KR20070034882A - Cleaning Brush - Google Patents

Cleaning Brush Download PDF

Info

Publication number
KR20070034882A
KR20070034882A KR1020050089527A KR20050089527A KR20070034882A KR 20070034882 A KR20070034882 A KR 20070034882A KR 1020050089527 A KR1020050089527 A KR 1020050089527A KR 20050089527 A KR20050089527 A KR 20050089527A KR 20070034882 A KR20070034882 A KR 20070034882A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
brush
substrate
cleaning
main body
shaft
Prior art date
Application number
KR1020050089527A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
장경덕
Original Assignee
세메스 주식회사
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 세메스 주식회사 filed Critical 세메스 주식회사
Priority to KR1020050089527A priority Critical patent/KR20070034882A/en
Publication of KR20070034882A publication Critical patent/KR20070034882A/en

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A46—BRUSHWARE
    • A46B—BRUSHES
    • A46B7/00—Bristle carriers arranged in the brush body
    • A46B7/06—Bristle carriers arranged in the brush body movably during use, i.e. the normal brushing action causing movement
    • A46B7/10—Bristle carriers arranged in the brush body movably during use, i.e. the normal brushing action causing movement as a rotating cylinder
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A46—BRUSHWARE
    • A46B—BRUSHES
    • A46B9/00—Arrangements of the bristles in the brush body
    • A46B9/005—Arrangements of the bristles in the brush body where the brushing material is not made of bristles, e.g. sponge, rubber or paper
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02076—Cleaning after the substrates have been singulated
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/02041—Cleaning
    • H01L21/02096—Cleaning only mechanical cleaning
    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A46—BRUSHWARE
    • A46B—BRUSHES
    • A46B2200/00—Brushes characterized by their functions, uses or applications
    • A46B2200/30—Brushes for cleaning or polishing
    • A46B2200/3073—Brush for cleaning specific unusual places not otherwise covered, e.g. gutters, golf clubs, tops of tin cans, corners

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Cleaning Or Drying Semiconductors (AREA)

Abstract

본 발명은 파티클이 발생되지 않고, 기판에 스크래치를 발생시키지 않는 세정장치용 브러시를 제공한다. 세정장치용 브러시는 세정장치의 샤프트에 삽입 고정되는 고정부재; 및 그 상기 고정부재에 일체로 구비되며 기판에 면접촉되는 세정표면이 형성되는 본체를 포함한다. 본체는 PVA 스폰지로 형성되고, 단일의 원통형으로 형성되거나, 상호 연속적으로 배치되어 원통형을 이루는 복수의 브러시부재로 형성된다. 각각의 브러시부재의 외표면은 라운드 처리된다. The present invention provides a brush for a cleaning apparatus in which particles are not generated and scratches are not generated on a substrate. The cleaning device brush includes a fixing member inserted into the shaft of the cleaning device; And a body provided integrally with the fixing member and having a cleaning surface in surface contact with the substrate. The main body is formed of a PVA sponge, and formed of a single cylindrical shape, or a plurality of brush members arranged in succession to form a cylindrical shape. The outer surface of each brush member is rounded.

기판 세정장치, 브러시, 샤프트, 스폰지, 스크래치 Substrate Cleaner, Brush, Shaft, Sponge, Scratch

Description

세정장치용 브러시{Brush for cleaning apparatus}Brush for cleaning apparatus

도 1은 일반적인 기판 세정장치의 구성을 개략적으로 보여주는 정면도. 1 is a front view schematically showing the configuration of a general substrate cleaning apparatus.

도 2는 도 1의 기판 세정장치의 브러시를 보여주는 사시도.FIG. 2 is a perspective view illustrating a brush of the substrate cleaner of FIG. 1. FIG.

도 3은 도 2의 선Ⅲ-Ⅲ에 따른 단면도.3 is a cross-sectional view taken along line III-III of FIG. 2;

도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 세정장치용 브러시의 사시도.4 is a perspective view of a brush for a cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention.

도 5는 도 4의 선Ⅴ-Ⅴ에 따른 단면도.5 is a cross-sectional view taken along the line VV of FIG. 4.

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 세정장치용 브러시의 사시도.6 is a perspective view of a brush for cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention.

도 7은 도 6의 선Ⅶ-Ⅶ에 따른 단면도로서, 본 발명의 제2실시예에 따른 브러시의 단면도.FIG. 7 is a cross-sectional view taken along line VII-VII of FIG. 6, illustrating a brush according to a second embodiment of the present invention. FIG.

* 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings

10: 고정부재 20: 본체10: fixing member 20: main body

22: 브러시부재 S: 샤프트 22: brush member S: shaft

본 발명은 세정장치용 브러시에 관한 것으로서, 보다 상세하게는 경량이고 유지 및 보수가 용이하며, 기판과의 접촉면적이 증대되어 세정효율이 향상되며, 기 판에 흠집이나 스크래치를 발생시키자 않고, 파티클(particles)이 발생되지 않는 세정장치용 브러시에 관한 것이다. The present invention relates to a brush for a cleaning apparatus, and more particularly, to light weight, easy to maintain and repair, to increase the contact area with the substrate to improve the cleaning efficiency, without causing scratches or scratches on the substrate, The present invention relates to a brush for a cleaning device in which particles are not generated.

최근 들어, 정보 처리 기기는 다양한 형태의 기능과 더욱 빨라진 정보 처리 속도를 갖도록 급속하게 발전하고 있다. 이러한 정보 처리 장치는 가동된 정보를 표시하기 위해 디스플레이 장치를 가진다. 지금까지는 디스플레이 장치로 브라운관(Cathode Ray Tube) 모니터가 주로 사용되었으나, 최근에는 반도체 기술의 급속한 발전에 따라 가볍고 공간을 작게 차지하는 평판 디스플레이 장치의 사용이 급격히 증대하고 있다. 평판 디스플레이로는 다양한 종류가 있으며, 이들 중 전력 소모와 부피가 작고 저 전압 구동형인 액정 디스플레이(Liquid Crystal Display)가 널리 사용되고 있다.Recently, information processing devices have been rapidly developed to have various types of functions and faster information processing speeds. This information processing apparatus has a display device for displaying the operated information. Until now, a cathode ray tube monitor has been mainly used as a display device, but recently, with the rapid development of semiconductor technology, the use of a flat display device that is light and occupies a small space is rapidly increasing. There are various types of flat panel displays. Among them, liquid crystal displays, which are small in power consumption and small in volume, and low voltage driven, are widely used.

이러한 액정 디스플레이를 제조하기 위해 다양한 공정들이 수행되며, 이들 중 세정공정은 기판 상에 붙어 있는 먼지나 유기물 등을 제거하기 위해 수행된다. 이러한 세정 공정은 탈이온수를 사용하여 기판을 수세(rinse)하는 수세 공정 또는 브러시를 이용한 세정공정과, 공기를 분사하여 기판에 부착된 탈이온수를 제거하는 건조 공정을 포함한다. Various processes are performed to manufacture such a liquid crystal display, and among them, a cleaning process is performed to remove dust, organic matter, and the like stuck on the substrate. The cleaning process includes a washing process using a deionized water to rinse the substrate, or a washing process using a brush, and a drying process in which air is blown to remove the deionized water attached to the substrate.

이 같은 공정들 중 브러시를 이용한 세정공정은 도 1에 도시된 바와 같이 기판 세정장치에서 행해진다. 그 기판 세정장치는 부분적으로 도시된 챔버(1)를 구비하며, 그 챔버(1)의 내부에는 상하로 대향 설치되는 브러시(2)가 설치된다. 각각의 브러시(2)는 샤프트(3)에 설치되며, 각각의 샤프트(3)는 일단이 베어링(4)에 의해 챔버(1)에 고정되며, 타단에는 챔버(1)를 관통하여 외부로 연장되어 모터와 같은 액튜에이터(5)에 연결되어 있다. 한편, 실제로 기판을 세정하기 위한 브러시(2)는 나일론과 같은 합성수지로 형성된 다수의 모(2a)로 이루어져 있으며, 샤프트(3)를 중심으로 원형으로 배치되어 형성된다. Among these processes, a cleaning process using a brush is performed in the substrate cleaning apparatus as shown in FIG. 1. The substrate cleaning apparatus has a chamber 1 partially shown, and inside the chamber 1 is provided a brush 2 facing up and down. Each brush 2 is installed in the shaft 3, each shaft 3 having one end fixed to the chamber 1 by a bearing 4, and at the other end penetrating the chamber 1 and extending outwardly. And is connected to an actuator 5 such as a motor. On the other hand, the brush 2 for actually cleaning the substrate is composed of a plurality of wool (2a) formed of synthetic resin such as nylon, is formed in a circular arrangement around the shaft (3).

이 같은 구성에 따라, 세정장치의 챔버(1)의 내부로 이송되는 기판(6)은 액튜에이터(5) 및 샤프트(3)에 의해 회전되는 브러시(2)사이를 통과하면서, 그 브러시(2)의 각각의 모(2a)의 브러싱 작용에 의해 기판(6)의 표면으로부터 이물질이 제거되어 세정되는 것이다. According to this configuration, the substrate 6 transported into the chamber 1 of the cleaning apparatus passes between the actuator 5 and the brush 2 rotated by the shaft 3, while the brush 2 The foreign matter is removed and cleaned from the surface of the substrate 6 by the brushing action of the respective hairs 2a.

그러나 이와 같이 브러시가 다수의 나일론 모로 이루어진 경우, 브러시와 기판의 빈번한 접촉으로 인해 브러시의 각각의 모의 선단이 갈라지거나 마멸되고 파티클이 발생되어 기판의 제품성에 영향을 미치며, 장기간의 사용시 각각의 모가 눕혀지거나 엉켜지는 변형이 초래되어 세정효과를 반감시키는 문제점이 있다. However, when the brush is made of a plurality of nylon wool as described above, the bristles of the brush and the substrate frequently contact each other, the tip of each brush cracks or wears out, and particles are generated, affecting the product quality of the substrate. There is a problem in that the deformation or entanglement is caused to halve the cleaning effect.

또한, 브러시의 각각의 모의 파열 또는 마멸로 인해 기판의 표면에 스크래치 도는 흠집이 발생되어 기판의 제품불량을 초래하며, 전체 기판 처리시스템에 설치된 브러시의 회전수, 회전량, 브러시의 기판에 대한 압입량에 따라 기판의 세정결과가 차이가 나므로 제품의 균일성을 유지할 수 없는 문제점이 있다. In addition, each simulated rupture or abrasion of the brush may cause scratches or scratches on the surface of the substrate, resulting in product defects of the substrate. Since the cleaning result of the substrate is different depending on the amount, there is a problem in that the uniformity of the product cannot be maintained.

이에 본 발명은 상술된 문제점을 해결하기 위해 발명된 것으로서, 본 발명의 목적은 전체 중량이 경량이고, 파티클의 발생이 방지되며, 세정효과가 우수하고, 기판의 스크래치로 인한 흠집의 발생이 방지되는 세정장치용 브러시를 제공하는데 있다. Accordingly, the present invention has been invented to solve the above-described problems, the object of the present invention is that the total weight is light, the generation of particles is prevented, the cleaning effect is excellent, the occurrence of scratches due to scratches of the substrate is prevented The present invention provides a brush for a cleaning device.

본 발명의 바람직한 실시예에 따른 기판 세정장치용 브러시는, 기판 처리시스템의 세정장치용 브러시에 있어서, 세정장치의 샤프트에 삽입 고정되는 고정부재; 및 그 고정부재에 일체로 구비되며, 외측면이 기판에 면접촉되는 세정면을 구비하는 본체를 포함한다. A brush for a substrate cleaning apparatus according to a preferred embodiment of the present invention, comprising: a fixing member inserted into and fixed to a shaft of a cleaning apparatus, the brush for cleaning apparatus of a substrate processing system; And a main body provided integrally with the fixing member and having a cleaning surface whose outer surface is in surface contact with the substrate.

이하, 본 발명에 따른 바람직한 실시예를 첨부도면을 참조로 하여 상세히 설명한다. Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 4는 본 발명의 제1실시예에 따른 세정장치용 브러시의 사시도이고, 도 5는 도 4의 부분확대 단면도이다. 4 is a perspective view of a brush for a cleaning apparatus according to a first embodiment of the present invention, Figure 5 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG.

먼저, 도 4 및 도 5를 참조하면, 본 발명의 제1실시예에 따른 기판 세정장치용 브러시는 전술된 바와 같이 회전 가능하게 설치된 샤프트(S)에 설치되는 고정부재(10)를 구비한다. 고정부재(10)는 샤프트(S)에 외삽되는 파이프형으로 형성되는 것이 바람직하지만, 그 샤프트(S)에 요동 또는 변형 없이 고정될 수 있는 다른 고정수단으로 형성될 수 있다.First, referring to FIGS. 4 and 5, the brush for cleaning the substrate according to the first embodiment of the present invention includes a fixing member 10 installed on the shaft S rotatably installed as described above. The fixing member 10 is preferably formed in a pipe shape that is extrapolated to the shaft S, but may be formed of other fixing means that can be fixed to the shaft S without oscillation or deformation.

그 고정부재(10)는 실제로 기판(GS)에 접촉되어 세정하기 위한 본체(20)를 구비한다. 본체(20)는 외표면이 기판(GS)에 면접촉을 이루어 세정을 실행할 수 있도록 원기둥형의 단일체로 형성된다.The fixing member 10 has a main body 20 for actually contacting and cleaning the substrate GS. The main body 20 is formed in a cylindrical unitary body so that the outer surface is brought into surface contact with the substrate GS to perform cleaning.

특히, 본체(20)는 스폰지와 같은 합성수지 또는 천연재질로 형성되거나 멜라민 레진 폼과 같은 재질로 형성되는 것이 바람직하며, 경량이며 세정력이 우수한 PVA(Poly Vinyl Alcohol) 스폰지로 형성되는 것이 가장 바람직하다. In particular, the body 20 is preferably formed of a synthetic resin, such as a sponge or a natural material, or a material such as melamine resin foam, it is most preferably formed of a lightweight vinyl PVA (Poly Vinyl Alcohol) sponge excellent in cleaning power.

이와 같이 본체(20)가 단일체의 PVA 스폰지로 형성됨으로 인해, 그 본체(20)의 외표면(20a)과 기판(GS)의 표면간의 접촉면이 확대됨은 물론 균일한 전촉면적을 이루게 되어 세정효과가 향상될 수 있는 것이다. As such, since the main body 20 is formed of a single body PVA sponge, the contact surface between the outer surface 20a of the main body 20 and the surface of the substrate GS is enlarged and a uniform contact area is achieved, resulting in a cleaning effect. It can be improved.

또한, 본체(20)의 외표면이 부드럽고 소프트한 성질 및 형태를 가지고 있어 기판에 스크래치와 같은 흠집을 발생시키거나 손상을 초래케 하는 것이 방지되는 것이다. In addition, the outer surface of the main body 20 has a soft and soft property and shape to prevent scratches such as scratches or damage to the substrate.

더욱이, 본체(20)가 경량인 PVA 스폰지로 형성됨으로써, 샤프트(S)와의 결합된 중량이 경량화 되어 샤프트의 회전동력이 최소로 소모되어 전력을 절약할 수 있는 것이다.In addition, since the main body 20 is formed of a lightweight PVA sponge, the combined weight with the shaft S is reduced, so that rotational power of the shaft is minimized, thereby saving power.

도 6은 본 발명의 제2실시예에 따른 세정장치용 브러시의 사시도이고, 도 7은 도 6의 부분확대 단면도이다6 is a perspective view of a brush for a cleaning apparatus according to a second embodiment of the present invention, Figure 7 is a partially enlarged cross-sectional view of FIG.

도 6 및 도 7을 참조하면, 본 발명의 제2실시예에 따른 기판 세정장치용 브러시는 제1실시예와 유사하게 액튜에이터(미도시)에 의해 회전 가능하게 설치된 샤프트(S)에 설치되는 고정부재(10)를 구비한다. 그 고정부재(10)는 샤프트(S)에 고정되는 파이프형으로 형성되는 것이 바람직하며, 그 샤프트(S)에 요동 또는 변형 없이 고정될 수 있는 다른 고정수단으로 형성될 수 있다.6 and 7, the brush for cleaning the substrate according to the second embodiment of the present invention is fixed to the shaft S installed rotatably by an actuator (not shown) similarly to the first embodiment. The member 10 is provided. The fixing member 10 is preferably formed in a pipe shape that is fixed to the shaft (S), it may be formed by other fixing means that can be fixed to the shaft (S) without shaking or deformation.

그 고정부재(10)는 실제로 기판(G)에 접촉되어 세정하기 위한 본체(20)를 구비한다. 본체(20)는 세정능력은 유지하면서 자체 중량은 더욱 감소시킬 수 있도록 복수의 브러시부재(22)로 형성되는 것이 바람직하다. The fixing member 10 has a main body 20 for actually contacting and cleaning the substrate G. The main body 20 is preferably formed of a plurality of brush members 22 so as to further reduce the weight while maintaining the cleaning ability.

각각의 브러시부재(22)는, 기판에 스크래치 또는 흠집을 발생시키는 것을 방지하도록 기판(GS)과 면접촉을 이루는 외표면(22a)이 라운드 처리되고, 스폰지와 같은 합성수지 또는 천연재질이나 멜라민 레진 폼과 같은 재질로 형성되는 것이 바람직하며, 경량이며 세정력이 우수한 PVA 스폰지로 형성되는 것이 가장 바람직하다. Each brush member 22 is rounded with an outer surface 22a which is in surface contact with the substrate GS to prevent scratches or scratches on the substrate, and is made of synthetic resin such as sponge or natural or melamine resin foam. It is preferable to be formed of the same material, and most preferably, it is formed of a PVA sponge having a light weight and excellent cleaning power.

이와 같이 본체(20)가 PVA 스폰지로 형성되는 복수의 브러시부재(22)로 이루어져 있어, 그 각각의 브러시부재(22)의 외표면(22a)과 기판(GS)의 표면간의 접촉이 유연하고 부드럽게 이루어질 수 있으며, 결국 기판을 안정적으로 세정할 수 있는 것이다. In this way, the main body 20 is composed of a plurality of brush members 22 formed of PVA sponge, so that the contact between the outer surface 22a of each brush member 22 and the surface of the substrate GS is flexible and smooth. It can be made, and eventually the substrate can be stably cleaned.

또한, 본체(20)의 외표면이 부드럽고 소프트한 성질 및 형태를 가지고 있어 기판에 스크래치와 같은 흠을 발생시키거나 손상을 초래케 하는 것이 방지되는 것이다. In addition, since the outer surface of the main body 20 has a soft and soft property and shape, it is possible to prevent scratches such as scratches or damage to the substrate.

더욱이, 본체(20)가 더욱 경량으로 형성될 수 있으므로, 샤프트(S)와의 결합된 중량이 더욱 경량화 되어 샤프트의 회전동력이 최소로 소모되어 전력을 절약할 수 있는 것이다.Moreover, since the main body 20 can be formed at a lighter weight, the combined weight with the shaft S is further reduced, so that the rotational power of the shaft is minimized to save power.

이하, 전술된 바와 같이 구성되는 세정장치용 브러시의 작용모드 및 그 작용효과를 실험예를 통해 상세히 설명한다.Hereinafter, the operation mode and the operation effect of the brush for the cleaning device configured as described above will be described in detail through the experimental example.

실험예1Experimental Example 1

본 발명의 제1실시예에 따른 세정장치용 브러시를 이용하여 FPD 제조시스템의 제조장치에서 기판(GS)을 세정한 결과와, 종래의 나일론 모를 주요 구성요소로 하는 브러시(비교예)에 의한 세정결과 다음 표1과 같은 결과를 획득하였다.The result of cleaning the substrate GS in the manufacturing apparatus of the FPD manufacturing system using the cleaning apparatus brush according to the first embodiment of the present invention, and the cleaning by a brush (comparative example) having a conventional nylon wool as a main component Results The results shown in Table 1 were obtained.

표 1Table 1

구분division 스크래치scratch 파티클particle 세정결과Cleaning result 브러시변형Brush deformation 실시예 1Example 1 미발생Not Occurred 미발생Not Occurred 우수Great 없음none 비교예Comparative example 발생Occur 발생Occur 보통usually 있음has exist

위 표1로부터 알 수 있듯이 본 발명의 제1실시예에 따른 브러시에 의해 세정된 기판에서는, 종래의 일반적인 나일론모 브러시(비교예)에 비해, 스크래치를 발견할 수 없으며, 파티클이 발생되지 않으며, 세정효과가 우수한 것으로 나타났는바, 이는 본체(20)가 유연하고 소프트한 재질로 형성되어 결국 표면(20a)이 기판(GS)을 부드럽게 세정함으로써, 스크래치가 발생되지 않고, 부스러기와 같은 파티클이 발생되지 않기 때문인 것으로 확인되었다. As can be seen from Table 1 above, in the substrate cleaned by the brush according to the first embodiment of the present invention, scratches are not found and particles are not generated, compared to a conventional nylon hair brush (comparative example). The cleaning effect was found to be excellent, which is because the main body 20 is formed of a soft and soft material, so that the surface 20a gently cleans the substrate GS, so that scratches are not generated and particles such as debris are generated. It was confirmed that it was not.

실험예2Experimental Example 2

본 발명의 제2실시예에 따른 세정장치용 브러시를 이용하여 FPD 제조시스템의 제조장치에서 기판(GS)을 세정한 결과와, 종래의 나일론 모를 주성분으로 하는 브러시(비교예)에 의한 세정결과 다음 표1과 같은 결과를 획득하였다. The cleaning result of the substrate GS in the manufacturing apparatus of the FPD manufacturing system using the cleaning apparatus brush according to the second embodiment of the present invention, and the cleaning result of the conventional nylon wool brush (comparative example) The results as shown in Table 1 were obtained.

표 2TABLE 2

구분division 스크래치scratch 파티클particle 세정결과Cleaning result 브러시변형Brush deformation 실시예 2Example 2 미발생Not Occurred 미발생Not Occurred 우수Great 보통usually 비교예Comparative example 발생Occur 발생Occur 보통usually 있음has exist

위 표2로부터 알 수 있듯이 본 발명의 제2실시예에 따른 브러시에 의해 세정된 기판에서는, 종래의 일반적인 나일론모 브러시에 비해, 스크래치를 발견할 수 없었고, 파티클이 발생되지 않았으며, 세정효과가 우수한 것으로 나타났고, 특히 샤프트의 회전에 소요되는 전력이 현저히 감소된 것으로 나타났는바, 이는 본체(20)가 유연하고 소프트한 재질로 형성된 복수의 브러시부재(22)들로 이루어지고, 각각의 브러시 부재(22)의 라운드진 외표면(22a)이 기판(GS)을 부드럽게 세정함으로써, 스크래치가 발생되지 않고, 부스러기와 같은 파티클이 형성되지 않음은 물론, 본체(20)의 전체 중량이 현저히 감소했기 때문인 것으로 확인되었다.As can be seen from Table 2 above, in the substrate cleaned with the brush according to the second embodiment of the present invention, scratches could not be found, particles were not generated, and the cleaning effect was improved, compared to conventional nylon hair brushes. It was found to be excellent, and in particular, the power required for the rotation of the shaft was found to be significantly reduced, which is composed of a plurality of brush members 22 formed of a flexible and soft material of the main body 20, each brush When the rounded outer surface 22a of the member 22 gently cleans the substrate GS, scratches are not generated, particles such as debris are not formed, and the overall weight of the main body 20 is significantly reduced. It was confirmed that.

따라서, 브러시가 단일체 또는 복수의 스펀지 재질로 형성됨으로 인해 파티클의 발생 없이 안정적이고 신속하게 기판을 세정할 수 있는 것이다.Therefore, since the brush is formed of a single or a plurality of sponge materials, it is possible to reliably and quickly clean the substrate without generation of particles.

결과적으로 본 발명에 의한 기판 세정장치의 브러시에 의하면, 브러시가 단일체 또는 복수의 스펀지 재질로 형성되어 기판과 면접촉을 이루고 기판의 세정시 파티클이 발생되지 않고, 기판에 스크래치를 발생시키지 않게 되어 세정효과가 향상됨은 물론 기판의 제품성이 보장되는 효과가 있으며, 또한 자체 중량이 감소되어 샤프트의 구동시 전력이 절약되는 효과가 있다. As a result, according to the brush of the substrate cleaning apparatus according to the present invention, the brush is formed of a single body or a plurality of sponge materials to make a surface contact with the substrate, and no particles are generated when the substrate is cleaned, and scratches are not generated on the substrate. As well as the effect is improved, there is an effect of ensuring the productability of the substrate, and also has the effect of saving power when driving the shaft by reducing its own weight.

이상에서 본 발명에 따른 바람직한 실시예에 대해 설명하였으나, 본 기술 분야의 당업자라면 첨부된 특허청구범위를 벗어남이 없이 다양한 변형예 및 수정예를 실시할 수 있을 것으로 이해된다.While a preferred embodiment according to the present invention has been described above, it will be understood by those skilled in the art that various modifications and changes can be made without departing from the scope of the appended claims.

Claims (5)

기판 처리시스템의 세정장치용 브러시에 있어서,In the brush for cleaning apparatus of a substrate processing system, 세정장치의 샤프트에 삽입 고정되는 고정부재; 및A fixing member inserted and fixed to the shaft of the cleaning device; And 상기 고정부재에 일체로 구비되며, 상기 기판에 면접촉되는 세정표면이 형성되는 본체를 포함하는 세정장치용 브러시.And a main body integrally provided at the fixing member and having a cleaning surface in surface contact with the substrate. 제1항에 있어서, 상기 본체는 단일의 원통형으로 형성되는 것을 특징으로 하는 세정장치용 브러시.The brush of claim 1, wherein the main body is formed in a single cylindrical shape. 제1항에 있어서, 상기 본체는 상호 연속적으로 배치되어 원통형을 이루는 복수의 브러시부재로 형성되는 것을 특징으로 하는 세정장치용 브러시.The brush of claim 1, wherein the main body is formed of a plurality of brush members arranged in succession to each other to form a cylindrical shape. 제3항에 있어서, 상기 각각의 브러시부재의 외표면은 라운드 처리되는 것을 특징으로 하는 세정장치용 브러시. 4. The brush for cleaning apparatus according to claim 3, wherein the outer surface of each brush member is rounded. 제1항 내지 4항 중 어느 한 항에 있어서, 상기 본체는 PVA 스폰지로 형성되는 것을 특징으로 하는 세정장치용 브러시.The brush for cleaning apparatus according to any one of claims 1 to 4, wherein the main body is formed of a PVA sponge.
KR1020050089527A 2005-09-26 2005-09-26 Cleaning Brush KR20070034882A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050089527A KR20070034882A (en) 2005-09-26 2005-09-26 Cleaning Brush

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020050089527A KR20070034882A (en) 2005-09-26 2005-09-26 Cleaning Brush

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20070034882A true KR20070034882A (en) 2007-03-29

Family

ID=49290797

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020050089527A KR20070034882A (en) 2005-09-26 2005-09-26 Cleaning Brush

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20070034882A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100921428B1 (en) * 2008-03-17 2009-10-14 주식회사유라텍 Cleaning shaft for flat panel display

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100921428B1 (en) * 2008-03-17 2009-10-14 주식회사유라텍 Cleaning shaft for flat panel display

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2006253115A (en) Cleaning apparatus
JP2006314747A (en) Vacuum cleaner nozzle including roller with static generating fiber
JP2009094518A (en) Brush assembly and substrate cleaning apparatus provided with the same
TW201246340A (en) Post-CMP wafer cleaning apparatus
CN107199211A (en) display module terminal cleaning device and cleaning method
JP6143589B2 (en) Substrate processing equipment
JP2012248564A (en) Substrate cleaning method and roll cleaning member
JP2007165554A (en) Substrate processor and substrate processing method
CN112885741A (en) Wafer cleaning device and wafer cleaning method
KR20070034882A (en) Cleaning Brush
KR20070036397A (en) Apparatus for cleaning glass substrate
KR101376463B1 (en) Brush washing devices apparatus for display frame
KR20120135666A (en) Brush for cleaning
JP4283068B2 (en) Method for initializing cleaning member of substrate cleaning apparatus, substrate cleaning apparatus, substrate polishing and cleaning system
JP2003163196A (en) Cleaning equipment and cleaning method of semiconductor substrate
JPH10261605A (en) Semiconductor processor
KR20080109181A (en) Device for cleaning wafer face of semiconductor production equipment
KR20100069150A (en) Disk type brush
JP2003309097A (en) Method for cleaning scrub brush and cleaning dummy wafer for use therein
JP2000150441A (en) Roller brush washing device
JP2005123353A (en) Brush and washing device
JP7348021B2 (en) Substrate cleaning equipment and substrate cleaning method
KR20070103955A (en) Brush for cleaning
JP2008140928A (en) Cleaning equipment
KR20110058077A (en) Substrate-cleaning apparatus

Legal Events

Date Code Title Description
WITN Withdrawal due to no request for examination