KR20070054303A - Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method - Google Patents

Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method Download PDF

Info

Publication number
KR20070054303A
KR20070054303A KR1020050112153A KR20050112153A KR20070054303A KR 20070054303 A KR20070054303 A KR 20070054303A KR 1020050112153 A KR1020050112153 A KR 1020050112153A KR 20050112153 A KR20050112153 A KR 20050112153A KR 20070054303 A KR20070054303 A KR 20070054303A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
coil
thin film
substrate
camera
lower thin
Prior art date
Application number
KR1020050112153A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
하만효
지창현
Original Assignee
엘지전자 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 엘지전자 주식회사 filed Critical 엘지전자 주식회사
Priority to KR1020050112153A priority Critical patent/KR20070054303A/en
Publication of KR20070054303A publication Critical patent/KR20070054303A/en

Links

Images

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B13/00Viewfinders; Focusing aids for cameras; Means for focusing for cameras; Autofocus systems for cameras
    • G03B13/32Means for focusing
    • G03B13/34Power focusing
    • G03B13/36Autofocus systems
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B3/00Focusing arrangements of general interest for cameras, projectors or printers
    • G03B3/04Focusing arrangements of general interest for cameras, projectors or printers adjusting position of image plane without moving lens
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B3/00Focusing arrangements of general interest for cameras, projectors or printers
    • G03B3/10Power-operated focusing
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/02Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses
    • G02B7/04Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for lenses with mechanism for focusing or varying magnification
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03BAPPARATUS OR ARRANGEMENTS FOR TAKING PHOTOGRAPHS OR FOR PROJECTING OR VIEWING THEM; APPARATUS OR ARRANGEMENTS EMPLOYING ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ACCESSORIES THEREFOR
    • G03B2213/00Viewfinders; Focusing aids for cameras; Means for focusing for cameras; Autofocus systems for cameras

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Lens Barrels (AREA)
  • Mechanical Light Control Or Optical Switches (AREA)

Abstract

본 발명은 카메라에 있어서, 특히 카메라 렌즈의 초점을 가변할 수 있는 초점 제어 장치 및 그 제작방법에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a focus control apparatus capable of varying the focus of a camera lens, and a method of manufacturing the same, in particular for a camera.

본 발명에 따른 카메라의 초점 조절 장치 제작방법은, 기판 상에 하부박막을 형성시키고, 상기 기판 하부를 식각하여 강화 틀을 형성하며, 상기 하부박막 상에 코일을 형성하고, 상기 강화 틀을 식각하여 하부박막을 띄우는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In the method of manufacturing a focus adjusting apparatus for a camera according to the present invention, a lower thin film is formed on a substrate, the lower portion of the substrate is etched to form a reinforcement frame, a coil is formed on the lower thin film, and the reinforcement frame is etched. It characterized in that it comprises the step of floating the lower film.

카메라, 초점 가변, 코일, 자석 Camera, variable focus, coil, magnet

Description

카메라용 초점 조절 장치 및 그 제작방법{Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method} Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method

도 1은 2군 렌즈 방식의 광학 줌 카메라 모듈의 개념도. 1 is a conceptual diagram of an optical zoom camera module of a two-group lens system.

도 2는 본 발명에 따른 가변 초점 미러의 동작 상태를 나타낸 사시도.2 is a perspective view showing an operating state of the variable focus mirror according to the present invention;

도 3은 본 발명에 따른 가변 초점 미러의 제작 공정을 나타낸 도면.3 is a view showing a manufacturing process of a variable focus mirror according to the present invention;

도 4는 본 발명에 따른 가변 초점 미러의 전면 공정도.4 is a front process diagram of a variable focus mirror according to the present invention.

도 5는 본 발명에 따른 가변 초점 미러의 후면 공정도.5 is a rear view of the variable focus mirror according to the present invention;

도 6은 본 발명에 따른 가변 초점 미러 및 구동부의 단면도.6 is a cross-sectional view of a variable focus mirror and a drive unit according to the present invention.

도 7은 본 발명에 따른 가변 초점 미러 및 구동부의 분해 사시도.7 is an exploded perspective view of a variable focus mirror and a drive unit according to the present invention;

도 8은 본 발명에 따른 가변 초점 미러를 사용한 카메라 모듈의 구성도.8 is a block diagram of a camera module using a variable focus mirror according to the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

30,63,65...가변 초점 미러 31...기판30,63,65 ... Variable Focus Mirror 31 ... Board

32...강화 틀 33...하부박박32 ... reinforced frame 33 ...

34...하부전극 35...절연막34 Lower electrode 35 Insulation film

36...코일 37...관통공36.coil 37 ... through

38...반사면 62,64,66...광학계38 ... reflective 62,64,66 ... optical system

67...이미지 센서67 ... image sensor

본 발명은 카메라에 있어서, 특히 카메라 렌즈의 초점을 가변할 수 있는 초점 조절 장치 및 그 제작방법에 관한 것이다.BACKGROUND OF THE INVENTION Field of the Invention The present invention relates to a focusing apparatus capable of varying the focus of a camera lens, and a method of manufacturing the same.

최근 통신 기술 및 디지털 정보 처리 기술의 발전과 더불어 정보 처리 및 연산, 통신, 화상 정보 입출력 등 다양한 기능이 집적된 휴대용 단말기 기술이 새롭게 대두되고 있다. 디지털 카메라와 통신 기능이 장착된 PDA(personal digital assistant), 디지털 카메라(digital camera)와 PDA 기능이 장착된 휴대 전화기 등을 그 예로 들 수 있는데, 디지털 카메라 기술 및 정보 저장 능력의 발달로 인하여 고사양의 디지털 카메라 모듈(digital camera module)의 장착이 점차 보편화하고 있는 것이 추세이다. Recently, with the development of communication technology and digital information processing technology, portable terminal technology in which various functions such as information processing and arithmetic, communication, image information input and output are integrated is emerging. Examples include PDAs (personal digital assistants) equipped with digital cameras and communication functions, digital cameras, and cellular phones equipped with PDA functions. Due to the development of digital camera technology and information storage capabilities, The mounting of digital camera modules is becoming more and more common.

또한 휴대용 단말기 등에 장착되는 디지털 카메라 모듈에 메가 픽셀(mega pixel)급 이미지 센서(image sensor)가 사용되면서, 자동 초점(auto focus) 및 광학 줌(optical zoom) 등 부가 기능의 중요성은 더욱 부각되고 있다. 이러한 소형 디지털 카메라 모듈에서 자동 초점 및 광학 줌 기능을 구현하기 위해서는 상대적으로 적은 부피를 차지하면서 빠른 기동 속도, 저 전력 소모, 큰 변위 등의 성능을 충족시킬 수 있는 구동기가 필요하다. 특히 광학 줌 기능의 향상에 따른 필요 변위의 증가에 대응할 수 있는 구동기가 요구되는데, 종래의 스테핑 모터(stepping motor) 등 회전 운동을 하는 구동기로 리드 스크류(lead screw)를 회전시켜 가동부를 선형적으로 이동시키는 경우, 복잡한 메커니즘과 기어부의 마찰 및 소음 등의 단점이 있다. 또한, 스테핑 모터를 이용한 구동기의 경우 복잡한 구조로 인하여 저가의 구동기를 제작하는 데에 어려움이 있으며, 소형화하는 데 있어서 크기의 제한이 있다.In addition, as a mega pixel image sensor is used in a digital camera module mounted in a portable terminal, additional functions such as auto focus and optical zoom are becoming more important. . In order to realize autofocus and optical zoom in such a small digital camera module, a driver that can occupy a relatively small volume and satisfy performance such as high starting speed, low power consumption, and large displacement is required. In particular, there is a need for a driver that can cope with an increase in the required displacement due to the improvement of the optical zoom function. When moving, there are disadvantages such as complicated mechanism and friction of the gear part and noise. In addition, in the case of a driver using a stepping motor, it is difficult to manufacture a low-cost driver due to a complicated structure, and there is a limitation in size in miniaturization.

본 발명의 제 1목적은 가변 초점 미러를 제공함에 있다.A first object of the present invention is to provide a variable focus mirror.

본 발명의 제 2목적은 초소형 카메라 모듈에 적용된 가변 초점 미러를 제공함에 있다.A second object of the present invention is to provide a variable focus mirror applied to a compact camera module.

본 발명의 제 3목적은 반사면의 곡률 반경을 조절할 수 있는 가변 초점 미러의 제작 방법을 제공함에 있다.It is a third object of the present invention to provide a method of manufacturing a variable focus mirror capable of adjusting the radius of curvature of a reflective surface.

본 발명의 제 4목적은 가변 초점 머리를 이용하여 자동 초점 기능을 구현하는 카메라 모듈을 제공함에 있다.A fourth object of the present invention is to provide a camera module for implementing an autofocus function using a variable focus head.

본 발명의 제 5목적은 가변 초점 미러를 이용하여 광학 줌 기능을 제공하는 카메라 모듈을 제공함에 있다.A fifth object of the present invention is to provide a camera module that provides an optical zoom function using a variable focus mirror.

본 발명의 제 6목적은 전자력 방식으로 가변 초점 미러의 초점 제어가 가능토록 한 초점 조절 장치 및 그 제작방법을 제공함에 있다.A sixth object of the present invention is to provide a focus adjusting apparatus and a method of manufacturing the focus control apparatus capable of controlling the focus of the variable focus mirror by an electromagnetic force method.

상기한 목적 달성을 위한 본 발명에 따른 카메라의 초점 조절 장치는,Focusing apparatus of the camera according to the present invention for achieving the above object,

기판;Board;

하부에 반사면을 포함하며, 상기 기판 상에 적층되는 하부박막;A lower thin film including a reflective surface at a lower portion thereof and stacked on the substrate;

상기 하부박막 상에 형성되는 코일을 포함하는 것을 특징으로 한다. It characterized in that it comprises a coil formed on the lower thin film.

바람직하게, 상기 하부박막 상에 적층되는 하부전극과, 상기 하부전극 및 코일 사이에 적층되는 절연막을 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, it comprises a lower electrode stacked on the lower thin film, and an insulating film stacked between the lower electrode and the coil.

바람직하게, 상기 기판의 하부에는 상기 하부박막에 해당되는 영역에 광 경로를 위한 관통공이 형성된 것을 특징으로 한다. Preferably, the lower portion of the substrate is characterized in that the through-hole for the optical path is formed in the area corresponding to the lower thin film.

바람직하게, 상기 기판의 하부에는 상기 코일에 흐르는 전류에 대해 자기장을 형성하여, 상기 하부박막의 굴절률을 가변시켜 주는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, the lower portion of the substrate further comprises a driving unit for forming a magnetic field for the current flowing through the coil to change the refractive index of the lower thin film.

바람직하게, 상기 구동부는 상기 코일과 대향하는 하나 이상의 영구자석을 포함하는 것을 특징으로 한다. Preferably, the drive unit is characterized in that it comprises one or more permanent magnets facing the coil.

그리고, 본 발명에 따른 카메라의 초점 조절 장치는, And, the focus control device of the camera according to the invention,

기판 상에 반사면 및 코일이 적층되며, 상기 기판 하부에 상기 반사면과 대향되는 자석을 포함하는 가변 초점 미러; 상기 코일에 인가되는 전류에 의해 형성된 자기장으로 상기 반사면의 곡률 반경을 조절하기 주는 가변 초점 제어부를 포함하는 것을 특징으로 한다. A variable focus mirror having a reflection surface and a coil stacked on the substrate, the variable focus mirror including a magnet facing the reflection surface below the substrate; And a variable focus control unit for adjusting a radius of curvature of the reflective surface by a magnetic field formed by a current applied to the coil.

바람직하게, 상기 가변 초점 미러는 광 경로 상에 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 한다. Advantageously, said variable focus mirror comprises one or more on an optical path.

바람직하게, 상기 가변 초점 제어부는 입사광의 초점 거리를 조절하기 위해 상기 코일의 전류 세기를 제어하는 것을 특징으로 한다. Preferably, the variable focus control unit is characterized in that to control the current intensity of the coil to adjust the focal length of the incident light.

한편, 본 발명에 따른 카메라의 초점 조절 장치 제작방법은, On the other hand, the manufacturing method of the focus adjustment apparatus of the camera according to the present invention,

기판 상에 하부박막을 형성시키는 단계; Forming a lower thin film on the substrate;

상기 기판 하부를 식각하여 강화 틀을 형성하는 단계;Etching a lower portion of the substrate to form a reinforcing mold;

상기 하부박막 상에 코일을 형성하는 단계;Forming a coil on the lower thin film;

상기 강화 틀을 식각하여 하부박막을 띄우는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다. Etching the reinforcement frame is characterized in that it comprises a step of floating the lower film.

상기와 같이 구성되는 본 발명 실시 예에 따른 휴대 단말기용 카메라 렌즈의 이송 제어 장치에 대하여 첨부된 도면을 참조하여 설명하면 다음과 같다.Referring to the accompanying drawings, a transfer control apparatus for a camera lens for a mobile terminal according to an exemplary embodiment of the present invention configured as described above is as follows.

도 1은 2군 렌즈 방식의 광학 줌 카메라 모듈의 분해 사시도이다.1 is an exploded perspective view of an optical zoom camera module of a two-group lens system.

도 1에 도시된 바와 같이, 제1렌즈군(11a)을 탑재한 제 1렌즈군 조립체(11)와, 제 2렌즈군(12a)을 탑재한 제2렌즈군 조립체(12)와, 상기 렌즈군(11a,12a)을 통과한 입사신호가 전기적신호로 검출되는 이미지 센서(13a)를 구비한 센서부(13)를 포함하는 구성이다. As shown in FIG. 1, the first lens group assembly 11 on which the first lens group 11a is mounted, the second lens group assembly 12 on which the second lens group 12a is mounted, and the lens The sensor unit 13 includes an image sensor 13a in which incident signals passing through the groups 11a and 12a are detected as electrical signals.

이러한 카메라 모듈은 제 1렌즈군 조립체(11)와 제2렌즈군 조립체(12)의 간격 조정에 따라 제 1렌즈군(11a)과 제 2렌즈군(12a) 사이의 거리가 조정(14,15)되므로, 광학 줌 및 자동 초점 기능이 구현되며, 제 2렌즈군(12a)을 통해 입사된 신호가 센서부(13)의 이미지 센서(13a)에서 전기적 신호로 검출된다. 이러한 방식의 이미지 센서(13a)의 화상을 결정하게 되다. The camera module adjusts the distance between the first lens group 11a and the second lens group 12a according to the distance between the first lens group assembly 11 and the second lens group assembly 12. Therefore, the optical zoom and autofocus functions are implemented, and a signal incident through the second lens group 12a is detected as an electrical signal by the image sensor 13a of the sensor unit 13. The image of the image sensor 13a in this manner is determined.

이러한 2군 렌즈 방식의 광학 줌 카메라 모듈에서 광학 줌 렌즈군은 상대적 으로 큰 변위로 필요로 하며, 자동 초점 렌즈군은 빠른 기동을 필요로 한다. 줌 기능의 강화와 화질에 따라 상기의 렌즈군 조립체를 가동시켜 주기 위한 가동부에 대한 요구 조건들은 복잡해진다. 이러한 문제를 해결하기 위해 가변 초점 미러를 제공하며, 가변 초점 미러를 이용하여 반사면의 곡률 조절이 렌즈군의 이동을 대체하게 된다.In such a two-group lens type optical zoom camera module, the optical zoom lens group requires a relatively large displacement, and the auto focus lens group requires a quick start. With the enhancement of the zoom function and the image quality, the requirements for the movable part for operating the lens group assembly are complicated. In order to solve this problem, a variable focus mirror is provided, and the curvature adjustment of the reflective surface replaces the movement of the lens group by using the variable focus mirror.

도 2의 (a)(b)(c)는 본 발명에 따른 가변 초점 미러의 사시도이다. 2 (a) (b) (c) are perspective views of the variable focus mirror according to the present invention.

도 2의 (a)는 일정 형상(예: 원형, 사각형 등)의 박막(22)에 반사면(21)이 형성된 구성으로, 상기 박막(22)의 중심부가 반사면(21)에 지지되어 상 방향(24) 또는 하 방향(23)으로 이동되어, 박막(22)로부터 내부의 반사면(21)의 곡률 변화가 발생된다. 이러한 곡률 변화에 의해 반사광의 초점 거리를 변화시키게 된다. 도 2의 (a)는 초기 상태의 반사면이고, 도 2의 (b) 및 (c)은 반사면(21)의 중심부가 하부쪽으로 d1 또는 d2 만큼의 변위를 일으킨 경우, 가변 초점 미러의 반사면 곡률은 r1 또는 r2와 같이 변화하게 되고, 이에 따라 반사광의 초점 거리가 변화하게 된다.FIG. 2A is a configuration in which a reflective surface 21 is formed on a thin film 22 having a predetermined shape (for example, a circle, a square, etc.), and a central portion of the thin film 22 is supported by the reflective surface 21. Moved in the direction 24 or the lower direction 23, a change in curvature of the reflection surface 21 inside from the thin film 22 occurs. This change in curvature changes the focal length of the reflected light. (A) of FIG. 2 is a reflective surface in the initial state, and (b) and (c) of FIG. 2 are half of the variable focus mirror when the central portion of the reflective surface 21 causes a displacement of d1 or d2 downward. The slope curvature changes as r1 or r2, and thus the focal length of the reflected light changes.

이러한 가변 초점 미러의 제작 방법은 다음과 같다. 도 3의 (a)~(f)는 본 발명 실시 예에 따른 가변 초점 미러의 제작 방법을 나타낸 도면이다. The manufacturing method of such a variable focus mirror is as follows. 3A to 3F are views illustrating a method of manufacturing a variable focus mirror according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3의 (a)(b)와 같이 기판(31)의 후면에 강화 틀(32)을 제작하게 된다. 상기 기판(31)은 예를 들면, 양면이 연마된 실리콘 기판이며, 상기 기판의 후면(배면)에 형성되는 강화 틀(32)은 에칭 방식으로 형성되는 데 예를 들면, RIE(silicon deep Reactive Ion Etch) 기술을 사용하여 실리콘 강화 틀(32)이 형성된다. 상기의 강화 틀(32)은 요철 형상으로 형성되는 것이 바람직하며, 인접 요철 형상의 간격 또는 전체 요철의 형상은 미러(Mirror)의 두께에 의해 변경 가능하다. 상기 강화 틀의 전체 형상은 동심원 구조, 방사상 구조, 격자 구조 또는 이들의 조합 중 하나로 제작될 수 있다. As shown in (a) and (b) of FIG. 3, the reinforcement frame 32 is manufactured on the rear surface of the substrate 31. The substrate 31 is, for example, a silicon substrate polished on both sides, and the reinforcement mold 32 formed on the rear surface (back side) of the substrate is formed by etching, for example, silicon deep reactive ion Silicon reinforced mold 32 is formed using Etch technology. The reinforcement frame 32 is preferably formed in a concave-convex shape, and the interval between adjacent concave-convex shapes or the shape of the entire concave-convex shape can be changed by the thickness of the mirror. The overall shape of the reinforcement mold may be made of one of concentric, radial, lattice, or a combination thereof.

도 3의 (c)(d)와 같이 상기 기판(31)의 전면에는 하부 박막(33)이 적층된다. 상기 하부 박막(33) 상에는 하부 전극(34) 및 절연막(35)이 차례대로 적층된다. 상기 절연막(35)은 하부전극(34)과의 전류의 경로를 제공하기 위한 코일 연결홈(35a,35b)이 형성된다. 상기 하부 박막(33)은 다이어 프램(diaphragm)으로 동작한다. 상기 하부 박막은 강화 틀이 제작되기 전 또는 제작된 후에 적층될 수 있다.As shown in FIG. 3C, the lower thin film 33 is stacked on the entire surface of the substrate 31. The lower electrode 34 and the insulating layer 35 are sequentially stacked on the lower thin film 33. Coil connecting grooves 35a and 35b are formed in the insulating layer 35 to provide a path for current with the lower electrode 34. The lower thin film 33 acts as a diaphragm. The lower thin film may be laminated before or after the reinforcement mold is manufactured.

상기 하부박막(33) 또는 절연막(35)의 재질로는 실리콘 질화막(silicon Nitride), 실리콘 산화막(silicon oxide) 등의 반도체나 유전체(dielectric), 세라믹(ceramic), 폴리머(polymer) 등을 사용할 수 있다. As the material of the lower thin film 33 or the insulating film 35, a semiconductor such as a silicon nitride film or a silicon oxide film, a dielectric, a ceramic, a polymer, or the like may be used. have.

다시 말하면, 상기 하부박막(33)의 재질로는 실리콘, 실리콘 질화막(silicon nitride), 실리콘 산화막(silicon oxide) 등의 반도체나 유전체(dielectric), 세라믹, 폴리머(polymer), 금속 등의 다양한 소재가 사용될 수 있으며, 금속을 반사막으로 사용할 경우 하부박막(33)과 하부 전극(34)을 제거하고 하부 박막인 반사막 자체를 전류의 경로로 사용할 수 있다. 또한 절연막(35)으로는 실리콘 질화막(silicon nitride), 실리콘 산화막(silicon oxide), 세라믹, 폴리머(polymer) 등의 재질을 사용할 수 있다. 또한 하부박막(33)으로 금속 층을 사용하고, 하부박막(33)과 하부 전극(34) 사이에 추가적인 절연막을 형성할 수도 있다.In other words, as the material of the lower thin film 33, various materials such as semiconductors such as silicon, silicon nitride, and silicon oxide, dielectrics, ceramics, polymers, and metals may be used. When the metal is used as the reflective film, the lower thin film 33 and the lower electrode 34 may be removed, and the lower thin film may be used as a current path. In addition, a material such as silicon nitride, silicon oxide, ceramic, or polymer may be used as the insulating layer 35. In addition, a metal layer may be used as the lower thin film 33, and an additional insulating film may be formed between the lower thin film 33 and the lower electrode 34.

도 3의 (e)와 같이 상기 절연막(35) 상에는 코일(36)이 형성되는 데, 상기 코일(36)은 절연막 (35)상으로 형성되며 상기 하부 전극(34)과의 전류 경로를 형성되도록 상기 코일 연결홈(35a,35b)에 형성되어 하부 전극(34)과 연결된다. 여기서, 상기 코일 연결홈(35a,35b)은 코일(36)의 양단을 전기적으로 연결되도록 하기 위해 하나는 중심부(35a)에, 나머지 하나는 기판 끝단(35b)으로 형성시켜 준다.As shown in FIG. 3E, a coil 36 is formed on the insulating film 35, and the coil 36 is formed on the insulating film 35 to form a current path with the lower electrode 34. The coil connection grooves 35a and 35b are formed to be connected to the lower electrode 34. Here, the coil connection grooves 35a and 35b are formed at the central portion 35a and the other end at the substrate end 35b so as to electrically connect both ends of the coil 36.

상기 절연막(35) 상에 형성되는 코일(36)과 하부 전극(34)의 재질로는 전해 도금(electroplating), 스퍼터링(sputtering), 진공 증착(evaporation) 등의 공정을 사용하여 형성할 수 있는 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 크롬(Cr), 금(Au), 은(Ag) 등 모든 종류의 금속을 사용할 수 있으며, ITO(Indium Tin Oxide)나 도전성 폴리머와 같은 비금속 도전체를 사용할 수도 있다.As the material of the coil 36 and the lower electrode 34 formed on the insulating layer 35, aluminum which may be formed using a process such as electroplating, sputtering, vacuum evaporation, or the like. All kinds of metals such as (Al), nickel (Ni), copper (Cu), chromium (Cr), gold (Au) and silver (Ag) can be used, and nonmetals such as indium tin oxide (ITO) or conductive polymers Conductors can also be used.

기판 전면의 코일 형성 공정 완료 후, 도 3의 (e)(f)와 같이 기판 후면의 실리콘 강화 틀(32)을 제거하여, 코일(36)이 형성된 다이어 프램(33)을 띄운다. 즉, 강화 틀(32) 및 하부박막(33)의 하부에 접촉된 기판(31)을 제거하여, 하부박막(33)의 하부가 관통공(37)에 의해 노출되도록 한다. 여기서, 상기 실리콘 강화 틀(32)의 식각 공정은 건식 등방성 식각(dry isotropic etch) 공정인 XeF2 장비에 의한 식각을 사용한다. 이러한 공정을 통해 가변 초점 미러를 완성하게 된다.After completion of the coil formation process on the front surface of the substrate, the silicon reinforcement frame 32 on the rear surface of the substrate is removed as shown in FIG. 3 (e) (f) to float the diaphragm 33 on which the coil 36 is formed. That is, the substrate 31 in contact with the lower portion of the reinforcement frame 32 and the lower thin film 33 is removed, so that the lower portion of the lower thin film 33 is exposed by the through hole 37. Here, the etching process of the silicon reinforcing mold 32 uses an etching by XeF2 equipment which is a dry isotropic etching process. This process completes the variable focus mirror.

이러한 가변 초점 미러의 제작시 마지막 단계에서 높은 선택비를 갖는 건식 식각에 의해 하부 박막 구조물을 띄우는 공정을 채용하여, 하부박막 표면의 손상 없이 높은 수율을 얻을 수 있다.In the manufacture of such a variable focus mirror, a process of floating the lower thin film structure by dry etching having a high selectivity in the last step may be employed to obtain a high yield without damaging the surface of the lower thin film.

그리고, 가변 초점 미러의 반사면은 코일이 형성된 반대쪽인 하부박막(33)의 하부에 형성하게 되는데, 하부박막(33)의 재질이 투명할 경우 하부 전극을 반사면으로 사용할 수도 있고, 하부박막 하부에 추가적으로 반사막을 형성할 수도 있다. 반사막 재질로는 금속, 유전체 및 금속과 유전체를 적층한 조합을 사용할 수 있다.The reflective surface of the variable focus mirror is formed under the lower thin film 33 on the opposite side where the coil is formed. When the material of the lower thin film 33 is transparent, the lower electrode may be used as the reflective surface. In addition, a reflective film may be formed. As the reflective film material, a combination of a metal, a dielectric, and a laminate of a metal and a dielectric may be used.

도 4의 (a)(b)(c)는 가변 초점 미러의 전면 일부 공정도 및 A-A',B-B',C-C' 단면도로서, 기판(31) 상에 하부박막(33) 및 하부 전극(34)이 형성되면, 하부 전극(34) 상에 절연막(35)을 적층시킨다. 상기 절연막(35)에 하부 전극(34)과 연통되는 코일 연결 홈(35a,35b)은 중심부에 하나, 끝단에 하나가 형성된다. 이후, 상기 절연막(35) 및 코일 연결홈(35a,35b) 위에 전해 도금 등의 공정을 통해 코일(36)을 형성하게 된다. 39는 상기 코일(36)에 전원을 공급하기 위한 구동패드이다.4A, 4B, and 4C are cross-sectional views of a partial front surface of the variable focus mirror and cross-sectional views A-A ', B-B', and CC 'of the lower thin film 33 and the lower part of the substrate 31; When the electrode 34 is formed, the insulating film 35 is stacked on the lower electrode 34. The coil connecting grooves 35a and 35b communicating with the lower electrode 34 are formed at the center and one at the end of the insulating layer 35. Thereafter, the coil 36 is formed on the insulating layer 35 and the coil connection grooves 35a and 35b through a process such as electroplating. 39 is a driving pad for supplying power to the coil 36.

도 5의 (a)(b)는 본 발명에 따른 가변 초점 미러의 후면 공정도이다. 도 5의 (a)에서 기판(31)의 후면에 실리콘 이방성 건식 식각(reactive ion etch)을 통하여 형성된 실리콘 강화 틀(32)은 전면의 코일 형성 공정 완료 후, 개별 칩으로 분리하여, 실리콘 등방성 건식 식각 장비 예로서, 플루오르화크세논(예: XeF2) 또는 이의 혼합물을 관련 식각 장비로 제거하게 된다(도 5의 b).5A and 5B are rear view drawings of the variable focus mirror according to the present invention. In FIG. 5A, the silicon reinforcing mold 32 formed through the silicon anisotropic dry ion etch on the rear surface of the substrate 31 is separated into individual chips after completion of the coil formation process on the front surface, and isotropic silicon isotropic dry process. Etching equipment As an example, xenon fluoride (e.g. XeF2) or mixtures thereof will be removed with the associated etching equipment (Fig. 5b).

이때, 기판(31)에 형성된 관통공(37)을 통해서 하부박막(33)의 하부가 드러나게 되므로, 하부박막(33)의 저면에 추가적인 반사막 형성 공정을 거쳐 공정을 완료하거나, 다이어 프램 상에 형성된 하부 전극을 반사막으로 사용할 수 있다. 상기 반사면 또는 반사막은 원형, 타원형 또는 다각형으로 형성될 수 있다. In this case, since the lower portion of the lower thin film 33 is exposed through the through hole 37 formed in the substrate 31, the process may be completed through an additional reflective film forming process on the bottom surface of the lower thin film 33 or may be formed on the diaphragm. The lower electrode can be used as the reflective film. The reflective surface or the reflective film may be formed in a circle, oval or polygon.

도 6은 본 발명에 따른 전자력 구동이 가능한 가변 초점 미러(30) 및 구동부(50)를 도시한 단면도이며, 도 7은 도 6의 사시도이다. 도 6 및 도 7에 도시된 바 와 같이, 반사면(38)이 되는 하부박막(33)의 관통공(37)쪽 면 반대편에 자장을 공급하는 영구자석(51)을 배치하게 되는데, 영구자석(51) 및 코일(36)의 전류(+,-) 공급으로 방사상(반지름 방향 또는 r 방향)의 자기장에 의해 하부박막(33)이 구동된다. 따라서 하나의 영구자석(51)을 사용할 수도 있으나 도시된 바와 같이 2개의 자석(51, 52)과 지지대(54)를 사용함으로써 자기장의 세기를 현저히 증가시킬 수 있다. 도 7과 같이 내부의 원통형 자석(51)은 z방향(M1)으로 자화가 되고, 이와 소정의 거리(53)를 두고 배치된 속이 빈 원통형의 자석(52)은 z방향의 반대(M2)로 자화가 되어있고, 전체 자석 영역의 하부에 투자율(permeability)이 높은 물질로 제작된 지지대(54)를 배치할 경우, 반지름(r) 방향의 자기장은 하나의 자석을 사용하는 경우보다 현저히 증가하게 된다. 도 7(a)에서 r방향으로 자기장이 형성되고 코일(36)에 q방향으로 전류가 흐를 경우 코일(36)이 형성된 하부 박막(33)에는 z방향의 로렌츠 힘(Lorentz force)이 작용하게 된다. 6 is a cross-sectional view illustrating the variable focus mirror 30 and the driving unit 50 capable of driving an electromagnetic force according to the present invention, and FIG. 7 is a perspective view of FIG. 6. 6 and 7, as shown in FIG. 6, the permanent magnet 51 for supplying the magnetic field is disposed on the opposite side of the through-hole 37 side of the lower thin film 33, which becomes the reflective surface 38, which is a permanent magnet. The lower thin film 33 is driven by a radial (radial or r direction) magnetic field by supplying the current 51 and the coil 36 to the current (+,-). Therefore, although one permanent magnet 51 may be used, the strength of the magnetic field may be significantly increased by using two magnets 51 and 52 and the support table 54 as shown. As shown in FIG. 7, the inner cylindrical magnet 51 is magnetized in the z direction M1, and the hollow cylindrical magnet 52 disposed at a predetermined distance 53 is disposed in the opposite direction of the z direction M2. When the support 54 is made of magnetized material and made of a material with high permeability in the lower part of the entire magnet region, the magnetic field in the radial direction r is significantly increased than using a single magnet. . In FIG. 7A, when a magnetic field is formed in the r direction and a current flows in the q direction in the coil 36, a Lorentz force in the z direction is applied to the lower thin film 33 on which the coil 36 is formed. .

하부박막(33)이 높은 광 투과율을 갖는 물질로 제작된 경우 하부 전극(34)을 반사면으로 사용할 수도 있고, 도 7과 같이 하부박막(33)의 관통공(37) 쪽 면에 따로 반사면(38)을 형성할 수도 있다. 반사면(39)의 재질로는 Al, Au, Ag 등의 금속이나 1층 이상의 유전체 또는 이들의 조합을 사용할 수 있다. 제작 공정에 있어서 하부박막(33)과 반사면(38), 그리고 하부 전극(34) 등의 스트레스(stress)를 조절함으로써 반사면(38)의 초기 상태를 조절할 수 있는데, 초기 처짐(initial deflection)이 없이 반사면이 평평한 상태로 제작하거나 반사면 중심부에 소정의 초기 처짐이 존재하도록 제작할 수도 있다. When the lower thin film 33 is made of a material having a high light transmittance, the lower electrode 34 may be used as a reflecting surface, and as shown in FIG. 7, the reflecting surface is separately on the side of the through hole 37 of the lower thin film 33. (38) may be formed. As the material of the reflecting surface 39, a metal such as Al, Au, Ag, one or more dielectrics, or a combination thereof may be used. In the manufacturing process, the initial state of the reflective surface 38 can be controlled by adjusting the stresses of the lower thin film 33, the reflective surface 38, and the lower electrode 34. Initial deflection Without this, the reflective surface may be manufactured in a flat state or may be manufactured such that a predetermined initial deflection exists at the center of the reflective surface.

본 발명에 따른 가변 초점 미러는 가변 초점 제어부에 의해 상기 코일에 인가되는 전류의 방향 또는 세기에 의해 하부박막 및 이에 형성된 층들이 광 경로 방향(즉, 광 축)으로 곡률 반경을 제어하게 됨으로써, 가변 초점 조절 및 자동 초점 기능을 수행할 수 있다. In the variable focus mirror according to the present invention, the lower thin film and the layers formed thereon control the radius of curvature in the optical path direction (that is, the optical axis) by the direction or intensity of the current applied to the coil by the variable focus controller. Focus adjustment and auto focus can be performed.

이러한 가변 초점 장치는 광 경로 상에 하나 또는 그 이상이 설치될 수 있다. One or more such variable focusing devices may be installed on the light path.

도 8은 본 발명 실시 예에 따른 가변 초점 미러를 이용한 카메라 모듈의 구성도이다. 입사되는 광(61)은 광학 특성을 갖는 하나 이상의 렌즈 등을 거쳐 이미지 센서(67)에 집광된다. 이때, 수직으로 장착된 이미지 센서(67)를 향해 2번 굴절되는 광 경로를 사용하며 굴절부에 위치한 두 개의 가변 초점 미러(63, 65)가 각각 초점 조절과 광학 줌 기능을 수행하게 된다. 두 가변 초점 미러(63,65) 사이에 위치한 광학계(64)로는 렌즈, 반사면, 필터, 기계식 셔터, 조리개 등을 사용할 수 있으며, 가변 초점 미러1(63)의 앞 단과 가변 초점 미러2(65)와 이미지 센서(67) 사이에도 적합한 광학계(62)(66)를 선택적으로 구비할 수 있다. 본 발명에 의한 가변 초점 미러(63,65)를 사용한 초점 조절과 광학 줌 기능은 종래의 렌즈군 이동 방식을 사용하는 카메라 모듈에도 선택적으로 적용이 가능하며, 다양한 광 경로로 모듈을 구성하는 것이 가능하다. 8 is a block diagram of a camera module using a variable focus mirror according to an exemplary embodiment of the present invention. The incident light 61 is focused on the image sensor 67 via one or more lenses having optical properties. In this case, the optical path is refracted twice toward the vertically mounted image sensor 67, and the two variable focus mirrors 63 and 65 positioned in the refraction portion respectively perform focus adjustment and optical zoom functions. The optical system 64 located between the two varifocal mirrors 63 and 65 may use a lens, a reflecting surface, a filter, a mechanical shutter, an aperture, etc., and the front end of the varifocal mirror 1 63 and the varifocal mirror 2 (65). ) And an optical system 62, 66 suitable for the image sensor 67 may optionally be provided. Focus adjustment and optical zoom using the variable focus mirrors 63 and 65 according to the present invention can be selectively applied to a camera module using a conventional lens group shifting method, and the module can be configured with various optical paths. Do.

이제까지 본 발명에 대하여 그 바람직한 실시 예를 중심으로 살펴보았으며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 본질적 기술 범위 내에서 상기 본 발명의 상세한 설명과 다른 형태의 실시 예들을 구현할 수 있 을 것이다. 여기서 본 발명의 본질적 기술범위는 특허청구범위에 나타나 있으며, 그와 동등한 범위 내에 있는 모든 차이점은 본 발명에 포함된 것으로 해석되어야 할 것이다.So far, the present invention has been described with reference to the preferred embodiments, and those skilled in the art to which the present invention pertains to the detailed description of the present invention and other forms of embodiments within the essential technical scope of the present invention. It can be implemented. Here, the essential technical scope of the present invention is shown in the claims, and all differences within the equivalent range will be construed as being included in the present invention.

본 발명에 의한 카메라의 초점 제어 장치 및 그 제작방법에 의하면, 기존의 스텝 모터 등 각 종 액츄에이터를 사용한 구동기에 의해 광학 줌이나 초점 조절 기능을 카메라 모듈과 달리 별도의 액츄에이터나 구동 매커니즘 없이 소형 카메라 모듈에서 초점 가변 미러를 구현함으로써, 소형,경량화에 적합한 효과가 있다.According to the apparatus for controlling a focus of a camera and a method of manufacturing the same according to the present invention, an optical zoom or focus adjustment function is performed by a driver using various actuators, such as a conventional step motor, without a separate actuator or driving mechanism, unlike a camera module. By implementing the focus variable mirror in the, there is an effect suitable for compact, lightweight.

또한 가변 초점 미러의 제작시 마지막 단계에서 높은 선택비를 갖는 건식 식각에 의해 다이어프램 구조물을 띄우는 공정을 채용하여, 다이어 프램 표면의 손상 없이 높은 수율을 얻을 수 있는 특징이 있다.In addition, the manufacturing process of the variable focus mirror adopts a process of floating the diaphragm structure by dry etching with a high selectivity in the last step, so that a high yield can be obtained without damaging the diaphragm surface.

또한 최소한의 공간을 점유하면서 필요 성능을 충족시킬 수 있어, PDA, 핸드폰, 휴대용 단말기 등 다양한 휴대용 기기에 적합할 것으로 기대된다.In addition, it can meet the required performance while occupying the minimum space, and is expected to be suitable for various portable devices such as PDA, mobile phone and portable terminal.

Claims (24)

기판;Board; 하부에 반사면을 포함하며, 상기 기판 상에 적층되는 하부박막;A lower thin film including a reflective surface at a lower portion thereof and stacked on the substrate; 상기 하부박막 상에 형성되는 코일을 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절 장치.Focusing device of the camera, characterized in that it comprises a coil formed on the lower thin film. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 하부박막 상에 적층되는 하부전극과, 상기 하부전극 및 코일 사이에 적층되는 절연층을 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절 장치.And a lower electrode stacked on the lower thin film, and an insulating layer stacked between the lower electrode and the coil. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판의 저면에는 상기 하부박막에 해당되는 영역에 광 경로를 위한 관통공이 형성된 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절 장치.Focusing apparatus of the camera, characterized in that the through hole for the optical path is formed in the area corresponding to the lower thin film on the bottom surface of the substrate. 제 1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 기판의 하부에는 상기 코일에 흐르는 전류에 대해 자기장을 형성하여, 상기 하부박막의 굴절률을 가변시켜 주는 구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절 장치.And a driver configured to form a magnetic field with respect to an electric current flowing through the coil in a lower portion of the substrate to vary the refractive index of the lower thin film. 제 4항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 구동부는 상기 코일과 대향하는 하나 이상의 영구자석을 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절 장치.And the driving unit includes at least one permanent magnet facing the coil. 기판 상에 반사면 및 코일이 적층되며, 상기 기판 하부에 상기 반사면과 대향되는 자석을 포함하는 가변 초점 미러;A variable focus mirror having a reflection surface and a coil stacked on the substrate, the variable focus mirror including a magnet facing the reflection surface below the substrate; 상기 코일에 인가되는 전류에 의해 형성된 자기장으로 상기 반사면의 곡률 반경을 조절하기 주는 가변 초점 제어부를 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절 장치.And a variable focus control unit for adjusting a radius of curvature of the reflective surface by a magnetic field formed by a current applied to the coil. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 가변 초점 미러는 광 경로 상에 하나 이상을 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절 장치.And the variable focus mirror comprises one or more on the optical path. 제 6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 가변 초점 제어부는 입사광의 초점 거리를 조절하기 위해 상기 코일의 전류 세기를 제어하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치.The variable focus controller controls the current intensity of the coil to adjust the focal length of the incident light. 기판 상에 하부박막을 형성시키는 단계;Forming a lower thin film on the substrate; 상기 기판 하부를 식각하여 강화 틀을 형성하는 단계;Etching a lower portion of the substrate to form a reinforcing mold; 상기 하부박막 상에 코일을 형성하는 단계;Forming a coil on the lower thin film; 상기 강화 틀을 식각하여 하부박막을 띄우는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.Etching the reinforcement frame to float the bottom thin film manufacturing method of the camera comprising the step of floating. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 하부 박막의 저면에는 반사면이 형성되는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.Method for manufacturing a focus of the camera, characterized in that the reflecting surface is formed on the bottom surface of the lower thin film. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 하부 박막은 유전체, 폴리머, 세라믹 또는 금속 중 적어도 하나인 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.And the lower thin film is at least one of a dielectric, a polymer, a ceramic, or a metal. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 강화 틀은 동심원, 방사상, 격자, 이들의 조합 구조 중 하나로 식각되는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.The reinforcement frame is a method of manufacturing a focusing apparatus of a camera, characterized in that the etching of one of concentric circles, radial, grating, combinations thereof. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 코일은 알루미늄(Al), 니켈(Ni), 구리(Cu), 크롬(Cr), 금(Au), 은(Ag)의 금속 중 하나 또는 이들의 조합으로 형성되는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.The focus of the camera, characterized in that the coil is formed of one or a combination of metals of aluminum (Al), nickel (Ni), copper (Cu), chromium (Cr), gold (Au), silver (Ag). How to make control device. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 코일은 ITO(Indium Tin Oxide),도전성 폴리머 등의 비금속 또는 이들의 조합으로 형성되는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.The coil is made of a non-metal or a combination thereof, such as indium tin oxide (ITO), a conductive polymer, or a combination thereof. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 강화 틀을 식각하여 하부박막을 띄우는 단계는, 등방성 건식 식각 공정을 이용하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.The step of floating the lower thin film by etching the reinforcement frame, a method of manufacturing a focus control apparatus for a camera, characterized in that using an isotropic dry etching process. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 반사면은 원형, 타원형, 또는 다각형 중 어느 하나 인 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.The reflecting surface is a method of manufacturing a focus adjusting apparatus of the camera, characterized in that any one of a circle, oval, or polygon. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 반사면은 금속, 유전체, 또는 금속과 유전체의 적층 구조로 형성되는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.And the reflective surface is formed of a metal, a dielectric, or a laminated structure of a metal and a dielectric. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 하부 박막과 코일 사이에 하부 전극을 형성하는 단계, 상기 하부 전극과 코일 사이에 부분적으로 연결되도록 적층되는 절연막을 더 형성시켜 주는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.Forming a lower electrode between the lower thin film and the coil, and forming an insulating layer stacked to be partially connected between the lower electrode and the coil. 제 18항에 있어서,The method of claim 18, 상기 하부박막 및 절연막은 실리콘 질화막(silicon Nitride), 실리콘 산화막(silicon oxide) 등의 유전체, 세라믹(ceramic), 폴리머(polymer) 중 어느 하나로 각각 제작되는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.The lower thin film and the insulating film are each made of any one of a dielectric such as silicon nitride (silicon nitride), silicon oxide (silicon oxide), ceramic (ceramic), a polymer (polymer), characterized in that the manufacturing method of the focusing apparatus of the camera. 제 9항에 있어서,The method of claim 9, 상기 코일에 인가되는 전류에 의해 상기 코일과 대향되는 영구자석 사이에 발생되는 자기장에 의해 상기 하부 박막의 곡률 반경이 가변되는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.And a curvature radius of the lower thin film is changed by a magnetic field generated between the coil and the permanent magnet facing the coil by a current applied to the coil. 기판 상에 다이어 프램을 형성시키는 단계;Forming a diaphragm on the substrate; 상기 다이어 프램 상에 코일을 적층시키는 단계;Stacking a coil on the diaphragm; 상기 기판 하부의 다이어 프램 저면에 반사면을 형성시키는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.And forming a reflecting surface on a bottom surface of the diaphragm under the substrate. 제 21항에 있어서,The method of claim 21, 상기 기판 상에 다이어 프램을 형성시키기 전 또는 후에 기판 하부를 식각하여 강화 틀을 형성시키는 단계 및 상기 형성된 강화 틀을 코일 적층 후에 제거하는 단계를 각각 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.Before or after forming the diaphragm on the substrate to form a reinforcement mold by etching the lower part of the substrate, and removing the formed reinforcement mold after coil lamination, respectively. . 제 21항에 있어서,The method of claim 21, 상기 다이어 프램과 코일 사이에 하부 전극을 형성하는 단계, 상기 하부 전극과 코일 사이에 부분적으로 연결되도록 적층되는 절연막을 더 형성시켜 주는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.Forming a lower electrode between the diaphragm and the coil, and forming an insulating film laminated to be partially connected between the lower electrode and the coil. 제 21항에 있어서,The method of claim 21, 상기 다이어 프램 및 코일이 적층된 기판 일측에, 상기 코일과의 사이에 전자기력을 발생하는 하나 이상의 영구자석을 배치하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 카메라의 초점 조절장치 제작방법.And disposing one or more permanent magnets generating electromagnetic force between the diaphragm and the coil on one side of the substrate, wherein the diaphragm and the coil are stacked.
KR1020050112153A 2005-11-23 2005-11-23 Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method KR20070054303A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050112153A KR20070054303A (en) 2005-11-23 2005-11-23 Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050112153A KR20070054303A (en) 2005-11-23 2005-11-23 Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070054303A true KR20070054303A (en) 2007-05-29

Family

ID=38276129

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050112153A KR20070054303A (en) 2005-11-23 2005-11-23 Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20070054303A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100956378B1 (en) * 2008-04-22 2010-05-07 삼성전기주식회사 Shutter apparatus

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100956378B1 (en) * 2008-04-22 2010-05-07 삼성전기주식회사 Shutter apparatus

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR100864691B1 (en) A variable focusing Mirror and Camera Module using thereof
KR100657002B1 (en) Electromagnetic variable focus mirror, fabrication method for the same, and operating method for the same
JP5581053B2 (en) Polymer lens
JP4450289B2 (en) Liquid zoom lens
US6914635B2 (en) Microminiature zoom system for digital camera
KR102019098B1 (en) Micro electro mechanical systems device
JP4427537B2 (en) Liquid zoom lens
WO2021213216A1 (en) Periscopic camera module, multi-camera module and method for assembling camera module
CN111983801A (en) Piezoelectric MEMS actuator for compensating undesired motion and manufacturing process thereof
CN102902039A (en) Auto-focusing lens based on micro-electromechanical system
US7412157B2 (en) Lens driving device
JP2006098600A (en) Camera module and personal digital assistant equipped with camera module
JP4795083B2 (en) Piezoelectric driving device, imaging device, and portable terminal device
KR20070054303A (en) Control apparatus for focus of the camera and its manufacture method
TWI302610B (en) Camera zoom module for portable device
KR102204647B1 (en) Micro electro mechanical systems device and camera module having the same
Wang et al. Polymer deformable mirror for optical auto focusing
JP2007300708A (en) Piezoelectric drive unit, image forming device, and portable terminal device
KR102107584B1 (en) Micro electro mechanical systems device
CN115542438A (en) Liquid zoom lens device
KR20070040541A (en) An optical system and a method for operating it
KR20060023772A (en) Actuator for displacing a lens and optical system having it
JP2006098593A (en) Camera module and personal digital assistant equipped therewith
CN115202130A (en) Periscopic camera module

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
E601 Decision to refuse application