KR20070056843A - 반도체 소자를 제조하기 위한 증착 장비 - Google Patents
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Abstract
반도체 소자를 제조하기 위한 증착장비를 제공한다. 상기 증착장비는 제1 영역 내에 배치되어 증착공정을 수행하는 공정챔버를 구비한다. 상기 공정챔버에 연결되어 상기 공정챔버 안으로 가스들을 공급하는 가스 공급 유닛을 제공한다. 상기 제1 영역과 격리된 제2 영역 내에 배치되고 상기 공정챔버에 연결되어 상기 공정챔버 내부에 잔존하는 기체를 배출하는 기체 배기 유닛이 구비된다. 상기 제1 영역 내에 배치되고 상기 가스 공급 유닛에 전기적으로 접속되어 상기 가스 공급 유닛의 가스 공급을 제어하고 상기 기체 배기 유닛에 전기적으로 접속되어 기체 배기를 제어하는 설비 제어 유닛을 구비한다.
증착 장치, 가스 공급 유닛, 기체 배기 유닛, 설비 제어부, 드라이 펌프
Description
도 1은 종래의 증착장비를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 2는 본 발명에 따른 증착장비를 설명하기 위한 구성도이다.
본 발명은 반도체 소자 제조장비에 관한 것으로, 특히 진공 펌프들을 제어하는 제어 유닛을 구비한 증착 장비에 관한 것이다.
반도체 소자의 제조에 있어서, 증착 공정은 도전체막들, 반도체막들 또는 절연체막들을 형성하는 데에 널리 사용되고 있다. 상기 증착 공정은 스퍼터링 기술 또는 화학기상 증착 기술을 사용하여 실시된다. 상기 기술들을 사용하여 실시되는 증착 공정은 증착 장비를 통해 수행된다. 상기 증착 장비에 구비되는 증착 챔버의 내부 공간은 소정 압력의 진공 환경을 필요로 한다. 상기 증착 챔버의 진공 환경을 조성하기 위하여 상기 증착 장비에 진공 펌프가 구비된다.
도 1은 종래의 증착장비를 설명하기 위한 개략적인 구성도이다.
도 1을 참조하면, 종래의 증착장비는 서로 격리된 제1 및 제2 영역들(10,12) 이 배치된다. 상기 제1 및 제2 영역들(10,12)은 공간적으로 서로 격리된 영역들일 수 있다.
상기 제1 영역 내에 증착챔버(14)가 배치된다. 상기 증착챔버(14)에 가스 유입관(16)이 연결된다. 상기 가스 유입관(16)을 통해 공정 가스들이 상기 증착챔버(14) 내로 유입된다. 상기 가스 유입관(16)에 공정가스 공급부(18)가 연결된다. 또한, 상기 가스 유입관(16) 상에 장착되는 제1 밸브(20)가 공정가스의 공급 양을 제어한다. 상기 증착챔버(14) 및 상기 제1 밸브(20)에 전기적으로 접속되는 설비제어부(22)를 통해 상기 증착챔버(14)의 작동 상태 및 상기 제1 밸브(20)의 개폐 동작을 제어할 수 있다.
한편, 상기 제2 영역(12) 내에 드라이 펌프(24) 및 터보 펌프(26)가 배치된다. 상기 드라이 펌프(24)는 상기 증착챔버(14) 내부의 공간을 저진공 환경으로 조성하는 데 이용된다. 상기 터보 펌프(26)는 상기 증착챔버(14) 내부의 공간을 고진공 환경으로 조성하는 데 이용된다. 이를 수행하기 위하여, 상기 드라이 펌프(24)는 제1 진공 라인(28)을 통해 상기 증착챔버(14)에 연결되고, 상기 터보 펌프(26)는 제2 진공 라인(30)을 통해 상기 증착챔버(14)에 연결된다. 증착 공정이 완료된 이후에, 상기 제1 및 제2 진공 라인들(28,30)을 통해 상기 증착챔버(14) 내부에 잔존하는 가스들이 배기된다. 상기 제1 및 제2 진공 라인들(28,30) 각각에 제2 및 제3 밸브들(32,34)이 장착된다. 상기 드라이 펌프(24) 및 상기 터보 펌프(26)를 연결하는 제3 진공 라인(36) 상에 제4 밸브(38)가 장착된다. 상기 드라이 펌프(24) 및 상기 터보 펌프(26), 그리고 제2 내지 제4 밸브들(32,34,38)에 전기적으로 접속되 는 펌프 제어부(40)를 통해 상기 드라이 펌프(24) 및 상기 터보 펌프(26)의 작동 상태, 그리고 상기 제2 내지 제4 밸브들(32,34,38)의 개폐 동작을 제어할 수 있다.
이와 같이 종래의 증착장비에 있어, 상기 설비 제어부(22) 및 상기 펌프 제어부(40)가 서로 격리된 영역들 내에 배치되기 때문에, 설비 제어부(22)가 배치되는 상기 제1 영역(10) 내에서 상기 드라이 펌프(24) 및 상기 터보 펌프(26)의 작동 상태, 그리고 상기 제2 내지 제4 밸브들(32,34,38)의 개폐 동작을 제어할 수 없다. 이에 따라, 상기 증착챔버(14), 그리고 상기 제1 밸브(20)를 포함하는 증착설비와 아울러 상기 드라이 펌프(24), 상기 터보 펌프(26), 그리고 상기 제2 내지 제4 밸브들(32,34,38)을 포함하는 진공펌프 설비를 통합하여 제어하는 기술이 요구되고 있다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 반도체 소자들을 제조하기 위한 증착장비들에 부속되는 장치들을 통합적으로 제어하거나 이들의 이상 유무를 통합적으로 확인할 수 있는 제어유닛을 구비한 증착장비를 제공하는 데 있다.
상기 기술적 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은 진공 펌프들을 제어하는 제어 유닛을 구비한 증착장비를 제공한다. 상기 증착장비는 제1 영역 내에 배치되어 증착공정을 수행하는 공정챔버를 포함한다. 상기 공정챔버에 연결되어 상기 공정챔버 안으로 가스들을 공급하는 가스 공급 유닛을 구비한다. 상기 제1 영역과 격리된 제2 영역 내에 배치되고 상기 공정챔버에 연결되어 상기 공정챔버 내부에 잔존하는 기체를 배출하는 기체 배기 유닛이 구비된다. 상기 제1 영역 내에 배치되고 상기 가스 공급 유닛에 전기적으로 접속되어 상기 가스 공급 유닛의 가스 공급을 제어하고 상기 기체 배기 유닛에 전기적으로 접속되어 기체 배기를 제어하는 설비 제어 유닛을 구비한다.
본 발명에 따른 몇몇 실시예들에 있어, 상기 설비 제어 유닛은 상기 가스 공급 유닛 및 상기 기체 배기 유닛으로부터 전송되는 전기적인 신호를 수신하여 표시하는 디스플레이부와 경보부를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 다른 실시예에 있어, 상기 가스 공급 유닛은 공정 가스 공급부, 상기 공정 가스 공급부와 상기 공정챔버를 연결하는 공정 가스 공급관 및 상기 공정 가스 공급관 상에 장착되는 제1 밸브를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 또 다른 실시예에 있어, 상기 가스 공급 유닛은 퍼지 가스 공급부, 상기 퍼지 가스 공급부와 상기 공정챔버를 연결하는 퍼지 가스 공급관 및 상기 퍼지 가스 공급관 상에 장착되는 제2 밸브를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 또 다른 실시예에 있어, 상기 기체 배기 유닛은 드라이 펌프, 상기 드라이 펌프와 상기 공정챔버를 연결하는 제1 배기관 및 상기 제1 배기관 상에 장착되는 제3 밸브를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 또 다른 실시예에 있어, 상기 기체 배기 유닛은 상기 드라이 펌프 내에 장착되어 상기 드라이 펌프의 작동 상태를 감지하는 제1 감지부를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 또 다른 실시예에 있어, 상기 기체 배기 유닛은 터보 펌프, 상기 터보 펌프와 상기 공정챔버를 연결하는 제2 배기관 및 상기 제2 배기관 상에 장착되는 제4 밸브를 포함할 수 있다.
본 발명에 따른 또 다른 실시예에 있어, 상기 기체 배기 유닛은 상기 터보펌프 내에 장착되어 상기 터보 펌프의 작동 상태를 감지하는 제2 감지부를 포함할 수 있다.
이하, 첨부된 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예들을 상세히 설명한다. 다음에 소개되는 실시예들은 당업자에게 본 발명의 사상이 충분히 전달될 수 있도록 하기 위하여 제공되는 것이다. 따라서, 본 발명은 이하에서 설명되어지는 실시예들에 한정하지 않고 다른 형태로 구체화될 수 있다. 그리고, 도면들에 있어서, 층 및 영역의 길이, 두께 등은 설명의 편의를 위해 과장되어 표현될 수도 있다. 명세서 전체에 걸쳐서 동일한 참조번호들은 동일한 구성요소를 나타낸다.
도 2는 본 발명에 따른 증착장비를 설명하기 위한 구성도이다.
본 발명에 따른 증착장비는 반도체 소자를 제조하기 위한 화학 기상 증착장비, 스퍼터링 증착장비, 플라즈마 증착장비 또는 원자층 증착장비에 적용할 수 있다.
도 2를 참조하면, 본 발명에 따른 증착장비는 서로 격리된 제1 및 제2 영역들(50a,50b)로 구분되고, 상기 제1 영역(50a) 내에 공정 챔버(52)가 배치된다. 상기 공정 챔버(52)는 증착 공정을 수행하는 챔버일 수 있다. 상기 제2 영역(50b)은 상기 제1 영역(50a)의 하부에 배치될 수 있다. 상기 공정 챔버(52) 내에 웨이퍼를 지지하는 척(54)이 배치될 수 있다. 상기 공정 챔버(52)는 유도 코일(induction coil; 56)에 의해 둘러 싸여질 수 있다. 상기 척(54) 및 상기 유도 코일(56)은 각각 바이어스 전원(bias power source; 58) 및 플라즈마 전원(60)에 접속될 수 있다. 상기 바이어스 전원(58) 및 상기 플라즈마 전원(60)은 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 그 결과, 상기 설비 제어부(62)는 상기 바이어스 전원(58) 및 상기 플라즈마 전원(60)의 개폐를 제어할 수 있다. 상기 설비 제어부(62)는 상기 제1 영역(50a) 내에 배치된다.
상기 제1 영역(50a) 내에 가스 공급 유닛이 배치된다. 상기 가스 공급 유닛은 상기 공정 챔버(52)에 접속된다. 상기 가스 공급 유닛은 공정 가스 공급부(64), 상기 공정 가스 공급부(64)와 상기 공정 챔버(52)를 연결하는 공정가스 공급관(66) 및 상기 공정가스 공급관(66) 상에 장착되는 제1 밸브(68)를 구비한다. 상기 공정 가스 공급부(64) 내에 있는 공정 가스들이 상기 공정 가스 공급관(66)을 통해 상기 공정 챔버(52) 내로 유입될 수 있다. 상기 제1 밸브(68)는 밸브 개방의 정도에 따라 상기 공정 가스 공급관(66)을 통해 제공되는 공정가스들의 유동 양을 제어할 수 있다. 즉, 상기 제1 밸브(68)의 개폐 작동에 의해 상기 공정 챔버(52) 내로 유입되는 공정가스들의 양을 조절할 수 있다. 상기 공정 가스들은 도전성 물질들이 함유된 가스들, 반도체성 물질들이 함유된 가스들, 또는 절연성 물질들이 함유된 가스들일 수 있다.
이에 더하여, 상기 가스 공급 유닛은 퍼지(purge) 가스 공급부(70), 상기 퍼지 가스 공급부(70)와 상기 공정 챔버(52)를 연결하는 퍼지 가스 공급관(72) 및 상기 퍼지 가스 공급관(72) 상에 장착되는 제2 밸브(74)를 구비한다. 상기 퍼지 가스 공급부(70) 내에 있는 퍼지 가스들이 상기 퍼지 가스 공급관(72)을 통해 상기 공정 챔버(52) 내로 유입될 수 있다. 상기 공정 챔버(52) 내에 유입된 퍼지 가스들은 증착 공정이 완료된 공정 챔버 내에 잔존하는 가스들 또는 파티클 등을 배기시키는 역할을 수행한다. 상기 제2 밸브(74)는 밸브 개방의 정도에 따라 상기 퍼지 가스 공급관(72)을 통해 제공되는 퍼지 가스들의 유동 양을 제어할 수 있다. 즉, 상기 제2 밸브(74)의 개폐 작동에 의해 상기 공정 챔버(52) 내로 유입되는 퍼지가스들의 양을 조절할 수 있다. 상기 퍼지가스들은 질소 가스 또는 아르곤 가스 같은 불활성 가스들일 수 있다.
상기 공정 가스 공급부(64) 및 상기 퍼지 가스 공급부(70) 내에 설치되는 감지부들(미도시)이 상기 공정 가스 공급부(64) 내에 잔존하는 공정 가스의 양을 감지하고, 상기 퍼지 가스 공급부(70) 내에 잔존하는 퍼지 가스의 양을 감지할 수 있다. 상기 공정 가스 공급부(64) 및 상기 퍼지 가스 공급부(70) 내에 설치되는 감지부들은 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속된다. 이에 따라, 상기 공정 가스 공급부(64) 내에 잔존하는 공정 가스의 양 또는 상기 퍼지 가스 공급부(70) 내에 잔존하는 퍼지 가스의 양이 상기 설비 제어부(62)의 디스플레이부(76) 상에 표시될 수 있다.
상기 제1 및 제2 밸브들(68,74)이 상기 설비제어부(62)에 전기적으로 접속되고, 상기 공정가스 공급관(66)과 상기 공정챔버(52) 사이에 제1 압력 감지부(78)가 배치되고, 상기 퍼지가스 공급관(72)과 상기 공정챔버(52) 사이에 제2 압력 감지부(80)가 배치될 수 있다. 또한, 상기 제1 및 제2 밸브들(68,74), 그리고 상기 제1 및 제2 압력 감지부들(78,80)은 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 상기 제1 및 제2 압력 감지부들(78,80) 각각은 상기 공정챔버(52) 내로 유입되는 공정가스들의 압력과 퍼지가스들의 압력을 감지할 수 있다. 상기 제1 및 제2 압력 감지부들(78,80)에 의해 감지된 전기적인 신호들은 상기 설비 제어부(62)에 전송된다. 이에 따라, 상기 설비 제어부(62)의 중앙처리부(82)는 프로그램부(84) 내에 저장되어 있는 응용 프로그램을 실행함으로써 상기 전기적인 신호들, 예를 들면 가스들의 압력값들과 상기 설비 제어부(62)의 데이터 베이스(86)에 저장되어 있는 설정 압력값을 서로 비교한다. 그 결과, 상기 설정 압력값의 범위를 벗어나는 경우에, 상기 설비 제어부(62)는 상기 제1 및 제2 밸브들(68,74)의 개폐를 조절한다.
한편, 상기 제2 영역(50b) 내에 기체 배기 유닛이 배치된다. 상기 기체 배기 유닛은 드라이 펌프(90) 및 상기 드라이 펌프(90)와 상기 공정 챔버(52)를 접속하는 제1 배기관(92)을 구비한다. 상기 드라이 펌프(90)가 작동함으로써 상기 공정 챔버(52) 내의 잔류 기체가 상기 제1 배기관(92)을 통해 배출된다. 상기 제1 배기관(92) 상에 제3 밸브들(94)이 설치될 수 있다. 상기 제3 밸브들(94)의 개방의 정도에 따라 상기 제1 배기관(92)을 통해 배출되는 기체들의 양이 조절된다. 상기 제3 밸브들(94)은 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 즉, 상기 설비 제어부(62)는 상기 제3 밸브들(94)의 개폐를 제어할 수 있다.
상기 공정챔버(52)와 상기 제1 배기관(92) 사이에 제3 감지부(96)가 설치될 수 있다. 상기 제3 감지부(96)는 상기 제1 배기관(92)을 통해 배출되는 기체들의 압력을 감지할 수 있다. 상기 제3 감지부(96)는 상기 설비 제어부(62)에 전기적으 로 접속될 수 있다. 상기 제3 감지부(96)로부터 전기적인 신호, 예를 들면 배출되는 기체의 압력값을 수신한 설비제어부는 설정된 기체 압력값과 비교할 수 있다. 상기 배출되는 기체의 압력값과 설정 압력값을 서로 비교함으로써 상기 설비 제어부(62)는 상기 제3 밸브들(94)의 개방의 정도를 제어할 수 있다.
상기 드라이 펌프(90)는 상기 드라이 펌프(90)를 구동하는 드라이 펌프 구동부(98)와 전기적으로 접속될 수 있다. 상기 드라이 펌프 구동부(98)는 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 또한, 상기 드라이 펌프(90) 내에 제4 감지부(100)가 설치되고, 상기 제4 감지부(100)는 상기 드라이 펌프(90)의 작동 불량 상태, 예를 들면 상기 드라이 펌프로(90)부터 발생되는 오일 리크(leak) 또는 펌프 트립 현상 등을 감지할 수 있다. 상기 제4 감지부(100)는 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 이에 따라, 상기 설비 제어부(62)가 상기 드라이 펌프(90)의 작동 불량 상태에 대한 전기적인 신호를 수신하는 경우에, 상기 설비 제어부(62)는 상기 드라이 펌프 구동부(98)의 구동을 중단시킬 수 있다.
상기 기체 배기 유닛은 터보 펌프(110) 및 상기 터보 펌프(110)와 상기 공정 챔버(52)를 접속하는 제2 배기관(112)을 구비한다. 상기 터보 펌프(110)가 작동함으로써 상기 공정 챔버(52) 내의 잔류 기체가 상기 제2 배기관(112)을 통해 배출된다. 상기 제2 배기관(112) 상에 제4 밸브(114)가 설치될 수 있다. 상기 제4 밸브(114)의 개방의 정도에 따라 상기 제2 배기관(112)을 통해 배출되는 기체들의 양이 조절된다. 상기 제4 밸브(114)는 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 즉, 상기 설비 제어부(62)는 상기 제4 밸브(114)의 개폐를 제어할 수 있다.
상기 공정챔버(52)와 상기 제2 배기관(112) 사이에 제5 감지부(116)가 설치될 수 있다. 상기 제5 감지부(116)는 상기 제2 배기관(112)을 통해 배출되는 기체들의 압력을 감지할 수 있다. 상기 제5 감지부(116)는 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 상기 제5 감지부(116)로부터 전기적인 신호, 예를 들면 배출되는 기체의 압력값을 수신한 설비제어부는 설정된 기체 압력값과 비교할 수 있다. 상기 배출되는 기체의 압력값과 설정 압력값을 서로 비교함으로써 상기 설비 제어부(62)는 상기 제4 밸브(114)의 개방의 정도를 제어할 수 있다.
상기 터보 펌프(110)는 상기 터보 펌프(110)를 구동하는 터보 펌프 구동부(120)와 전기적으로 접속될 수 있다. 상기 터보 펌프 구동부(120)는 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 또한, 상기 터보 펌프(110) 내에 제6 감지부(122)가 설치되고, 상기 제6 감지부(112)는 상기 터보 펌프(110)의 작동 불량 상태, 예를 들면 상기 터보 펌프로(110)부터 발생되는 오일 리크 또는 펌프 트립 현상 등을 감지할 수 있다. 상기 제6 감지부(112)는 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다. 이에 따라, 상기 설비 제어부(62)가 상기 터보 펌프(110)의 작동 불량 상태에 대한 전기적인 신호를 수신하는 경우에, 상기 설비 제어부(62)는 상기 터보 펌프 구동부(120)의 구동을 중단시킬 수 있다.
상기 터보 펌프(110)는 제3 배기관(126)을 통해 상기 제1 배기관(92)에 연결될 수 있다. 상기 제3 배기관(126) 상에 제5 밸브(128)가 설치될 있다. 상기 제5 밸브(128) 역시 상기 설비 제어부(62)에 전기적으로 접속될 수 있다.
상기 드라이 펌프(90)는 상기 공정 챔버(52)의 저진공 환경을 제공하기 위하 여 제공될 수 있으며, 상기 터보 펌프(110)는 상기 공정 챔버(52)의 고진공 환경을 제공하기 위하여 제공될 수 있다.
상술한 바와 같이, 상기 공정가스 공급 유닛과 상기 기체 배기 유닛을 동시에 제어하는 설비 제어부는 상기 제1 영역(50a) 내에 배치된다. 이에 따라, 상기 제1 영역(50a) 내에서 상기 설비 제어부(62)가 제공하는 정보들을 수집할 수 있다.
한편, 상기 설비 제어부(62)는 추가의 데이터를 입력하거나 설정된 데이터를 변경 또는 해지하기 위한 입력부(87)를 구비할 수도 있다. 이에 더하여, 상기 설비 제어부(62)는 상기 드라이 펌프(90) 또는 상기 터보 펌프(110)의 작동 불량 상태를 감지하여 경보를 제공하는 경보부(89)를 구비할 수도 있다.
상술한 바와 같이 구성되는 본 발명은, 증착 장비에 설치되고 서로 격리된 영역들 내에 배치되는 공정가스 공급 유닛과 기체 배기 유닛을 통합하여 관리하는 설비 제어부를 제공함으로써 증착 공정의 효율성을 개선할 수 있다.
Claims (8)
- 제1 영역 내에 배치되어 증착공정을 수행하는 공정챔버;상기 공정챔버에 연결되어 상기 공정챔버 안으로 가스들을 공급하는 가스 공급 유닛;상기 제1 영역과 격리된 제2 영역 내에 배치되고 상기 공정챔버에 연결되어 상기 공정챔버 내부에 잔존하는 기체를 배출하는 기체 배기 유닛; 및상기 제1 영역 내에 배치되고 상기 가스 공급 유닛에 전기적으로 접속되어 상기 가스 공급 유닛의 가스 공급을 제어하고 상기 기체 배기 유닛에 전기적으로 접속되어 기체 배기를 제어하는 설비 제어 유닛을 포함하는 증착장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 설비 제어 유닛은 상기 가스 공급 유닛 및 상기 기체 배기 유닛으로부터 전송되는 전기적인 신호를 수신하여 표시하는 디스플레이부와 경보부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 가스 공급 유닛은 공정 가스 공급부, 상기 공정 가스 공급부와 상기 공정챔버를 연결하는 공정 가스 공급관 및 상기 공정 가스 공급관 상에 장착되는 제1 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 가스 공급 유닛은 퍼지 가스 공급부, 상기 퍼지 가스 공급부와 상기 공정챔버를 연결하는 퍼지 가스 공급관 및 상기 퍼지 가스 공급관 상에 장착되는 제2 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 기체 배기 유닛은 드라이 펌프, 상기 드라이 펌프와 상기 공정챔버를 연결하는 제1 배기관 및 상기 제1 배기관 상에 장착되는 제3 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장비.
- 제 5 항에 있어서,상기 기체 배기 유닛은 상기 드라이 펌프 내에 장착되어 상기 드라이 펌프의 작동 상태를 감지하는 제1 감지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장비.
- 제 1 항에 있어서,상기 기체 배기 유닛은 터보 펌프, 상기 터보 펌프와 상기 공정챔버를 연결하는 제2 배기관 및 상기 제2 배기관 상에 장착되는 제4 밸브를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장비.
- 제 7 항에 있어서,상기 기체 배기 유닛은 상기 터보펌프 내에 장착되어 상기 터보 펌프의 작동 상태를 감지하는 제2 감지부를 포함하는 것을 특징으로 하는 증착장비.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050115981A KR20070056843A (ko) | 2005-11-30 | 2005-11-30 | 반도체 소자를 제조하기 위한 증착 장비 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050115981A KR20070056843A (ko) | 2005-11-30 | 2005-11-30 | 반도체 소자를 제조하기 위한 증착 장비 |
Publications (1)
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KR20070056843A true KR20070056843A (ko) | 2007-06-04 |
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ID=38354544
Family Applications (1)
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KR1020050115981A KR20070056843A (ko) | 2005-11-30 | 2005-11-30 | 반도체 소자를 제조하기 위한 증착 장비 |
Country Status (1)
Country | Link |
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KR (1) | KR20070056843A (ko) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101401495B1 (ko) * | 2012-07-17 | 2014-05-29 | 주식회사 힐텍코퍼레이션 | 특수 가스 누설 확인을 위한 고진공 시스템 |
-
2005
- 2005-11-30 KR KR1020050115981A patent/KR20070056843A/ko not_active Application Discontinuation
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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KR101401495B1 (ko) * | 2012-07-17 | 2014-05-29 | 주식회사 힐텍코퍼레이션 | 특수 가스 누설 확인을 위한 고진공 시스템 |
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