid using cavitation by a resistor installed during the flow of the fluid. A fluid treatment apparatus configured to enhance technical processes in crude oil processing, chemistry and other industries, homogenize heavy oil fuels, hydrodynamically treat droplet flow in a mixing process, and The present invention provides a fluid treatment apparatus capable of effectively dispersing a solute in a liquid state or a solid state.

본 발명에 따른 유체처리장치는, 유체가 흐르는 도관과; 상기 도관 내에 위치하며, 유체의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제1저항체와; 상기 제1저항체의 후방에 위치하며, 역시 유체의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제2저항체;들을 포함하여 이루어지되, 상기 도관 내를 흐르는 유체의 유선들이 상기 제1저항체와 제2저항체들 중 적어도 어느 하나에 의하여 캐비테이션공동을 형성하도록 상기 제1저항체와 제2저항체가 설치되어 이루어진다.A fluid treatment apparatus according to the present invention includes: a conduit through which fluid flows; At least one first resistor located within said conduit and fixed to resist flow of fluid; At least one second resistor located at the rear of the first resistor and fixed to resist the flow of the fluid; wherein the streamlines of the fluid flowing in the conduit are formed in the first resistor and the second resistors. The first resistor and the second resistor are provided to form a cavitation cavity by at least one of the two.

상기 제1저항체와 제2저항체들은 도관의 벽에 직접 고정되거나 또는 폭이 좁은 고정수단에 의해 고정될 수 있다.The first resistor and the second resistor can be fixed directly to the wall of the conduit or by a narrow fixing means.

상기 제1저항체와 제2저항체들은 판형 또는 유체의 흐름방향에 대향하여 좁은 선단부와 넓은 후단부를 갖는 첨봉의 형상, 반구형, 단면의 형상이 원형인 원추형 또는 단면의 형상이 다각형인 방추형으로 성형될 수 있다.The first and second resistors may be formed into a conical shape having a narrow tip and a wide rear end, a cone shape having a narrow tip and a wide rear end, or a conical shape having a circular cross section or a polygon shape having a polygon shape and a conical shape having a polygonal cross section. have.

상기 도관의 내벽에는 도관의 내경을 좁히는 협폭부가 형성될 수 있다.A narrow portion that narrows the inner diameter of the conduit may be formed on the inner wall of the conduit.

본 발명에 따른 유체처리장치는, 유체가 흐르는 도관과; 상기 도관 내에 단면이 6각형인 방추형으로 형성된 다수의 저항체들이 허니컴(honeycomb)배치의 구조로 배열 및 고정되어 이들 저항체들 사이에 다수의 일정한 유로들이 형성되도록 이루어지되, 상기 허니컴배치가 상기 단면이 6각형인 방추형으로 형성된 중심저항체가 상기 도관의 중심부에 위치하도록 고정되고, 상기 중심저항체를 중심으로 방사상으로 6개의 주변저항체들이 고정되고, 그리고 6개의 부분저항체들이 상기 주변저항체들의 모서리들 사이에 위치하도록 하여 상기 도관의 내벽에 고정되어 이루어진다.A fluid treatment apparatus according to the present invention includes: a conduit through which fluid flows; In the conduit, a plurality of resistors formed in a hexagonal spindle shape are arranged and fixed in a honeycomb arrangement so that a plurality of constant flow paths are formed between the resistors. A central resistor formed in a square spindle shape is fixed to be located at the center of the conduit, six peripheral resistors are fixed radially around the central resistor, and six partial resistors are positioned between the corners of the peripheral resistors. Is fixed to the inner wall of the conduit.

상기 허니컴배치는 상기 도관 내에 적어도 2개 이상 형성되되, 후방에 위치하는 제2의 허니컴배치가 그 전방에 위치하는 제1의 허니컴배치에 대해 1 내지 59°의 범위 이내의 변위각(α)으로 변위되어 이루어질 수 있다.At least two honeycomb batches are formed in the conduit, with a second honeycomb batch positioned rearward within a range of 1 to 59 ° relative to the first honeycomb batch positioned forward. Can be displaced.

상기 변위각은 바람직하게는 30°가 될 수 있다.The displacement angle may preferably be 30 °.

또한 본 발명에 따른 유체처리장치는, 유체가 흐르는 도관과; 상기 도관 내에 위치하며, 유체의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제1저항체와; 상기 제1저항체의 후방에 위치하며, 역시 유체의 흐름에 저항하도록 고정된, 다수의 통공이 형성된 적어도 하나 이상의 격자판;들을 포함하여 이루어지되, 상기 격자판들 중의 어느 하나 또는 2이상의 격자판들이 상기 제1저항체의 후방에 형성되는 캐비테이션공동 내에 위치하도록 설치되어 이루어진다.In addition, the fluid treatment apparatus according to the present invention includes a conduit through which fluid flows; At least one first resistor located within said conduit and fixed to resist flow of fluid; At least one grating plate formed at a plurality of through holes, which is located behind the first resistor and is also fixed to resist the flow of the fluid, wherein any one or two or more grating plates of the grating plates are formed. It is installed to be located in the cavitation cavity formed in the rear of the resistor.

이하, 본 발명의 구체적인 실시예를 첨부한 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1에 도시한 바와 같이, 본 발명에 따른 유체처리장치는, 유체가 흐르는 도관(1)과; 상기 도관(1) 내에 위치하며, 유체(6)의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제1저항체(2)와; 상기 제1저항체(2)의 후방에 위치하며, 역시 유체(6)의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제2저항체(3);들을 포함하여 이루어지되, 상기 도관(1) 내를 흐르는 유체(6)의 유선(5)들이 상기 제1저항체(2)와 제2저항체(3)들 중 적어도 어느 하나에 의하여 캐비테이션공동(4)을 형성하도록 상기 제1저항체(2)와 제2저항체(3)가 설치되어 이루어짐을 특징으로 한다. 즉, 본 발명에 따르면, 유체(6)가 흐르는 도관(1) 내에 다수의 저항체를 설치하되, 가상의 유선(流線)(5)들이 충분히 저항체와 접촉하도록 하여 각 저항체의 후면에서 발생하는 캐비테이션 현상을 이용하여 혼합작용, 정화작용 및 산화작용의 효율을 높이도록 한 점에 특징이 있다. 상기에서 캐비테이션 현상은 공지된 현상으로 본 명세서에서는 간략히 설명한다. 액체 속을 빠른 속도로 움직이는 물체의 표면에서는 액압(液壓)이 저하하는데, 이를 '베르누이의 정리'라고 한다. 그렇게 되면 압력이 액체의 포화증기압보다 낮아진 범위에 증기가 발생하거나 액체 속에 녹아 있던 기체가 나와서 공동을 이룬다. 이것은 수력터빈이나 선박용 프로펠러를 운전할 때 자주 발생하는 현상으로, 압력면에 발생하는 경우도 있지만, 주로 날개의 등 부분에 발생한다. 발생한 기포는 압력이 높은 부분에 이르면 급격히 부서져 소음이나 진동의 원인이 되며, 터빈이나 프로펠러의 효율을 떨어뜨린다. 또 기포가 사라져 없어질 때, 기포의 부피가 급격히 축소됨에 따라 그 부분의 압력이 매우 커지며, 그것이 날개를 침식시키는 원인이 된다. 공동현상(캐비테이션 현상)에 의한 이러한 침식을 점침식(點侵蝕)이라고 하며, 자잘한 알갱이에 의한 일반적인 침식과는 구별된다. 터빈이나 프로펠러를 설계·제작할 때는 이러한 현상을 방지하기 위하여 날개의 모양이나 면적의 선정 등에 주의해야 하며, 특히 선박용 프로펠러의 경우에는 선체 후반부의 모양도 중요하다. 최근에는 초고속용 프로펠러로서 공동현상에서 가동하는 수퍼캐비테이션 프로펠러의 연구 개발도 진행되고 있다. 한편, 강한 초단파(microwave)가 물 속에 전달될 때 기포가 발생하는 경우가 있는데, 이것도 공동현상이라 할 수 있다. 즉, 본 발명에서는 캐비테이션 현상을 의도적으로 많이 발생시켜 이 캐비테이션 현상을 이용하여 기포를 많이 형성시키고, 이들 기포들이 터질 때 발생하는 압력과 온도 및 오존 등을 이용하는 것을 목적으로 한다. 상기에서 유선이나 캐비테이션 현상 등은 층류(層流, laminar flow, 달리 ‘층흐름’이라고도 함)의 개념으로 설명될 수 있다. 즉, 공기 등과 같은 유체가 흐트러지지 않고 움직이는 것을 말한다. 난류는 그 반대이다. 예를 들면, 가는 파이프에 물을 흘릴 경우, 잉크를 넣어 흐름의 상태를 관측하면 유속(流速)에 따라 레이놀즈수(Reynold‘s number)가 작을 때는 잉크의 흐름이 직선으로 나타나고, 물의 각 부분이 파이프 벽에 평행으로 움직이며 서로 섞이지 않음을 알 수 있다. 이러한 흐름이 층류이다. 또 담배를 피우면 담배에서 발생한 연기는 처음에는 거의 일자로 올라가다가 어느 정도 지나면 흐트러진 모습으로 퍼진다. 처음 상태를 층류라고 하고 나중 상태를 난류라고 한다. 층류유동은 유체입자가 층 또는 막 안에서 한 층이 인접한 층 위를 원활하게 미끄러지도록 운동하는 유동을 말한다. 그러므로 층류유동에서의 운동량 수송은 층과 층 사이에서 분자적 운동량 교환만으로 이루어 진다. 즉 난류로 전향하려는 경향은 인접층 간의 상대운동을 저지하려는 점성전단력에 의하여 억제된다고 할 수 있다. 그러나 난류유동은 격렬한 횡단운동량 수송을 가지면서 유체입자가 매우 산만한 운동을 하는 유동이다. 유동의 성질, 다시 말해서 층류냐 난류냐, 그리고 층류화 경향에 미치는 난류의 상대적 중요성을 나타내는 척도는 레이놀즈수에 의하여 정량적으로 표시된다. 레이놀즈수를 차원적으로 정리하면 하기 수학식 1로 나타낼 수 있다.As shown in Fig. 1, the fluid treatment apparatus according to the present invention comprises: a conduit 1 through which fluid flows; At least one first resistor (2) located in said conduit (1) and fixed to resist the flow of fluid (6); At least one second resistor (3) located behind the first resistor (2) and also fixed to resist the flow of the fluid (6); The first resistor 2 and the second resistor (6) form the cavitation cavity 4 by at least one of the first resistor 2 and the second resistor 3. 3) is characterized in that the installation is made. That is, according to the present invention, a plurality of resistors are installed in the conduit 1 through which the fluid 6 flows, and the virtual wires 5 are sufficiently in contact with the resistors so that the cavitation occurs at the rear of each resistor. It is characterized in that the phenomenon is used to increase the efficiency of mixing, purifying and oxidation. The cavitation phenomenon is a known phenomenon and will be briefly described herein. On the surface of an object moving at high speed in the liquid, the hydraulic pressure decreases, which is called Bernoulli's Theorem. This causes steam to lie in the range where the pressure is lower than the saturated vapor pressure of the liquid or the gas dissolved in the liquid to form a cavity. This phenomenon occurs frequently when operating a hydraulic turbine or ship propeller, and sometimes occurs on the pressure surface, but mainly occurs on the back of the wing. When the generated bubbles reach a high pressure part, they rapidly break, causing noise or vibration, and deteriorating the efficiency of the turbine or propeller. In addition, when the bubble disappears, the volume of the bubble is sharply reduced, the pressure of the portion is very large, which causes the wing erosion. This erosion by cavitation (cavitation) is called point erosion, and is distinguished from general erosion by small grains. When designing and manufacturing turbines or propellers, care should be taken in selecting the shape and area of the wings in order to prevent such phenomena. Especially in the case of ship propellers, the shape of the latter part of the hull is also important. In recent years, research and development of super cavitation propellers which operate in a cavitation as a high speed propeller is also in progress. On the other hand, bubbles are generated when strong microwaves are delivered in water, which is also a cavity phenomenon. That is, an object of the present invention is to intentionally generate a large number of cavitation phenomena to form a large number of bubbles by using the cavitation phenomenon, to use the pressure and temperature and ozone generated when these bubbles burst. In the above, the streamline or the cavitation phenomenon may be explained by the concept of laminar flow (also referred to as laminar flow). In other words, it refers to a fluid such as air is moving without being disturbed. Turbulence is the opposite. For example, when water flows into a thin pipe, the flow of ink is observed and the flow of ink appears as a straight line when the Reynold's number is small according to the flow rate. It can be seen that they move parallel to the pipe wall and do not mix with each other. This flow is laminar flow. If you smoke, the smoke from the cigarettes first rises to a near-day level, and after a while, it spreads out of shape. The first state is called laminar flow, and the later state is called turbulence. Laminar flow is a flow in which fluid particles move in a layer or membrane to smoothly slide over adjacent layers. Therefore, the momentum transport in laminar flow consists of only molecular momentum exchange between layers. In other words, the tendency to turn into turbulence is suppressed by the viscous shearing force to prevent relative movement between adjacent layers. Turbulent flow, however, is a flow in which fluid particles are very distracted with intense transverse momentum transport. A measure of the nature of the flow, ie laminar or turbulent, and the relative importance of turbulence on the laminar tendency is quantitatively expressed by Reynolds number. The Reynolds number can be summarized by the following equation (1).

Rn = ρVL/μR n = ρVL / μ

상기 식에서, Rn 은 레이놀즈수이고, ρ는 밀도이고, V는 속도이고, L은 특성길이이고, μ는 점성계수이다. 유체의 흐름은 속도에 따라 저속에서는 층류(laminar flow)로, 고속일 때는 난류(turbulent flow)의 흐름 특성을 갖는다. 유체의 흐름이 층류에서 난류로 바뀌는 것을 천이(transition)라 하고, 천이가 일어나는 레이놀즈수를 임계 레이놀즈수(critical reynolds number)라 한다. 즉, 레이놀즈수가 어느 정도를 넘으면 층류는 난류로 변한다. 레이놀즈 수는 이러한 유체 흐름의 특성을 규정할 때 사용한다. 흐름 종류는 유속의 크기에 따라 다음과 같이 층류와 난류로 분류된다. 즉, 흐름의 레이놀즈수가 2,000보다 작으면 흐름은 층류이고, 2,000 내지 4,000 사이이면 불완전 층류(층류, 와류가 공존)라 하며, 4,000 이상이면 난류로 분류한다. 상기 수학식 1에 의거하면, 일정한 조건, 즉 사용되는 관의 내경, 사용되는 유체의 점성 등의 물성 및 도관의 길이 등에 따라 적절한 유 체의 압력 등을 설정할 수 있으며, 난류를 형성하지 않고, 층류를 형성할 수 있는 최적의 조건을 결정하여 수행할 수 있음은 당업자에게는 당연히 이해될 수 있는 것이다.Where R n is Reynolds number, ρ is density, V is velocity, L is characteristic length, and μ is viscosity coefficient. The flow of fluid has the characteristic of laminar flow at low speed and turbulent flow at high speed. The transition of fluid flow from laminar to turbulent is called a transition, and the Reynolds number at which the transition occurs is called the critical reynolds number. In other words, when the Reynolds number exceeds a certain degree, the laminar flow becomes turbulent. Reynolds number is used to characterize this fluid flow. The flow types are classified into laminar and turbulent flows according to the magnitude of the flow rate. That is, if the Reynolds number of the flow is less than 2,000, the flow is laminar, and if it is between 2,000 and 4,000, the incomplete laminar flow (laminar and vortices coexist) is classified as turbulent. Based on the above Equation 1, it is possible to set an appropriate fluid pressure or the like according to certain conditions, i.e., the inner diameter of the pipe used, the viscosity of the fluid used, the length of the conduit, etc. It will be apparent to those skilled in the art that the determination may be performed by determining the optimum conditions under which the formation can be performed.

본 발명에 따른 유체처리장치에서는 유체가 흐르는 도관(1)과; 상기 도관(1) 내에 제1저항체(2)와 제2저항체(3) 등 적어도 2개 이상의 저항체들을 설치하여 이들 저항체들에 의해 캐비테이션공동(4)을 다발시키도록 한 점에 특징이 있다. 이들 저항체들은 상기 도관(1) 내에 고정되어 있으며, 그에 따라 본 발명에 따른 유체처리장치는 공지의 다른 장치들에 비해 유체의 가압흐름을 위한 펌프 등을 제외하고는 유체처리장치 내에는 가동부(mobile part)를 포함하지 않도록 구성되어 내구성이 우수하고, 미세하고 균질한 유화물을 형성할 수 있도록 하는 것뿐 만 아니라, 마모로 인해 스크류 및 날개에서 떨어져 나온 미세한 금속 가루 등 불순물이 유화물에 포함되거나, 미립성 및 안정성이 떨어지는 등의 종래의 장치들에서 유래하는 문제점들을 원인적으로 해결토록 한 점에 특징이 있는 것이다.In the fluid treatment apparatus according to the present invention, a conduit (1) through which fluid flows; At least two resistors, such as the first resistor 2 and the second resistor 3, are provided in the conduit 1 so as to bundle the cavitation cavity 4 by these resistors. These resistors are fixed in the conduit 1, so that the fluid treatment apparatus according to the present invention is mobile within the fluid treatment apparatus except for a pump for pressurized flow of fluid compared to other known apparatuses. In addition to providing a durable, fine and homogeneous emulsion that is configured to contain no parts, the emulsion contains fine particles, such as fine metal powder that has fallen from the screw and wing due to abrasion, It is characterized in that the problems caused by the conventional devices, such as poor performance and stability, to cause problems.

상기에서 도관(1)은 처리되어야 할 유체(6)가 흐르는 관이며, 상기 도관(1) 내에는 캐비테이션 현상을 일으킬 제1저항체(2)와 제2저항체(3) 등이 유체(6)의 흐름에 저항하도록 고정되어 이루어지되, 특히 적어도 하나 이상의 제1저항체(2)와; 적어도 하나 이상의 제2저항체(3);들이 상기 도관(1) 내를 흐르는 유체(6)의 유선(5)들이 상기 제1저항체(2)와 제2저항체(3)들 중 적어도 어느 하나와 접촉하여 이들 저항체들에 의하여 캐비테이션공동(4)을 형성하도록 설치되어 이루어짐을 특징으로 한다. 즉, 하나의 저항체만이 설치되는 경우, 그 저항체 후방의 캐비테이션 트랙은 캐비테이션화 되지 않은 유체와 서로 분리되며, 상기 저항체의 직후방 이외의 영역에서는 캐비테이션화가 이루어지지 않게 된다. 따라서, 본 발명에서는 하나의 저항체의 후방에 다른 저항체를 설치함으로써, 즉 제1저항체(2)의 후방에 제2저항체(3)를 설치하는 것에 의해 유체가 캐비테이션화 되지 않은 “통과” 현상을 방지토록 한다.The conduit 1 is a tube through which the fluid 6 to be treated flows, and in the conduit 1, a first resistor 2, a second resistor 3, and the like, which cause a cavitation phenomenon, It is fixed to resist the flow, in particular at least one or more first resistor (2); At least one second resistor 3; wires 5 of fluid 6 flowing in the conduit 1 come into contact with at least one of the first resistor 2 and the second resistor 3 It is characterized in that the installation is made to form the cavitation cavity (4) by these resistors. That is, when only one resistor is provided, the cavitation track behind the resistor is separated from the non-cavitated fluid, and no cavitation is made in the region other than immediately after the resistor. Therefore, in the present invention, by providing another resistor at the rear of one resistor, that is, installing the second resistor 3 at the rear of the first resistor 2, the "pass through" phenomenon in which the fluid is not cavitation is prevented. Do it.

상기 제1저항체(2)와 제2저항체(3)들은 도관(1)의 벽에 직접 고정되거나 또는 폭이 좁은 고정수단에 의해 고정될 수 있다. 즉, 도관(1)에 고정되어야 유체(6)의 흐름에 따라 흘러가지 않고, 유체(6)에 대해 저항할 수 있으며, 그에 의해 이들 저항체들의 후면에서 캐비테이션 현상이 일어나도록 한다.The first resistor 2 and the second resistor 3 may be fixed directly to the wall of the conduit 1 or by narrow fixing means. That is, it must be fixed to the conduit 1 so that it can resist the fluid 6 without flowing along the flow of the fluid 6, thereby causing a cavitation phenomenon to occur at the rear of these resistors.

상기 제1저항체(2)와 제2저항체(3)들은 판형 또는 유체의 흐름방향에 대향하여 좁은 선단부와 넓은 후단부를 갖는 첨봉의 형상, 반구형, 단면의 형상이 원형인 원추형 또는 단면의 형상이 다각형인 방추형으로 성형될 수 있다. 이러한 형태는 유체의 속도가 일정할 때 상기 저항체의 후방에서 경계층을 분할하고, 유체의 분할 지점에서 와류를 효율적으로 형성하도록 기능하며, 이로 인해 공동(캐비테이션공동)이 형성된다. 도 1을 기준으로 볼 때, 제1저항체(2)는 원추형으로 성형되고, 제2저항체(3)는 판형으로 성형되어 각각 상기 도관(1) 내에 고정된 것으로 도시되어 있다. 이들 저항체들의 고정을 위한 고정수단 등에는 특별한 제한이 요구되지 않는다. 예를 들어, 상기 제1저항체(2)는 상기 도관(1)의 내벽에 일체로 고정되어 상기 내벽으로부터 돌출되도록 형성된 강성의 봉상체 등에 의해 고정될 수 있으며, 상기 제2저항체(3)는 상기 도관(1)의 내벽에 직접적으로 용접 등에 의해 고정될 수 있다. 그러나 본 발명은 이들 저항체의 고정에 의해 한정되는 것은 아니다. 특히, 제2저항체(3)는 중심부가 구멍이 뚫린 도너츠 모양의 원판의 형상으로 성형되어 있다. 이 중심부의 구멍의 직경에 해당하는 직경이 상기 제2저항체(3)의 전방에 위치하는 제1저항체(2)의 후단부의 직경과 동일 또는 유사하며, 그에 따라 상기 도관(1) 내를 흐르는 유체(6)는 상기 제1저항체(2) 또는 상기 제2저항체(3) 중 어느 하나에 반드시 부딪치면서 흐르게 되고, 그에 따라 상기 도관(1) 내의 유체(6)의 흐름을 층류로 만드는 경우, 층류를 구성하는 모든 유선(5)들이 상기 제1저항체(2) 또는 제2저항체(3)에 접촉하게 되며, 그에 따라 상기 제1저항체(2)와 제2저항체(3)에 의해 이들 저항체들의 후방에 캐비테이션공동(4)들이 형성되게 된다. 또한, 상기 저항체들을 상기한 바와 같은 형상을 갖도록 하는 것에 의하여, 전체적으로 유체의 흐름을 위한 압력을 낮출 수 있으면서 동시에 상기 저항체들의 후방에서 캐비테이션공동(4)이 효과적으로 형성되도록 할 수 있다. 또한 상기 저항체는 뭉툭하게 돌출된 형태로 될 수 있다. 이러한 형태는 유동체의 속도가 일정할 때 캐비테이션 반응판으로서의 저항체의 뒷부분에서 경계층을 분할하고, 유동의 분할 지점에서 와류를 효율적으로 형성하기 위한 것으로, 이로 인해 원칙적인 공동(空洞)이 발생되고, 이로 인해 캐비테이션 저항체의 뒷부분에서는 단일한 공동이 이루어진다. 유동에 캐비테이션 저항체가 설치되면, 이 저항체 후미 부위의 캐비테이션 트랙은 캐비테이션화 되지 않은 매질과 서로 분리되며, 또한 이 내벽의 영역에서는 모든 유동체의 캐비테이션화가 이루어지지 않는다. 그러므로 유동체가 캐비테이션화 되지 않는 "통과" 현상을 방지하기 위해서는 액적의 흐름을 따라 이러한 현상이 예상되는 저항체의 뒷 부분에 2번째 저항체가 설치되어야 한다. 예를 들어, 원주의 단면으로 유동의 중심 부위에 처음으로 하나의 캐비테이션 저항체가 설치되면 두 번째 단계의 처리로는 유동의 중심을 따라 원주의 단면으로 홀이 있는 판이 그 역할을 수행할 수 있다. 유동의 단면을 따라 몇 개의 캐비테이션 저항체를 설치하게 될 경우, 두 번째 저항체는 유동의 일부가 공동의 영역으로 인입되지 않게 배치되어, 두 번째 캐비테이션 저항체로 흘러들어가 이곳에서 캐비테이션화가 진행되어야만 한다. 몇 단계(두 단계 혹은 그 이상으로)의 캐비테이션 저항체들이 설치될 경우, 유동 부분과 "통과" 영역에서 캐비테이션 작용이 발생되는 교차 영역에서는 교대로 유동의 모든 액적을 균등하고 효과적으로 처리할 수 있다. 그리고 하나 혹은 몇 개의 캐비테이션 저항체는 바로 이 부위에서 최대 속도가 보장되고, 유동의 나머지 부위에서는 저항에 따른 손실을 낮춰야하기 때문에 유동의 협폭 부위에 위치하는 것이 적절하다.The first resistor 2 and the second resistor 3 are polygonal in the shape of a peak, a hemispherical shape, a circular shape having a narrow tip and a wide rear end, or a polygonal shape of a cross section facing a plate or fluid flow direction. It can be molded into a phosphorus spindle. This configuration functions to divide the boundary layer at the rear of the resistor when the velocity of the fluid is constant, and to efficiently form the vortex at the dividing point of the fluid, thereby forming a cavity (cavitation cavity). Referring to FIG. 1, the first resistor 2 is shaped like a cone and the second resistor 3 is shaped like a plate and fixed in the conduit 1, respectively. No special limitation is required for the fixing means for fixing these resistors. For example, the first resistor 2 may be fixed to the inner wall of the conduit 1 by a rigid rod-shaped body or the like formed to protrude from the inner wall, and the second resistor 3 may be fixed to the inner wall of the conduit 1. The inner wall of the conduit 1 can be fixed directly by welding or the like. However, the present invention is not limited by the fixing of these resistors. In particular, the second resistor 3 is molded in the shape of a donut-shaped disk with a central hole punched out. The diameter corresponding to the diameter of the hole in the central portion is the same as or similar to the diameter of the rear end of the first resistor 2 located in front of the second resistor 3, and thus the fluid flowing in the conduit 1 (6) flows while necessarily hitting either the first resistor 2 or the second resistor 3, thus making the flow of the fluid 6 in the conduit 1 laminar. All of the wires 5 constituting the wires come into contact with the first resistor 2 or the second resistor 3, and thus the first resistor 2 and the second resistor 3 are rearward of the resistors. Cavitation cavities (4) are formed in the. In addition, by having the resistors have the shape as described above, it is possible to lower the pressure for the flow of the fluid as a whole, and at the same time to effectively form the cavitation cavity 4 in the rear of the resistors. In addition, the resistor may be in a blunt form. This type divides the boundary layer at the rear of the resistor as the cavitation reaction plate when the velocity of the fluid is constant, and efficiently forms the vortex at the splitting point of the flow, thereby generating a principle cavity. This results in a single cavity at the back of the cavitation resistor. If a cavitation resistor is installed in the flow, the cavitation track at the trailing end of the resistor is separated from the non-cavitated medium, and no cavitation of all fluids takes place in this inner wall region. Therefore, to prevent the "pass through" phenomenon in which the fluid is not cavitation, a second resistor must be installed at the back of the resistor where this is expected along the flow of the droplets. For example, if a cavitation resistor is first installed at the center of the flow in the cross section of the circumference, the second stage treatment may be a plate with holes in the cross section of the circumference along the center of the flow. If several cavitation resistors are installed along the cross section of the flow, the second resistor must be placed so that no part of the flow enters the cavity area, so that it flows into the second cavitation resistor and the cavitation must proceed there. When cavitation resistors in several stages (two or more) are installed, all droplets of the flow can be treated evenly and effectively in alternating regions where cavitation action occurs in the flow section and in the "pass" region. And one or several cavitation resistors are appropriately located in the narrow section of the flow because the maximum velocity is guaranteed at this point and the resistance loss must be reduced in the rest of the flow.

캐비테이션 저항체는 벤츄리관 내부의 실린더 부위 끝부분에 설치될 수 있다. 도 2에 나타낸 바와 같이, 상기 도관(11)의 내벽에는 도관(11)의 내경을 좁히는 협폭부(12)가 형성될 수 있다. 이 협폭부(12)는 도관(11)의 내경을 좁히도록 기능하며, 그에 의해 도관(11) 내를 흐르는 유체의 속도를 빠르게 하며, 그에 따라 캐비테이션 현상에 의한 기포의 발생량을 증대시키고, 또한 이들 기포들이 터질 때 발생하는 압력과 온도를 높이고, 오존 발생량을 증가시키도록 기능한다. 즉, 저항체들이 연속적으로 설치되는 본 발명에서는 상기 도관 내로 유입되는 액적의 정압이 높아지게 된다. 그러므로 저항체로의 속력이 빨라져야만 하며, 이를 위해서 상 기한 바와 같은 협폭부(12)의 도입하는 것에 의해 액적의 처리량과 국부적인 저항계수가 일정할 때 유체의 단면을 감소시켜 유속을 증가시킬 수 있다. 구조적으로, 이는 상기 저항체들이 확대된 것과 같은 효과를 낼 수 있다. 상기 도관(11) 내에는 캐비테이션공동을 형성시키기 위한 다수의 저항체들이 고정된다. 즉, 상기 도관(11)의 중심부에는 제1저항체(13), 제3저항체(16) 및 제5저항체(18)가, 그리고 상기 도관(11)의 내벽 상에는 제2저항체(15) 및 제4저항체(17)가 각각 고정되어 상기 도관(11) 내를 흐르는 유체에 저항하고, 그에 의해 상기 저항체들의 후단에 다수의 캐비테이션공동(14)들이 형성되게 된다. 특히, 도 2에 나타낸 바와 같이, 상기 제2저항체(15) 및 제4저항체(17)들은 상기 도관(11)의 중심부에 위치하는 상기 제1저항체(13), 제3저항체(16) 및 제5저항체(18)들을 기준으로 상기 도관(11)의 내벽 상에 대칭구조를 이루도록 하여 고정될 수 있다. 또한, 도 11에 나타낸 바와 같이 설치될 수도 있다. 이때, 실린더 부위의 길이는 단면을 따라 유동의 균등성이 보장되는 L1/dr = 1 내지 10의 범위에서 정해져야 한다. 그리고 캐비테이션 저항체의 길이는 L2/d = 0.5 내지 5의 범위에서 선택되어야 한다. 유동에 연속적으로 설치되는 하나 혹은 일련의 캐비테이션 저항체는 여러 조건들을 만족시켜야만 한다. 유동 액상매질의 횡단면은 뒷부분의 하나 혹은 일련의 모든 캐비테이션 저항체와 같이 확장되어야만 한다. 액상 매질의 처리량이 같을 경우, 보다 효과적으로 캐비테이션 현상을 일으킬 수 있다. 각각의 캐비테이션 저항체 사이의 간격은 공동의 길이보다 커야 한다. 즉, 공동은 일련의 다음 캐비테이션 저항체가 시작되기 전에 끝나야만 한다. 공동의 상대적 길이(λ = l/d ; 캐비테이션 저항체의 정형적인 크기와 저항체의 뒷부분에서 형성되는 캐비테이션 영역의 전형적인 크기와의 관계)는 2 내지 3이다. 일련의 캐비테이션 저항체의 간격이 (3.5 내지 4)*d 보다 크게 되면, 캐비테이션의 영향을 받는 유체에서 캐비테이션화 되지 않은 흐름이 있는 유동부위가 형성되어 캐비테이션의 영향을 받지 않은 유체와 혼합되므로, 결국에는 유동체의 균등한 처리가 이루어지지 않게 되는 문제점이 있을 수 있다. 그리고 3*d 보다 작은 상태에서는 캐비테이션 저항체의 뒷수분이 침식되는 현상이 발생되는 문제점이 있을 수 있다. 일련의 모드 캐비테이션 저항체와 함께 유동의 횡단면을 증대시켜야만 하는 필요성은 일련의 모든 캐비테이션 저항체와 동시에 공동이 발생되는 조건과 관련이 있다. 캐비테이션 저항체에서의 공동발생을 위해서는 방정식에 따라 산정되는 일정한 속도에 도달해야만 하며, 그 방정식은 하기 수학식 2로 표현된다.The cavitation resistor may be installed at the end of the cylinder portion inside the venturi tube. As shown in FIG. 2, a narrow portion 12 may be formed in the inner wall of the conduit 11 to narrow the inner diameter of the conduit 11. The narrow portion 12 functions to narrow the inner diameter of the conduit 11, thereby speeding up the speed of the fluid flowing in the conduit 11, thereby increasing the amount of bubbles generated by the cavitation phenomenon, It functions to increase the pressure and temperature generated when bubbles burst and to increase the amount of ozone generated. That is, in the present invention in which the resistors are continuously installed, the static pressure of the droplets flowing into the conduit is increased. Therefore, the speed to the resistor must be increased. For this purpose, the introduction of the narrow portion 12 as described above can increase the flow rate by reducing the cross section of the fluid when the throughput of the droplet and the local resistance coefficient are constant. Structurally, this can have the same effect as the resistors are enlarged. In the conduit 11 a plurality of resistors are formed to form a cavitation cavity. That is, the first resistor 13, the third resistor 16 and the fifth resistor 18 are located at the center of the conduit 11, and the second resistor 15 and the fourth resistor are disposed on the inner wall of the conduit 11. Each resistor 17 is fixed to resist fluid flowing in the conduit 11, whereby a plurality of cavitation cavities 14 are formed at the rear ends of the resistors. In particular, as shown in FIG. 2, the second resistor 15 and the fourth resistor 17 are located at the center of the conduit 11. Five resistors 18 may be fixed by forming a symmetrical structure on the inner wall of the conduit 11. It may also be installed as shown in FIG. At this time, the length of the cylinder portion should be determined in the range of L 1 / d r = 1 to 10, which ensures uniformity of flow along the cross section. And the length of the cavitation resistor should be selected in the range of L 2 / d = 0.5 to 5. One or a series of cavitation resistors installed in series in the flow must satisfy several conditions. The cross section of the flowing liquid medium must extend with one or a series of all cavitation resistors at the back. If the throughput of the liquid medium is the same, cavitation may be more effectively caused. The spacing between each cavitation resistor should be greater than the length of the cavity. That is, the cavity must end before the next series of cavitation resistors begins. The relative length of the cavity (λ = l / d; relationship between the typical size of the cavitation resistor and the typical size of the cavitation area formed at the back of the resistor) is 2-3. If the spacing of the series of cavitation resistors is greater than (3.5 to 4) * d, a flow portion with uncavitated flow is formed in the fluid affected by cavitation, eventually mixing with fluid not affected by cavitation. There may be a problem that the equal treatment of the fluid is not made. In a state smaller than 3 * d, there may be a problem in that the back moisture of the cavitation resistor is eroded. The need to increase the cross section of the flow with a series of mode cavitation resistors is related to the conditions under which cavities occur simultaneously with all series of cavitation resistors. For cavitation in the cavitation resistor, a constant velocity calculated according to the equation must be reached, which is represented by the following equation (2).

W = ξ(2(PB-PA/ρ)0.5 W = ξ (2 (P B -P A / ρ) 0.5

상기 식에서, W는 임계단면에서 유동 액적의 속도이고, ξ는 해당 단면에 위치한 저항체의 국부적 저항계수이고, PB는 캐비테이션 저항체 전단의 액적 압력이고, PA는 해당 온도에서의 이 액적의 포화증기압력이고, ρ는 액적의 밀도이다. 도 11에서 각 명칭은 다음과 같다. α1은 유동의 협소 부위 각도이고, α2는 유동의 확대 부위 각도이고, L1은 벤츄리관 실린더 부위의 길이이고, L2는 캐비테이션 저항체의 길이이고, d는 캐비테이션 저항체의 정형적인 크기이고, dr은 유동체 단면의 수압 부위 직경이다. 액상 매질의 유동에 캐비테이션 저항체가 연속적으로 설치될 경우, 이전의 모든 캐비테이션 저항체에 인입되는 액상 매질의 정압(PB)은 높아진다. 그러므로 이전의 모든 캐비테이션 저항체로의 속력은 높아야 하며, 이를 위해서는 액상 매질의 처리량과 국부적인 저항계수가 일정할 때 유동의 단면은 감소되어야만 한다. 또한, 해당 단면에 설치된 저항체의 단면은 확대된다. 구조적으로 이것은 유동이 확대된 부위에 저항체가 설치된 것처럼 보일 수 있다. 캐비테이션 저항체 혹은 일련의 저항체의 유동의 길이를 따라 인접한 2개의 좁은 단면에서 유체의 유동 단면적의 상관관계는 0.35 내지 3이 된다. 인접한 저항체에서 유체의 유동 단면적 관계값이 0.35 미만일 때는 첫 번째 저항체의 유체 처리량이 감소되고, 두 번째 저항체에서 캐비테이션 현상을 발생시키기 위해서는 처리량을 증대시켜야 하고, 이에 따라 첫 번째 저항체에서의 압력손실이 발생하므로 합리적이지 못하다는 문제점이 있을 수 있고, 반대로 3을 초과하는 경우, 두 번째 저항체의 유체 처리량이 감소되며, 첫 번째 저항체에서 캐비테이션 현상을 발생시키기 위해서는 처리량을 증대시켜야 하고, 이에 따라 두 번째 저항체에서의 압력손실이 발생하므로 이 또한 합리적이지 못하다는 문제점이 있을 수 있다. 에멀젼 혹은 어떤 혼합물을 제조하는 경우, 캐비테이션 작용이 발생되는 저항체의 전단에 유화된 유체를 인입하는 것은 사전 준비 없이 장치 내부에 이를 분출함으로써 실현될 수 있다. 그 결과, 첫 번째 저항체에서는 유화가 발생되는 유체의 유동 속에서 에멀젼화 되는, 유체의 러프(rough)한 분쇄 및 평균화공정이 발생된다. 유체의 유동 속에서 캐비테이션 작용이 발생함으로 인해 압력 차이가 상당할 경우에, 본 공정은 에너지를 소비한다(power-consuming). 따라서, 사전 혼합을 실시하는 것이 바람직하다. 에멀젼화 된 유체와 에멀젼화가 발생될 유체의 사전 혼합 장치는 표면에 에멀젼화 된 유체 인입용 홀이 있는 멀티젯(multi-jet) 헤드 또는 노즐 형태의 교반기에 의해 실현될 수 있으며, 이로 인해 해당 부분에서는 단면을 따라 에멀젼화가 발생되는 유체에 에멀젼화된 유체의 인입이 보장된다.. Where W is the velocity of the flowing droplet at the critical section, ξ is the local resistance coefficient of the resistor located at that cross section, P B is the droplet pressure at the front of the cavitation resistor, and P A is the saturated vapor of this droplet at that temperature Pressure, ρ is the density of the droplet. In FIG. 11, each name is as follows. α 1 is the narrow region angle of the flow, α 2 is the enlarged region angle of the flow, L 1 is the length of the venturi tube cylinder region, L 2 is the length of the cavitation resistor, d is the regular size of the cavitation resistor, d r is the hydraulic pressure part diameter of the fluid cross section. When the cavitation resistor is continuously installed in the flow of the liquid medium, the static pressure P B of the liquid medium introduced into all the previous cavitation resistors becomes high. Therefore, the velocity to all previous cavitation resistors must be high, and this requires that the cross section of the flow must be reduced when the throughput of the liquid medium and the local resistance coefficient are constant. Moreover, the cross section of the resistor provided in this cross section is expanded. Structurally this may appear to be a resistor installed in the area where the flow is expanded. The correlation of the flow cross sectional area of the fluid in two adjacent narrow cross sections along the length of the flow of the cavitation resistor or series of resistors is 0.35-3. When the flow cross-sectional area of the fluid in the adjacent resistor is less than 0.35, the fluid throughput of the first resistor is reduced, and the throughput must be increased to generate the cavitation phenomenon in the second resistor, which results in pressure loss at the first resistor. Therefore, there may be a problem that it is not reasonable, on the contrary, if it exceeds 3, the fluid throughput of the second resistor is reduced, and in order to generate a cavitation phenomenon in the first resistor, the throughput must be increased. Since pressure loss occurs, this may not be reasonable. When preparing an emulsion or any mixture, the introduction of the emulsified fluid to the front end of the resistor where the cavitation action takes place can be realized by ejecting it into the device without prior preparation. As a result, a rough grinding and averaging process of the fluid occurs in the first resistor, which is emulsified in the flow of the fluid in which the emulsification occurs. If the pressure difference is significant because of the cavitation action in the flow of the fluid, the process is power-consuming. Therefore, it is preferable to perform premixing. The premixing device of the emulsified fluid with the fluid to be emulsified can be realized by means of a stirrer in the form of a multi-jet head or nozzle with emulsified fluid inlet holes on the surface, whereby the part Is ensured the introduction of the emulsified fluid into the fluid where emulsification occurs along the cross section. .

특히 바람직하게는, 본 발명에 따른 유체처리장치는, 도 3 내지 도 5들에 나타낸 바와 같이, 유체가 흐르는 도관(31)과; 상기 도관(31) 내에 단면이 6각형인 방추형으로 형성된 다수의 저항체들이 허니컴(honeycomb)배치의 구조로 배열 및 고정되어 이들 저항체들 사이에 다수의 일정한 유로들이 형성되도록 이루어지되, 상기 허니컴배치가 상기 단면이 6각형인 방추형으로 형성된 중심저항체(32)가 상기 도관(31)의 중심부에 위치하도록 고정되고, 상기 중심저항체(32)를 중심으로 방사상으로 6개의 주변저항체(33)들이 고정되고, 그리고 6개의 부분저항체(34)들이 상기 주변저항체(33)들의 모서리들 사이에 위치하도록 하여 상기 도관(31)의 내벽에 고정되어 이루어지며, 그에 따라 상기 저항체들 사이에 균일한 유로(36)가 형성되도록 이루어짐을 특징으로 한다. 즉, 원형의 단면을 갖는 도관(31) 내에 6각형의 단면을 갖는 다수의 저항체들을 균일하게 설치하기 위해서는 상기 저항체들은 상기 도관(31) 내에 허니컴 구조로 배열되는 것이 바람직하다. 상기에서 중심저항체(32)와 주변저항체(33)들은 단면이 6각형인 완전한 방추형으로 형성되는 것임에 비하여, 상기 부분저항체(34)들은 상기 단면이 6각형인 완전한 방추형의 중심축, 즉 상기 방추형의 정점에서 바닥면으로 향하는 축과 평행한 방향을 따라 상기 방추형을 부분적으로 절단한 형상을 갖도록 한 것으로서, 예를 들어 도 4 및 도 5에서는 상기 도관(31)의 내벽에 고정되며, 2개의 측면들 만이 나타나도록 도시된 것과 같은 형상을 갖는 것이 될 수 있다. 이들 부분저항체(34)들은, 도 4 및 도 5에 나타낸 바와 같이, 상기 주변저항체(33)들에 인접하게 배치되되, 상기 주변저항체(33)들의 모서리들 사이에 위치하도록 하며, 상기 도관(31)의 내벽에 부착되어 상기 주변저항체(33)들과 상기 도관(31)의 내벽 사이에 형성되는 공간을 메우도록 취부되며, 그에 따라 전체적으로 균일한 유로(36)들이 형성되도록 기능한다. 상기 허니컴배치는 상기 도관(31) 내에 적어도 2개 이상 형성되되, 후방에 위치하는 제2의 허니컴배치(Y)가 그 전방에 위치하는 제1의 허니컴배치(X)에 대해 1 내지 59°의 범위 이내의 변위각(α)으로 변위되어 이루어질 수 있다. 상기 허니컴배치(X, Y)는 상기 단면이 6각형인 방추형으로 형성된 중심저항체(32)가 상기 도관(31)의 중심부에 위치하도록 고정되고, 상기 중심저항체(32)를 중심으로 방사상으로 6개의 주변저항체(33)들이 고정되고, 그리고 6개의 부분저항체(34)들이 상기 주변저항체(33)들의 모서리들 사이에 위치하도록 하여 상기 도관(31)의 내벽에 고정되어 이루어진다. 이러한 허니컴배치(X, Y)는 상기 저항체들 사이에 균일한 유로(36)들이 다수 형성될 수 있으며, 유체는 이들 유로(36)들을 통과하여 상기 저항체들을 지나 칠 수 있으며, 상기 저항체들의 후방에서 캐비테이션공동을 형성할 수 있다. 상기 캐비테이션공동에는 다수의 기포들이 발생되게 되고, 이들 기포들이 터질 때 발생하는 압력과 온도 및 오존 등을 이용하여 혼합작용, 정화작용 및 산화작용의 효율을 높이도록 한다. 상기 허니컴배치의 변위각(α)이 1° 미만인 경우, 변위가 거의 없고, 그에 따라 상기 제1의 허니컴배치(X)와 제2의 허니컴배치(Y)가 거의 일치하는 위상을 가지게 되며, 그에 따라 상기 저항체들 사이에 형성되는 유로(36)가 거의 변형되지 않기 때문에 이 유로(36)를 따라 저항체들과 접촉하지 않고 흐르는 유선이 형성될 수 있는 문제점이 있을 수 있고, 반대로 59°를 초과하는 것 역시 단면이 6각형인 저항체들로 이루어지기 때문에 변위가 거의 없고, 그에 따라 상기 제1의 허니컴배치(X)와 제2의 허니컴배치(Y)가 거의 일치하는 위상을 가지게 되며, 그에 따라 상기 저항체들 사이에 형성되는 유로(36)가 거의 변형되지 않기 때문에 이 유로(36)를 따라 저항체들과 접촉하지 않고 흐르는 유선이 형성될 수 있는 문제점이 있을 수 있다. 상기 변위각(α)은 바람직하게는 30°가 될 수 있다. 상기 변위각(α)이 30°인 경우라야 상기 제1의 허니컴배치(X)에서 형성되는 유로(36)들과 상기 제2의 허니컴배치(Y)에서 형성되는 유로(36)들이 최대로 서로 다른 위상을 가지게 되어 유로(36)의 변화를 가장 크게 할 수 있다. 상기 중심저항체(32) 및 주변저항체(33)들은 통상의 고정수단, 예를 들어 상기 허니컴배치에서 주변저항체(33)들은 고정수단(35)에 의해 상기 도관(31)의 내벽에 일체로 고정되어 상기 내벽으로부터 돌출되도록 형성된 강성의 봉상체 등에 의해 고정될 수 있다. 즉, 도 4 및 도 5를 기준으로 볼 때, 상기 주변저항체(33)들은 상기 도관(31)의 내벽에 일체 로 고정되어 상기 내벽으로부터 돌출되도록 형성된 강성의 봉상체에 의해 고정되고, 상기 주변저항체(33) 들의 중심부에 위치하는 상기 중심저항체(32)는 상기 주변저항체(33)들에 고정된 또 다른 강성의 봉상체에 의해 고정될 수 있다. 그러나 본 발명은 이들 강성의 봉상체에 의해 도 4 및 도 5에 나타낸 대로만 고정되는 것으로 한정되는 것이 아님은 당업자에게는 당연히 이해될 수 있는 것이다.Particularly preferably, the fluid treatment apparatus according to the present invention comprises a conduit 31 through which fluid flows, as shown in FIGS. 3 to 5; In the conduit 31, a plurality of resistors formed in a hexagonal spindle shape are arranged and fixed in a honeycomb arrangement so that a plurality of constant flow paths are formed between the resistors. A central resistor 32 formed in the shape of a hexagon having a hexagonal cross section is fixed to be located at the center of the conduit 31, and six peripheral resistors 33 are fixed radially about the central resistor 32. The six partial resistors 34 are positioned between the edges of the peripheral resistors 33 so as to be fixed to the inner wall of the conduit 31 so that a uniform flow path 36 is formed between the resistors. Characterized in that it is made. That is, in order to uniformly install a plurality of resistors having a hexagonal cross section in the conduit 31 having a circular cross section, the resistors are preferably arranged in a honeycomb structure in the conduit 31. Wherein the center resistor 32 and the peripheral resistor 33 is formed in a complete spindle shape of the hexagonal cross section, the partial resistors 34 are the central axis of the complete spindle of the hexagonal shape, that is the spindle shape The fusiform is partially cut along a direction parallel to the axis from the apex to the bottom surface, and is fixed to the inner wall of the conduit 31 in FIGS. 4 and 5, for example. It can be of the same shape as shown so that only these appear. These partial resistors 34 are disposed adjacent to the peripheral resistors 33, as shown in FIGS. 4 and 5, and positioned between the edges of the peripheral resistors 33, and the conduit 31. It is attached to the inner wall of the c) is mounted to fill the space formed between the peripheral resistors 33 and the inner wall of the conduit 31, thereby functioning to form a uniform flow path 36 as a whole. At least two honeycomb batches are formed in the conduit 31, and the second honeycomb batch Y located at the rear of the honeycomb batch Y is 1 to 59 ° with respect to the first honeycomb batch X located at the front thereof. It can be made by displacement at a displacement angle α within the range. The honeycomb arrangement (X, Y) is fixed so that the center resistor 32 is formed in a fusiform shape of the hexagonal cross section is located in the center of the conduit 31, six radially around the center resistor 32 Peripheral resistors 33 are fixed, and six partial resistors 34 are fixed between the edges of the peripheral resistors 33 to the inner wall of the conduit 31. The honeycomb arrangement (X, Y) may be formed with a plurality of uniform flow paths 36 between the resistors, the fluid may pass through these flow paths 36 to pass through the resistors, at the rear of the resistors Cavitation cavity can be formed. A plurality of bubbles are generated in the cavitation cavity, and the efficiency of mixing, purifying and oxidation is enhanced by using pressure, temperature, and ozone generated when these bubbles burst. When the displacement angle α of the honeycomb batch is less than 1 °, there is almost no displacement, and thus the first honeycomb batch X and the second honeycomb batch Y have a phase substantially coincident with each other. Therefore, since the flow paths 36 formed between the resistors are hardly deformed, there may be a problem in that a streamline flowing without contacting the resistors along the flow paths 36 may be formed, on the contrary, exceeding 59 °. It is also made of resistors having a hexagonal cross section, so there is almost no displacement, and thus the first honeycomb batch X and the second honeycomb batch Y have a phase substantially coincident with each other. Since the flow paths 36 formed between the resistors are hardly deformed, there may be a problem that a streamline flowing along the flow paths 36 without contacting the resistors may be formed. The displacement angle α may preferably be 30 °. Only when the displacement angle α is 30 °, the flow paths 36 formed in the first honeycomb batch X and the flow paths 36 formed in the second honeycomb batch Y are maximized with each other. It is possible to have a different phase so that the change in the flow path 36 can be the largest. The center resistor 32 and the peripheral resistors 33 are fixed to the inner wall of the conduit 31 by a conventional fixing means, for example, the peripheral resistors 33 in the honeycomb batch by the fixing means 35. It may be fixed by a rigid rod-shaped body or the like formed to protrude from the inner wall. That is, referring to FIGS. 4 and 5, the peripheral resistors 33 are fixed to the inner wall of the conduit 31 and fixed by a rigid rod-shaped body protruding from the inner wall. The center resistor 32 located at the center of the 33 may be fixed by another rigid rod-shaped body fixed to the peripheral resistors 33. However, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention is not limited to being fixed only as shown in Figs. 4 and 5 by these rigid rods.

또한 본 발명에 따른 유체처리장치는, 도 6에 나타낸 바와 같이, 유체가 흐르는 도관(21)과; 상기 도관(21) 내에 위치하며, 유체(24)의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제1저항체(22)와; 상기 제1저항체(22)의 후방에 위치하며, 역시 유체의 흐름에 저항하도록 고정된, 다수의 통공이 형성된 적어도 하나 이상의 격자판(25);들을 포함하여 이루어지되, 상기 격자판(25)들 중의 어느 하나 또는 2이상의 격자판(25)들이 상기 제1저항체(22)의 후방에 형성되는 캐비테이션공동(23) 내에 위치하도록 설치되어 이루어짐을 특징으로 한다. 상기 제1저항체(22)는 앞서 설명한 도 1의 제1저항체(2)와 동일 또는 유사한 것으로 이해될 수 있다. 상기 제1저항체(22)의 후방에 위치하며, 상기 제1저항체(22)에 의해 형성되는 캐비테이션공동(23) 내에 발생하는 기포를 터뜨리는 기능을 한다. 상기 격자판(25)에는 다수의 통공들이 형성되어 있어 유체의 흐름을 원활하게 하면서도 그 내부를 통과하는 기포들과 접촉하여 기포가 보다 효과적으로 터지도록 기능한다. 즉, 상기 격자판(25)의 설치는 상기 저항체의 후방에 형성되는 캐비테이션공동 내에서 다양한 기(基)의 캐비테이션화 된 기포의 파괴(collapse)의 결과로 형성되기 때문에 촉매제의 효율이 향상된다. 표면 활성 물질의 (surface active substance) 분자의 극 성을 증대시켜서 이의 에멀전화 특성을 강화시키는 전자기 작용의 방식은 이미 널리 알려진 바이다. 본 발명에 따른 유체처리장치는 처리대상 유체에 전자기장과 캐비테이션에 의한 작용을 동시에 일어나게 할 수 있다. 도달된 결론은 에멀젼이 형성되는 처리대상 유체의 캐비테이션 작용은 상술된 별개의 방법에 의한 작용보다 보다 안정된 에멀젼을 생산할 수 있는 표면 활성 물질의 에멀젼 성질을 증대시키는 전자기 효과와 결합(combine)될 수 있다는 것이다. 캐비테이션공동 영역에서 촉매제가 도포된 (코팅된) 격자를 설치하는 것은 캐비테이션화 된 기포가 파괴(collapse)된 결과로 다양한 기(基, radical)가 형성되기 때문에 화학적 공정의 효율성을 향상시킨다. 이 격자의 결합은 기(基)가 살아있는(존재하는) 시간이 적고, 생성되는 양이 적기 때문에, 화학적 반응에 참여하는 기들이 재조합될 수 있는 시간이 있음으로서, 본질적으로 진행되는 화학 공정의 효율성을 감소시킬 수 있다는 것이다. 그러므로, 화학 반응의 경과를 촉진시키기 위해서 이 격자는 활성기가 형성되는 영역에 설치되는 것이 바람직하다. 구조적으로 이것은 캐비테이션 저항체의 뒷부분에 (2 내지 3)*d의 간격으로 캐비테이션공동 영역에 설치된 비캐비테이션화 피복 재료로 코팅된 격자가 될 수 있다. 이때 충격파와 누적된 흐름의 완충작용이 발생되고, 촉매제로의 파괴 작용이 약해지거나 소멸된다. 촉매제의 효율을 증가시키고, 반응 속도를 높이기 위해서 하나 혹은 몇 단계의 공동 반응 영역이 캐비테이션 저항체를 통해서 도입될 수 있다. 유동의 매질에서 기체 상태의 물질이 분산되는 것은 이를 캐비테이션 저항체 전단에 인입함으로서 실현될 수 있으며, 또한 캐비테이션 저항체 중 하나의 후미부위의 공동 영역으로도 인입될 수 있다. 이 경우, 가스-액체 상태인 유동의 다단 처리는 가스 상태의 산포가 감소되어, 이의 안정성이 증대된다.In addition, the fluid treatment apparatus according to the present invention includes a conduit 21 through which fluid flows; At least one first resistor (22) located in said conduit (21) and fixed to resist the flow of fluid (24); At least one grating plate 25 having a plurality of apertures, which is located behind the first resistor 22 and is also fixed to resist the flow of fluid. One or more grating plates 25 are installed so as to be located in the cavitation cavity 23 formed at the rear of the first resistor 22. The first resistor 22 may be understood to be the same as or similar to the first resistor 2 of FIG. 1. Located in the rear of the first resistor 22, and serves to burst bubbles generated in the cavitation cavity 23 formed by the first resistor (22). The grating plate 25 is formed with a plurality of through-holes to facilitate the flow of the fluid, while functioning to contact the bubbles passing through the bubbles to more effectively burst. That is, the efficiency of the catalyst is improved because the grid plate 25 is formed as a result of the collapse of the cavitation bubbles of various groups in the cavitation cavity formed behind the resistor. Methods of electromagnetic action that enhance the polarity of the surface active substance molecules to enhance their emulsifying properties are well known. The fluid treatment apparatus according to the present invention can cause the fluid to be treated to act simultaneously by electromagnetic fields and cavitation. The conclusion reached is that the cavitation action of the fluid to be treated in which the emulsion is formed can be combined with the electromagnetic effect of enhancing the emulsion properties of the surface active material which can produce a more stable emulsion than the action by the separate methods described above. will be. Installing a catalyst coated (coated) grating in the cavitation cavity region improves the efficiency of the chemical process because various radicals are formed as a result of the collapse of the cavitation bubbles. Because the lattice bonds require less time (bases) to live and less are produced, there is time for the groups involved in the chemical reaction to be recombined, thereby inherently increasing the efficiency of the chemical process. Can be reduced. Therefore, in order to accelerate the progress of the chemical reaction, the lattice is preferably provided in the region where the active group is formed. Structurally this may be a grating coated with a non-cavitation cladding material installed in the cavitation cavity region at intervals of (2 to 3) * d at the rear of the cavitation resistor. At this time, a shock action of the shock wave and the accumulated flow occurs, and the breakdown action of the catalyst is weakened or extinguished. One or several stages of co-reaction zones can be introduced through the cavitation resistor to increase the efficiency of the catalyst and speed up the reaction. Dispersion of gaseous material in the medium of flow can be realized by drawing it in front of the cavitation resistor, and also into the cavity region of the trailing edge of one of the cavitation resistors. In this case, the multistage treatment of the flow in the gas-liquid state reduces the gaseous dispersion, thereby increasing its stability.

상기한 바와 같이 내부에 저항체들이 구비되어 캐비테이션 현상이 일어나도록 기능하는 도관(51)들은, 도 7에 나타낸 바와 같이, 그 양측단부 각각에 인입구(52)와 인출구(54)가 형성되어 상기 도관(51) 내로 처리하여야 할 유체를 도입시켜 처리토록 할 수 있다. 상기 인입구(53)에는 인입필터(53)가 고정되어 유체 이외의 불순물이 상기 도관(51) 내로 유입되는 것을 방지하고, 상기 인출구(54)에는 인출필터(55)가 고정되어 상기 도관(51)으로부터 빠져나오는 유체 중에 포함될 수 있는 불용분 등의 고형분이 인출되어 제품에 혼입되는 것을 방지토록 기능한다. 또한, 제2인입구(56)로는 제2의 유체가 도입될 수 있으며, 상기 인입구(53)로 도입된 유체와 상기 제2인입구(56)로 도입된 유체들은 도관(51) 내에 형성된 다수의 저항체들의 작용에 의한 캐비테이션 작용에 의해 서로 혼합될 수 있다. 예를 들어, 상기 인입구(53)로 오일이 유입되고, 상기 제2인입구(56)로 물이 유입되는 경우, 이들 오일과 물은 상기 도관(51) 내에 형성된 다수의 저항체들의 작용에 의한 캐비테이션 작용에 의해 서로 혼합되어 유화될 수 있게 된다.As described above, the conduits 51 having resistors therein and functioning to cause a cavitation phenomenon, as shown in FIG. 7, have inlets 52 and outlets 54 formed at both ends thereof, respectively. 51) The fluid to be treated can be introduced into the process. An inlet filter 53 is fixed to the inlet 53 to prevent impurities other than fluid from flowing into the conduit 51, and an outlet filter 55 is fixed to the outlet 54 so that the conduit 51 is fixed. It functions to prevent solid matters, such as insoluble matters, which may be contained in the fluid coming out from the product, being drawn out and incorporated into the product. In addition, a second fluid may be introduced into the second inlet 56, and the fluid introduced into the inlet 53 and the fluids introduced into the second inlet 56 may include a plurality of resistors formed in the conduit 51. It can be mixed with each other by the cavitation action by the action of these. For example, when oil flows into the inlet 53 and water flows into the second inlet 56, these oils and water are cavitation action by the action of a plurality of resistors formed in the conduit 51. By being mixed with each other to emulsify.

상기 제2인입구(56)는 상기 도관(51)을 구성하는 벽을 관통하여 상기 도관(51) 내로 인입되는 구조를 가지며, 그 단부에는 다수의 인입통공(57)들이 형성되어 있다. 상기 인입통공(57)은 상기 제2인입구(56)를 통하여 유입되는 유체를 상기 도관(51) 내를 흐르는 유체 내로 고르게 분산되도록 방사상으로 배치되며, 하나의 통공이 아닌 여러개의 통공을 통하여 분산되면서 혼합되도록 기능한다. 상기 제2인입구(56)의 인입각도, 직경, 깊이 등은 다양하게 변화될 수 있다.The second inlet 56 penetrates through the wall constituting the conduit 51 and enters into the conduit 51, and a plurality of inlet holes 57 are formed at an end thereof. The inlet hole 57 is radially disposed to evenly distribute the fluid flowing through the second inlet 56 into the fluid flowing in the conduit 51, and is dispersed through a plurality of holes instead of one. Function to mix The pulling angle, diameter, depth, etc. of the second inlet 56 may be variously changed.

또한 상기 제2인입구(56)의 단부는 도 8에 도시한 바와 같이 상기 도관(51) 내를 흐르는 유체의 흐름방향을 따라 평행하게 되도록 굴곡되어 형성되는 인입단부(58)를 포함할 수 있다. 이러한 인입단부(58)의 형성에 의해 상기 제2인입구(56)를 통해 유입되는 유체와 상기 도관(51) 내를 흐르는 유체의 혼합을 용이하게 하고, 상기 도관(51) 내를 흐르는 유체에 저항이 보다 작게 걸리게 하는 효과가 있다. 또한, 분출(jet)은 에멀젼이 발생되는 모든 유체의 단면을 따라 유동에 다양한 깊이로 흐름을 침투시키고, 에멀젼화된 유체를 방출하기 위하여 헤드 표면에서 다양한 각도로 보내질 수 있다. 에멀젼화된 유체의 인입 헤드는 첫 번째 또는 일련의 저항체들에서 캐비테이션 교반장치의 지름에 대하여 1.5 내지 5의 간격으로 위치한다.In addition, an end portion of the second inlet 56 may include an inlet end 58 that is bent to be parallel to the flow direction of the fluid flowing in the conduit 51 as shown in FIG. 8. The formation of the inlet end 58 facilitates mixing of the fluid flowing through the second inlet 56 with the fluid flowing in the conduit 51 and resists the fluid flowing in the conduit 51. It is effective to make it smaller than this. Jets may also be sent at various angles at the head surface to infiltrate the flow at varying depths along the cross section of all fluids in which the emulsion occurs and to release the emulsified fluid. The inlet head of the emulsified fluid is located at an interval of 1.5 to 5 with respect to the diameter of the cavitation agitator in the first or series of resistors.

또한 상기 제2인입구(56)의 단부에는, 도 9 및 도 10에 도시한 바와 같은 노즐체(60)가 더 취부될 수 있다. 상기 노즐체(60)는 상기 제2인입구(56)의 단부에 결합되어 고정되는 노즐캡(61)과; 상기 노즐캡(61)과 상기 제2인입구(56)의 단부 사이에 고정되며, 그 내부에 중간유로(65)를 형성하는 중간캡(63)과; 상기 중간캡(63)의 중심부를 밀폐하여 상기 중간캡(63)과의 사이에 상기 중간유로(65)를 형성하는 폐색구(64)와; 상기 제2인입구(56)에 의해 형성되는 메인유로(62)와 상기 중간유로(65)를 서로 유체적으로 연결하는 통수구(66); 및 상기 중간캡(63)과 상기 폐색구(64)의 단부에서 형성되는 좁은 틈으로 이루어지는 방출구(67)를 포함하여 이루어진다. 이러한 구성의 노즐체(60)는 상기 제2인입구(56)를 통해 유입되는 유 체를 상기 통수구(66)를 통해 상기 중간유로(65)를 거쳐 그에 연결되는 상기 방출구(67)를 통해 방출되게 되며, 이때 상기 통수구(66)와 상기 중간유로(65)는 서로에 대해 수직방향의 흐름을 형성하고, 동시에 상기 통수구(66)는 상기 중간유로(65)의 중심에서 벗어나 편심되어 형성되어 있기 때문에 상기 통수구(66)를 통하여 상기 중간유로(65) 내로 유입되는 유체의 흐름은 상기 중간유로(65) 내로 인입되면서 상기 중간유로(65)의 둥근 벽을 따라 흐르게 되어 자연스럽게 와류를 형성하게 되고, 이러한 와류의 흐름은 관성에 의해 유지되면서 종국적으로 상기 방출구(67)를 통해 방출됨으로써 상기 제2인입구(56)를 통해 유입되는 유체를 상기 도관(51) 내를 흐르는 유체와 보다 원활하게 혼합되도록 할 수 있다. 특히 상기한 제2인입구(56)의 단부에 형성되는 인입통공이나 노즐캡 등의 구조는 캐비테이션 작용이 일어나기 전에 에멀젼화된 유체를 인입하기 위한 용도로 사용될 수 있으며, 이는 제1저항체와 일정간격 이상 이격되어 설치되어야 한다. 이 간격이 너무 좁으면 큰 액적들이 부서지기 위한 간격이 확보되지 못하게 되는 문제점이 있을 수 있고, 너무 멀어지게 되면 에멀젼화된 유체의 액적이 유착되는 현상이 발생하는 문제점이 있을 수 있다.In addition, a nozzle body 60 as shown in FIGS. 9 and 10 may be further attached to an end portion of the second inlet 56. The nozzle body 60 has a nozzle cap 61 is fixed to the end of the second inlet (56); An intermediate cap 63 fixed between the nozzle cap 61 and an end of the second inlet 56 and forming an intermediate passage 65 therein; A closure port 64 sealing the central portion of the intermediate cap 63 to form the intermediate flow path 65 between the intermediate cap 63; A water passage 66 for fluidly connecting the main passage 62 and the intermediate passage 65 formed by the second inlet 56 to each other; And a discharge opening 67 formed of a narrow gap formed at an end of the intermediate cap 63 and the closure hole 64. The nozzle body 60 having such a configuration allows the fluid flowing through the second inlet 56 to pass through the intermediate passage 65 through the water outlet 66 through the discharge port 67 connected thereto. In this case, the water outlet 66 and the intermediate passage 65 forms a vertical flow with respect to each other, and at the same time the water outlet 66 is eccentric away from the center of the intermediate passage 65 Since it is formed, the flow of fluid flowing into the intermediate passage 65 through the water inlet 66 flows along the round wall of the intermediate passage 65 while flowing into the intermediate passage 65 to naturally vortex The vortex flow is maintained by inertia and is finally discharged through the discharge port 67, so that the fluid flowing through the second inlet 56 with the fluid flowing in the conduit 51 To blend smoothly can do. In particular, the structure of the inlet hole or the nozzle cap formed at the end of the second inlet 56 may be used to introduce the emulsified fluid before the cavitation action occurs, which is more than a predetermined distance from the first resistor. It should be spaced apart. If the spacing is too narrow, there may be a problem that the spacing for breaking large droplets is not secured, and if too far apart, there may be a problem that the droplets of the emulsified fluid are coalesced.

상기한 바와 같은 구성을 갖는 본 발명에 따른 유체처리장치는 중유 또는 벙커C유와 물을 혼합하여 에멀젼 오일(Emulsion oil)을 제조하거나, 캐비테이션 현상에 의해 발생되는 오존과 기타 용존산소 등을 이용하여 오일 또는 폐유를 정제하거나, 폐수를 정화하는 데 유용하며, 특히, 에멀젼화에 있어서 종래의 기술의 캐비테이션 장치들이 가동부를 포함하여 구성되기 때문에 필연적으로 6개월 정도 마다 부 품의 교체 및 수선이 요구됨에 비하여 본 발명에서는 이러한 가동부를 포함하지 않으므로 내구성이 우수하고, 그에 따라 높은 생산성을 유지할 수 있다.Fluid treatment apparatus according to the present invention having the configuration as described above to produce an emulsion oil (Emulsion oil) by mixing heavy oil or bunker C oil and water, or by using ozone and other dissolved oxygen generated by the cavitation phenomenon It is useful for refining oil or waste oil, or for purifying waste water. Especially, since the cavitation apparatuses of the prior art in emulsification include moving parts, the replacement and repair of parts are inevitably required every six months. In the present invention, since such a movable part is not included, durability is excellent, and thus high productivity can be maintained.

또한, 상기한 바와 같은 구성의 본 발명에 따른 유체처리장치에는 그 외부에서 전자기장을 인가할 수 있는 전자기장 유도장치 등이 더 설치될 수 있다. 표면활성물질(surface active substance) 분자의 극성을 증대시켜서 이의 에멀젼의 특성을 강화시키는 전자기작용의 방식은 이미 널리 알려져 있으며, 본 발명에 따른 유체처리장치에서도 유체처리장치 내부에서 처리대상 유체를 유화시킬 때 계면활성제와 같은 표면활성물질 분자의 극성을 증대시킬 수 있도록 전자기장을 인가할 수 있음은 당연히 이해될 수 있는 것이다. 따라서 처리대상 유체에 전자기장과 캐비테이션에 의한 작용을 동시에 일어나게 할 수 있다. 그에 따라 에멀젼이 형성되는 처리대상 유체의 캐비테이션 작용은 상술된 별개의 방법에 의한 작용, 즉 캐비테이션 단독 또는 표면활성물질에의 전자기장의 인가 단독의 방법에 의한 작용 보다 안정된 에멀젼을 생산할 수 있는표면활성물질의 에멀젼화 성질을 증대시킬 수 있다. In addition, the fluid treatment apparatus according to the present invention having the configuration as described above may be further provided with an electromagnetic field induction device for applying an electromagnetic field from the outside thereof. BACKGROUND OF THE INVENTION Electromagnetic methods of increasing the polarity of surface active substance molecules to enhance the properties of their emulsions are well known. In the fluid treatment apparatus according to the present invention, the fluid to be treated may be emulsified in the fluid treatment apparatus. It can be understood, of course, that an electromagnetic field can be applied to increase the polarity of a surface active material molecule such as a surfactant. Therefore, the action of the electromagnetic field and the cavitation can be simultaneously caused to the fluid to be treated. The cavitation action of the fluid to be treated in which the emulsion is thus formed is a surface active material which can produce a more stable emulsion than the action by the separate method described above, namely by cavitation alone or by the application of electromagnetic fields to the surface active material alone. It can increase the emulsifying properties of.

캐비테이션 작용이 일어나기 전에 유동을 사전에 준비하기 위하여 도 12에 도시한 바와 같은 교반장치가 사용될 수 있다. 이 장치는 에멀젼화된 유체가 중심도관(61) 내로 공급되고, 이 중심도관(61)의 배출 부위에는 에멀젼화된 유체가 끝부분에 도달하여 분쇄되고, 에멀젼화가 발생되는 유체의 유동으로 이를 인입시키는 디스크로 된 저항체(71)가 설치되어 있다. 상기 저항체(71)에는 유체의 분쇄를 위한 돌기부(72)를 더 포함할 수 있다. 이때 다음 단계에서 캐비테이션 저항체로 인입되는 러프한 에멀젼이 형성된다. 이 저항체는 캐비테이션 요소가 좁아지는 부위 이전에 설치되어야 한다. 즉, 도 12에서, DOTP/DHAP = 1.2 내지 3.0의 범위 이내가 되어야 한다. An agitator as shown in FIG. 12 may be used to prepare the flow in advance before the cavitation action takes place. The device is supplied with emulsified fluid into the central conduit 61, and the discharged portion of the central conduit 61 is pulverized when the emulsified fluid reaches the end and is introduced into the flow of the fluid where emulsification occurs A resistor 71 made of a disk to be provided is provided. The resistor 71 may further include a protrusion 72 for pulverizing the fluid. In this step, a rough emulsion is formed which is introduced into the cavitation resistor. This resistor should be installed before the area where the cavitation element is narrowed. That is, in Fig. 12, D OTP / D HAP = should be within the range of 1.2 to 3.0.

또한, 캐비테이션 반응 전에 사전에 유동을 준비하기 위하여 도 9와 같은 교반장치가 사용될 수 있다. 상기 교반장치는 유체에 작용하여 실린더형 관으로 된 노즐 끝단에서 발생되는 원심력에 의해 에멀젼화된 유체를 분사한다. 이 교반장치는 에멀젼화 된 유체가 인입되는 원심챔버와 에멀젼화가 진행될 유체의 빨아들임(역류)을 방지하기 위하여 실린더에 삽입된 관으로 되어 있으며, 도 9에서 dB/dC = 0.8 내지 0.95의 범위 이내가 된다. 위에서 언급된 장치들은 캐비테이션 작용이 일어나기 전에 에멀젼화 된 유체를 인입하기 위한 것으로, 일련의 첫 번째 저항체와 (1 내지 10)*dr의 간격으로 배치되어야 한다. 간격이 이 보다 적게 되면, 큰 액적들이 부서지기 위한 간격이 충분치 못하게 되는 문제점이 있을 수 있고, 이 보다 크게 되면, 에멀젼화된 유체의 액적이 유착되는 현상이 발생하게 되는 문제점이 있을 수 있다.In addition, an agitator such as FIG. 9 may be used to prepare the flow in advance before the cavitation reaction. The stirring device acts on the fluid to inject the emulsified fluid by centrifugal force generated at the nozzle end of the cylindrical tube. The agitator is in and is in a tube inserted into the cylinder in order to prevent sucking deulim (reverse flow) of the progress and emulsion upset incoming the emulsified fluid centrifuge chamber fluid, 9 of d B / d C = 0.8 to 0.95 It is within range. The above mentioned devices are intended to draw emulsified fluids before cavitation takes place and must be arranged at a distance of (1 to 10) * d r with the first series of resistors. If the spacing is smaller than this, there may be a problem that the spacing for breaking the large droplets is not enough, if larger than this, there may be a problem that the droplets of the emulsified fluid is coalesced.

이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 따른 유체처리장치의 구조적 특징을 정리하여 보면 다음과 같다.The structural features of the fluid treatment apparatus according to the present invention as described above are summarized as follows.

본 발명에 따른 유체처리장치의 처리 방식은 액상 매질을 가압(加壓)하여 유관(流管)에 이를 공급하고 처리 공정에서 촉매제에 인입된 물질의 안정적인 기(radical) 들을 얻기 위하여 유동에 액상 매질의 일련의 캐캐캐이 유관에서 z이테이션 조건을 보장하면서 고상, 액상, 기상 물질을 인입하는 방식을 포함하며, 액상 매체의 처리량이 동일할 때 일련의 첫번째 캐비테이션 저항체 이o후에 유동의 비캐비테이션화 영역은 다음의 모든 하나의 혹은 일련의 캐비테이션 저항체에서 이를 위해 액상 매질의 유동의 횡단면이 증가하는 조건에서 완전한 캐비테이션 작용이 일어나며, 이때 일련의 캐비테이션 저항체 사이의 간격은 저항체가 캐캐를 초과할 수 있게 설치되야 한다. 또한 이를 이용한 유체처리방법은 액상 매질과 유체처리장치에 추가적으로 인입되는 고상, 기상 및 액상 물질들을 유체의 처리량과 비례적으로 혼합물을 인입하면서 사전에 혼합할 수 있다. The treatment method of the fluid treatment apparatus according to the present invention pressurizes the liquid medium to supply it to oil pipes and to obtain stable radicals of the material introduced into the catalyst in the treatment process. Non-cavitation area of the flow after a series of first cavitation resistors when the throughput of the liquid medium is the same; For all of the following one or a series of cavitation resistors, a full cavitation action takes place under this condition in which the cross section of the flow of the liquid medium increases, in which case the spacing between the series of cavitation resistors must be such that the resistors can exceed the caca- tion. do. In addition, in the fluid treatment method using the same, the solid, gaseous and liquid substances additionally introduced into the liquid medium and the fluid treatment apparatus may be mixed in advance while introducing the mixture in proportion to the throughput of the fluid.

또한, 본 발명에 따른 유체처리장치는 액상 매질의 인입 및 배출 라인으로 구성된 유관 형태로 되어있고, 고상, 기상, 액상 물질의 인입을 위한 지관(支管)을 가지며, 내부에 화학 반응의 경과를 위하여 유체의 유동에 캐비테이션 현상을 발생시키는 적어도 하나 이상의 촉매제로 코팅된 캐비테이션 저항체를 가지며, 이때, 캐비테이션 저항체는 단면의 형상이 원추형 혹은 방추형으로 성형될 수 있으며, 캐비테이션 저항체 혹은 일련의 캐비테이션 저항체의 유동의 길이를 따라 인접한 두개의 좁은 단면에서 유체의 유동 단면적 상관관계는 0.35 내지 3이 되고, 일련의 캐비테이션 저항체 사이의 간격은 캐비테이션 저항체의 최대 유체 역학적 직경의 3.0 내지 3.5이며, 모든 일련의 인접한 2개의 캐비테이션 저항체는 일련의 첫번째 캐비테이션 저항체에서 캐비테이션화 되지 않은 유동이 일련의 다음 캐이테이션 저항체에서 캐비테이션 작용이 발생될 수 있도록 위치한다.In addition, the fluid treatment apparatus according to the present invention is in the form of an oil pipe consisting of the inlet and outlet lines of the liquid medium, and has a branch pipe for the inlet of the solid phase, the gas phase, and the liquid material, and for the progress of the chemical reaction therein. A cavitation resistor coated with at least one catalyst that causes cavitation in the flow of the fluid, wherein the cavitation resistor can be shaped into a cone or spindle in cross-sectional shape, the length of the flow of the cavitation resistor or series of cavitation resistors The flow cross-sectional area correlation of the fluid in two adjacent narrow cross sections along is 0.35 to 3, the spacing between the series of cavitation resistors is 3.0 to 3.5 of the maximum hydrodynamic diameter of the cavitation resistor, and all series of two adjacent cavitation resistors Is a series of first cavitation resistors The non-bitated flow is positioned so that cavitation action can occur in the next series of cavitation resistors.

본 발명에 따른 유체처리장치의 유관은 벤츄리관 형태로 제작될 수 있으며, 실린더 내부의 배출 부위에 캐비테이션 저항체가 위치한다. The oil pipe of the fluid treatment apparatus according to the present invention may be manufactured in the form of a venturi tube, and a cavitation resistor is located at a discharge portion inside the cylinder.

본 발명에 따른 유체처리장치는 에멀젼화된 액상 물질의 인입을 위해서 유체 처리 장치의 흐름을 따라 수평으로 위치한 노즐체가 설치될 수 있고, 상기 노즐체에서 유동의 다양한 부위에 에멀젼화된 액상물질을 공급하기 위하여 도관의 횡축에 다양한 각도로 보내지는 흐름은 에멀젼화가 발생될 유체의 처리량에 비례적인 양으로 인입된다. 이때 에멀젼화된 액상 물질의 인입을 위하여 중심 부위에 사용되는 노즐체는 dB/dC = 0.8 내지 0.95가 된다.The fluid treatment apparatus according to the present invention may be provided with a nozzle body horizontally positioned along the flow of the fluid treatment device for the introduction of the emulsified liquid material, supplying the emulsified liquid material to various parts of the flow in the nozzle body In order to achieve this, the flow sent at various angles to the transverse axis of the conduit is drawn in an amount proportional to the throughput of the fluid to be emulsified. At this time, the nozzle body used in the center for the introduction of the emulsified liquid material is d B / d C = 0.8 to 0.95.

또한, 본 발명에 따른 유체처리장치는 도관의 축을 따라 에멀젼화된 액상 물질의 인입을 위한 파이프가 사용될 수 있고, 파이프의 배출부위에는 격벽이 위치하며, 파이프의 외경과 격벽 직경의 비율은 1.2 내지 3.0이 된다.In addition, the fluid treatment apparatus according to the present invention may be used for the introduction of the liquid material emulsified along the axis of the conduit, the partition is located in the discharge portion of the pipe, the ratio of the outer diameter and the partition diameter of the pipe is 1.2 to 3.0.

따라서 본 발명에 의하면 유체의 흐름 중에 설치되는 저항체에 의한 캐비테이션을 이용하여 유체를 처리, 즉 혼합작용, 정화작용 및 산화작용의 효율을 높이도록 하기 위하여 단일의 유체흐름 중에 적어도 2개 이상의 저항체들이 위치하도록 구성되는 유체처리장치를 제공하는 효과가 있다.Therefore, according to the present invention, at least two or more resistors are placed in a single fluid stream to increase the efficiency of the mixing, clarification, and oxidizing process by cavitation by a resistor installed in the flow of the fluid. There is an effect of providing a fluid treatment apparatus configured to.

이상에서 본 발명은 기재된 구체예에 대해서만 상세히 설명되었지만 본 발명의 기술사상 범위 내에서 다양한 변형 및 수정이 가능함은 당업자에게 있어서 명백한 것이며, 이러한 변형 및 수정이 첨부된 특허청구범위에 속함은 당연한 것이다.Although the present invention has been described in detail only with respect to the described embodiments, it will be apparent to those skilled in the art that various modifications and variations are possible within the technical scope of the present invention, and such modifications and modifications are within the scope of the appended claims.

Claims (9)

유체가 흐르는 도관과; 상기 도관 내에 위치하며, 유체의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제1저항체와; 상기 제1저항체의 후방에 위치하며, 역시 유체의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제2저항체;들을 포함하여 이루어지되, 상기 도관 내를 흐르는 유체의 유선들이 상기 제1저항체와 제2저항체들 중 적어도 어느 하나에 의하여 캐비테이션공동을 형성하도록 상기 제1저항체와 제2저항체가 설치되어 이루어짐을 특징으로 하는 유체처리장치.A conduit through which fluid flows; At least one first resistor located within said conduit and fixed to resist flow of fluid; At least one second resistor located at the rear of the first resistor and fixed to resist the flow of the fluid; wherein the streamlines of the fluid flowing in the conduit are formed in the first resistor and the second resistors. And the first resistor and the second resistor are formed to form a cavitation cavity by at least one of the above. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제1저항체와 제2저항체들이 도관의 벽에 직접 고정되거나 또는 폭이 좁은 고정수단에 의해 고정되어 이루어짐을 특징으로 하는 유체처리장치.And the first resistor and the second resistor are fixed directly to the wall of the conduit or by a narrow fixing means. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 제1저항체와 제2저항체들이 판형 또는 유체의 흐름방향에 대향하여 좁은 선단부와 넓은 후단부를 갖는 첨봉의 형상, 반구형, 단면의 형상이 원형인 원추형 또는 단면의 형상이 다각형인 방추형으로 성형되어 이루어짐을 특징으로 하는 유체처리장치.The first and second resistors are formed in a shape of a peak, a hemispherical shape, a conical shape having a circular shape or a circular shape having a narrow tip and a wide rear end facing a flow direction of a plate or a fluid, or a fusiform shape having a polygonal shape of a cross section. Fluid processing apparatus characterized in that. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 도관의 내벽에 도관의 내경을 좁히는 협폭부가 형성되어 이루어짐을 특징으로 하는 유체처리장치.And a narrow portion formed on the inner wall of the conduit to narrow the inner diameter of the conduit. 유체가 흐르는 도관과; 상기 도관 내에 단면이 6각형인 방추형으로 형성된 다수의 저항체들이 허니컴(honeycomb)배치의 구조로 배열 및 고정되어 이들 저항체들 사이에 다수의 일정한 유로들이 형성되도록 이루어지되, 상기 허니컴배치가 상기 단면이 6각형인 방추형으로 형성된 중심저항체가 상기 도관의 중심부에 위치하도록 고정되고, 상기 중심저항체를 중심으로 방사상으로 6개의 주변저항체들이 고정되고, 그리고 6개의 부분저항체들이 상기 주변저항체들의 모서리들 사이에 위치하도록 하여 상기 도관의 내벽에 고정되어 이루어짐을 특징으로 하는 유체처리장치.A conduit through which fluid flows; In the conduit, a plurality of resistors formed in a hexagonal spindle shape are arranged and fixed in a honeycomb arrangement so that a plurality of constant flow paths are formed between the resistors. A central resistor formed in a square spindle shape is fixed to be located at the center of the conduit, six peripheral resistors are fixed radially around the central resistor, and six partial resistors are positioned between the corners of the peripheral resistors. And fixed to the inner wall of the conduit. 제 5 항에 있어서,The method of claim 5, 상기 허니컴배치가 상기 도관 내에 적어도 2개 이상 형성되되, 후방에 위치하는 제2의 허니컴배치가 그 전방에 위치하는 제1의 허니컴배치에 대해 1 내지 59°의 범위 이내의 변위각(α)으로 변위되어 이루어짐을 특징으로 하는 유체처리장치.At least two honeycomb batches are formed in the conduit, with the second honeycomb batch positioned rearward within a range of 1 to 59 ° with respect to the first honeycomb batch positioned forward. Fluid processing device, characterized in that the displacement is made. 제 6 항에 있어서,The method of claim 6, 상기 변위각이 30° 임을 특징으로 하는 유체처리장치.And the displacement angle is 30 degrees. 유체가 흐르는 도관과; 상기 도관 내에 위치하며, 유체의 흐름에 저항하도록 고정된 적어도 하나 이상의 제1저항체와; 상기 제1저항체의 후방에 위치하며, 역시 유체의 흐름에 저항하도록 고정된, 다수의 통공이 형성된 적어도 하나 이상의 격자판;들을 포함하여 이루어지되, 상기 격자판들 중의 어느 하나 또는 2이상의 격자판들이 상기 제1저항체의 후방에 형성되는 캐비테이션공동 내에 위치하도록 설치되어 이루어짐을 특징으로 하는 유체처리장치.A conduit through which fluid flows; At least one first resistor located within said conduit and fixed to resist flow of fluid; At least one grating plate formed at a plurality of through holes, which is located behind the first resistor and is also fixed to resist the flow of the fluid, wherein any one or two or more grating plates of the grating plates are formed. Fluid processing apparatus, characterized in that is installed to be located in the cavitation cavity formed in the rear of the resistor. 제 8 항에 있어서,The method of claim 8, 상기 격자판은 그 표면이 촉매제로 코팅된 격자판임을 특징으로 하는 유체처리장치.The grating plate is a fluid treatment device, characterized in that the surface of the grating plate coated with a catalyst.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR20170006492A (en) * 2015-07-08 2017-01-18 한화테크윈 주식회사 Impinging type temperature uniformity device

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