KR20070055679A - Liquid crystal injection appratus and liquid crystal injection method using the same - Google Patents

Liquid crystal injection appratus and liquid crystal injection method using the same Download PDF

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KR20070055679A KR1020050113928A KR20050113928A KR20070055679A KR 20070055679 A KR20070055679 A KR 20070055679A KR 1020050113928 A KR1020050113928 A KR 1020050113928A KR 20050113928 A KR20050113928 A KR 20050113928A KR 20070055679 A KR20070055679 A KR 20070055679A
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Abstract

본 발명은 액정주입장치의 각각의 체임버 간에 유사한 진공이 형성된 상태에서 이송이 이루어지는 액정주입장치 및 이를 사용한 액정주입방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal injection device and a liquid crystal injection method using the same, the transfer is carried out in a state in which a similar vacuum is formed between each chamber of the liquid crystal injection device.

본 발명은 액정표시장치의 탈기공정을 수행하는 탈기체임버; 상기 탈기체임버에서 상기 탈기공정이 수행된 상기 액정표시장치의 진공공정을 수행하는 진공체임버; 및 상기 진공체임버에서 상기 진공공정이 수행된 상기 액정표시장치의 주입공정을 수행하는 주입체임버를 포함하고, 상기 주입체임버에 상기 액정표시장치에 주입될 액정의 탈포공정을 수행하는 탈포체임버를 포함하며, 상기 탈기체임버, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 중 적어도 어느 하나의 체임버와, 그 체임버와 인접한 체임버로 상기 액정표시장치 또는 상기 액정의 이송 시 상기 체임버들 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입장치 및 이를 사용한 액정주입방법에 관한 것이다.The present invention is a degassing chamber for performing a degassing process of the liquid crystal display device; A vacuum chamber performing a vacuum process of the liquid crystal display device in which the degassing process is performed in the degassing chamber; And an injection chamber for performing an injection process of the liquid crystal display device in which the vacuum process is performed in the vacuum chamber, and a defoaming chamber for performing a defoaming process of liquid crystal to be injected into the liquid crystal display device in the injection chamber. At least one chamber of the degassing chamber, the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber, and a chamber adjacent to the chamber may form a similar vacuum inside the chambers when the liquid crystal display or the liquid crystal is transferred. It relates to a liquid crystal injection device and a liquid crystal injection method using the same.

액정, 주입, 터보분자펌프, 고진공, 초고진공, 열 Liquid Crystal, Injection, Turbo Molecular Pump, High Vacuum, Ultra High Vacuum, Heat

Description

액정주입장치 및 이를 사용한 액정주입방법{LIQUID CRYSTAL INJECTION APPRATUS AND LIQUID CRYSTAL INJECTION METHOD USING THE SAME}Liquid crystal injection device and liquid crystal injection method using the same {LIQUID CRYSTAL INJECTION APPRATUS AND LIQUID CRYSTAL INJECTION METHOD USING THE SAME}

도1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 나타낸 평면도이다.1 is a plan view illustrating a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention.

도2는 도1의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도이다.FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 1.

도3은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치의 등가회로도이다.3 is an equivalent circuit diagram of a liquid crystal display according to an embodiment of the present invention.

도4는 본 발명의 실시예에 따른 액정주입장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.4 is a plan view schematically showing a liquid crystal injection apparatus according to an embodiment of the present invention.

도5는 본 발명의 실시예에 따른 탈포공정을 설명하기 위한 도면이다.5 is a view for explaining a defoaming process according to an embodiment of the present invention.

도6은 본 발명의 실시예에 따른 주입공정을 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining an injection process according to an embodiment of the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호설명><Code Description of Main Parts of Drawing>

10 : 액정표시장치 20 : 액정10 liquid crystal display device 20 liquid crystal

30 : 실란트 40 : 열경화성실란트30 sealant 40 thermosetting sealant

50 : 자외선경화성실란트 60 : 칼라필터기판50 UV curable sealant 60 Color filter substrate

70 : 박막트랜지스터기판 100 : 액정주입장치70: thin film transistor substrate 100: liquid crystal injection device

110 : 탈기체임버 120 : 진공체임버110: deaeration chamber 120: vacuum chamber

130 : 탈포체임버 140 : 주입체임버130: defoaming chamber 140: injection chamber

150 : 제1게이트밸브 160 : 제2게이트밸브150: first gate valve 160: second gate valve

170 : 제3게이트밸브 180 : 드라이펌프170: third gate valve 180: dry pump

190 : 터보분자펌프 250 : 히터190: turbomolecular pump 250: heater

본 발명은 액정주입장치 및 이를 사용한 액정주입방법에 관한 것으로, 특히 액정주입장치의 각각의 체임버 간에 유사한 진공이 형성된 상태에서 이송이 이루어지는 액정주입장치 및 이를 사용한 액정주입방법에 관한 것이다.The present invention relates to a liquid crystal injection device and a liquid crystal injection method using the same, and more particularly, to a liquid crystal injection device and a liquid crystal injection method using the same in a state where a similar vacuum is formed between each chamber of the liquid crystal injection device.

현재 표시장치로 가장 많이 사용되고 있는 것은 CRT(Cathode Ray Tube)이다. 그러나, CRT는 경박단소화에 어려움이 있기 때문에 CRT의 대체수단으로 액정표시장치(Liquid Crystal Display, LCD), 플라즈마디스플레이패널(Plasma Display Panel, PDP), 유기발광다이오드(Organic Light Emitting Diodes, OLED) 등과 같은 평판표시장치(Flat Panel Display, FPD)가 개발되어 사용되고 있다. 그 중 저소비전력과 고해상도를 가지며 대면적화가 가능한 액정표시장치가 최근에 가장 널리 사용되고 있는 추세이다.The most commonly used display device is the CRT (Cathode Ray Tube). However, since CRTs are difficult to reduce in size, CRTs can be used as alternatives to CRTs, such as liquid crystal displays (LCDs), plasma display panels (PDPs), and organic light emitting diodes (OLEDs). Flat panel displays (FPDs) such as these have been developed and used. Among them, liquid crystal display devices having low power consumption and high resolution and capable of large area are the most widely used in recent years.

액정표시장치는 전계를 이용하여 액정의 광투과율을 조절함으로써 화상을 표시하는 장치이며 액정을 사이에 두고 서로 대향하여 합착된 칼라필터기판 및 박막 트랜지스터기판을 포함하고 있다. 이러한 칼라필터기판 및 박막트랜지스터기판 사이에 액정을 배치시키기 위해 다수개의 체임버를 구비한 액정주입장치가 사용된다.BACKGROUND ART A liquid crystal display device displays an image by controlling light transmittance of a liquid crystal using an electric field, and includes a color filter substrate and a thin film transistor substrate that are bonded to each other with a liquid crystal interposed therebetween. In order to dispose the liquid crystal between the color filter substrate and the thin film transistor substrate, a liquid crystal injection device having a plurality of chambers is used.

그런데, 각각의 체임버 간에 액정이 미주입된 액정표시장치의 이송 또는 탈포된 액정의 이송 시 서로 다른 진공이 형성된 각각의 체임버 간에 이송되므로 비효율적으로 주입공정이 진행되며 제조시간이 증가하게 된다. 또한, 이 때문에 액정미충진 등의 불량이 발생한다.However, when the liquid crystal is not injected into the liquid crystal display device between each chamber or the liquid crystal degassed is transferred between different chambers in which different vacuums are formed, the injection process proceeds inefficiently and the manufacturing time increases. In addition, defects such as unfilled liquid crystal are generated because of this.

따라서, 본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 액정주입장치의 각각의 체임버 간에 유사한 진공이 형성된 상태에서 이송이 이루어지는 액정주입장치 및 이를 사용한 액정주입방법을 제공하는 것이다.Accordingly, a technical object of the present invention is to provide a liquid crystal injection device and a liquid crystal injection method using the same, the transfer is carried out in a state in which a similar vacuum is formed between each chamber of the liquid crystal injection device.

본 발명은 액정표시장치의 탈기공정을 수행하는 탈기체임버; 상기 탈기체임버에서 상기 탈기공정이 수행된 상기 액정표시장치의 진공공정을 수행하는 진공체임버; 및 상기 진공체임버에서 상기 진공공정이 수행된 상기 액정표시장치의 주입공정을 수행하는 주입체임버를 포함하고, 상기 주입체임버에 상기 액정표시장치에 주입될 액정의 탈포공정을 수행하는 탈포체임버를 포함하며, 상기 탈기체임버, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 중 적어도 어느 하나의 체임버와, 그 체임버와 인접한 체임버로 상기 액정표시장치 또는 상기 액정의 이송 시 상기 체임버들 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입장치를 제공한다.The present invention is a degassing chamber for performing a degassing process of the liquid crystal display device; A vacuum chamber performing a vacuum process of the liquid crystal display device in which the degassing process is performed in the degassing chamber; And an injection chamber for performing an injection process of the liquid crystal display device in which the vacuum process is performed in the vacuum chamber, and a defoaming chamber for performing a defoaming process of liquid crystal to be injected into the liquid crystal display device in the injection chamber. At least one chamber of the degassing chamber, the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber, and a chamber adjacent to the chamber may form a similar vacuum inside the chambers when the liquid crystal display or the liquid crystal is transferred. It provides a liquid crystal injection device characterized in that.

상기 탈기체임버, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 각각에 접속된 드라이펌프; 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 각각에 접속된 터보분자펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.A dry pump connected to each of the degassing chamber, the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber; And a turbomolecular pump connected to each of the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber.

여기서, 상기 탈기체임버 및 상기 진공체임버 각각에 접속된 상기 드라이펌프에 의해 상기 탈기체임버 내부 및 상기 진공체임버 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 한다.Here, a similar vacuum is formed in the degassing chamber and the inside of the vacuum chamber by the dry pump connected to each of the degassing chamber and the vacuum chamber.

구체적으로, 상기 탈기체임버 내부 및 상기 진공체임버 내부는 저진공이 형성되는 것을 특징으로 한다.Specifically, the inside of the degassing chamber and the inside of the vacuum chamber is characterized in that the low vacuum is formed.

한편, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 각각에 접속된 상기 터보분자펌프에 의해 상기 진공체임버 내부, 상기 주입체임버 내부 및 상기 탈포체임버 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 한다.On the other hand, the inside of the vacuum chamber, the injection chamber and the inside of the degassing chamber by the turbo molecular pump connected to each of the vacuum chamber, the injection chamber and the degassing chamber is characterized in that a similar vacuum is formed.

구체적으로, 상기 진공체임버 내부, 상기 주입체임버 내부 및 상기 탈포체임버 내부는 고진공 또는 초고진공이 형성되는 것을 특징으로 한다.Specifically, the inside of the vacuum chamber, the inside of the injection chamber and the inside of the defoaming chamber is characterized in that the high vacuum or ultra-high vacuum is formed.

본 발명은 액정이 미주입된 액정표시장치의 탈기공정을 탈기체임버에서 수행하는 단계; 상기 탈기공정이 수행된 상기 액정표시장치의 진공공정을 진공체임버에서 수행하는 단계; 상기 액정표시장치에 주입될 상기 액정의 탈포공정을 탈포체임버에서 수행하는 단계; 상기 진공공정이 수행된 상기 액정표시장치에 상기 탈포공정이 수행된 상기 액정을 주입하는 주입공정을 주입체임버에서 수행하는 단계를 포 함하며, 상기 탈기체임버, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 중 적어도 어느 하나의 체임버와, 그 체임버와 인접한 체임버로 상기 액정표시장치 또는 상기 액정의 이송 시 상기 체임버들 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입방법을 제공한다.The present invention comprises the steps of performing a degassing process of the liquid crystal display device is not injected into the liquid crystal chamber; Performing a vacuum process of the liquid crystal display device in which the degassing process is performed in a vacuum chamber; Performing a defoaming process of the liquid crystal to be injected into the liquid crystal display in a defoaming chamber; Including an injection chamber for injecting the liquid crystal subjected to the defoaming step to the liquid crystal display device subjected to the vacuum process in the injection chamber, wherein the degassing chamber, the vacuum chamber, the injection chamber and the defoaming At least one of the chambers and the chamber adjacent to the chamber provides a liquid crystal injection method characterized in that a similar vacuum is formed inside the chambers during the transfer of the liquid crystal display or the liquid crystal.

상기 탈기공정이 끝나기 전에 상기 진공체임버 내부를 상기 탈기체임버 내부와 유사한 진공으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.The method may further include forming the inside of the vacuum chamber into a vacuum similar to the inside of the degassing chamber before the degassing process is completed.

구체적으로, 상기 탈기체임버 및 상기 진공체임버에 각각에 접속된 드라이펌프를 이용하여 상기 탈기체임버 내부 및 상기 진공체임버 내부를 저진공으로 형성하는 것을 특징으로 한다.Specifically, the inside of the degassing chamber and the inside of the vacuum chamber are formed at low vacuum by using a dry pump connected to each of the degassing chamber and the vacuum chamber.

한편, 상기 진공공정 및 상기 탈포공정이 끝나기 전에 상기 주입체임버 내부를 상기 진공체임버 내부 및 상기 탈포체임버 내부 중 적어도 어느 하나와 유사한 진공으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 한다.On the other hand, before the vacuum process and the degassing step is completed, the injection chamber is characterized in that it further comprises the step of forming a vacuum similar to at least any one of the inside of the vacuum chamber and the inside of the defoaming chamber.

구체적으로, 상기 진공체임버, 상기 탈포체임버 및 상기 주입체임버 각각에 접속된 터보분자펌프를 이용하여 상기 진공체임버 내부, 상기 탈포체임버 내부 및 상기 주입체임버 내부를 고진공 또는 초고진공으로 형성하는 것을 특징으로 한다.Specifically, the inside of the vacuum chamber, the inside of the defoaming chamber and the inside of the injection chamber using a turbo molecular pump connected to each of the vacuum chamber, the degassing chamber and the injection chamber are characterized in that the high vacuum or ultra-high vacuum is formed. .

본 발명의 다른 특징들은 첨부한 도면들을 참조한 실시예에 대한 설명을 통하여 명백하게 드러나게 될 것이다. 이하, 첨부한 도면들을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예에 대하여 설명한다.Other features of the present invention will become apparent from the description of the embodiments with reference to the accompanying drawings. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도1은 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치를 나타낸 평면도이고, 도2는 도1의 Ⅱ-Ⅱ'선에 따른 단면도이다.1 is a plan view illustrating a liquid crystal display according to an exemplary embodiment of the present invention, and FIG. 2 is a cross-sectional view taken along line II-II 'of FIG. 1.

도1 및 도2를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정표시장치(10)는 액정(20)을 사이에 두고 실란트(30)로 인해 합착된 칼라필터기판(60) 및 박막트랜지스터기판(70)을 포함하고 있다.1 and 2, a liquid crystal display device 10 according to an exemplary embodiment of the present invention includes a color filter substrate 60 and a thin film transistor substrate bonded by a sealant 30 with a liquid crystal 20 interposed therebetween. 70).

액정(20)은 실란트(30)에 의해 마련되는 폐쇄영역 내에 배치되어 있으며 칼라필터기판(60)의 공통전극으로부터의 공통전압과 박막트랜지스터기판(70)의 화소전극으로부터의 화소전압의 차이에 의해 회전하여 광투과량을 조절한다. 이를 위해, 액정(20)은 유전율 이방성 및 굴절률 이방성을 갖는 물질로 이루어진다.The liquid crystal 20 is disposed in a closed area provided by the sealant 30 and is formed by a difference between the common voltage from the common electrode of the color filter substrate 60 and the pixel voltage from the pixel electrode of the thin film transistor substrate 70. Rotate to adjust the light transmittance. To this end, the liquid crystal 20 is made of a material having dielectric anisotropy and refractive index anisotropy.

실란트(30)는 에폭시 수지 등으로 이루어지며 열에 의해 경화되는 열경화성실란트(40)와 자외선에 의해 경화되는 자외선경화성실란트(50)를 포함하고 있다.The sealant 30 is made of an epoxy resin or the like and includes a thermosetting sealant 40 that is cured by heat and an ultraviolet curable sealant 50 that is cured by ultraviolet light.

열경화성실란트(40)는 액정(20)이 주입되는 주입구를 제외한 액정표시장치(10)의 외곽을 따라 형성되어 있다. 이러한 열경화성실란트(40)는 칼라필터기판(60) 또는 박막트랜지스터기판(70) 상에 도포된 후 소정의 시간(예를 들어, 1시간) 동안의 소정의 열(예를 들어, 120℃)에 의해 경화되어 형성된다.The thermosetting sealant 40 is formed along the periphery of the liquid crystal display 10 except for the injection hole into which the liquid crystal 20 is injected. The thermosetting sealant 40 is applied to the color filter substrate 60 or the thin film transistor substrate 70 and then to a predetermined heat (for example, 120 ° C.) for a predetermined time (for example, 1 hour). Hardened | cured and formed.

자외선경화성실란트(50)는 액정(20)이 주입되는 주입구에 형성되어 있다. 여기서, 자외선경화성실란트(50)는 열경화성실란트(40)와 접촉되도록 형성된다. 이 때문에, 자외선경화성실란트(50) 및 열경화성실란트(40)로 인하여 폐쇄영역이 형성되며 이 폐쇄영역 내에 액정(20)이 배치된다. 이러한 자외선경화성실란트(50)는 자외선경화성실란트(50)를 담고 있는 용기에 침지된 후 소정의 시간 동안의 소정의 자외선 조사량에 의해 경화되어 형성된다.The ultraviolet curable sealant 50 is formed at an injection hole into which the liquid crystal 20 is injected. Here, the ultraviolet curable sealant 50 is formed to be in contact with the thermosetting sealant 40. For this reason, a closed region is formed by the ultraviolet curable sealant 50 and the thermosetting sealant 40, and the liquid crystal 20 is disposed in the closed region. The ultraviolet curable sealant 50 is hardened by a predetermined amount of ultraviolet radiation for a predetermined time after being immersed in a container containing the ultraviolet curable sealant 50.

칼라필터기판(60)은 유리나 플라스틱 같은 제1기판 상에 빛샘 방지를 위한 블랙매트릭스, 색구현을 위한 칼라필터, 액정(20)에 공통전압을 인가하기 위한 공통전극, 셀갭을 유지하기 위한 컬럼스페이서를 포함하고 있다.The color filter substrate 60 may include a black matrix for preventing light leakage, a color filter for color implementation, a common electrode for applying a common voltage to the liquid crystal 20, and a column spacer for maintaining a cell gap on a first substrate such as glass or plastic. It includes.

블랙매트릭스는 외부광 차단 및 박막트랜지스터의 광누설전류를 막기 위해 광을 차단할 수 있는 검은색을 띠는 금속 또는 유기물질로 형성된다.The black matrix is formed of black metal or organic material that can block light in order to block external light and prevent light leakage current of the thin film transistor.

칼라필터는 적, 녹, 청색칼라필터를 구비하며 이들 각각은 특정 파장의 광을 투과 또는 흡수하는 적, 녹, 청색안료를 포함하고 있다. 적, 녹, 청색칼라필터 각각을 통과한 적, 녹, 청색광의 가법혼색을 통해 색이 구현된다.Color filters include red, green, and blue color filters, each of which contains red, green, and blue pigments that transmit or absorb light of a particular wavelength. Color is realized through additive color mixing of red, green, and blue light passing through each of the red, green, and blue color filters.

공통전극은 액정(20)에 공통전압을 인가하기 위해 ITO(Indium Tin Oxide) 또는 IZO(Indium Zinc Oxide)와 같은 투명한 도전성 금속으로 형성된다.The common electrode is formed of a transparent conductive metal such as indium tin oxide (ITO) or indium zinc oxide (IZO) to apply a common voltage to the liquid crystal 20.

컬럼스페이서는 유기물질로 형성되어 있으며 셀갭을 유지한다.The column spacer is formed of an organic material and maintains a cell gap.

박막트랜지스터기판(70)은 유리나 플라스틱 같은 제2기판 상에 데이타선 및 게이트선의 교차로 인해 정의된 화소영역에 형성된 박막트랜지스터, 박막트랜지스터와 접속된 화소전극 및 스토리지전극을 포함하고 있다.The thin film transistor substrate 70 includes a thin film transistor, a pixel electrode connected to the thin film transistor, and a storage electrode formed in a pixel region defined by the intersection of data lines and gate lines on a second substrate such as glass or plastic.

박막트랜지스터는 도3에 도시된 바와 같이, 게이트선(80) 및 데이타선(90)과 접속되어 형성되어 있다. 이러한 박막트랜지스터(TFT)는 게이트선(80)으로부터 공급되는 스캔신호에 응답하여 데이타선(90)으로부터 공급되는 화상신호를 화소전극에 전달한다.As shown in FIG. 3, the thin film transistor is formed in connection with the gate line 80 and the data line 90. The thin film transistor TFT transfers an image signal supplied from the data line 90 to the pixel electrode in response to a scan signal supplied from the gate line 80.

화소전극은 자신에게 충전된 화상신호를 사용하여 액정(20)에 화소전압을 인가한다. 이를 위해, 화소전극은 ITO 또는 IZO와 같은 투명한 도전성 금속으로 형성된다. 이러한 화소전극과 액정(20), 공통전극으로 인해 액정셀(Clc)이 형성된다.The pixel electrode applies a pixel voltage to the liquid crystal 20 using the image signal charged therein. For this purpose, the pixel electrode is formed of a transparent conductive metal such as ITO or IZO. The liquid crystal cell Clc is formed by the pixel electrode, the liquid crystal 20, and the common electrode.

스토리지전극은 자신과 접속된 스토리지선으로부터의 공통전압을 사용하여 화소전극에 충전된 화소전압을 한 프레임동안 유지시킨다. 이러한 스토리지전극과 화소전극, 스토리지전극과 화소전극 사이의 적어도 하나의 절연막으로 인해 스토리지캐패시터(Cst)가 형성된다.The storage electrode maintains the pixel voltage charged in the pixel electrode for one frame using a common voltage from the storage line connected thereto. The storage capacitor Cst is formed by at least one insulating layer between the storage electrode and the pixel electrode and between the storage electrode and the pixel electrode.

한편, 액정표시장치(10)의 제조공정에 대해 설명하면, 먼저 제1기판 상에 블랙매트릭스, 칼라필터, 공통전극, 컬럼스페이서를 포함하는 칼라필터어레이를 형성함과 아울러 제2기판 상에 게이트선(80) 및 데이타선(90), 박막트랜지스터(TFT), 화소전극, 스토리지전극을 포함하는 박막트랜지스터어레이를 형성한다. 이어, 제1기판 또는 제2기판 상에 열경화성실란트(40)를 도포한 후 제1 및 제2기판을 합착한 다음 열경화성실란트(40)를 열경화한 후 절단한다. 이후, 액정(20)을 주입하고 주입구를 자외선경화성실란트(50)를 담고 있는 용기에 침지한 후 자외선경화성실란트(50)를 자외선경화하여 액정표시장치(10)를 제조한다. 여기서, 액정표시장치(10)로의 액정(20)의 주입을 위해 도4에 도시된 바와 같은 액정주입장치가 사용된다.Meanwhile, the manufacturing process of the liquid crystal display device 10 will be described. First, a color filter array including a black matrix, a color filter, a common electrode, and a column spacer is formed on a first substrate and a gate is formed on the second substrate. A thin film transistor array including a line 80 and a data line 90, a thin film transistor (TFT), a pixel electrode, and a storage electrode is formed. Subsequently, the thermosetting sealant 40 is coated on the first substrate or the second substrate, the first and second substrates are bonded together, and the thermosetting sealant 40 is thermally cured and then cut. Thereafter, the liquid crystal 20 is injected, the injection hole is immersed in a container containing the ultraviolet curable sealant 50, and the ultraviolet curable sealant 50 is ultraviolet cured to manufacture the liquid crystal display device 10. Here, a liquid crystal injection device as shown in FIG. 4 is used to inject the liquid crystal 20 into the liquid crystal display device 10.

도4는 본 발명의 실시예에 따른 액정주입장치를 개략적으로 나타낸 평면도이다.4 is a plan view schematically showing a liquid crystal injection apparatus according to an embodiment of the present invention.

도4를 참조하면, 본 발명의 실시예에 따른 액정주입장치(100)는 제1게이트밸브(150)를 사이에 두고 접속된 탈기체임버(110) 및 진공체임버(120), 제3게이트밸브(170)와 접속된 탈포체임버(130), 제2게이트밸브(160)를 사이에 두고 진공체임버(120)와 접속됨과 아울러 제3게이트밸브(170)를 사이에 두고 탈포체임버(130)와 접속된 주입체임버(140)를 포함하고 있다.4, the liquid crystal injection device 100 according to an embodiment of the present invention is the degassing chamber 110, the vacuum chamber 120, the third gate valve (connected via the first gate valve 150) The degassing chamber 130 and the second gate valve 160 connected to each other are connected to the vacuum chamber 120, and the degassing chamber 130 is connected to the third gate valve 170. The injection chamber 140 is included.

탈기체임버(110)는 소정 시간 동안 탈기체임버(110) 내부의 저진공(3.3*103Pa ~ 105Pa) 및 열을 이용해 액정이 미주입된 액정표시장치 내의 기체를 외부로 배출하는 탈기공정을 수행하는 체임버이다. 이를 위해, 탈기체임버(110)는 드라이펌프(dry pump)(180)와 접속된 제1 및 제2밸브(260, 270)에 각각 접속되어 있다.The degassing chamber 110 uses a low vacuum (3.3 * 10 3 Pa ~ 10 5 Pa) and heat inside the degassing chamber 110 for a predetermined time to degas the gas in the liquid crystal display device into which no liquid crystal is injected. To perform the chamber. To this end, the degassing chamber 110 is connected to the first and second valves 260 and 270 connected to the dry pump 180, respectively.

드라이펌프(180)는 초기진공 및 저진공 형성을 위한 펌프이다. 제1밸브(260)는 초기진공 형성을 위한 펌핑용 라인밸브이다. 제2밸브(270)는 저진공 형성을 위한 펌핑용 라인밸브이다.The dry pump 180 is a pump for initial vacuum and low vacuum formation. The first valve 260 is a pumping line valve for initial vacuum formation. The second valve 270 is a pumping line valve for forming a low vacuum.

탈기체임버(110)는 액정이 미주입된 액정표시장치를 소정의 온도로 가열하기 위해 적외선가열램프와 같은 히터(250)를 포함하고 있다. 이러한 히터(250)에 의해 액정이 미주입된 액정표시장치의 유기/무기물질들의 물리화학적 성질이 변하지 않는 온도 범위 내에서 액정이 미주입된 액정표시장치가 가열된다. 여기서, 열 즉, 온도는 액정이 미주입된 액정표시장치의 탈기를 돕기 위한 교호작용의 인자이며 이 열을 진공과 함께 운용하면 낮은 온도로도 높은 온도의 효과를 거둘 수 있다.The degassing chamber 110 includes a heater 250 such as an infrared heating lamp for heating the liquid crystal display device into which a liquid crystal is not injected to a predetermined temperature. The liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected is heated by the heater 250 within a temperature range in which the physicochemical properties of the organic / inorganic materials of the liquid crystal display device are not injected. Here, the heat, that is, the temperature, is a factor of the interaction to assist the degassing of the liquid crystal display in which the liquid crystal is not injected, and when the heat is operated together with the vacuum, a high temperature can be obtained even at a low temperature.

탈기체임버(110)는 탈기체임버(110) 내의 압력 및 열을 측정하기 위해 초기진공도를 측정하여 표시하는 진공스위치(vacuum switch)(200), 목표압력값과 실측압력값을 표시함과 아울러 온도를 측청한 후 이 값을 압력으로 환산하여 표시하는 다수개의 써모커플게이지(thermo couple gauge)(210), 온도를 측정하여 표시하는 열게이지(heat gauge)(220)를 더 포함하고 있다.The degassing chamber 110 displays a vacuum switch 200 for measuring and displaying an initial vacuum degree to measure pressure and heat in the degassing chamber 110, and displays a target pressure value and an actual pressure value, as well as a temperature. It further includes a plurality of thermocouple gauges (210) for measuring and displaying this value in terms of pressure, and a heat gauge (220) for measuring and displaying temperature.

또한, 탈기체임버(110)는 탈기공정진척도를 작업자에게 알려주기 위해 제1 내지 제3램프(350, 360, 370)를 더 포함하고 있다.In addition, the degassing chamber 110 further includes first to third lamps 350, 360, and 370 to inform the worker of the progress of the degassing process.

제1램프(350)는 드라이펌프(180)에 의한 펌핑 단계를 표시하는 램프이다. 제2램프(360)는 히터(250)에 의한 가열 단계를 표시하는 램프이다. 제3램프(370)는 냉각 단계를 표시하는 램프이다. 이러한 제1 내지 제3램프(350, 360, 370)는 각각 온/오프되어 탈기공정진척도를 작업자에게 표시한다. 예를 들어, 제1램프(350)가 켜져있다면 현재 탈기체임버(110) 내에서는 드라이펌프(180)에 의해 펌핑이 진행되고 있다라는 것을 표시한다.The first lamp 350 is a lamp indicating a pumping step by the dry pump 180. The second lamp 360 is a lamp indicating a heating step by the heater 250. The third lamp 370 is a lamp indicating a cooling step. The first to third lamps 350, 360, and 370 are turned on and off, respectively, to display the progress of the degassing process to the worker. For example, if the first lamp 350 is turned on, it indicates that pumping is being performed by the dry pump 180 in the degassing chamber 110.

진공체임버(120)는 소정 시간 동안 진공체임버(120) 내부의 고진공(10-4Pa ~ 10-1Pa) 또는 초고진공(10-7Pa ~ 10-4Pa)을 이용해 액정이 미주입된 액정표시장치 내를 고진공 또는 초고진공으로 만들어 주입공정이 가능하도록 하는 진공공정을 수행하는 체임버이다. 이를 위해, 진공체임버(120)는 드라이펌프(180)와 접속된 제3 및 제4밸브(280, 290)와 각각 접속됨과 아울러 제6밸브(310)를 사이에 두고 드라이펌프(180)와 접속된 터보분자펌프(turbo molecular pump)(190)와 접속된 제5밸브(300)와 접속되어 있다.The vacuum chamber 120 is a liquid crystal in which the liquid crystal is not injected using a high vacuum (10 -4 Pa to 10 -1 Pa) or an ultra high vacuum (10 -7 Pa to 10 -4 Pa) inside the vacuum chamber 120 for a predetermined time. It is a chamber that performs a vacuum process to enable the injection process by making the inside of the display device high or ultra high vacuum. To this end, the vacuum chamber 120 is connected to the third and fourth valves 280 and 290 respectively connected to the dry pump 180, and is connected to the dry pump 180 with the sixth valve 310 interposed therebetween. It is connected to the fifth valve 300 connected to the turbo molecular pump 190.

제3밸브(280)는 초기진공 형성을 위한 펌핑용 라인밸브이다. 제4밸브(290)는 저진공 형성을 위한 펌핑용 라인밸브이다. 제6밸브(310)는 드라이펌프(180)와 터보분자펌프(190)를 연결하는 라인밸브이다. 터보분자펌프(190)는 고진공 또는 초고진공 형성을 위한 펌프이다. 제5밸브(300)는 고진공 또는 초고진공 형성을 위한 펌핑 용 라인밸브이다.The third valve 280 is a pumping line valve for initial vacuum formation. The fourth valve 290 is a pumping line valve for forming a low vacuum. The sixth valve 310 is a line valve connecting the dry pump 180 and the turbo molecular pump 190. Turbomolecular pump 190 is a pump for high vacuum or ultra-high vacuum formation. The fifth valve 300 is a pumping line valve for forming a high or ultra high vacuum.

진공체임버(120)는 진공체임버(120) 내의 압력을 측정하기 위해 진공스위치(200), 다수개의 써모커플게이지(210), 이온량을 측정한 후 이 이온량을 압력으로 환산하여 표시하는 이온게이지(230)를 포함하고 있다.The vacuum chamber 120 measures the pressure in the vacuum chamber 120, the vacuum switch 200, a plurality of thermocouple gauges 210, the ion gauge after measuring the amount of ions and converting the ion amount to the pressure (230) ) Is included.

또한, 진공체임버(120)는 진공공정진척도를 작업자에게 알려주기 위해 제4 내지 제8램프(380, 390, 400, 410, 420)를 더 포함하고 있다.In addition, the vacuum chamber 120 further includes fourth to eighth lamps 380, 390, 400, 410, and 420 to inform the worker of the progress of the vacuum process.

제4램프(380)는 드라이펌프(180)에 의한 펌핑 단계를 표시하는 램프이다. 제5램프(390)는 드라이펌프(180)에서 터보분자펌프(190)로의 전환을 위해 제6밸브(310)가 열릴 수 있는 압력에 도달하였다라는 단계를 표시하는 램프이다. 제6램프(400)는 터보분자펌프(190)에 의한 펌핑 단계를 표시하는 램프이다. 제7램프(410)는 터보분자펌프(190)에 의한 펌핑 완료 후 다음 단계로의 전환이 가능함을 표시하는 램프이다. 제8램프(420)는 N2 등의 가스를 밴트하는 단계를 표시하는 램프이다. 이러한 제4 내지 제8램프(380, 390, 400, 410, 420)는 각각 온/오프되어 진공공정진척도를 작업자에게 표시한다.The fourth lamp 380 is a lamp indicating a pumping step by the dry pump 180. The fifth lamp 390 is a lamp indicating that the sixth valve 310 has reached a pressure that can be opened for switching from the dry pump 180 to the turbomolecular pump 190. The sixth lamp 400 is a lamp indicating a pumping step by the turbomolecular pump 190. The seventh lamp 410 is a lamp indicating that switching to the next step is possible after the pumping by the turbo molecular pump 190 is completed. The eighth lamp 420 is a lamp indicating a step of venting a gas such as N2. The fourth to eighth lamps 380, 390, 400, 410, and 420 are turned on and off, respectively, to display the progress of the vacuum process to the worker.

탈포체임버(130)는 소정 시간 동안 탈포체임버(130) 내부의 고진공 또는 초고진공을 이용해 액정에 포함되어 있는 기체를 탈포하는 탈포공정을 수행하는 체임버이다. 이를 위해, 탈포체임버(130)는 드라이펌프(180)에 접속된 터보분자펌프(190)에 접속된 제7 및 제8밸브(320, 330)와 각각 접속되어 있다.The defoaming chamber 130 is a chamber for performing a defoaming process of defoaming the gas contained in the liquid crystal by using a high or ultra high vacuum inside the defoaming chamber 130 for a predetermined time. To this end, the defoaming chamber 130 is connected to the seventh and eighth valves 320 and 330 connected to the turbomolecular pump 190 connected to the dry pump 180, respectively.

제7밸브(320)는 초기진공 및 저진공 형성을 위한 펌핑용 라인밸브이다. 제8밸브(330)는 고진공 또는 초고진공 형성을 위한 펌핑용 라인밸브이다.The seventh valve 320 is a pumping line valve for forming an initial vacuum and a low vacuum. The eighth valve 330 is a pumping line valve for forming a high or ultra high vacuum.

한편, 기존의 탈포체임버는 드라이펌프에 의해 탈포체임버 내를 저진공으로 형성하여 탈포공정을 진행하는 구조를 채택하고 있다. 즉, 기존의 탈포체임버는 터포분자펌프와 접속되지 않는 구조를 채택하고 있으므로 터보분자펌프에 의한 고진공 또는 초고진공을 형성할 수 없다.Meanwhile, the existing defoaming chamber adopts a structure in which the degassing chamber is formed at a low vacuum by a dry pump to perform a defoaming process. That is, the conventional defoaming chamber adopts a structure that is not connected to the turpo molecule pump, and thus cannot form a high vacuum or an ultra high vacuum by the turbo molecular pump.

그러나, 본 발명의 실시예에서는 탈포체임버(130)는 제8밸브(330)를 사이에 두고 터보분자펌프(190)와 접속되어 있다. 이 때문에, 탈포체임버(130) 내부는 진공체임버(120) 내부와 유사한 진공 즉, 고진공 또는 초고진공 형성이 가능하다.However, in the embodiment of the present invention, the defoaming chamber 130 is connected to the turbo molecular pump 190 with the eighth valve 330 interposed therebetween. For this reason, the inside of the degassing chamber 130 can be formed similar to the vacuum chamber 120, that is, high vacuum or ultra-high vacuum.

탈포체임버(130)는 탈포체임버(130) 내의 압력을 측정하기 위해 진공스위치(200), 써모커플게이지(210), 써모커플게이지(210)로 인식하지 못하는 진공을 수치화하며 목표압력값과 실측압력값을 표시하는 다수의 다이아프램게이지(diaphragm gauge)(240)를 포함하고 있다.The defoaming chamber 130 quantifies the vacuum not recognized by the vacuum switch 200, the thermocouple gauge 210, and the thermocouple gauge 210 to measure the pressure in the defoaming chamber 130, and the target pressure value and the measured pressure. It includes a number of diaphragm gauges 240 that display values.

또한, 탈포체임버(130)는 탈포공정진척도를 작업자에게 알려주기 위해 제14 내지 제18램프(480, 490, 500, 510, 520)를 더 포함하고 있다.In addition, the defoaming chamber 130 further includes the fourteenth to eighteenth lamps (480, 490, 500, 510, 520) to inform the worker of the progress of the defoaming process.

제14램프(480)는 탈포공정의 시작 가능을 표시하는 램프이다. 제15램프(490)는 드라이펌프(180) 및 터보분자펌프(190)의 펌핑 단계를 표시하는 램프이다. 제16램프(500)는 탈포공정이 어느 정도 진행된 후 완전한 탈포를 위한 추가탈포시간을 표시하는 램프이다. 제17램프(510)는 추가탈포 후 다음 단계로의 전환이 가능함을 표시하는 램프이다. 제18램프(520)는 N2 등의 가스를 밴트하는 단계를 표시하는 램프이다. 이러한 제14 내지 제18램프(480, 490, 500, 510, 520)는 각각 온/오프되어 탈포공정진척도를 작업자에게 표시한다.The fourteenth lamp 480 is a lamp indicating that the defoaming process can be started. The fifteenth lamp 490 is a lamp indicating a pumping step of the dry pump 180 and the turbomolecular pump 190. The sixteenth lamp 500 is a lamp indicating an additional defoaming time for complete defoaming after the defoaming process is performed to some extent. The seventeenth lamp 510 is a lamp indicating that switching to the next step is possible after the additional defoaming. The eighteenth lamp 520 is a lamp indicating a step of venting a gas such as N2. The fourteenth to eighteenth lamps 480, 490, 500, 510, and 520 are turned on and off, respectively, to display the progress of the defoaming process to the worker.

주입체임버(140)는 소정 시간 동안 주입체임버(140) 내부의 고진공 또는 초고진공을 이용해 액정이 미주입된 액정표시장치와 탈포된 액정을 접촉시켜 액정을 액정표시장치로 주입하는 주입공정을 수행하는 체임버이다. 이를 위해, 주입체임버(140)는 드라이펌프(180)와 접속된 터보분자펌프(190)와 접속된 제9밸브(340)와 접속되어 있다.The injection chamber 140 performs an injection process for injecting a liquid crystal into the liquid crystal display by contacting the liquid crystal display device into which the liquid crystal is not injected and the degassed liquid crystal using a high vacuum or an ultra high vacuum inside the injection chamber 140 for a predetermined time. It is a chamber. To this end, the injection chamber 140 is connected to a ninth valve 340 connected to the turbomolecular pump 190 connected to the dry pump 180.

제9밸브(340)는 초기진공 및 저진공, 고진공 또는 초고진공을 형성을 위한 펌핑용 라인밸브이다.The ninth valve 340 is a pumping line valve for forming an initial vacuum and a low vacuum, a high vacuum or an ultra high vacuum.

한편, 기존의 주입체임버는 드라이펌프에 의해 주입체임버 내를 저진공으로 형성하여 주입공정을 진행하는 구조를 채택하고 있다. 즉, 기존의 주입체임버는 터포분자펌프와 접속되지 않는 구조를 채택하고 있으므로 터보분자펌프에 의한 고진공 또는 초고진공을 형성할 수 없다.Meanwhile, the conventional injection chamber adopts a structure in which the inside of the injection chamber is formed at a low vacuum by a dry pump to perform the injection process. That is, the conventional injection chamber adopts a structure that is not connected to the turpo molecular pump, and thus cannot form a high vacuum or an ultra high vacuum by the turbo molecular pump.

그러나, 본 발명의 실시예에서는 주입체임버(140)는 제9밸브(340)를 사이에 두고 터보분자펌프(190)와 접속되어 있다. 이 때문에, 주입체임버(140) 내부는 진공체임버(120) 내부 및 탈포체임버(130) 내부와 유사한 진공 즉, 고진공 또는 초고진공 형성이 가능하다. 다시말하면, 주입체임버(140)는 진공체임버(120) 및 탈포체임버(130)와 유사한 진공, 즉 고진공 및 초고진공을 형성하므로 주입공정의 효율의 극대화 및 주입공정 시간을 단축할 수 있다. 또한, 이 때문에 액정미충진 등의 불량의 예방할 수 있다.However, in the embodiment of the present invention, the injection chamber 140 is connected to the turbo molecular pump 190 with the ninth valve 340 interposed therebetween. For this reason, the injection chamber 140 may be formed in a vacuum, that is, a high vacuum or an ultra high vacuum, similar to the inside of the vacuum chamber 120 and the degassing chamber 130. In other words, since the injection chamber 140 forms a vacuum similar to the vacuum chamber 120 and the degassing chamber 130, that is, high vacuum and ultra high vacuum, the injection chamber 140 may maximize the efficiency of the injection process and shorten the injection process time. For this reason, defects, such as a liquid crystal unfilled, can be prevented.

주입체임버(140)는 주입체임버(140) 내의 압력을 측정하기 위해 진공스위치(200), 써모커플게이지(210), 다수개의 다이아프램게이지(240)를 포함하고 있다.The injection chamber 140 includes a vacuum switch 200, a thermocouple gauge 210, and a plurality of diaphragm gauges 240 to measure the pressure in the injection chamber 140.

또한, 주입체임버(140)는 주입공정진척도를 작업자에게 알려주기 위해 제9 내지 제13램프(430, 440, 450, 460, 470)를 더 포함하고 있다.In addition, the injection chamber 140 further includes the ninth to thirteenth lamps 430, 440, 450, 460, and 470 to inform the worker of the progress of the injection process.

제9램프(430)는 드라이펌프(180) 및 터보분자펌프(190)의 펌핑 단계를 표시하는 램프이다. 제10램프(440)는 터보분자펌프(190)의 펌핑 완료 후 다음 단계로의 전환이 가능함을 표시하는 램프이다. 제11램프(450)는 고진공 또는 초고진공 상태에서 액정을 자연 주입시키는 시간인 자연주입시간을 표시하는 램프이다. 제12램프(460)는 액정의 완전한 충진을 위해 N2를 주입체임버(140) 내로 투입하는 단계를 표시하는 램프이다. 제13램프(470)는 N2에 의해 액정이 완전히 충진되는 시간인 추가주입시간을 표시하는 램프이다. 이러한 제9 내지 제13램프(430, 440, 450, 460, 470)는 각각 온/오프되어 주입공정진척도를 작업자에게 표시한다.The ninth lamp 430 is a lamp indicating a pumping step of the dry pump 180 and the turbo molecular pump 190. The tenth lamp 440 is a lamp indicating that switching to the next step is possible after the pumping of the turbomolecular pump 190 is completed. The eleventh lamp 450 is a lamp for displaying a natural injection time, which is a time for naturally injecting the liquid crystal in a high or ultra high vacuum state. The twelfth lamp 460 is a lamp indicating the step of introducing N2 into the injection chamber 140 to completely fill the liquid crystal. The thirteenth lamp 470 is a lamp indicating an additional injection time which is a time at which the liquid crystal is completely filled by N2. The ninth to thirteenth lamps 430, 440, 450, 460, and 470 are turned on and off, respectively, to indicate the progress of the injection process to the worker.

이러한 액정주입장치(100)을 사용한 액정주입방법에 대해 구체적으로 설명하면, 먼저, 액정이 미주입된 액정표시장치를 탈기체임버(110)로 로딩한다. 이어, 탈기체임버(110)는 드라이펌프(180)를 사용하여 탈기체임버(110) 내부를 저진공으로 형성함과 아울러 히터(250)를 사용하여 액정이 미주입된 액정표시장치를 소정의 온도로 가열하여 탈기공정을 수행한다.The liquid crystal injection method using the liquid crystal injection device 100 will be described in detail. First, the liquid crystal display device without the liquid crystal is loaded into the degassing chamber 110. Subsequently, the degassing chamber 110 forms a low vacuum inside the degassing chamber 110 by using the dry pump 180 and uses the heater 250 to set the liquid crystal display device into which the liquid crystal is not injected at a predetermined temperature. It is heated to perform the degassing process.

한편, 진공체임버(120)는 탈기공정이 끝나기 전에 탈기체임버(110) 내부와 유사한 진공 즉, 저진공을 형성한 후 제1게이트밸브(150)가 열릴때까지 대기 상태를 유지한다. 탈기체임버(110)에서의 탈기공정이 끝남과 동시에 제1게이트밸브(150)가 열리면서 액정이 미주입된 액정표시장치가 탈기체임버(110)로부터 진공체임버(120)로 이송된다.Meanwhile, the vacuum chamber 120 maintains the standby state until the first gate valve 150 is opened after forming a vacuum, that is, a low vacuum, similar to the inside of the degassing chamber 110 before the degassing process is completed. At the same time as the degassing process in the degassing chamber 110 ends, the first gate valve 150 is opened, and the liquid crystal display device, in which no liquid crystal is injected, is transferred from the degassing chamber 110 to the vacuum chamber 120.

기존의 탈기체임버로부터의 진공체임버로의 액정이 미주입된 액정표시장치의 이송 방식은 탈기체임버에서 저진공 및 열을 이용한 탈기공정이 진행된 후 탈기체임버 내부가 대기압으로 환원된 상태가 된 후 진공체임버로 액정이 미주입된 액정표시장치가 이송되는 방식이다.The transfer method of the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected from the degassing chamber into the vacuum chamber is a vacuum chamber after the inside of the degassing chamber is reduced to atmospheric pressure after the degassing process using low vacuum and heat is performed in the degassing chamber. As a result, a liquid crystal display in which no liquid crystal is injected is transferred.

그러나, 본 발명의 실시예에서는 탈기체임버(110)로부터의 진공체임버(120)로의 액정이 미주입된 액정표시장치의 이송 방식은 탈기체임버(110) 내부와 진공체임버(120) 내부가 유사한 진공 즉, 저진공이 형성된 후 이송되는 방식이다. 이는, 상술한 바와 같이, 진공체임버(120) 내부가 탈기공정이 끝나기 전에 탈기체임버(110) 내부와 유사한 진공이 형성되어 있기 때문이다. 이로 인해, 탈기체임버(110)에서의 히터(250)에 의한 액정이 미주입된 액정표시장치의 가열 효과가 진공체임버로 전달되므로 진공체임버(120) 내에서도 액정이 미주입된 액정표시장치가 가지는 열이 보존된다. 또한, 탈기체임버(110)에서 대기압으로 환원되지 않고 저진공이 유지된 상태에서 액정이 미주입된 액정표시장치가 진공체임버(120)로 이송되므로 작업시간을 단축할 수 있다.However, in the exemplary embodiment of the present invention, the transfer method of the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected from the degassing chamber 110 to the vacuum chamber 120 is similar to that in the degassing chamber 110 and the inside of the vacuum chamber 120. After low vacuum is formed, it is transferred. This is because, as described above, a vacuum similar to the inside of the degassing chamber 110 is formed before the degassing process is completed in the inside of the vacuum chamber 120. As a result, the heating effect of the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected by the heater 250 in the degassing chamber 110 is transmitted to the vacuum chamber, so that the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected in the vacuum chamber 120 has heat. This is preserved. In addition, since the liquid crystal display is not injected into the vacuum chamber 120 is transferred to the vacuum chamber 120 in a state in which the low vacuum is not reduced to atmospheric pressure in the degassing chamber 110, the working time can be shortened.

액정이 미주입된 액정표시장치가 진공체임버(120)로 이송된 후 제1게이트밸브(150)가 닫히면, 진공체임버(120)는 드라이펌프(180)와 터보분자펌프(190)를 이용해 액정이 미주입된 액정표시장치 내를 고진공 또는 초고진공으로 만드는 진공공정을 수행한다.When the first gate valve 150 is closed after the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected is transferred to the vacuum chamber 120, the vacuum chamber 120 uses the dry pump 180 and the turbo molecular pump 190 to form the liquid crystal. A vacuum process is performed to make the uninjected liquid crystal display device high vacuum or ultra high vacuum.

이 때, 탈포체임버(130)는 도5에 도시된 바와 같이, 탈포공정을 수행한다. 구체적으로, 탈포체임버(130) 내로는 액정(20)이 담긴 용기(530)가 로딩된다. 이 용기(530) 내에는 액정(20) 외에 액정(20)과 반응하지 않는 강체구(540)가 혼입되어 있다. 여기서, 강체구(540)로서는 알루미늄, 테플론 등이 사용될 수 있다.At this time, the defoaming chamber 130 performs a defoaming process, as shown in FIG. In detail, the container 530 containing the liquid crystal 20 is loaded into the defoaming chamber 130. In addition to the liquid crystal 20, a rigid sphere 540 that does not react with the liquid crystal 20 is mixed in the container 530. Here, aluminum, Teflon, or the like may be used as the rigid sphere 540.

이러한 액정(20) 및 강체구(540)가 담기 용기(530)가 탈포체임버(130)로 로딩되면 탈포체임버(130)는 드라이펌프(180)와 터보분자펌프(190)를 이용해 진공체임버(120) 내부와 유사한 진공, 즉, 고진공 또는 초고진공을 형성한다. 이어, 용기(530) 하부에 위치하는 초음파발생기(550)에 의해 강체구(540)의 유동 및 액정(20)의 온도 상승으로 인하여 액정(20) 내에 용존하는 기포를 신속히 제거된다. 탈포공정이 진행된 후 탈포체임버(130)는 고진공 또는 초고진공을 제3게이트밸브(170)가 열릴 때까지 계속적으로 유지한다. 여기서, 탈포공정은 드라이펌프(180)에 의해 저진공이 형성된 후 수행될 수 있으며 탈포공정이 진행된 후 터보분자펌프(190)에 의해 고진공 또는 초고진공이 형성된 후 이 진공상태를 제3게이트밸브(170)가 열릴 때까지 유지할 수 있다.When the liquid crystal 20 and the rigid sphere 540 contain the container 530 is loaded into the defoaming chamber 130, the defoaming chamber 130 is a vacuum chamber 120 using a dry pump 180 and a turbo molecular pump 190 ) To form a vacuum similar to the inside, ie high or ultra high vacuum. Subsequently, bubbles dissolved in the liquid crystal 20 are rapidly removed by the ultrasonic generator 550 disposed under the container 530 due to the flow of the rigid sphere 540 and the temperature rise of the liquid crystal 20. After the defoaming process is performed, the defoaming chamber 130 continuously maintains a high vacuum or ultra high vacuum until the third gate valve 170 is opened. Here, the defoaming process may be performed after the low vacuum is formed by the dry pump 180 and after the high defoaming process is performed by the turbomolecular pump 190, the high or ultra high vacuum is formed in the third gate valve ( And hold until 170 is opened.

한편, 주입체임버(140) 역시 진공체임버(120)에서의 진공공정 및 탈포체임버(130)에서의 탈포공정이 끝나기 전에 진공체임버(120) 내부 및 탈포체임버(130) 내부와 유사한 진공, 즉, 고진공 또는 초고진공을 형성한 후 대기 상태를 유지한다. 진공체임버(120)에서의 진공공정이 끝남과 동시에 제2게이트밸브(160)가 열리면서 액정이 미주입된 액정표시장치가 진공체임버(120)로부터 주입체임버(140)로 이송된다.Meanwhile, the injection chamber 140 also has a vacuum similar to that of the inside of the vacuum chamber 120 and the inside of the degassing chamber 130 before the end of the vacuum process in the vacuum chamber 120 and the degassing process in the degassing chamber 130, that is, high vacuum. Alternatively, after forming an ultra-high vacuum, it maintains a standby state. As soon as the vacuum process in the vacuum chamber 120 is finished, the second gate valve 160 is opened to transfer the liquid crystal display device into which the liquid crystal is not injected, from the vacuum chamber 120 to the injection chamber 140.

기존의 진공체임버로부터의 주입체임버로의 액정이 미주입된 액정표시장치의 이송 방식은 터보분자펌프가 없는 즉, 드라이펌프에 의해서 저진공이 형성된 주입 체임버로의 이송 방식이기 때문에 제2게이트밸브가 열릴 때 1차적으로 진공체임버의 고진공이 파괴된다.Since the transfer method of the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected from the vacuum chamber into the injection chamber is no turbomolecular pump, that is, the transfer method to the injection chamber in which the low vacuum is formed by the dry pump, the second gate valve When opened, the high vacuum of the vacuum chamber is primarily destroyed.

그러나, 본 발명의 실시예에서는 진공체임버(120)로부터의 주입체임버(140)의 액정이 미주입된 액정표시장치의 이송 방식은 주입체임버(140)내부와 진공체임버(120)내부가 유사한 진공 즉, 고진공 또는 초고진공이 형성된 후 이송하는 방식이다. 이는, 주입체임버(140) 내부가 진공공정이 끝나기 전에 진공체임버(120) 내부와 유사한 진공으로 형성되기 때문이다. 이로 인해, 탈기체임버(110)에서의 가열 효과가 주입체임버(140)까지 전달되므로 액정의 충진이 잘될 수 있다. 또한, 고진공 또는 초고진공이 파괴되기 않은 상태에서의 이송이므로 효율적으로 액정주입장비(100)를 운용할 수 있을 뿐더러 주입공정 시간을 단축할 수 있다.However, in the exemplary embodiment of the present invention, the transfer method of the liquid crystal display device in which the liquid crystal of the injection chamber 140 is not injected from the vacuum chamber 120 is similar to that in which the interior of the injection chamber 140 and the interior of the vacuum chamber 120 are similar. , High vacuum or ultra high vacuum is formed and then transferred. This is because the inside of the injection chamber 140 is formed with a vacuum similar to the inside of the vacuum chamber 120 before the vacuum process is completed. Therefore, the heating effect in the degassing chamber 110 is transmitted to the injection chamber 140, so that the filling of the liquid crystal may be well. In addition, since the high vacuum or ultra-high vacuum is transported in a state in which it is not destroyed, the liquid crystal injection equipment 100 can be efficiently operated and the injection process time can be shortened.

한편, 탈포체임버(130)에서의 탈포공정이 끝남과 동시에 제3게이트밸브(170)가 열리면서 탈포된 액정(20)이 담긴 용기(530)가 주입체임버(140) 내로 이송된다.Meanwhile, as the degassing process in the degassing chamber 130 ends, the third gate valve 170 opens and the container 530 containing the degassed liquid crystal 20 is transferred into the injection chamber 140.

기존의 탈포체임버로부터의 주입체임버로의 탈포된 액정이 담긴 용기의 이송 방식은 터보분자펌프가 없는 즉, 드라이펌프에 의해서 저진공이 형성된 탈포체임버로부터 저진공이 형성된 주입체임버로의 이송 방식이기 때문에 1차적으로 진공체임버의 고진공이 파괴됨과 아울러 2차적으로 진공체임버의 중/고진공이 파괴된다.Since the transfer method of the container containing the degassed liquid crystal from the conventional defoaming chamber to the injection chamber is not a turbo molecular pump, that is, a transfer method from the defoaming chamber in which low vacuum is formed by a dry pump to the injection chamber in which low vacuum is formed. Firstly, the high vacuum of the vacuum chamber is destroyed, and the medium / high vacuum of the vacuum chamber is secondly destroyed.

그러나, 본 발명의 실시예에서는 탈포체임버(130)내부와 주입체임버(140) 내부가 유사한 진공이 형성된 후 이송 되는 방식으므로 진공체임버(120)의 고진공이 2차적으로 파괴되지 않을 뿐더러 주입공정의 효율성 극대화 및 주입공정 시간을 단축시킬 수 있다.However, in the embodiment of the present invention, since the inside of the degassing chamber 130 and the inside of the injection chamber 140 are formed in a similar vacuum, the high vacuum of the vacuum chamber 120 is not secondaryly destroyed and the efficiency of the injection process is improved. Maximization and injection process time can be shortened.

액정이 미주입된 액정표시장치가 주입체임버(140)로 이송된 후 제2게이트밸브(160)가 닫히고, 탈포된 액정(20)이 담긴 용기(530)가 주입체임버(140)로 이송된 후 제3게이트밸브(170)가 닫히면, 도6에 도시된 바와 같이, 주입공정이 진행된다. 이 때, 액정표시장치(10)를 고정하기 위해 지그(560)가 사용될 수 있다. 주입체임버(140) 내에서의 주입공정이 완료되면 자외선경화성실란트(50)를 사용한 봉지를 통해 액정표시장치(10)를 제조한다.After the liquid crystal display without liquid crystal is transferred to the injection chamber 140, the second gate valve 160 is closed, and the container 530 containing the degassed liquid crystal 20 is transferred to the injection chamber 140. When the third gate valve 170 is closed, as shown in Figure 6, the injection process is in progress. In this case, the jig 560 may be used to fix the liquid crystal display 10. When the injection process in the injection chamber 140 is completed, the liquid crystal display device 10 is manufactured by encapsulating the UV-curable sealant 50.

본 발명의 액정주입장치 및 이를 사용한 액정주입방법은 탈기체임버와 진공체임버 간에 유사한 진공이 형성된 후 액정이 미주입된 액정표시장치가 이송된다. 이 때문에, 탈기체임버에서의 열이 보존된 상태로 액정이 미주입된 액정표시장치가 진공체임버로 이송되므로 액정 충진이 잘될 수 있다. 또한, 진공체임버와 유사한 진공이 형성된 상태에서 진공체임버로부터 주입체임버로 액정이 미주입된 액정표시장치가 이송되며 진공체임버와 유사한 진공이 형성된 상태에서 탈포체임버로부터 주입체임버로 탈포된 액정이 담긴 용기가 이송되므로 액정주입시간의 단축이 가능하며 액정 미충진 등과 같은 불량을 예방할 수 있다.In the liquid crystal injection device and the liquid crystal injection method using the same, a similar vacuum is formed between the degassing chamber and the vacuum chamber, and then the liquid crystal display device without the liquid crystal is transferred. For this reason, the liquid crystal filling without liquid crystal is transferred to the vacuum chamber while the heat in the degassing chamber is preserved. In addition, the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected into the injection chamber is transferred from the vacuum chamber to the injection chamber while a vacuum similar to that of the vacuum chamber is formed. Since it is transferred, it is possible to shorten the liquid crystal injection time and prevent defects such as unfilled liquid crystal.

이상에서 설명한 본 발명의 상세한 설명에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 참조하여 설명하였지만, 해당 기술분야의 숙련된 당업자 또는 해당 기술분야에 통상의 지식을 갖는 자라면 후술될 특허청구범위에 기재된 본 발명의 사상 및 기술 영역으로부터 벗어나지 않는 범위 내에서 본 발명을 다양하게 수정 및 변경시킬 수 있음을 이해할 수 있을 것이다.In the detailed description of the present invention described above with reference to the preferred embodiment of the present invention, those skilled in the art or those skilled in the art having ordinary knowledge of the present invention described in the claims to be described later It will be understood that various modifications and variations can be made in the present invention without departing from the spirit and scope of the art.

따라서, 본 발명의 기술적 범위는 명세서의 상세한 설명에 기재된 내용으로 한정되는 것이 아니라 특허청구범위에 의해 정하여져야만 할 것이다.Therefore, the technical scope of the present invention should not be limited to the contents described in the detailed description of the specification but should be defined by the claims.

Claims (11)

액정표시장치의 탈기공정을 수행하는 탈기체임버;A degassing chamber for performing a degassing process of the liquid crystal display device; 상기 탈기체임버에서 상기 탈기공정이 수행된 상기 액정표시장치의 진공공정을 수행하는 진공체임버; 및A vacuum chamber performing a vacuum process of the liquid crystal display device in which the degassing process is performed in the degassing chamber; And 상기 진공체임버에서 상기 진공공정이 수행된 상기 액정표시장치의 주입공정을 수행하는 주입체임버를 포함하고,An injection chamber for performing an injection process of the liquid crystal display device in which the vacuum process is performed in the vacuum chamber; 상기 주입체임버에 상기 액정표시장치에 주입될 액정의 탈포공정을 수행하는 탈포체임버를 포함하며,Defoam chamber for performing a defoaming process of the liquid crystal to be injected into the liquid crystal display device in the injection chamber, 상기 탈기체임버, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 중 적어도 어느 하나의 체임버와, 그 체임버와 인접한 체임버로 상기 액정표시장치 또는 상기 액정의 이송 시 상기 체임버들 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입장치.At least one chamber of the degassing chamber, the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber, and a chamber adjacent to the chamber, wherein a similar vacuum is formed inside the chambers when the liquid crystal display or the liquid crystal is transferred. Liquid crystal injection device characterized in that. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 탈기체임버, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 각각에 접속된 드라이펌프;A dry pump connected to each of the degassing chamber, the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber; 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 각각에 접속된 터보분자펌프를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정주입장치.And a turbomolecular pump connected to each of the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 탈기체임버 및 상기 진공체임버 각각에 접속된 상기 드라이펌프에 의해 상기 탈기체임버 내부 및 상기 진공체임버 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입장치.And a similar vacuum is formed in the degassing chamber and the inside of the vacuum chamber by the dry pump connected to each of the degassing chamber and the vacuum chamber. 제3항에 있어서,The method of claim 3, 상기 탈기체임버 내부 및 상기 진공체임버 내부는 저진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입장치.Liquid crystal injection device characterized in that the low vacuum is formed in the degassing chamber and the inside of the vacuum chamber. 제2항에 있어서,The method of claim 2, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 각각에 접속된 상기 터보분자펌프에 의해 상기 진공체임버 내부, 상기 주입체임버 내부 및 상기 탈포체임버 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입장치.And a similar vacuum is formed inside the vacuum chamber, inside the injection chamber, and inside the degassing chamber by the turbomolecular pump connected to the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber, respectively. 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 진공체임버 내부, 상기 주입체임버 내부 및 상기 탈포체임버 내부는 고진공 또는 초고진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입장치.The inside of the vacuum chamber, the inside of the injection chamber and the inside of the degassing chamber liquid crystal injection device, characterized in that the high vacuum or ultra-high vacuum is formed. 액정이 미주입된 액정표시장치의 탈기공정을 탈기체임버에서 수행하는 단계;Performing a degassing process of the liquid crystal display device in which the liquid crystal is not injected in a degas chamber; 상기 탈기공정이 수행된 상기 액정표시장치의 진공공정을 진공체임버에서 수 행하는 단계;Performing a vacuum process of the liquid crystal display device in which the degassing process is performed in a vacuum chamber; 상기 액정표시장치에 주입될 상기 액정의 탈포공정을 탈포체임버에서 수행하는 단계;Performing a defoaming process of the liquid crystal to be injected into the liquid crystal display in a defoaming chamber; 상기 진공공정이 수행된 상기 액정표시장치에 상기 탈포공정이 수행된 상기 액정을 주입하는 주입공정을 주입체임버에서 수행하는 단계를 포함하며,Performing an injection process injecting the liquid crystal in which the defoaming process is performed into the liquid crystal display device on which the vacuum process is performed, in an injection chamber; 상기 탈기체임버, 상기 진공체임버, 상기 주입체임버 및 상기 탈포체임버 중 적어도 어느 하나의 체임버와, 그 체임버와 인접한 체임버로 상기 액정표시장치 또는 상기 액정의 이송 시 상기 체임버들 내부는 유사한 진공이 형성되는 것을 특징으로 하는 액정주입방법.At least one chamber of the degassing chamber, the vacuum chamber, the injection chamber, and the degassing chamber, and a chamber adjacent to the chamber, wherein a similar vacuum is formed inside the chambers when the liquid crystal display or the liquid crystal is transferred. Liquid crystal injection method characterized by. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 탈기공정이 끝나기 전에 상기 진공체임버 내부를 상기 탈기체임버 내부와 유사한 진공으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정주입방법.And forming the inside of the vacuum chamber into a vacuum similar to the inside of the degassing chamber before the degassing process is completed. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 탈기체임버 및 상기 진공체임버에 각각에 접속된 드라이펌프를 이용하여 상기 탈기체임버 내부 및 상기 진공체임버 내부를 저진공으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정주입방법.And degassing the inside of the degassing chamber and the inside of the vacuum chamber using a dry pump connected to the degassing chamber and the vacuum chamber, respectively. 제7항에 있어서,The method of claim 7, wherein 상기 진공공정 및 상기 탈포공정이 끝나기 전에 상기 주입체임버 내부를 상기 진공체임버 내부 및 상기 탈포체임버 내부 중 적어도 어느 하나와 유사한 진공으로 형성하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정주입방법.And forming the inside of the injection chamber into a vacuum similar to at least one of the inside of the vacuum chamber and the inside of the degassing chamber before the vacuum process and the degassing process are finished. 제10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 진공체임버, 상기 탈포체임버 및 상기 주입체임버 각각에 접속된 터보분자펌프를 이용하여 상기 진공체임버 내부, 상기 탈포체임버 내부 및 상기 주입체임버 내부를 고진공 또는 초고진공으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정주입방법.Liquid crystal injection method characterized in that the vacuum chamber, the degassing chamber and the injection chamber connected to each of the injection chamber using the turbo molecular pump to form the inside of the vacuum chamber, the inside of the defoaming chamber and the injection chamber of high vacuum or ultra-high vacuum .
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