KR20070064164A - Liquid crystal display device - Google Patents

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KR20070064164A
KR20070064164A KR1020050124783A KR20050124783A KR20070064164A KR 20070064164 A KR20070064164 A KR 20070064164A KR 1020050124783 A KR1020050124783 A KR 1020050124783A KR 20050124783 A KR20050124783 A KR 20050124783A KR 20070064164 A KR20070064164 A KR 20070064164A
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오화열
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삼성전자주식회사
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Abstract

An LCD(Liquid Crystal Display) is provided to improve the brightness, by forming a pixel electrode to have a plurality of opening patterns which are repetitively arranged in a first direction and a second direction. A gate line(121) is extended in a first direction. A common line(123) is extended in the first direction, and distanced from the gate line. A data line(131) is extended in a second direction across the first direction above the gate line and the common line. A common electrode(125) is formed in a pixel region(P) defined by crossing the gate line and the data line. The common electrode is electrically connected to the common line. A pixel electrode(175) is positioned above the common electrode with an insulating layer interposed therebetween. The pixel electrode has a plurality of opening patterns(176), wherein the opening patterns are repetitively arranged in the first direction and the second direction.

Description

액정 표시 장치{LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}Liquid crystal display {LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE}

도 1은 일반적인 프린지 필드 스위칭 모드 액정 표시 장치용 박막트랜지스터 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다.1 is a plan view schematically illustrating a thin film transistor substrate for a typical fringe field switching mode liquid crystal display device.

도 2는 도 1의 박막트랜지스터 기판의 위치에 따른 휘도를 개략적으로 보여주는 도면이다.FIG. 2 is a diagram schematically illustrating luminance according to a position of the thin film transistor substrate of FIG. 1.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 프린지 필드 스위칭 모드 액정 표시 장치용 박막트랜지스트 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다.3 is a plan view schematically illustrating a thin film transistor substrate for a fringe field switching mode liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 4a는 도 3의 A-A'라인을 따라 취해진 단면도이고, 도 4b는 도 3의 B-B'라인을 따라 취해진 단면도이다.4A is a cross sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 3, and FIG. 4B is a cross sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 3.

♧ 도면의 주요부분에 대한 참조부호의 설명 ♧♧ explanation of the reference numerals for the main parts of the drawing.

110 : 기판 121 : 게이트 라인110 substrate 121 gate line

123 : 공통 라인 125 : 공통 전극123: common line 125: common electrode

130 : 게이트 절연막 131 : 데이터 라인130: gate insulating film 131: data line

160 : 보호막 175 : 화소 전극160: protective film 175: pixel electrode

176 : 개구 패턴176: opening pattern

본 발명은 평판 표시 장치에 관한 것으로, 더욱 상세하게는 액정 표시 장치에 관한 것이다.The present invention relates to a flat panel display, and more particularly, to a liquid crystal display.

일반적으로 평판 표시 장치(FPD:flat panel display)란 두께가 얇고 평평한 화면을 제공하는 표시 장치로, 대표적으로 노트북 컴퓨터 모니터로 널리 쓰이는 액정 표시 장치(LCD:liquid crystal display device), 대형 디지털 텔레비전으로 사용되는 플라즈마 디스플레이(PDP:plasma display panel), 또는 휴대전화에 사용되는 유기 전계발광 디스플레이(OELD:organic electroluminescent display) 등이 있다.In general, a flat panel display (FPD) is a display device that provides a thin and flat screen, and is typically used as a liquid crystal display device (LCD), a large digital television, which is widely used as a notebook computer monitor. Plasma displays (PDPs), or organic electroluminescent displays (OELDs) used in mobile phones.

액정 표시 장치는 인가 전압에 따라 액체와 결정의 중간 상태 물질인 액정(liquid crystal)의 광투과도가 변화하는 특성을 이용하여, 전기 신호를 시각 정보로 변화시켜 영상을 표시한다. 통상의 액정 표시 장치는 전극이 구비된 두 개의 기판과 두 기판 사이에 개재된 액정층으로 구성된다. 이와 같은 액정 표시 장치는 동일한 화면 크기를 갖는 다른 표시 장치에 비하여 무게가 가볍고 부피가 작으며 작은 전력으로 동작한다.The liquid crystal display displays an image by changing an electrical signal into visual information by using a property in which light transmittance of a liquid crystal, which is an intermediate state material between a liquid and a crystal, is changed according to an applied voltage. A typical liquid crystal display device is composed of two substrates provided with electrodes and a liquid crystal layer interposed between the two substrates. Such a liquid crystal display device is lighter in weight, smaller in volume, and operates with less power than other display devices having the same screen size.

대표적인 액정표시장치인 TFT(Thin Film Transistor) 액정 표시 장치는 시야각이 좁은 문제점을 갖는다. 이러한 문제점을 해결하기 위하여, 1)멀티 도메인 구조, 2)OCB(Optically Compensated birefringence) 모드, 3)IPS(In Plane Switching) 모드 등이 제안되었다. 그러나, 멀티 도메인 구조는 멀티 도메인을 형성하는데 공정이 복잡하고, 시야각 개선에도 한계가 있다. OCB 모드는 시야각 특 성과 응답 속도면에서 전기 광학적 성능이 우수하지만, 바이어스 전압에 의해 액정을 안정적으로 조절, 유지하기 어렵다는 단점이 있다. IPS 모드는 대면적용 액정 표시 장치에 적합하고, 시야각이 넓은 장점이 있으나, 개구율이 낮은 문제점이 있다.A TFT (Thin Film Transistor) liquid crystal display, which is a representative liquid crystal display, has a narrow viewing angle. In order to solve this problem, 1) a multi-domain structure, 2) Optimally Compensated birefringence (OCB) mode, 3) In Plane Switching (IPS) mode, and the like have been proposed. However, the multi-domain structure has a complicated process for forming a multi domain, and there is a limit in improving the viewing angle. The OCB mode has excellent electro-optical performance in terms of viewing angle and response speed, but has a disadvantage in that it is difficult to stably control and maintain the liquid crystal due to bias voltage. The IPS mode is suitable for a large area liquid crystal display and has a wide viewing angle, but has a low aperture ratio.

액정 표시 장치의 개구율 및 투과율을 개선하기 위하여, 프린지 필드 스위칭(Fringe Field Switching;FFS) 모드 액정 표시 장치가 제안되고 있다.In order to improve the aperture ratio and transmittance of the liquid crystal display, a fringe field switching (FFS) mode liquid crystal display has been proposed.

FFS 모드 액정 표시 장치는 하나의 기판에 공통 전극과 화소 전극이 절연체가 개재된 상태에서 서로 중첩되게 배치된 구조를 갖는다. 공통 전극은 플랫(flat) 형태로 화소 영역에 대응하고, 화소 전극은 다수의 막대 형상 패턴이 서로 이격되게 형성된 슬릿(slit) 형태로 공통 전극 위에 배치된다. 이에 의해, IPS 모드와 다르게 수 Å 간격을 두고 횡전계가 이루어지므로 횡전계가 강력하고, 전극 상부의 액정 분자까지 횡전계에 의해 배열될 수 있다. 또한, 2 ITO구조이므로 화이트 휘도를 높여 개구율을 높일 수 있다.The FFS mode liquid crystal display has a structure in which a common electrode and a pixel electrode are overlapped with each other while an insulator is interposed on one substrate. The common electrode corresponds to the pixel area in a flat shape, and the pixel electrode is disposed on the common electrode in a slit shape in which a plurality of rod-shaped patterns are spaced apart from each other. As a result, since the transverse electric field is formed at intervals of several 다르게 apart from the IPS mode, the transverse electric field is strong and can be arranged by the transverse electric field up to the liquid crystal molecules on the electrode. In addition, since the 2 ITO structure, the white luminance can be increased to increase the aperture ratio.

도 1은 일반적인 프린지 필드 스위칭 모드 액정 표시 장치용 박막트랜지스터 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 1을 참조하면, 게이트 라인(21)과 데이터 라인(31)의 교차에 의해 화소 영역이 정의된다. 게이트 라인(21) 및 데이터 라인(31)의 교차지점에 박막트랜지스터(T)가 배치된다. 박막트랜지스터(T)는 게이트 라인(21)의 일부로 구성되는 게이트 전극, 게이트 전극 상에 위치하는 반도체층(43), 소오스 전극(51), 및 드레인 전극(53)을 포함한다. 화소 영역(P)에는 게이트 라인(21) 방향으로 공통 라인(23)이 배치된다. 화소 영역(P)에 플랫(flat) 형 태로 배치된 공통 전극(25)의 가장자리가 공통 라인(23)에 중첩되어 전기적으로 연결된다. 공통 전극(25) 상에 절연막(미도시)을 개재하여 화소 전극(75)이 배치된다. 화소 전극(75)은 다수의 막대 형상의 개구 패턴(76)을 갖는다. 화소 전극(75)은 콘택(75c)을 통하여 박막트랜지스터(T)의 드레인 전극(53)에 연결되고, 드레인 전극(53)에 대향하는 소오스 전극(51)은 데이터 라인(31)에 연결된다. 1 is a plan view schematically illustrating a thin film transistor substrate for a typical fringe field switching mode liquid crystal display device. Referring to FIG. 1, the pixel region is defined by the intersection of the gate line 21 and the data line 31. The thin film transistor T is disposed at the intersection of the gate line 21 and the data line 31. The thin film transistor T includes a gate electrode formed as part of the gate line 21, a semiconductor layer 43 positioned on the gate electrode, a source electrode 51, and a drain electrode 53. The common line 23 is disposed in the pixel area P in the direction of the gate line 21. The edges of the common electrode 25 arranged in a flat shape in the pixel area P overlap the common line 23 and are electrically connected to each other. The pixel electrode 75 is disposed on the common electrode 25 via an insulating film (not shown). The pixel electrode 75 has a plurality of rod-shaped opening patterns 76. The pixel electrode 75 is connected to the drain electrode 53 of the thin film transistor T through the contact 75c, and the source electrode 51 opposite to the drain electrode 53 is connected to the data line 31.

도 2는 도 1의 박막트랜지스터 기판의 위치에 따른 휘도를 개략적으로 보여주는 도면이다. 도 2를 참조하면, 개구 패턴(76)과 화소 전극(75)의 경계 부근에서는 휘도가 높게 나타나나, 개구 패턴(76)의 중앙부 및 개구 패턴(76) 사이의 화소 전극(75)의 중앙부에서는 휘도가 낮게 나타난다.FIG. 2 is a diagram schematically illustrating luminance according to a position of the thin film transistor substrate of FIG. 1. Referring to FIG. 2, the luminance is high near the boundary between the opening pattern 76 and the pixel electrode 75, but at the center of the pixel electrode 75 between the opening pattern 76 and the opening pattern 76. The brightness is low.

본 발명은 이상에서 언급한 상황을 고려하여 제안된 것으로, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 고휘도의 액정 표시 장치를 제공하는 것이다.The present invention has been proposed in consideration of the above-mentioned situation, and a technical problem to be achieved by the present invention is to provide a high brightness liquid crystal display device.

상기한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명에 따른 액정 표시 장치는 다수의 개구 패턴을 포함하는 화소 전극을 포함한다.The liquid crystal display according to the present invention for achieving the above technical problem includes a pixel electrode including a plurality of opening patterns.

본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치는 기판 상에 제1 방향으로 연장하는 게이트 라인, 상기 제1 방향으로 연장하되, 상기 게이트 라인과 이격되어 위치하는 공통 라인, 상기 게이트 라인 및 공통 라인 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장하는 데이터 라인, 상기 게이트 라인과 상기 데이터 라인의 교차에 의해 한정되는 화소 영역에 위치하되, 상기 공통 라인과 전기적으로 연결되는 공통 전극, 및 상기 공통 전극 상에 절연막을 개재하여 위치하되, 다수의 개구 패턴을 포함하는 화소 전극을 포함한다. 이때, 상기 다수의 개구 패턴은 소정 모양의 개구 패턴이 상기 제1 방향 및 제2 방향으로 반복되어 이루어진다.In an exemplary embodiment, a liquid crystal display device includes a gate line extending in a first direction on a substrate, a common line extending in the first direction and spaced apart from the gate line, on the gate line and the common line. A data line extending in a second direction crossing the first direction, a common electrode electrically connected to the common line, the common electrode being positioned in a pixel region defined by the intersection of the gate line and the data line; A pixel electrode is disposed on the electrode via the insulating layer, and includes a plurality of opening patterns. In this case, the plurality of opening patterns are formed by repeating opening patterns having a predetermined shape in the first direction and the second direction.

이 실시예에서, 상기 공통 전극은 투명도전막으로 이루어질 수 있다. 또한, 상기 공통 전극 및 상기 공통 라인은 동일 평면 상에 위치하되, 상기 공통 전극은 가장자리에서 상기 공통 라인과 중첩될 수 있다.In this embodiment, the common electrode may be formed of a transparent conductive film. The common electrode and the common line may be positioned on the same plane, and the common electrode may overlap the common line at an edge thereof.

이 실시예에서, 상기 다수의 개구 패턴은 모양이 서로 동일할 수 있다.In this embodiment, the plurality of opening patterns may be identical in shape.

본 발명에 의하면, 액정 표시 장치의 휘도가 높아진다.According to this invention, the brightness | luminance of a liquid crystal display device becomes high.

이하에서는 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자가 본 발명의 기술적 사상을 용이하게 실시할 수 있도록 본 발명의 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 설명하기로 한다. 그러나, 본 발명은 여기서 설명되어지는 실시예들에 한정되지 않고 다른 형태로 구체화될 수도 있다. 오히려, 여기서 소개되는 실시예는 개시된 내용이 철저하고 완전해질 수 있도록 그리고 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위해 제공되어지는 것이다. DETAILED DESCRIPTION Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings so that those skilled in the art may easily implement the technical idea of the present invention. However, the present invention is not limited to the embodiments described herein and may be embodied in other forms. Rather, the embodiments introduced herein are provided to ensure that the disclosed subject matter is thorough and complete, and that the spirit of the present invention to those skilled in the art will fully convey.

도면들에 있어서, 막 또는 영역들의 두께 등은 명확성을 기하기 위하여 과장되게 표현될 수 있다. 또한, 막이 다른 막 또는 기판 상에 있다고 언급되어지는 경우에 그것은 다른 막 또는 기판 상에 직접 형성될 수 있거나 또는 그들 사이에 제3의 막이 개재될 수도 있다. In the drawings, the thickness of a film or regions may be exaggerated for clarity. In addition, if it is mentioned that the film is on another film or substrate, it may be formed directly on the other film or substrate, or a third film may be interposed therebetween.

명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조부호로 표시된 부분들은 동일한 구성요소들을 나타낸다.The same reference numerals throughout the specification represent the same components.

도 3은 본 발명의 일 실시예에 따른 프린지 필드 스위칭 모드 액정 표시 장치용 박막트랜지스터 기판을 개략적으로 보여주는 평면도이다. 도 4a는 도 3의 A-A'라인을 따라 취해진 단면도이고, 도 4b는 도 3의 B-B'라인을 따라 취해진 단면도이다.3 is a plan view schematically illustrating a thin film transistor substrate for a fringe field switching mode liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention. 4A is a cross sectional view taken along the line AA ′ of FIG. 3, and FIG. 4B is a cross sectional view taken along the line BB ′ of FIG. 3.

도 3, 도 4a, 및 도 4b를 참조하면, 기판(110) 상에 제1 방향으로 연장하는 게이트 라인(121)이 배치된다. 기판(100)은 유리와 같은 투명한 절연 물질로 형성될 수 있고, 게이트 라인(121)은 저항이 낮은 금속 물질로 형성될 수 있다. 게이트 라인(121)과 같은 방향, 즉 제1 방향으로 연장하는 공통 라인(123)이 배치된다. 게이트 라인(121)과 공통 라인(123) 사이에 플랫(flat) 형태의 공통 전극(125)이 배치된다. 공통 전극(125)은 가장자리에서 공통 라인(123)에 중첩되어, 전기적으로 연결된다. 공통 전극(125)은 인듐-주석-산화막(Indium Tin Oxide;ITO) 또는 인듐-아연-산화막(Indium Zinc Oxide;IZO)과 같은 투명한 도전 물질로 형성될 수 있다.3, 4A, and 4B, a gate line 121 extending in a first direction is disposed on the substrate 110. The substrate 100 may be formed of a transparent insulating material such as glass, and the gate line 121 may be formed of a metal material having low resistance. The common line 123 extending in the same direction as the gate line 121, that is, in the first direction, is disposed. A flat electrode 125 is disposed between the gate line 121 and the common line 123. The common electrode 125 overlaps the common line 123 at the edge and is electrically connected to the common electrode 125. The common electrode 125 may be formed of a transparent conductive material such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO).

게이트 절연막(130)이 게이트 라인(121), 공통 라인(123), 및 공통 전극(125)이 형성된 기판(110)을 덮는다. 게이트 절연막(130)은 실리콘 질화물 또는 실리콘 산화물로 형성될 수 있다.The gate insulating layer 130 covers the substrate 110 on which the gate line 121, the common line 123, and the common electrode 125 are formed. The gate insulating layer 130 may be formed of silicon nitride or silicon oxide.

게이트 라인(121)의 일부로 이루어지는 게이트 전극(122) 상에 게이트 절연 막(130)을 개재하여 반도체층(143)이 위치한다. 반도체층(143)은 하부의 액티브층(141)과 상부의 오믹콘택층(142)으로 구성된다. 액티브층(141)은 비정질 실리콘으로 형성될 수 있으며, 오믹콘택층(142)은 n+형 불순물이 도핑된 비정질 실리콘으로 형성될 수 있다. The semiconductor layer 143 is positioned on the gate electrode 122 formed as part of the gate line 121 via the gate insulating film 130. The semiconductor layer 143 includes a lower active layer 141 and an upper ohmic contact layer 142. The active layer 141 may be formed of amorphous silicon, and the ohmic contact layer 142 may be formed of amorphous silicon doped with n + type impurities.

게이트 절연막(130) 상에 게이트 라인(121)과 교차하는 제2 방향의 데이터 라인(131)이 배치된다. 게이트 라인(121)과 데이터 라인(131)의 교차에 의하여 화소 영역(P)이 정의된다. 데이터 라인(131)은 저항이 낮은 금속물질로 형성될 수 있다. 데이터 라인(131)에서 분기된 소오스 전극(151)과 이 소오스 전극(151)에 대향하는 드레인 전극(153)은 각각 서로 분리된 오믹콘택층(142)과 접촉한다.The data line 131 in the second direction crossing the gate line 121 is disposed on the gate insulating layer 130. The pixel region P is defined by the intersection of the gate line 121 and the data line 131. The data line 131 may be formed of a metal material having low resistance. The source electrode 151 branched from the data line 131 and the drain electrode 153 facing the source electrode 151 are in contact with the ohmic contact layer 142 separated from each other.

보호막(160)이 데이터 라인(131)이 형성된 기판(110)을 덮는다. 보호막(160)은 실리콘 질화물 또는 실리콘 산화물로 형성되거나, 유기 절연막으로 형성될 수 있다. 화소 영역(P)의 보호막(160) 상에 화소 전극(175)이 배치된다. 화소 전극(175)은 콘택(175c)에 의해 드레인 전극(53)과 전기적으로 연결된다. 화소 전극(175)은 다수의 개구 패턴(176)을 갖는다. 소정 모양(예컨대, 사변형)을 갖는 개구 패턴(176)이 제1 방향 및 제2 방향으로 반복된다. 이때, 개구 패턴(176)이 배열되는 방향은 제1 방향 및 제2 방향과 동일하거나, 제1 방향 또는 제2 방향에 대하여 소정의 각도로 경사질 수 있다.The passivation layer 160 covers the substrate 110 on which the data line 131 is formed. The passivation layer 160 may be formed of silicon nitride or silicon oxide, or may be formed of an organic insulating layer. The pixel electrode 175 is disposed on the passivation layer 160 of the pixel region P. The pixel electrode 175 is electrically connected to the drain electrode 53 by the contact 175c. The pixel electrode 175 has a plurality of opening patterns 176. An opening pattern 176 having a predetermined shape (eg, quadrilateral) is repeated in the first direction and the second direction. In this case, the direction in which the opening patterns 176 are arranged may be the same as the first direction and the second direction, or may be inclined at a predetermined angle with respect to the first direction or the second direction.

일반적인 FFS 모드 액정 표시 장치와 달리 본 발명의 일 실시예에 따른 액정 표시 장치에서는 개구 패턴(176)의 크기가 작아짐으로써 화소 전극(175)과 개구 패턴(176)의 경계가 더 넓어진다. 이에 의해, 휘도가 높아진다.Unlike the general FFS mode liquid crystal display, the liquid crystal display according to the exemplary embodiment of the present invention decreases the size of the opening pattern 176 so that the boundary between the pixel electrode 175 and the opening pattern 176 is wider. As a result, the luminance is increased.

한편, 본 발명의 상세한 설명에서는 구체적인 실시예에 관하여 설명하였으나, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않는 한도 내에서 여러 가지 변형이 가능함은 물론이다. On the other hand, in the detailed description of the present invention has been described with respect to specific embodiments, various modifications are of course possible without departing from the scope of the invention.

그러므로, 본 발명의 범위는 상술한 실시예에 국한되어 정해져서는 안되며 후술하는 특허청구범위 뿐만 아니라 이 발명의 특허청구범위와 균등한 것들에 의해 정해져야 한다.Therefore, the scope of the present invention should not be limited to the above-described embodiments, but should be defined not only by the claims below but also by the equivalents of the claims of the present invention.

상술한 본 발명에 의하면, 액정 표시 장치의 휘도가 높아진다.According to the present invention described above, the luminance of the liquid crystal display device is increased.

Claims (4)

기판 상에 제1 방향으로 연장하는 게이트 라인;A gate line extending in a first direction on the substrate; 상기 제1 방향으로 연장하되, 상기 게이트 라인과 이격되어 위치하는 공통 라인;A common line extending in the first direction and spaced apart from the gate line; 상기 게이트 라인 및 공통 라인 상에 상기 제1 방향과 교차하는 제2 방향으로 연장하는 데이터 라인;A data line extending in a second direction crossing the first direction on the gate line and the common line; 상기 게이트 라인과 상기 데이터 라인의 교차에 의해 한정되는 화소 영역에 위치하되, 상기 공통 라인과 전기적으로 연결되는 공통 전극; 및A common electrode positioned in the pixel area defined by the intersection of the gate line and the data line, and electrically connected to the common line; And 상기 공통 전극 상에 절연막을 개재하여 위치하되, 다수의 개구 패턴을 포함하는 화소 전극을 포함하되,Located on the common electrode via an insulating film, including a pixel electrode including a plurality of opening patterns, 상기 다수의 개구 패턴은 소정 모양의 개구 패턴이 상기 제1 방향 및 제2 방향으로 반복되어 이루어지는 액정 표시 장치.The plurality of opening patterns includes a plurality of opening patterns having a predetermined shape repeated in the first direction and the second direction. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공통 전극은 투명도전막으로 이루어지는 액정 표시 장치.The common electrode is a liquid crystal display device comprising a transparent conductive film. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 공통 전극 및 상기 공통 라인은 동일 평면 상에 위치하되, 상기 공통 전극은 가장자리에서 상기 공통 라인과 중첩되는 액정 표시 장치.The common electrode and the common line are disposed on the same plane, and the common electrode overlaps the common line at an edge thereof. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 다수의 개구 패턴은 모양이 서로 동일한 액정 표시 장치.The plurality of opening patterns have the same shape.
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