KR20070034653A - Bowl static elimination method and related static elimination device in semiconductor device manufacturing equipment - Google Patents

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Abstract

반도체 소자 제조장비에서의 보울 정전기 제거방법이 개시된다. 웨이퍼를 클리닝하기 위한 장치의 보울에 차아지가 대전된 정전기를 제거하기 위한 방법은, 차아지를 갖는 보울에 코로나 방전방식을 이용한 이온주입을 행하여 상기 보울에 대전된 양전기 또는 음전기가 상기 코로나 방전에 의해 발생된 양전기 또는 음전기와 만나도록 하여 정전기가 제거되도록 함에 의해, 보울 클리닝시 정전기에 의한 화재를 예방하는 효과가 있다. Disclosed is a bowl static elimination method in a semiconductor device manufacturing equipment. A method for removing static charge charged to a bowl of an apparatus for cleaning a wafer includes performing ion implantation using a corona discharge method on a bowl having a charge so that a positive or negative charge charged to the bowl is discharged by the corona discharge. By meeting the generated positive or negative electricity so that the static electricity is removed, there is an effect of preventing fire due to static electricity during bowl cleaning.

반도체 소자 제조장비, 클리닝 장치, 보울, 정전기 제거 Semiconductor device manufacturing equipment, cleaning equipment, bowls, static elimination

Description

반도체 소자 제조장비에서의 보울 정전기 제거방법 및 그에 따른 정전기 제거장치{method and apparatus for eliminating bowl electrostatics in semiconductor device fabrication equipment}Bowl static elimination method and apparatus for eliminating bowl static in semiconductor device manufacturing equipment

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자 제조장치에서 보울 정전기 제거의 원리를 보여주는 개략적 장치도 1 is a schematic diagram showing the principle of electrostatic removal of the bowl in the semiconductor device manufacturing apparatus according to an embodiment of the present invention

본 발명은 반도체 소자를 제조하기 위한 반도체 제조장비에 관한 것으로, 특히 보울에 대전된 전하를 제거하기 위한 반도체 소자 제조장비에서의 보울 정전기 제거방법 및 그에 따른 정전기 제거장치에 관한 것이다. BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to semiconductor manufacturing equipment for manufacturing semiconductor devices, and more particularly, to a bowl static elimination method and a static electricity removing device in semiconductor device manufacturing equipment for removing charges charged to a bowl.

통상적으로, 개인용 컴퓨터 등과 같은 정보 매체의 급속한 보급에 따라 반도체 메모리 등과 같은 반도체 소자의 기능도 비약적으로 발전하고 있다. 최근의 반도체 제품들의 경우, 경쟁력 확보를 위해 낮은 비용, 고품질을 위해 필수적으로 제품의 고집적화가 요구된다. 고집적화를 위해서는 트랜지스터 소자의 게이트 산화막 두께 및 채널 길이들을 얇고 짧게 하는 작업 등을 포함하는 스케일 다운이 수반되어지며, 그에 따라 반도체 제조 공정 및 제조 장비도 다양한 형태로 발전되어 지고 있는 추세이다. 특히, 하이 퍼포먼스 디바이스를 사용자들이 요구함에 따라 그러한 반도체 소자를 제조하는 제조 장비의 기능이나 동작 퍼포먼스는 매우 중요하게 대두되고 있다. In general, with the rapid spread of information media such as personal computers, the functions of semiconductor devices such as semiconductor memories have also developed remarkably. In the case of recent semiconductor products, high integration of products is essential for low cost and high quality to secure competitiveness. In order to achieve high integration, scale-down including thinning and shortening of gate oxide film thickness and channel length of a transistor device is accompanied, and accordingly, semiconductor manufacturing processes and manufacturing equipments are being developed in various forms. In particular, as users demand high-performance devices, the function and operation performance of manufacturing equipment for manufacturing such semiconductor devices are very important.

통상적으로, 반도체 제조공정에 있어서 웨이퍼를 가공하는 제조장비는 웨이퍼를 이송하기 위한 이송로봇과, 웨이퍼 상에 원하는 막질을 증착하는 증착기와, 웨이퍼 상에 감광액을 도포하는 코터(coater)와, 상기 도포된 감광액을 베이킹하는 베이크 유닛과, 상기 웨이퍼를 일정한 위치에 정렬시키기 위한 정렬기와, 마스크나 레티클의 패턴이 웨이퍼 상부의 감광막에 전사되도록 하기 위해 노광원을 제공하는 노광기와, 상기 노광된 감광막을 현상하여 식각 마스크로서 사용되어질 감광막 패턴이 얻어지도록 하는 현상기와, 상기 감광막 패턴을 식각 마스크로 사용하여 노출된 막을 식각하는 식각장치를 포함한다. In general, a manufacturing apparatus for processing a wafer in a semiconductor manufacturing process includes a transfer robot for transferring a wafer, a deposition machine for depositing a desired film quality on the wafer, a coater for applying a photoresist onto the wafer, and the application. A baking unit for baking the prepared photosensitive liquid, an aligner for aligning the wafer at a predetermined position, an exposure unit for providing an exposure source so that the pattern of the mask or reticle is transferred to the photosensitive film on the wafer, and the exposed photosensitive film is developed. And a developing device for obtaining a photoresist pattern to be used as an etching mask, and an etching apparatus for etching the exposed film using the photoresist pattern as an etching mask.

상기한 바와 같은 반도체 소자 제조장비에 포함되며 반도체 제조공정에 사용되는 보울 클리닝 장치는 통상적으로 유기 세정기에 고전압으로 대전된 보울을 놓은 상태에서 클리닝을 행하므로, 화재의 위험성에 노출되어 있다. The bowl cleaning apparatus included in the semiconductor device manufacturing equipment as described above and used in the semiconductor manufacturing process is generally exposed to the danger of fire because cleaning is performed while the bowl charged with the high voltage is placed in the organic scrubber.

즉, 보울이 자체적으로 가지고 있는 대전전압은 2만 볼트 이상으로 되는데, 종래에는 고전압으로 대전된 보울을 유기 세정기에 놓을 경우에 보울에 차아지가 대전되어 정전기 불꽃(또는 스파크)이 발생되는 경우가 자주 초래된다. 그러한 정전기 불꽃은 유기 세정기에 담겨있는 아세톤에 전달되기 때문에 화재를 일으킬 수 있다. In other words, the bowl has its own charging voltage of 20,000 volts or more. In the related art, when a bowl charged with a high voltage is placed in an organic cleaner, a charge is charged to the bowl to generate an electrostatic spark (or spark). It is often caused. Such electrostatic sparks can cause a fire because they are transferred to the acetone contained in the organic scrubber.

상기한 바와 같이, 종래에는 아세톤을 이용하여 보울을 클리닝하기 때문에 보울의 클리닝시에 고전압으로 대전되어 있는 보울이 유기 세정기에 놓여질 경우에 정전기에 의한 불꽃이 발생되어 내부에 있는 아세톤의 연소를 유발시킬 수 있는 문제점이 있어 왔다. As described above, since the bowl is conventionally cleaned using acetone, when the bowl charged with high voltage is placed in the organic scrubber, sparks caused by static electricity are generated to cause combustion of acetone inside. There has been a problem that can be.

따라서, 본 발명의 목적은 상기한 종래의 문제점을 해결할 수 있는 반도체 소자 제조장비를 제공함에 있다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a semiconductor device manufacturing equipment that can solve the above problems.

본 발명의 다른 목적은 반도체 소자 제조장비의 보울에 대전되어 있는 정전기를 용이하게 제거할 수 있는 방법 및 그에 따른 정전기 제거장치를 제공함에 있다. Another object of the present invention is to provide a method capable of easily removing static electricity charged in a bowl of a semiconductor device manufacturing equipment, and an apparatus for removing static electricity.

본 발명의 또 다른 목적은 코로나 방전방식을 이용하여 보울의 양전기 또는 음전기를 효과적으로 제거할 수 있는 방법 및 장치를 제공함에 있다. Still another object of the present invention is to provide a method and an apparatus capable of effectively removing a bowl of positive or negative charge using a corona discharge method.

본 발명의 또 다른 목적도 보울의 클리닝 시에 정전기 불꽃에 의한 화재를 예방할 수 있는 반도체 소자 제조장비에서의 보울 정전기 제거방법 및 그에 따른 정전기 제거장치를 제공함에 있다. It is still another object of the present invention to provide a bowl static elimination method and a static elimination device according to the semiconductor device manufacturing equipment that can prevent the fire caused by the electrostatic spark when cleaning the bowl.

상기한 목적들을 달성하기 위한 본 발명의 실시예적 구체화에 따라, 보울에 차아지가 대전된 정전기를 제거하기 위한 방법은, 차아지를 갖는 보울에 코로나 방전방식을 이용한 이온주입을 행하여 상기 보울에 대전된 양전기 또는 음전기가 코 로나 방전에 의해 발생된 양전기 또는 음전기와 만나도록 하여 보울의 정전기가 제거되도록 함을 특징으로 한다. According to an embodiment of the present invention for achieving the above object, a method for removing the static charge charged to the bowl, the ion charged by the corona discharge method to the bowl having the charge charged to the bowl It is characterized in that the positive or negative electrode meets the positive or negative electrode generated by the corona discharge to remove the static electricity of the bowl.

바람직하기로, 상기 보울의 클리닝 시에 유기 세정기에 담겨지는 용액은 아세톤일 수 있다. Preferably, the solution contained in the organic scrubber when the bowl is cleaned may be acetone.

또한, 본 발명의 다른 기술적 양상에 따라, 보울을 구비하는 반도체 소자 제조장비는, 상기 장비의 일측벽에 설치되어 상기 장비의 내부에 놓여지는 보울의 정전기 량을 감지하기 위한 정전기 센서와; 상기 정전기 센서로부터 출력되는 정전기 감지 데이터를 수신하고 그 감지 데이터의 상태에 따른 코로나 방전이 행하여지도록 제어하는 제어부와; 상기 제어부의 제어명령에 응답하여 코로나 방전을 행하는 방전 실행부를 구비함을 특징으로 한다. In addition, according to another technical aspect of the present invention, a semiconductor device manufacturing apparatus having a bowl includes: an electrostatic sensor for detecting an amount of static electricity of a bowl installed on one side wall of the equipment and placed inside the equipment; A control unit which receives the static electricity sensing data output from the static electricity sensor and controls the corona discharge to be performed according to the state of the sensing data; And a discharge execution unit for performing corona discharge in response to a control command of the controller.

바람직하기로 상기 장비의 내부에는 질소 가스가 제공되며, 방전실행을 돕기 위한 팬이 더 설치될 수 있다. Preferably, the inside of the equipment is provided with nitrogen gas, a fan may be further installed to help discharge performance.

상기한 방법적 및 장치적 구성에 따르면, 보울 클리닝시 정전기에 의한 화재가 예방되는 효과가 있다. 그러므로, 제조공정에서의 로스가 감소되고 공정의 신뢰성이 증대되는 장점이 있다.According to the method and apparatus configuration described above, there is an effect that the fire caused by static electricity during the bowl cleaning is prevented. Therefore, there is an advantage that the loss in the manufacturing process is reduced and the reliability of the process is increased.

이하에서는 본 발명에 따른 반도체 소자 제조장비에서의 보울 정전기 제거방법 및 그에 따른 정전기 제거장치에 대한 바람직한 실시예가 첨부된 도면을 참조하여 설명된다. Hereinafter, a preferred embodiment of a bowl static electricity removing method and a static electricity removing device according to the semiconductor device manufacturing apparatus according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

먼저, 본 발명에서는 기본적으로 보울에 대전된 전압을 없애서 접지와의 전위차를 거의 제로볼트에 가깝게 만드는 방법에 제안된다. 따라서, 정전기로 인해 발생되는 불꽃을 없애 주기 때문에 클리닝 공정에서 발생될 수 있는 화재를 미연에 방지한다. First, the present invention basically proposes a method of eliminating the voltage charged to the bowl so that the potential difference with the ground is almost zero volts. Therefore, the flame generated by the static electricity is eliminated to prevent the fire that may occur in the cleaning process in advance.

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 반도체 소자 제조장치에서 보울 정전기 제거의 원리를 보여주는 개략적 장치도이다. 도면을 참조하면, 보울을 구비하는 반도체 소자 제조장비는, 상기 장비의 일측벽에 설치되어 상기 장비의 내부에 놓여지는 보울(20)의 정전기 량을 감지하기 위한 정전기 센서(50)와, 상기 정전기 센서(50)로부터 출력되는 정전기 감지 데이터를 수신하고 그 감지 데이터의 상태에 따른 코로나 방전이 행하여지도록 제어하는 제어부인 전원부 및 콘트롤러(40)와, 상기 제어부(40)의 제어명령에 응답하여 코로나 방전을 행하는 방전 실행부를 구비한다. 1 is a schematic device diagram illustrating a principle of electrostatic removal of a bowl in a semiconductor device manufacturing apparatus according to an exemplary embodiment of the present invention. Referring to the drawings, a semiconductor device manufacturing equipment having a bowl, the electrostatic sensor 50 for detecting the amount of static electricity of the bowl 20 is installed on one side wall of the equipment placed inside the equipment, and the static electricity Corona discharge in response to a control command of the power supply unit and the controller 40, which is a control unit for receiving the electrostatic sensing data output from the sensor 50 and performing corona discharge according to the state of the sensing data, and the control unit 40. The discharge execution part which performs the process is provided.

여기서, 상기 보울(20)의 클리닝 시에 유기 세정기에 담겨지는 용액은 아세톤일 수 있다. Here, the solution contained in the organic cleaner during the cleaning of the bowl 20 may be acetone.

도 1에 따른 정전기 제거의 플로우는 다음과 같다. 먼저, 대전되어 있는 보울(20)을 정전기 제거 시스템에 넣는다. 정전기 제거 시스템의 경우에 참조부호 70으로 표기된 바와 같이 접지가 되어 있는 상태이므로 전압 다운의 기능이 있다. 그러나 보울에는 차아지가 대전된 정전기가 있으므로, 본 발명의 실시예에서는 코로나 방전의 원리를 이용하여 양전기 또는 음전기를 발생시킨다. 또한, 질소 가스를 공급하여 보울(20)이 놓여진 하부 쪽으로 양전기 또는 음전기를 다운 플로우 시킨다. 다운 플로우가 미비할 경우에 팬(30)을 회전시켜 아래쪽으로 블로잉을 행한다. 상기 다운 플로우 되는 양전기 또는 음전기는 보울(20)에 있는 양전기와 음전기를 만나 중성으로 변하게 되므로, 보울 자체적으로 가지고 있는 정전기성분이 상실된다. 여기서, 상기 장비에는 다운 플로우가 원활히 될 수 있도록 배기구(60)가 연결되어 있다. The flow of static electricity removal according to FIG. 1 is as follows. First, the charged bowl 20 is placed in an electrostatic removal system. In the case of the static elimination system, as indicated by reference numeral 70, it is grounded and thus has a function of voltage down. However, since there is a static charge charged in the bowl, the embodiment of the present invention generates a positive or negative electricity using the principle of corona discharge. In addition, the supply of nitrogen gas to flow down the positive or negative to the lower side of the bowl 20 is placed. If the down flow is insufficient, the fan 30 is rotated to blow downward. The downflowing positive or negative is met with the positive and negative in the bowl 20 is changed to neutral, the electrostatic component of the bowl itself is lost. Here, the exhaust port 60 is connected to the equipment to facilitate the downflow.

결국, 대전된 보울에 코로나 방전방식을 이용한 이온주입을 통해 보울에 대전된 양전기 또는 음전기를 제거하는 것이다. 따라서, 보울이 가지고 있는 전기적 성분이 제거되면, 보울이 유기 세정기에 놓여질 경우에도 전위 차에 의한 불꽃이 발생되지 않으므로 아세톤과의 반응에 의한 화재 발생이 방지된다. 결국, 안정된 클리닝 작업이 제공되어진다. As a result, the positive charge or the negative charge charged in the bowl is removed by ion implantation using the corona discharge method. Therefore, when the electric component of the bowl is removed, even when the bowl is placed in the organic scrubber, sparks are not generated due to the potential difference, and thus, the occurrence of fire due to reaction with acetone is prevented. As a result, a stable cleaning operation is provided.

이와 같이, 반도체 공정에서 사용되는 보울 정전기 제거 시스템중 코로나 방전을 이용하는 정전기 제거 시스템이 본 발명의 기술적 원리임을 알 수 있다.  As such, it can be seen that the electrostatic elimination system using corona discharge among the bowl electrostatic elimination systems used in the semiconductor process is a technical principle of the present invention.

상기한 설명에서는 본 발명의 실시예를 위주로 도면을 따라 예를 들어 설명하였지만, 본 발명의 기술적 사상의 범위 내에서 본 발명을 다양하게 변형 또는 변경할 수 있음은 본 발명이 속하는 분야의 당업자에게는 명백한 것이다. 예를 들어, 사안이 다른 경우에 가스의 주입이나 방전의 방식을 최적화하여 변경할 수 있음은 물론이다. In the above description, the embodiments of the present invention have been described with reference to the drawings, for example. However, it will be apparent to those skilled in the art that the present invention may be variously modified or changed within the scope of the technical idea of the present invention. . For example, if the case is different, it can be changed to optimize the manner of gas injection or discharge.

상기한 바와 같이 본 발명에 따르면, 보울 클리닝시 정전기에 의한 화재가 예방되는 효과가 있다. 그러므로, 제조공정에서의 로스가 감소되고 공정의 신뢰성이 증대되는 장점이 있다. As described above, according to the present invention, there is an effect of preventing fire due to static electricity during bowl cleaning. Therefore, there is an advantage that the loss in the manufacturing process is reduced and the reliability of the process is increased.

Claims (5)

보울에 차아지가 대전된 정전기를 제거하기 위한 방법에 있어서:In a method for removing static charge charged to the bowl: 차아지를 갖는 보울에 코로나 방전방식을 이용한 이온주입을 행하여 상기 보울에 대전된 양전기 또는 음전기가 중성상태로 되게 하여 정전기가 제거되도록 함을 특징으로 하는 방법.The ion implantation using a corona discharge method to the bowl having a charge to the positive or negative charge charged in the bowl to a neutral state characterized in that the static electricity is removed. 제1항에 있어서, 상기 보울의 클리닝 시에 유기 세정기에 담겨지는 용액은 아세톤임을 특징으로 하는 방법.The method of claim 1 wherein the solution contained in the organic scrubber upon cleaning the bowl is acetone. 보울을 구비하는 반도체 소자 제조장비에 있어서:In a semiconductor device manufacturing equipment having a bowl: 상기 장비의 일측벽에 설치되어 상기 장비의 내부에 놓여지는 보울의 정전기 량을 감지하기 위한 정전기 센서와; An electrostatic sensor installed on one side wall of the equipment to sense an amount of static electricity of the bowl placed inside the equipment; 상기 정전기 센서로부터 출력되는 정전기 감지 데이터를 수신하고 그 감지 데이터의 상태에 따른 코로나 방전이 행하여지도록 제어하는 제어부와; A control unit which receives the static electricity sensing data output from the static electricity sensor and controls the corona discharge to be performed according to the state of the sensing data; 상기 제어부의 제어명령에 응답하여 코로나 방전을 행하는 방전 실행부를 구비함을 특징으로 하는 반도체 소자 제조장비.And a discharge execution unit configured to perform corona discharge in response to a control command of the control unit. 제3항에 있어서, 상기 장비의 내부에는 질소 가스가 제공되는 것을 특징으로 하는 반도체 소자 제조장비.The semiconductor device manufacturing apparatus of claim 3, wherein nitrogen gas is provided inside the equipment. 제4항에 있어서, 상기 장비에는 상기 보울에 대한 방전의 실행을 돕기 위한 팬이 더 설치됨을 특징으로 하는 반도체 소자 제조장비.5. The apparatus of claim 4, wherein a fan is further installed in the equipment to assist the discharge of the bowl.
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US11845113B2 (en) 2020-11-27 2023-12-19 Semes Co., Ltd. Unit for recycling treating liquid of substrate and apparatus for treating substrate with the unit

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