KR20070089592A - Substrate processing apparatus and lifting apparatus - Google Patents

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Abstract

A substrate processing apparatus and a lifting device are provided to easily maintain a horizontal posture of a substrate by dividing a support member into plural parts. A substrate processing apparatus includes a first chamber(2) forming cover of a processing chamber, a second chamber(3) forming the processing chamber with the first chamber, and a lifting device(4) lifting a substrate to the second chamber. The lifting device has holding members(401 to 405), a drive source generating a driving force, and a transmission(42) transmitting the driving force to holding members. Each of the holding members has at least one drive shaft(45), a support member(46), a nut member fixed to the support member, and a ball screw(48) engaged with the nut member.

Description

기판 처리 장치 및 승강 장치{SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND LIFTING APPARATUS}SUBSTRATE PROCESSING APPARATUS AND LIFTING APPARATUS}

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치를 도시한 정면도,1 is a front view showing a substrate processing apparatus according to the present invention;

도 2는 기판 처리 장치를 도시한 측면도,2 is a side view showing a substrate processing apparatus;

도 3은 유지부의 상세를 도시한 도면이다.3 is a view showing details of the holding part.

〈도면의 주요부분에 대한 부호의 설명〉<Explanation of symbols for main parts of drawing>

1: 기판 처리 장치 2: 제1 챔버1: substrate processing apparatus 2: first chamber

21: 처리실 3: 제2 챔버21: process chamber 3: second chamber

30: 관통 구멍 4: 승강 장치30: through hole 4: lifting device

401, 402, 4O4, 405: 유지부 41: 구동 모터401, 402, 4O4, 405: Holding part 41: Drive motor

42: 동력 전달 기구42: power transmission mechanism

420, 421, 422, 423, 424, 425: 베벨 기어 박스420, 421, 422, 423, 424, 425: bevel gearbox

426, 427: 회전 샤프트 428: 커플링426, 427: rotating shaft 428: coupling

43: 핀 44: 리프트 플레이트43: pin 44: lift plate

45: 구동축 46: 지지 부재45: drive shaft 46: support member

47: 너트 부재 48: 볼 나사47: nut member 48: ball screw

49: 벨로스 6: 배기 기구49: bellows 6: exhaust mechanism

7: 제어부 90: 기판7: control unit 90: substrate

본 발명은, 기판을 복수 개소에서 유지하면서, 해당 기판을 수평 상태로 승강시키는 기술에 관한 것이다.TECHNICAL FIELD This invention relates to the technique of elevating the said board | substrate to a horizontal state, holding a board | substrate in several places.

여러 가지 처리를 행하는 기판 처리 장치에 있어서, 기판의 이면을 복수 개소에서 유지하면서, 해당 기판을 수평 상태로 승강시키는 승강 장치가 이용되고 있다. 예를 들면, 특허문헌 1에는, 기판을 냉각하는 기판 처리 장치에 있어서, 냉각하는 기판을 승강시키는 승강 장치가 기재되어 있다.In the substrate processing apparatus which performs various processes, the elevating apparatus which raises and lowers the said board | substrate to a horizontal state, maintaining the back surface of a board | substrate in several places is used. For example, Patent Document 1 describes a lifting device that lifts and lowers a substrate to be cooled in a substrate processing apparatus for cooling a substrate.

특허문헌 1의 기재에는, 복수의 지지핀이 세워 설치된 1개의 판 형상의 지지 부재를 설치하고, 해당 지지 부재의 이면에 랙(rack)축을 장착한 장치가 기재되어 있다. 이 장치는, 랙축의 기어부와 아이들 기어를 맞물리게 하고, 아이들 기어를 모터로 회전시킴으로써 랙축과 함께 지지 부재를 승강시키고, 지지핀에 유지된 기판을 승강시킨다.In description of patent document 1, the apparatus which provided the one plate-shaped support member in which the several support pin was set up, and attached the rack shaft to the back surface of the said support member is described. The device engages the gear portion of the rack shaft with the idle gear, lifts the support member together with the rack shaft by rotating the idle gear with a motor, and raises and lowers the substrate held by the support pin.

한편, 기판의 사이즈가 대형화되면 지지 부재도 대형화되기 때문에, 지지 부재의 강성(剛性)이 저하된다. 이 경우, 기판을 수평 상태로 승강시키기 위해서는, 지지 부재의 복수 개소를 지지하면서 동시에 승강시킬 필요가 있다. 그래서 복수의 랙축을 설치하고, 이 복수의 랙축(복수의 기어)의 각각에 타이밍 벨트에 의해 구동력을 전달하여, 지지 부재의 복수 개소를 지지하면서 동시에 승강시키는 장치 도 등장하고 있다.On the other hand, when the size of the substrate is enlarged, the support member is also enlarged, so that the rigidity of the support member is reduced. In this case, in order to raise and lower the board | substrate in a horizontal state, it is necessary to raise and lower simultaneously, supporting several places of a support member. Therefore, the apparatus which installs a some rack shaft, transmits a driving force to each of these rack shafts (plural gears) with a timing belt, and supports and raises a plurality of places of a support member simultaneously.

(특허문헌 1) 일본국 특개2002-289493호 공보(Patent Document 1) Japanese Unexamined Patent Publication No. 2002-289493

그러나, 1개의 판 형상의 지지 부재를 승강시키는 구조는, 지지 부재의 대형화에 수반하는 강성의 저하가 현저하고, 랙축을 증가시키기에도 한계가 있다는 문제가 있었다.However, the structure which raises and lowers one plate-shaped support member has the problem that the fall of rigidity accompanying enlargement of a support member is remarkable, and there is a limit also to increase a rack axis.

본 발명은, 상기 과제에 감안하여 이루어진 것으로, 기판이 대형화된 경우에도, 기판의 수평 상태를 정밀도 있게 유지하면서 승강시키는 장치를 저비용으로 제공하는 것을 목적으로 한다.This invention is made | formed in view of the said subject, Comprising: Even if a board | substrate becomes large, it aims at providing the apparatus which raises and lowers, maintaining the horizontal state of a board | substrate precisely at low cost.

상기의 과제를 해결하기 위해, 청구항 1의 발명은, 처리실 내에서 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서, 상기 처리실의 덮개부를 형성하는 제1 챔버와, 상기 제1 챔버와 영합(迎合)함으로써 상기 처리실을 형성하는 제2 챔버와, 제2 챔버에 대해 기판을 승강시키는 승강 장치를 구비하고, 상기 승강 장치는, 기판을 유지하는 복수의 유지 수단과, 상기 복수의 유지 수단에 의해 유지된 기판을 승강시키기 위한 구동력을 생성하는 단일의 구동원과, 상기 구동원에 의해 생성된 구동력을 상기 복수의 유지 수단의 각각에 전달하는 동력 전달 기구를 구비하고, 상기 복수의 유지 수단의 각각이, 승강 가능한 적어도 1개의 구동축과, 상기 적어도 1개의 구동축이 세워 설치되는 지지 부재와, 상기 지지 부재에 고정 설치되는 너트 부재와, 상기 너트 부재에 나입(螺入)되고, 상기 동력 전달 기구에 의해 회전 구동력이 전 달되는 볼 나사를 구비하고, 상기 지지 부재는, 각각 다른 유지 수단의 지지 부재와 서로 별개로 되어 있는 것을 특징으로 한다.In order to solve the said subject, the invention of Claim 1 is a substrate processing apparatus which processes a board | substrate in a process chamber, Comprising: The said process chamber by matching with the 1st chamber which forms the cover part of the said process chamber, and the said 1st chamber. And a lifting device for elevating and lowering the substrate with respect to the second chamber, wherein the lifting device lifts and lowers the plurality of holding means for holding the substrate and the substrate held by the plurality of holding means. A single drive source for generating a drive force for making a drive force, and a power transmission mechanism for transmitting the drive force generated by the drive source to each of the plurality of holding means, each of the plurality of holding means is at least one liftable A drive member, a support member on which the at least one drive shaft is mounted, a nut member fixed to the support member, and a nut member ) And the support member by the drive transmission mechanism and a ball screw which is passed the rotational drive force, is characterized in that it is apart from each other and each support member of the other holding means.

또, 청구항 2의 발명은, 청구항 1의 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 제2 챔버에는 복수의 관통 구멍이 설치되어 있으며, 상기 적어도 1개의 구동축은, 상기 복수의 관통 구멍 중 어느 하나에 삽입되고, 상기 적어도 1개의 구동축이 삽입된 관통 구멍을 각각 시일(seal)하는 벨로스(bellows)를 더 구비하는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 2 is the substrate processing apparatus according to the invention of claim 1, wherein a plurality of through holes are provided in the second chamber, and the at least one drive shaft is inserted into any one of the plurality of through holes. And bellows for sealing the through-holes into which the at least one drive shaft is inserted.

또, 청구항 3의 발명은, 청구항 2의 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 처리실 내를 감압하는 배기 기구를 더 구비하고, 상기 처리는, 감압 건조 처리인 것을 특징으로 한다.Moreover, invention of Claim 3 is further provided as the substrate processing apparatus which concerns on invention of Claim 2, Comprising: The exhaust mechanism which pressure-reduces the inside of the said process chamber is further provided, The said process is a reduced pressure drying process, It is characterized by the above-mentioned.

또, 청구항 4의 발명은, 청구항 1의 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 동력 전달 기구가, 수평축 둘레에 회전 구동되는 샤프트와, 상기 샤프트의 회전 구동력을 상기 볼 나사에 전달하는 전달 수단을 구비하는 것을 특징으로 한다.In addition, the invention of claim 4 is the substrate processing apparatus according to the invention of claim 1, wherein the power transmission mechanism includes a shaft that is rotationally driven around a horizontal axis, and transmission means for transmitting the rotational driving force of the shaft to the ball screw. Characterized in that.

또, 청구항 5의 발명은, 청구항 1의 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 지지 부재는, 파이프 형상 부재인 것을 특징으로 한다.The invention of claim 5 is the substrate processing apparatus according to the invention of claim 1, wherein the support member is a pipe-shaped member.

또, 청구항 6의 발명은, 청구항 1의 발명에 따른 기판 처리 장치로서, 상기 복수의 유지 수단의 각각이, 기판에 맞닿아 있는 복수의 핀과, 상기 복수의 핀이 세워 설치되는 리프트 플레이트를 더 구비하고, 상기 적어도 1개의 구동축은, 상기 리프트 플레이트의 하방(下方)으로 늘어뜨려 설치되는 것을 특징으로 한다.In addition, the invention of claim 6 is the substrate processing apparatus according to the invention of claim 1, wherein each of the plurality of holding means further includes a plurality of pins in contact with the substrate and a lift plate on which the plurality of pins are placed. The at least one drive shaft is provided so as to be arranged below the lift plate.

또, 청구항 7의 발명은, 기판을 승강시키는 승강 장치로서, 기판을 유지하는 복수의 유지 수단과, 기판을 승강시키기 위한 구동력을 생성하는 단일의 구동원과, 상기 구동원에 의해 생성된 구동력을 상기 복수의 유지 수단의 각각에 전달하는 동력 전달 기구를 구비하고, 상기 복수의 유지 수단의 각각이, 승강 가능한 적어도 1개의 구동축과, 상기 적어도 1개의 구동축이 세워 설치되는 지지 부재와, 상기 지지 부재에 고정 설치되는 너트 부재와, 상기 너트 부재에 나입되어 상기 동력 전달 기구에 의해 회전 구동력이 전달되는 볼 나사를 구비하고, 상기 지지 부재는, 각각 다른 유지 수단의 지지 부재와 서로 별개로 되어 있는 것을 특징으로 한다.The invention of claim 7 is a lifting device for elevating a substrate, comprising: a plurality of holding means for holding the substrate, a single drive source for generating a drive force for lifting the substrate, and a plurality of drive forces generated by the drive source. And a power transmission mechanism for transmitting to each of the holding means, wherein each of the plurality of holding means is fixed to at least one drive shaft that can be lifted and lowered, a support member on which the at least one drive shaft is mounted, and the support member. A nut member to be provided and a ball screw inserted into the nut member and to which a rotational driving force is transmitted by the power transmission mechanism, wherein the support members are separated from the support members of different holding means, respectively. do.

(발명의 실시 형태)(Embodiment of the Invention)

이하, 본 발명의 적합한 실시 형태에 대해, 첨부한 도면을 참조하면서, 상세하게 설명한다.EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, preferred embodiment of this invention is described in detail, referring an accompanying drawing.

(1. 실시 형태)(1.embodiment)

도 1은 본 발명에 따른 기판 처리 장치(1)를 도시한 정면도이다. 도 1에서는, 제1 챔버(2)가 상승한 상태를 나타내고 있다. 또, 도 2는, 기판 처리 장치(1)를 도시한 측면도이다. 도 2에서는, 제1 챔버(2)가 하강한 상태를 나타내고 있다. 또한, 도 1 및 도 2에서는, 일부 구성을 단면(斷面)으로 나타냄과 동시에, 하우징 프레임 등의 일부 구성을 생략하고 있다. 또, 이후의 설명을 위해, 도 1에서, 베벨 기어 박스(420)에 대해서는 하우징을 파선으로 나타내고, 내부 구조를 도시한다.1 is a front view showing a substrate processing apparatus 1 according to the present invention. In FIG. 1, the first chamber 2 is raised. 2 is a side view showing the substrate processing apparatus 1. In FIG. 2, the first chamber 2 is in a lowered state. In addition, in FIG. 1 and FIG. 2, some structure is shown by the cross section and the some structure, such as a housing frame, is abbreviate | omitted. In addition, for the following description, in FIG. 1, about the bevel gearbox 420, a housing is shown with a broken line, and an internal structure is shown.

기판 처리 장치(1)는, 기판(90)(액정용 유리 기판 등)을 피처리 기판으로 하고, 제1 챔버(2), 제2 챔버(3), 승강 장치(4), 승강 기구(5), 배기 기구(6) 및 제 어부(7)을 주로 구비하고 있다.The substrate processing apparatus 1 uses the board | substrate 90 (glass substrate for liquid crystal etc.) as a to-be-processed substrate, and the 1st chamber 2, the 2nd chamber 3, the lifting device 4, and the lifting mechanism 5 ), The exhaust mechanism 6 and the control unit 7 are mainly provided.

제1 챔버(2)는, 도시하지 않은 하우징 프레임에 장착되어 있으며, 승강 기구(5)에 의해 Z축 방향으로 승강하고, 상황에 따라 그 위치가 변경된다. 제2 챔버(3)는, 도시하지 않은 하우징 프레임에 의해 소정의 위치에 고정되어 있다.The 1st chamber 2 is attached to the housing frame which is not shown in figure, and it raises and falls in the Z-axis direction by the lifting mechanism 5, and the position changes according to a situation. The second chamber 3 is fixed at a predetermined position by a housing frame (not shown).

제1 챔버(2)의 이면에는 오목부(20)가 형성되어 있다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 제1 챔버(2)가 하강하여 제2 챔버(3)와 밀착 상태로 영합하면, 제1 챔버(2)와 제2 챔버(3)에 의해 기판(90)을 처리하기 위한 처리실(21)이 형성된다. 즉, 하강한 상태의 제1 챔버(2)는, 처리실(21)의 덮개부로서 기능한다.The recessed part 20 is formed in the back surface of the 1st chamber 2. As shown in FIG. 2, when the first chamber 2 descends to meet the second chamber 3 in close contact with the second chamber 3, the substrate 90 is moved by the first chamber 2 and the second chamber 3. A processing chamber 21 for processing is formed. In other words, the first chamber 2 in the lowered state functions as a lid of the processing chamber 21.

제2 챔버(3)에 대해 기판(90)을 승강시키는 승강 장치(4)는, 기판(90)을 유지하는 복수의 유지부(401 내지 405)와, 단일의 구동 모터(41)와, 동력 전달 기구(42)를 주로 구비한다.The lifting device 4 which lifts and lowers the substrate 90 relative to the second chamber 3 includes a plurality of holding portions 401 to 405 holding the substrate 90, a single drive motor 41, and a power source. The delivery mechanism 42 is mainly provided.

유지부(401 내지 405)는, 기판(90)의 이면에 접촉하여, 해당 위치에서 기판(90)을 하방으로부터 지지한다. 즉, 기판(90)은, 기판 처리 장치(1)에 반입(搬入)되어 있는 동안, 유지부(401 내지 405)에 올려 놓여진 상태가 된다. 도 1에 도시하는 바와 같이, 복수의 유지부(401 내지 405)의 각각은, 거의 동일한 구성을 구비하고 있으므로, 여기서는 대표하여 유지부(403)에 대해 설명한다.The holding parts 401-405 contact the back surface of the board | substrate 90, and support the board | substrate 90 from the said position from below. That is, while the board | substrate 90 is carried in to the substrate processing apparatus 1, it will be in the state put on the holding parts 401-405. As shown in FIG. 1, since each of the some holding | maintenance part 401-405 has substantially the same structure, the holding | maintenance part 403 is demonstrated here on behalf of here.

도 3은, 유지부(403)의 상세를 도시한 도면이다. 도 3에 도시하는 바와 같이, 제2 챔버(3)에는 유지부(403)(구동축(45))가 삽입되는 관통 구멍(30)이 설치되어 있다. 또한, 이후의 설명을 위해, 도 3에서, 베벨 기어 박스(423)에 대해서는 하우징을 파선으로 나타내고, 내부 구조를 도시한다.3 is a view showing details of the holding unit 403. As shown in FIG. 3, the second chamber 3 is provided with a through hole 30 into which the holding portion 403 (drive shaft 45) is inserted. In addition, in the following description, in FIG. 3, the bevel gear box 423 is shown with a broken line in the housing, and the internal structure is shown.

유지부(403)는, 기판(90)에 맞닿아 있는 복수의 핀(43)과 복수의 핀(43)이 세워 설치되는 리프트 플레이트(44)와, 승강 가능한 복수의 구동축(45)을 구비한다.The holding | maintenance part 403 is provided with the some pin 43 which contact | connects the board | substrate 90, the lift plate 44 in which the some pin 43 is installed, and the several drive shaft 45 which can be elevated. .

리프트 플레이트(44)는, Y축 방향을 길이 방향으로 하는 판 형상의 부재이다. 도 2에 도시하는 바와 같이, 각 구동축(45)은 리프트 플레이트(44)의 하방으로 늘어뜨려 설치된다. 즉, 리프트 플레이트(44)는, 4개의 구동축(45)으로 지지되어 있다. 또한, 각각의 유지부(401 내지 405)가 구비하는 구동축(45)의 수는 4개에 한정되는 것은 아니다.The lift plate 44 is a plate-shaped member having the Y-axis direction in the longitudinal direction. As shown in FIG. 2, each drive shaft 45 is provided to be arranged below the lift plate 44. That is, the lift plate 44 is supported by four drive shafts 45. In addition, the number of the drive shafts 45 with which each holding | maintenance part 401-405 is provided is not limited to four.

각각의 구동축(45)은, 제2 챔버(3)에 설치된 관통 구멍(30) 중 어느 하나에 삽입되고, 제2 챔버(3)를 하방으로부터 관통한 상태로 배치된다. 따라서, 구동축(45)이 승강하면, 구동축(45)은 처리실(21)에 대해 Z축 방향으로 진퇴한다. 이 동작에 의해, 핀(43)과 리프트 플레이트(44)가 제2 챔버(3)의 상방에서 Z축 방향으로 승강한다.Each drive shaft 45 is inserted into any one of the through holes 30 provided in the second chamber 3, and is disposed in a state where the second chamber 3 penetrates from below. Therefore, when the drive shaft 45 moves up and down, the drive shaft 45 moves forward and backward with respect to the process chamber 21 in the Z-axis direction. By this operation, the pin 43 and the lift plate 44 are raised and lowered in the Z-axis direction above the second chamber 3.

또, 유지부(403)는, 4개의 구동축(45)이 세워 설치되는 지지 부재(46)와, 지지 부재(46)에 고정 설치되는 너트 부재(47)와, 동력 전달 기구(42)에 의해 회전 구동력이 전달되는 볼 나사(48)를 구비한다.Moreover, the holding | maintenance part 403 is supported by the support member 46 in which the four drive shafts 45 are installed upright, the nut member 47 fixedly attached to the support member 46, and the power transmission mechanism 42. And a ball screw 48 to which rotational driving force is transmitted.

지지 부재(46)는, 스테인레스제의 각(角)파이프 형상의 부재로서, Y축 방향을 길이 방향으로 하도록 배치되어 있다. 이와 같이, 형상을 파이프 형상으로 함으로써, 지지 부재(46)의 강성을 유지한 상태에서, 경량화할 수 있다. 또한, 지지 부재(46)의 재질은 스테인레스로 한정되는 것은 아니며, 예를 들면, 표면 처리(도 장)된 철제 부재 등이어도 된다.The support member 46 is a stainless steel square pipe-shaped member, and is disposed to have the Y-axis direction in the longitudinal direction. Thus, by making a shape into a pipe shape, it can reduce weight in the state which maintained the rigidity of the support member 46. As shown in FIG. In addition, the material of the support member 46 is not limited to stainless, For example, the steel member etc. which were surface-treated (painted) may be sufficient.

또, 도 1로부터 명백히 알 수 있듯이, 유지부(403)의 지지 부재(46)는, 각각 다른 유지부(401, 402, 404, 405)의 지지 부재(46)와 서로 별개로 되어 있다. 즉, 각각의 지지 부재(46)는 다른 지지 부재(46)와 고정되지는 않고, 각각으로 분할된 구조로 되어 있다. 1, the support member 46 of the holding | maintenance part 403 is mutually separate from the support member 46 of the other holding | maintenance parts 401, 402, 404, 405, respectively. That is, each support member 46 is not fixed to the other support member 46, but has a structure divided into each.

이러한 구조에 의해, 모든 유지부(401 내지 405)의 구동축(45)을, 1개의 판 형상의 지지 부재로 지지하는 경우에 비해, 지지 부재(46)를 소형화할 수 있다. 따라서, 지지 부재(46)의 강성이 향상되기 때문에, 지지 부재(46)가 휘거나 변형되는 것을 억제할 수 있다.By this structure, compared with the case where the drive shaft 45 of all the holding parts 401-405 is supported by one plate-shaped support member, the support member 46 can be miniaturized. Therefore, since the rigidity of the support member 46 is improved, it is possible to suppress the bending or deformation of the support member 46.

이에 따라 지지 부재(46)에 세워 설치된 구동축(45)을 개재하여 지지되는 리프트 플레이트(44)의 수평 방향의 정밀도가 향상된다. 또, 각 리프트 플레이트(44)의 높이 위치도 정밀도 있게 일치시킬 수 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)는, 기판(90)의 자세를 수평 방향으로 정밀도 있게 유지할 수 있다.Thereby, the precision of the horizontal direction of the lift plate 44 supported via the drive shaft 45 standing up on the support member 46 improves. Moreover, the height position of each lift plate 44 can also be matched with precision. Therefore, the substrate processing apparatus 1 can hold the attitude | position of the board | substrate 90 precisely in a horizontal direction.

볼 나사(48)는 회전 샤프트(427)와 회전축을 일치시킨 상태에서 커플링(51)을 개재하여 연결되어 있기 때문에, 회전 샤프트(427)의 회전에 수반하여, 볼 나사(48)도 Z축에 거의 평행 방향으로 회전한다. 볼 나사(48)는, 너트 부재(47)에 나입되어 있으며, 볼 나사(48)가 회전하면, 그 회전 방향에 따라, 너트 부재(47)가 승강한다.Since the ball screw 48 is connected via the coupling 51 in the state which made the rotating shaft 427 and the rotating shaft coincide, the ball screw 48 is also Z-axis with rotation of the rotating shaft 427. Rotate in almost parallel direction. The ball screw 48 is inserted in the nut member 47, and when the ball screw 48 rotates, the nut member 47 moves up and down in accordance with the rotation direction.

따라서, 회전 샤프트(427)가 회전하면, 유지부(403)에서는, 핀(43), 리프트 플레이트(44), 구동축(45), 지지 부재(46) 및 너트 부재(47)가 일체적으로 승강한 다. 전술한 바와 같이, 기판(90)을 유지한 상태의 유지부(403)는, 복수의 핀(43)의 선단(先端)이 기판(90)의 이면에 맞닿아 있으므로, 핀(43)에 올려 놓여진 기판(90)은 유지부(403)에 유지된 상태로 승강하게 된다.Therefore, when the rotation shaft 427 rotates, the holding part 403 raises and lowers the pin 43, the lift plate 44, the drive shaft 45, the support member 46, and the nut member 47 integrally. do. As described above, the holding portion 403 in the state of holding the substrate 90 is placed on the pin 43 because the front ends of the plurality of pins 43 abut against the back surface of the substrate 90. The placed substrate 90 is lifted and held in the holding portion 403.

랙축과 기어를 이용하여 승강시키는 종래의 장치에서는, 백래시(backlash)에 의해 승강 동작의 응답성 및 정밀도가 저하한다는 문제가 있었다. 그러나, 너트 부재(47)와 볼 나사(48)를 이용하여 승강시키는 기판 처리 장치(1)에서는, 백래시가 억제되므로, 응답성 및 정밀도가 향상된다. 또, 백래시는 승강 시의 진동의 원인이 되기 때문에, 이것이 억제되는 기판 처리 장치(1)에서는, 종래의 장치에 비해 동작 안정성이 향상되어, 승강 속도를 높이는 것도 가능하다.In the conventional apparatus for elevating using a rack shaft and a gear, there is a problem that the response and accuracy of the elevating operation are deteriorated due to backlash. However, since the backlash is suppressed in the substrate processing apparatus 1 which moves up and down using the nut member 47 and the ball screw 48, the response and the accuracy are improved. Moreover, since backlash becomes a cause of the vibration at the time of lifting, in the substrate processing apparatus 1 in which this is suppressed, operation stability improves compared with the conventional apparatus, and it is also possible to raise a lifting speed.

또, 볼 나사(48)를 이용한 직동(直動) 기구는, 볼 나사(48)가 가이드의 역할을 담당하기 때문에, 랙축과 기어를 이용한 기구에 비해, 승강 동작의 진직성(眞直性)이 높다는 특징이 있다. 따라서, 기판 처리 장치(1)는, 종래의 장치에 비해, Z축 방향에 따른 승강 동작을 정밀도 있게 행할 수 있다. 또한, 기판 처리 장치(1)에 승강 방향을 규정하기 위한 가이드 부재를 설치하여도 된다. 가이드 부재로서는, 예를 들면 볼 부시(ball bush)나 리니어 가이드 등을 이용할 수 있다.In the linear motion mechanism using the ball screw 48, since the ball screw 48 plays the role of a guide, the straightness of the lifting operation is higher than that of the mechanism using the rack shaft and the gear. This is characterized by high. Therefore, compared with the conventional apparatus, the substrate processing apparatus 1 can perform the lifting operation along a Z-axis direction with high precision. Moreover, you may provide the guide member for defining the lifting direction in the substrate processing apparatus 1. As a guide member, a ball bush, a linear guide, etc. can be used, for example.

또한, 유지부(403)는, 벨로스(49) 및 스페이서(50)를 구비한다. 벨로스(49)는, 도 3에 화살표로 나타내는 바와 같이, Z축 방향으로 신축(伸縮) 가능한 중공(中空)의 부재로서, 내부 공간에는 구동축(45)이 배치된다. 벨로스(49)의 (＋Z) 방향의 단부(端部)는, 제2 챔버(3)의 이면에 밀착 고정되어 있으며, 제2 챔버(3)와 벨로스(49)의 사이에 간극이 생기지 않도록 되어 있다. 또한, 모든 관통 구멍(30) 은, 어느 하나의 벨로스(49)의 내부 공간과 연통(連通)되어 있다.In addition, the holding part 403 is equipped with the bellows 49 and the spacer 50. The bellows 49 is a hollow member that can be expanded and contracted in the Z-axis direction, as indicated by the arrow in FIG. 3, and the drive shaft 45 is disposed in the internal space. The end portion of the bellows 49 in the (+ Z) direction is tightly fixed to the rear surface of the second chamber 3, so that a gap does not occur between the second chamber 3 and the bellows 49. have. In addition, all the through holes 30 communicate with the internal space of any one of bellows 49.

한편, 벨로스(49)의 (―Z) 방향의 단부는, 스페이서(50)에 밀착 고정된 상태로, 지지 부재(46)의 상면에 고정되어 있다. 즉, 스페이서(50)는, 벨로스(49)의 내부를 밀폐하는 (―Z)측의 덮개 부재로서 기능할 뿐만 아니라, 벨로스(49)를 지지 부재(46)에 고정하는 장착 부재로서의 기능, 혹은, 벨로스(49)의 위치를 조정하는 기능도 갖고 있다.On the other hand, the edge part of the bellows 49 (-Z) direction is being fixed to the upper surface of the support member 46 in the state fixed closely to the spacer 50. That is, the spacer 50 not only functions as a cover member on the (-Z) side that seals the inside of the bellows 49, but also functions as a mounting member for fixing the bellows 49 to the support member 46, or It also has a function of adjusting the position of the bellows 49.

이와 같이 스페이서(50)에 의해, 벨로스(49)의 내부 공간은, (―Z) 방향에는 개구부를 갖지 않는 구조로 되어 있다. 따라서, 구동축(45)이 삽입되는 관통 구멍(30)의 외부 개구((―Z) 방향의 개구부)는, 각각 벨로스(49)에 의해 시일된 상태가 된다. 이에 따라, 처리실(21) 내의 분위기와, 외부 분위기의 사이에 기압차가 발생하더라도, 처리실(21)의 내외에서 관통 구멍(30)을 통해 분위기가 출입하는 일은 없다.In this manner, the spacer 50 has a structure in which the inner space of the bellows 49 has no opening in the (-Z) direction. Therefore, the outer opening (opening in the (-Z) direction) of the through hole 30 into which the drive shaft 45 is inserted is in the state sealed by the bellows 49, respectively. As a result, even if an air pressure difference occurs between the atmosphere in the processing chamber 21 and the external atmosphere, the atmosphere does not enter or exit through the through hole 30 in and out of the processing chamber 21.

따라서, 기판 처리 장치(1)에서는, 제1 챔버(2)와 제2 챔버(3)가, 밀착 상태로 영합하면, 처리실(21)은 밀폐된 공간으로서 형성된다. 이에 따라, 기판 처리 장치(1)는, 처리실(21) 내를 감압하거나, 혹은 가압하는 것이 가능해진다.Therefore, in the substrate processing apparatus 1, when the 1st chamber 2 and the 2nd chamber 3 match in close contact, the process chamber 21 is formed as a sealed space. Thereby, the substrate processing apparatus 1 can pressure-reduce or pressurize the inside of the processing chamber 21.

처리실(21) 내의 기판(90)을 외부로부터 승강시키기 위해서는, 관통 구멍(30)을 설치할 필요가 있다. 따라서, 기판(90)에 대한 처리 내용에 따라서, 예를 들면 처리실(21)을 감압·가압할 필요가 있는 경우, 구동축(45)의 승강 동작을 방해하지 않고, 관통 구멍(30)을 시일할 필요가 있다.In order to raise and lower the board | substrate 90 in the process chamber 21 from the exterior, the through-hole 30 needs to be provided. Therefore, if it is necessary to depressurize and pressurize the process chamber 21 according to the process content with respect to the board | substrate 90, for example, the through-hole 30 will be sealed without disturbing the lifting operation of the drive shaft 45. There is a need.

이러한 경우에, 벨로스(49)를 이용한 구조는 적합하지만, 지지 부재(46)가 승강하면, 벨로스(49)의 (―Z) 방향의 단부도 승강한다. 따라서, 지지 부재(46)가 상승한 경우에는 벨로스(49)에 의한 반력이 지지 부재(46)에 작용하고, 지지 부재(46)가 하강한 경우에는 벨로스(49)의 수축력이 지지 부재(46)에 작용한다.In this case, although the structure using the bellows 49 is suitable, when the support member 46 is raised and lowered, the edge part of the bellows 49 (-Z) direction also raises and lowers. Therefore, when the support member 46 is raised, the reaction force by the bellows 49 acts on the support member 46, and when the support member 46 is lowered, the contracting force of the bellows 49 is supported by the support member 46. Act on

그러나, 기판 처리 장치(1)에서는, 전술한 바와 같이, 종래 장치에 비해 지지 부재(46)의 강성이 높은 구조를 채용하고 있기 때문에, 벨로스(49)로부터 외력이 가해졌다 하더라도, 지지 부재(46)의 변형이나 비뚤어짐을 억제할 수 있다. 즉, 기판 처리 장치(1)의 구조는, 기판 처리 장치(1)가 처리실(21)의 내부 압력을 외부 분위기에 대해 변경하는 처리를 행하는 경우에 있어서, 한층 더 뛰어난 효과를 발휘한다.However, in the substrate processing apparatus 1, as described above, since the rigidity of the support member 46 is adopted as compared with the conventional apparatus, even if an external force is applied from the bellows 49, the support member 46 ) Deformation and skew can be suppressed. That is, the structure of the substrate processing apparatus 1 exhibits the effect more excellent when the substrate processing apparatus 1 performs the process which changes the internal pressure of the process chamber 21 with respect to an external atmosphere.

도 1로 돌아가, 구동 모터(41)는, 제어부(7)로부터의 제어 신호에 근거하여, 기판(90)을 승강시키기 위한 구동력을 생성한다. 기판 처리 장치(1)는, 단일의 구동 모터(41)에 의해 기판(90)을 승강시키기 때문에, 복수의 구동원을 이용하는 경우에 비해, 장치 비용을 억제할 수 있다. 또, 제어부(7)는, 복수의 구동원을 동기(同期) 제어하는 등의 복잡한 제어가 불필요하므로, 제어도 용이하다.Returning to FIG. 1, the drive motor 41 generates a driving force for raising and lowering the substrate 90 based on the control signal from the control unit 7. Since the board | substrate processing apparatus 1 raises and lowers the board | substrate 90 by the single drive motor 41, it can suppress apparatus cost compared with the case of using a some drive source. Moreover, since the control part 7 does not require complicated control, such as synchronous control of several drive sources, control is also easy.

동력 전달 기구(42)는, 베벨 기어 박스(420 내지 425)와 X축에 거의 평행하게 배치된 회전 샤프트(426)와 Z축에 거의 평행하게 배치된 회전 샤프트(427)와, 회전 샤프트(427)를 볼 나사(48)에 연결하는 커플링(428)을 구비한다.The power transmission mechanism 42 includes the bevel gear boxes 420 to 425, a rotation shaft 426 disposed substantially parallel to the X axis, a rotation shaft 427 disposed substantially parallel to the Z axis, and a rotation shaft 427. ) Is coupled to the ball screw 48.

구동 모터(41)에 의해 생성된 Y축을 중심으로 한 회전 구동력(화살표(429)로 나타내는 방향 회전 구동력)은, 베벨 기어 박스(420)를 개재하여 회전 샤프트(426)에 전달되고, X축을 중심으로 한 회전 구동력으로 변환된다. 즉, 구동 모터(41)에 의해 베벨 기어(420a)가 회전하면, 그 회전 구동력은 베벨 기어(420b)를 개재하여 회전 샤프트(426)에 전달된다.The rotational driving force (direction rotational drive force indicated by the arrow 429) about the Y-axis generated by the drive motor 41 is transmitted to the rotational shaft 426 via the bevel gear box 420, and centered on the X-axis. Is converted into one rotational driving force. That is, when the bevel gear 420a rotates by the drive motor 41, the rotation drive force is transmitted to the rotating shaft 426 via the bevel gear 420b.

또한, 회전 샤프트(426)의 회전 구동력은, 베벨 기어 박스(421 내지 425)를 개재하여, 각각의 회전 샤프트(427)에 전달되고, Z축을 중심으로 한 회전 구동력으로 변환된다.In addition, the rotation drive force of the rotation shaft 426 is transmitted to each rotation shaft 427 via the bevel gear boxes 421 to 425, and is converted into rotation drive force about the Z axis.

도 3에 도시하는 베벨 기어 박스(423)를 예로 설명하면, X축 방향을 따라 배치되는 회전 샤프트(426)와 Z축 방향을 따라 배치되는 회전 샤프트(427)에는, 각각 베벨 기어(423a, 423b)가 고정되고, 베벨 기어(423a)와 베벨 기어(423b)가 서로 맞물려 있다. 이러한 상태에서 회전 샤프트(426)가 X축 둘레를 회전하면, 그 회전 구동력은 회전 샤프트(427)에 전달되고, 회전 샤프트(427)는 Z축 둘레를 회전한다.When the bevel gear box 423 shown in FIG. 3 is demonstrated as an example, the bevel gears 423a and 423b are respectively attached to the rotating shaft 426 arrange | positioned along the X-axis direction, and the rotating shaft 427 arrange | positioned along the Z-axis direction, respectively. ) Is fixed, and the bevel gear 423a and the bevel gear 423b are meshed with each other. When the rotation shaft 426 rotates around the X axis in this state, the rotation drive force is transmitted to the rotation shaft 427, and the rotation shaft 427 rotates around the Z axis.

전술한 바와 같이, 각 유지부(401 내지 405)가 구비하는 볼 나사(48)는, 모두 커플링(428)을 개재하여 회전 샤프트(427)와 연결되어 있다. 따라서, 회전 샤프트(427)의 회전이 볼 나사(48)에 전달되고, 볼 나사(48)는 Z축 둘레를 회전한다. 이러한 구조에 의해, 동력 전달 기구(42)는, 구동 모터(41)에 의해 생성된 구동력을 복수의 유지부(401 내지 405)의 각각에 전달하는 기능을 갖고 있다.As described above, the ball screws 48 included in each of the holding portions 401 to 405 are all connected to the rotary shaft 427 via the coupling 428. Thus, rotation of the rotary shaft 427 is transmitted to the ball screw 48, which rotates around the Z axis. With this structure, the power transmission mechanism 42 has a function of transmitting the driving force generated by the drive motor 41 to each of the plurality of holding portions 401 to 405.

타이밍 벨트에 의해 구동력을 전달하는 종래의 장치는, 기구가 복잡하고 조립 공정 수가 증대한다는 문제가 있었다. 그러나, 기판 처리 장치(1)의 동력 전달 기구(42)는 비교적 간소한 구조이기 때문에, 조립 공정 수를 줄일 수 있다.The conventional apparatus for transmitting the driving force by the timing belt has a problem that the mechanism is complicated and the number of assembly steps is increased. However, since the power transmission mechanism 42 of the substrate processing apparatus 1 has a relatively simple structure, the number of assembling steps can be reduced.

승강 기구(5)는, 제어부(7)로부터의 제어 신호에 근거하여, 제1 챔버(2)를 승강시킨다. 제1 챔버(2)는, 기판(90)을 처리실에 대해 반출입시킬 때나, 기판 처 리 장치(1)의 보수 등을 행할 때에 상승한다. 제1 챔버(2)가 상승한 상태(도 1에 도시한 상태)에서는, 처리실은 대기(大氣) 개방된다.The lifting mechanism 5 raises and lowers the first chamber 2 based on the control signal from the control unit 7. The 1st chamber 2 raises when carrying out the board | substrate 90 to a process chamber, and when repairing the board | substrate processing apparatus 1, etc. In the state where the first chamber 2 is raised (the state shown in FIG. 1), the processing chamber is opened to the atmosphere.

한편, 처리실(21)에서 기판(90)에 대한 처리를 실행할 때에는, 제1 챔버(2)는 승강 기구(5)에 의해, 도 2에 도시하는 위치로 하강한다. 제2 챔버(3)에는, 구동축(45)이 삽입되는 관통 구멍(30)이 다수 설치되어 있다. 그러나, 이들 관통 구멍(30)은, 전술한 바와 같이, 벨로스(49)에 의해 시일되어 있기 때문에, 제1 챔버(2)와 제2 챔버(3)가 영합하면, 형성되는 처리실(21)은 밀폐 상태가 된다.On the other hand, when performing the process with respect to the board | substrate 90 in the process chamber 21, the 1st chamber 2 is lowered to the position shown in FIG. 2 by the elevation mechanism 5. In the second chamber 3, a plurality of through holes 30 into which the drive shaft 45 is inserted are provided. However, since these through holes 30 are sealed by the bellows 49 as described above, when the first chamber 2 and the second chamber 3 meet, the process chamber 21 to be formed is It becomes a sealed state.

배기 기구(6)는, 제1 챔버(2)와 제2 챔버(3)가 영합하여, 처리실(21)이 밀폐된 상태에서, 그 처리실(21) 내의 분위기를 흡인하는 기능을 갖는다. 이와 같이 배기 기구(6)가 흡인을 행하면, 처리실(21) 내부는 감압되고, 기판(90)은 감압 건조된다. 즉, 기판 처리 장치(1)는 처리실(21) 내에서 기판(90)을 감압 건조 처리할 수 있다.The exhaust mechanism 6 has a function of sucking the atmosphere in the processing chamber 21 in a state where the first chamber 2 and the second chamber 3 meet and the processing chamber 21 is sealed. When the exhaust mechanism 6 sucks in this manner, the inside of the processing chamber 21 is reduced in pressure, and the substrate 90 is dried under reduced pressure. That is, the substrate processing apparatus 1 can perform the pressure reduction drying process of the board | substrate 90 in the process chamber 21.

또한, 본 실시 형태에 있어서의 배기 기구(6)는, 배기관을 외부의 공조(空調) 장치(예를 들면 공장 내에 설치된 장치)에 연결시키는 구조이지만, 물론 이들 구조를 장치 내에 설치하여도 된다.In addition, although the exhaust mechanism 6 in this embodiment is a structure which connects an exhaust pipe to an external air conditioning apparatus (for example, the apparatus installed in a factory), these structures may of course be provided in an apparatus.

제어부(7)는, 일반적인 컴퓨터의 기능을 구비하고 있으며, 프로그램에 따라서 동작함으로써, 기판 처리 장치(1)의 각 구성을 제어한다. 예를 들면, 제어부(7)는, 구동 모터(41)의 회전 방향이나 회전량을 제어하여, 기판(90)의 승강 속도나 승강 거리를 제어한다.The control part 7 is equipped with the function of a general computer, and controls each structure of the substrate processing apparatus 1 by operating according to a program. For example, the control part 7 controls the lifting direction and the lifting distance of the board | substrate 90 by controlling the rotation direction and rotation amount of the drive motor 41. FIG.

이상과 같이, 본 실시 형태에 있어서의 기판 처리 장치(1)는, 복수의 유지부 (401 내지 405)의 각각이 지지 부재(46)를 구비하는 구조이기 때문에, 지지 부재(46)의 강성을 높일 수 있다. 따라서, 기판(90)의 수평 자세를 정밀도 있게 유지할 수 있다.As described above, since the substrate processing apparatus 1 in the present embodiment has a structure in which each of the plurality of holding portions 401 to 405 includes the supporting member 46, the rigidity of the supporting member 46 is increased. It can increase. Therefore, the horizontal attitude of the board | substrate 90 can be maintained precisely.

또한, 본 실시 형태에 있어서의 기판 처리 장치(1)는, 유지 수단에 상당하는 5개의 유지부(401 내지 405)를 구비하고 있다. 그러나, 유지 수단의 수는 5개에 한정되는 것은 아니며, 예를 들면 6개 이상이어도 된다. 즉, 기판 처리 장치(1)는, 기판(90)의 사이즈가 대형화된 경우라도, 유지 수단의 수를 쉽게 증가시킬 수 있으므로, 장치의 스케일 업(scale-up)이 용이하다.In addition, the substrate processing apparatus 1 in this embodiment is provided with five holding | maintenance parts 401-405 corresponded to holding means. However, the number of holding means is not limited to five, For example, six or more may be sufficient. In other words, even when the size of the substrate 90 is increased, the substrate processing apparatus 1 can easily increase the number of holding means, so that the scale-up of the apparatus is easy.

또, 처리실(21)의 Z축 방향의 사이즈가 크면, 처리실(21)이 밀폐된 상태라 하더라도, 승강 장치(4)는 처리실(21) 내에서 기판(90)을 승강시키는 것이 가능하다. 즉, 기판 처리 장치(1)는, 처리실(21) 내에서 기판(90)을 처리하면서, 해당 기판(90)의 높이 위치를 변경하는 것이 가능하다.In addition, when the size of the process chamber 21 in the Z-axis direction is large, even if the process chamber 21 is sealed, the lifting device 4 can raise and lower the substrate 90 in the process chamber 21. That is, the substrate processing apparatus 1 can change the height position of the said board | substrate 90, processing the board | substrate 90 in the process chamber 21.

기판(90)에 있어서의 처리의 균일성을 유지하기 위해서는, 처리 중의 기판(90)의 자세가 수평으로 유지되어 있는 것이 중요하다. 그 때문에, 승강 시의 수평 정밀도가 낮은 종래 장치에서는, 처리 중의 기판(90)을 승강시키면 처리 정밀도가 저하된다는 문제가 있었다.In order to maintain the uniformity of the processing in the substrate 90, it is important that the attitude of the substrate 90 in the process is kept horizontal. Therefore, in the conventional apparatus with low horizontal accuracy at the time of lifting, when raising and lowering the board | substrate 90 during a process, there existed a problem that process precision fell.

그러나, 기판 처리 장치(1)는, 정지 시에 한정되지 않으며, 승강 시의 기판(90)에 대해서도 자세를 정밀도 있게 유지할 수 있으므로, 처리 중의 기판(90)을 승강시켰다 하더라도 처리 정밀도의 저하를 억제할 수 있다.However, the substrate processing apparatus 1 is not limited at the time of stopping, and since the attitude | position can be maintained precisely also with respect to the board | substrate 90 at the time of lifting, even if the board | substrate 90 during a process is raised and lowered, the fall of processing precision is suppressed. can do.

(2. 변형예)(2. Variation)

이상, 본 발명의 실시 형태에 대해 설명해왔지만, 본 발명은 상기 실시 형태에 한정되는 것은 아니며, 여러 가지 변형이 가능하다.As mentioned above, although embodiment of this invention was described, this invention is not limited to the said embodiment, A various deformation | transformation is possible.

예를 들면, 상기 실시 형태에서는, 기판(90)과 구동축(45)의 사이는 복수의 핀(43)과 리프트 플레이트(44)를 개재하여 승강 구동력이 전달되고 있었지만, 구동축(45)이 직접 기판(90)의 이면에 맞닿아 있는 구조여도 된다.For example, in the said embodiment, although the lifting drive force was transmitted between the board | substrate 90 and the drive shaft 45 via the some pin 43 and the lift plate 44, the drive shaft 45 is a board | substrate directly. The structure which abuts on the back surface of 90 may be sufficient.

청구항 1 내지 7에 기재된 발명은, 복수의 유지 수단의 각각이, 승강 가능한 적어도 1개의 구동축과, 적어도 1개의 구동축이 세워 설치되는 지지 부재와, 지지 부재에 고정 설치되는 너트 부재와, 너트 부재에 나입되고, 상기 동력 전달 기구에 의해 회전 구동력이 전달되는 볼 나사를 구비함으로써, 지지 부재는 분할되어 소형화되기 때문에 강성이 높아, 기판의 수평 자세를 용이하게 유지할 수 있다. 또, 랙축과 기어를 이용한 승강 기구에 비해 응답성이 향상된다. 또, 동작의 진직 방향성이 향상된다.The invention according to Claims 1 to 7, wherein each of the plurality of holding means includes at least one drive shaft that can be lifted, a support member on which at least one drive shaft is mounted, a nut member fixed to the support member, and a nut member. By having the ball screw inserted and inserted into the rotary drive force by the power transmission mechanism, since the support member is divided and miniaturized, the rigidity is high and the horizontal posture of the substrate can be easily maintained. Moreover, the response is improved as compared with the lifting mechanism using the rack shaft and the gear. In addition, the vertical direction of the operation is improved.

청구항 4에 기재된 발명에서는, 동력 전달 기구가, 수평축 둘레에 회전 구동되는 샤프트와, 샤프트의 회전 구동력을 상기 볼 나사에 전달하는 전달 수단을 구비함으로써, 동력 전달 기구에 필요로 하는 높이 방향의 치수를 작게 할 수 있다. 따라서, 장치의 공간 절약화를 도모할 수 있다. 또, 타이밍 벨트를 이용하는 경우에 비해 간소한 구조이므로, 조립 등이 용이하다.In the invention according to claim 4, the power transmission mechanism includes a shaft that is rotationally driven around a horizontal axis, and a transmission means for transmitting the rotational driving force of the shaft to the ball screw, thereby providing a dimension in the height direction required for the power transmission mechanism. It can be made small. Therefore, the space saving of an apparatus can be aimed at. Moreover, since it is a simple structure compared with the case of using a timing belt, assembly etc. are easy.

청구항 5에 기재된 발명에서는, 지지 부재는, 파이프 형상 부재임에 따라, 높은 강성을 유지하면서, 경량화할 수 있다.In the invention according to claim 5, as the support member is a pipe-shaped member, it can be reduced in weight while maintaining high rigidity.

Claims (7)

처리실 내에서 기판을 처리하는 기판 처리 장치로서,A substrate processing apparatus for processing a substrate in a processing chamber, 상기 처리실의 덮개부를 형성하는 제1 챔버와,A first chamber forming a cover part of the processing chamber, 상기 제1 챔버와 영합(迎合)함으로써 상기 처리실을 형성하는 제2 챔버와.A second chamber which forms the processing chamber by mating with the first chamber. 상기 제2 챔버에 대해 기판을 승강시키는 승강 장치를 구비하고, A lifting device for elevating the substrate with respect to the second chamber, 상기 승강 장치는, The lifting device, 기판을 유지하는 복수의 유지 수단과,A plurality of holding means for holding a substrate, 상기 복수의 유지 수단에 의해 유지된 기판을 승강시키기 위한 구동력을 생성하는 단일의 구동원과, A single driving source for generating a driving force for elevating the substrate held by the plurality of holding means; 상기 구동원에 의해 생성된 구동력을 상기 복수의 유지 수단의 각각에 전달하는 동력 전달 기구를 구비하고,A power transmission mechanism for transmitting the driving force generated by the drive source to each of the plurality of holding means, 상기 복수의 유지 수단의 각각이, Each of the plurality of holding means, 승강 가능한 적어도 1개의 구동축과, At least one drive shaft capable of lifting and lowering, 상기 적어도 1개의 구동축이 세워 설치되는 지지 부재와,A support member on which the at least one drive shaft is installed upright, 상기 지지 부재에 고정 설치되는 너트 부재와,A nut member fixed to the support member; 상기 너트 부재에 나입(螺入)되어 상기 동력 전달 기구에 의해 회전 구동력이 전달되는 볼 나사를 구비하고,And a ball screw inserted into the nut member to which a rotational driving force is transmitted by the power transmission mechanism, 상기 지지 부재는, 각각 다른 유지 수단의 지지 부재와 서로 별개로 되어 있는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The said support member is mutually separate from the support member of different holding means, respectively. The substrate processing apparatus characterized by the above-mentioned. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 제2 챔버에는 복수의 관통 구멍이 설치되어 있으며,The second chamber is provided with a plurality of through holes, 상기 적어도 1개의 구동축은, 상기 복수의 관통 구멍 중 어느 하나에 삽입되고,The at least one drive shaft is inserted into any one of the plurality of through holes, 상기 적어도 1개의 구동축이 삽입된 관통 구멍을 각각 시일하는 벨로스를 더 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And a bellows for sealing the through-holes into which the at least one drive shaft is inserted, respectively. 청구항 2에 있어서, The method according to claim 2, 상기 처리실 내를 감압하는 배기 기구를 더 구비하고, And an exhaust mechanism for depressurizing the inside of the processing chamber, 상기 처리는, 감압 건조 처리인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The said processing is a pressure reduction drying process, The substrate processing apparatus characterized by the above-mentioned. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 동력 전달 기구가, The power transmission mechanism, 수평축 둘레에 회전 구동되는 샤프트와,A shaft driven around the horizontal axis, 상기 샤프트의 회전 구동력을 상기 볼 나사에 전달하는 전달 수단을 구비하는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And transmission means for transmitting the rotational driving force of the shaft to the ball screw. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 지지 부재는, 파이프 형상 부재인 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.The support member is a pipe-shaped member. 청구항 1에 있어서, The method according to claim 1, 상기 복수의 유지 수단의 각각이, Each of the plurality of holding means, 기판에 맞닿아 있는 복수의 핀과,A plurality of pins in contact with the substrate, 상기 복수의 핀이 세워 설치되는 리프트 플레이트를 더 구비하고, Further comprising a lift plate on which the plurality of pins are installed upright, 상기 적어도 1개의 구동축은, 상기 리프트 플레이트의 하방으로 늘어뜨려 설치되는 것을 특징으로 하는 기판 처리 장치.And said at least one drive shaft is arranged in a row below said lift plate. 기판을 승강시키는 승강 장치로서,An elevating device for elevating a substrate, 기판을 유지하는 복수의 유지 수단과,A plurality of holding means for holding a substrate, 기판을 승강시키기 위한 구동력을 생성하는 단일의 구동원과,A single drive source for generating a drive force for lifting and lowering the substrate; 상기 구동원에 의해 생성된 구동력을 상기 복수의 유지 수단의 각각에 전달하는 동력 전달 기구를 구비하고,A power transmission mechanism for transmitting the driving force generated by the drive source to each of the plurality of holding means, 상기 복수의 유지 수단의 각각이, Each of the plurality of holding means, 승강 가능한 적어도 1개의 구동축과, At least one drive shaft capable of lifting and lowering, 상기 적어도 1개의 구동축이 세워 설치되는 지지 부재와,A support member on which the at least one drive shaft is installed upright, 상기 지지 부재에 고정 설치되는 너트 부재와,A nut member fixed to the support member; 상기 너트 부재에 나입되고, 상기 동력 전달 기구에 의해 회전 구동력이 전달되는 볼 나사를 구비하고,A ball screw inserted into the nut member and to which a rotational driving force is transmitted by the power transmission mechanism; 상기 지지 부재는, 각각 다른 유지 수단의 지지 부재와 서로 별개로 되어 있 는 것을 특징으로 하는 승강 장치.The support member is a lifting device, characterized in that separate from each other the support member of the other holding means.
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