KR20070021215A - Ｓｌｍ의 개선된 어드레싱 - Google Patents

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Abstract

본 발명은, 공간 광 변조기에서 하나 이상의 이동가능한 마이크로 미러의 이동의 정도에 영향을 주는 충전 효과를 감소시키는 방법에 관한 것이며, 상기 하나 이상의 이동가능한 마이크로 미러는 하나 이상의 전극에 정전기적으로 유인가능하며, 그 방법은, 상기 마이크로 미러와 상기 하나 이상의 전극 사이의 반전된 전계의 시퀀스로 상기 하나 이상의 마이크로 미러를 정전기적으로 유인하는 액션을 포함한다.
SLM, 어드레싱 전극, 미러 엘리먼트

Description

ＳＬＭ의 개선된 어드레싱{IMPROVED ADDRESSING OF AN SLM}
기술 분야
본 발명은 공간 광 변조기를 동작하는 방법에 관한 것으로, 상세하게는, 상기 공간 광 변조기에서 개별 픽셀의 충전 효과 (charging effect) 를 감소시키는 개선된 어드레싱 방법에 관한 것이다.
발명의 배경
현대의 UV-리소그래피는, 신규하고 고도한 병렬 기입 개념을 탐색하고 있다. 광학적 MEMS 디바이스에 의한 공간 광 변조 (SLM) 는 그러한 가능성을 제공한다. SLM 칩은 상단상의 수 백만개의 개별적으로 어드레스가능한 픽셀을 갖는 DRAM-형 CMOS 회로를 포함할 수도 있다. 상기 픽셀은, 미러 (mirror) 엘리먼트와 어드레스 전극 사이에서 정전기력의 차이로 인해 굴절된다. SLM을 사용하는 패턴 발생기는 본 발명과 같은 양수인에게 양도된 US 6 373 619 에서 설명된다. 이러한 특허는 작은 필드 스텝퍼 (field stepper) 를 간략하게 개시하며, 그 필드 스텝퍼는 SLM의 일련의 이미지를 노출시킨다. 워크피스 (workpiece) 는 연속적으로 이동하는 스테이지상에 배열되고, (펄스화된 레이저, 플래시 램프, 싱크로트론 광원으로부터의 플래시 등일 수 있는) 펄스화된 전자기 방사 소스는 그 워크피스상에서 SLM의 이미지를 플래싱하고 프리징 (freeze) 한다. SLM은 각각의 플래시 이전에 신규한 패턴으로 재프로그래밍되므로, 인접한 이미지는 워크피스상에서 구 성된다.
마스크-기입 툴에서 사용되는 액츄에이터 (actuator) 의 어레이에 의해 SLM은 특정 패턴으로 로딩되며, 그 특정 패턴에서, 각각의 액츄에이터는 각각의 스템프 (stamp) 가 프린팅되기 전에 어드레싱된 또는 비-어드레싱 상태로 존재한다. 이러한 패턴은 마스크상에 프린팅될 패턴의 서브세트이다. 이러한 방식에서, SLM은 각각의 스트립 (strip) 에 대해 다수의 횟수의 패턴으로 로딩된다. 마스크 기판의 전체 길이에 걸쳐 일련의 스탬프로 이루어진 스트립의 기입 이후, 스테이지는 다음의 스트립의 기입에 대비하여 초기 위치로 복귀한다.
이 후, "충전" 이라 지칭되는 마이크로 미러 표면 또는 어드레싱 전극 표면의 충전은, 마이크로 기계적 액츄에이터의 성능을 제한할 수도 있는 누적 효과이다. 충전 효과는, 모든 파라미터가 굴절된 상태에서 일정하게 유지되는 경우, 액츄에이터의 위치의 서서히 증가되는 변화에 의한 그 충전 효과를 나타낸다. 또한, 충전 효과는, 액츄에이터가 충분한 양의 시간 동안 비-어드레싱된 상태로 방치되는 경우, 큐어링 아웃 (curing out) 함으로써 그 충전 효과를 나타낸다. 축적 (build-up) 및 큐어링-아웃 양자는 비-선형적인 효과이다. 따라서, 소정의 시간에서 결과적인 위치는 그 시간에서의 어드레싱 전압뿐만 아니라 이러한 특정 액츄에이터 엘리먼트의 어드레싱의 이력에 의존한다. 따라서, 문제는, 액츄에이터의 응답이 부정확해질 수도 있으며, 이로써, 리소그래피 프로세스에서 워크피스상의 피쳐 (feature) 의 배치 정확도를 감소시킨다는 것이다.
발명의 요약
따라서, 본 발명의 목적은 상술된 문제를 제거하거나, 최소로 감소시키는 방법을 제공하는 것이다.
그 중에서, 이러한 목적은, 공간 광 변조기 (SLM) 의 하나 이상의 이동가능한 마이크로 미러에서 굴절의 정도에 영향을 주는 충전 효과를 감소시키는 방법에 의해 획득되는 발명의 제 1 양태에 따르며, 하나 이상의 마이크로 미러는 하나 이상의 전극에 정전기적으로 유인가능하다. 상기 하나 이상의 마이크로 미러는, 상기 마이크로-미러와 상기 하나 이상의 전극 사이의 반전된 전계의 시퀀스로 정전기적으로 유인된다.
본 발명의 또 다른 양태에서, 상기 목적은, 공간 광 변조기에서 굴절가능한 마이크로 미러의 굴절의 정도에 영향을 주는 충전 효과를 감소시키는 방법에 의해 획득된다. 상기 굴절가능한 마이크로-미러는 원하는 굴절 상태로 설정된다. 전계는, 전자기 방사가 상기 공간 광 변조기에 닿기전에 상기 마이크로 미러와 하나 이상의 어드레싱 전극 사이에서 제거된다.
또한, 본 발명의 특징 및 이점은 이 후에 제공되는 본 발명의 바람직한 실시형태의 상세한 설명 및 첨부한 도면 1a 내지 5d로부터 명백해질 것이며, 이는, 본 발명을 제한하는 것이 아니라 오직 예로서만 제공된다.
도면의 간단한 설명
도 1a는, 공간 광 변조기에서 전자기 방사가 다수의 횟수로 어드레싱된 마이크로 미러에 닿는 경우 상대적인 강도의 드리프트 (drift) 를 나타낸 것이다.
도 1b는 종래 기술에 따른 상기 마이크로 미러의 일 어드레싱 사이클을 나타 낸 것이다.
도 2는 마이크로 미러 구조를 나타낸 것이다.
도 3은 본 발명에 따른 어드레싱 사이클의 제 1 실시형태를 나타낸 것이다.
도 4는 본 발명에 따른 어드레싱 사이클의 제 2 실시형태를 나타낸 것이다.
도 5a 내지 5d는 본 발명에 따른 어드레싱 사이클의 제 3 실시형태를 나타낸 것이다.
도 6은 SLM 구조에서 충전 효과를 방지하는 제 4 실시형태를 나타낸 것이다.
상세한 설명
다음의 상세한 설명은 도면을 참조하여 수행된다. 바람직한 실시형태는, 청구항에 의해 정의된 본 발명의 범위를 제한하려는 것이 아니라 본 발명을 예시하기 위해 설명된다. 당업자는 다음의 설명에 관해 다양하고 동등한 변화를 알 수 있다.
또한, 바람직한 실시형태는 엑시머 (excimer) 레이저 소스를 참조하여 설명된다. 예를 들어, Nd-YAG 레이저, 이온 레이저, Ti 사파이어 레이저, 자유 전자 레이저 또는 다른 펄스화된 기본 주파수 레이저, 플래시 램프, 레이저 플라즈마 소스, 싱크로트론 광원 등과 같은 상이한 펄스화된 전자기 방사 소스가 사용될 수도 있다는 것은 당업자에게 명백할 것이다.
도 1a는, 공간 광 변조기에서 전자기 방사가 다수의 횟수로 어드레싱된 마이크로 미러에 닿는 경우, 화이트 (white) 미러가 1.0 유닛으로 노멀화되고 블랙 (black) 미러는 0 유닛에 의해 표현된다는 것을 의미하는 상대적인 강도의 드리프 트를 나타낸다. 도 1a에서, 상대적인 강도는 시간의 함수로서 도시된다. 전자기 방사를 발생시키는 소스로서, 펄스화된 엑시머 레이저가 사용되며, 1㎑ 펄스 주파수에서 동작한다. 상기 레이저의 출력 파장은 248㎚이다. 여기에서 예로서 나타내는 특정 값보다 더 높거나 낮을 수 있는 다른 펄스 주파수 및 파장이 사용될 수도 있다는 것은 명백하다.
도 1a에서, 처음 100s 동안, 마이크로 미러는 비-어드레싱된 상태, 즉, 화이트 픽셀에 존재한다. 다음에 도래하는 400초 동안, 상기 미러가 그의 어드레싱 상태에 존재하고 마이크로 미러로부터의 상대적인 강도가 검출되는 경우, 상기 엑시머 레이저는 플래싱된다. 도 1a로부터, 상대적인 강도가 충전 효과로 인해 시간에 따라 증가하고 있다는 것은 명백하다. 충전 효과는, 동일한 어드레싱 전압으로 인한 반복적인 어드레싱이, 상기 미러가 어드레싱되는 횟수의 함수로서 미러의 굴절의 정도를 변경하도록 미러에 영향을 주고, 동시에, 전자기 방사가 상기 미러 및/또는 전극에 닿는 방식으로 미러 표면 및/또는 전극의 표면을 충전한다.
도 1b는 종래 기술에 따라, M으로 표시된 마이크로 미러에 대한 어드레싱 사이클의 일 예를 나타내며, 도 1a에 따라 그래프를 생성하기 위해 사용될 수 있다. 도 1b에서 A로 표시된 어드레싱 전극은 12V로 설정된다. C로 표시된 대향 (counter) 전극은 0V로 설정된다. 마이크로 미러 엘리먼트는 초기에 6V로 설정되며, 비-어드레싱 상태로 정의한다. 상기 마이크로 미러 엘리먼트 (210) 를 6V 전위로부터 0V 전위로 스위칭하는 경우, 상기 어드레스 전극 (214) 및 상기 대 향 전극 (212) 이 도 2에 따라 배열된다면, 상기 마이크로 미러 엘리먼트는 시계방향 이동을 수행한다.
상기 마이크로 미러 엘리먼트 (210) 가 상기 0V 상태에 존재하는 시간 동안, 마이크로 미러는 어드레싱 상태로 존재한다고 지칭된다. 상기 마이크로 미러가 상기 어드레싱 상태로 존재하는 지속 기간은, 상기 마이크로 미러 엘리먼트가 상기 0V 상태로 존재하는 시간의 주기에 의존한다. 일 실시형태에서, 상기 어드레싱 상태의 듀티 (duty) 사이클은 1% 미만이다.
도 2는 공간 광 변조기에 배열될 수 있는 종래의 액츄에이터 구조물 (200) 의 측면도를 도시한 것이다. 상기 액츄에이터 구조물 (200) 은, 상기 미러 엘리먼트 (210), 지지 구조물 (211), 상기 대향 전극 (212), 상기 어드레스 전극 (214), 및 상기 대향 전극 (212), 상기 어드레스 전극 (214) 및 상기 지지 구조물 (211) 이 배열된 기판 (213) 을 포함한다.
도 1a를 참조하면, 상기 어드레싱 상태의 상기 미러 엘리먼트의 강도는 상기 어드레싱 상태의 상기 미러 엘리먼트에 닿는 레이저 펄스의 수의 함수로서 증가한다는 것이 실험적으로 확인되었으며, 커브 (120) 에서 관측된다. 상기 어드레싱 상태의 상기 미러 엘리먼트에 대한 최소의 상대적인 강도와 최대의 상대적인 강도 사이의 차이는, 도 1a의 도면 부호 (100) 에 의해 표시되고 드리프트로 지칭된다. CD (중요한 디멘션 (critical dimension)) 가 상기 드리프트에 의해 영향받을 수도 있다는 것은 도 1a로부터 명백하다. 더 높은 상대적인 강도는 증가된 노출을 야기할 것이며, 차례로, 프린팅될 피쳐의 디멘션에 영향을 줄 수도 있 다.
도 3은, 상기 충전 효과를 제거하거나 최소로 감소시키기 위해 본 발명에 따른 어드레싱 사이클의 제 1 실시형태를 도시한 것이다. 먼저, 상기 미러 엘리먼트는 0V로 설정되고, 상기 대향 전극은 0V로 설정되며, 또한, 상기 어드레스 전극은 0V로 설정된다. 모든 엘리먼트는 0V로 설정하고, 비-어드레싱 상태로 정의한다. 0V 전위로부터 12V 전위로의 상기 어드레스 전극의 스위칭은, 비-어드레싱 상태로부터 어드레싱 상태로 상기 액츄에이터 구조를 수정할 것이다. 전자기 방사는, 상기 어드레싱 상태에 설정하거나 상기 비 어드레싱 상태에 설정하는 경우 중 어느 한 경우에서 상기 미러 엘리먼트에 닿을 것이다. 프레임으로 지칭되는 다음에 도래하는 어드레스 사이클에서, 상기 비-어드레싱 상태로부터 상기 어드레싱 상태로 스위칭하는 경우, 상기 대향 전극 및 상기 미러 엘리먼트는 0V 전위로 여전히 설정되지만, 상기 어드레스 전극은 0V로부터 -12V로 스위칭할 것이다. 상기 어드레스 전극상의 12V 및 상기 미러 엘리먼트상의 0V에 의하여, 전계는 상기 어드레스 전극으로부터 상기 미러 엘리먼트로 안내된다. 상기 어드레스 전극상의 -12V 및 상기 미러 엘리먼트상의 0V에 의하여, 전계는 상기 미러 엘리먼트로부터 상기 어드레스 전극으로 안내된다. 양자의 경우에서, 상기 미러 엘리먼트는 화살표 (30A 및 40A) 에 의해 나타낸 바와 같은 시계 방향으로 이동할 것이다. 상기 어드레싱 상태에서 반전된 전계의 시퀀스를 적용함으로써, 충전 효과를 제거할 수 있거나 실질적으로 최소로 감소시킬 수 있다. 시퀀스는 1, 2, 3 또는 그 이상의 주기를 가질 수도 있다. 또한, 상기 시퀀스는 랜덤화될 수도 있다.
도 4는, 충전 효과가 제거되거나 실질적으로 최소로 감소되는 본 발명에 따른 또 다른 실시형태를 도시한 것이다. 이러한 실시형태에서, 어드레스 전극 및 대향 전극 양자는 상기 미러 엘리먼트를 시계-방향 또는 반시계-방향으로 굴절시키기 위해 사용된다. 어드레스 전극은, 상술된 바와 같은 전계의 반대 방향에 관해 상기 미러 엘리먼트를 시계-방향으로 굴절시키기 위해 0V와 12V 또는 0V와 -12V 사이에서 스위칭된다. 대향 전극은, 전계의 반대 방향에 관해 상기 미러 엘리먼트를 반-시계-방향으로 굴절시키기 위해 0V와 12V 또는 0V와 -12V 사이에서 스위칭된다. 도 4에 도시된 어드레싱 방식에서, 이동 방향, 즉, 시계-방향 또는 반-시계-방향은 1인 주기를 갖지만, 반전된 필드는 2인 주기를 갖는다, 즉, 이동 방향은 매 어드레싱 사이클에 대해 변하지만 전계의 방향은 오직 매 2번째 어드레싱 사이클 또는 프레임에 대해 변한다. 그러나, 2인 주기를 갖는 이동 방향 및 1인 주기를 갖는 반전된 필드를 갖는 것도 가능하다. 또한, 상기 반전된 필드 또는 상기 이동 방향의 하나 이상의 임의의 주기, 또는 상기 이동 방향 또는 상기 반전된 필드의 하나 이상의 비-주기적 시퀀스를 갖는 것이 가능하다. 비-주기적 시퀀스의 일 예는 랜덤 시퀀스이다.
도 5a 내지 5d는, 충전 효과가 제거되거나 실질적으로 최소로 감소되는 본 발명에 따른 또 다른 실시형태를 도시한 것이다. 도 5a는 블랙 (파선) 픽셀 및 화이트 (점선) 픽셀에 대한 어드레싱 전압 Ua를 2개의 프레임에 대해 도시한 것이다. 도 5b는 미러 전압 (실선) Um 및 대향 전압 (가상선) Uc를 동일한 2개의 프레임에 대해 도시한 것이다.
화이트 픽셀에 대해, 대향 전극에서의 전계 Ec는 어드레싱 전극에서의 전계 Ea와 동일하며, 파선은 블랙 픽셀을 나타내고 점선은 화이트 픽셀을 나타내는 도 5d에서 관측된다. 결과적인 토크 M 및 굴절도 d가 도 5c의 블랙 픽셀 (파선) 에 대해 도시된다. 상기 토크 및 굴절도는 화이트 픽셀에 대해 항상 0이지만, 도시되지는 않는다.
블랙 픽셀이 화이트 픽셀과 비교하여 이동되므로, 가장 예시적인 예는 블랙 픽셀을 설명하는 것이다. 도 5a에서 상술된 바와 같이, 상기 블랙 픽셀은 파선으로 나타낸다. 또한, 이것은 도 5c 및 5d의 블랙 픽셀에 대해서도 사실이다. 제 1 프레임, 즉, 라인 (50) 의 왼쪽에서, 어드레싱 전극은 12V로 어드레싱되고, 미러 전극은 6V로 어드레싱되며, 대향 전극은 0V로 어드레싱된다. 제 1 프레임이 종료되기 직전에, 상기 미러 전극은 6V로부터 0V로 스위칭되며, 그에 의해 도 5c에서 나타낸 바와 같이 이동가능한 엘리먼트를 블랙 상태로 이동시킨다, 즉, 픽셀은 전체 프레임동안 블랙이 아니라 전체 프레임의 짧은 주기동안 블랙이다. 이러한 주기는 원하는 것만큼 짧도록, 예를 들어, 200ns 이하이도록 결정될 수도 있다.
라인 (50) 의 오른쪽으로 막 시작하는 제 2 프레임에서, 상기 어드레스 전극은 0V로 어드레싱되고, 상기 미러 전극은 6V로 어드레싱되며, 상기 대향 전극은 12V로 어드레싱된다. 상기 제 2 프레임이 종료되기 직전에, 상기 미러 전극은 12V로 어드레싱되며, 그에 의해, 도 5c에 따라 상기 이동가능한 엘리먼트를 그의 블랙 상태로 이동시킨다. 도 5d로부터, 제 1 프레임 및 제 2 프레임의 블랙 픽 셀에 대한 전계가 반전된다는 것을 관측할 수 있다. 제 1 프레임에서 상기 전계는 +6V 또는 +12V이지만, 제 2 프레임에서 상기 전계는 -6V 또는 -12V이다. 도 5d로부터 관측될 수 있는 바와 같이, 또한, 화이트 픽셀에 대한 전계는 반전되지만, 상기 픽셀은 그의 위치로부터 굴절되거나 이동되지 않는다.
상기 개시된 실시형태에서, 상기 미러는 오직 2개의 상태, 즉, 비-어드레싱 상태 및 일 어드레싱 상태 사이에서만 스위칭된다. 아날로그 모드에서 동작되는 SLM들은 복수의 또는 많은 상이한 어드레싱 상태를 가지며, 그 어드레싱 상태는 상이한 그레이 스캐일 (gray scale) 값을 정의하기 위해 리소그래피에서 사용될 수도 있다. 워크 피스상에 패턴을 생성하기 위해 공간 광 변조를 이용하는 마이크로닉 레이저 시스템 (Micronic Laser System) 의 시그마 머신에서, 그레이 스케일 레벨의 상기 수는 비-어드레싱 상태 및 완전히 어드레싱된 상태를 포함하는 65이다. 당업자는 동일한 수의 그레이 스케일 레벨을 정의하는 다양한 수의 어드레싱 상태를 알 수 있다.
상기 충전 효과를 제거하거나 실질적으로 감소시키는 본 발명에 따른 또 다른 실시형태에서, 하나 이상의 전극, 즉, 어드레싱 전극 및/또는 대향 전극, 및 상기 미러 엘리먼트 사이의 전계는 전자기 방사가 상기 미러 엘리먼트에 닿기 전에 제거된다. 전계는, 상기 전자기 방사가 굴절의 정도의 제어를 갖기 위해 미러 엘리먼트에 닿기 직전에 제거된다. 시간 주기가 상기 전계의 제거와 전자기 플래시 사이에서 더 짧아질수록, 더 많은 굴절의 정도가, 전계가 인가되는 때의 굴절의 정도에 대응한다. 어드레싱 상태로부터 비-어드레싱 상태로 미러 엘리먼트 를 이동시킬시에 일부 관성이 항상 존재하며, 비-어드레싱 상태는 감소한 진폭을 갖는 많은 수의 정현파 (sinusoidal) 진동 이후 도달된다. 예를 들어, 실험적으로 확인될 수도 있는 상기 정현파 진동의 특성을 공지함으로써, 전계의 제거로부터 플래시까지의 시간 주기가 실질적으로 연장될 수 있다. 예를 들어, 전자기 플래시를 위해 의도된 것보다 더 많이 굴절된 상태로 미러 엘리먼트를 설정함으로써, 전계의 제거와 상기 플래시 사이의 상기 시간 주기는 적절한 정도의 굴절을 갖는 상기 미러 엘리먼트의 진동의 알맞은 위치에 도달하는 것이 예측될 수 있다.
도 6은, 레이저 방사를 SLM 구조에 플래싱하기 전에 전계를 제거하는 실시형태의 예시이다. 도면의 상부는 시간에 대한 미러 전압을 도시하지만, 도면의 하부는 시간에 대한 미러 굴절을 도시한다. 하나의 어드레싱 사이클 또는 프레임이 도시된다. 미러 전압이 0V로부터 12V로 스위칭되는 경우, 즉, 도 6의 On 포인트에서, 미러는 일정한 굴절 상태로 안정화하기 전에 진동하기 시작한다. 미러 전압이 제거되는 경우, 즉, Off 포인트에서, 미러는 비-굴절 상태로 안정화하기 전에 다시 진동하기 시작한다. 포인트 (610 및 620) 는, 상기 전자기 방사가 미러 엘리먼트에 닿을 수도 있는 임의의 하나의 전극과 미러 엘리먼트 사이에 전계가 인가되지 않는 2개의 가능한 포인트를 나타낸다. 물론, 전계가 제거된 이후, 즉, 도 6의 Off 포인트 이후의 임의의 포인트는 레이저를 플래싱하는 트리거 포인트로서 사용될 수도 있지만, 최초값 또는 최대값은 다른 포인트보다 더 적절히 정의된다.
미러 엘리먼트가 굴절의 일정한 정도를 변경하는데 걸리는 시간은, 무엇보다 도, 미러 구조의 타입, 사용된 재료 및 상기 미러 구조의 디멘션에 의존한다. 일 실시형태에서, 전계의 제거와 동일한 미러 엘리먼트로의 상기 전자기 방사의 작용 사이의 시간 주기는 200ns 미만이다. 또 다른 실시형태에서, 상기 시간 주기는 100ns 미만이고, 또 다른 실시형태에서, 상기 시간의 주기는 50ns 미만이다.
미러는, 굴절, 피스톤 이동, 또는 그 굴절과 그 피스톤 이동의 조합에 의해 이동될 수도 있다.
본 발명이 바람직한 실시형태 및 상술된 예를 참조하여 개시되지만, 이들 예들은 의미를 제한하기 보다는 예시적인 것으로 의도된다. 변형 및 조합은 당업자에게 용이하게 명백할 것이며 변형 및 조합은 본 발명의 사상 및 다음의 청구항의 범위내에 존재할 것이라고 간주된다.

Claims (11)

  1. 공간 광 변조기 (SLM) 에서 하나 이상의 전극을 정전기적으로 유인가능한 하나 이상의 이동가능한 마이크로 미러의 굴절의 정도에 영향을 주는 충전 효과를 감소시키는 방법으로서,
    상기 마이크로 미러와 상기 하나 이상의 전극사이의 반전된 전계의 시퀀스로 상기 하나 이상의 마이크로 미러를 정전기적으로 유인하는 동작; 및
    시계 방향 및 반시계-방향 이동의 시퀀스로 상기 이동가능한 마이크로 미러를 굴절시키는 동작을 포함하는, 충전 효과의 감소 방법.
  2. 제 1 항에 있어서,
    상기 반전된 전계의 시퀀스는 주기적인, 충전 효과의 감소 방법.
  3. 제 1 항에 있어서,
    상기 반전된 전계의 시퀀스는 비-주기적인, 충전 효과의 감소 방법.
  4. 제 1 항에 있어서,
    상기 시계 방향 및 반시계-방향 이동의 시퀀스는 주기적인, 충전 효과의 감소 방법.
  5. 제 4 항에 있어서,
    상기 시계 방향 및 반시계-방향 이동의 시퀀스는 비-주기적인, 충전 효과의 감소 방법.
  6. 제 1 항에 있어서,
    상기 마이크로 미러는 아날로그 모드에서 동작하는, 충전 효과의 감소 방법.
  7. 공간 광 변조기 (SLM) 에서 굴절가능한 마이크로 미러의 굴절의 정도에 영향을 주는 충전 효과를 감소시키는 방법으로서,
    원하는 굴절 상태로 상기 굴절가능한 마이크로 미러를 설정하는 동작; 및
    전자기 방사가 상기 공간 광 변조기에 닿기 전에, 상기 마이크로 미러와 하나 이상의 어드레싱 전극 사이에서 전계를 제거하는 동작을 포함하는, 충전 효과의 감소 방법.
  8. 제 7 항에 있어서,
    상기 전계는, 상기 전자기 방사가 상기 SLM에 닿기 전에 200ns 미만에서 제거되는, 충전 효과의 감소 방법.
  9. 제 7 항에 있어서,
    상기 전계는, 상기 전자기 방사가 상기 SLM에 닿기 전에 100ns 미만에서 제 거되는, 충전 효과의 감소 방법.
  10. 제 7 항에 있어서,
    상기 전자기 방사는, 상기 방사에 의해 노출될 기판상의 상기 공간 광 변조기에 의해 릴레이되는, 충전 효과의 감소 방법.
  11. 제 7 항에 있어서,
    상기 전계는, 상기 전자기 방사가 상기 SLM에 닿기 전에 50ns 미만에서 제거되는, 충전 효과의 감소 방법.
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