KR20070032383A - 에폭시 관능성 중합가능한 화합물을 함유하는 치과용조성물 - Google Patents

에폭시 관능성 중합가능한 화합물을 함유하는 치과용조성물 Download PDF

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KR20070032383A
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페터 비신게르
아드리안 에케르트
카르스텐 데데
토마스 클레트케
크리스토프 탈랙케르
Original Assignee
3엠 에에스페에 악티엔 게젤샤프트
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    • A61K6/087

Abstract

본 발명은 하나 이상의 아릴 알킬 에테르 잔기, 아릴 알킬 에테르 잔기의 각각의 아릴 잔기에 부착된 하나 이상의 할로겐 원자, 2 이상의 지방족 에폭시 잔기를 포함하며, 글리시딜 에테르 구조를 갖지 않는 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체, 개시제, 임의로 충전제, 및 임의로 개질제, 염료, 안료, 틱소트로픽제, 유동성 개질제, 중합체 증점제, 계면활성제, 방향 물질, 희석제(들) 및 향료로부터 선택된 부가 성분을 포함하는 치과용 조성물에 관한 것이다.
치과용 조성물, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체, 개시제, 굴절률

Description

에폭시 관능성 중합가능한 화합물을 함유하는 치과용 조성물 {Dental Composition Containing Epoxy Functional Polymerizable Compounds}
본 발명은 에폭시 관능성 중합가능한 화합물을 함유하는 경화가능한 치과용 조성물에 관한 것이다. 조성물은 향상된 특성을 가지며, 예컨대 치과용 충전 물질로서 사용될 수 있다.
복합재는 시판되고 있는 공지된 치과용 복원 물질이다. 그러나, 오늘날 대부분의 유기 기재 치과용 복원물은 메타크릴레이트 및/또는 아크릴레이트 화학제 기재이다. 이들은 통상적으로 불포화 성분의 광 유도된 라디칼 중합을 통해 경화된다. 이들은 종종 높은 중합 수축으로 인해 경화시 매우 높은 응력을 나타낸다. 옥시란 화학제 기재의 치과용 복원 물질이 낮은 수축 및 낮은 중합 응력을 나타낼 수 있는 것으로 생각된다.
WO 98/47046호에는 에폭시 수지 및 광개시제 시스템을 함유하는 광경화가능한, 부가 중합가능한 조성물이 기재되어 있다. 에폭시 수지는 글리시딜 에테르 단량체를 포함한다.
WO 00/19967호에는 양이온성 경화 공정을 통해 중합가능한 에폭시 반응성 관능기를 포함하는, 치과용 복원물 또는 치과용 보철물의 제조에 유용한 치과용 조성 물이 개시되어 있다. 에폭시 반응성 관능기는 지환족 에폭시드, 글리시딜 에테르 또는 옥세탄을 포함한다.
WO 98/22521호에는 에폭시드, 또는 에폭시드, 충전제 물질, 개시제, 억제제 및/또는 촉진제의 혼합물을 함유하는 중합가능한 물질이 기재되어 있다. 물질은 비교적 높은 점도를 갖는 지환족 에폭시 관능기를 포함한다.
WO 98/33645호에는 에폭시 실록산 및 폴리에폭시 수지의 캡슐제 또는 다이 접착제가 기재되어 있다. 중합가능한 혼합물은 지환족, 에폭시 관능성 실록산 및 규소 무함유 디-, 트리- 또는 폴리에폭시 수지를 함유한다. 특히, 이 수지는 브롬화 비스페놀 A의 디글리시딜 에테르의 수지일 수 있다.
WO 02/066535호에는 지방족 및 지환족 에폭시드기를 포함하는 규소 화합물 기재의 중합가능한 제제가 개시되어 있다. 상기 문헌에 개시된 제제는 분자 당 하나 이상의 지환족 에폭시드기를 갖는 중합가능한 화합물을 함유한다.
당업계에 공지된 치과용 복합재의 단점은 글리시딜 에테르 기재의 중합가능한 화합물이 중합 반응에서 그다지 반응성이지 않다는 것이다. 또다른 단점은 치과용 복합재 성분의 일부가 경화하는 동안 색을 형성하여, 미적 이유로 바람직하지 않다는 것이다. 색의 형성은 L* a* b* 등급의 값을 사용하여, 경화된 조성물 상에서 측정될 수 있다. 각각 적색 및 황색 변색의 양을 나타내는 a* 및 b* 값은 경화된 치과용 조성물의 미적 특성을 나타내는 특히 중요한 값이다. 필요한 경우, 색상을 보정하기 위해 조성물에 첨가될 수 있는 치과용 조성물을 위한 통상적인 염료 는 황색 및 적색 염료이다. 따라서, 낮은 a* 및 b* 값이 바람직하다.
따라서, 본 발명의 목적은 상기 언급한 하나 이상의 문제를 경감시키는 것이다.
본 발명의 또다른 목적은 향상된 특성, 특히 경화하는 동안 낮은 색상 형성과 함께 경화 반응시 에폭시 잔기의 높은 반응성을 갖는 조성물을 제공하는 것이다.
발명의 요약
본 발명의 취지 내에서 용어 "포함하는" 및 "함유하는"은 특징부의 비배타적인 목록을 말한다. 마찬가지로, 용어 "하나 (one 또는 a)"는 "하나 이상"의 의미로 이해된다.
본 발명에 따른 용어 "치과용 조성물"은 각종 목적을 위해 치과 분야에서 사용될 경화가능한 조성물, 예를 들어 접착제, 복원제 및 시멘트이다. 전형적으로, 상기 물질은 수 g의 소량으로 치과 용도로 사용된다.
상기 언급한 목적의 하나 이상이 하기 기재된 조성물을 제공함으로써 성취될 수 있음이 밝혀졌다.
놀랍게도, 글리시딜 에테르 잔기를 함유하지 않는 지방족 에폭시와 같은 중합가능한 기를 포함하는 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 사용하는 것이, 향상된 특성을 갖는 경화가능한 치과용 조성물을 제공함이 밝혀졌다.
따라서, 본 발명은
a) 각 아릴 잔기가 하나 이상의 할로겐 원자로 치환된, 하나 이상의 아릴 알킬 에테르 잔기; 및
하나 이상의 지방족 에폭시 잔기를 포함하며,
글리시딜 에테르 잔기를 갖지 않는,
하나 이상의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체,
b) 개시제,
c) 임의로 충전제, 및
d) 임의로 개질제, 안정화제, 염료, 안료, 틱소트로픽제, 유동성 개질제, 중합체 증점제, 계면활성제, 방향 물질, 희석제(들) 및 향료로 이루어진 군으로부터 선택된 부가 성분을 포함하는 경화가능한 치과용 조성물에 관한 것이다.
하나 이상의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 단독으로, 또는 본 발명의 범주 내에서 치과용 조성물을 제공하기 위해, 반응성 성분으로서 지방족 에폭시 및/또는 지환족 에폭시 관능기를 포함하는 기타 성분 및/또는 에폭시 외의 기타 관능기의 중합가능한 화합물과의 혼합물로서 사용될 수 있다. 본 발명의 조성물은 또한 원한다면, 기타 반응성 및/또는 비반응성 성분을 함유할 수 있다.
본 발명은 또한 하기 기재된 치과용 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
추가로, 본 발명은 하기 기재된 조성물의 사용 방법에 관한 것이다.
경화 (예, 광 유도된 양이온성 개환 중합)하는 동안의 색상 형성이 본 발명의 경화가능한 치과용 조성물 중에 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 사용함으로써 상당히 감소될 수 있음이 밝혀졌다.
할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 반응성은 참고 문헌에 공지된 유사한 지방족 에폭시 관능성 아릴 알킬 에테르 유도체보다 일반적으로 높다.
놀랍게도, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 바람직하게는, 비교적 높은 굴절률 및 높은 분자량을 갖는다. 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 굴절률은 당업계에 공지된 유사한 지방족 에폭시 관능성 아릴 알킬 에테르 유도체에 비해 특히 높을 수 있다. 이는 이들이 물의 흡수 및/또는 (예, 커피, 차, 레드 와인으로부터의) 수용성 염료의 흡수에 의한 변색 및/또는 팽윤에 내성을 가져야만 하기 때문에, 치과용 물질로서 중요하다.
본 발명의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 사용하여, 향상된 미적 특성을 갖는 치과용 물질이 성취될 수 있다.
본 발명에 기재된 치과용 조성물의 또다른 장점은 적절한 친지질성이다.
바람직하게는, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 1.530 내지 1.680, 바람직하게는 1.560 내지 1.650, 더욱 바람직하게는 1.590 내지 1.620의 굴절률을 갖는다.
바람직하게는, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 400 내지 10,000g/mol, 바람직하게는 600 내지 5,000g/mol, 더욱 바람직하게는 800 내지 2,000g/mol의 평균 분자량을 갖는다.
바람직하게는, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 40Pas 미만, 바람직하게는 20Pas 미만, 더욱 바람직하게는 5Pas 미만의 점도를 갖는다.
바람직하게는, 본 발명의 치과용 조성물은 하나 초과의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 1중량% 내지 90중량%, 바람직하게는 3중량% 내지 65중량%, 더욱 바람직하게는 10중량% 내지 30중량% 포함할 수 있다.
바람직하게는, 개시제의 양은 0.01 내지 25중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 1 내지 3중량%의 범위일 수 있다.
치과용 조성물에 충전제가 존재하면, 이는 3 내지 90중량%, 바람직하게는 25 내지 80중량%, 더욱 바람직하게는 50 내지 75중량%의 양으로 존재하는 것이 바람직하다.
하나 이상의 임의 부가 성분은 0 내지 25중량%, 바람직하게는 0 내지 15중량%, 더욱 바람직하게는 0 내지 3중량%의 양으로 존재할 수 있다.
상기 언급한 모든 범위는 경화가능한 조성물의 중량%로서 계산된다.
바람직하게는, 본 발명의 경화가능한 치과용 조성물은 경화된 상태로 하기 특성의 하나 이상을 갖는다.
경화된 치과용 조성물의 불투명도는 바람직하게는 10% 내지 88%이다. 더욱 바람직하게는 40% 내지 86%, 가장 바람직하게는 70% 내지 84%이어야 한다.
경화된 치과용 조성물의 압축 강도는 바람직하게는, 약 150MPa 초과, 바람직하게는 약 200MPa 초과, 더욱 바람직하게는 약 250MPa 초과이다.
경화된 치과용 조성물의 굴곡 강도는 바람직하게는, 약 50MPa 초과, 바람직하게는 약 65MPa 초과, 더욱 바람직하게는 약 80MPa 초과이다.
경화된 치과용 조성물의 색상 형성 (a* 값)은 -15 내지 0, 바람직하게는 -8 내지 0, 더욱 바람직하게는 -8 내지 -4이어야 한다.
경화된 치과용 조성물의 색상 형성 (b* 값)은 0 내지 18, 바람직하게는 1 내지 16, 더욱 바람직하게는 2 내지 14이어야 한다. 바람직하게는, 14를 넘지 않아야 한다.
AMES 돌연변이성 시험 프로토콜에 의해 측정시 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 돌연변이성은, 바람직하게는 음성이어야 한다.
할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 하기 화학 잔기;
- 하나 이상, 바람직하게는 2개 이상, 더욱 바람직하게는 2 내지 4개의 아릴 알킬 에테르 잔기 (여기서, 상기 아릴기는 바람직하게는 하나 이상, 더욱 바람직하게는 2개의 할로겐 원자로 치환됨), 및
- 2개 이상, 바람직하게는 3 내지 4개, 더욱 바람직하게는 3개의 지방족 에폭시 잔기를 포함하며,
- 글리시딜 에테르 구조를 포함하지 않는다.
본 발명의 하나의 실시양태에서, 치과용 조성물은 각각 하기 화학식 A의 하나 이상의 기를 포함하는 상이한 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 하나 또는 혼합물로서 포함한다.
Figure 112007013248571-PCT00001
식 중,
각 A는 독립적으로, 1 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기, 또는 4 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 지방족 에폭시 잔기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
각 B는 독립적으로, H, Br, Cl 또는 (2,3-에폭시)-프로필, 바람직하게는 Cl을 나타내며;
각 D는 독립적으로, Br 또는 Cl, 바람직하게는 Cl을 나타내며;
각 E는 독립적으로 H, 1 내지 100개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
a는 1, 2, 3 또는 4 (바람직하게는 3, 더욱 바람직하게는 1 또는 2)이며;
e는 1, 2, 3 또는 4 (바람직하게는 3 또는 2)이며;
a 또는 e 중 적어도 하나는 1이며,
치환체 A의 지방족 에폭시 잔기는 글리시딜 에테르 구조를 함유하지 않으며, 인접 O-원자와 글리시딜 에테르를 형성하지 않는다.
바람직한 실시양태에서, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 분자 구조, 및 화학식 A의 아릴 알킬 에테르 잔기의 수 a 또는 e에 따라 화학식 I 내지 III으로 나타낼 수 있다.
바람직한 실시양태에서, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 단지 하나의 아릴 알킬 에테르 잔기 및 A로서 에폭시 알킬 잔기를 포함하며 (즉, a = 1, e = 1 및 A = 에폭시 알킬), 화학식 I로 나타낼 수 있다.
Figure 112007013248571-PCT00002
식 중,
D는 Br 또는 Cl, 바람직하게는 Cl을 나타내며,
E는 H, Br 또는 Cl, 바람직하게는 Cl을 나타내며,
F는 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴기 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음)를 나타내며;
G는 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴기 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음)를 나타내며;
각 K는 독립적으로 H, 메틸 또는 에틸을 나타내며;
c는 2 내지 11, 바람직하게는 5, 더욱 바람직하게는 4, 가장 바람직하게는 2 또는 3을 나타내며,
기타 지수는 상기 정의한 바와 같다.
하기 화합물은 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 화학식 I에 따른 바람직한 예이다.
Figure 112007013248571-PCT00003
Figure 112007013248571-PCT00004
본 발명의 바람직한 실시양태에서, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 하나 초과의 아릴 알킬 에테르 잔기를 포함하며, B는 (2,3-에폭시)-프로필 잔기이며 (즉, a ≥ 2 및 e = 1 및 B = (2,3-에폭시)프로필), 화학식 II로 나타낼 수 있다.
Figure 112007013248571-PCT00005
식 중,
A는 1 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기이며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
각 D는 독립적으로 Br 또는 Cl, 바람직하게는 Cl을 나타내며;
각 E는 독립적으로 H, Br 또는 Cl, 바람직하게는 Cl을 나타내며;
a는 2, 3 또는 4, 바람직하게는 3, 더욱 바람직하게는 2이며;
기타 지수는 상기 정의된 바와 같다.
하기 화합물은 화학식 II에 따른 바람직한 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 예이다.
Figure 112007013248571-PCT00006
Figure 112007013248571-PCT00007
Figure 112007013248571-PCT00008
Figure 112007013248571-PCT00009
또다른 바람직한 실시양태에서, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 하나 초과의 아릴 알킬 에테르 잔기, 및 A로서 에폭시 알킬 잔기를 포함하며 (즉, a = 1 및 e ≥ 2, 및 A = 1 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 에폭시 알킬), 화학식 III으로 나타낼 수 있다.
Figure 112007013248571-PCT00010
식 중,
각 B는 독립적으로 H, Br 또는 Cl, 바람직하게는 Cl을 나타내며;
각 D는 독립적으로 Br 또는 Cl, 바람직하게는 Cl을 나타내며;
E는 1 내지 80개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
각 F는 독립적으로 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴 잔기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
각 G는 독립적으로 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴 잔기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
각 K는 독립적으로 H, 메틸 또는 에틸을 나타내며;
c는 2 내지 11, 바람직하게는 4, 더욱 바람직하게는 2 또는 3이며,
e는 2, 3 또는 4, 바람직하게는 3, 더욱 바람직하게는 2이며;
기타 지수는 상기 정의된 바와 같다.
하기 화합물은 화학식 III에 따른 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 바람직한 예이다.
Figure 112007013248571-PCT00011
Figure 112007013248571-PCT00012
Figure 112007013248571-PCT00013
Figure 112007013248571-PCT00014
Figure 112007013248571-PCT00015
유용한 개시제는 경화가능한 조성물의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 경화를 개시할 수 있다.
상기 개시제는 광 경화 또는 화학적 경화 또는 레독스 경화 반응을 통해 경화할 수 있다. 모든 유형의 개시제가 당업자에게 공지되어 있다.
상기 개시제의 예는 루이스 또는 브론스테드산, 또는 상기 산을 유리시키고 중합을 개시하는 화합물, 예를 들어, BF3 또는 그의 에테르 부가물 (예, BF3.THF, BF3*Et2O), AlCl3, FeCl3, HPF6, HAsF6, HSbF6 또는 HBF4 또는 열 및/또는 압력에 의해 또는 UV 또는 가시광에 의해 조사 후 중합을 개시하는 물질, 예컨대 (에타-6-쿠멘)(에타-5-시클로펜타디에닐)철 헥사플루오로포스페이트, (에타-6-쿠멘)(에타-5-시클로펜타디에닐)철 테트라플루오로보레이트, (에타-6-쿠멘)(에타-5-시클로펜타디에닐)철 헥사플루오로안티모네이트, 치환된 디아릴요오도늄 염 및 트리아릴술포늄 염을 포함한다. 촉진제가 개시제와 조합하여 사용될 수 있다. 유용한 촉진제의 예는 퍼에스테르의 퍼옥시 화합물, 디아실 퍼옥시드, 퍼옥시디카르보네이트 및 히드로퍼옥시드계를 포함한다. 히드로퍼옥시드가 바람직하게 사용된다. 쿠멘 중 대략 70 내지 90% 용액 중의 쿠멘 히드로퍼옥시드가 특히 바람직한 촉진제이다. 광개시제 대 쿠멘 히드로퍼옥시드의 비율은 광범위한 범위, 예컨대 1:0.001 내지 1:10으로 변할 수 있으나, 사용된 비율은 바람직하게는 1:0.1 내지 1:6, 가장 바람직하게는 1:0.5 내지 1:4이다. 착화제, 예컨대 옥살산, 8-히드록시퀴놀린, 에틸렌디아민테트라아세트산 및 방향족 폴리히드록시 화합물의 사용이 또한 가능하다.
마찬가지로, 상이한 성분으로 이루어진 개시제 시스템이 예를 들어, EP 0 897 710 A1호, WO 98/47046호, 또는 WO 98/47047호에 기재된 바와 같이, 본 발명에 사용될 수 있다. 바람직한 개시제 시스템은 1,2-디케톤 (예, 캄페르퀴논), 약한 배위 음이온을 갖는 요오도늄 염 (예, 톨릴쿠밀요오도늄 테트라키스(펜타플루오로페닐)보레이트 또는 톨릴쿠밀요오도늄 테트라키스(3,5-비스(트리플루오로메틸)-페닐)보레이트)와 함께, 3차 방향족 아민 (예, 2-부톡시에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트, 에틸 4-(디메틸아미노)벤조에이트와 같은 벤조에이트) 및/또는 적절한 중축합 방향족 화합물 (예, 안트라센)을 포함한다.
본 발명의 조성물은 또한 하나 이상의 충전제를 포함할 수 있다. 바람직하게는, 석영, 미분 유리, 실리카겔과 같은 무기 충전제, 및 발열성 규산 및 침전 규산 또는 이들의 과립이 사용된다. X-선 불투과 충전제가 또한 바람직하게는 적어도 부분적으로 사용된다. 이들은 예를 들어, X-선 불투과 유리, 즉 스트론튬, 바륨 또는 란타늄을 함유하는 유리 (즉, U.S. 특허 제3,971,754호에 따른 것)일 수 있다. 일부 충전제는 X-선 불투과 첨가제, 예컨대 이트륨 트리플루오라이드, 스트론튬 헥사플루오로지르코네이트 또는 희토류 금속의 플루오라이드 (예컨대 EP 0 238 025 A1호에 따른 것)로 구성될 수 있다. 중합체 매트릭스로의 보다 우수한 혼입을 위해, 무기 충전제를 소수화하는 것이 유리하다. 전형적인 소수화 제제는 실란, 예컨대 3-(글리시딜옥시프로필)트리메톡시실란 및 [2-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸]트리메톡시실란을 포함한다. 충전제는 바람직하게는 <20㎛, 특히 <5㎛, 더욱 특히 <2㎛의 평균 입자 크기, 및 150㎛, 특히 70㎛, 더욱 특히 25㎛의 입자 상한을 갖는다. 상기 충전제는 경화가능한 조성물의 약 3 내지 약 90중량%, 특히 약 25 내지 약 80중량%, 또는 약 50 내지 약 75중량%의 양으로 존재할 수 있다.
기타 적절한 충전제는 U.S. 특허 제6,387,981호 및 U.S. 특허 제6,572,693호, 및 WO 01/30305호, WO 01/30306호, WO 01/30307호 및 WO 03/063804호에 개시되어 있다. 이들 참고문헌에 기재된 충전제 성분은 나노크기 실리카 입자, 나노크기 금속 옥시드 입자, 및 이들의 조합을 포함한다. 나노충전제는 또한, 모두 2004년 5월 17일 출원된 발명의 명칭이 "나노지르코니아 충전제 함유 치과용 조성물 (Dental Compositions Containing Nanozirconia Fillers)" (변리사 서류 번호 59609US002); "나노충전제 함유 치과용 조성물 및 관련 방법 (Dental Compositions Containing Nanofillers and Related Methods)" (변리사 서류 번호 59610US002) 및 "치과용 조성물의 굴절률을 조정하기 위한 나노입자의 용도 (Use of Nanoparticles to Adjust Refractive Index of Dental Compositions)" (변리사 서류 번호 59611US002)인 U.S. 특허 출원에 기재되어 있다.
비강화성 충전제, 예컨대 석영, 크리스토발라이트, 칼슘 실리케이트, 규조토, 지르코늄 실리케이트, 몬모릴론석 (예컨대 벤토나이트), 제올라이트, 및 분자체 (예컨대 나트륨 알루미늄 실리케이트), 금속 옥시드 분말 (예컨대 산화알루미늄 또는 산화아연, 또는 이들의 혼합된 옥시드), 바륨 술페이트, 탄산칼슘, 회반죽, 유리 및 플라스틱 분말이 또한 본 발명에 사용될 수 있다.
적절한 충전제는 또한 강화성 충전제, 예컨대 발열성 또는 침전된 규산 및 실리카 알루미늄 혼합된 옥시드이다. 상기 언급된 충전제는 예를 들어, 유기실란 또는 실록산으로의 처리에 의해, 또는 히드록실기의 알콕시기로의 에테르화에 의해 소수화될 수 있다. 한 종류의 충전제 또는 2종 이상의 충전제의 혼합물이 본 발명에서 사용될 수 있다.
강화성 및 비강화성 충전제의 조합이 특히 바람직하다. 이에 관해, 강화성 충전제의 양은 경화가능한 조성물의 약 1 내지 약 10중량%, 특히 약 2 내지 약 5중량%로 변할 수 있다.
지정된 전체 범위, 즉 약 2 내지 약 89중량%에서의 차이는 비강화성 충전제에 의한 것이다.
발열적으로 제조된 고분산 규산, 바람직하게는 표면 처리에 의해 소수화된 규산이 강화성 충전제로서 바람직하다. 표면 처리는 예를 들어, 충전제를 디메틸디클로로실란, 헥사메틸디실라잔, 테트라메틸시클로테트라실록산 또는 폴리메틸실록산으로 처리함으로써 행해질 수 있다.
특히 바람직한 비강화성 충전제는 표면 처리될 수 있는 석영, 크리스토발라이트, 탄산칼슘 및 나트륨 알루미늄 실리케이트이다. 표면 처리는 일반적으로 강화성 충전제의 경우에 기재된 바와 동일한 방법으로 행해질 수 있다.
안정화제, 개질제, 염료, 안료, 틱소트로픽제, 유동성 개질제, 용제, 중합체 증점제, 계면활성제 및 희석제(들)과 같은 임의 부가 성분이 단독으로 또는 혼합물로 첨가될 수 있다.
상기 기재된 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 바람직하게는 에폭시기의 양이온성 개환 중합을 통해 경화가능한 치과용 조성물 중 단량체로서 사용될 수 있다.
본 발명의 치과용 조성물은 예를 들어, 치과용 충전 물질, 치관 및 치교 물질, 베니어 물질, 인레이(inlay) 또는 온레이(onlay), 구멍 및 균열 밀봉제, 결합 물질을 제조하기 위해 사용될 수 있다.
본 발명의 치과용 조성물은 1부분 혼합물 또는 다중부분 혼합물로서 제공될 수 있다. 이는 통상적으로 사용된 개시제에 의존한다. 개시제가 광 경화성이면, 치과용 조성물은 1부분 혼합물로서 제공될 수 있다. 개시제가 레독스 경화성이면, 치과용 조성물은 다중부분 혼합물로서 제공되어야 한다.
따라서, 본 발명은 또한 하나 이상의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 포함하는 베이스 파트 (i), 및 개시제를 포함하는 촉매 파트 (ii)를 포함하는 파트들로 이루어진 키트에 관한 것이다. 충전제 및 임의 부가 성분은 베이스 파트, 또는 촉매 파트, 또는 양자 모두에 존재할 수 있다.
본 발명의 치과용 조성물은 통상적으로 용기 또는 카트리지, 바람직하게는 치과용 콤풀(compule)에 포장된다. 상기 콤풀의 예는 U.S. 특허 제5,322,440 A1호 또는 제4,391,590호 또는 제5,165,890호에 기재되어 있다.
본 발명은 또한
a) 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체, 개시제, 임의로 충전제, 및 임의로 부가 성분을 제공하고,
b) 단계 a)의 성분들을 혼합하는 것을 포함하며,
상기 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 에폭시화 반응을 통해 수득될 수 있는 것인, 경화가능한 치과용 조성물의 제조 방법에 관한 것이다.
바람직하게는, 본 발명의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는, 문헌 [Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie, volume VI/3, p385ff., Georg Thieme Verlag, Stuttgart, 1965, 4.ed.]에 기재된 반응과 같은 올레핀계 전구체의 에폭시화 반응을 통해 합성될 수 있다.
바람직하게는, 에폭시화 반응은 하기 반응식 1에 나타난 바와 같이 유기 과산 R2-CO3H (bb)를 사용하여, 3원 시클릭 에테르 (cc)로 올레핀계 전구체 (aa)의 C=C 이중 결합을 변형시키는 산화 반응이다.
Figure 112007013248571-PCT00016
식 중,
R1은 하나 이상의 지방족 에폭시기를 함유하는 지방족, 지환족, 방향족, (시클로)지방족 방향족 또는 방향족 (시클로)지방족 잔기를 나타내며, 에폭시화 반응을 간섭하지 않는 임의의 원자 또는 잔기, 예컨대 O, Br, Cl 및 Si 원자로 치환될 수 있으며;
R2는 하나 이상의 Br, Cl, F 원자로 임의로 치환될 수 있는 지방족 또는 방향족 잔기를 나타내며;
상기 R1은 3원 시클릭 에테르 (cc)가 글리시딜 에테르 구조를 갖지 않도록 선택된다.
예를 들어, 본 발명의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는, 참고로 본원에 인용된 U.S. 특허 제4,788,268호 (컬럼 6 내지 17의 제조예 1, 2, 4, 5, 6 및 7)에 유사한 실록산 기재 화합물에 대해 기재된 바와 같이, 지방족 올레핀계 전구체 (aa)를 유기 과산 (bb)와 반응시킴으로써, 반응식 1에 따른 에폭시화 반응을 통해 수득될 수 있다.
적절한 지방족 올레핀계 전구체 (aa)의 예는, 예를 들어, 문헌 [Tarbell, D., S., Wilson, J., W., J. Am. Chem. Soc. 1942, 64(5), 1066-1070]에 기재된 방법에 따라 합성될 수 있는 2-알릴-6-클로로-페놀의 에테르화를 통해 합성될 수 있는 1,5-비스(2-알릴-6-클로로-페녹시)-펜탄 또는 2,2-비스[3,5-디클로로-4-(4-펜테닐옥시)페닐]프로판, 및 예컨대 문헌 [Houben-Weyl, Methoden der Organischen Chemie, volume VI/3, p57 (제1 제조예), p.56 (제1 제조예), Georg Thieme Verlag, Stuttgart, 1965, 4.ed.]에 기재된 알릴-페닐-에테르 또는 부트-2-에닐-(2-메톡시-페닐)-에테르와 같이, 또는 문헌 [Tarbell, D., S., Wilson, J., W., J. Am. Chem. Soc. 1942, 64(5), 1066-1070]에 기재된 알릴-(2-클로로-페닐)-에테르와 같이 유사한 화합물에 대해 기재된 바와 같이, 1,5-디브로모펜탄, 2,2-비스(3,5-디클로로-4-히드록시-페닐)-프로판 또는 1-브로모-4-펜텐을 포함한다.
하기 화합물은 화학식 I에 따른 에테르 유도체 화합물을 제공하기 위해 할로 겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 합성을 위한 반응식 1에 따라 사용된 바람직한 지방족 올레핀계 전구체 (aa)의 예이다.
Figure 112007013248571-PCT00017
Figure 112007013248571-PCT00018
하기 화합물은 화학식 II에 따른 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 제조를 위해 반응식 1에 따라 사용된 바람직한 지방족 올레핀계 전구체 (aa)의 예이다.
Figure 112007013248571-PCT00019
Figure 112007013248571-PCT00020
Figure 112007013248571-PCT00021
하기 화합물은 화학식 III에 따른 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 제조를 위해 반응식 1에 따라 사용된 바람직한 지방족 올레핀계 전구체 (aa)의 예이다.
Figure 112007013248571-PCT00022
Figure 112007013248571-PCT00023
Figure 112007013248571-PCT00024
Figure 112007013248571-PCT00025
Figure 112007013248571-PCT00026
본 발명을 이하에 실시예에 의해 설명한다. 실시예는 예시적인 목적일 뿐이 며, 본 발명을 제한하고자 의도되는 것은 아니다.
따로 지시하지 않는 한, 측정은 하기 기재된 방법에 따라 표준 온도 및 압력 ("STP", 즉 25℃ 및 1023hPa)에서 행해졌다.
할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 굴절률은 크루에스(Kruess) AR 4D 장치 (아베(Abbe) 측정 원리에 따른 굴절계)로 측정하였다. 굴절률은 20.0℃ 및 589nm의 파장에서 측정하였다.
할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 분자량 (Mw)는 GPC로 측정하였다.
경화된 치과용 조성물의 불투명도 및 색상 측정은 3.6(+/-0.1)mm의 한정된 높이 및 20(+/-0.1)mm 직경의 시험편에 의해 측정하였다. 이는, 측정될 물질을 균일하며 기포가 없는, 적절한 높이의 고리로 충전하고, 이를 편평하며 투명한 실리콘 오일 처리된 유리 슬라이드 사이에서 조명 장치 (트리라이트(Trilight)®, 3M ESPE)로 40초마다 접촉하여 겹쳐진 영역을 조명함으로써 실시되었다. 이어서, 불투명도를 헌터 랩 어소시에이츠 래보라토리 인크., USA의 색상 측정 장치 "헌터랩 랩스캔 스펙트럼 색도계(HunterLab LabScan Spectralcolorimeter)" (소프트웨어 스펙웨어 소프트웨어 버젼(Software SpecWare Software Version) 1.01)로 어둠 속에서 표준 온도에서 추가 24시간 동안 시험편을 건조 저장 후 측정하고, % 값으로 장치에 의해 제공하였다. 이어서, 색상을 헌터 랩 어소시에이츠 래보라토리 인크., USA의 색상 측정 장치 "헌터랩 랩스캔 스펙트럼 색도계" (흑색 배경에 대해 12㎜ 구경, 소프트웨어 스펙웨어 소프트웨어 버젼 1.01)로 어둠 속에서 표준 온도에 서 추가 24시간 동안 시험편을 건조 저장 후 측정하고, L* a* b* 등급으로 색상 값으로서 장치에 의해 제공하였다.
AMSE 돌연변이성 시험 프로토콜에 따른 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 돌연변이성을 OECD 가이드라인 471 및 ISO 10993-3 (2003)에 따라 시험하였다.
표 1, 2 및 3에 열거된 화합물 및 치과용 조성물은 상기 기재된 참고 문헌에 따라 제조하였다.
굴절률을 상기 기재된 바와 같이 측정하였다.
실시예 1 내지 6은 참고 화합물 1 내지 5보다 더 높은 굴절률 및 더 높은 분자량을 나타낸다.
표 2는 참고 화합물을 포함하는 치과용 조성물에 비해 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 함유하는 예시 치과용 조성물의 불투명도 및 L* a* b* 값으로서 경화 후 색상을 나타낸다. 실시예 1 내지 6의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체를 함유하는 예시 치과용 조성물 11 내지 17이 상당히 낮은 a* 값 및 b* 값을 가짐을 알 수 있다. 특히, 이는 낮은 b* 값과 조합하여 낮은 a* 값을 증명한다. 이들은 추가로 유용한 L* 값 및 우수한 불투명도를 나타낸다.
표 3은 실시예 1 내지 6의 화합물이 모두 AMES 돌연변이성 시험 프로토콜에 따라 비돌연변이성인 것으로 시험되었음을 나타낸다.
화합물의 예 굴절률 분자량 [g/mol]
참고 화합물 1: 1,3,5,7-테트라키스[2-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸]-1,3,5,7-테트라메틸-시클로테트라실록산 1.496 736.2
참고 화합물 2: 비스[2-(3,4-에폭시시클로헥실)-에틸]-메틸-페닐-실란 1.536 370.6
참고 화합물 3: 비스[4-(2,3-에폭시-프로필옥시)-페닐]-메탄 1.579 312.4
참고 화합물 4: 2,2-비스[4-(3,4-에폭시-부틸옥시)-페닐]-프로판 1.563 368.5
참고 화합물 5: 2,2-비스[4-(4,5-에폭시-펜틸옥시)-페닐]-프로판 1.551 396.5
실시예 1: 1,5-비스[2-(2,3-에폭시-프로필)-6-클로로-페닐]-펜탄 1.552 437.4
실시예 2: 1,5-비스[2-(2,3-에폭시-프로필)-4,6-디클로로-페닐]-펜탄 1.561 506.3
실시예 3: 2,2-비스[3,5-디클로로-4-(4,5-에폭시-펜틸옥시)-페닐]-프로판 1.571 534.3
실시예 4: 2,2-비스[3,5-디브로모-4-(3,4-에폭시-부틸옥시)-페닐]-프로판 1.610 684.1
실시예 5: 2,2-비스[3,5-디브로모-4-(4,5-에폭시-펜틸옥시)-페닐]-프로판 1.604 712.1
실시예 6: 4-[2-(2,3-에폭시-프로필)-6-클로로-페녹시]-1,2-에폭시부탄 1.535 254.7
Figure 112007013248571-PCT00027
화합물의 예 돌연변이성 [유/무]1)
실시예 1: 1,5-비스[2-(2,3-에폭시-프로필)-6-클로로-페닐]-펜탄 1 )
실시예 2: 1,5-비스[2-(2,3-에폭시-프로필)-4,6-디클로로-페닐]-펜탄 1 )
실시예 3: 2,2-비스[3,5-디클로로-4-(4,5-에폭시-펜틸옥시)-페닐]-프로판 1 )
실시예 4: 2,2-비스[3,5-디브로모-4-(3,4-에폭시-부틸옥시)-페닐]-프로판 1 )
실시예 5: 2,2-비스[3,5-디브로모-4-(4,5-에폭시-펜틸옥시)-페닐]-프로판 1 )
1) 살모넬라 균주 TA98 및 TA100을 사용하여 AMES 돌연변이성 시험 프로토콜에 따라 시험: 비돌연변이성으로 시험됨

Claims (14)

  1. a) 각 아릴 잔기가 하나 이상의 할로겐 원자로 치환된, 하나 이상의 아릴 알킬 에테르 잔기; 및
    하나 이상의 지방족 에폭시 잔기를 포함하며,
    글리시딜 에테르 잔기를 갖지 않는, 하나 이상의 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체,
    b) 개시제,
    c) 임의로 충전제, 및
    d) 임의로 개질제, 안정화제, 염료, 안료, 틱소트로픽제, 유동성 개질제, 중합체 증점제, 계면활성제, 방향 물질, 희석제(들) 및 향료로 이루어진 군으로부터 선택된 부가 성분을 포함하는 경화가능한 치과용 조성물.
  2. 제1항에 있어서,
    a) 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체가 1.530 초과, 바람직하게는 1.560 초과, 더욱 바람직하게는 1.590 초과의 굴절률을 갖는 요건,
    b) 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체가 40Pas 미만, 바람직하게는 20Pas 미만, 더욱 바람직하게는 5Pas 미만의 점도를 갖는 요건,
    c) 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체가 400 내지 10,000g/mol, 바람직하게는 600 내지 5,000g/mol, 더욱 바람직하게는 800 내지 2,000g/mol의 평균 분자 량을 갖는 요건,
    d) 경화된 치과용 조성물의 불투명도가 10% 초과인 요건, 및
    e) 경화된 치과용 조성물의 색상 형성 (b* 값)이 0 내지 18, 바람직하게는 1 내지 16, 더욱 바람직하게는 2 내지 14인 요건
    중 하나 이상을 만족하는 치과용 조성물.
  3. 제1항 또는 제2항에 있어서, 전체 조성물에 대해
    a) 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체 1종 또는 이들의 혼합물 1 내지 90중량%, 바람직하게는 3 내지 65중량%, 더욱 바람직하게는 10 내지 30중량%,
    b) 개시제 0.01 내지 25중량%, 바람직하게는 0.5 내지 10중량%, 더욱 바람직하게는 0.5 내지 3중량%,
    c) 충전제 0 내지 90중량%, 바람직하게는 25 내지 80중량%, 더욱 바람직하게는 50 내지 75중량%, 및
    d) 부가 성분 0 내지 25중량%를 포함하는 치과용 조성물.
  4. 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 있어서, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체가 하나 이상의 하기 화학식 A의 기를 포함하는 것인 치과용 조성물.
    <화학식 A>
    Figure 112007013248571-PCT00028
    식 중,
    A는 각각 독립적으로, 1 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기, 또는 4 내지 30개의 탄소 원자를 갖는 지방족 에폭시 잔기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
    B는 각각 독립적으로, H, Br, Cl 또는 (2,3-에폭시)-프로필을 나타내며;
    D는 각각 독립적으로, Br 또는 Cl을 나타내며;
    E는 각각 독립적으로 H, 1 내지 100개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
    a는 1, 2, 3 또는 4이며;
    e는 1, 2, 3 또는 4이며;
    a 또는 e 중 적어도 하나는 1이며,
    치환체 A의 지방족 에폭시 잔기는 글리시딜 에테르 구조를 함유하지 않으며, 인접 O-원자와 글리시딜 에테르를 형성하지 않는다.
  5. 제4항에 있어서, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체가 하기 화학식 I, II 또는 III 중 하나로 표시되는 것인 치과용 조성물.
    <화학식 I>
    Figure 112007013248571-PCT00029
    식 중,
    D는 Br 또는 Cl을 나타내며,
    E는 H, Br 또는 Cl을 나타내며,
    F는 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴기 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음)를 나타내며;
    G는 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴기 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음)를 나타내며;
    K는 각각 독립적으로 H, 메틸 또는 에틸을 나타내며;
    c는 2 내지 11이며,
    기타 지수는 제4항에 정의한 바와 같다.
    <화학식 II>
    Figure 112007013248571-PCT00030
    식 중,
    A는 1 내지 12개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기이며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
    D는 각각 독립적으로 Br 또는 Cl을 나타내며;
    E는 각각 독립적으로 H, Br 또는 Cl을 나타내며;
    a는 2, 3 또는 4이며;
    기타 지수는 제4항에 정의된 바와 같다.
    <화학식 III>
    Figure 112007013248571-PCT00031
    식 중,
    B는 각각 독립적으로 H, Br 또는 Cl을 나타내며;
    D는 각각 독립적으로 Br 또는 Cl을 나타내며;
    E는 1 내지 80개의 탄소 원자를 갖는 알킬, 시클로알킬, 아릴 알킬 또는 아릴 시클로알킬기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
    F는 각각 독립적으로 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
    G는 각각 독립적으로 H, 1 내지 6개의 탄소 원자를 갖는 알킬 또는 아릴기를 나타내며 (여기서, 하나 이상의 C 또는 H 원자는 Br, Cl, N 또는 O로 대체될 수 있음);
    K는 각각 독립적으로 H, 메틸 또는 에틸을 나타내며;
    c는 2 내지 11이며,
    e는 2, 3 또는 4이며;
    기타 지수는 제4항에 정의된 바와 같다.
  6. 제1항 내지 제5항 중 어느 한 항에 있어서, 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체가 하기로부터 선택되는 것인 치과용 조성물.
    Figure 112007013248571-PCT00032
    Figure 112007013248571-PCT00033
    Figure 112007013248571-PCT00034
    Figure 112007013248571-PCT00035
    Figure 112007013248571-PCT00037
    Figure 112007013248571-PCT00038
    Figure 112007013248571-PCT00039
  7. 제1항 내지 제6항 중 어느 한 항에 있어서, 개시제가 광 경화 개시제 또는 레독스 경화 개시제 또는 이들의 조합을 포함하는 것인 치과용 조성물.
  8. 제1항 내지 제7항 중 어느 한 항에 있어서, 충전제가 강화성 및/또는 비강화성 충전제를 포함하는 것인 치과용 조성물.
  9. 제1항 내지 제8항 중 어느 한 항에 있어서, 용기 또는 카트리지 내에 충전된 치과용 조성물.
  10. 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 정의된 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체 1종 또는 이들의 혼합물을 포함하는 베이스 파트 (i), 및 개시제를 포함하는 촉매 파트 (ii)를 포함하며, 충전제 및 부가 성분이 베이스 파트, 또는 촉매 파트, 또는 베이스 파트와 촉매 파트 모두에 임의적으로 존재하는 것인, 파트들로 이 루어진 키트.
  11. a) 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체, 개시제, 임의로 충전제, 및 임의로 부가 성분을 제공하는 단계, 및
    b) 단계 a)의 성분들을 혼합하는 단계를 포함하며,
    상기 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체는 에폭시화 반응에 의해 수득가능한 것인,
    경화가능한 치과용 조성물의 제조 방법.
  12. 제11항에 있어서, 에폭시화 반응이 올레핀계 전구체 화합물을 유기 과산과 반응시키는 것을 포함하는 것인 방법.
  13. 치과용 충전 물질, 치관 및 치교 물질, 베니어 물질, 인레이(inlay) 또는 온레이(onlay)로서 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 따른 치과용 조성물을 사용하는 방법.
  14. a) 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체 및 개시제를 포함하는 치과용 조성물을 제공하는 단계,
    b) 치과용 조성물을 표면에 적용하는 단계, 및
    c) 치과용 조성물을 경화하는 단계를 포함하는 방법에서, 치과용 물질을 제 조하기 위한 제1항 내지 제9항 중 어느 한 항에 기재된 할로겐화 에폭시 관능성 에테르 유도체의 용도.
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