KR20070054458A - Manipulator aligner - Google Patents

Manipulator aligner Download PDF

Info

Publication number
KR20070054458A
KR20070054458A KR1020050112472A KR20050112472A KR20070054458A KR 20070054458 A KR20070054458 A KR 20070054458A KR 1020050112472 A KR1020050112472 A KR 1020050112472A KR 20050112472 A KR20050112472 A KR 20050112472A KR 20070054458 A KR20070054458 A KR 20070054458A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
manipulator
gear
aligner
ground electrode
extraction electrode
Prior art date
Application number
KR1020050112472A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
신동우
Original Assignee
삼성전자주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 삼성전자주식회사 filed Critical 삼성전자주식회사
Priority to KR1020050112472A priority Critical patent/KR20070054458A/en
Publication of KR20070054458A publication Critical patent/KR20070054458A/en

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02Details
    • H01J37/04Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement, ion-optical arrangement
    • H01J37/08Ion sources; Ion guns
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/30Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects
    • H01J37/317Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation
    • H01J37/3171Electron-beam or ion-beam tubes for localised treatment of objects for changing properties of the objects or for applying thin layers thereon, e.g. for ion implantation for ion implantation

Abstract

본 발명은 반도체 이온 주입 장치의 매니퓰레이터 얼라이너에 관한 것으로, 본 발명에 따르면 서로 마주보며 평행하게 배치되고, 각각의 중심에는 양이온이 추출되는 홀이 형성된 추출 전극 및 그라운드 전극을 포함하는 매니퓰레이터를 정렬하는 매니퓰레이터 얼라이너에 있어서, 상기 매니퓰레이터의 위치를 조절하는 구동부, 상기 구동부를 제어하기 위한 제어장치를 포함하되, 상기 구동부는 서로 연동되어 회전하는 서스(sus) 재질의 기어들을 포함한다. 상기 구동부는 상기 매니퓰레이터를 상하로 이동시키는 제 1 기어를 포함하되, 상기 제 1 기어는 나사산의 피치가 0.67mm이상이다. 그리하여, 매니퓰레이터를 상하로 이동시키기 위해 설치되는 적어도 하나의 기어가 마모되는 것을 방지하고, 매니퓰레이터의 정밀한 정렬을 수행한다.The present invention relates to a manipulator aligner of a semiconductor ion implantation apparatus. According to the present invention, a manipulator including an extraction electrode and a ground electrode arranged in parallel with each other and having a hole in which cations are extracted are aligned in each center. A manipulator aligner, comprising a driver for adjusting the position of the manipulator, and a control device for controlling the driver, wherein the driver includes gears of sus material that rotate in cooperation with each other. The drive unit includes a first gear for moving the manipulator up and down, wherein the first gear has a thread pitch of 0.67 mm or more. Thus, at least one gear installed for moving the manipulator up and down is prevented from being worn, and precise alignment of the manipulator is performed.

이온 주입 장치, 매뉴퓰레이터, 매뉴퓰레이터 얼라이너, 그라운드 전극, 추출 전극, 정렬, 기어 Ion Implantation, Manipulator, Manipulator Aligner, Ground Electrode, Extraction Electrode, Alignment, Gear

Description

매니퓰레이터 얼라이너{MANIPULATOR ALIGNER}Manipulator Aligner {MANIPULATOR ALIGNER}

도 1은 매니퓰레이터가 구비된 일반적인 이온소스부를 보여주는 구성도이다.1 is a block diagram showing a general ion source unit provided with a manipulator.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 매니퓰레이터 얼라이너의 개략적인 구성을 보여주는 사시도이다.2 is a perspective view showing a schematic configuration of a manipulator aligner according to an embodiment of the present invention.

도 3은 도 2에 도시한 매니퓰레이터 얼라이너의 구성을 상세히 도시한 도면이다.3 is a view showing in detail the configuration of the manipulator aligner shown in FIG.

도 4는 도 3에 도시한 제 1 기어를 도시한 도면이다.4 is a view showing the first gear shown in FIG.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

100 : 매니퓰레이터 얼라이너 132 : 제 1 기어100: manipulator aligner 132: first gear

110 : 전극 134 : 제 2 기어110 electrode 134 second gear

112 : 추출 전극 136 : 제 3 기어112: extraction electrode 136: third gear

114 : 그라운드 전극 138 : 모터114: ground electrode 138: motor

120 : 구동축 140 : 제어장치120: drive shaft 140: control device

130 : 구동부130: drive unit

본 발명은 반도체 제조 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 반도체 이온 주입 장치의 매니퓰레이터 얼라이너에 관한 것이다.The present invention relates to a semiconductor manufacturing apparatus, and more particularly to a manipulator aligner of a semiconductor ion implantation apparatus.

이온주입기술은 열 확산기술과 함께 반도체 제조를 위한 웨이퍼에 불순물 이온을 주입하는데 사용되는 기술이다. 이러한 이온주입기술 분야는 반도체 소자의 고집적화, 고밀도화에 대응해서, 더 정밀한 불순물도입의 제어, 재현성의 향상 및 처리 능력의 향상 등이 요구되고 있으며, 열 확산기술로는 실현이 불가능하거나, 저농도 불순물도입이나 절연막을 통한 도핑 등이 가능한 점, 특히 웨이퍼로 주입되는 이온의 수를 전류의 제어가 가능하고 이온의 주입되는 깊이는 가속전압의 제어에 의하여 임의로 조절할 수 있다는 점에서 그 영역이 점차 확대되고 있다.Ion implantation technology is a technique used to implant impurity ions into the wafer for semiconductor manufacturing together with the thermal diffusion technology. The field of ion implantation technology requires more precise control of impurity introduction, improvement of reproducibility, and improvement of processing capability in response to high integration and high density of semiconductor devices, which cannot be realized by heat diffusion technology, or low concentration impurity introduction. However, the area is gradually expanded in that the doping through the insulating film is possible, in particular, the number of ions injected into the wafer can be controlled by the current, and the depth of implantation of ions can be arbitrarily controlled by the control of the acceleration voltage. .

이온주입기술의 원리는 고에너지의 이온을 기판인 웨이퍼에 충돌시켜서 물리적으로 매립하는 방법으로, 4족의 실리콘 웨이퍼 상에 3족 또는 5족의 붕소(B), 인(P), 비소(As), 안티몬(Sb) 등의 불순물 이온을 주입한다.The principle of ion implantation technology is a method of physically embedding high-energy ions on a wafer as a substrate and boron (B), phosphorus (P), or arsenic (As) of group 3 or 5 on a group 4 silicon wafer. ) And impurity ions such as antimony (Sb) are implanted.

이러한 역할을 하는 이온주입장치는 이온 빔을 발생하는 이온소스부, 원하는 질량의 이온 빔만이 통과되도록 하는 분류기, 분류기에서 선별된 이온을 원하는 깊이까지 웨이퍼에 주입할 수 있는 정도의 에너지로 가속하는 가속기, 이온빔이 반발력에 의해 퍼져나가는 것을 방지하는 집속기, 웨이퍼 상에 이온빔을 균일하게 분포하기 위해 이온빔의 진행 방향을 상하좌우로 이동시키는 주사기, 그리고 웨이퍼가 로딩되는 엔드 스테이션으로 구성된다.An ion implanter that plays this role includes an ion source that generates an ion beam, a classifier that allows only an ion beam of a desired mass to pass through, and an accelerator that accelerates to the energy enough to inject ions selected from the classifier into the wafer to a desired depth. It is composed of a concentrator which prevents the ion beam from being spread by the repulsive force, a syringe for moving the direction of the ion beam up, down, left, and right to uniformly distribute the ion beam on the wafer, and an end station where the wafer is loaded.

여기서, 이온주입장치의 이온소스부는 이온을 생성하는 역할을 수행하는 이 온반응실인 아크 챔버(Arc chamber)와, 상기 아크 챔버로부터 발생한 이온 빔의 양과, 형태 및 방향을 조절하는 역할을 수행하는 추출 전극(Suppression Electrode) 및 그라운드 전극(Ground Electrode)을 갖는 매니퓰레이터(Manifulator)가 구비된다. Here, the ion source portion of the ion implanter is an arc chamber, which is an ion reaction chamber that serves to generate ions, and an extraction that controls the amount, shape, and direction of the ion beam generated from the arc chamber. A manipulator having an Suppression Electrode and a Ground Electrode is provided.

도 1은 매니퓰레이터가 구비된 통상의 이온소스부를 보여주는 구성도이다. 도 1을 참조하여 통상의 이온소스부(10)의 구성을 설명하면, 이온을 생성하는 아크챔버(12)와, 아크챔버(12)에서 이온이 나가는 방향으로 순차적으로 구성된 추출 전극(24) 및 그라운드 전극(26) 그리고 이들 전극의 각도를 조절하는 구동부(28)로 구성된다. 추출 전극(24) 및 그라운드 전극(26)를 포함하는 매니퓰레이터(20)는 구동부(28)에 의해 상하, 좌우 또는 전후로 움직이거나 이동된다. 이때, 구동부(28)와 매니퓰레이터(20)는 연결 부재(22)에 의해 서로 결합된다.1 is a block diagram showing a conventional ion source unit provided with a manipulator. Referring to FIG. 1, the structure of a conventional ion source unit 10 will be described. An arc chamber 12 generating ions, an extraction electrode 24 sequentially formed in a direction in which ions exit the arc chamber 12, and The ground electrode 26 and the drive part 28 which adjusts the angle of these electrodes are comprised. The manipulator 20 including the extraction electrode 24 and the ground electrode 26 is moved or moved up, down, left or right by the driving unit 28. In this case, the driving unit 28 and the manipulator 20 are coupled to each other by the connecting member 22.

매니퓰레이터(20)에서는 상기 아크챔버(12)로부터 발생한 이온 빔의 양과 형태 및 방향을 조절하기 위해 추출전극(24)및 그라운드 전극(26)의 각 축을 정확히 맞추는 것이 중요하다. 그리하여, 매니퓰레이터(20)의 얼라인을 위한 구동부(28)가 구비되며, 일반적인 매니퓰레이터(20)는 작업자가 매니퓰레이터(20) 외부에 구비된 매뉴퓰레이터 얼라이너(미도시됨)를 이용하여 추출 전극(24)과 그라운드 전극(26)을 X,Y,Z 축의 방향으로 이동시키면서 이온 빔을 가이드 한다. 이때, 작업자는 설비 외부에 구비되는 마이컴 또는 스크린과 같은 디스플레이에서는 각 축의 포지션을 확인할 수 있다.In the manipulator 20, it is important to accurately align each axis of the extraction electrode 24 and the ground electrode 26 in order to adjust the amount, shape and direction of the ion beam generated from the arc chamber 12. Thus, a driver 28 for aligning the manipulator 20 is provided, and the general manipulator 20 uses an extractor electrode using a manipulator aligner (not shown) provided by an operator outside the manipulator 20. The ion beam is guided while moving the 24 and the ground electrode 26 in the directions of the X, Y, and Z axes. At this time, the operator can check the position of each axis in the display such as a microcomputer or a screen provided outside the facility.

일반적인 상기 매니퓰레이터 얼라이너는 매니퓰레이터(20)를 X,Y,Z 축의 방 향으로 이동시키기거나 일정 각도로 회전시키기 위해 서로 연동되는 기어들과, 상기 기어들을 회전시키는 구동장치를 포함한다. 그러나, 상기 기어들은 공정이 진행됨에 따라 기어의 외주면에 형성된 나사산들에 마모가 진행되었다. 기어에 마모가 발생되면 매니퓰레이터(20)를 정밀하게 제어할 수 없어 매니퓰레이터(20)의 추출 전극(24) 및 그라운드 전극(26)의 정밀한 위치 조정을 수행할 수 없었다.In general, the manipulator aligner includes gears interlocked with each other to move the manipulator 20 in the directions of the X, Y, and Z axes or rotate at an angle, and a driving device to rotate the gears. However, as the gears progress, wear progresses on threads formed on the outer circumferential surface of the gears. When abrasion occurs in the gear, the manipulator 20 cannot be precisely controlled, and precise positioning of the extraction electrode 24 and the ground electrode 26 of the manipulator 20 cannot be performed.

본 발명은 위와 같은 종래의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 매니퓰레이터(20)의 위치를 조정하기 위한 기어들의 마모를 방지할 수 있는 매니퓰레이터 얼라이너를 제공함에 있다.The present invention is to solve the above conventional problems, an object of the present invention to provide a manipulator aligner that can prevent the wear of the gears for adjusting the position of the manipulator 20.

상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 따르면, 서로 마주보며 평행하게 배치되고, 각각의 중심에는 양이온이 추출되는 홀이 형성된 추출 전극 및 그라운드 전극을 포함하는 매니퓰레이터를 정렬하는 매니퓰레이터 얼라이너에 있어서, 상기 매니퓰레이터의 위치를 조절하는 구동부, 상기 구동부를 제어하기 위한 제어장치를 포함하되, 상기 구동부는 서로 연동되어 회전하는 서스(sus) 재질의 기어들을 포함한다.According to the present invention for achieving the above object, in the manipulator aligner for arranging a manipulator including an extraction electrode and a ground electrode disposed in parallel to each other and formed with a hole in which the cation is extracted at each center, A driving unit for adjusting the position of the manipulator, and a control device for controlling the driving unit, wherein the driving unit includes a sus (gear) gears that rotate in conjunction with each other.

본 발명에 따르면, 상기 구동부는 상기 매니퓰레이터를 상하로 이동시키는 기어를 포함하되, 상기 기어는 나사산의 피치가 0.67mm이상이다. 여기서, 본 발명의 실시예에 따르면, 상기 기어는 제 1 기어이다.According to the present invention, the driving part includes a gear for moving the manipulator up and down, wherein the gear has a pitch of a thread of 0.67 mm or more. Here, according to the embodiment of the present invention, the gear is the first gear.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 매니퓰 레이터 얼라이너를 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상은 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.Hereinafter, a manipulator aligner according to an exemplary embodiment of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape of elements in the figures is exaggerated to emphasize clear explanation.

(실시예)(Example)

도 2는 본 발명에 따른 매니퓰레이터 얼라이너의 구성을 보여주는 사시도이고, 도 3은 도 2에 도시한 매뉴퓰레이터 얼라이너의 구성을 보여주는 구성도이다.2 is a perspective view showing the configuration of the manipulator aligner according to the present invention, Figure 3 is a configuration diagram showing the configuration of the manipulator aligner shown in FIG.

도 2 및 도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 매니플레이터 얼라이너(Manipulator Aligner)(100)는 매니퓰레이터(Manipulator)(110)와, 구동축(Driven shaft)(120), 구동부(Driven Member)(130), 그리고 제어장치(Controller)(140)를 포함한다.2 and 3, the manipulator aligner 100 according to the present invention includes a manipulator 110, a drive shaft 120, and a drive member ( 130, and a controller 140.

매니퓰레이터(110)는 원반 모형이고 서로 마주보며 소정의 거리가 이격되어 위치하는 추출 전극(Suppression Electrode)(112)과 그라운드 전극(Ground Electrode)(114)을 포함한다. 추출 전극(112)과 그라운드 전극(114) 각각은 중심에 양이온이 추출되는 홀(112a, 114a)이 형성되어 있다. 아크 챔버(미도시됨)에서 생성되는 이온들은 슬릿(미도시됨)을 통과하면서 이온빔으로 변하며, 이 이온빔은 추출 전극(112) 및 그라운드 전극(114) 각각에 형성된 홀(112a, 114a)을 통과한다. 이때, 그라운드 전극(114)은 양이온들을 추출 전극(112) 방향으로 추출하고, 추출 전극(112)은 양이온과 함께 추출되는 음전위의 전자(electron)는 중성화시켜 통과하지 못하게 하는 기능을 한다.The manipulator 110 includes a Extraction Electrode 112 and a Ground Electrode 114 facing each other and positioned to face each other and spaced apart from each other by a predetermined distance. Each of the extraction electrode 112 and the ground electrode 114 has holes 112a and 114a through which cations are extracted. The ions generated in the arc chamber (not shown) pass through the slit (not shown) into an ion beam, which passes through the holes 112a and 114a formed in each of the extraction electrode 112 and the ground electrode 114. do. In this case, the ground electrode 114 extracts positive ions toward the extraction electrode 112, and the extraction electrode 112 functions to neutralize electrons of negative potentials extracted together with the positive ions so as not to pass.

구동축(120)은 샤프트 형상으로서 일단이 매니퓰레이터(110)와 연결되고, 타단은 구동부(120)와 연결된다. 구동축(120)은 구동부(130)에 의해 상하, 전후, 그리고 회전운동하며, 이러한 구동축(120)의 동작에 의해 매니퓰레이터(110)가 정렬된다. 즉, 구동부(130)가 구동되면, 구동부(130)에 의해 구동축(120)이 동작하게 되고, 구동축(120)의 동작에 의해 구동축(120)과 연결된 매니퓰레이터(110)의 추출 전극(112)과 그라운드 전극(114)의 위치를 정렬할 수 있다. 여기서, 매니퓰레이터(110)의 정렬은 이온소스부(미도시됨)으로부터 발생된 후 매니퓰레이터(110)를 통과하는 이온 빔의 초첨을 맞추어주기 위한 것이다.The drive shaft 120 has a shaft shape, one end of which is connected to the manipulator 110 and the other end of which is connected to the driving unit 120. The driving shaft 120 is moved up, down, front, and rear by the driving unit 130, and the manipulator 110 is aligned by the operation of the driving shaft 120. That is, when the driving unit 130 is driven, the driving shaft 120 is operated by the driving unit 130, and the extraction electrode 112 of the manipulator 110 connected to the driving shaft 120 by the operation of the driving shaft 120 is connected with the extraction electrode 112. The position of the ground electrode 114 may be aligned. Here, the alignment of the manipulator 110 is for adjusting the focus of the ion beam generated from the ion source unit (not shown) and passing through the manipulator 110.

구동축(132)은 후술할 제 1 기어(132)의 중앙에 삽입된다. 여기서, 구동축(132)의 외주면에는 소정의 나사산이 형성되며, 제 1 기어(132) 중앙의 내주면은 상기 나사산에 상응하도록 형성된다. 예컨대, 구동축(132)의 외주면은 소정의 수나사가 형성되어 있으며, 구동축(132)이 삽입되는 제 1 기어(132) 중앙의 내주면에는 상기 수나가와 상응되는 암나사가 형성된다. 그리하여, 구동축(132)은 제 1 기어(132)가 회전하면 제 1 기어(132)에 형성된 암나사와 구동축(132)에 형성된 수나사가 서로 맞물려 회전함으로써 구동축(132)이 상하로 이동하게 된다.The drive shaft 132 is inserted into the center of the first gear 132 to be described later. Here, a predetermined thread is formed on the outer circumferential surface of the drive shaft 132, and an inner circumferential surface of the center of the first gear 132 is formed to correspond to the thread. For example, a predetermined male thread is formed on the outer circumferential surface of the drive shaft 132, and a female screw corresponding to the male screw is formed on the inner circumferential surface of the center of the first gear 132 into which the driving shaft 132 is inserted. Thus, when the first gear 132 rotates, the drive shaft 132 is rotated by engaging the female screw formed in the first gear 132 and the male screw formed in the drive shaft 132 so that the drive shaft 132 moves up and down.

구동부(130)는 제 1 내지 제 3 기어(132, 134, 136) 및 모터(138)를 포함한다. 제 1 내지 제 3 기어(132, 134, 136)는 서로 연동되어 회전한다. 제 1 기어(132)는 상술한 바와 같이 중앙에 구동축(132)이 삽입되며, 제 1 기어(132)의 회전 에 의해 구동축(132)이 상하로 이동하게 된다. 제 1 기어(132)는 제 2 기어(134)와 맞물려 회전한다. 제 3 기어(136)는 모터(138)의 샤프트(138a)과 결합하여, 모터(138)의 회전에 의해 회전한다. 즉, 모터(138)가 회전하면, 모터(138)의 샤프트(138a)와 결합된 제 3 기어(136)가 회전하고, 제 3 기어(136)의 회전에 의해 제 2 기어(134) 및 제 1 기어(132)가 서로 연동되어 회전하며, 제 1 기어(132)의 회전에 의해 구동축(120)이 상하로 동작하게 되어 매니퓰레이터(110)가 상하로 조정된다.The driver 130 includes first to third gears 132, 134, and 136 and a motor 138. The first to third gears 132, 134, and 136 rotate in cooperation with each other. As described above, the first gear 132 is inserted into the drive shaft 132, the drive shaft 132 is moved up and down by the rotation of the first gear 132. The first gear 132 meshes with the second gear 134 to rotate. The third gear 136 is engaged with the shaft 138a of the motor 138 to rotate by the rotation of the motor 138. That is, when the motor 138 rotates, the third gear 136 coupled with the shaft 138a of the motor 138 rotates, and the second gear 134 and the first gear are rotated by the rotation of the third gear 136. The first gear 132 is rotated in conjunction with each other, the drive shaft 120 is moved up and down by the rotation of the first gear 132, the manipulator 110 is adjusted up and down.

여기서, 도 4를 참조하면, 제 1 내지 제 3 기어(132, 134, 136)의 재질은 내마모성이 강한 재질로 제작된다. 예컨대, 제 1 내지 제 3 기어(132, 134, 136)는 서스(SUS) 재질로 제작된다. 또한, 구동축(132)과 결합되는 제 1 기어(132)는 지름은 대략 50mm이고 나사산의 피치(pitch)는 대략 0.67mm일 수 있다. 이는 제 1 기어(132)의 나사산이 마모되는 것을 방지함과 동시에 매니퓰레이터(110)의 동작을 정밀하게 수행할 수 있는 제 1 기어(132)의 형상이다. 만약, 제 1 기어(132)의 나사산 피치가 0.67mm이하이면, 공정이 진행됨에 따라 제 1 기어(132)의 외주면에 형성된 나사산들이 마모되기 쉽고, 0.67mm이상이면 매니퓰레이터(110)의 정밀한 제어를 하기 어렵다. 그러므로, 제 1 기어(132)의 피치를 0.67mm로 개선하고, 지름을 대략 50mm로 하여 구조적으로 제 1 기어(132)의 나사산이 마모되는 것을 방지하도록 한다.Here, referring to FIG. 4, the materials of the first to third gears 132, 134, and 136 are made of a material having high wear resistance. For example, the first to third gears 132, 134, and 136 are made of a sus material. In addition, the first gear 132 coupled to the drive shaft 132 may have a diameter of about 50 mm and a pitch of the threads may be about 0.67 mm. This is a shape of the first gear 132 that can prevent the thread of the first gear 132 from being worn and at the same time perform the operation of the manipulator 110 precisely. If the thread pitch of the first gear 132 is less than or equal to 0.67 mm, the threads formed on the outer circumferential surface of the first gear 132 are liable to wear as the process proceeds, and if it is greater than or equal to 0.67 mm, precise control of the manipulator 110 may be achieved. Difficult to do Therefore, the pitch of the first gear 132 is improved to 0.67 mm, and the diameter is approximately 50 mm to prevent the thread of the first gear 132 from being structurally worn out.

또한, 구동부(130)에는 추출 전극(112) 및 그라운드 전극(114)의 X,Y,Z 축의 움직임 또는 회전되는 움직임을 읽을 수 있는 전위계(Potential meter, 미도시됨)가 구비될 수 있다. 상기 전위계는 매니퓰레이터(110)의 플랙(flag)에 따라서 움직 이면서 추출 전극(112) 및 그라운드 전극(114)의 움직임을 작업자가 인지하도록 설비 외부에 구비된 마이컴 또는 스크린 등의 디스플레이 부재(미도시됨)에 나타낸다. 그리하여, 작업자는 상기 디스플레이 부재에 나타난 상기 전위계의 움직임에 따라 추출 전극(112)과 그라운드 전극(114)의 위치를 인지할 수 있다.In addition, the driving unit 130 may include a potentiometer (not shown) capable of reading the movement of the X, Y, Z axes or the rotation of the extraction electrode 112 and the ground electrode 114. The electrometer moves along a flag of the manipulator 110 while a display member such as a microcomputer or a screen is provided outside the facility to allow a worker to recognize movement of the extraction electrode 112 and the ground electrode 114. ). Thus, the operator can recognize the position of the extraction electrode 112 and the ground electrode 114 in accordance with the movement of the electrometer shown on the display member.

그리하여, 구동부(130)는 추출 전극(112)과 그라운드 전극(114)을 이동시키는 기능을 한다. 즉, 구동부(130)는 양이온들이 추출 전극(112) 및 그라운드 전극(114) 각각의 중심에 형성된 홀(112a, 114a)을 통과할 때, 원하는 초점으로 포커싱(focusing)되어 추출될 수 있도록 X,Y,Z 축으로 동작하거나, 소정의 회전운동을 병행함으로써 상기 양이온들의 초점 각도를 정렬(align)시키는 기능을 한다. 이러한 구동부(130)의 동작을 위해 설비 외부에는 작업자가 수동으로 조작할 수 있는 제어장치(140)가 구비된다. 작업자는 제어장치(140)를 이용하여 추출 전극(112)과 그라운드 전극(114)을 조정할 수 있다.Thus, the driving unit 130 functions to move the extraction electrode 112 and the ground electrode 114. That is, the driver 130 may focus on the desired focus and be extracted when the cations pass through the holes 112a and 114a formed at the center of each of the extraction electrode 112 and the ground electrode 114. It functions to align the focal angle of the cations by operating in the Y, Z axis or by performing a predetermined rotational movement. For the operation of the drive unit 130 is provided with a control device 140 that can be operated manually by the operator. The operator may adjust the extraction electrode 112 and the ground electrode 114 using the control device 140.

본 실시예에서는 구동부(130)가 제 1 내지 제 3 기어(132, 134, 136) 및 모터(138)를 구비하여 매니퓰레이터(110)를 동작시키는 것을 예로 들어 설명하였으나, 구동부(130)가 매니퓰레이터(110)를 정렬시키는 방식은 다양하게 응용될 수 있다. 예컨대, 구동부(130)는 기어 및 상기 기어와 연동되는 리드 스크류(lead screw), 체인(chain), 그리고 와이어(wire) 등에 의해서 매니퓰레이터(110)를 동작할 수도 있다.In the present exemplary embodiment, the driving unit 130 includes the first to third gears 132, 134, and 136 and the motor 138 to operate the manipulator 110 as an example. However, the driving unit 130 includes the manipulator ( Arranging 110 may be applied in various ways. For example, the driving unit 130 may operate the manipulator 110 by a gear and a lead screw, a chain, a wire, or the like interlocked with the gear.

제어장치(140)는 구동부(130)와 연결된다. 제어장치(140)는 구동부(130)를 제어하여, 매니퓰레이터(110)를 동작시킨다. 예컨대, 제어장치(140)는 작업자가 수 동으로 구동부(130)를 작동시키기 위한 것이며, 작업자는 제어장치(140)를 제어하여, 매니퓰레이터(110)의 추출전극(112) 및 그라운드 전극(114)을 정렬시킨다. 이때, 매니퓰레이터(110)의 정확한 위치를 감지하기 위해, 매니퓰레이터 얼라이너(100) 일측에는 감지부(미도시됨)이 설치될 수도 있다. 상기 감지부는 매니퓰레이터(110)의 공정상 요구되는 위치를 감지하기 위한 것으로, 작업자가 제어장치(140)를 제어하여 매니퓰레이터(110)를 조정할 때, 매니퓰레이터(110)가 정위치에 위치하면 작업자가 이를 인지하도록 한다. 그리하여, 작업자는 매니퓰레이터(110)의 정렬상태가 흐트러지면, 제어장치(140)를 조작하여 매니퓰레이터(110)를 X,Y,Z축 방향으로 이동시키거나, 일정한 각도로 회전시켜 매니퓰레이터(110)를 통과하는 이온 빔의 초점을 조정하게 된다.The control device 140 is connected to the drive unit 130. The controller 140 controls the driver 130 to operate the manipulator 110. For example, the control device 140 is for the operator to manually operate the drive unit 130, the operator controls the control device 140, the extraction electrode 112 and the ground electrode 114 of the manipulator 110. Align it. In this case, in order to detect the correct position of the manipulator 110, a sensing unit (not shown) may be installed at one side of the manipulator aligner 100. The sensing unit detects a position required for the process of the manipulator 110. When the operator adjusts the manipulator 110 by controlling the control device 140, if the manipulator 110 is positioned in the correct position, the operator may detect it. Be aware. Thus, when the alignment state of the manipulator 110 is disturbed, the operator manipulates the control device 140 to move the manipulator 110 in the X, Y, and Z directions, or rotates the manipulator 110 at a predetermined angle. The focus of the ion beam passing through is adjusted.

상기와 같은 구성을 갖는 매니퓰레이터 얼라이너(100)는 매니퓰레이터(110)를 정렬시키기 위해 구동부(130)에 설치되는 기어의 재질을 내마모성이 우수한 재질로 제작하고, 기어의 형성된 나사산의 피치를 내마모성이 우수할 수 있도록 개선하여 매니퓰레이터(110)를 정렬시키기 위한 기어가 마모되는 것을 방지함과 동시에 정밀한 매니퓰레이터(110)의 얼라인을 수행할 수 있다.The manipulator aligner 100 having the above-described configuration is made of a material having excellent abrasion resistance to the gear installed in the driving unit 130 to align the manipulator 110, and has excellent wear resistance to pitch of the formed thread of the gear. In order to prevent the wear of the gear for aligning the manipulator 110 to be worn, the alignment of the manipulator 110 may be precisely performed.

이상에서, 본 발명의 일 및 다른 실시예에 따른 매니퓰레이터 얼라이너의 구성 및 작용을 상기한 설명 및 도면에 따라 도시하였지만 이는 예를 들어 설명한 것에 불과하며 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 물론이다.In the above, the configuration and operation of the manipulator aligner according to one or more embodiments of the present invention have been shown in accordance with the above description and drawings, which are merely examples and various changes without departing from the spirit of the present invention. And of course, it is possible to change.

상술한 바와 같이 본 발명에 따른 매니퓰레이터 얼라이너는 매니퓰레이터를 상하로 이동시키기 위해 설치되는 기어를 내마모성이 우수한 재질로 제작하고, 기어의 피치(pitch)를 개선하여 기어의 나사산이 마모되는 것을 방지함과 동시에 매니퓰레이터의 정밀한 정렬을 수행할 수 있다. As described above, the manipulator aligner according to the present invention manufactures a gear installed to move the manipulator up and down by using a material having excellent abrasion resistance, and improves the pitch of the gear to prevent wear of the gear thread. Precise alignment of the manipulators can be performed.

Claims (2)

서로 마주보며 평행하게 배치되고, 각각의 중심에는 양이온이 추출되는 홀이 형성된 추출 전극 및 그라운드 전극을 포함하는 매니퓰레이터를 정렬하는 매니퓰레이터 얼라이너에 있어서,In the manipulator aligner disposed in parallel with each other, and aligning the manipulator including an extraction electrode and a ground electrode formed with a hole in which the cation is extracted at each center, 상기 매니퓰레이터의 위치를 조절하는 구동부와;A driving unit for adjusting the position of the manipulator; 상기 구동부를 제어하기 위한 제어장치를 포함하되;A control device for controlling the drive unit; 상기 구동부는,The driving unit, 서로 연동되어 회전하는 서스(sus) 재질의 기어들을 포함하는 것을 특징으로 하는 매니퓰레이터 얼라이너.Manipulator aligner comprising a gear of sus material that rotates in conjunction with each other. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 상기 구동부는,The driving unit, 상기 매니퓰레이터의 상하 이동에 사용되는 기어를 포함하되,Including a gear used for the vertical movement of the manipulator, 상기 기어는,The gear is, 나사산의 피치가 0.67mm이상인 것을 특징으로 하는 매니퓰레이터 얼라이너.Manipulator aligner characterized by a pitch of the threads of 0.67 mm or more.
KR1020050112472A 2005-11-23 2005-11-23 Manipulator aligner KR20070054458A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050112472A KR20070054458A (en) 2005-11-23 2005-11-23 Manipulator aligner

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050112472A KR20070054458A (en) 2005-11-23 2005-11-23 Manipulator aligner

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070054458A true KR20070054458A (en) 2007-05-29

Family

ID=38276267

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050112472A KR20070054458A (en) 2005-11-23 2005-11-23 Manipulator aligner

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20070054458A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107673065A (en) * 2017-09-30 2018-02-09 东莞市松研智达工业设计有限公司 A kind of angle adjustable formula big machinery arm device
KR102495802B1 (en) * 2022-05-24 2023-02-06 (주)거성 Manipulator drive of ion implanter

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107673065A (en) * 2017-09-30 2018-02-09 东莞市松研智达工业设计有限公司 A kind of angle adjustable formula big machinery arm device
KR102495802B1 (en) * 2022-05-24 2023-02-06 (주)거성 Manipulator drive of ion implanter

Similar Documents

Publication Publication Date Title
TWI387993B (en) Apparatus for use with ion implanter and method for performing ion implantation
KR102429370B1 (en) Ion implantation system and method with variable energy control
TWI389181B (en) Improved ion beam utilization during scanned ion implantation
JP2017510932A5 (en) Processing apparatus and method for controlling ion beam supplied to substrate
TWI421915B (en) Methods and apparatus for glitch recovery in stationary-beam ion implantation process using fast ion beam control
JP5257576B2 (en) System and method for implanting ions into a workpiece
TW201635326A (en) Systems and methods for beam angle adjustment in ion implanters with beam deceleration
US8049192B2 (en) Apparatus and system for controlling ion ribbon beam uniformity in an ion implanter
KR20070054458A (en) Manipulator aligner
TWI642080B (en) Ion implantation system and method
KR20240043766A (en) Mixed energy ion implantation
TWI714074B (en) Ion implantation system and method with variable energy control
TWI736793B (en) Apparatus, system and method for ion implantation
KR101710977B1 (en) Electrode adjustment assembly and method for adjusting an electrode
TWI682420B (en) Ion implantation system and method with variable energy control
US9415508B1 (en) Multi-link substrate scanning device
KR20070009282A (en) Manipulator aligner
KR100699121B1 (en) Ion beam extraction apparatus of ion implantation equipment
US20170110286A1 (en) Controlling an ion beam in a wide beam current operation range
KR20010106619A (en) Ion implantation equipment having monitoring device for checking tilting angle of semiconductor wafer
JP2007109474A (en) Ion implantation device
TWI587373B (en) Ion implanter and method for ion implantation
KR200340240Y1 (en) Apparatus for controlling incident angle of ion beam in ion implanter
JPH0746591B2 (en) Ion implanter
TW201725610A (en) Method of improving the uniformity of ion implantation and corresponding ion implanter

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination