KR20070067786A - Packing structure of processing chamber - Google Patents

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KR20070067786A
KR20070067786A KR1020050129008A KR20050129008A KR20070067786A KR 20070067786 A KR20070067786 A KR 20070067786A KR 1020050129008 A KR1020050129008 A KR 1020050129008A KR 20050129008 A KR20050129008 A KR 20050129008A KR 20070067786 A KR20070067786 A KR 20070067786A
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KR1020050129008A
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김승준
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세메스 주식회사
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Abstract

A packing substrate of a process chamber is provided to block a leakage of liquid chemical and gas toward the outside and to smoothly exhaust used air by forming a cover with a single member, installing a packing on a main frame and the cover, and forming an air guide at an upper edge between the packing. A main frame has an upper edge where four sidewalls and an opening unit are formed. An air guide(20) is formed on the center of the upper edge around the opening unit of the main frame to seal the outside and the inside of the main frame. A first packing(30) for air tight or liquid tight is installed at the upper edge of a side of the air guide. A cover(40) opens and shuts the opening unit of the main frame. The cover is connected to the first packing to maintain liquid tight or air tight. A second packing(50) is installed on a rear of the cover. The second packing is used for liquid tight or air tight between the main frame and the cover.

Description

공정챔버의 패킹구조{Packing structure of processing chamber}Packing structure of processing chamber

도 1은 일반적인 공정챔버의 구조를 보여주는 개략적 사시도.1 is a schematic perspective view showing the structure of a typical process chamber.

도 2는 도 1의 선Ⅱ-Ⅱ에 따른 단면도.2 is a cross-sectional view taken along line II-II of FIG. 1.

도 3은 도2의 부분Ⅲ의 확대단면도.3 is an enlarged cross-sectional view of part III of FIG. 2;

도 4는 본 발명에 따른 패킹구조가 적용되는 공정챔버를 보여주는 평면도.Figure 4 is a plan view showing a process chamber to which the packing structure according to the present invention is applied.

도 5는 도 4의 선Ⅴ-Ⅴ에 따른 단면도.5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4.

도 6은 도 5의 부분Ⅵ의 확대단면도.FIG. 6 is an enlarged cross-sectional view of part VI of FIG. 5;

도 7은 본 발명에 따른 공정챔버의 패킹구조를 보여주는 저면도로서, 일부는 점선으로 도시된 저면도. 7 is a bottom view showing a packing structure of a process chamber according to the present invention, a part of which is shown in dashed lines.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10: 본체 20: 에어가이드10: main body 20: air guide

30: 제1패킹 40: 커버30: first packing 40: cover

50: 제2패킹 50: second packing

본 발명은 공정챔버의 패킹구조에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 간단한 구조의 패킹과 에어커튼을 이용하여 공정챔버의 본체와 커버간의 우수한 기밀 및 액밀을 유지할 수 있는 공정챔버의 패킹구조에 관한 것이다.The present invention relates to a packing structure of a process chamber, and more particularly, to a packing structure of a process chamber capable of maintaining excellent airtightness and liquid tightness between a main body and a cover of a process chamber by using a simple structure of packing and an air curtain.

일반적으로, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(Cathode Ray Tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작으며 저전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.In general, information processing devices are rapidly developing to have various types of functions and faster information processing speeds. This information processing apparatus has a display device for displaying the operated information. Until now, a cathode ray tube monitor has been mainly used as a display device, but recently, with the rapid development of semiconductor technology, the use of a flat display device that is light and occupies a small space is rapidly increasing. There are various types of flat panel displays. Among them, liquid crystal displays, which are small in power consumption and small in volume, and low voltage driven, are widely used.

이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 기판 상에는 패턴의 형성을 위해 예컨대, 식각, 수세, 또는 건조와 같은 다양한 공정이 실행되어야 한다. 이 같은 패턴 형성 공정은 일반적으로 포토리소그라피 기술이 적용된다. 포토리소그라피 기술은 기판에 형성된 막질에 감광 물질인 포토레지스트를 도포하고, 이 포토레지스트에 포토 마스크를 도포한 후 포토 마스크에 형성된 패턴대로 노광시키고, 노광된 포토레지스트를 현상하여 식각해 낸 뒤, 식각된 포토레지스트를 마스크 하여 막질을 패터닝하고, 스트리퍼(stripper)를 이용하여 포토레지스트를 막질로부터 제거하는 일련의 과정으로 이루어진다. 이 같은 공정들 중 막질로부터 포토레지스트를 제거하는 공정을 스트립 공정이라 한다. 이러한 스트립 공정은 여러 개가 인라인화 되어 있는 공정챔버에서 행해진다. In order to produce such a liquid crystal display, various processes such as etching, washing or drying must be performed on the substrate for formation of a pattern. In such a pattern forming process, photolithography technology is generally applied. Photolithography technology applies a photoresist, a photoresist, to a film formed on a substrate, applies a photo mask to the photoresist, exposes the photoresist in a pattern formed on the photo mask, and develops and etches the exposed photoresist, followed by etching. The film is patterned by masking the photoresist, and a stripper is used to remove the photoresist from the film. Among these processes, the process of removing the photoresist from the film quality is called a strip process. This stripping process is carried out in a process chamber where several are inlined.

도 1, 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같이, 공정챔버는 장방형 입방체를 이루며 내측 상부에 문틀 역할을 하는 제1프레임(1)과 제2프레임(2)을 구비하는 본체(3)와, 그 본체(3)의 상부에 구비되며 그 본체(3)의 내부를 개폐하기 위한 커버(4)를 구비한다. 그 커버(4)는 본체(3)와의 견고한 기밀을 위해 2중 커버로 구성되어 있다. 즉, 커버(4)는 본체(3)의 대체로 내측에 위치하는 제1프레임(1)과 접하는 제1커버(6)와, 본체(3)의 대체로 외측에 위치하는 제2프레임(2)에 접하는 제2커버(7)를 구비한다. 또한, 각각의 커버(6;7)에는 각각의 프레임(1;2)에 밀착되어 더욱 확실한 기밀 또는 액밀을 유지하기 위해 패킹(8;9)이 구비되어 있다. As shown in Fig. 1, Fig. 2 and Fig. 3, the process chamber comprises a main body 3 having a rectangular cube and having a first frame 1 and a second frame 2 serving as a door frame on an inner upper portion thereof; It is provided in the upper part of the main body 3, and is provided with the cover 4 for opening and closing the inside of the main body 3. As shown in FIG. The cover 4 is composed of a double cover for tight airtightness with the main body 3. That is, the cover 4 has a first cover 6 in contact with the first frame 1 located generally inside of the body 3, and a second frame 2 located substantially outside of the body 3. A second cover 7 is provided. In addition, each cover 6; 7 is provided with a packing 8; 9 in order to be in close contact with the respective frames 1; 2 to maintain a more secure airtight or liquid tightness.

그러나, 이와 같은 종래의 챔버의 패킹구조는 커버가 2중으로 구성되어야 하므로 그 구조가 복잡하고 작업시간이 과도하게 소모되며, 내부에서 발생되는 에어를 퍼지할 수 없어 커버를 통해 에어 흄이 발생되는 문제점이 있다.However, the conventional packing structure of the chamber has a double cover, so the structure is complicated and the work time is excessively consumed, the air generated from the inside can not purge the air fume problem through the cover There is this.

본 발명은 상술된 문제점을 해결하기 위해 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 본체의 내부와 외부외의 액밀 또는 기밀을 완전하게 유지하고, 에어 흄의 외부누출을 방지하는 공정챔버의 실링구조를 제공하는데 있다.The present invention has been invented to solve the above-described problems, an object of the present invention is to provide a sealing structure of the process chamber to completely maintain the liquid or airtight of the inside and outside of the main body, and to prevent the external leakage of air fume have.

본 발명의 일 실시예에 따른 공정챔버의 실링구조는, 4개의 측벽과, 개구부가 형성되는 상부변을 구비하는 본체 그 본체의 개구부 주변의 상부변의 중앙부에 본체의 내, 외부의 시일링을 위한 에어가이드 에어가이드의 일측의 상부변에 설치되는 기밀 또는 액밀을 위한 제1패킹 본체의 개구부를 개폐하고, 제1패킹과 접하여 액밀 또는 기밀을 유지하는 커버 및 커버의 배면에 설치되며, 에어가이드 및 제1패킹과 함께 본체와 커버의 배면간의 액밀 또는 기밀을 위한 제2패킹을 포함한다. The sealing structure of the process chamber according to an embodiment of the present invention, the main body having four side walls and the upper side formed with an opening is formed for sealing the inside and outside of the main body at the center of the upper side around the opening of the main body. Air guide Open and close the opening of the first packing body for airtight or liquid tightness installed on the upper side of one side of the air guide, is installed on the cover and the back of the cover to maintain the liquid tight or airtight in contact with the first packing, air guide and And a second packing for liquid-tight or airtight between the body and the back of the cover together with the first packing.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조로 하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명에 따른 패킹구조가 적용되는 공정챔버를 보여주는 평면도이고, 도 5는 본 발명에 따른 공정챔버의 패킹구조를 상세히 보여주는 횡단면도이며, 도 6은 본 발명에 따른 공정챔버의 패킹구조를 상세히 보여주는 부분확대 단면도이고, 도 7은 본 발명에 따른 공정챔버의 패킹구조를 보여주는 부분 저면도로서, 일부의 구성요소들이 점선으로 도시된 평면도이다.Figure 4 is a plan view showing a process chamber to which the packing structure according to the present invention is applied, Figure 5 is a cross-sectional view showing in detail the packing structure of the process chamber according to the present invention, Figure 6 is a packing structure of the process chamber according to the present invention 7 is a partially enlarged cross-sectional view illustrating a packing structure of a process chamber according to the present invention. FIG. 7 is a plan view showing some components by dotted lines.

도 4 내지 도 7에 있어서, 본 발명에 따른 실링구조가 적용되는 공정챔버는 기본적으로 내측에 작업공간이 형성되는 본체(10)를 구비한다. 본체(10)는 장방형입방체로 형성되며 4개의 측벽(12)을 구비한다. 물론, 각각의 측벽(12)의 상부에는 일정폭을 갖는 상부변(14)에 의해 형성되는 개구부(16)가 형성된다. 4 to 7, the process chamber to which the sealing structure according to the present invention is applied basically includes a main body 10 having a working space formed therein. The main body 10 is formed of a rectangular cube and has four side walls 12. Of course, an opening 16 formed by the upper side 14 having a predetermined width is formed at the top of each side wall 12.

본체(10)의 개구부(16)를 형성하는 각각의 상부변(14)의 중앙부에는 본체(10)의 내부와 외부와의 시일링 효과를 위해 에어가이드(20)가 형성된다. An air guide 20 is formed at the central portion of each upper side 14 forming the opening 16 of the main body 10 for a sealing effect between the inside and the outside of the main body 10.

에어가이드(20)는 본체(10)의 상부변(14)의 대체로 중앙부에 홈형태로 형성되는 것이 바람직하다. 그 에어가이드(20)는 본체(10)내에서의 기판의 처리단계에서는 에어커튼으로 작용하여 약액 또는 기체의 누출을 차단하는 역할을 한다. 이와 같은 에어가이드(20)로의 에어의 공급을 위해 그 에어가이드(20)에는 에어공급라인(22)이 연결되며, 그 에어공급라인(22)에는 실제로 에어를 발생시켜 공급하기 위한 액튜에이터(24)가 연결된다. 액튜에이터(24)는 에어를 발생시켜 공급하기 위한 송풍기로 형성될 수 있다. Air guide 20 is preferably formed in a groove shape in the center portion of the upper side 14 of the main body 10. The air guide 20 acts as an air curtain in the processing step of the substrate in the main body 10 to block leakage of the chemical liquid or gas. An air supply line 22 is connected to the air guide 20 to supply air to the air guide 20, and the actuator 24 for actually generating and supplying air to the air supply line 22 is provided. Is connected. The actuator 24 may be formed as a blower for generating and supplying air.

또한, 에어가이드(20)에는 그 에어가이드(20)를 통해 분사되어 사용된 후의 에어를 퍼지시키기 위한 퍼지라인(26)이 연결되며, 또한 그 같은 에어를 외부로 완전히 배출시키기 위한 배출라인(28)이 구비된다. 여기서, 퍼지라인(26)과 배출라인(28)은 본체(10)의 하부로 연결 형성되어 대기중으로 확산되는 것을 최소로 하는 것이 바람직하다. In addition, the air guide 20 is connected to a purge line 26 for purging the air after being used and injected through the air guide 20, the discharge line 28 for completely discharging such air to the outside ) Is provided. Here, the purge line 26 and the discharge line 28 is preferably connected to the lower portion of the main body 10 to minimize the diffusion into the atmosphere.

또한, 본체(10)를 형성하는 각각의 측벽(12)의 상부변(14)에 형성된 에어가이드(20)의 일측에는 후술되는 커버와의 기밀 또는 액밀을 위한 제1패킹(30)이 구비된다. 본 실시예에서는 제1패킹(30)이 에어가이드(20)를 기준으로 그 외측의 상부변(14)에 설치되는 것으로 예시되어 있으나, 필요에 따라서는 에어가이드(20)의 내측의 상부변(14)에 설치될 수 도 있다.In addition, one side of the air guide 20 formed on the upper side 14 of each side wall 12 forming the main body 10 is provided with a first packing 30 for airtight or liquid tight with the cover described later. . In the present exemplary embodiment, the first packing 30 is illustrated as being installed on the upper side 14 of the outer side of the air guide 20, but if necessary, the upper side of the inner side of the air guide 20 ( 14 may be installed.

한편, 본체(10)의 상부에는 개구부(14)를 개폐하기 위한 커버(40)가 구비된다. 물론, 커버(40)의 내측에는 전술된 본체(10)에 구비되는 제1패킹(30)에 접하여 액밀 또는 기밀을 유지하는 배면(42)이 구비된다.On the other hand, the upper portion of the main body 10 is provided with a cover 40 for opening and closing the opening 14. Of course, the inner side of the cover 40 is provided with a back 42 in contact with the first packing 30 provided in the main body 10 to maintain the liquid tight or airtight.

특히, 커버(40)의 배면(42)에는 본체(10)에 형성된 에어가이드(20) 및 제1패킹(30)과 함께 본체(10)와 커버(40)의 배면(42)간의 액밀 또는 기밀을 위한 제2패킹(50)이 설치된다. In particular, the rear surface 42 of the cover 40 has a liquid seal or airtight between the main body 10 and the rear surface 42 of the cover 40 together with the air guide 20 and the first packing 30 formed on the main body 10. The second packing 50 is installed for.

제2패킹(50)은, 본 실시예에서, 에어가이드(20)를 기준으로 그 커버(40)의 배면(42)의 내측에 설치되는 것으로 예시되어 있으나, 역으로 제1패킹(30)이 에어 가이드(20)의 내측의 상부변(14)에 설치되는 경우에는 에어가이드(20)를 기준으로 커버(40)의 배면(42)의 외측에 설치될 수 있다. In the present embodiment, the second packing 50 is illustrated as being installed inside the rear surface 42 of the cover 40 with respect to the air guide 20, but the first packing 30 is inversely provided. When installed on the upper side 14 of the inner side of the air guide 20 may be installed on the outer side of the rear surface 42 of the cover 40 on the basis of the air guide 20.

결과적으로, 공정챔버의 본체(10)의 상부변(14)의 대체로 중앙부에는 에어가이드(20)가 형성되고, 그 에어가이드(20)를 중심으로 본체(10)의 상부변(14)의 내측에는 제1패킹(30)이 커버(40)의 배면(42)의 외측에 접촉되도록 구비되고, 또한 에어가이드(20)를 중심으로 커버(40)의 배면(42)의 내측에는 제2패킹(50)이 본체(10)의 상부변(14)의 내측에 접하도록 구비됨으로써, 입체적인 실링구조를 유지하는 것이다. As a result, an air guide 20 is generally formed in the center of the upper side 14 of the main body 10 of the process chamber, and the inner side of the upper side 14 of the main body 10 around the air guide 20. The first packing 30 is provided to be in contact with the outside of the back 42 of the cover 40, and the second packing (inside the back 42 of the cover 40 around the air guide 20) 50 is provided to contact the inner side of the upper side 14 of the main body 10, thereby maintaining a three-dimensional sealing structure.

이하, 전술된 바와 같이 구성되는 공정챔버의 실링구조의 작용에 대해 상세히 설명한다. Hereinafter, the operation of the sealing structure of the process chamber configured as described above will be described in detail.

예컨대, 기판 제조장치에서 기판을 제조 및 처리하기 위한 다양한 공정을 각각의 공정챔버의 본체(10)의 내부에서 행하는 경우, 처리될 기판에는 다양한 약액은 또는 기체가 분사된다. 이때, 기판을 향해 분사되는 약액 또는 기체중 일부는 본체(10)의 각각의 측벽(12)의 상부변(14)과 커버(40)의 배면(42) 사이를 향하며 그 사이를 통해 유출되려 하며, 이와 같은 유출성 약액 또는 기체는 본 발명에 따른 실링구조에 의해 차단되어 유출이 방지되는 것이다. For example, when various processes for manufacturing and processing a substrate in the substrate manufacturing apparatus are performed inside the main body 10 of each process chamber, various chemical liquids or gases are injected into the substrate to be processed. At this time, some of the chemical liquid or gas that is injected toward the substrate is directed between the upper side 14 of each side wall 12 of the body 10 and the back surface 42 of the cover 40 and is going to flow out therebetween. , Such outflowing liquid or gas is blocked by the sealing structure according to the present invention is to prevent the outflow.

즉, 본체(10)의 상부변(14)과 커버(40)의 배면(42)사이를 향하는 약액 또는 기체는 1차적으로 커버(40)의 배면(42) 내측에 구비되는 제2패킹(50)에 의해 차단된다.That is, the chemical or gas directed between the upper side 14 of the main body 10 and the rear surface 42 of the cover 40 is primarily provided in the second packaging 50 provided inside the rear surface 42 of the cover 40. Blocked by).

만일 일부의 약액 또는 기체가 제2패킹(50)을 통과한 경우에는, 2차적으로 본체(10)의 상부변(14)에 형성된 에어가이드(20)가 에어커튼 역할을 하므로 그로부터 분출되는 에어에 의해 차단된다. If some of the chemical liquid or gas has passed through the second packing 50, the air guide 20 formed on the upper side 14 of the main body 10 serves as an air curtain so that the air ejected therefrom Is blocked by.

또한, 위와 같은 2중 차단에도 불구하고, 이어커튼(20)을 통과한 약액 또는 기체는, 최종적으로 본체(10)의 각각의 측벽(12)의 상부면(14)에 구비된 제1패킹(20)에 의해 차단됨으로써, 약액 또는 기체의 외부 누출을 완전 방지할 수 있는 것이다. In addition, despite the double blocking as described above, the chemical liquid or gas that has passed through the ear curtain 20 is finally provided with a first packing (which is provided on the upper surface 14 of each side wall 12 of the main body 10). By blocking by 20), it is possible to completely prevent the external leakage of the chemical liquid or gas.

한편, 상기와 같이 에어가이드(20)를 통해 분사되는 에어는 퍼지라인(26) 및 배출라인(28)을 통해 외부로 배출되거나 순환되어 연속적으로 공급 및 분사될 수 있으며, 여기서 각각의 퍼지라인(26) 및 배출라인(28)은 본체(10)의 하부에 배치되어 있어 외부로의 배출시 대기로의 확산이 최소화될 수 있을 뿐 아니라 액튜에이터(24)로의 순환이 원활하게 이루어질 수 있는 것이다. On the other hand, the air injected through the air guide 20 as described above may be discharged or circulated to the outside through the purge line 26 and the discharge line 28 to be continuously supplied and injected, where each purge line ( 26) and the discharge line 28 is disposed in the lower portion of the main body 10 to minimize the diffusion to the atmosphere when discharged to the outside as well as to smoothly circulate to the actuator 24.

따라서, 단일층 구조의 커버임에도 불구하고 에어커튼과 2중패킹에 의해 완벽한 실링을 이룰 수있는 것이다. Therefore, despite the cover of the single layer structure, it is possible to achieve perfect sealing by air curtain and double packing.

이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시 예에 대해 설명하였으나, 본 기술분야의 당업자라면 첨부된 특허청구범위를 벗어남이 없이 다양한 변형예 및 수정예를 실시할 수 있을 것으로 이해된다.Although a preferred embodiment according to the present invention has been described above, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and changes can be made without departing from the scope of the appended claims.

결과적으로, 본 발명에 의한 공정챔버의 실링구조에 의하면, 커버를 단일부재로 형성하고 본체 및 커버에 패킹을 설치하며 그 패킹 사이의 본체의 상부변에 에어커튼 역할을 하는 에어가이드를 설치하여 3중 구조의 실링을 형성함으로써, 기 판 처리 공정시 사용되는 약액 및 기체가 외부로 누출되는 것을 완벽하게 차단할 수 있고, 사용에어를 원활하게 배출시킬 수 있으며, 흄이 외부로 누출되는 것을 차단할 수 있어 신뢰성이 향상되는 효과가 있다.As a result, according to the sealing structure of the process chamber according to the present invention, the cover is formed as a single member, the packing is installed on the main body and the cover, and the air guide acting as an air curtain is provided on the upper side of the main body between the packings. By forming a heavy-sealing seal, the chemical liquid and gas used in the substrate processing process can be completely prevented from leaking to the outside, the air can be discharged smoothly, and the fume can be prevented from leaking to the outside. The reliability is improved.

Claims (4)

4개의 측벽과, 개구부가 형성되는 상부변을 구비하는 본체Main body having four side walls and an upper side where openings are formed 상기 본체의 개구부 주변의 상부변의 중앙부에 상기 본체의 내, 외부의 시일링을 위한 에어가이드Air guide for sealing the inside and outside of the main body at the center of the upper side around the opening of the main body 상기 에어가이드의 일측의 상기 상부변에 설치되는 기밀 또는 액밀을 위한 제1패킹First packing for airtight or liquid tightness is installed on the upper side of one side of the air guide 상기 본체의 개구부를 개폐하고, 상기 제1패킹과 접하여 액밀 또는 기밀을 유지하는 커버 및 A cover for opening and closing the opening of the main body, in contact with the first packing to maintain the liquid or airtight; 상기 커버의 배면에 설치되며, 상기 에어가이드 및 상기 제1패킹과 함께 상기 본체와 커버의 배면간의 액밀 또는 기밀을 위한 제2패킹을 포함하는 공정챔버의 패킹구조.A packing structure of the process chamber is installed on the back of the cover, the air chamber and the first packing including a second packing for the liquid-tight or airtight between the body and the back of the cover. 제 1항에 있어서, 상기 에어가이드는 상기 본체의 상부변의 대체로 중앙부에 홈형태로 형성되고, 상기 본체내에서의 기판의 처리단계에서는 약액 또는 기체의 누출을 차단하는 에어커튼으로 작용하는 것을 특징으로 하는 공정챔버의 패킹구조.2. The air guide of claim 1, wherein the air guide is formed in a groove shape at a central portion of the upper side of the main body, and acts as an air curtain to block leakage of chemical liquid or gas in the processing of the substrate in the main body. Packing structure of process chamber. 제 1항에 있어서, 상기 에어가이드에는 에어를 공급하기 위한 에어공급라인이 연결되며, 상기 에어공급라인에는 실제로 에어를 발생시켜 공급하기 위한 액튜에이터가 연결되는 것을 특징으로 하는 공정챔버의 패킹구조.The packing structure of a process chamber according to claim 1, wherein an air supply line for supplying air is connected to the air guide, and an actuator for actually generating and supplying air is connected to the air supply line. 제 1항에 있어서, 상기 에어가이드에는 분사되어 사용된 후의 에어를 퍼지시키기 위한 퍼지라인과, 사용된 에어를 외부로 배출시키기 위한 배출라인이 연결되며, 상기 퍼지라인과 배출라인은 본체의 하부에 배치되는 것을 특징으로 하는 공정챔버의 패킹구조.According to claim 1, The air guide is connected to a purge line for purging the air after being used by injection, and a discharge line for discharging the used air to the outside, the purge line and the discharge line is connected to the lower portion of the body Packing structure of the process chamber, characterized in that arranged.
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