KR20070056725A - Glass-arranging-apparatus of spin dryer - Google Patents

Glass-arranging-apparatus of spin dryer Download PDF

Info

Publication number
KR20070056725A
KR20070056725A KR1020050115739A KR20050115739A KR20070056725A KR 20070056725 A KR20070056725 A KR 20070056725A KR 1020050115739 A KR1020050115739 A KR 1020050115739A KR 20050115739 A KR20050115739 A KR 20050115739A KR 20070056725 A KR20070056725 A KR 20070056725A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
ring
glass substrate
fixing bar
substrate
fixing
Prior art date
Application number
KR1020050115739A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
김지호
Original Assignee
엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지.필립스 엘시디 주식회사 filed Critical 엘지.필립스 엘시디 주식회사
Priority to KR1020050115739A priority Critical patent/KR20070056725A/en
Publication of KR20070056725A publication Critical patent/KR20070056725A/en

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B65CONVEYING; PACKING; STORING; HANDLING THIN OR FILAMENTARY MATERIAL
    • B65GTRANSPORT OR STORAGE DEVICES, e.g. CONVEYORS FOR LOADING OR TIPPING, SHOP CONVEYOR SYSTEMS OR PNEUMATIC TUBE CONVEYORS
    • B65G49/00Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for
    • B65G49/05Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles
    • B65G49/06Conveying systems characterised by their application for specified purposes not otherwise provided for for fragile or damageable materials or articles for fragile sheets, e.g. glass
    • B65G49/067Sheet handling, means, e.g. manipulators, devices for turning or tilting sheet glass
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682Mask-wafer alignment
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2223/00Details relating to semiconductor or other solid state devices covered by the group H01L23/00
    • H01L2223/544Marks applied to semiconductor devices or parts
    • H01L2223/54426Marks applied to semiconductor devices or parts for alignment

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

A substrate aligning apparatus of a spin dryer is provided to prevent damage of a glass substrate by suppressing abrasion of a particular part thereof. A fixing bar(81) is connected to a supporting part of a spin dryer through a supporter. A first ring(82) is formed to cover an outer circumference of the fixing bar at an upper part of the fixing bar. A first screw(83) is formed to fix the first ring to the fixing bar. A second ring(84) is formed to cover an outer circumference of the fixing bar at a lower part of the fixing bar. A second screw(85) is formed to fix the second ring to the fixing bar. A roller(86) is rotatably installed to the outer circumference of the fixing bar between the first and second rings.

Description

스핀 드라이어의 기판 정렬기{Glass-Arranging-Apparatus Of Spin Dryer}Substrate Sorter for Spin Dryer {Glass-Arranging-Apparatus Of Spin Dryer}

도 1은 일반적인 습식 식각 장비의 일실시예 평면도.1 is a plan view of one embodiment of a general wet etching equipment.

도 2는 종래의 스핀 드라이어의 기판 정렬부를 나타낸 일예시도.Figure 2 is an exemplary view showing a substrate alignment portion of a conventional spin dryer.

도 3 및 도 4는 종래의 기판 정렬부의 사용 상태를 나타낸 예시도.3 and 4 are exemplary views showing a state of use of a conventional substrate alignment unit.

도 5는 종래의 기판 정렬기의 일실시예 구성도. Figure 5 is a configuration diagram of one embodiment of a conventional substrate aligner.

도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 스핀 드라이어의 기판 정렬기를 측단면도 및 저면도로 나타낸 예시도. 6 is an exemplary view showing a substrate aligner of a spin dryer according to a first embodiment of the present invention in side and bottom views;

도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 스핀 드라이어의 기판 정렬기를 측단면도 및 저면도로 나타낸 예시도. Figure 7 is an exemplary view showing a substrate aligner of the spin dryer according to the second embodiment of the present invention in a side cross-sectional view and a bottom view.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Explanation of symbols for main parts of the drawings>

61, 80 : 기판 정렬기 67, 88 : 지지대61, 80: substrate aligner 67, 88: support

64, 81 : 고정바 65 : 고정고리64, 81: fixed bar 65: fixed ring

66 : 고정나사 82 : 제1 고리66: set screw 82: first ring

83 : 제1 나사 84 : 제2 고리83: first screw 84: second ring

85 : 제2 나사 86 : 롤러85: second screw 86: roller

87 : 제1 회전고리 89 :제2 회전고리87: first rotating ring 89: second rotating ring

본 발명은 액정표시장치의 제조 장비 중 습식 식각 장비에 적용되는 스핀 드라이어에 관한 것으로서, 특히 유리기판을 일정한 상태로 정렬시키기 위해 이용되는 스핀드라이어의 기판 정렬기에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a spin dryer applied to a wet etching device among manufacturing equipment for a liquid crystal display device, and more particularly to a substrate aligner for a spin dryer used to align a glass substrate in a constant state.

통상 액정표시장치(Liquid Crystal Display Device : LCD) 내에는 다양한 전극 단자 및 전극 배선들이 형성된다. 상기 배선들의 예로서는, 액정셀 내에서 스위칭 소자로 사용되는 박막 트랜지스터(Thin Film Transistor : TFT)의 소오스, 게이트, 드레인 전극이나 비디오 데이터 신호를 각 액정셀에 인가하기 위한 데이터 라인, 주사신호를 인가하기 위한 게이트 라인, 그리고 액정층에 전계를 인가하기 위한 화소전극 및 공통전극 등을 그 예로 들 수 있다. In general, various electrode terminals and electrode wirings are formed in a liquid crystal display device (LCD). Examples of the wirings include applying a data line or a scan signal for applying a source, a gate, a drain electrode, or a video data signal of a thin film transistor (TFT) used as a switching element in a liquid crystal cell to each liquid crystal cell. Examples thereof include a gate line and a pixel electrode and a common electrode for applying an electric field to the liquid crystal layer.

이러한 전극 단자 및 전극 라인들은 일반적으로 전극 물질로 이용되는 물질을 유리기판 상에 전면 증착한 뒤 포토 레지스트 마스크를 이용하여 전극 물질을 습식 식각(Wet Etching)하여 패터닝함으로써 형성된다. These electrode terminals and electrode lines are generally formed by completely depositing a material used as an electrode material on a glass substrate and then wet etching and patterning the electrode material using a photoresist mask.

습식 식각 방법에서는 포토 레지스트 마스크 패턴이 형성된 유리기판을 에천트(Etchant) 용액에 침전시키거나 또는 분사 노즐로 에천트 용액을 유리기판 상에 분사시켜 에칭액과 전극 물질부를 반응시켜 식각 작업을 행하게 된다.In the wet etching method, the glass substrate on which the photoresist mask pattern is formed is precipitated in an etchant solution, or the etchant solution is sprayed onto the glass substrate by a spray nozzle to react the etching solution with the electrode material part to perform etching.

도 1은 일반적인 습식 식각 장비의 일실시예 평면도이다. 1 is a plan view of one embodiment of a general wet etching equipment.

도면을 참조하면, 일반적인 습식 식각 장비는 포토 레지스트 마스크 패턴이 형성된 유리기판이 수십 매씩 내부에 적재된 카세트(12), 다수 개의 카세트(12)가 놓여지는 로더(Loader)부(11), 상기 로더부(11)의 여유 공간에 설치된 엑시머 자외선 세정기(13), 에칭 공정을 위한 유리기판을 대기시키기 위한 대기부(18), 엑시머 자외선 세정기(13)와 대기부(18) 사이에 마련되어 유리기판의 이송 작업을 담당하는 컨베이어(Conveyer)부(17), 로더부(11)에 놓여진 카세트(12)로부터 유리기판을 빼내어 컨베이어부(17)에 로딩하는 제1 로봇(14), 대기부(18)에서 대기중인 유리기판이 반입되어 습식 식각 작업이 실시되는 에칭부(19), 식각 완료 후 유리기판 상에 잔존하는 에천트 용액을 제거하는 틸트 드레인(Tilt Drain)부(20), 유리기판 상에 남은 에천트 용액을 초순수(De-Ionized Water : DI)로써 다시 제거하는 DI 린스부(21), 유리기판 위에 남은 초순수를 건조시키는 스핀 드라이어(50) 및 DI 린스부에 있는 유리기판을 스핀 드라이어(Spin Dryer)(50)로 반송하는 제2 로봇(22)을 포함하여 구성되어 있다. Referring to the drawings, a general wet etching apparatus includes a cassette 12 in which dozens of glass substrates having a photoresist mask pattern are stacked therein, a loader part 11 in which a plurality of cassettes 12 are placed, and the loader The excimer ultraviolet cleaner 13 provided in the free space of the unit 11, the standby unit 18 for waiting for the glass substrate for the etching process, between the excimer ultraviolet cleaner 13 and the standby unit 18 of the glass substrate The first robot 14 and the standby part 18 which take out the glass substrate from the conveyor part 17 which is in charge of the conveyance operation | work, and the cassette 12 put in the loader part 11, and load it on the conveyor part 17. Etching unit 19 to be carried in the wet glass substrate is carried out in the wet etching operation is carried out, the tilt drain portion 20 to remove the etchant solution remaining on the glass substrate after the etching is completed, on the glass substrate The remaining etchant solution was purified by ultrapure water (D-Ionized Water: D A second robot for conveying the DI rinse unit 21 to be removed again by I), the spin dryer 50 for drying the ultrapure water remaining on the glass substrate, and the glass substrate in the DI rinse unit to the spin dryer 50. It is comprised including 22.

이때, 상기 에칭부(19)는 작업의 효율성을 증대시키기 위해 두 개의 분리된 공간으로 구성될 수도 있으며, 상기 DI 린스부(21) 역시 세 개의 분리된 공간으로 구성될 수도 있다.At this time, the etching unit 19 may be composed of two separate spaces to increase the efficiency of the work, the DI rinse unit 21 may also be composed of three separate spaces.

한편, 도 1에 도시된 습식 식각 장비는 습식 식각 작업 바로 이전에 엑시머 자외선(Eximer UV) 세정기(13)를 이용하여 유리기판에 잔존하는 유기성 혹은 수막성 이물들을 제거할 수 있는 장비로서, 종래의 습식 식각 장비에서 로더부에 놓여지는 카세트의 수를 하나 줄여 여유 공간을 마련하고, 대기부에 인접한 로더부의 여유 공간에 엑시머 자외선 세정 장비를 장착한 것이다.Meanwhile, the wet etching equipment illustrated in FIG. 1 is an equipment capable of removing organic or water-based foreign substances remaining on a glass substrate using an excimer UV cleaner 13 immediately before the wet etching operation. In the wet etching equipment, the number of cassettes placed in the loader unit is reduced by one to provide a free space, and the excimer ultraviolet cleaning equipment is installed in the free space of the loader unit adjacent to the standby unit.

이하에서는, 도 1에 도시된 습식 식각 장비를 이용한 습식 식각 방법이 간단히 설명된다.Hereinafter, a wet etching method using the wet etching equipment illustrated in FIG. 1 will be briefly described.

즉, 포토 레지스트 마스크 패턴이 형성된 유리기판들은 로더부(11)에 놓여진 각 카세트(12) 별로 수십 매씩 배열된다. 카세트(12) 내에 배열된 유리기판들은 로더부(11) 내에 설치된 제1 로봇(14)에 의해 1매씩 순차적으로 컨베이어부(17)에 로딩된다. 컨베이어부(17)에는 상컨베이어(15)와 하컨베이어(16)가 설치되어 있다. 먼저, 유리기판은 제1 로봇(14)에 의해 컨베이어부(17)의 상컨베이어(15)에 로딩된다.That is, the glass substrates on which the photoresist mask pattern is formed are arranged several dozen sheets for each cassette 12 placed in the loader section 11. The glass substrates arranged in the cassette 12 are sequentially loaded onto the conveyor unit 17 one by one by the first robot 14 installed in the loader unit 11. The conveyor unit 17 is provided with an upper conveyor 15 and a lower conveyor 16. First, the glass substrate is loaded on the upper conveyor 15 of the conveyor unit 17 by the first robot 14.

상컨베이어(15)에 놓인 유리기판은 롤링 동작에 의해 엑시머 자외선 세정기(13)로 이송된다. 엑시머 자외선 세정기(13)에는 엑시머(Eximer) 자외선 램프가 설치되어 있는데, 이 자외선 램프로부터 자외선이 유리기판 상에 조사된다. 자외선이 유리기판 상에 조사되면 포토 레지스트 패턴 주위에 잔존하는 이물질들이 자외선에 반응하여 오존 가스가 생성되면서 제거된다. The glass substrate placed on the upper conveyor 15 is transferred to the excimer ultraviolet cleaner 13 by the rolling operation. The excimer ultraviolet cleaner 13 is provided with an Eximer ultraviolet lamp, from which ultraviolet light is irradiated onto the glass substrate. When ultraviolet rays are irradiated onto the glass substrate, foreign substances remaining around the photoresist pattern are removed as ozone gas is generated in response to the ultraviolet rays.

이물(102)이 제거된 유리기판은 엑시머 자외선 세정기(13)에서 컨베이어부(17)의 하컨베이어(16) 위치까지 하강하게 된다. 이어서 유리기판은 하컨베이어(16)에 의해 엑시머 자외선 세정기(13)로부터 컨베이어부(17)로 재이송된다. 컨베이어부(17)로 재이송된 유리기판은 대기부(18)로 반입될 수 있도록 90도 회전된 후 대기부(18)로 반입된다. The glass substrate from which the foreign material 102 has been removed is lowered from the excimer ultraviolet cleaner 13 to the position of the lower conveyor 16 of the conveyor unit 17. Subsequently, the glass substrate is transferred back from the excimer ultraviolet cleaner 13 to the conveyor unit 17 by the hacon conveyor 16. The glass substrate re-transferred to the conveyor unit 17 is rotated 90 degrees so as to be carried into the standby unit 18, and then brought into the standby unit 18.

유리기판이 대기부(18)를 통해 에칭부(19) 내로 반입되면 식각 작업이 실시된다. 에칭부(19)에서는 에천트 용액이 분사노즐로부터 유리기판 상에 분사되어 식 각층과 에천트 용액의 식각 반응에 의해 식각이 행해진다. When the glass substrate is brought into the etching unit 19 through the standby unit 18, an etching operation is performed. In the etching unit 19, an etchant solution is injected onto the glass substrate from the injection nozzle, and etching is performed by an etching reaction between the etching layer and the etchant solution.

틸트 드레인부(20)에서는 에칭 작업이 완료된 유리기판을 소정 각도로 기울여 유리기판 상에 남아 있는 에천트 용액을 흘려버리게 된다. 이 후에 유리기판 상에 잔존하는 에천트 용액은 DI 린스부(21)에서 초순수를 이용하여 완전히 제거된다. 그 다음 제2 로봇(22)이 DI 린스부(21)에 있는 유리기판을 스핀 드라이어(50)로 이송한다.In the tilt drain unit 20, the etchant solution remaining on the glass substrate is spilled by tilting the glass substrate on which the etching operation is completed at a predetermined angle. After that, the etchant solution remaining on the glass substrate is completely removed from the DI rinse unit 21 using ultrapure water. Next, the second robot 22 transfers the glass substrate in the DI rinse unit 21 to the spin dryer 50.

스핀 드라이어(50)에서는 유리기판을 고정한 후 회전시켜 유리기판 상의 초순수를 건조시키며, 이로써 습식 식각 공정이 마쳐지게 된다.In the spin dryer 50, the glass substrate is fixed and then rotated to dry the ultrapure water on the glass substrate, thereby completing the wet etching process.

도 2는 종래의 스핀 드라이어의 기판 정렬부를 나타낸 일예시도이며, 도 3 및 도 4는 종래의 기판 정렬부의 사용 상태를 나타낸 예시도이다. 또한, 도 5는 종래의 기판 정렬기의 일실시예 구성도이다. Figure 2 is an exemplary view showing a substrate alignment unit of the conventional spin dryer, Figure 3 and Figure 4 is an exemplary view showing a state of use of the conventional substrate alignment unit. 5 is a configuration diagram of one embodiment of a conventional substrate aligner.

즉, 도 2는 도 1에 도시된 장비 중 스핀 드라이어(50)의 일부분을 확대시킨 것으로서, 특히 초순수 건조 과정을 마친 유리기판(10)의 자세를 정해진 각도로 정렬시키기 위한 기판 정렬부(60)를 확대하여 나타낸 것이다.That is, FIG. 2 is an enlarged portion of the spin dryer 50 among the equipment shown in FIG. 1, and in particular, the substrate alignment unit 60 for aligning the posture of the glass substrate 10 that has completed the ultrapure water drying process at a predetermined angle. It is shown enlarged.

이때, 상기 스핀 드라이어(50)는 건조 유닛(Unit)의 하나로서, 건조 유닛으로는 상기 스핀 드라이어(50) 방식과 A/K 방식이 이용되고 있다.In this case, the spin dryer 50 is one of drying units, and the spin dryer 50 and the A / K method are used as the drying unit.

한편, 상기 스핀 드라이어(50)는 도면에 도시된 바와 같이 유리기판을 고정시킨 후 회전시키기 위한 회전판(70) 및 회전에 의해 위치 변동된 유리기판을 기 설정된 위치로 정렬시키기 위한 기판 정렬부(60) 등을 포함하여 구성되어 있다.On the other hand, the spin dryer 50 is a rotating plate 70 for fixing and rotating the glass substrate as shown in the drawing and the substrate alignment unit 60 for aligning the glass substrate positionally changed by the rotation to a predetermined position ) And the like.

상기 회전판(70)에는 유리기판(10)이 놓여지게 되는 고정핀(71)이 구비되어 있다.The rotating plate 70 is provided with a fixing pin 71 on which the glass substrate 10 is placed.

또한, 상기 기판 정렬부(60)는 회전에 의해 초순수 건조 과정을 마친 유리기판을 들어올리기 위한 받침부(63), 상기 받침부에 올려져 있는 유리기판의 자세를 정해진 각도로 정렬시키기 위한 두 개의 기판 정렬기(61) 및 상기 두 개의 기판 정렬기와 받침부를 지지하는 한편 상기 유리기판이 놓여진 위치로 이동시키기 위한 지지부(62)를 포함하여 구성되어 있다.In addition, the substrate aligning unit 60 is a support unit 63 for lifting the glass substrate after the ultra-pure drying process by rotation, two for aligning the posture of the glass substrate mounted on the support at a predetermined angle It includes a substrate aligner 61 and a support 62 for supporting the two substrate aligner and the support portion while moving to the position where the glass substrate is placed.

상기와 같은 구성을 갖는 상기 스핀 드라이어(50)의 기능을 간단히 설명하면 다음과 같다.The function of the spin dryer 50 having the above configuration will be described briefly as follows.

즉, 상기 DI 린스부(21)에서 세정된 유리기판(10)이 상기 제2 로봇(22)에 의해 상기 스핀 드라이어(50)의 회전판(70)에 구비된 고정핀(71)에 올려지면, 상기 회전판(70)이 회전되면서 상기 유리기판 위에 남은 초순수를 건조시키게 된다.That is, when the glass substrate 10 cleaned by the DI rinse unit 21 is placed on the fixing pin 71 provided on the rotating plate 70 of the spin dryer 50 by the second robot 22, As the rotating plate 70 is rotated, the ultrapure water remaining on the glass substrate is dried.

상기 과정을 통해 초순수 건조 과정이 종료되면 상기 회전판(70)은 회전을 멈추게 되며, 이때, 상기 지지부(62)에 의해 지지되어 있던 상기 받침부(63)가 유리기판(10)의 밑부분으로 이동되어 유리기판을 지지하게 된다. 상기 받침부(63)는 도면에 도시된 바와 같이 회전 가능한 원반으로 구성되어 있어서, 이후 설명될 기판 정렬기(61)에 의해 회전되면서 유리기판을 소정의 각도로 정렬시키게 된다.When the ultrapure water drying process is completed through the above process, the rotating plate 70 stops rotating. At this time, the supporting part 63 supported by the support part 62 moves to the bottom of the glass substrate 10. To support the glass substrate. The base 63 is composed of a rotatable disk as shown in the drawing, and is rotated by the substrate aligner 61 to be described later to align the glass substrate at a predetermined angle.

즉, 받침부(63)가 유리기판의 밑부분에서 유리기판을 지지하고 있는 상태에서, 상기 두 개의 기판 정렬기(61) 역시 유리기판이 놓여진 방향으로 이동하게 된다. 이때, 상기 두 개의 기판 정렬기(61)는 도 3에 도시된 바와 같이 유리기판 쪽으로 이동되면서 유리기판의 모서리에 대해 외압을 가하게 되며, 상기 외압에 의해 상기 받침부(63)가 회전을 하면서 결국 유리기판(10)을 도 4에 도시된 바와 같이 소정의 각도를 갖는 위치로 정렬시키게 된다.That is, in the state in which the support portion 63 supports the glass substrate at the bottom of the glass substrate, the two substrate aligners 61 also move in the direction in which the glass substrate is placed. At this time, the two substrate aligner 61 is moved toward the glass substrate as shown in FIG. 3 and exerts an external pressure with respect to the edge of the glass substrate, and the supporting part 63 rotates by the external pressure. The glass substrate 10 is aligned to a position having a predetermined angle as shown in FIG. 4.

한편, 상기와 같은 과정을 통해 일정한 각도로 놓여진 유리기판은 상기 제1 로봇(14) 또는 또 다른 로봇에 의해 또 다른 공정라인으로 이동하게 된다.On the other hand, the glass substrate placed at a predetermined angle through the above process is moved to another process line by the first robot 14 or another robot.

즉, 상기 두 개의 기판 정렬기(61)는 상기 지지부(62)로부터 유리기판을 향해 이동되면서 건조 과정이 수행된 유리기판을 일정한 각도를 갖는 상태로 정렬시키기 위한 것으로서, 이러한 과정에 의해 로봇 암이 일정한 각도로 유리기판을 카세트 또는 별도의 유리기판 수납공간에 적재시킬 수 있게 되며, 이에 따라 유리기판이 상기 카세트 또는 별도의 유리기판 수납공간들에 적재될 때 파손되는 것이 방지될 수 있다.That is, the two substrate aligners 61 are for aligning the glass substrates having a predetermined angle while being moved from the support part 62 toward the glass substrates at a predetermined angle. It is possible to load the glass substrate in the cassette or the separate glass substrate storage space at a predetermined angle, thereby preventing the glass substrate from being broken when the glass substrate is loaded in the cassette or the separate glass substrate storage spaces.

상기와 같은 기능을 수행하는 상기 기판 정렬기(61)의 세부 구성을 도 5를 참조하여 설명하면 다음과 같다.A detailed configuration of the substrate aligner 61 performing the above function will be described with reference to FIG. 5 as follows.

상기 기판 정렬기(61)는 도 5에 도시된 바와 같이, 상기 지지부(62)와 연결되어 있는 지지대(67)로부터 'ㄱ'자 형상으로 꺾여진 고정바(64), 상기 고정바의 외주면을 감싸고 있는 고정고리(65) 및 상기 고정고리를 상기 고정바에 밀착 고정시키기 위한 고정나사(66)를 포함하여 구성되어 있다.As shown in FIG. 5, the substrate aligner 61 includes a fixing bar 64 that is bent in a 'b' shape from a support 67 connected to the support 62, and an outer circumferential surface of the fixing bar. It comprises a holding ring (65) and a holding screw (66) for tightly fixing the holding ring to the holding bar.

이때, 상기 고정고리(65)는 고정나사(66)에 의해 상기 고정바(64)에 고정된 상태로 구성되어 있기 때문에, 상기와 같은 유리기판 고정 기능을 수행함에 있어서, 유리기판과 접촉되는 부분이 한정될 수 밖에 없다. In this case, since the fixing ring 65 is configured to be fixed to the fixing bar 64 by the fixing screw 66, the fixing ring 65 is in contact with the glass substrate in performing the glass substrate fixing function as described above. This can only be limited.

또한, 상기 고정고리(65)는 유리기판과의 마찰을 고려하여 합성수지로 구성 될 수 있으며, 이 경우 상기한 바와 같이 유리기판과 접촉되는 부분이 한정될 수 밖에 없기 때문에 일정 기간 동안 사용하게 되면, 상기 접촉부분에 마모가 생기게 된다. 한편, 상기와 같은 마모는 결국 유리기판과의 접촉 불량을 초래하게 되며, 이로인해 유리기판이 파손될 염려가 있게 되며, 따라서, 상기 고정고리(65)는 일정기간 사용된 후에는 교체되어지고 있다. In addition, the fixing ring 65 may be composed of a synthetic resin in consideration of the friction with the glass substrate, in this case, because the portion in contact with the glass substrate as described above is bound to be limited, if used for a certain period of time, Wear occurs at the contact portion. On the other hand, such abrasion eventually leads to poor contact with the glass substrate, which may cause the glass substrate to be broken. Therefore, the fixing ring 65 is replaced after being used for a certain period of time.

부연설명하면, 상기 스핀 드라이어(50)에서 유리기판이 건조되고, 건조된 유리기판이 카세트 등에 적재되는 공정에는 약 52초 정도가 소요되며, 상기와 같은 공정이 24시간 끊임없이 반복되고 있다는 것을 고려해 볼 때 상기 고정고리(65)가 받는 마모의 양은 클 수 밖에 없으며, 실제로, 액정표시장치의 공정라인에서 상기 고정고리(65)는 2주에 한번 씩 교체되고 있는 실정이다.In detail, a process in which the glass substrate is dried in the spin dryer 50 and the dried glass substrate is loaded in a cassette takes about 52 seconds, and it is considered that the above process is continuously repeated for 24 hours. When the fixing ring 65 receives a large amount of wear, in fact, the fixing ring 65 in the process line of the liquid crystal display device is being replaced every two weeks.

즉, 상기한 바와 같은 종래의 기판 정렬기(61)는, 유리기판과 접촉되는 부분이 한정되어 있으며 이로인해 고정고리(65)의 마모가 심하게 되고, 결국 고정고리(65)를 자주교체시켜 주어야 하기 때문에, 고정고리(65)의 교체 비용이 증가하게 되며, 고정고리(65)의 교체를 위해 스핀 드라이어(50)의 기능이 정지되어야 하므로, 전체 공정의 지연을 초래하게 된다는 문제점이 있다.That is, the conventional substrate aligner 61 as described above is limited to the portion in contact with the glass substrate, thereby causing the wear of the fixing ring 65 is severe, and eventually the fixing ring 65 should be replaced frequently. Therefore, the replacement cost of the fixing ring 65 is increased, and the function of the spin dryer 50 must be stopped for the replacement of the fixing ring 65, resulting in a delay of the entire process.

또한, 상기와 같은 고정고리(65) 상에 생성된 마모에 의해 유리기판이 파손되어, 그 파편이 상기 스핀 드라이어(50)에 쌓이게 된다면, 이후의 건조 공정에서 또 다른 유리기판들이 훼손당할 우려가 있다는 문제점이 있다.In addition, if the glass substrate is broken by the wear generated on the fixing ring 65 as described above, and the fragments are accumulated in the spin dryer 50, there is a possibility that other glass substrates may be damaged in the subsequent drying process. There is a problem.

또한, 상기 고정고리(65) 상에 생성된 마모에 의해, 유리기판이 원래의 각도로 부터 소정의 각도 만큼 어긋난 상태에서 정렬되면, 이후 로봇 암이 상기 유리기 판을 카세트 등에 적재할 경우, 유리기판이 카세트 등의 모서리에 부딛혀 파손될 수도 있다는 문제점이 있다.In addition, when the glass substrate is aligned in a state where the glass substrate is shifted by a predetermined angle from the original angle by abrasion generated on the fixing ring 65, the robot arm subsequently loads the glass substrate on a cassette or the like. There is a problem that may be damaged by hitting the corner of the cassette.

따라서, 상기 고정고리(65)의 교체시기는 가능한 빨라져야 할 것이나, 이 경우 상기한 바와 같이 비용적인 부담이 발생된다는 문제점이 있다.Therefore, the replacement timing of the fixing ring 65 should be as fast as possible, but in this case, there is a problem in that a cost burden occurs as described above.

따라서, 상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은, 고정바의 외주면에서 회전될 수 있는 롤러를 갖는, 스핀 드라이어의 기판 정렬기를 제공하는 것이다. Accordingly, it is an object of the present invention to solve the above problems, to provide a substrate aligner of a spin dryer having a roller that can be rotated on the outer peripheral surface of the fixing bar.

상기 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 실시예에 따른 스핀드라이어의 기판 정렬기는, 지지대를 통해 스핀드라이어의 지지부와 연결되어 있는 고정바; 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 상부에서 감싸고 있는 제1 고리; 상기 제1 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제1 나사; 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 하부에서 감싸고 있는 제2 고리; 상기 제2 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제2 나사; 및 상기 제1 고리와 상기 제2 고리 사이에서 상기 고정바의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 롤러를 포함한다.In order to achieve the above object, the substrate aligner of the spin dryer according to an embodiment of the present invention, the fixing bar is connected to the support of the spin dryer through a support; A first ring surrounding an outer circumferential surface of the fixing bar at an upper portion of the fixing bar; A first screw for fixing the first ring to the fixing bar; A second ring surrounding an outer circumferential surface of the fixing bar at a lower portion of the fixing bar; A second screw for fixing the second ring to the fixing bar; And a roller rotatably mounted to an outer circumferential surface of the fixing bar between the first ring and the second ring.

또한, 본 발명에 있어서 상기 롤러는 상기 고정바에 탈착 가능한 것을 특징으로 한다.In addition, the roller in the present invention is characterized in that detachable to the fixing bar.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 롤러는 유리기판에 의회 회전 가능한 것을 특징으로 한다.In addition, in the present invention, the roller is characterized in that the rotating rotation of the glass substrate.

또한, 본 발명에 있어서, 상기 롤러는, 상기 제1 고리와 상기 제2 고리 사이에서 상기 고정바의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 제1 회전고리; 및 상기 제1 회전고리의 외주면에서 상기 제1 회전고리의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 제2 회전고리를 포함하는 것을 특징으로 한다.In addition, in the present invention, the roller, the first rotation ring which is rotatably mounted with respect to the outer peripheral surface of the fixing bar between the first ring and the second ring; And a second rotating ring rotatably mounted to the outer circumferential surface of the first rotating ring on the outer circumferential surface of the first rotating ring.

상기 목적 외에 본 발명의 다른 목적 및 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시예의 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다.Other objects and features of the present invention in addition to the above objects will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예가 상세히 설명된다. 이때, 도 1 내지 도 5에 기재된 구성요소와 동일한 구성요소에 대하여는 상기 도면들에서 부여된 도면번호를 동일하게 사용하도록 하겠다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. In this case, the same reference numerals given in the drawings will be used for the same components as those described in FIGS. 1 to 5.

도 6은 본 발명의 제1 실시예에 따른 스핀 드라이어의 기판 정렬기를 측단면도 및 저면도로 나타낸 예시도이다. Figure 6 is an exemplary view showing a substrate aligner of the spin dryer according to the first embodiment of the present invention in a side cross-sectional view and a bottom view.

도면에 도시된 바와 같이 본 발명의 제1 실시예에 따른 스핀 드라이어의 기판 정렬기는, 상기 지지부와 연결되어 있는 지지대(88)로부터 'ㄱ'자 형상으로 꺾여진 고정바(81), 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 상부에서 감싸고 있는 제1 고리(82), 상기 제1 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제1 나사(83), 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 하부에서 감싸고 있는 제2 고리(84), 상기 제2 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제2 나사(85), 상기 제1 고리와 상기 제2 고리 사이에서 상기 고정바의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 롤러(86)를 포함하여 구성되어 있다.As shown in the drawings, the substrate aligner of the spin dryer according to the first embodiment of the present invention includes a fixing bar 81 which is bent in a '-' shape from a support 88 connected to the support, and the fixing bar. A first ring 82 surrounding the outer circumferential surface of the fixing bar, a first screw 83 for fixing the first ring to the fixing bar, and an outer circumferential surface of the fixing bar at the lower portion of the fixing bar. A second ring 84, a second screw 85 for fixing the second ring to the fixing bar, a roller rotatably mounted to the outer peripheral surface of the fixing bar between the first ring and the second ring It comprises 86.

즉, 상기 롤러(86)는 상기 제1 고리(82) 및 제2 고리(84) 사이에서 회전 가 능하게 구성되어 있기 때문에, 상기 종래기술에서 언급된 바와 같은 유리기판 고정 기능을 수행함에 있어서, 유리기판과 접촉되는 부분이 계속적으로 변하게 된다는 특징을 가지고 있다.That is, since the roller 86 is configured to be rotatable between the first ring 82 and the second ring 84, in performing the glass substrate fixing function as mentioned in the prior art, glass The part in contact with the substrate is continuously changed.

따라서, 상기 롤러(86)는 장시간에 걸쳐 유리기판 고정 기능을 수행하더라도 어느 특정 부분만이 마모가 될 염려가 없으므로, 보다 장시간에 걸쳐 사용되어질 수 있다는 특징을 가지고 있다.Therefore, the roller 86 has a feature that it can be used for a longer time since there is no fear that only a certain part wears even if the glass substrate fixing function is performed for a long time.

도 7은 본 발명의 제2 실시예에 따른 스핀 드라이어의 기판 정렬기를 측단면도 및 저면도로 나타낸 예시도이다. FIG. 7 is an exemplary view showing the substrate aligner of the spin dryer according to the second embodiment of the present invention in side and bottom views.

도면에 도시된 바와 같이 본 발명의 제2 실시예에 따른 스핀 드라이어의 기판 정렬기는, 상기 지지부와 연결되어 있는 지지대(88)로부터 'ㄱ'자 형상으로 꺾여진 고정바(81), 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 상부에서 감싸고 있는 제1 고리(82), 상기 제1 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제1 나사(83), 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 하부에서 감싸고 있는 제2 고리(84), 상기 제2 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제2 나사(85), 상기 제1 고리와 상기 제2 고리 사이에서 상기 고정바의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 제1 회전고리(87) 및 상기 제1 회전고리의 외주면에서 상기 제1 회전고리의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 제2 회전고리(89)를 포함하여 구성되어 있다.As shown in the drawings, the substrate aligner of the spin dryer according to the second embodiment of the present invention includes a fixing bar 81 which is bent in a '-' shape from the support base 88 connected to the support portion, and the fixing bar. A first ring 82 surrounding the outer circumferential surface of the fixing bar, a first screw 83 for fixing the first ring to the fixing bar, and an outer circumferential surface of the fixing bar at the lower portion of the fixing bar. A second ring 84, a second screw 85 for fixing the second ring to the fixing bar, and a second rotatably mounted to an outer circumferential surface of the fixing bar between the first ring and the second ring. The first rotary ring 87 and the second rotary ring 89 are rotatably mounted on the outer circumferential surface of the first rotary ring on the outer circumferential surface of the first rotary ring.

이때, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 정렬기는, 도 7에 도시된 제1 실시예에 따른 기판 정렬기와 비교해 볼 때, 상기 롤러(86)가, 제1 회전고리(87) 및 제2 회전고리(89)로 대체된 것임을 알 수 있다.At this time, the substrate aligner according to the second embodiment of the present invention, compared with the substrate aligner according to the first embodiment shown in Figure 7, the roller 86, the first rotating ring 87 and the second It can be seen that the rotation ring 89 has been replaced.

즉, 본 발명의 제2 실시예에 따른 기판 정렬기는, 도 6에 도시된 바와 같은 회전가능한 하나의 롤러(86)를 두 개의 고리(87, 89)로 분리한 것으로서, 제1 회전고리(87)보다 얇게 제작된 제2 회전고리가 보다 쉽게 회전되도록 하여, 유리기판과 접촉되는 면이 보다 더 랜덤(random)하게 변화 되도록 한다는 특징을 가지고 있다.That is, the substrate aligner according to the second embodiment of the present invention is to separate the rotatable roller 86 as shown in FIG. 6 into two rings 87 and 89, and the first rotation ring 87 The second rotating ring made thinner than) rotates more easily, so that the surface in contact with the glass substrate is changed more randomly.

따라서, 상기 제2 회전고리(89)는 장시간에 걸쳐 유리기판 고정 기능을 수행하더라도 어느 특정 부분만이 마모가 될 염려가 없으므로, 보다 장시간에 걸쳐 사용되어질 수 있다는 특징을 가지고 있다.Therefore, the second rotary ring 89 has a feature that it can be used for a longer time since there is no fear that only a certain part will wear even if the glass substrate fixing function is performed for a long time.

한편, 상기 롤러(86) 및 제2 회전고리(89)는 종래의 고정고리(65)와 마찬가지로 유리기판과의 마찰을 고려하여 합성수지로 구성될 수 있다.On the other hand, the roller 86 and the second rotary ring 89 may be made of a synthetic resin in consideration of the friction with the glass substrate, like the conventional fixed ring (65).

상기와 같은 구성을 갖는 스핀 드라이어의 기판 정렬기의 기능을 간단히 설명하면 다음과 같다.The function of the substrate aligner of the spin dryer having the above configuration will be briefly described as follows.

즉, 상기 DI 린스부(21)에서의 초순수 건조 과정이 종료되면 상기 회전판(70)은 회전을 멈추게 되며, 이때, 상기 지지부(62)에 의해 지지되어 있던 상기 받침부(63)가 유리기판(10)의 밑부분으로 이동되어 유리기판을 지지하게 된다.That is, when the ultrapure water drying process in the DI rinse unit 21 is finished, the rotating plate 70 stops rotating, and at this time, the supporting unit 63 supported by the support unit 62 is a glass substrate ( It is moved to the bottom of 10) to support the glass substrate.

한편, 받침부(63)가 유리기판의 밑부분에서 유리기판을 지지하고 있는 상태에서, 상기와 같은 구성을 갖는 두 개의 기판 정렬기(80)가 유리기판 쪽으로 이동되면서 유리기판의 모서리에 대해 외압을 가하게 되면, 상기 외압에 의해 상기 받침부(63)가 회전을 하면서 결국 유리기판(10)을 소정의 각도를 갖는 위치로 정렬시키게 된다.On the other hand, in the state in which the supporting portion 63 supports the glass substrate at the bottom of the glass substrate, the two substrate aligner 80 having the above configuration is moved toward the glass substrate, and the external pressure is applied to the edge of the glass substrate. When it is applied, the support portion 63 is rotated by the external pressure and eventually aligns the glass substrate 10 to a position having a predetermined angle.

이때, 상기 롤러(86) 또는 제2 회전고리(89)는 자유롭게 회전되면서 유리기 판(10)과 접촉되어 상기 유리기판에 외압을 가하게 되므로, 종래의 고정고리에 비하여 특정 부분만이 마모되는 현상이 방지될 수 있다.At this time, the roller 86 or the second rotation ring 89 is freely rotated and comes into contact with the glass substrate 10 to exert an external pressure on the glass substrate, so that only a certain portion of the roller 86 or the second rotation ring 89 is worn. Can be prevented.

한편, 상기와 같은 과정을 통해 일정한 각도로 놓여진 유리기판은 상기 로봇 암에 의해 카세트 또는 또 다른 공정 라인으로 이동된다.On the other hand, the glass substrate placed at a constant angle through the above process is moved to the cassette or another process line by the robot arm.

상술된 바와 같은 본 발명에 따른 스핀 드라이어의 기판 정렬기는, 어느 특정 부위 만이 집중적으로 마모되는 현상을 방지함으로써, 유리기판의 손상을 방지할 수 있다는 우수한 효과가 있다.The substrate aligner of the spin dryer according to the present invention as described above has an excellent effect of preventing damage to the glass substrate by preventing the phenomenon in which only a specific part is concentrated.

또한, 본 발명은 상기와 같은 마모 현상의 방지로 인해 전체적인 교환주기가 연장될 수 있음으로, 교체에 따른 원가를 절감할 수 있다는 우수한 효과가 있다.In addition, the present invention has an excellent effect that the overall replacement cycle can be extended due to the prevention of the wear phenomenon as described above, reducing the cost of replacement.

또한, 본 발명은 유리기판의 손상을 방지하여, 스핀 드라이어 내부에 유리기판의 파편이 발생하지 않도록 함으로써, 스핀 드라이어 내부의 파편 제거 및 클리닝(Cleaning) 작업에 소요되는 생산 로스(Loss)를 줄일 수 있다는 우수한 효과가 있다.In addition, the present invention is to prevent damage to the glass substrate, to prevent the generation of glass substrate fragments in the spin dryer, thereby reducing the production loss (Loss) required for the removal and cleaning of the debris inside the spin dryer. That has an excellent effect.

이상 설명한 내용을 통해 당업자라면 본 발명의 기술사상을 일탈하지 아니하는 범위에서 다양한 변경 및 수정이 가능함을 알 수 있을 것이다. 따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허 청구의 범위에 의해 정하여 져야만 할 것이다.Those skilled in the art will appreciate that various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (4)

지지대를 통해 스핀드라이어의 지지부와 연결되어 있는 고정바;A fixed bar connected to the support of the spin dryer through a support; 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 상부에서 감싸고 있는 제1 고리;A first ring surrounding an outer circumferential surface of the fixing bar at an upper portion of the fixing bar; 상기 제1 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제1 나사;A first screw for fixing the first ring to the fixing bar; 상기 고정바의 외주면을 상기 고정바의 하부에서 감싸고 있는 제2 고리;A second ring surrounding an outer circumferential surface of the fixing bar at a lower portion of the fixing bar; 상기 제2 고리를 상기 고정바에 고정시키기 위한 제2 나사; 및A second screw for fixing the second ring to the fixing bar; And 상기 제1 고리와 상기 제2 고리 사이에서 상기 고정바의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 롤러를 포함하는 스핀드라이어의 기판 정렬기.And a roller rotatably mounted with respect to an outer circumferential surface of the fixing bar between the first ring and the second ring. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 롤러는 상기 고정바에 탈착 가능한 것을 특징으로 하는 스핀드라이어의 기판 정렬기.The roller is a substrate aligner of the spin dryer, characterized in that detachable to the fixing bar. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 롤러는 유리기판에 의회 회전 가능한 것을 특징으로 하는 스핀드라이어의 기판 정렬기.The roller aligns the substrate substrate of the spin dryer, characterized in that rotatable to the glass substrate. 제 1 항 내지 제 3 항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 3, 상기 롤러는, The roller, 상기 제1 고리와 상기 제2 고리 사이에서 상기 고정바의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 제1 회전고리; 및A first rotating ring rotatably mounted to an outer circumferential surface of the fixing bar between the first ring and the second ring; And 상기 제1 회전고리의 외주면에서 상기 제1 회전고리의 외주면에 대해 회전 가능하게 장착되어 있는 제2 회전고리를 포함하는 스핀드라이어의 기판 정렬기.And a second rotary ring rotatably mounted to an outer circumferential surface of the first rotary ring on the outer circumferential surface of the first rotary ring.
KR1020050115739A 2005-11-30 2005-11-30 Glass-arranging-apparatus of spin dryer KR20070056725A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050115739A KR20070056725A (en) 2005-11-30 2005-11-30 Glass-arranging-apparatus of spin dryer

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050115739A KR20070056725A (en) 2005-11-30 2005-11-30 Glass-arranging-apparatus of spin dryer

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070056725A true KR20070056725A (en) 2007-06-04

Family

ID=38354448

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050115739A KR20070056725A (en) 2005-11-30 2005-11-30 Glass-arranging-apparatus of spin dryer

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20070056725A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101843195B1 (en) * 2011-10-24 2018-03-29 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus of Transferring Substrate

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101843195B1 (en) * 2011-10-24 2018-03-29 엘지디스플레이 주식회사 Apparatus of Transferring Substrate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US8757180B2 (en) Substrate processing apparatus
KR20080039380A (en) Substrate processing unit, substrate transfer method, substrate cleansing process unit, and substrate plating apparatus
JP3236742B2 (en) Coating device
KR100674882B1 (en) Transfer for use in transmitting works
JP3887549B2 (en) Substrate transfer device
US8300205B2 (en) Apparatus and method for washing alignment film printing mask and method for fabricating a liquid crystal display device
KR20070056725A (en) Glass-arranging-apparatus of spin dryer
KR100525730B1 (en) Apparatus and Method of Wet Etching
KR20020087637A (en) Vertical type cleaner
KR20040082163A (en) Equipment of processing a substrate for liquid crystal display device and method of processing the substrate
KR101169924B1 (en) Wafer transfer robot
JP2003303762A (en) Apparatus and method for treating substrate
KR20070060713A (en) Apparatus and method for cleaning a substrate
KR101099591B1 (en) Disk unit for cleaning a substrate and cleaning apparatus having the same
KR20010039620A (en) Substrate processing apparatus
KR200331986Y1 (en) substrate processing equipment having one process line capable of handling plural substrates simultaneously
KR20070070948A (en) Etching device for manufacturing of flat panel display device and manufacturing method thereof
US6101656A (en) Wafer cleaning device
JP2978806B2 (en) Substrate processing method
JPH10321575A (en) Substrate treating device and substrate cleaning device
KR100683520B1 (en) Multi-layer Extension Stage
KR102201884B1 (en) Apparatus and method for treating substrate
KR100796750B1 (en) Wet equipment
KR20040084969A (en) Method for suppressing bending of substrate in display device
JP3962560B2 (en) Substrate processing equipment

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination