KR20070080107A - 빛샘 방지를 위한 액정 표시 장치 - Google Patents
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- 239000004973 liquid crystal related substance Substances 0.000 title abstract description 46
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 37
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims abstract description 34
- 125000006850 spacer group Chemical group 0.000 claims abstract description 33
- 239000010408 film Substances 0.000 claims description 31
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 9
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 claims description 7
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims description 6
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 abstract 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 49
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 15
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 11
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 11
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 11
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 10
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 9
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 9
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 9
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 6
- 230000001681 protective effect Effects 0.000 description 5
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 5
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910021417 amorphous silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 4
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 4
- 229910052715 tantalum Inorganic materials 0.000 description 4
- GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N tantalum atom Chemical compound [Ta] GUVRBAGPIYLISA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 4
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052581 Si3N4 Inorganic materials 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000011368 organic material Substances 0.000 description 3
- HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N silicon nitride Chemical compound N12[Si]34N5[Si]62N3[Si]51N64 HQVNEWCFYHHQES-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 3
- 229910004205 SiNX Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N indium;oxotin Chemical compound [In].[Sn]=O AMGQUBHHOARCQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000011159 matrix material Substances 0.000 description 2
- 238000000623 plasma-assisted chemical vapour deposition Methods 0.000 description 2
- 239000003870 refractory metal Substances 0.000 description 2
- 229910052814 silicon oxide Inorganic materials 0.000 description 2
- YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N zinc indium(3+) oxygen(2-) Chemical compound [O--].[Zn++].[In+3] YVTHLONGBIQYBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910001316 Ag alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000881 Cu alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910001182 Mo alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 206010034972 Photosensitivity reaction Diseases 0.000 description 1
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 1
- 229910010272 inorganic material Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011147 inorganic material Substances 0.000 description 1
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 1
- 230000004048 modification Effects 0.000 description 1
- 238000012986 modification Methods 0.000 description 1
- 238000000059 patterning Methods 0.000 description 1
- 230000036211 photosensitivity Effects 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 229910021420 polycrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021332 silicide Inorganic materials 0.000 description 1
- FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N silicide(4-) Chemical compound [Si-4] FVBUAEGBCNSCDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002356 single layer Substances 0.000 description 1
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/1339—Gaskets; Spacers; Sealing of cells
- G02F1/13394—Gaskets; Spacers; Sealing of cells spacers regularly patterned on the cell subtrate, e.g. walls, pillars
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136213—Storage capacitors associated with the pixel electrode
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- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
- G02F1/136286—Wiring, e.g. gate line, drain line
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- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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- G02F1/136—Liquid crystal cells structurally associated with a semi-conducting layer or substrate, e.g. cells forming part of an integrated circuit
- G02F1/1362—Active matrix addressed cells
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- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/12—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body
- H01L27/1214—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being other than a semiconductor body, e.g. an insulating body comprising a plurality of TFTs formed on a non-semiconducting substrate, e.g. driving circuits for AMLCDs
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Abstract
빛샘 현상을 억제할 수 있는 액정 표시 장치가 제공된다. 액정 표시 장치는, 제1 절연 기판와, 제1 절연 기판 위에 형성되며, 제1 개구 패턴을 구비한 게이트선과, 게이트선과 절연되어 교차하는 데이터선과, 데이터 전압이 인가되는 화소 전극과, 게이트선 및 데이터선에 연결되어 화소 전극에 데이터 전압을 인가하는 박막 트랜지스터와, 제1 절연 기판에 대향하는 제2 절연 기판과, 제1 및 제2 절연 기판 사이에 개재되며 일단이 제1 개구 패턴 내에 위치하는 컬럼 스페이서를 포함한다.
액정 표시 장치, 컬럼 스페이서, 빛샘
Description
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 표시판의 배치도이다.
도 1b는 도 1a의 박막 트랜지스터 표시판을 Ⅰb-Ⅰb'선을 따라 절개한 단면도이다.
도 1c는 도 1a의 박막 트랜지스터 표시판을 Ⅰc-Ⅰc'선 및 Ⅰc'-Ⅰc"선을 따라 절개한 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치용 공통 전극 표시판의 배치도이다.
도 3a는 도 1a의 박막 트랜지스터 표시판과 도 2의 공통 전극 표시판을 포함하는 액정 표시 장치의 배치도이다.
도 3b는 도 3a의 액정 표시 장치를 Ⅲb-Ⅲb'선을 따라 절개한 단면도이다.
도 4a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이다.
도 4b는 도 4a의 액정 표시 장치를 Ⅳb-Ⅳb'선을 따라 절개한 단면도이다.
도 5는 도 4a의 변형예이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
10: 절연 기판 21: 플로팅 바
22: 게이트선 22': 제1 개구 패턴
24: 게이트선 끝단 26: 게이트 전극
30: 게이트 절연막 40: 반도체층
55, 56: 저항성 접촉층 62: 데이터선
65: 소스 전극 66: 드레인 전극
67: 유지 전극용 도전 패턴 67': 제2 개구 패턴
69: 슬릿 패턴 70: 보호막
74, 76, 77, 78: 접촉 구멍 82: 화소 전극
86: 보조 게이트선 끝단 88: 보조 데이터선 끝단
90: 공통 전극 94: 블랙 매트릭스
96: 절연 기판 98: 색필터
100: 박막 트랜지스터 표시판 200: 공통 전극 표시판
300: 액정층 310: 컬럼 스페이서
본 발명은 액정 표시 장치에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 빛샘 현상을 억제할 수 있는 액정 표시 장치에 관한 것이다.
액정 표시 장치는 공통 전극을 포함하는 공통 전극 표시판과 박막 트랜지스 터 어레이를 포함하는 박막 트랜지스터 표시판을 포함한다. 공통 전극 표시판과 박막 트랜지스터 표시판은 서로 대향하며 두 표시판 사이에 개재된 실라인(seal line)에 의해 서로 접합되고, 그 사이에 형성된 일정한 공극에 액정층이 형성된다. 이와 같이 액정 표시 장치는 전극이 형성되어 있는 두 장의 표시판(공통 전극 표시판과 박막 트랜지스터 표시판)과 그 사이에 삽입되어 있는 액정층으로 이루어지며, 전극에 전압을 인가하여 액정층의 액정 분자들을 재배열시켜 투과되는 빛의 양을 조절함으로써 소정의 영상을 디스플레이할 수 있도록 구성된 장치이다. 액정 표시 장치는 비발광소자이기 때문에 박막 트랜지스터 기판의 후면에는 빛을 공급하기 위한 백라이트 유닛이 위치한다. 백라이트에서 조사된 빛은 액정의 배열상태에 따라 투과량이 조정된다.
박막 트랜지스터 표시판은 다수 개의 게이트선, 데이터선, 화소 전극을 포함한다. 게이트선은 행 방향으로 뻗어 있어 게이트 신호를 전달하고, 데이터선은 열 방향으로 뻗어 있고 데이터 신호를 전달한다. 화소는 게이트 라인과 데이터 라인에 연결되며, 스위칭 소자와 유지 커패시터를 포함한다.
여기서 스위칭 소자는 게이트선과 데이터선의 교차점에 형성되며, 스위칭 소자는 게이트선에 연결된 제어 단자, 데이터선에 연결된 입력 단자. 그리고 화소 전극에 연결된 출력 단자를 가지는 삼단 소자이다. 스위칭 소자의 출력 단자에는 유지 커패시터 및 액정 커패시터가 연결된다.
종래 기술에 의한 액정 표시 장치의 경우, 명암 대비비를 향상시키고 및 컬럼 스페이서 주변의 빛샘 현상을 억제하기 위해 공통 전극 표시판에 컬럼 스페이서 (column spacer)를 형성하는 방법이 개발되었다. 그러나 이와 같은 액정 표시 장치에 외부 압력이 가해지면 기판이 변형되고 기판 변형에 의해 컬럼 스페이서가 박막 트랜지스터 표시판 상에서 미끄러지게 된다. 즉 컬럼 스페이서와 박막 트랜지스터 표시판가 접촉하는 부분의 위치가 변경된다. 그 후 외부 압력이 제거되는 경우 기판은 다시 원형으로 복원되지만 컬럼 스페이서는 다시 원래 위치로 돌아오지 못하여 빛샘 현상이 발행한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 빛샘 현상을 억제할 수 있는 액정 표시 장치를 제공하고자 하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제들은 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제들은 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치는, 제1 절연 기판와, 상기 제1 절연 기판 위에 형성되며, 제1 개구 패턴을 구비한 게이트선과, 상기 게이트선과 절연되어 교차하는 데이터선과, 데이터 전압이 인가되는 화소 전극과, 상기 게이트선 및 상기 데이터선에 연결되어 상기 화소 전극에 상기 데이터 전압을 인가하는 박막 트랜지스터와, 상기 제1 절연 기판에 대향하는 제2 절연 기판과, 상기 제1 및 제2 절연 기판 사이에 개재되며 일단이 상기 제1 개구 패턴 내에 위치하는 컬럼 스페이서를 포함한다.
또한 상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치는, 제1 절연 기판과, 상기 제1 절연 기판 위에 형성된 게이트선과, 상기 게이트선과 절연되어 교차하는 데이터선과, 상기 게이트선 위에 주위 배선과 전기적으로 절연된 슬릿 패턴과, 데이터 전압이 인가되는 화소 전극과, 상기 게이트선 및 상기 데이터선에 연결되어 상기 화소 전극에 상기 데이터 전압을 인가하는 박막 트랜지스터와, 상기 제1 절연 기판에 대향하는 제2 절연 기판과, 상기 제1 및 제2 절연 기판 사이에 개재되며 일단이 상기 슬릿 패턴 상에 위치하는 컬럼 스페이서를 포함한다.
기타 실시예들의 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
이하, 첨부된 도면들을 참고로 하여 본 발명의 액정 표시 장치에 대하여 설명한다. 본 발명의 액정 표시 장치는 게이트선과 데이터선에 의해 정의되는 박막 트랜지스터를 구비하는 박막 트랜지스터 표시판과, 박막 트랜지스터 표시판과 대향 하며 공통 전극을 구비하는 공통 전극 표시판과, 박막 트랜지스터 표시판과 공통 전극 표시판 사이에 개재된 액정층을 포함한다.
먼저 도 1a 내지 도 1c를 참조하여 박막 트랜지스터 표시판에 대하여 상세히 설명한다. 도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 박막 트랜지스터 표시판의 배치도이고, 도 1b는 도 1a의 박막 트랜지스터 표시판을 Ⅰb-Ⅰb'선을 따라 절개한 단면도이고, 도 1c는 도 1a의 박막 트랜지스터 표시판을 Ⅰc-Ⅰc'선 및 Ⅰc'-Ⅰc"선을 따라 절개한 단면도이이다.
절연 기판(10) 위에 가로 방향으로 배치된 게이트선(22)과, 게이트선(22)에 돌기의 형태로 이루어진 게이트 전극(26)을 형성한다. 그리고 게이트선(22)의 끝에는 다른 층 또는 외부로부터 게이트 신호를 인가받아 게이트선(22)에 전달하는 게이트선 끝단(24)이 형성되어 있고, 게이트선 끝단(24)은 외부 회로와의 연결을 위하여 폭이 확장되어 있다. 이러한 게이트선(22), 게이트 전극(26) 및 게이트선 끝단(24)을 게이트 배선이라고 한다.
그리고 절연 기판(10) 위에는 세로 방향으로 화소마다 분리되어 형성된 플로팅 바(floating bar)(21)가 형성되어 있다. 플로팅 바(21)는 주위로부터 전기적으로 플로팅되어 있고 데이터선(62)의 양측에 배치되어 데이터선(62)에 의한 빛샘 현상을 방지하는 역할을 한다.
또한, 게이트선(22)은 화소 전극(82)과 중첩하는 부분의 폭이 확장되어 화소 전극(82)과 유지 커패시터를 형성한다. 본 실시예에서는 화소 전극(82)과 게이트선(22)이 중첩하여 형성된 유지 커패시터를 이용하여 설명하였으나, 본 발명은 이에 한정되지 않으며 게이트 배선과 동일한 층에 공통 전압(Vcom)이 인가되는 유지 전극을 형성하고 화소 전극과 중첩시켜 유지 커패시터를 형성할 수도 있다.
그리고 게이트선(22)에는 화소 전극(82)과 중첩하는 부분에 소정의 제1 개구 패턴(opening pattern)(22')이 형성되어 있다. 제1 개구 패턴(22')은 외부 압력에 의해 컬럼 스페이서(column spacer)(미도시)가 미끄러지는 것을 방지하는 역할을 하며, 이에 대해서는 후에 자세히 설명한다.
게이트 배선(22, 24, 26) 및 플로팅 바(21)는 알루미늄(Al)과 알루미늄 합금 등 알루미늄 계열의 금속, 은(Ag)과 은 합금 등 은 계열의 금속, 구리(Cu)와 구리 합금 등 구리 계열의 금속, 몰리브덴(Mo)과 몰리브덴 합금 등 몰리브덴 계열의 금속, 크롬(Cr), 티타늄(Ti), 탄탈륨(Ta) 따위로 이루어질 수 있다. 또한, 게이트 배선(22, 24, 26) 및 플로팅 바(21)는 물리적 성질이 다른 두 개의 도전막(미도시)을 포함하는 다중막 구조를 가질 수 있다. 이 중 한 도전막은 게이트 배선(22, 24, 26) 및 플로팅 바(21)의 신호 지연이나 전압 강하를 줄일 수 있도록 낮은 비저항(resistivity)의 금속, 예를 들면 알루미늄 계열 금속, 은 계열 금속, 구리 계열 금속 등으로 이루어진다. 이와는 달리, 다른 도전막은 다른 물질, 특히 ITO(indium tin oxide) 및 IZO(indium zinc oxide)와의 접촉 특성이 우수한 물질, 이를테면 몰리브덴 계열 금속, 크롬, 티타늄, 탄탈륨 등으로 이루어진다. 이러한 조합의 좋은 예로는 크롬 하부막과 알루미늄 상부막 및 알루미늄 하부막과 몰리브덴 상부막을 들 수 있다. 다만, 본 발명은 이에 한정되지 않으며, 게이트 배선(22, 24, 26) 및 플로팅 바(21)는 다양한 여러 가지 금속과 도전체로 만들어질 수 있다.
게이트 배선(22, 24, 26) 및 플로팅 바(21) 위에 질화 규소(SiNx) 따위로 이루어진 게이트 절연막(30)을 형성한다.
게이트 절연막(30) 위에는 수소화 비정질 규소(hydrogenated amorphous silicon) 또는 다결정 규소 등으로 이루어진 반도체층(40)을 형성한다. 이러한 반도체층(40)은 섬형, 선형 등과 같이 다양한 형상을 가질 수 있으며, 예를 들어 본 실시예에서와 같이 게이트 전극(26) 상에 섬형으로 형성될 수 있다. 또한 데이터선(62) 아래에 위치하여 게이트 전극(26) 상부까지 연장된 형상을 가지는 선형으로 형성할 수 있다. 선형 반도체층(40)을 형성하는 경우, 데이터선(62)과 동일하게 패터닝하여 형성할 수 있다.
반도체층(40)의 위에는 실리사이드(silicide) 또는 n형 불순물이 고농도로 도핑되어 있는 n+ 수소화 비정질 규소 따위의 물질로 만들어진 저항성 접촉층(55, 56)을 형성한다. 이러한 저항성 접촉층(55, 56)은 섬형, 선형 등과 같이 다양한 형상을 가질 수 있으며, 예를 들어 본 실시예에서와 같이 섬형 저항성 접촉층(55, 56)의 경우 드레인 전극(66) 및 소스 전극(65) 아래에 위치하고, 선형의 저항성 접촉층의 경우 데이터선(62)의 아래까지 연장되어 형성될 수 있다.
저항성 접촉층(55, 56) 및 게이트 절연막(30) 위에는 데이터선(62) 및 드레인 전극(66)을 형성한다. 데이터선(62)은 길게 뻗어 있으며 게이트선(22)과 교차한다. 데이터선(62)으로부터 가지 형태로 반도체층(40)의 상부까지 연장되어 있는 소스 전극(65)이 형성되어 있다. 그리고, 데이터선(62)의 끝에는 다른 층 또는 외부로부터 데이터 신호를 인가받아 데이터선(62)에 전달하는 데이터선 끝단(68)이 형 성되어 있고, 데이터선 끝단(68)은 외부 회로와의 연결을 위하여 폭이 확장되어 있다. 드레인 전극(66)은 소스 전극(65)과 분리되어 있으며 게이트 전극(26)을 중심으로 소스 전극(65)과 대향하도록 반도체층(40) 상부에 위치한다. 박막 트랜지스터는 게이트 전극(26), 소스 전극(65) 및 드레인 전극(66)의 삼단 소자로서, 게이트 전극(26)에 전압이 인가될 때 소스 전극(65)과 드레인 전극(66) 사이에 전류를 흐르게 하는 스위칭 소자이다.
드레인 전극(66)은 반도체층(40) 상부의 막대형 패턴과, 막대형 패턴으로부터 연장되어 넓은 면적을 가지며 접촉 구멍(76)이 위치하는 드레인 전극 확장부를 포함한다.
이러한 데이터선(62), 데이터선 끝단(68), 소스 전극(65) 및 드레인 전극(66)을 데이터 배선이라고 한다.
그리고, 데이터 배선(62, 65, 66, 68)과 동일한 층에 동일한 물질로 이루어진 유지 전극용 도전 패턴(67)이 형성된다. 유지 전극용 도전 패턴(67)은 화소 전극(82)과 연결되고, 유지 커패시터는 유지 전극용 도전 패턴(67)으로 이루어진 일 단자, 전단 게이트선(22)으로 이루어진 타 단자, 및 이들 사이에 개재된 게이트 절연막(30)으로 구성된다. 그리고 유지 전극용 도전 패턴(67)에는 게이트선(22)의 제1 개구 패턴(22')과 중첩하는 위치에 제2 개구 패턴(67')이 형성되어 있다.
데이터 배선(62, 65, 66, 68)과 유지 전극용 도전 패턴(67)은 알루미늄, 크롬, 몰리브덴, 탄탈륨 및 티타늄으로 이루어진 그룹에서 선택된 하나 이상의 물질로 구성된 단일막 또는 다층막으로 이루어질 수 있다. 예를 들어, 데이터 배선(62, 65, 66, 68)과 유지 전극용 도전 패턴(67)은 크롬, 몰리브덴 계열의 금속, 탄탈륨 및 티타늄 등 내화성 금속으로 이루어지는 것이 바람직하며, 내화성 금속 따위의 하부막(미도시)과 그 위에 위치한 저저항 물질 상부막(미도시)으로 이루어진 다층막 구조를 가질 수 있다. 다층막 구조의 예로는 앞서 설명한 크롬 하부막과 알루미늄 상부막 또는 알루미늄 하부막과 몰리브덴 상부막의 이중막 외에도 몰리브덴막-알루미늄막-몰리브덴막의 삼중막을 들 수 있다. 또한, 데이터선(62)을 크롬 단일막, 크롬/알루미늄 이중막, 또는 크롬을 포함하는 다중막 구조로 형성하고 이러한 데이터선(62) 하부에 액티브심(41)을 형성하는 경우, 데이터선(62)과 액티브심(41)의 계면 접착(interface adhesion) 특성이 뛰어나서 데이터선(62)의 단선을 방지할 수 있다.
소스 전극(65)은 반도체층(40)과 적어도 일부분이 중첩되고, 드레인 전극(66)은 게이트 전극(26)을 중심으로 소스 전극(65)과 대향하며 반도체층(40)과 적어도 일부분이 중첩된다. 여기서, 저항성 접촉층(55, 56)은 반도체층(40)과 소스 전극(65) 및 반도체층(40)과 드레인 전극(66) 사이에 개재되어 이들 사이에 접촉 저항을 낮추어 주는 역할을 한다.
데이터 배선(62, 65, 66, 68), 유지 전극용 도전 패턴(67) 및 노출된 반도체층(40) 위에는 절연막으로 이루어진 보호막(70)이 형성되어 있다. 여기서 보호막(70)은 질화규소 또는 산화규소로 이루어진 무기물, 평탄화 특성이 우수하며 감광성(photosensitivity)을 가지는 유기물 또는 플라스마 화학 기상 증착(plasma enhanced chemical vapor deposition, PECVD)으로 형성되는 a-Si:C:O, a-Si:O:F 등 의 저유전율 절연 물질 등으로 이루어진다. 또한, 보호막(70)을 유기 물질로 형성하는 경우에는 소스 전극(65)과 드레인 전극(66) 사이의 반도체층(40)이 드러난 부분에 보호막(70)의 유기 물질이 접촉하는 것을 방지하기 위하여, 질화 규소(SiNx) 또는 산화 규소(SiO2)로 이루어진 하부 무기막과 상부 유기막의 이중막 구조를 가질 수 있다.
보호막(70)에는 드레인 전극(66), 유지 전극용 도전 패턴(67) 및 데이터선 끝단(68)을 각각 드러내는 접촉 구멍(contact hole)(76, 77, 78)이 형성되어 있으며, 보호막(70)과 게이트 절연막(30)에는 게이트선 끝단(24)을 드러내는 접촉 구멍(74)이 형성되어 있다.
보호막(70) 위에는 접촉 구멍(76)을 통하여 드레인 전극(66)과 전기적으로 연결되며 화소의 모양을 따라 화소 전극(82)이 형성되어 있다. 데이터 전압이 인가된 화소 전극(82)은 상부 표시판의 공통 전극과 함께 전기장을 생성함으로써 화소 전극(82)과 공통 전극 사이의 액정층의 액정 분자들의 배열을 결정한다.
또한, 보호막(70) 위에는 접촉 구멍(74, 78)을 통하여 각각 게이트선 끝단(24)과 데이터선 끝단(68)과 연결되어 있는 보조 게이트선 끝단(86) 및 보조 데이터선 끝단(88)이 형성되어 있다. 여기서, 화소 전극(82), 보조 게이트선 끝단(86) 및 보조 데이터선 끝단(88)은 ITO 또는 IZO 따위의 투명 도전체 또는 알루미늄 따위의 반사성 도전체로 이루어진다. 보조 게이트선 및 데이터선 끝단(86, 88)은 게이트선 끝단(24) 및 데이터선 끝단(68)과 외부 장치를 접합하는 역할을 한다.
화소 전극(82), 보조 게이트선 끝단(86), 보조 데이터선 끝단(88) 및 보호막(70) 위에는 액정층을 배향할 수 있는 배향막(미도시)이 도포될 수 있다.
이하, 도 2 내지 도 3b를 참조하여 본 발명의 일 실시예에 의한 액정 표시 장치용 공통 전극 표시판 및 이를 포함하는 액정 표시 장치에 대하여 설명한다. 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치용 공통 전극 표시판의 배치도이다. 도 3a는 도 1a의 박막 트랜지스터 표시판과 도 2의 공통 전극 표시판을 포함하는 액정 표시 장치의 배치도이다. 도 3b는 도 3a의 액정 표시 장치를 Ⅲb-Ⅲb'선을 따라 절개한 단면도이다.
도 2 내지 도 3b를 참조하면, 유리 등의 투명한 절연 물질로 이루어진 절연 기판(96) 위에 빛샘을 방지하기 위한 블랙 매트릭스(94)와 화소에 순차적으로 배열되어 있는 적색, 녹색, 청색의 색필터(98)가 형성되어 있고, 색필터(98) 위에는 ITO(indium tin oxide) 또는 IZO(indium zinc oxide) 등의 투명한 도전 물질로 이루어진 공통 전극(90)이 형성되어 있다. 공통 전극(90) 위에는 액정 분자들을 배향하는 배항막(미도시)이 도포될 수 있다. 그리고 배향막 위에 컬럼 스페이서(310)가 형성된다. 여기서 컬럼 스페이서(310)는 게이트선(22)의 제1 개구 패턴(22') 및 유지 전극용 도전 패턴(67)의 제2 개구 패턴(67')에 대응하는 위치에 형성된다.
도 3b에 도시된 바와 같이, 이와 같은 구조의 박막 트랜지스터 표시판(100)과 공통 전극 표시판(200)을 정렬하여 결합하고 그 사이에 액정층(300)을 형성하면 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치의 기본 구조가 이루어진다. 박막 트랜지스터 표시판(100)과 공통 전극 표시판(200)은 화소 전극(82)이 색필터(98)와 대 응하여 정확하게 중첩되도록 정렬된다. 그리고 공통 전극 표시판(200) 상에 형성된 컬럼 스페이서(310)는 그 일단이 제1 개구 패턴(22') 및 제2 개구 패턴(67') 내에 삽입된다. 따라서 외부 압력에 의하여 박막 트랜지스터 표시판(100) 또는 공통 전극 표시판(200)이 휘어지더라도 컬럼 스페이서(310)의 일단이 제1 및 제2 개구 패턴(22', 67') 내에 삽입되어 있으므로 컬럼 스페이서(310)가 미끄러지지 않는다. 또한 이러한 외부 압력이 제거되는 경우 컬럼 스페이서(310)는 원래 위치로 복원될 수 있으므로 빛샘 현상을 억제할 수 있다.
액정 표시 장치는 이러한 기본 구조에 편광판, 백라이트 등의 요소들을 배치하여 이루어진다. 이때 편광판(미도시)은 기본 구조 양측에 각각 하나씩 배치되며 그 투과축은 게이트선(22)에 대하여 나란하고 나머지 하나는 이에 수직을 이루도록 배치한다.
이하, 도 4a 및 도 4b를 참조하여 본 발명의 다른 실시예에 의한 액정 표시 장치에 대하여 설명한다. 도 4a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 액정 표시 장치의 배치도이고, 도 4b는 도 4a의 액정 표시 장치를 Ⅳb-Ⅳb'선을 따라 절개한 단면도이다. 설명의 편의상, 도 1 내지 도 3b의 도면에 나타낸 각 부재와 동일 기능을 갖는 부재는 동일 부호로 나타내고, 따라서 그 설명은 생략한다. 본 실시예의 액정 표시 장치는 이전 실시예의 액정 표시 장치와 비교하여, 컬럼 스페이서(310)가 미끄러지는 것을 방지하기 위해 슬릿 패턴(69)을 사용하는 점을 제외하고는 기본적으로 동일한 구조를 가진다.
즉 도 4a 및 도 4b에 도시된 바와 같이, 슬릿 패턴(69)은 유지 전극용 도전 패턴(67)과 동일한 층에 동일한 물질을 사용하여, 전단 게이트선(22)과 중첩하도록 형성된다. 슬릿 패턴(69)은 유지 전극용 도전 패턴(67)을 형성할 때 슬릿 마스크를 사용하여 한꺼번에 형성될 수 있다.
이와 같은 슬릿 패턴(69)에 의해 슬릿 패턴(69) 위에 배치되는 보호막(70) 및 화소 전극(82)에는 소정의 요철이 형성된다. 그리고 공통 전극 표시판(200) 상에 형성된 컬럼 스페이서(310)는 그 일단이 슬릿 패턴(69)에 의해 형성된 요철과 접촉하게 된다. 따라서 외부 압력에 의하여 박막 트랜지스터 표시판(100) 또는 공통 전극 표시판(200)이 휘어지더라도 컬럼 스페이서(310)의 일단이 요철과 접촉하여 있으므로 컬럼 스페이서(310)가 쉽게 미끌어지는 것을 방지할 수 있다. 또한 이러한 외부 압력이 제거되는 경우 컬럼 스페이서(310)는 원래 위치로 복원될 수 있으므로 빛샘 현상을 억제할 수 있다.
여기서 도 5는 도 4a의 변형예로서, 도 5에 도시된 바와 같이 유지 전극용 도전 패턴(도 4a의 도면 부호 67 참조)을 사용하지 않고도 충분한 유지 커패시턴스를 구현할 수 있는 경우 유지 전극용 도전 패턴(도 4a의 도면 부호 67 참조)을 형성하지 않을 수 있다. 이때 슬릿 패턴(69)은 데이터 배선(62, 65, 66, 68)과 동일한 층에 동일한 물질을 사용하여 전단 게이트선(22)과 중첩하도록 형성될 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이 며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상술한 바와 같이 본 발명에 따른 액정 표시 장치에 의하면, 컬럼 스페이서와 접촉하는 박막 트랜지스터 표시판 상에 개구 패턴 또는 슬릿 패턴을 형성함으로써 외부 압력에 의한 컬럼 스페이서의 미끄러짐을 방지할 수 있고 따라서 빛샘 현상을 억제할 수 있다.
Claims (11)
- 제1 절연 기판;상기 제1 절연 기판 위에 형성되며, 제1 개구 패턴을 구비한 게이트선;상기 게이트선과 절연되어 교차하는 데이터선;데이터 전압이 인가되는 화소 전극;상기 게이트선 및 상기 데이터선에 연결되어 상기 화소 전극에 상기 데이터 전압을 인가하는 박막 트랜지스터;상기 제1 절연 기판에 대향하는 제2 절연 기판; 및상기 제1 및 제2 절연 기판 사이에 개재되며 일단이 상기 제1 개구 패턴 내에 위치하는 컬럼 스페이서를 포함하는 액정 표시 장치.
- 제1 항에 있어서,상기 화소 전극과 전기적으로 연결되고 상기 게이트선 상에 절연되어 위치하여, 상기 게이트선과 유지 커패시터를 형성하는 유지 전극용 도전 패턴을 더 포함하는 액정 표시 장치.
- 제2 항에 있어서,상기 유지 전극용 도전 패턴은 상기 데이터선과 동일한 층에 동일한 물질로 이루어진 액정 표시 장치.
- 제2 항에 있어서,상기 유지 전극용 도전 패턴은 상기 제1 개구 패턴과 중첩하는 제2 개구 패턴을 구비하는 액정 표시 장치.
- 제4 항에 있어서,상기 컬럼 스페이서의 일단은 상기 제1 및 제2 개구 패턴 내에 위치하는 액정 표시 장치.
- 제1 항에 있어서,상기 컬럼 스페이서는 상기 제2 절연 기판 상에 형성되고,상기 컬럼 스페이서의 일단은 상기 제1 개구 패턴 내에 위치하는 액정 표시 장치.
- 제1 절연 기판;상기 제1 절연 기판 위에 형성된 게이트선;상기 게이트선과 절연되어 교차하는 데이터선;상기 게이트선 위에 주위 배선과 전기적으로 절연된 슬릿 패턴;데이터 전압이 인가되는 화소 전극;상기 게이트선 및 상기 데이터선에 연결되어 상기 화소 전극에 상기 데이터 전압을 인가하는 박막 트랜지스터;상기 제1 절연 기판에 대향하는 제2 절연 기판; 및상기 제1 및 제2 절연 기판 사이에 개재되며 일단이 상기 슬릿 패턴 상에 위치하는 컬럼 스페이서를 포함하는 액정 표시 장치.
- 제7 항에 있어서,상기 슬릿 패턴은 상기 데이터선과 동일한 층에 동일한 물질로 이루어진 액정 표시 장치.
- 제7 항에 있어서,상기 슬릿 패턴 상에 상기 슬릿 패턴을 따라 요철이 형성된 보호막을 더 포함하고,상기 컬럼 스페이서의 일단은 상기 요철 상에 위치하는 액정 표시 장치.
- 제7 항에 있어서,상기 화소 전극과 전기적으로 연결되고 상기 슬릿 패턴과 인접하도록 상기 게이트선 상에 절연되어 위치하여, 상기 게이트선과 유지 커패시터를 형성하는 유지 전극용 도전 패턴을 더 포함하는 액정 표시 장치.
- 제7 항에 있어서,상기 컬럼 스페이서는 상기 제2 절연 기판 상에 형성되고,상기 컬럼 스페이서의 일단은 상기 슬릿 패턴 상에 위치하는 액정 표시 장치.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Family
ID=38600570
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-
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