KR20070017040A - Antireflection film, polarizing plate, and image display device - Google Patents

Antireflection film, polarizing plate, and image display device Download PDF

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KR20070017040A
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히로유키 요네야마
마사키 노로
야스히로 오카모토
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후지필름 홀딩스 가부시끼가이샤
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Abstract

하기 성분들을 함유한 코팅 조성물을 코팅하여 제조되는 저굴절률층 및 지지체를 포함하는 반사방지 필름: (A) 주쇄가 탄소 원자들로만 이루어지고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 함유하며, 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하고, 단, 주쇄에 폴리실록산 구조를 가지지 않는 불소-함유 중합체; (B) 히드록실기와 반응할 수 있는 가교제; 및 (C) 1 분자 내에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유한 화합물.An antireflection film comprising a low refractive index layer and a support prepared by coating a coating composition containing the following components: (A) The main chain consists of only carbon atoms, at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit and at least one hydroxyl group A fluorine-containing polymer containing a vinyl monomer-containing polymerizing unit and having a content of a hydroxyl group-containing vinyl monomer-polymerizing unit exceeding 20 mol%, but having no polysiloxane structure in the main chain; (B) a crosslinking agent capable of reacting with hydroxyl groups; And (C) a compound containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.

반사방지 필름, 저굴절률층, 코팅 조성물, 편광판, 영상 표시 장치 Anti-reflection film, low refractive index layer, coating composition, polarizing plate, image display device

Description

반사방지 필름, 편광판 및 영상 표시 장치 {ANTIREFLECTION FILM, POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}Anti-reflective film, polarizer and video display device {ANTIREFLECTION FILM, POLARIZING PLATE, AND IMAGE DISPLAY DEVICE}

도 1 은 본 발명의 필름의 바람직한 구현예를 도식적으로 보여주는 개략적인 단면도이다.1 is a schematic cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the film of the present invention.

도 2 는 본 발명의 필름의 바람직한 구현예를 도식적으로 보여주는 개략적인 단면도이다.2 is a schematic cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the film of the present invention.

도 3 은 본 발명의 필름의 바람직한 구현예를 도식적으로 보여주는 개략적인 단면도이다.3 is a schematic cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the film of the present invention.

도 4 는 본 발명의 필름의 바람직한 구현예를 도식적으로 보여주는 개략적인 단면도이다.4 is a schematic cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the film of the present invention.

도 5 는 본 발명의 필름의 바람직한 구현예를 도식적으로 보여주는 개략적인 단면도이다.5 is a schematic cross-sectional view schematically showing a preferred embodiment of the film of the present invention.

본 발명은 반사방지 필름, 반사방지 필름을 이용한 편광판 및, 디스플레이의 최외 표면을 위한 반사방지 필름 또는 편광판을 이용한 영상 표시 장치에 관한 것 이다.The present invention relates to an antireflection film, a polarizing plate using an antireflection film, and an image display device using an antireflection film or a polarizing plate for the outermost surface of a display.

일반적으로, 음극선관 표시 장치 (CRT), 플라스마 디스플레이 (PDP), 전계발광 디스플레이 (ELD), 및 액정 표시 장치 (LCD) 등의 영상 표시 장치에 있어서, 외부 광의 반사로 인한 콘트라스트 (contrast) 의 저하 또는 이미지의 반사를 방지하기 위하여, 반사방지 필름을 디스플레이의 최외 표면에 배치함으로써 광 간섭 원리를 이용하여 반사율을 감소시킨다.Generally, in image display devices such as a cathode ray tube display device (CRT), a plasma display (PDP), an electroluminescent display (ELD), and a liquid crystal display device (LCD), the contrast is reduced due to the reflection of external light. Alternatively, to prevent reflection of the image, the reflectance is reduced using the optical interference principle by placing the antireflective film on the outermost surface of the display.

일반적으로, 그러한 반사방지 필름은, 지지체보다 굴절률이 작고 적당한 두께를 지닌 저굴절률층을 지지체 상에 형성시킴으로써 제조가능하다. 저굴절률을 달성하기 위해, 저굴절률층에 가능한 한 저굴절률을 지닌 물질을 이용하는 것이 바람직하다.In general, such antireflective films can be produced by forming on the support a low refractive index layer having a smaller refractive index than the support and having a suitable thickness. In order to achieve a low refractive index, it is preferable to use a material having as low a refractive index as possible in the low refractive index layer.

또한, 반사방지 필름은 디스플레이의 최외 표면에 사용되므로, 내반흔성 (scar resistance) 이 커야 한다. 두께 약 100 nm 의 얇은 필름의 경우, 높은 내반흔성을 실현하기 위해서는, 필름이 그 자체적으로 강도를 지니고 하층에 대해 접착력을 가져야 한다.In addition, since the antireflection film is used on the outermost surface of the display, the scar resistance must be large. In the case of thin films having a thickness of about 100 nm, in order to realize high scar resistance, the films must have strength on their own and have adhesion to the underlying layer.

또한, 반사방지 필름이 표시 장치의 최외 표면에 사용되므로, 전시 또는 일상적 사용에 있어서 지문을 중심으로 한 각종 얼룩의 부착에 대하여 뛰어난 저항성을 가져야 하거나, 심지어 필름에 얼룩이 생긴 경우라도, 뛰어난 얼룩 제거 특성을 가져야 한다 (이하, 상기 두 특성을 통합하여 "방오성" 이라 통칭함).In addition, since the antireflective film is used on the outermost surface of the display device, it must have excellent resistance to adhesion of various stains centered on fingerprints in display or in daily use, or even in case of film stains, excellent stain removal characteristics (Hereinafter, collectively referred to as "antifouling" by combining the two characteristics).

물질의 굴절률을 감소시키기 위하여, (1) 불소 원자의 도입 및 (2) 밀도의 감축 (공극 도입) 등의 수단이 존재한다. 그러나, 상기 모든 수단에 있어서, 경계면의 필름 강도 또는 접착력이 낮아져서 내반흔성이 저하되는 경향이 있다. 따라서, 저굴절률과 높은 내반흔성이 서로 양립되게 하는 것은 어려운 과제였다.In order to reduce the refractive index of the material, there are means such as (1) introduction of fluorine atoms and (2) reduction of density (pore introduction). However, in all the said means, there exists a tendency for the film strength or adhesive force of an interface surface to fall, and the scar resistance falls. Therefore, it was a difficult subject to make low refractive index and high scar resistance compatible with each other.

또한, 필름 자체의 경도를 증가시키기 위하여, 경화 반응이 충분히 진행되도록 하는 것이 중요하다. 산 촉매의 작용에 의해 불소-함유 중합체의 히드록실기가 경화제와 반응하도록 함으로써, 반사방지 필름의 저굴절률층을 경화시키는 방법이 일본 특허 제 3498381 호, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631, JP-A-2004-307524 및 JP-A-2003-26732 에 의해 제시되었다.In addition, in order to increase the hardness of the film itself, it is important to allow the curing reaction to proceed sufficiently. By allowing the hydroxyl group of the fluorine-containing polymer to react with the curing agent by the action of an acid catalyst, a method of curing the low refractive index layer of the antireflective film is disclosed in Japanese Patent No. 3498381, JP-A-11-189621, JP-A -11-228631, JP-A-2004-307524 and JP-A-2003-26732.

나아가, 방오성을 개선하기 위하여, 중합체 주쇄에 규소가 삽입된 불소-함유 중합체의 예가 일본 특허 제 3498381 호, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631 및 JP-A-2004-307524 에 기재되어 있다.Further, in order to improve antifouling properties, examples of the fluorine-containing polymer in which silicon is inserted into the polymer main chain are described in Japanese Patent Nos. 3498381, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631 and JP-A-2004-307524 It is described in.

한편, JP-A-62-174276, JP-A-1-259071, JP-A-2-173172 및 JP-A-2-302477 은 술폰산의 아민염을 촉매로 한 경화성 조성물 또는 페인트를 제시하고 있다.On the other hand, JP-A-62-174276, JP-A-1-259071, JP-A-2-173172 and JP-A-2-302477 propose curable compositions or paints based on the amine salt of sulfonic acid. .

경화와 관련하여, 일본 특허 제 3498381 호, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631, JP-A-2004-307524 및 JP-A-2003-26732 의 기술에 따르면, p-톨루엔술폰산이 산 촉매로서 이용된다. 비록 이의 경화 활성이 크긴 하지만 경화 반응이 저장시에 부분적으로 진행되기 때문에, 코팅 용액의 안정성이 불충분하여 코팅 조건이 제한적이다. 따라서, 코팅 용액의 안정성과 경화 활성이 서로 양립가능하도록 하는 것이 요구된다.Regarding curing, according to the techniques of Japanese Patent No. 3498381, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631, JP-A-2004-307524 and JP-A-2003-26732, p-toluene Sulphonic acid is used as the acid catalyst. Although its curing activity is large, since the curing reaction partially proceeds upon storage, the stability of the coating solution is insufficient and the coating conditions are limited. Therefore, it is required to make the stability and curing activity of the coating solution compatible with each other.

방오성의 개선 측면에서, 일본 특허 제 3498381 호, JP-A-11-189621, JP-A- 11-228631 및 JP-A-2004-307524 에 기재된 바와 같이 규소를 중합체 주쇄에 도입하는 방법은 필름을 약화시킬 수 있다.In terms of improving the antifouling properties, the method of introducing silicon into the polymer backbone as described in Japanese Patent No. 3498381, JP-A-11-189621, JP-A-11-228631 and JP-A-2004-307524 is preferred. May weaken.

또한, JP-A-62-174276, JP-A-1-259071, JP-A-2-173172 및 JP-A-2-302477 에 기재된 기술이 반사방지 필름에 적용되는 구현예는 없으며, 염기의 선택 기준도 밝혀지지 않았다.In addition, there is no embodiment in which the techniques described in JP-A-62-174276, JP-A-1-259071, JP-A-2-173172 and JP-A-2-302477 are applied to the antireflection film, No selection criteria were revealed.

본 발명의 목적은, 코팅 용액의 저장 안정성과 경화 활성이 서로 양립가능하게 하면서 동시에 뛰어난 내반흔성 및 방오성을 지닌 반사방지 필름을 제공하는 것이다. 또한, 본 발명의 다른 목적은 그러한 반사방지 필름을 이용한 편광판 및 영상 표시 장치를 제공하는 것이다.It is an object of the present invention to provide an antireflection film having excellent scar resistance and antifouling properties while making the storage stability and curing activity of the coating solution compatible with each other. Another object of the present invention is to provide a polarizing plate and an image display device using such an antireflection film.

앞선 문제점을 극복하기 위하여, 본 발명자들은 광범위하고도 집중적인 연구를 진행하였다. 그 결과, 하기의 구성에 의해 상기 문제점을 해결하여 상술한 목적을 달성할 수 있음을 발견하였고, 이로써 본 발명을 완성하였다.In order to overcome the above problems, the present inventors conducted extensive and intensive research. As a result, the present inventors have found that the above-mentioned object can be achieved by solving the above problems, thereby completing the present invention.

즉, 본 발명은 다음과 같은 구성에 의해 상기 목적을 달성하였다.That is, this invention achieved the said objective by the following structures.

(1) 하기 성분들을 함유한 코팅 조성물을 코팅하여 제조되는 저굴절률층 및 지지체를 포함하는 반사방지 필름:(1) an antireflection film comprising a low refractive index layer and a support prepared by coating a coating composition containing the following components:

(A) 주쇄가 탄소 원자로만 이루어지고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 함유하며, 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하고, 단, 주쇄에 폴리실록산 구조를 가지지 않는, 불소-함유 중합체;(A) the main chain consists only of carbon atoms, contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit, and has a content of 20 moles of hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit Fluorine-containing polymers having a percentage exceeding%, but having no polysiloxane structure in the main chain;

(B) 히드록실기와 반응할 수 있는 가교제; 및(B) a crosslinking agent capable of reacting with hydroxyl groups; And

(C) 1 분자 내에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유한 화합물.(C) A compound containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule.

(2) 하기 성분들을 함유한 코팅 조성물을 코팅하여 제조되는 저굴절률층 및 지지체를 포함하는 반사방지 필름:(2) an antireflection film comprising a low refractive index layer and a support prepared by coating a coating composition containing the following components:

(A) 주쇄가 탄소 원자로만 이루어지고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 함유하며, 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하고, 단, 주쇄에 폴리실록산 구조를 가지지 않는, 불소-함유 중합체;(A) the main chain consists only of carbon atoms, contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit, and has a content of 20 moles of hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit Fluorine-containing polymers having a percentage exceeding%, but having no polysiloxane structure in the main chain;

(B) 히드록실기와 반응할 수 있는 가교제; 및(B) a crosslinking agent capable of reacting with hydroxyl groups; And

(D) 유기실란 화합물, 또는 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및 유기실란 화합물의 부분 축합물 둘 중 하나 이상을 함유하는 조성물.(D) A composition containing at least one of an organosilane compound or a hydrolyzate of the organosilane compound and a partial condensate of the organosilane compound.

(3) 하기 성분들을 함유한 코팅 조성물을 코팅하여 제조되는 저굴절률층 및 지지체를 포함하는 반사방지 필름:(3) an antireflection film comprising a low refractive index layer and a support prepared by coating a coating composition containing the following components:

(A) 주쇄가 탄소 원자로만 이루어지고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 함유하며, 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하고, 단, 주쇄에 폴리실록산 구조를 가지지 않는, 불소-함유 중합체;(A) the main chain consists only of carbon atoms, contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit, and has a content of 20 moles of hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit Fluorine-containing polymers having a percentage exceeding%, but having no polysiloxane structure in the main chain;

(B) 히드록실기와 반응할 수 있는 가교제; 및(B) a crosslinking agent capable of reacting with hydroxyl groups; And

(E) 입자 크기가 1 nm 이상 100 nm 이하인 무기 입자.(E) Inorganic particles having a particle size of 1 nm or more and 100 nm or less.

(4) 상기 (1) 또는 (2) 에 있어서, 코팅 조성물이, (E) 입자 크기가 1 nm 이상 100 nm 이하인 무기 입자를 추가로 함유하는 반사방지 필름.(4) The antireflection film according to the above (1) or (2), wherein the coating composition further contains inorganic particles having a (E) particle size of 1 nm or more and 100 nm or less.

(5) 상기 (1) 내지 (4) 중 어느 하나에 있어서, 불소-함유 중합체가, 측쇄에 하기 화학식 (1) 로 표시되는 폴리실록산 반복 단위를 함유한 그래프트 부위 (graft site) 를 갖는 하나 이상의 중합 단위를 포함하는 반사방지 필름.(5) The polymerization according to any one of (1) to (4), wherein the fluorine-containing polymer has at least one graft site containing a polysiloxane repeating unit represented by the following formula (1) in a side chain: Antireflective film comprising the unit.

Figure 112006055903608-PAT00001
Figure 112006055903608-PAT00001

{상기 화학식 (1) 에서, R1 및 R2 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 알킬기 또는 아릴기를 나타내고; p 는 10 ~ 500 의 정수를 나타낸다}.{In the above formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different and each represents an alkyl group or an aryl group; p represents an integer of 10 to 500}.

(6) 상기 (1) 내지 (5) 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물이, (F) 히드록실기 또는 히드록실기와 반응하여 결합을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 폴리실록산 화합물을 추가로 함유하는 반사방지 필름.(6) The coating composition according to any one of (1) to (5), further comprising a polysiloxane compound having a functional group capable of forming a bond by reacting with (F) a hydroxyl group or a hydroxyl group. Antireflective film.

(7) 상기 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물이, 짝산의 pKa 가 5.0 내지 10.5 인 유기 염기 및 산을 포함한 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필름.(7) The antireflection film according to any one of the above (1) to (6), wherein the coating composition further contains at least one salt containing an organic base and an acid having a pKa of 5.0 to 10.5 of a conjugate acid.

(8) 상기 (1) 내지 (6) 중 어느 하나에 있어서, 코팅 조성물이, 비점이 35℃ 이상 및 85℃ 이하인 질소-함유 유기 염기 및 산을 포함한 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필름.(8) The antireflection film according to any one of the above (1) to (6), wherein the coating composition further contains at least one salt containing a nitrogen-containing organic base and an acid having a boiling point of 35 ° C. or higher and 85 ° C. or lower. .

(9) 상기 (3) 내지 (8) 중 어느 하나에 있어서, 무기 입자가 중공 실리카 (hollow silica) 입자인 반사방지 필름.(9) The antireflection film according to any one of (3) to (8), wherein the inorganic particles are hollow silica particles.

(10) 상기 (1) 내지 (9) 중 어느 하나에 있어서, 지지체와 저굴절률층 사이에 저굴절률층 보다 굴절률이 큰 하나 이상의 층을 추가로 가지며, 상기 하나 이상의 층이 유기실란 화합물, 또는 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및 상기 유기실란 화합물의 부분 축합물 둘 중 하나 이상을 함유하는 조성물을 함유하는 반사방지 필름.(10) The method according to any one of the above (1) to (9), further comprising at least one layer having a larger refractive index than the low refractive index layer between the support and the low refractive index layer, wherein the at least one layer is an organosilane compound, or An antireflective film containing a composition containing at least one of a hydrolyzate of an organosilane compound and a partial condensate of the organosilane compound.

(11) 상기 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 개시된 반사방지 필름을 포함하는 편광판으로서, 상기 반사방지 필름이 편광판 내에 편광 필름용의 2 개의 보호 필름 중 하나로서 제공되는 편광판.(11) A polarizing plate comprising the antireflective film described in any one of (1) to (10), wherein the antireflective film is provided in the polarizing plate as one of two protective films for polarizing films.

(12) 상기 (1) 내지 (10) 중 어느 하나에 개시된 반사방지 필름 또는 상기 (11) 에 개시된 편광판을 포함하는 영상 표시 장치로서, 상기 반사방지 필름 또는 편광판이 디스플레이의 최외 표면에 사용되는 영상 표시 장치.(12) An image display device comprising the antireflection film described in any one of (1) to (10) or the polarizing plate disclosed in (11), wherein the antireflection film or polarizing plate is used on the outermost surface of the display. Display device.

본 발명의 반사방지 필름은 충분한 반사방지 특성을 가짐에도, 내반흔성 및 방오성 모두 뛰어나다. 게다가, 본 발명의 반사방지 필름은, 저장 특성 및 경화 활성이 서로 양립가능하게 된 코팅 용액을 이용하여 제조되므로 생산 적응성이 높다. 나아가, 본 발명의 반사방지 필름이 제공된 영상 표시 장치 및 본 발명의 반사방지 필름을 이용한 편광판이 제공된 영상 표시 장치는 외부 광에 의한 반사 및 배경 반사가 덜하고 가시성은 매우 우수하다.Although the antireflection film of the present invention has sufficient antireflection properties, it is excellent in both scar resistance and antifouling property. In addition, the antireflective film of the present invention has high production adaptability since it is produced using a coating solution in which storage properties and curing activities are compatible with each other. Furthermore, the image display device provided with the antireflective film of the present invention and the image display device provided with the polarizing plate using the antireflective film of the present invention have less visibility and background reflection by external light and have excellent visibility.

이하 본 발명을 더 상세히 설명한다. 덧붙여, 본 명세서에서 수치가 물 성값, 특성값 등을 나타내는 경우, "(수치 1) 내지 (수치 2)" 란 표현은 "(수치 1) 이상 및 (수치 2) 이하" 를 의미한다. 또한, 본 명세서에서 "(메트)아크릴레이트" 란 용어는 "아크릴레이트 및 메타크릴레이트 중 하나 이상" 을 의미한다. "(메트)아크릴산" 등에도 위와 같이 동일하게 적용된다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail. In addition, in this specification, when a numerical value shows a physical property value, a characteristic value, etc., the expression "(value 1)-(value 2)" means "(value 1) or more and (value 2) or less". In addition, the term "(meth) acrylate" herein means "at least one of acrylate and methacrylate". The same applies to "(meth) acrylic acid" and the like.

1. 본 발명의 반사방지 필름의 구축:1. Construction of the Anti-Reflection Film of the Present Invention:

우선, 본 발명의 반사방지 필름을 이루는 구성 층 및 지지체에 사용가능한 각종 화합물과 같은 구조를 설명한다.First, the structure like the various compounds which can be used for the component layer and support body which comprise an antireflection film of this invention is demonstrated.

1-(1) 단량체로서 첨가되는 바인더 성분:Binder component added as 1- (1) monomer:

본 발명의 필름의 구성 층은 전리 방사선 경화성 화합물의 가교 반응 또는 중합 반응에 의해 형성될 수 있다. 즉, 바인더 층은, 전리 방사선 경화성 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머를 함유한 코팅 조성물을 투명 지지체 상에 코팅하고, 상기 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머를 가교 반응 또는 중합 반응시킴으로써 형성될 수 있다. 단량체로서 첨가되는 바인더 성분이, 본 발명의 반사방지 필름의 후술되는 하드 코트 (hard coat) 층 및/또는 저굴절률층을 형성하기 위한 코팅 조성물 내에 포함되는 것이 바람직하다.The constituent layers of the film of the present invention may be formed by a crosslinking reaction or a polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. That is, the binder layer may be formed by coating a coating composition containing an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer on a transparent support, and crosslinking or polymerizing the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer. It is preferable that the binder component added as a monomer is contained in the coating composition for forming the hard coat layer and / or low refractive index layer which are mentioned later of the antireflection film of this invention.

전리 방사선 경화성 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머의 관능기로서, 광중합성 관능기, 전자 빔 중합성 관능기, 및 방사 중합성 관능기가 바람직하며, 광중합성 관능기가 특히 바람직하다.As a functional group of an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer, a photopolymerizable functional group, an electron beam polymerizable functional group, and a radiation polymerizable functional group are preferable, and a photopolymerizable functional group is especially preferable.

광중합성 관능기의 예에는, 불포화 중합성 관능기, 예컨대 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 스티릴기 및 알릴기가 포함되며, (메트)아크릴로일기가 바람직하다. 특히, 1 분자 내에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유한 하기 화합물들을 본 발명의 저굴절률층의 구성 성분 (C) 로 사용할 수 있다.Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group, styryl group and allyl group, and a (meth) acryloyl group is preferable. In particular, the following compounds containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule can be used as the component (C) of the low refractive index layer of the present invention.

사용가능한 광중합성 관능기를 함유한 광중합성 다관능 단량체의 구체적 예에는 하기가 포함된다:Specific examples of the photopolymerizable polyfunctional monomer containing a photopolymerizable functional group which can be used include:

알킬렌 글리콜의 (메트)아크릴산 디에스테르, 예컨대 네오펜틸 글리콜 아크릴레이트, 1,6-헥산디올 (메트)아크릴레이트 및 프로필렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트;(Meth) acrylic acid diesters of alkylene glycols such as neopentyl glycol acrylate, 1,6-hexanediol (meth) acrylate and propylene glycol di (meth) acrylate;

폴리옥시알킬렌 글리콜의 (메트)아크릴산 디에스테르, 예컨대 트리에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트, 디프로필렌 글리콜 디(메트)아릴레이트, 폴리에틸렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트 및 폴리프로필렌 글리콜 디(메트)아크릴레이트;(Meth) acrylic acid diesters of polyoxyalkylene glycols such as triethylene glycol di (meth) acrylate, dipropylene glycol di (meth) acrylate, polyethylene glycol di (meth) acrylate and polypropylene glycol di (meth) Acrylates;

다가 알콜의 (메트)아크릴산 디에스테르, 예컨대 펜타에리트리톨 디(메트)아크릴레이트; 및(Meth) acrylic acid diesters of polyhydric alcohols such as pentaerythritol di (meth) acrylate; And

에틸렌 옥시드 또는 프로필렌 옥시드 부가물의 (메트)아크릴산 디에스테르, 예컨대 2,2-비스{4-(아크릴옥시·디에톡시)페닐}프로판 및 2,2-비스{4-(아크릴옥시·폴리프로폭시)페닐}프로판.(Meth) acrylic acid diesters of ethylene oxide or propylene oxide adducts such as 2,2-bis {4- (acryloxydiethoxy) phenyl} propane and 2,2-bis {4- (acryloxypolyprop Foxy) phenyl} propane.

또한, 에폭시 (메트)아크릴레이트, 우레탄 (메트)아크릴레이트 및 폴리에스테르 (메트)아크릴레이트도 광중합성 다관능 단량체로서 바람직하게 이용된다.Moreover, epoxy (meth) acrylate, urethane (meth) acrylate, and polyester (meth) acrylate are also used suitably as a photopolymerizable polyfunctional monomer.

무엇보다도, 다가 알콜 및 (메트)아크릴산의 에스테르가 바람직하고; 1 분자 내에 3 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유한 다관능 단량체가 더욱 바람직하다. 이의 구체적 예로는, 트리메틸올프로판 트리(메트)아크릴레이트, 트리메틸올에탄 트리(메트)아크릴레이트, 1,2,4-시클로헥산 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타글리세롤 트리아크릴레이트, 펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, 펜타에리트리톨 트리(메트)아크릴레이트, (디)펜타에리트리톨 트리아크릴레이트, (디)펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트, (디)펜타에리트리톨 테트라(메트)아크릴레이트, (디)펜타에리트리톨 헥사(메트)아크릴레이트, 트리펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 트리펜타에리트리톨 헥사트리아크릴레이트가 포함된다. 본 명세서에서, "(메트)아크릴레이트", "(메트)아크릴산" 및 "(메트)아크릴로일" 이란 용어는 각각 "아크릴레이트 또는 메타크릴레이트", "아크릴산 또는 메타크릴산" 및 "아크릴로일 또는 메타크릴로일" 을 의미한다.First of all, esters of polyhydric alcohols and (meth) acrylic acid are preferred; More preferred are polyfunctional monomers containing three or more (meth) acryloyl groups in one molecule. Specific examples thereof include trimethylolpropane tri (meth) acrylate, trimethylolethane tri (meth) acrylate, 1,2,4-cyclohexane tetra (meth) acrylate, pentaglycerol triacrylate, and pentaerythritol tetra (Meth) acrylate, pentaerythritol tri (meth) acrylate, (di) pentaerythritol triacrylate, (di) pentaerythritol pentaacrylate, (di) pentaerythritol tetra (meth) acrylate, ( Di) pentaerythritol hexa (meth) acrylate, tripentaerythritol triacrylate and tripentaerythritol hexatriacrylate. In this specification, the terms "(meth) acrylate", "(meth) acrylic acid" and "(meth) acryloyl" refer to "acrylate or methacrylate", "acrylic acid or methacrylic acid" and "acrylic acid, respectively". Loyl or methacryloyl ”.

각 층의 굴절률을 조절하기 위하여, 중합체 측면에서 상이한 굴절률을 갖는 단량체들을, 바인더로서 이용되는 단량체로 사용할 수 있다. 특히, 고굴절률 단량체의 예에는, 비스(4-메타크릴로일티오페닐) 설파이드, 비닐나프탈렌, 비닐페닐 설파이드 및 4-메타크릴옥시페닐-4'-메톡시페닐 티오에테르가 포함된다.In order to control the refractive index of each layer, monomers having different refractive indices in terms of polymers can be used as the monomer used as the binder. In particular, examples of the high refractive index monomers include bis (4-methacryloylthiophenyl) sulfide, vinylnaphthalene, vinylphenyl sulfide and 4-methacryloxyphenyl-4'-methoxyphenyl thioether.

예컨대 JP-A-2005-76005 및 JP-A-2005-36105 에 개시된 덴드리머, 및 예컨대 JP-2005-60425 에 개시된 노르보르넨 고리-함유 단량체 또한 사용가능하다.Dendrimers disclosed in, for example, JP-A-2005-76005 and JP-A-2005-36105, and norbornene ring-containing monomers, such as disclosed in, for example, JP-2005-60425, can also be used.

다관능 단량체를 2 종 이상 조합하여 사용할 수 있다.Two or more types of polyfunctional monomers can be used in combination.

상기 에틸렌계 불포화기-함유 단량체의 중합을, 광 라디칼 개시제 또는 열 라디칼 개시제의 존재 하에 가열 또는 전리 방사선으로 조사함으로써 수행할 수 있다.The polymerization of the ethylenically unsaturated group-containing monomer can be carried out by irradiation with heating or ionizing radiation in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.

광중합성 다관능 단량체의 중합 반응을 위하여, 광중합 개시제를 사용하는 것이 바람직하다. 광중합 개시제로서, 광 라디칼 중합 개시제 및 광 양이온성 중합 개시제가 바람직하며, 광 라디칼 중합 개시제가 특히 바람직하다.For the polymerization reaction of the photopolymerizable polyfunctional monomer, it is preferable to use a photopolymerization initiator. As a photoinitiator, a radical photopolymerization initiator and a photocationic polymerization initiator are preferable, and a radical photopolymerization initiator is especially preferable.

1-(2) 중합체로서 첨가되는 바인더 성분:Binder Component Added as 1- (2) Polymer:

본 발명에서, 구성 층을 위한 바인더로서 중합체 또는 가교 중합체를 사용할 수 있다. 상기 가교 중합체는 음이온성 기를 함유하는 것이 바람직하다. 가교된 음이온성 기-함유 중합체는 음이온성 기-함유 중합체의 주쇄가 가교되어 있는 구조를 가진다. 중합체로서 첨가되는 바인더 성분이, 본 발명의 반사방지 필름의 후술되는 하드 코트층 및/또는 저굴절률층의 형성을 위한 코팅 조성물 내에 함유되는 것이 바람직하다. In the present invention, a polymer or a crosslinked polymer can be used as the binder for the constituent layer. It is preferable that the crosslinked polymer contains an anionic group. The crosslinked anionic group-containing polymer has a structure in which the main chain of the anionic group-containing polymer is crosslinked. It is preferable that the binder component added as a polymer is contained in the coating composition for formation of the hard-coat layer and / or low refractive index layer mentioned later of the antireflection film of this invention.

중합체의 주쇄의 예로는, 폴리올레핀 (포화 탄화수소), 폴리에테르, 폴리우레탄, 폴리에스테르, 폴리아민, 폴리아미드 및 멜라민 수지가 포함된다. 그 중에서도, 폴리올레핀 주쇄, 폴리에테르 주쇄 및 폴리우레아 주쇄가 바람직하며; 폴리올레핀 주쇄 및 폴리에테르 주쇄가 더 바람직하고; 폴리올레핀 주쇄가 가장 바람직하다.Examples of the main chain of the polymer include polyolefins (saturated hydrocarbons), polyethers, polyurethanes, polyesters, polyamines, polyamides, and melamine resins. Among them, polyolefin backbone, polyether backbone and polyurea backbone are preferred; More preferred are polyolefin backbones and polyether backbones; Most preferred are polyolefin backbones.

폴리올레핀 주쇄는 포화 탄화수소로 이루어진다. 폴리올레핀 주쇄는, 예컨대 불포화 중합성 기의 첨가 중합 반응에 의해 수득된다. 폴리에테르 주쇄의 경우, 그 반복 단위가 에테르 결합 (-O-) 에 의해 결합된다. 폴리에테르 주쇄는, 예컨대 에폭시기의 개환 중합 반응에 의해 수득된다. 폴리우레아 주쇄의 경우, 그 반복 단위가 우레아 결합 (-NH-CO-NH-) 에 의해 결합된다. 폴리우레아 주쇄는, 예컨대 이소시아네이트기와 아미노기 간의 축중합 반응에 의해 수득된 다. 폴리우레탄 주쇄의 경우, 그 반복 단위가 우레탄 결합 (-NH-CO-O-) 에 의해 결합된다. 폴리우레탄 주쇄는, 예컨대 이소시아네이트기와 히드록실기 (N-메틸올기 포함) 간의 축중합 반응에 의해 수득된다. 폴리에스테르 주쇄의 경우, 그 반복 단위가 에스테르 결합 (-CO-O-) 에 의해 결합된다. 폴리에스테르 주쇄는, 예컨대 카르복실기 (산 할라이드 기 포함) 및 히드록실기 (N-메틸올기 포함) 간의 축중합 반응에 의해 수득된다. 폴리아민 주쇄의 경우, 그 반복 단위가 이미노 결합 (-NH-) 에 의해 결합된다. 폴리아민 주쇄는, 예컨대 에틸렌이민기의 개환 중합 반응에 의해 수득된다. 폴리아미드 주쇄의 경우, 그 반복 단위가 아미드 결합 (-NH-CO-) 에 의해 수득된다. 폴리아미드 주쇄는, 예컨대 이소시아네이트기와 카르복실기 (산 할라이드 기 포함) 간의 반응에 의해 수득된다. 멜라민 수지 주쇄는, 예컨대 트리아진기 (예, 멜라민) 와 알데히드 (예, 포름알데히드) 사이의 축중합 반응에 의해 수득된다. 덧붙여, 멜라민 수지의 경우 주쇄 그 자체가 가교 구조를 가진다.The polyolefin backbone consists of saturated hydrocarbons. The polyolefin backbone is obtained, for example, by addition polymerization of unsaturated polymerizable groups. In the case of polyether backbones, the repeating units are bonded by ether bonds (-O-). A polyether main chain is obtained by ring-opening polymerization reaction of an epoxy group, for example. In the case of polyurea backbones, the repeating units are joined by urea bonds (-NH-CO-NH-). Polyurea backbones are obtained, for example, by polycondensation reactions between isocyanate and amino groups. In the case of a polyurethane backbone, the repeating units are joined by urethane bonds (-NH-CO-O-). Polyurethane backbones are obtained, for example, by polycondensation reactions between isocyanate groups and hydroxyl groups (including N-methylol groups). In the case of a polyester main chain, the repeating unit is bonded by an ester bond (-CO-O-). Polyester backbones are obtained, for example, by polycondensation reactions between carboxyl groups (including acid halide groups) and hydroxyl groups (including N-methylol groups). In the case of polyamine backbones, the repeating units are bound by imino bonds (-NH-). The polyamine main chain is obtained by, for example, a ring-opening polymerization reaction of ethyleneimine groups. In the case of polyamide backbones, the repeating units are obtained by amide bonds (-NH-CO-). Polyamide backbones are obtained, for example, by reaction between isocyanate groups and carboxyl groups (including acid halide groups). The melamine resin backbone is obtained by, for example, a polycondensation reaction between a triazine group (eg melamine) and an aldehyde (eg formaldehyde). In addition, in the case of melamine resin, the main chain itself has a crosslinked structure.

음이온성 기는 중합체 주쇄에 직접 결합되거나 또는 연결기 (connecting group) 를 통해 주쇄에 결합된다. 음이온성 기가, 연결기를 통해 주쇄에 측쇄로서 결합되는 것이 바람직하다.Anionic groups are bonded directly to the polymer backbone or to the backbone via a connecting group. It is preferred that the anionic group is bonded as a side chain to the main chain via a linking group.

음이온성 기의 예에는, 카르복실기 (카르복실), 술폰산기 (술포), 및 인산기 (포스포노) 가 포함되며, 술폰산기 및 인산기가 바람직하다.Examples of the anionic group include a carboxyl group (carboxyl), a sulfonic acid group (sulfo), and a phosphoric acid group (phosphono), and a sulfonic acid group and a phosphoric acid group are preferable.

음이온성 기는 염 상태일 수 있다. 음이온성 기와 함께 염을 생성하는 양이온으로는 알칼리 금속 이온이 바람직하다. 또한, 음이온성 기의 양성자는 해리될 수 있다.The anionic group can be in a salt state. Alkali metal ions are preferable as the cation which forms a salt together with the anionic group. In addition, protons of the anionic group can be dissociated.

음이온성 기를 중합체 주쇄에 결합시키는 연결기는, -CO-, -O-, 알킬렌기, 아릴렌기, 및 이들의 조합 중에서 선택되는 2가 기인 것이 바람직하다.It is preferable that the linking group which couple | bonds an anionic group to a polymer main chain is a divalent group chosen from -CO-, -O-, an alkylene group, an arylene group, and a combination thereof.

가교 구조에서는 2 개 이상의 주쇄의 화학적 결합 (바람직하게는 공유 결합) 이 일어나고, 바람직하게는 3 이상의 주쇄의 공유 결합이 일어난다. 가교 구조는, -CO-, -O-, -S-, 질소 원자, 인 원자, 지방족 잔기, 방향족 잔기, 및 이들의 조합 중에서 선택되는 2가 또는 다가 기로 이루어지는 것이 바람직하다.In the crosslinked structure, chemical bonds (preferably covalent bonds) of two or more main chains occur, and preferably covalent bonds of three or more main chains occur. It is preferable that a crosslinked structure consists of a divalent or polyvalent group chosen from -CO-, -O-, -S-, a nitrogen atom, a phosphorus atom, an aliphatic residue, an aromatic residue, and a combination thereof.

가교 음이온성 기-함유 중합체는, 음이온성 기-함유 반복 단위 및 가교 구조를 갖는 반복 단위를 포함한 공중합체인 것이 바람직하다. 공중합체 내 음이온성 기-함유 반복 단위의 비율은 바람직하게는 2 내지 96 중량%, 더욱 바람직하게는 4 내지 94 중량%, 가장 바람직하게는 6 내지 92 중량% 이다. 상기 반복 단위는 2 개 이상의 음이온성 기를 함유할 수 있다. 공중합체 내 가교 구조를 갖는 반복 단위의 비율은 바람직하게는 4 내지 98 중량%, 더욱 바람직하게는 6 내지 96 중량%, 가장 바람직하게는 8 내지 94 중량% 이다.The crosslinked anionic group-containing polymer is preferably a copolymer comprising an anionic group-containing repeat unit and a repeating unit having a crosslinked structure. The proportion of anionic group-containing repeat units in the copolymer is preferably from 2 to 96% by weight, more preferably from 4 to 94% by weight and most preferably from 6 to 92% by weight. The repeating unit may contain two or more anionic groups. The proportion of repeating units having a crosslinked structure in the copolymer is preferably 4 to 98% by weight, more preferably 6 to 96% by weight, most preferably 8 to 94% by weight.

가교 음이온성 기-함유 중합체의 반복 단위는 음이온성 기 및 가교 구조 모두를 가질 수 있다. 또한, 다른 반복 단위 (음이온성 기 및 가교 구조 모두를 가지지 않는 반복 단위) 도 포함될 수 있다.The repeating units of the crosslinked anionic group-containing polymer may have both anionic groups and crosslinked structures. In addition, other repeating units (repeating units not having both anionic group and crosslinked structure) may be included.

다른 반복 단위로서는, 아미노기 또는 4차 암모늄기를 함유한 반복 단위 및 벤젠 고리를 함유한 반복 단위도 바람직하다. 아미노기 또는 4차 암모늄기는 음이온성 기와 유사하게 무기 입자의 분산된 상태를 유지하는 기능을 가진다. 덧붙여, 아미노기, 4차 암모늄기 또는 벤젠 고리가 음이온성 기-함유 반복 단위 또는 가교 구조를 갖는 반복 단위에 포함되더라도, 동일한 효과를 얻을 수 있다.As another repeating unit, the repeating unit containing an amino group or a quaternary ammonium group, and the repeating unit containing a benzene ring are also preferable. The amino group or quaternary ammonium group has a function of maintaining the dispersed state of the inorganic particles similar to the anionic group. In addition, even if an amino group, a quaternary ammonium group, or a benzene ring is included in the anionic group-containing repeating unit or a repeating unit having a crosslinked structure, the same effect can be obtained.

아미노기 또는 4차 암모늄기를 함유한 반복 단위에서, 아미노기 또는 4차 암모늄기는 중합체 주쇄에 직접 결합되거나 또는 연결기를 통해 주쇄에 결합된다. 아미노기 또는 4차 암모늄기가 연결기를 통해 주쇄에 측쇄로서 결합되는 것이 바람직하다. 아미노기 또는 4차 암모늄기는 바람직하게는 2차 아미노기, 3차 아미노기, 또는 4차 암모늄기이고, 더 바람직하게는 3차 아미노기 또는 4차 암모늄기이다. 2차 아미노기, 3차 아미노기 또는 4차 암모늄기에 있어서, 질소 원자에 결합되는 기는 바람직하게는 알킬기, 더욱 바람직하게는 탄소수 1 내지 12 의 알킬기, 가장 바람직하게는 탄소수 1 내지 6 의 알킬기이다. 4차 암모늄기의 반대이온으로는 할라이드 이온이 바람직하다. 중합체 주쇄에 2차 아미노기, 3차 아미노기 또는 4차 암모늄기를 결합시키는 연결기는, -CO-, -NH-, -O-, 알킬렌기, 아릴렌기, 및 이들의 조합 중에서 선택되는 2가 기인 것이 바람직하다. 가교 음이온성 기-함유 중합체가 아미노기 또는 4차 암모늄기를 함유한 반복 단위를 포함할 경우, 상기 반복 단위의 비율은 바람직하게는 0.06 내지 32 중량%, 더욱 바람직하게는 0.08 내지 30 중량%, 가장 바람직하게는 0.1 내지 28 중량% 이다.In repeating units containing amino or quaternary ammonium groups, the amino or quaternary ammonium groups are bonded directly to the polymer backbone or through the linking group to the backbone. It is preferred that an amino group or quaternary ammonium group is bonded as a side chain to the main chain via a linking group. The amino group or quaternary ammonium group is preferably a secondary amino group, tertiary amino group, or quaternary ammonium group, more preferably tertiary amino group or quaternary ammonium group. In the secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group, the group bonded to the nitrogen atom is preferably an alkyl group, more preferably an alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, and most preferably an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms. As the counterion of the quaternary ammonium group, halide ions are preferable. The linking group for bonding a secondary amino group, tertiary amino group or quaternary ammonium group to the polymer backbone is preferably a divalent group selected from -CO-, -NH-, -O-, an alkylene group, an arylene group, and a combination thereof. Do. When the crosslinked anionic group-containing polymer comprises repeating units containing amino groups or quaternary ammonium groups, the proportion of the repeating units is preferably 0.06 to 32% by weight, more preferably 0.08 to 30% by weight, most preferably Preferably 0.1 to 28% by weight.

1-(3) 불소-함유 중합체 바인더 [본 발명의 저굴절률층의 구성 성분 (A)]:1- (3) Fluorine-containing polymer binder [constituent (A) of low refractive index layer of the present invention]:

본 발명에서, 저굴절률층에는, 주쇄가 탄소 원자만으로 형성되고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 포함하고, 상기 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하는 중합체를 사용하는데, 단, 상기 중합체는 주쇄 내에 폴리실록산 구조를 갖지 않는다.In the present invention, in the low refractive index layer, the main chain is formed of only carbon atoms, and includes at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit, and the hydroxyl group-containing vinyl monomer Polymers having a content of polymerized units in excess of 20 mol% are used, provided the polymers do not have a polysiloxane structure in the main chain.

(불소-함유 비닐 단량체 중합 단위)(Fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit)

본 발명에서, 저굴절률층을 형성하는데 사용되는 불소-함유 중합체 내에 포함되는 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위의 구조는 특별히 제한되지는 않으며, 이의 예에는 불소-함유 올레핀, 퍼플루오로알킬 비닐 에테르, 불소-함유 알킬기-함유 비닐 에테르 또는 (메트)아크릴레이트 등을 기반으로 하는 중합 단위가 포함된다. 생산 적응성 및 저굴절률층에 요구되는 특성, 예컨대 굴절률 및 필름 강도의 관점에서, 불소-함유 중합체는 바람직하게는 불소-함유 올레핀과 비닐 에테르의 공중합체이고, 더욱 바람직하게는 퍼플루오로올레핀과 비닐 에테르의 공중합체이다. 게다가, 굴절률 저하를 목적으로, 퍼플루오로알킬 비닐 에테르, 불소-함유 알킬기-함유 비닐 에테르 또는 (메트)아크릴레이트 등이 공중합 성분으로서 포함될 수 있다.In the present invention, the structure of the fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit included in the fluorine-containing polymer used to form the low refractive index layer is not particularly limited, and examples thereof include fluorine-containing olefins, perfluoroalkyl vinyl ethers, Polymerized units based on fluorine-containing alkyl group-containing vinyl ethers or (meth) acrylates and the like. In view of the properties required for production adaptability and low refractive index layer, such as refractive index and film strength, the fluorine-containing polymer is preferably a copolymer of fluorine-containing olefins and vinyl ethers, more preferably perfluoroolefins and vinyls. Copolymers of ethers. In addition, for the purpose of lowering the refractive index, perfluoroalkyl vinyl ether, fluorine-containing alkyl group-containing vinyl ether, (meth) acrylate and the like can be included as the copolymerization component.

퍼플루오로올레핀으로서, 탄소수가 3 내지 7 인 것들이 바람직하고; 중합 반응성의 관점에서, 퍼플루오로프로필렌 및 퍼플루오로부틸렌이 바람직하고; 입수 용이성의 관점에서, 퍼플루오로프로필렌이 특히 바람직하다.As the perfluoroolefins, those having 3 to 7 carbon atoms are preferable; From the viewpoint of polymerization reactivity, perfluoropropylene and perfluorobutylene are preferable; From the viewpoint of availability, perfluoropropylene is particularly preferred.

중합체 내 퍼플루오로올레핀의 함량은 25 내지 75 몰% 이다. 재료의 저굴절률을 실현하기 위해서는, 퍼플루오로올레핀의 도입률을 증가시키는 것이 바람직하지만, 중합 반응성의 관점에서, 일반 용액계 라디칼 중합 반응에서는 약 50 내지 70 몰% 의 도입이 한계이고, 상기 범위를 초과하는 도입은 어렵다. 본 발명 에서, 상기 함량은 바람직하게는 30 몰% 내지 70 몰% 이고, 더욱 바람직하게는 30 몰% 내지 60 몰% 이고, 더 바람직하게는 35 몰% 내지 60 몰% 이고, 특히 바람직하게는 40 내지 60 몰% 이다.The content of perfluoroolefins in the polymer is 25 to 75 mol%. In order to realize a low refractive index of the material, it is preferable to increase the introduction rate of the perfluoroolefin, but from the viewpoint of polymerization reactivity, in the general solution-based radical polymerization reaction, the introduction of about 50 to 70 mol% is the limit, and the range is Excessive introduction is difficult. In the present invention, the content is preferably 30 mol% to 70 mol%, more preferably 30 mol% to 60 mol%, more preferably 35 mol% to 60 mol%, particularly preferably 40 To 60 mol%.

게다가, 본 발명에 사용되는 불소-함유 중합체에서, 저굴절률을 실현하기 위하여, 하기 M1 로 나타내는 불소-함유 비닐 에테르를 공중합시킬 수 있다. 상기 공중합 성분을 중합체에 0 내지 40 몰%, 바람직하게는 0 내지 30 몰%, 특히 바람직하게는 0 내지 20 몰% 의 범위로 도입시킬 수 있다.In addition, in the fluorine-containing polymer used in the present invention, in order to realize a low refractive index, the fluorine-containing vinyl ether represented by M1 below can be copolymerized. The copolymer component can be introduced into the polymer in the range of 0 to 40 mol%, preferably 0 to 30 mol%, particularly preferably 0 to 20 mol%.

Figure 112006055903608-PAT00002
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M1 에서, Rf111 은 탄소수가 1 내지 30 인 불소-함유 알킬기, 바람직하게는 탄소수가 1 내지 20 인 불소-함유 알킬기, 특히 바람직하게는 탄소수가 1 내지 15 인 불소-함유 알킬기를 나타내고; 이는 선형일 수 있고{예를 들어, -CF2CF3, -CH2(CF2)aH, 및 -CH2CH2(CF2)aF (a: 2 내지 12 의 정수)}; 분지형 구조를 가질 수 있고{예를 들어, -CH(CF3)2, -CH2CF(CF3)2, -CH(CH3)CF2CF3, 및 -CH(CH3)(CF2)5CF2H}; 지환식 구조 (바람직하게는 5-원 고리 또는 6-원 고리, 예를 들어, 퍼플루오로시클로헥실기, 퍼플루오로시클로펜틸기, 및 그러한 기로 치환된 알킬기) 를 가질 수 있고; 에테르 결합을 포함할 수 있다{예를 들어, -CH2OCH2CF2CF3, -CH2CH2OCH2(CF2)bH, -CH2CH2OCH2(CF2)bF (b: 2 내지 12 의 정수), 및 -CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H}. 덧붙 여, Rf111 로 나타내는 치환기가 본원에 열거한 치환기에 한정되는 것으로 해석해서는 안된다.In M1, Rf 111 represents a fluorine-containing alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, preferably a fluorine-containing alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably a fluorine-containing alkyl group having 1 to 15 carbon atoms; It may be linear (eg, —CF 2 CF 3 , —CH 2 (CF 2 ) a H, and —CH 2 CH 2 (CF 2 ) a F (a: an integer from 2 to 12)}; May have a branched structure (eg, -CH (CF 3 ) 2 , -CH 2 CF (CF 3 ) 2 , -CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 , and -CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H}; An alicyclic structure (preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring such as a perfluorocyclohexyl group, a perfluorocyclopentyl group, and an alkyl group substituted with such a group); Ether linkages {eg, —CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , —CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2 ) b H, —CH 2 CH 2 OCH 2 (CF 2 ) b F ( b: integer from 2 to 12), and -CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H}. In addition, the substituent represented by Rf 111 should not be interpreted as being limited to the substituents listed herein.

M1 로 나타내는 상기 단량체는, 예를 들어, 문헌 [Macromolecules, Vol. 32(21), p.7122 (1999)], JP-A-2-721 등에 기재되어 있는 바와 같이, 염기 촉매의 존재 하에 불소-함유 알콜을 분열기-치환 알킬 비닐 에테르 예컨대 비닐옥시알킬 술포네이트 및 비닐옥시알킬 클로라이드에 작용시키는 방법; WO 92/05135 에 기재되어 있는 바와 같이, 팔라듐 촉매의 존재 하에 불소-함유 알콜 및 비닐 에테르 예컨대 부틸 비닐 에테르를 혼합시켜 비닐기를 교환시키는 방법; 및 U.S. 특허 제 3,420,793 호에 기재되어 있는 바와 같이, 불화칼륨 촉매의 존재 하에 불소-함유 케톤 및 디브로모에탄을 서로 반응시킨 후, 알칼리성 촉매에 의해 브롬화수소제거반응을 행하는 방법에 의해 합성할 수 있다.The monomer represented by M1 is described, for example, in Macromolecules , Vol. 32 (21), p.7122 (1999)], JP-A-2-721 and the like, the fluorine-containing alcohol in the presence of a base catalyst is converted to a splitter-substituted alkyl vinyl ether such as vinyloxyalkyl sulfonate and A method of acting on vinyloxyalkyl chloride; As described in WO 92/05135, in which a fluorine-containing alcohol and a vinyl ether such as butyl vinyl ether are mixed to exchange vinyl groups in the presence of a palladium catalyst; And by reacting the fluorine-containing ketone and dibromoethane with each other in the presence of a potassium fluoride catalyst, as described in US Pat. No. 3,420,793, followed by a hydrogen bromide removal reaction with an alkaline catalyst. have.

M1 로 나타내는 구성 성분의 바람직한 예를 하기에 제시하지만, 본 발명이 이에 한정되는 것으로 해석해서는 안된다.Although the preferable example of the component represented by M1 is shown below, it should not be interpreted that this invention is limited to this.

Figure 112006055903608-PAT00003
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Figure 112006055903608-PAT00004
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Figure 112006055903608-PAT00005
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Figure 112006055903608-PAT00006
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Figure 112006055903608-PAT00007
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Figure 112006055903608-PAT00008
Figure 112006055903608-PAT00008

본 발명에 사용되는 불소-함유 중합체에서, 저굴절률을 실현하기 위하여, 하기 M2 로 나타내는 퍼플루오로비닐 에테르를 공중합시킬 수 있다. 상기 공중합 성분을 중합체에 0 내지 40 몰%, 바람직하게는 0 내지 30 몰%, 특히 바람직하게는 0 내지 20 몰% 의 범위로 도입시킬 수 있다.In the fluorine-containing polymer used in the present invention, in order to realize a low refractive index, the perfluorovinyl ether represented by the following M2 can be copolymerized. The copolymer component can be introduced into the polymer in the range of 0 to 40 mol%, preferably 0 to 30 mol%, particularly preferably 0 to 20 mol%.

Figure 112006055903608-PAT00009
Figure 112006055903608-PAT00009

M2 에서, Rf112 는 탄소수가 1 내지 30 인 불소-함유 알킬기, 바람직하게는 탄소수가 1 내지 20 인 불소-함유 알킬기, 특히 바람직하게는 탄소수가 1 내지 10 인 불소-함유 알킬기, 더 바람직하게는 탄소수가 1 내지 10 인 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. 게다가, 상기 불소-함유 알킬기는 치환기를 가질 수 있다. Rf112 의 구체적인 예에는 -CF3 {M2-(1)}, -CF2CF3 {M2-(2)}, -CF2CF2CF3 {M2-(3)}, 및 -CF2CF(OCF2CF2CF3)CF3 {M3-(4)} 가 포함된다.In M2, Rf 112 is a fluorine-containing alkyl group having 1 to 30 carbon atoms, preferably a fluorine-containing alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, particularly preferably a fluorine-containing alkyl group having 1 to 10 carbon atoms, more preferably A perfluoroalkyl group having 1 to 10 carbon atoms. In addition, the fluorine-containing alkyl group may have a substituent. Specific examples of Rf 112 include -CF 3 {M2- (1)}, -CF 2 CF 3 {M2- (2)}, -CF 2 CF 2 CF 3 {M2- (3)}, and -CF 2 CF (OCF 2 CF 2 CF 3 ) CF 3 {M3- (4)}.

(히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위)(Hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit)

본 발명에 사용되는 불소-함유 중합체는 중합체 내에서의 함량이 20 몰% 를 초과하는 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 포함할 것을 요한다. 히드록실기는 가교제와의 반응시 경화되는 작용을 가지기 때문에, 경질 필름을 형성할 수 있다는 이유로, 히드록실기의 함량은 높은 것이 바람직하다. 이의 함량은 바람직하게는 20 몰% 초과 내지 70 몰% 이하, 더욱 바람직하게는 20 몰% 초과 내지 60 몰% 이하, 더 바람직하게는 25 몰% 이상 내지 55 몰% 이하이다.Fluorine-containing polymers used in the present invention are required to include hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized units having a content of more than 20 mol% in the polymer. Since the hydroxyl group has a function of curing upon reaction with the crosslinking agent, the content of the hydroxyl group is preferably high because it can form a hard film. Its content is preferably more than 20 mol% to 70 mol% or less, more preferably more than 20 mol% to 60 mol% or less, more preferably 25 mol% to 55 mol% or less.

히드록실기-함유 비닐 단량체는 상기 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위와 공중합가능한 한, 특별한 제한 없이 사용할 수 있고, 이의 예에는 비닐 에테르, (메트)아크릴레이트, 및 스티렌이 포함된다. 예를 들어, 불소-함유 비닐 단량체로서 퍼플루오로올레핀 (예를 들어, 헥사플루오로프로필렌) 을 사용하는 경우, 공중합성이 양호한 히드록실기-함유 비닐 에테르를 사용하는 것이 바람직하다. 이의 구체적인 예에는 2-히드록시에틸 비닐 에테르, 4-히드록시부틸 비닐 에테르, 6-히드록시헥실 비닐 에테르, 8-히드록시옥틸 비닐 에테르, 디에틸렌 글리콜 비닐 에테르, 트리에틸렌 글리콜 비닐 에테르, 및 4-(히드록시메틸)시클로헥실메틸 비닐 에테르가 포함된다. 그러나, 본 발명이 이에 한정되는 것으로 해석해서는 안된 다.The hydroxyl group-containing vinyl monomer may be used without particular limitation, so long as it is copolymerizable with the fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit, examples of which include vinyl ether, (meth) acrylate, and styrene. For example, when using perfluoroolefin (for example, hexafluoropropylene) as a fluorine-containing vinyl monomer, it is preferable to use the hydroxyl group-containing vinyl ether with good copolymerizability. Specific examples thereof include 2-hydroxyethyl vinyl ether, 4-hydroxybutyl vinyl ether, 6-hydroxyhexyl vinyl ether, 8-hydroxyoctyl vinyl ether, diethylene glycol vinyl ether, triethylene glycol vinyl ether, and 4 -(Hydroxymethyl) cyclohexylmethyl vinyl ether. However, the present invention should not be construed as being limited thereto.

(폴리실록산 구조를 가지는 구성 단위)(Structural unit having a polysiloxane structure)

방오성을 부여하기 위해서, 본 발명에 사용되는 불소-함유 중합체는 폴리실록산 구조를 가지는 구성 단위를 포함하는 것도 바람직하다. 본 발명에 유용한 폴리실록산 구조를 가지는 불소-함유 중합체로서는, (a) 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위, (b) 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 (c) 측쇄에 하기 화학식 (1) 로 나타내는 폴리실록산 반복 단위를 포함하는 그래프트 부위를 가지는 하나 이상의 중합 단위를 포함하고, 주쇄가 탄소 원자로만 형성된는 불소-함유 중합체가 나열된다.In order to impart antifouling property, it is also preferable that the fluorine-containing polymer used for this invention contains the structural unit which has a polysiloxane structure. Fluorine-containing polymers having a polysiloxane structure useful in the present invention include (a) at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerization unit, (b) at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit and (c) a side chain. Listed are fluorine-containing polymers comprising at least one polymerized unit having a graft moiety comprising a polysiloxane repeating unit represented by 1), wherein the main chain is formed solely of carbon atoms.

Figure 112006055903608-PAT00010
Figure 112006055903608-PAT00010

화학식 (1) 에서, R1 및 R2 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각은 알킬기 또는 아릴기를 나타낸다. 상기 알킬기는 바람직하게는 탄소수가 1 내지 4 이고, 이의 예에는 메틸기, 트리플루오로메틸기, 및 에틸기가 포함된다. 상기 아릴기는 바람직하게는 탄소수가 6 내지 20 이고, 이의 예에는 페닐기 및 나프틸기가 포함된다. 이들 중, 메틸기 및 페닐기가 바람직하고; 메틸기가 특히 바람직하다. p 는 10 내지 500, 바람직하게는 10 내지 350, 특히 바람직하게는 10 내지 250 의 정수를 나타낸다.In formula (1), R 1 and R 2 may be the same or different, and each represents an alkyl group or an aryl group. The alkyl group preferably has 1 to 4 carbon atoms, examples of which include a methyl group, trifluoromethyl group, and ethyl group. The aryl group preferably has 6 to 20 carbon atoms, examples of which include a phenyl group and a naphthyl group. Among these, methyl group and phenyl group are preferable; Methyl groups are particularly preferred. p represents an integer of 10 to 500, preferably 10 to 350, particularly preferably 10 to 250.

측쇄에 화학식 (1) 로 나타내는 폴리실록산 구조를 가지는 중합체는, 반응성 기 (예를 들어, 에폭시기, 히드록실기, 카르복실기, 및 산 무수물기) 를 포함하는 중합체와 관련하여, 하나의 말단에 해당 반응성기 (예를 들어, 에폭시기 또는 산 무수물기와 관련하여, 아미노기, 메르캅토기, 카르복실기 및 히드록실기) 를 포함하는 폴리실록산 (예를 들어, SILAPLANE 시리즈 (Chisso Corporation 제조)) 을, 예를 들어, 문헌 [J. Appl. Polym. Sci., 78, 1955 (2000)] 및 JP-A-56-28219 에 기재되어 있는 바와 같은 중합 반응에 의해 도입시키는 방법; 및 폴리실록산-함유 규소 거대 단량체를 중합시키는 방법에 의해 합성될 수 있고, 바람직하게는 상기 방법 둘 다 이용할 수 있다. 본 발명에서, 규소 거대 단량체를 중합시켜 도입시키는 방법이 더욱 바람직하다.The polymer having a polysiloxane structure represented by the general formula (1) in the side chain has a corresponding reactive group at one terminal in relation to the polymer containing a reactive group (for example, an epoxy group, a hydroxyl group, a carboxyl group, and an acid anhydride group). (For example, with respect to an epoxy group or an acid anhydride group, a polysiloxane comprising an amino group, a mercapto group, a carboxyl group and a hydroxyl group) (e.g., SILAPLANE series (manufactured by Chisso Corporation)) is described, for example, in [ J. Appl. Polym. Sci ., 78 , 1955 (2000) and JP-A-56-28219; And a method of polymerizing a polysiloxane-containing silicon macromonomer, preferably both of the above methods can be used. In this invention, the method of polymerizing and introducing a silicon macromonomer is more preferable.

규소 거대 단량체로서, 불소-함유 올레핀과 공중합할 수 있는 중합가능기를 함유하는 임의의 규소 거대 단량체가 유용하다. 하기 화학식 (2) 내지 (5) 중 임의의 하나로 나타내는 구조가 바람직하다.As silicon macromonomers, any silicon macromonomer containing a polymerizable group copolymerizable with a fluorine-containing olefin is useful. The structure represented by any one of following General formula (2)-(5) is preferable.

Figure 112006055903608-PAT00011
Figure 112006055903608-PAT00011

상기 화학식 (2) 내지 (5) 에서, R1, R2 및 p 는 화학식 (1) 에서와 동일한 의미를 가지고; 그들의 바람직한 범위도 동일하다. R3 내지 R5 각각은 독립적으로 치환 또는 비치환 1가 유기기 또는 수소 원자를 나타낸다. 무엇보다도, 탄 소수가 1 내지 10 인 알킬기 (예를 들어, 메틸기, 에틸기 및 옥틸기), 탄소수가 1 내지 10 인 알콕시기 (예를 들어, 메톡시기, 에톡시기 및 프로필옥시기), 및 탄소 수가 6 내지 20 인 아릴기 (예를 들어, 페닐기 및 나프틸기) 가 바람직하고; 탄소수가 1 내지 5 인 알킬기가 특히 바람직하다. R6 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타낸다. L1 은 탄소수가 1 내지 20 인 임의 연결기를 나타내고; 이의 예에는 치환 또는 비치환, 선형, 분지형 또는 지환식 알킬렌기 및 치환 또는 비치환 아릴렌기가 포함된다. 무엇보다도, 탄소수가 1 내지 20 인 비치환 선형 알킬렌기가 바람직하고; 에틸렌기 및 프로필렌기가 특히 바람직하다. 이러한 화합물은, 예를 들어, JP-A-6-322053 에 기재된 바와 같은 방법에 의해 합성할 수 있다.In the above formulas (2) to (5), R 1 , R 2 and p have the same meaning as in formula (1); Their preferred range is also the same. Each of R 3 to R 5 independently represents a substituted or unsubstituted monovalent organic group or a hydrogen atom. Above all, alkyl groups having 1 to 10 carbon atoms (eg, methyl, ethyl and octyl groups), alkoxy groups having 1 to 10 carbon atoms (eg, methoxy, ethoxy and propyloxy groups), and carbon Aryl groups having a number of 6 to 20 (eg, phenyl group and naphthyl group) are preferable; Especially preferred are alkyl groups having 1 to 5 carbon atoms. R 6 represents a hydrogen atom or a methyl group. L 1 represents an arbitrary linking group having 1 to 20 carbon atoms; Examples thereof include substituted or unsubstituted, linear, branched or alicyclic alkylene groups and substituted or unsubstituted arylene groups. First of all, unsubstituted linear alkylene groups having 1 to 20 carbon atoms are preferred; Ethylene groups and propylene groups are particularly preferred. Such a compound can be synthesized by, for example, a method as described in JP-A-6-322053.

바람직하게는 화학식 (2) 내지 (5) 로 나타내는 화합물 모두를 본 발명에 사용할 수 있다. 무엇보다도, 불소-함유 올레핀과의 공중합성의 관점에서, 화학식 (2), (3) 또는 (4) 로 나타내는 구조를 가지는 화합물이 특히 바람직하다. 상기 폴리실록산 부위는 그래프트 공중합체 내에서 바람직하게는 0.01 내지 20 중량%, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 15 중량%, 특히 바람직하게는 0.5 내지 10 중량% 를 차지한다.Preferably, all of the compounds represented by the formulas (2) to (5) can be used in the present invention. Above all, the compound having a structure represented by the formula (2), (3) or (4) is particularly preferable from the viewpoint of copolymerization with the fluorine-containing olefin. The polysiloxane moiety preferably comprises from 0.01 to 20% by weight, more preferably from 0.05 to 15% by weight and particularly preferably from 0.5 to 10% by weight in the graft copolymer.

본 발명의 전체 불소-함유 중합체의 분자량에 대한 폴리실록산 구조-함유 구성 단위의 양은 바람직하게는 0.01 내지 2 몰%, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 1 몰%, 더 더욱 바람직하게는 0.01 내지 2 몰%, 특히 바람직하게는 0.05 내지 2 몰% 이다.The amount of the polysiloxane structure-containing structural unit with respect to the molecular weight of the total fluorine-containing polymer of the present invention is preferably 0.01 to 2 mol%, more preferably 0.01 to 1 mol%, even more preferably 0.01 to 2 mol%, Especially preferably, it is 0.05-2 mol%.

본 발명에 유용한, 측쇄에 폴리실록산 부위를 함유하는 중합체 그래프트 부위의 중합 단위의 바람직한 예를 아래에 제시하지만, 본 발명이 이에 한정된다고 해석해서는 안된다.Preferred examples of polymerized units of polymer grafted moieties containing polysiloxane moieties in the side chains useful in the present invention are given below, but should not be construed as limiting the invention thereto.

Figure 112006055903608-PAT00012
Figure 112006055903608-PAT00012

Figure 112006055903608-PAT00013
Figure 112006055903608-PAT00013

Figure 112006055903608-PAT00014
Figure 112006055903608-PAT00014

Figure 112006055903608-PAT00015
Figure 112006055903608-PAT00015

Figure 112006055903608-PAT00016
Figure 112006055903608-PAT00016

Figure 112006055903608-PAT00017
Figure 112006055903608-PAT00017

Figure 112006055903608-PAT00018
Figure 112006055903608-PAT00018

S-(36) SILAPLANE FM-0711 (Chisso Corporation 제조)S- (36) SILAPLANE FM-0711 (manufactured by Chisso Corporation)

Figure 112006055903608-PAT00019
Figure 112006055903608-PAT00019

수평균 분자량: 1000            Number average molecular weight: 1000

S-(37) SILAPLANE FM-0721 (Chisso Corporation 제조)S- (37) SILAPLANE FM-0721 (manufactured by Chisso Corporation)

Figure 112006055903608-PAT00020
Figure 112006055903608-PAT00020

수평균 분자량: 6000            Number average molecular weight: 6000

S-(38) SILAPLANE FM-0725 (Chisso Corporation 제조)S- (38) SILAPLANE FM-0725 (manufactured by Chisso Corporation)

Figure 112006055903608-PAT00021
Figure 112006055903608-PAT00021

수평균 분자량: 14000            Number average molecular weight: 14000

폴리실록산 구조를 도입시킴으로써, 상기 필름에 방오성 및 먼지제거 특성이 부여될 뿐만 아니라, 상기 필름 표면에 매끄러움 (slipperiness) 이 부여된다. 또한, 이러한 것은 내반흔성과 관련하여 유리하다.By introducing a polysiloxane structure, not only the antifouling and dust removing properties are imparted to the film, but also the slipperiness is imparted to the film surface. This is also advantageous with regard to scar resistance.

(기타 중합 단위)(Other polymerization units)

중합 단위를 형성할 수 있는 기타 공중합 성분은, 예를 들어, 경도, 기판에 대한 접착성, 용매 중 용해도, 및 투명도라는 다양한 관점에서 적당히 선택할 수 있다. 이의 예에는 비닐 에테르, 예컨대 메틸 비닐 에테르, 에틸 비닐 에테르, t-부틸 비닐 에테르, n-부틸 비닐 에테르, 시클로헥실 비닐 에테르 및 이소프로필 비닐 에테르; 및 비닐 에스테르, 예컨대 비닐 아세테이트, 비닐 프로피오네이트, 비닐 부티레이트 및 비닐 시클로헥산카르복실레이트가 포함된다. 그러한 공중합 성분의 도입량은 0 내지 40 몰%, 바람직하게는 0 내지 30 몰%, 특히 바람직하게는 0 내지 20 몰% 의 범위 내이다.The other copolymerization component which can form a polymerized unit can be suitably selected from various viewpoints, for example, hardness, adhesiveness to a board | substrate, solubility in a solvent, and transparency. Examples thereof include vinyl ethers such as methyl vinyl ether, ethyl vinyl ether, t-butyl vinyl ether, n-butyl vinyl ether, cyclohexyl vinyl ether and isopropyl vinyl ether; And vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl propionate, vinyl butyrate and vinyl cyclohexanecarboxylate. The amount of such copolymerization component introduced is in the range of 0 to 40 mol%, preferably 0 to 30 mol%, particularly preferably 0 to 20 mol%.

(바람직한 불소-함유 중합체의 배열)(Preferred arrangement of fluorine-containing polymer)

본 발명에 특히 바람직한 중합체의 배열은 하기 화학식 (7) 로 나타내는 배 열이다.Particularly preferred polymers of the present invention are arrays represented by the following general formula (7).

Figure 112006055903608-PAT00022
Figure 112006055903608-PAT00022

화학식 (7) 에서, Rf11 은 탄소수가 1 내지 5 인 퍼플루오로알킬기를 나타낸다. -CF2CF(Rf11) 로 나타내는 부위와 관련하여, 예로서 퍼플루오로올레핀과 관련한 상기의 설명을 적용할 수 있다. 화학식 (7) 에서, Rf12 는 불소-함유 비닐 에테르에 대하여 상기 정의한 바와 동일하고 (상기 화학식 M2 로 나타내는 화합물에서의 Rf112); 이의 바람직한 범위도 동일하다. A11 및 B11 각각은 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위 또는 임의 구성 단위를 나타낸다. A11 은 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위에 대해서 상기 정의한 바와 동일하다. B11 은 특별히 한정되지는 않지만, 공중합성의 관점에서, 비닐 에테르 또는 비닐 에스테르가 바람직하다. 구체적으로는, 상기 나열한 단량체 (기타 중합 단위) 및 상기 화학식 M1 로 나타내는 단량체가 나열된다.In formula (7), Rf 11 represents a perfluoroalkyl group having 1 to 5 carbon atoms. With regard to the site represented by -CF 2 CF (Rf 11 ), the above description with regard to perfluoroolefins can be applied, for example. In formula (7), Rf 12 is the same as defined above for the fluorine-containing vinyl ether (Rf 112 in the compound represented by formula M2 above); The preferred range thereof is also the same. Each of A 11 and B 11 represents a hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit or an optional structural unit. A 11 is the same as defined above for the hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization unit. B 11 is not particularly limited, but vinyl ether or vinyl ester is preferable from the viewpoint of copolymerization. Specifically, the above-listed monomers (other polymerization units) and the monomers represented by the general formula (M1) are listed.

Y11 은 폴리실록산 구조를 가지는 구성 단위를 나타내고; 이의 구성은 상기 화학식 (1) 로 나타내는 폴리실록산 반복 단위를 측쇄에 포함하는 그래프트 부위를 가지는 중합 단위일 수 있다. 이의 정의 및 바람직한 범위는 상기 정의한 (폴 리실록산 구조를 가지는 구성 단위) 에서와 동일하다.Y 11 represents a structural unit having a polysiloxane structure; The constitution may be a polymer unit having a graft moiety including the polysiloxane repeating unit represented by the general formula (1) in the side chain. Its definition and preferred range are the same as in the above-defined (structural unit having a polysiloxane structure).

a 내지 d 각각은 구성 성분 각각의 몰분율 (%) 을 나타내고; (a + b + c + d) 는 100 이다. 이들은 다음 관계식을 충족시킨다: 30 ≤ a ≤ 70 (더욱 바람직하게는 30 ≤ a ≤ 60, 더 바람직하게는 35 ≤ a ≤ 60), 0 ≤ b ≤ 40 (더욱 바람직하게는 0 ≤ b ≤ 30, 더 바람직하게는 0 ≤ b ≤ 20), 20 ≤ c ≤ 70 (더욱 바람직하게는 20 ≤ c ≤ 60, 더 바람직하게는 25 ≤ c ≤ 55), 및 0 ≤ d ≤ 40 (더욱 바람직하게는 0 ≤ d ≤ 30).each of a to d represents the mole fraction (%) of each of the constituents; (a + b + c + d) is 100. They satisfy the following relationship: 30 ≦ a ≦ 70 (more preferably 30 ≦ a ≦ 60, more preferably 35 ≦ a ≦ 60), 0 ≦ b ≦ 40 (more preferably 0 ≦ b ≦ 30, More preferably 0 ≦ b ≦ 20, 20 ≦ c ≦ 70 (more preferably 20 ≦ c ≦ 60, more preferably 25 ≦ c ≦ 55), and 0 ≦ d ≦ 40 (more preferably 0 ≤ d ≤ 30).

y 는 불소-함유 중합체 전체의 분자량에 대한 폴리실록산-함유 구성 단위의 중량 분율 (%) 을 나타낸다. 이것은 다음 관계식을 충족시킨다: 0.01 ≤ y ≤ 20 (더욱 바람직하게는 0.05 ≤ y ≤ 15, 더 바람직하게는 0.5 ≤ y ≤ 10).y represents the weight fraction (%) of the polysiloxane-containing structural unit with respect to the molecular weight of the entire fluorine-containing polymer. This satisfies the following relationship: 0.01 ≦ y ≦ 20 (more preferably 0.05 ≦ y ≦ 15, more preferably 0.5 ≦ y ≦ 10).

본 발명에서, 저굴절률층을 형성하는데 사용되는 불소-함유 중합체 (바람직하게는, 상기 나타낸 화학식 (7) 로 나타내는 불소-함유 중합체) 의 수평균 분자량은 바람직하게는 5,000 내지 1,000,000, 더욱 바람직하게는 8,000 내지 500,000, 특히 바람직하게는 10,000 내지 100,000 이다.In the present invention, the number average molecular weight of the fluorine-containing polymer (preferably, the fluorine-containing polymer represented by the general formula (7) shown above) used to form the low refractive index layer is preferably 5,000 to 1,000,000, more preferably 8,000 to 500,000, particularly preferably 10,000 to 100,000.

본원에서, 수평균 분자량은 TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL 및 TSKgel G2000HxL (모두 Tosoh Corporation 의 상표명임) 칼럼을 사용하는 GPC 분석기로, 용매로서 THF 내에서 시차 굴절계로 검출하여 폴리스티렌으로 환산한 분자량이다.Here, the number average molecular weight is a GPC analyzer using TSKgel GMHxL, TSKgel G4000HxL and TSKgel G2000HxL (all are trademarks of Tosoh Corporation), which are molecular weights converted to polystyrene by detection with a differential refractometer in THF as a solvent.

본 발명에서 특히 바람직한 중합체 중 하나는 하기 화학식 8 로 나타내는 구조를 가진다.One of the particularly preferred polymers in the present invention has a structure represented by the following formula (8).

Figure 112006055903608-PAT00023
Figure 112006055903608-PAT00023

상기 화학식 8 에서, a1, c1 및 d1 각각은 각 성분의 몰분율 (%) 을 나타내고, a1 + b1 + c1 = 100 이다. 각각은 바람직하게는 하기 관계식을 각각 충족시킨다: 30 ≤ a1 ≤ 70 (더욱 바람직하게는 30 ≤ a1 ≤ 60, 더 더욱 바람직하게는 35 ≤ a1 ≤ 60, 가장 바람직하게는 40 ≤ a1 ≤ 55); 20 ≤ c1 ≤ 50 (더욱 바람직하게는 20 ≤ c1 ≤ 45, 더 더욱 바람직하게는 25 ≤ c1 ≤ 40, 가장 바람직하게는 30 ≤ c1 ≤ 40); 및 0 ≤ d1 ≤ 30 (더욱 바람직하게는 5 ≤ d1 ≤ 30, 더 더욱 바람직하게는 10 ≤ d1 ≤ 25, 가장 바람직하게는 10 ≤ d1 ≤ 20).In Formula 8, a1, c1, and d1 each represent a mole fraction (%) of each component, and a1 + b1 + c1 = 100. Each preferably satisfies each of the following relations: 30 ≦ al ≦ 70 (more preferably 30 ≦ al ≦ 60, even more preferably 35 ≦ a1 ≦ 60, most preferably 40 ≦ a1 ≦ 55); 20 ≦ c1 ≦ 50 (more preferably 20 ≦ c1 ≦ 45, even more preferably 25 ≦ c1 ≦ 40, most preferably 30 ≦ c1 ≦ 40); And 0 ≦ d1 ≦ 30 (more preferably 5 ≦ d1 ≦ 30, even more preferably 10 ≦ d1 ≦ 25, most preferably 10 ≦ d1 ≦ 20).

상기 화학식 8 에서, Y12 는 상기 화학식 2 로 나타내는 폴리실록산 구조를 가지는 구조적 단위를 나타내고, 바람직하게는 수평균 분자량이 1000 내지 40000, 더욱 바람직하게는 3000 내지 20000, 더 더욱 바람직하게는 5000 내지 15000 이다. Y12 에 대한 바람직한 구체예로서, S-(1), S-(2), S-(7), S-(37) 또는 S-(38) 을 언급할 수 있다. 그들 중, S-(1), S-(2), S-(37) 또는 S-(38) 이 더욱 바람직하고, S-(2), S-(37) 또는 S-(38) 이 더 더욱 바람직하다.In Formula 8, Y 12 represents a structural unit having a polysiloxane structure represented by Formula 2, and preferably has a number average molecular weight of 1000 to 40000, more preferably 3000 to 20000, and even more preferably 5000 to 15000. . As a preferred embodiment for Y 12 , S- (1), S- (2), S- (7), S- (37) or S- (38) may be mentioned. Among them, S- (1), S- (2), S- (37) or S- (38) are more preferable, and S- (2), S- (37) or S- (38) are more preferable. More preferred.

y1 은 불소-함유 중합체의 전체 분자량에 대한 폴리실록산-함유 구성 단위의 질량 분율 (%) 을 나타내고, 다음 관계식을 충족시킨다; 0.01 ≤ y1 ≤ 20 (더욱 바람직하게는 1 ≤ y1 ≤ 15, 더 더욱 바람직하게는 2 ≤ y1 ≤ 10, 가장 바람직하 게는 3 ≤ y1 ≤ 7).y1 represents the mass fraction (%) of the polysiloxane-containing structural unit with respect to the total molecular weight of the fluorine-containing polymer, and satisfies the following relationship; 0.01 ≦ y1 ≦ 20 (more preferably 1 ≦ y1 ≦ 15, even more preferably 2 ≦ y1 ≦ 10, most preferably 3 ≦ y1 ≦ 7).

상기 화학식 8 로 나타내는 불소-함유 중합체의 수평균 분자량은 바람직하게는 5,000 내지 500,000, 더욱 바람직하게는 6,000 내지 100,000, 특히 바람직하게는 7,000 내지 50,000 이다. 주의하자면, 이 수평균 분자량은 앞서 언급한 폴리스티렌-전환치로 나타낸 것과 동일하다.The number average molecular weight of the fluorine-containing polymer represented by Formula 8 is preferably 5,000 to 500,000, more preferably 6,000 to 100,000, particularly preferably 7,000 to 50,000. Note that this number average molecular weight is the same as indicated by the polystyrene-conversion value mentioned above.

표 1 내지 5 에, 본 발명에서의 불소-함유 중합체의 구체적인 예를 나타낸다. 그러나, 본 발명의 중합체가 이에 한정되는 것으로 본 발명을 해석해서는 안된다. 표 1 내지 5 는 불소-함유 중합체 중 중합 단위의 조합을 나타낸다.In Tables 1-5, the specific example of the fluorine-containing polymer in this invention is shown. However, the present invention should not be interpreted as being limited thereto. Tables 1 to 5 show combinations of polymerized units in fluorine-containing polymers.

Figure 112006055903608-PAT00024
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Figure 112006055903608-PAT00025
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Figure 112006055903608-PAT00026
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Figure 112006055903608-PAT00027
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Figure 112006055903608-PAT00028
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Figure 112006055903608-PAT00029
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Figure 112006055903608-PAT00030
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Figure 112006055903608-PAT00031
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Figure 112006055903608-PAT00032
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Figure 112006055903608-PAT00033
Figure 112006055903608-PAT00033

본 발명에서 사용하기 위한, 상기 표 1 내지 5 에 나타낸 불소-함유 중합체는 불소-함유 중합체 성분 (불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위) 및 실리콘-함유 성분 (폴리실록산 구조를 가지는 구성 단위) 을 가진다. 불소-함유 중합체 성분은 각 성분의 몰분율 (%) 을 나타내는 반면, 실리콘-함유 성분은 불소-함유 중합체의 전체 분자량에 대한 실리콘-함유 성분의 질량% 를 각각 나타낸다. 폴리실록산 구조를 가지는 구성 단위 (실리콘-함유 성분) 는 분자량이 커서, 불소-함유 중합체 내 각각의 단위의 몰분율의 기여도는 2 몰% 이하로 작다. 따라서, 몰분율은 실리콘-함유 성분을 배제하고 계산하였다. 표에서 약술한 기호는 다음과 같다.For use in the present invention, the fluorine-containing polymers shown in Tables 1 to 5 above contain fluorine-containing polymer components (fluorine-containing vinyl monomer polymerization units and hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerization units) and silicon-containing components (polysiloxanes). Structure unit). The fluorine-containing polymer component represents the mole fraction (%) of each component, while the silicon-containing component represents the mass% of the silicon-containing component, respectively, relative to the total molecular weight of the fluorine-containing polymer. The structural unit (silicone-containing component) having a polysiloxane structure has a large molecular weight, and the contribution of the mole fraction of each unit in the fluorine-containing polymer is as small as 2 mol% or less. Thus, the mole fraction was calculated without the silicon-containing component. The symbols outlined in the table are as follows.

HFP: 헥사플루오로프로필렌HFP: Hexafluoropropylene

HEVE: 2-히드록시에틸 비닐 에테르HEVE: 2-hydroxyethyl vinyl ether

HBVE: 4-히드록시부틸 비닐 에테르HBVE: 4-hydroxybutyl vinyl ether

HOVE: 8-히드록시옥틸 비닐 에테르HOVE: 8-hydroxyoctyl vinyl ether

DEGVE: 디에틸렌 글리콜 비닐 에테르DEGVE: diethylene glycol vinyl ether

HMcHVE: 4-(히드록시메틸)시클로헥실메틸 비닐 에테르HMcHVE: 4- (hydroxymethyl) cyclohexylmethyl vinyl ether

EVE: 에틸 비닐 에테르EVE: ethyl vinyl ether

cHVE: 시클로헥실 비닐 에테르cHVE: cyclohexyl vinyl ether

tBuVE: t-부틸 비닐 에테르tBuVE: t-butyl vinyl ether

VAc: 비닐 아세테이트VAc: Vinyl Acetate

본 발명에서, 상기 P1 내지 P59 로 나타내는 불소-함유 중합체로서, P2, P3, P10-P12, P14, P17, P18, P20, P22-P26, P29, P38, P39, P41, P42, P44, P45, 및 P49-P59 가 바람직하고, P14, P17, P18, P20, P22-P24, P38, P39, P41, P42, P44, P45 및 P49-P59 가 더욱 바람직하고, P49-P59 가 더 더욱 바람직하다.In the present invention, as the fluorine-containing polymer represented by P1 to P59, P2, P3, P10-P12, P14, P17, P18, P20, P22-P26, P29, P38, P39, P41, P42, P44, P45, And P49-P59 are preferred, P14, P17, P18, P20, P22-P24, P38, P39, P41, P42, P44, P45 and P49-P59 are more preferred, and P49-P59 are even more preferred.

본 발명에서 사용하는 상기 불소-함유 중합체의 합성은 다양한 중합 방법, 예를 들어, 용액 중합, 침전 중합, 현탁 중합, 침전 중합, 블록 중합, 및 에멀션 중합으로 수행할 수 있다. 게다가, 상기 합성은 공지된 작업, 예컨대 배치식 작업, 반-연속식 작업 및 연속식 작업으로 수행할 수 있다.Synthesis of the fluorine-containing polymer used in the present invention can be carried out by various polymerization methods, for example, solution polymerization, precipitation polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, block polymerization, and emulsion polymerization. In addition, the synthesis can be carried out with known operations such as batch operation, semi-continuous operation and continuous operation.

중합 개시 방법의 예에는 라디칼 개시제를 사용하는 방법 및 광 또는 방사선을 조사하는 방법이 포함된다. 이러한 중합 방법 및 중합 개시 방법은, 예를 들어, 문헌 [Teiji Tsuruta, Kobunshi Gosei Hoho (Polymer Synthesis Methods, 개정판 (Nikkan Kogyo Shimbun Ltd., 1971 발행)]; 및 [Takayuki Otsu 및 Masayoshi Kinoshita, Kobunshi Gosei no Jikkenho (Exerimental Methods of Polymer Synthesis), Kagaku-dojin Publishing Company, Inc. 발행, 124 내지 125 페이지 (1972)] 에 기재되어 있다.Examples of the polymerization initiation method include a method of using a radical initiator and a method of irradiating light or radiation. Such polymerization methods and polymerization initiation methods are described, for example, in Teiji Tsuruta, Kobunshi Gosei Hoho (Polymer Synthesis Methods, Rev. (issued by Nikkan Kogyo Shimbun Ltd., 1971)); and Takayuki Otsu and Masayoshi Kinoshita, Kobunshi Gosei no Jikkenho (Exerimental Methods of Polymer Synthesis), published by Kagaku-dojin Publishing Company, Inc., pages 124-125 (1972).

상기 중합 방법 중, 라디칼 개시제를 사용하는 용액 중합 방법이 특히 바람직하다. 용액 중합 방법에 사용하는 용매의 예에는 다양한 용매, 예컨대 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논, 테트라히드로푸란, 디옥산, N,N-디메틸포름아미드, N,N-디메틸아세트아미드, 벤젠, 톨루엔, 아세토니트릴, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름, 디클로로에탄, 메탄올, 에탄올, 1-프로판올, 2-프로판올 및 1-부탄올이 포함된다. 그러한 유기 용매를 단독으로, 또는 이들의 2 종 이상의 부가혼합물로 사용하거나, 물과의 혼합 용매로서 사용할 수 있다.Of the above polymerization methods, a solution polymerization method using a radical initiator is particularly preferable. Examples of solvents used in the solution polymerization method include various solvents such as ethyl acetate, butyl acetate, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, tetrahydrofuran, dioxane, N, N-dimethylformamide, N, N-dimethylacetamide, benzene, toluene, acetonitrile, methylene chloride, chloroform, dichloroethane, methanol, ethanol, 1-propanol, 2-propanol and 1-butanol. Such organic solvents may be used alone or in combination of two or more of these, or as a mixed solvent with water.

중합 온도는 형성되는 중합체의 분자량, 개시제의 종류 등과 관련하여 설정해야 한다. 중합을 0 ℃ 이하 또는 100 ℃ 이상에서 수행할 수 있지만, 40 내지 100 ℃ 범위의 온도에서 중합을 수행하는 것이 바람직하다.The polymerization temperature should be set in relation to the molecular weight of the polymer to be formed, the type of initiator, and the like. The polymerization can be carried out below 0 ° C. or above 100 ° C., but it is preferred to carry out the polymerization at a temperature in the range from 40 to 100 ° C.

반응 압력은 적당히 선택할 수 있지만, 반응 압력은 보통 약 0.01 내지 10 ㎫, 바람직하게는 약 0.05 내지 5 ㎫, 더욱 바람직하게는 약 0.1 내지 2 ㎫ 인 것이 바람직하다. 반응 시간은 약 5 내지 30 시간이다.The reaction pressure may be appropriately selected, but the reaction pressure is usually about 0.01 to 10 MPa, preferably about 0.05 to 5 MPa, more preferably about 0.1 to 2 MPa. The reaction time is about 5 to 30 hours.

수득되는 중합체와 관련하여, 반응 용액을 있는 그대로 본 발명의 용도에 사용할 수 있고, 또는 재침전 또는 액체 분리 작업으로 정제한 후 사용할 수 있다.With regard to the polymer obtained, the reaction solution can be used as is for the use of the present invention as it is, or after purification by reprecipitation or liquid separation operation.

1-(4) 유기실란 화합물 [본 발명의 필름의 저굴절률층의 구성 성분 (D)]:1- (4) organosilane compound [constituent component (D) of the low refractive index layer of the film of the present invention]:

내반흔성의 관점으로부터, 유기실란 화합물 또는 유기실란 화합물의 가수분해물 및/또는 이의 부분 축합물 (상기 반응 성분들의 용액은 이후 때때로 "졸 성분" 으로 언급될 것이다) 이 본 발명의 필름의 저굴절률층에 함유된 것이 바람직하다. From the point of view of scar resistance, the organosilane compound or the hydrolyzate of the organosilane compound and / or its partial condensate (the solution of the reaction components will hereinafter sometimes be referred to as the "sol component") is a low refractive index layer of the film of the present invention. It is preferable that contained in.

이러한 화합물은 바인더로 작용함으로써, 코팅 후, 상기 경화성 조성물이 건조 및 가열 단계에서 축합되어 경화 물질을 형성하도록 한다. 또한, 다관능 아크릴레이트 중합체가 함유된 경우에는, 활성 광선으로 조사 시, 3 차원 구조를 갖는 바인더가 형성된다.Such compounds act as binders, such that after coating, the curable composition is condensed in a drying and heating step to form a cured material. In addition, when the polyfunctional acrylate polymer is contained, a binder having a three-dimensional structure is formed upon irradiation with actinic light.

상기 유기실란 화합물은 바람직하게는 하기 화학식 [A] 로 나타내는 것이다.The organosilane compound is preferably represented by the following general formula [A].

화학식 [A]Formula [A]

(R10)m-Si(X)4-m (R 10 ) m -Si (X) 4-m

상기 화학식 [A] 에서, R10 은 치환 또는 비치환 알킬기 또는 치환 또는 비치환 아릴기를 나타낸다. 알킬기의 예에는 메틸, 에틸, 프로필, 이소프로필, 헥실, 데실 및 헥사데실이 포함된다. 알킬기의 탄소수는 바람직하게는 1 내지 30, 더 바람직하게는 1 내지 16, 특히 바람직하게는 1 내지 6 이다. 아릴기의 예에는 페닐 및 나프틸이 포함된다. 이들 중에서도, 페닐기가 바람직하다.In said general formula [A], R <10> represents a substituted or unsubstituted alkyl group or a substituted or unsubstituted aryl group. Examples of alkyl groups include methyl, ethyl, propyl, isopropyl, hexyl, decyl and hexadecyl. Carbon number of an alkyl group becomes like this. Preferably it is 1-30, More preferably, it is 1-16, Especially preferably, it is 1-6. Examples of aryl groups include phenyl and naphthyl. Among these, a phenyl group is preferable.

X 는 히드록실기 또는 가수분해성 기를 나타낸다. 가수분해성 기의 예에는 알콕시기 (바람직하게는 탄소수 1 내지 5 의 알콕시기, 예를 들면, 메톡시기 및 에톡시기), 할로겐 원자 (예를 들면, Cl, Br 및 I), 및 R2COO (여기서 R2 는 바람직하게는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 5 의 알킬기이고; 이의 예에는 CH3COO 및 C2H5COO 가 포함된다) 가 포함된다. 이들 중에서도, 알콕시기가 바람직하고; 메톡시기 및 에톡시기가 특히 바람직하다.X represents a hydroxyl group or a hydrolyzable group. Examples of hydrolyzable groups include alkoxy groups (preferably alkoxy groups having 1 to 5 carbon atoms, such as methoxy and ethoxy groups), halogen atoms (eg, Cl, Br and I), and R 2 COO ( Wherein R 2 is preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 5 carbon atoms; examples thereof include CH 3 COO and C 2 H 5 COO). Among these, an alkoxy group is preferable; Especially preferred are methoxy and ethoxy groups.

m 은 1 내지 3 의 정수, 바람직하게는 1 또는 2, 특히 바람직하게는 1 이다. m is an integer of 1 to 3, preferably 1 or 2, particularly preferably 1.

복수의 R10 또는 X 가 존재하는 경우, 복수의 R10 또는 X 는 동일하거나 상이할 수 있다.When a plurality of R 10 or X are present, the plurality of R 10 or X may be the same or different.

R10 에 함유된 치환기는 특별히 제한되지는 않고, 그 예에는 할로겐 원자 (예를 들면, 불소, 염소 및 브롬), 히드록실기, 메르캅토기, 카르복실기, 에폭시기, 알킬기 (예를 들면, 메틸, 에틸, 이소프로필, 프로필 및 t-부틸), 아릴기 (예를 들면, 페닐 및 나프틸), 방향족 헤테로시클릭기 (예를 들면, 푸릴, 피라졸릴 및 피리딜), 알콕시기 (예를 들면, 메톡시, 에톡시, 이소프로폭시 및 헥실옥시), 아릴옥시기 (예를 들면, 페닐티오), 알킬티오기 (예를 들면, 메틸티오 및 에틸티오), 아릴티오기 (예를 들면, 페닐티오), 알케닐기 (예를 들면, 비닐 및 1-프로페닐), 아실옥시기 (예를 들면, 아세톡시, 아크릴로일옥시 및 메타크릴로일옥시), 알콕시카르보닐기 (예를 들면, 메톡시카르보닐 및 에톡시카르보닐), 아릴옥시카르보닐기 (예를 들면, 페녹시카르보닐), 카르바모일기 (예를 들면, 카르바모일, N-메틸카르바모일, N,N-디메틸카르바모일 및 N-메틸-N-옥틸카르바모일), 및 아실아미노기 (예를 들면, 아세틸아미노, 벤조일아미노, 아크릴아미노 및 메타크릴아미노) 가 포함된다. 이러한 치환기는 추가로 치환될 수 있다. Substituents contained in R 10 are not particularly limited, and examples thereof include halogen atoms (eg, fluorine, chlorine and bromine), hydroxyl groups, mercapto groups, carboxyl groups, epoxy groups, alkyl groups (eg, methyl, Ethyl, isopropyl, propyl and t-butyl), aryl groups (eg phenyl and naphthyl), aromatic heterocyclic groups (eg furyl, pyrazolyl and pyridyl), alkoxy groups (eg , Methoxy, ethoxy, isopropoxy and hexyloxy), aryloxy groups (eg phenylthio), alkylthio groups (eg methylthio and ethylthio), arylthio groups (eg , Phenylthio), alkenyl groups (e.g. vinyl and 1-propenyl), acyloxy groups (e.g. acetoxy, acryloyloxy and methacryloyloxy), alkoxycarbonyl groups (e.g. Methoxycarbonyl and ethoxycarbonyl), aryloxycarbonyl groups (e.g. phenoxycarbonyl), carbamo Groups (e.g. carbamoyl, N-methylcarbamoyl, N, N-dimethylcarbamoyl and N-methyl-N-octylcarbamoyl), and acylamino groups (e.g. acetylamino, benzoyl Amino, acrylamino and methacrylamino). Such substituents may be further substituted.

복수의 R10 이 존재하는 경우, 이들 중 하나 이상은 치환된 알킬기 또는 치환된 아릴기인 것이 바람직하다.When a plurality of R 10 's are present, at least one of them is preferably a substituted alkyl group or a substituted aryl group.

상기 화학식 [A] 로 나타내는 유기실란 화합물 중에서도, 하기 화학식 [B] 로 나타내는 비닐 중합성 치환기-함유 유기실란 화합물이 바람직하다. Among the organosilane compounds represented by the general formula [A], vinyl polymerizable substituent-containing organosilane compounds represented by the following general formula [B] are preferable.

Figure 112006055903608-PAT00034
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상기 화학식 [B] 에서, R1 은 수소 원자, 메틸기, 메톡시기, 알콕시카르보닐기, 시아노기, 불소 원자 또는 염소 원자를 나타낸다. 알콕시카르보닐기의 예에는 메톡시카르보닐기 및 에톡시카르보닐기가 포함된다. 이들 중에서도, 수소 원자, 메틸기, 메톡시기, 메톡시카르보닐기, 시아노기, 불소 원자 및 염소 원자가 바람직하고; 수소 원자, 메틸기, 메톡시카르보닐기, 불소 원자 및 염소 원자가 더 바람직하며; 수소 원자 및 메틸기가 특히 바람직하다. In said general formula [B], R <1> represents a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, an alkoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom, or a chlorine atom. Examples of the alkoxycarbonyl group include a methoxycarbonyl group and an ethoxycarbonyl group. Among these, a hydrogen atom, a methyl group, a methoxy group, a methoxycarbonyl group, a cyano group, a fluorine atom and a chlorine atom are preferable; More preferably a hydrogen atom, a methyl group, a methoxycarbonyl group, a fluorine atom and a chlorine atom; Especially preferred are hydrogen atoms and methyl groups.

Y 는 단일 결합, *-COO-**, *-CONH-**, 또는 *-O-** 를 나타낸다. 이들 중에서도, 단일 결합, *-COO-** 및 *-CONH-** 가 바람직하고; 단일 결합 및 *-COO-** 가 더 바람직하며; *-COO-** 가 특히 바람직하다. 여기서, * 은 =C(R1) 에 대한 결합 위치를 나타내고; ** 은 L 에 대한 결합 위치를 나타낸다.Y represents a single bond, * -COO-**, * -CONH-**, or * -O-**. Among these, single bonds, * -COO-** and * -CONH-** are preferable; Single bonds and * -COO-** are more preferred; * -COO-** is particularly preferred. Where * represents a binding position to ═C (R 1 ); ** indicates the binding position to L.

L 은 2 가 연결 사슬을 나타낸다. 이의 구체적인 예에는 치환 또는 비치환 알킬렌기, 치환 또는 비치환 아릴렌기, 내부에 연결기 (예를 들면, 에테르, 에스테르 및 아미드) 를 함유한 치환 또는 비치환 알킬렌기 및 내부에 연결기를 함유한 치환 또는 비치환 아릴렌기가 포함된다. 이들 중에서도, 치환 또는 비치환 알킬렌기, 치환 또는 비치환 아릴렌기 및 내부에 연결기를 함유한 알킬렌기가 바람직하고; 비치환 알킬렌기, 비치환 아릴렌기 및 내부에 에테르 또는 에스테르 연결기를 함유한 알킬렌기가 더 바람직하며; 비치환 알킬렌기 및 내부에 에테르 또는 에스테르 연결기를 함유한 알킬렌기가 특히 바람직하다. 치환기의 예에는 할로겐, 히드록실기, 메르캅토기, 카르복실기, 에폭시기, 알킬기 및 아릴기가 포함된다. 이러한 치환기는 추가로 치환될 수 있다. L represents a divalent linking chain. Specific examples thereof include a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, a substituted or unsubstituted alkylene group containing a linking group (eg, ether, ester and amide) therein, and a substitution containing a linking group therein, or Unsubstituted arylene groups are included. Among these, a substituted or unsubstituted alkylene group, a substituted or unsubstituted arylene group, and an alkylene group containing a linking group therein are preferable; More preferably an unsubstituted alkylene group, an unsubstituted arylene group and an alkylene group containing an ether or ester linking group therein; Especially preferred are unsubstituted alkylene groups and alkylene groups containing ether or ester linking groups therein. Examples of the substituent include halogen, hydroxyl group, mercapto group, carboxyl group, epoxy group, alkyl group and aryl group. Such substituents may be further substituted.

n 은 0 또는 1 을 나타내고, 바람직하게는 0 이다. n represents 0 or 1, Preferably it is 0.

R10 은 화학식 [A] 에서의 R10 과 동일하고, 바람직하게는 치환 또는 비치환 알킬기 또는 비치환 아릴기, 더 바람직하게는 비치환 알킬기 또는 비치환 아릴기이다.R 10 to R 10 are the same, and preferably in the general formula [A] is a substituted or unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group, more preferably an unsubstituted alkyl group or an unsubstituted aryl group.

X 는 화학식 [A] 에서의 X 와 동일하다. 그 중에서도, 할로겐 원자, 히드록실기 및 비치환 알콕시기가 바람직하고; 염소 원자, 히드록실기 및 탄소수 1 내지 6 의 알콕시기가 더 바람직하며; 히드록실기 및 탄소수 1 내지 3 의 알콕시기가 더욱 더 바람직하고; 메톡시기가 특히 바람직하다. 복수의 X 가 존재하는 경우, 복수의 X 는 동일하거나 상이할 수 있다. X is the same as X in general formula [A]. Especially, a halogen atom, a hydroxyl group, and an unsubstituted alkoxy group are preferable; More preferred are a chlorine atom, a hydroxyl group and an alkoxy group having 1 to 6 carbon atoms; Even more preferred are a hydroxyl group and an alkoxy group having 1 to 3 carbon atoms; Methoxy groups are particularly preferred. When there are a plurality of X's, the plurality of X's may be the same or different.

화학식 [A] 또는 화학식 [B] 의 화합물은 이들 2 종 이상의 조합으로 사용될 수 있다. 화합물을 함께 사용하는 경우에는, 비닐 중합성 기와 같은 중합성 기를 함유한 화합물과 중합성 기를 함유하지 않은 화합물을 함께 사용하는 것이 바람직하다. 화학식 [A] 또는 화학식 [B] 로 나타내는 화합물의 구체적인 예를 이하에 제시할 것이지만, 본 발명이 이에만 제한되는 것으로 해석되어서는 안 된다. Compounds of formula [A] or formula [B] can be used in combination of two or more thereof. When using a compound together, it is preferable to use together the compound containing a polymeric group, such as a vinyl polymerizable group, and the compound which does not contain a polymeric group. Specific examples of the compound represented by the formula [A] or the formula [B] will be given below, but the present invention should not be construed as being limited thereto.

Figure 112006055903608-PAT00035
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Figure 112006055903608-PAT00036
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이들 중에서도, (M-1), (M-2), (M-5) 및 (M-11) 이 특히 바람직하다. 화합물을 함께 사용하는 경우에는, 예를 들면, M-1 과 같은 비닐 중합성 기를 함유한 화합물과 M-11 과 같은 중합성 기를 함유하지 않은 화합물을 함께 사용하는 것이 바람직하다. Among these, (M-1), (M-2), (M-5) and (M-11) are especially preferable. When using a compound together, it is preferable to use together the compound containing the vinyl polymerizable group like M-1, and the compound which does not contain the polymerizable group like M-11, for example.

그 다음, 일반적으로, 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및/또는 이의 부분 축합물은 상기 유기실란 화합물을 촉매 존재 하에 처리함으로써 제조된다. 촉매의 예에는 염산, 황산 및 질산과 같은 무기 산; 옥살산, 아세트산, 포름산, 메탄술폰산 및 톨루엔술폰산과 같은 유기 산; 수산화나트륨, 수산화칼륨 및 암모니아와 같은 무기 염기; 트리에틸아민 및 피리딘과 같은 유기 염기; 트리이소프로폭시알루미늄 및 테트라부톡시지르코늄과 같은 금속 알콕시드; 및 금속 (예를 들면, Zr, Ti 및 Al) 을 중심 금속으로 함유한 금속 킬레이트 화합물이 포함된다. 본 발명에서는, 금속 킬레이트 화합물, 또는 무기 산 및 유기 산과 같은 산 촉매를 사용하는 것이 바람직하다. 염산 및 황산이 무기 산으로 바람직하고; 수중 산 해리 상수 (pKa 값 (25 ℃ 에서)) 가 4.5 이하인 것이 유기 산으로 바람직하다. 염산, 황산, 및 수중 산 해리 상수가 3.0 이하인 유기 산이 더 바람직하고; 염산, 황산, 및 수중 산 해리 상수가 2.5 이하인 유기 산이 더욱 더 바람직하며; 수중 산 해리 상수가 2.5 이하인 유기 산이 특히 바람직하다. 구체적으로는, 메탄술폰산, 옥살산, 프탈산 및 말론산이 바람직하고, 옥살산이 특히 바람직하다. In general, hydrolysates of the organosilane compound and / or partial condensates thereof are then prepared by treating the organosilane compound in the presence of a catalyst. Examples of catalysts include inorganic acids such as hydrochloric acid, sulfuric acid and nitric acid; Organic acids such as oxalic acid, acetic acid, formic acid, methanesulfonic acid and toluenesulfonic acid; Inorganic bases such as sodium hydroxide, potassium hydroxide and ammonia; Organic bases such as triethylamine and pyridine; Metal alkoxides such as triisopropoxyaluminum and tetrabutoxyzirconium; And metal chelate compounds containing metals (eg, Zr, Ti and Al) as the center metal. In the present invention, it is preferable to use a metal chelate compound or an acid catalyst such as an inorganic acid and an organic acid. Hydrochloric acid and sulfuric acid are preferred as the inorganic acid; The acid dissociation constant (pKa value (at 25 ° C)) in water is preferably 4.5 or less as the organic acid. More preferred are hydrochloric acid, sulfuric acid, and an organic acid having an acid dissociation constant of 3.0 or less; Even more preferred are hydrochloric acid, sulfuric acid, and an organic acid having an acid dissociation constant of 2.5 or less; Particular preference is given to organic acids having an acid dissociation constant of 2.5 or less in water. Specifically, methanesulfonic acid, oxalic acid, phthalic acid and malonic acid are preferable, and oxalic acid is particularly preferable.

금속 킬레이트 화합물로는, 중심 금속으로 Zr, Ti 및 Al 중에서 선택된 금속을 함유하고, 화학식 R3OH (식 중 R3 는 탄소수 1 내지 10 의 알킬기를 나타냄) 로 나타내는 알콜 및 화학식 R4COCH2COR5 (식 중 R4 는 탄소수 1 내지 10 의 알킬기를 나타내고; R5 는 탄소수 1 내지 10 의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10 의 알콕시기를 나타냄) 로 나타내는 화합물이 리간드로서 작용하는 것이, 특정한 제한 없이 적절하게 사용될 수 있다. 2 종 이상의 금속 킬레이트 화합물을 상기 범위 내에서 함께 사용할 수 있다. 본 발명에 사용되는 금속 킬레이트 화합물은 바람직하게는 화학식 Zr(OR3)p1(R4COCHCOR5)p2, Ti(0R3)q1(R4COCHCOR5)q2 및 Al(OR3)r1(R4COCHCOR5)r2 로 나타내는 화합물의 군에서 선택되고, 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및/또는 이의 부분 축합물의 축합 반응을 가속화하는 작용을 한다. Examples of the metal chelate compound include a metal selected from Zr, Ti, and Al as the central metal, and an alcohol represented by the formula R 3 OH (wherein R 3 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms) and a formula R 4 COCH 2 COR The compound represented by 5 (wherein R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms) functions as a ligand, without being particularly limited. Can be used. Two or more metal chelate compounds may be used together within the above range. The metal chelate compounds used in the present invention are preferably of the formula Zr (OR 3 ) p1 (R 4 COCHCOR 5 ) p2 , Ti (0R 3 ) q1 (R 4 COCHCOR 5 ) q2 and Al (OR 3 ) r1 (R 4 COCHCOR 5 ) selected from the group of compounds represented by r2 , and serves to accelerate the condensation reaction of the hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound.

상기 금속 킬레이트 화합물에서, R3 및 R4 는 동일하거나 상이할 수 있고, 각각 탄소수 1 내지 10 의 알킬기를 나타낸다. 알킬기의 구체적인 예에는 에틸기, n-프로필기, 이소프로필기, n-부틸기, sec-부틸기, t-부틸기, n-펜틸기 및 페닐기가 포함된다. 또한, R5 는 상기에서와 동일한 탄소수 1 내지 10 의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10 의 알콕시기를 나타낸다. 알콕시기의 예에는 메톡시기, 에톡시기, n-프로폭시기, 이소프로폭시기, n-부톡시기, sec-부톡시기 및 t-부톡시기가 포함된다. 또한, 상기 금속 킬레이트 화합물에서, p1, p2, q1, q2, r1 및 r2 는 각각 관계식: (p1 + p2) = 4, (q1 + q2) = 4 및 (r1 + r2) = 3 을 만족시키도록 결정된 정수를 나타낸다. In the metal chelate compound, R 3 and R 4 may be the same or different and each represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms. Specific examples of the alkyl group include an ethyl group, n-propyl group, isopropyl group, n-butyl group, sec-butyl group, t-butyl group, n-pentyl group and phenyl group. In addition, R 5 represents the same alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms as described above. Examples of the alkoxy group include methoxy group, ethoxy group, n-propoxy group, isopropoxy group, n-butoxy group, sec-butoxy group and t-butoxy group. In addition, in the metal chelate compound, p1, p2, q1, q2, r1 and r2 each satisfy the relation: (p1 + p2) = 4, (q1 + q2) = 4 and (r1 + r2) = 3 The determined integer is shown.

이러한 금속 킬레이트 화합물의 구체적인 예에는, 지르코늄 킬레이트 화합물, 예컨대 지르코늄 트리-n-부톡시에틸아세토아세테이트, 지르코늄 디-n-부톡시비스(에틸아세토아세테이트), 지르코늄 n-부톡시트리스(에틸아세토아세테이트), 지르코늄 테트라키스(n-프로필아세토아세테이트), 지르코늄 테트라키스(아세틸아세토아세테이트) 및 지르코늄 테트라키스(에틸아세토아세테이트); 티타늄 킬레이트 화합물, 예컨대 티타늄 디이소프로폭시·비스(에틸아세토아세테이트), 티타늄 디이소프로폭시·비스(아세틸아세테이트) 및 티타늄 디이소프로폭시·비스(아세틸세톤); 및 알루미늄 킬레이트 화합물, 예컨대 알루미늄 디이소프로폭시에틸아세토아세테이트, 알루미늄 디이소프로폭시아세틸아세테이트, 알루미늄 이소프로폭시비스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄 이소프로폭시비스(아세틸아세토네이트), 알루미늄 트리스(에틸아세토아세테이트), 알루미늄 트리스(아세틸아세토네이트) 및 알루미늄 모노아세틸아세토나토·비스(에틸아세토아세테이트)가 포함된다. Specific examples of such metal chelate compounds include zirconium chelate compounds such as zirconium tri-n-butoxyethylacetoacetate, zirconium di-n-butoxybis (ethylacetoacetate), zirconium n-butoxytris (ethylacetoacetate) Zirconium tetrakis (n-propylacetoacetate), zirconium tetrakis (acetylacetoacetate) and zirconium tetrakis (ethylacetoacetate); Titanium chelate compounds such as titanium diisopropoxy bis (ethylacetoacetate), titanium diisopropoxy bis (acetylacetate) and titanium diisopropoxy bis (acetylcetone); And aluminum chelate compounds such as aluminum diisopropoxyethylacetoacetate, aluminum diisopropoxyacetylacetate, aluminum isopropoxybis (ethylacetoacetate), aluminum isopropoxybis (acetylacetonate), aluminum tris (ethylaceto Acetate), aluminum tris (acetylacetonate) and aluminum monoacetylacetonato bis (ethylacetoacetate).

이들 금속 킬레이트 화합물 중에서도, 지르코늄 트리-n-부톡시에틸아세토아세테이트, 티타늄 디이소프로폭시비스(아세틸아세토네이트), 알루미늄 디이소프로폭시에틸아세토아세테이트 및 알루미늄 트리스(에틸아세토아세테이트)가 바람직하다. 이러한 금속 킬레이트 화합물은 단독으로 또는 이의 2 종 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 이러한 금속 킬레이트 화합물의 부분적 가수분해물도 사용할 수 있다. Among these metal chelate compounds, zirconium tri-n-butoxyethylacetoacetate, titanium diisopropoxybis (acetylacetonate), aluminum diisopropoxyethylacetoacetate and aluminum tris (ethylacetoacetate) are preferable. These metal chelate compounds may be used alone or in mixture of two or more thereof. Partial hydrolysates of such metal chelate compounds can also be used.

또한, 본 발명에서는, β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물을 상기 경화성 조성물에 추가로 첨가하는 것이 바람직하다. 이는 이하에 추가로 기재될 것이다. Moreover, in this invention, it is preferable to add a (beta) -diketone compound and / or (beta) -ketoester compound further to the said curable composition. This will be described further below.

본 발명에서 사용되는 화합물은 화학식 R4COCH2COR5 로 나타내는 β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물이고, 본 발명에서 사용되는 경화성 조성물의 안정성 향상제로 작용한다. 여기서, R4 는 탄소수 1 내지 10 의 알킬기를 나타내고; R5 는 탄소수 1 내지 10 의 알킬기 또는 탄소수 1 내지 10 의 알콕시기를 나타낸다. 즉, 상기 화합물이 금속 킬레이트 화합물 (예를 들면, 지르코늄, 티타늄 및/또는 알루미늄 화합물) 내 금속 원자와 배위결합하는 경우, 이는 이러한 금속 킬레이트 화합물에 의한 유기실란 화합물의 가수분해물 및/또는 이의 부분 축합물의 축합 반응의 가속화 작용을 저해함으로써, 생성된 조성물의 저장 안정성을 향상시키는 작용을 하는 것으로 여겨진다. β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물을 구성하는 R4 및 R5 는 상기 금속 킬레이트 화합물을 구성하는 R4 및 R5 와 동일하다.The compounds used in the present invention are β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds represented by the general formula R 4 COCH 2 COR 5 and act as stability enhancers for the curable compositions used in the present invention. R 4 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; R 5 represents an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms or an alkoxy group having 1 to 10 carbon atoms. That is, when the compound coordinates with a metal atom in a metal chelate compound (eg, zirconium, titanium and / or aluminum compound), it is a hydrolyzate of the organosilane compound and / or partial condensation thereof by this metal chelate compound. By inhibiting the accelerated action of the condensation reaction of water, it is believed to act to improve the storage stability of the resulting composition. R 4 and R 5 constituting the β-diketone compound and / or β-ketoester compound are the same as R 4 and R 5 constituting the metal chelate compound.

상기 β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물의 구체적인 예에는 아세틸아세톤, 메틸 아세토아세테이트, 에틸 아세토아세테이트, n-프로필 아세토아세테이트, 이소프로필 아세토아세테이트, n-부틸 아세토아세테이트, sec-부틸 아세토아세테이트, t-부틸 아세토아세테이트, 2,3-헥산-디온, 2,4-헵탄-디온, 3,5-헵탄-디온, 2,4-옥탄-디온, 2,4-노난-디온 및 t-메틸헥산-디온이 포함된다. 이들 중에서도, 에틸 아세토아세테이트 및 아세틸아세톤이 바람직하고; 아세틸아세톤이 특히 바람직하다. 이러한 β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물은 단독으로 또는 이의 2 종 이상의 혼합물로 사용될 수 있다. 본 발명에서, β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물은 금속 킬레이트 화합물의 1 몰 당 바람직하게는 2 몰 이상, 더 바람직하게는 3 내지 20 몰의 양으로 사용된다. β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물의 양이 2 몰 미만인 경우에는, 생성된 조성물의 저장 안정성이 악화될 가능성이 있고, 그러므로 이러한 것은 바람직하지 않다. Specific examples of the β-diketone compound and / or β-ketoester compound include acetylacetone, methyl acetoacetate, ethyl acetoacetate, n-propyl acetoacetate, isopropyl acetoacetate, n-butyl acetoacetate, sec-butyl aceto Acetate, t-butyl acetoacetate, 2,3-hexane-dione, 2,4-heptane-dione, 3,5-heptane-dione, 2,4-octane-dione, 2,4-nonane-dione and t- Methylhexane-dione is included. Among these, ethyl acetoacetate and acetylacetone are preferable; Acetyl acetone is particularly preferred. These β-diketone compounds and / or β-ketoester compounds may be used alone or in mixture of two or more thereof. In the present invention, the β-diketone compound and / or the β-ketoester compound is used in an amount of preferably 2 moles or more, more preferably 3 to 20 moles per 1 mole of the metal chelate compound. When the amount of the β-diketone compound and / or the β-ketoester compound is less than 2 moles, there is a possibility that the storage stability of the resulting composition is deteriorated, and therefore this is not preferable.

상기 유기실란 화합물 또는 이의 가수분해물 및/또는 이의 부분 축합물의 배합량은 저굴절률층의 전체 고형물의, 바람직하게는 0.1 내지 50 중량%, 더 바람직하게는 0.5 내지 30 중량%, 가장 바람직하게는 1 내지 20 중량% 이다. The blending amount of the organosilane compound or its hydrolyzate and / or partial condensate thereof is preferably 0.1 to 50% by weight, more preferably 0.5 to 30% by weight, most preferably 1 to 1 of the total solids of the low refractive index layer. 20 wt%.

상기 유기실란 화합물은 경화성 조성물에 직접 첨가될 수도 있지만 (예를 들면, 눈부심 방지층 또는 저굴절률층에 대한 코팅 용액), 상기 유기실란 화합물을 촉매의 존재 하에 미리 처리하여 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및/또는 이의 부분 축합물을 제조하고, 생성된 반응 용액 (졸 용액) 을 사용하여 상기 경화성 조성물을 제조하는 것이 바람직하다. 본 발명에서는, 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및/또는 부분 축합물 및 금속 킬레이트 화합물을 함유한 조성물을 먼저 제조한 다음, 상기 조성물에 β-디케톤 화합물 및/또는 β-케토에스테르 화합물을 첨가함으로써 생성된 용액을 눈부심 방지층 또는 저굴절률층 중 하나 이상에 대한 코팅 용액에 함유시킨 후, 코팅하는 것이 바람직하다. The organosilane compound may be added directly to the curable composition (e.g., a coating solution for an anti-glare layer or low refractive index layer), but the organosilane compound may be pretreated in the presence of a catalyst to hydrolyzate the organosilane compound and It is preferred to prepare a partial condensate thereof and to produce the curable composition using the resulting reaction solution (sol solution). In the present invention, by first preparing a composition containing a hydrolyzate and / or partial condensate of the organosilane compound and a metal chelate compound, and then adding a β-diketone compound and / or β-ketoester compound to the composition The resulting solution is preferably contained in the coating solution for at least one of the anti-glare layer or the low refractive index layer, followed by coating.

이하에서 (a), (b) 또는 (c) 에 기재된 바와 같은 규소-함유 화합물을 성분 (D) 에 추가로 첨가할 수 있다.Silicon-containing compounds as described in (a), (b) or (c) below may be further added to component (D).

(a) 규소 알콕시드:(a) silicon alkoxide:

규소 알콕시드는 RmSi(OR')n 으로 나타내는 화합물인데, 여기서 R 및 R' 은 각각 탄소수 1 내지 10 의 알킬기를 나타내고; mn 은 각각 관계식: (m + n) = 4 를 만족시키는 정수를 나타낸다. 규소 알콕시드의 예에는 테트라메톡시실란, 테트라에톡시실란, 테트라이소프로폭시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-n-부톡시실란, 테트라-sec-부톡시실란, 테트라-tert-부톡시실란, 테트라펜타에톡시실란, 테트라펜타이소프로폭시실란, 테트라펜타-n-프로폭시실란, 테트라펜타-n-부톡시실란, 테트라펜타-sec-부톡시실란, 테트라펜타-tert-부톡시실란, 메틸트리메톡시실란, 메틸트리에톡시실란, 메틸트리프로폭시실란, 메틸트리부톡시실란, 디메틸디메톡시실란, 디메틸디에톡시실란, 디메틸에톡시실란, 디메틸메톡시실란, 디메틸프로폭시실란, 디메틸부톡시실란, 메틸디메톡시실란, 메틸디에톡시실란 및 헥실트리메톡시실란이 포함된다.Silicon alkoxides are compounds represented by R m Si (OR ') n , wherein R and R' each represent an alkyl group having 1 to 10 carbon atoms; m and n each represent an integer satisfying the relation: (m + n) = 4. Examples of silicon alkoxides include tetramethoxysilane, tetraethoxysilane, tetraisopropoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-n-butoxysilane, tetra-sec-butoxysilane, tetra-tert- Butoxysilane, tetrapentaethoxysilane, tetrapentaisopropoxysilane, tetrapenta-n-propoxysilane, tetrapenta-n-butoxysilane, tetrapenta-sec-butoxysilane, tetrapenta-tert-part Methoxysilane, methyltrimethoxysilane, methyltriethoxysilane, methyltripropoxysilane, methyltributoxysilane, dimethyldimethoxysilane, dimethyldiethoxysilane, dimethylethoxysilane, dimethylmethoxysilane, dimethylpropoxy Silane, dimethylbutoxysilane, methyldimethoxysilane, methyldiethoxysilane and hexyltrimethoxysilane.

(b) 실란 커플링제:(b) silane coupling agent:

실란 커플링제의 예에는 γ-(2-아미노-에틸)아미노프로필트리메톡시실란, γ-(2-아미노에틸)아미노프로필메틸디메톡시실란, β-(3,4-에폭시시클로헥실)에틸트리메톡시실란, γ-아미노프로필트리에톡시실란, γ-메타크릴옥시프로필트리메톡시실란, N-β-(N-비닐벤질아미노에틸)-γ-아미노프로필메톡시실란 히드로클로라이드, γ-글리시독시프로필트리메톡시실란, 아미노실란, 메틸트리메톡시실란, 비닐트리아세톡시실란, γ-메르캅토프로필트리메톡시실란, γ-클로로프로필트리메톡시실란, 헥사메틸디실라잔, 비닐트리스(β-메톡시에톡시)실란, 옥타데실디메틸[3-트리메톡시실릴)프로필]암모늄 클로라이드, 메틸트리클로로실란 및 디메틸디클로로실란이 포함된다. Examples of the silane coupling agent include γ- (2-amino-ethyl) aminopropyltrimethoxysilane, γ- (2-aminoethyl) aminopropylmethyldimethoxysilane and β- (3,4-epoxycyclohexyl) ethyltri Methoxysilane, γ-aminopropyltriethoxysilane, γ-methacryloxypropyltrimethoxysilane, N-β- (N-vinylbenzylaminoethyl) -γ-aminopropylmethoxysilane hydrochloride, γ-gly Cidoxypropyltrimethoxysilane, aminosilane, methyltrimethoxysilane, vinyltriacetoxysilane, γ-mercaptopropyltrimethoxysilane, γ-chloropropyltrimethoxysilane, hexamethyldisilazane, vinyltris (β-methoxyethoxy) silane, octadecyldimethyl [3-trimethoxysilyl) propyl] ammonium chloride, methyltrichlorosilane and dimethyldichlorosilane.

(c) 전리 방사선 경화성 규소 화합물:(c) ionizing radiation curable silicon compounds:

전리 방사선 경화성 규소 화합물의 예에는 전리 방사선에 의해 반응이 야기되고 가교될 수 있는 복수의 기, 예를 들면 중합성 이중 결합 기를 함유한, 분자량 5,000 이하의 유기규소 화합물이 포함된다. 이러한 반응성 유기규소 화합물의 예에는 단일-말단 비닐 관능성 폴리실란, 양-말단 비닐 관능성 폴리실란, 단일-말단 비닐 관능성 폴리실록산 및 양-말단 비닐 관능성 폴리실록산; 및 상기 화합물의 반응으로부터 생성된 비닐 관능성 폴리실란 또는 비닐 관능성 폴리실록산이 포함된다. Examples of ionizing radiation curable silicon compounds include organosilicon compounds having a molecular weight of 5,000 or less, which contain a plurality of groups which can be reacted and crosslinked by ionizing radiation, for example polymerizable double bond groups. Examples of such reactive organosilicon compounds include single-terminal vinyl functional polysilanes, both-terminal vinyl functional polysilanes, single-terminal vinyl functional polysiloxanes and both-terminal vinyl functional polysiloxanes; And vinyl functional polysilanes or vinyl functional polysiloxanes produced from the reaction of the compounds.

기타 화합물의 예에는 3-(메트)아크릴옥시프로필트리메톡시실란 및 3-(메트)아크릴옥시프로필메틸디메톡시실란과 같은 (메트)아크릴옥시실란 화합물이 포함된다. Examples of other compounds include (meth) acryloxysilane compounds such as 3- (meth) acryloxypropyltrimethoxysilane and 3- (meth) acryloxypropylmethyldimethoxysilane.

예를 들어, JP-A-2003-39586 에 기재된 하기 반응성 유기규소 화합물을 상기 바인더와 함께 사용할 수 있다. 반응성 유기규소 화합물은 전리 방사선 경화성 수지와 반응성 유기규소 화합물의 총합을 기준으로 10 내지 100 중량% 범위의 양으로 사용된다. 특히, 상기 전리 방사선 경화성 유기규소 화합물 (c) 를 사용하는 경우에는, 단지 상기 화합물만을 수지 성분으로 사용함으로써 전도성 층을 형성하는 것이 가능하다. For example, the following reactive organosilicon compounds described in JP-A-2003-39586 can be used with the binder. The reactive organosilicon compound is used in an amount ranging from 10 to 100% by weight based on the sum of the ionizing radiation curable resin and the reactive organosilicon compound. In particular, in the case of using the ionizing radiation curable organosilicon compound (c), it is possible to form a conductive layer by using only the compound as a resin component.

1-(5) 개시제:1- (5) Initiator:

전리 방사선으로의 조사 또는 광 라디칼 개시제 또는 열 라디칼 개시제 존재 하의 가열에 의해 각종 에틸렌계 불포화 기-함유 단량체의 중합을 수행할 수 있다. The polymerization of various ethylenically unsaturated group-containing monomers can be carried out by irradiation with ionizing radiation or by heating in the presence of a photo radical initiator or a thermal radical initiator.

본 발명의 필름 제조에 있어서는, 광 개시제 및 열 개시제를 함께 사용할 수 있다. In film manufacture of this invention, a photoinitiator and a thermal initiator can be used together.

<광 개시제><Photoinitiator>

광 라디칼 중합 개시제의 예에는 아세토페논류, 벤조인류, 벤조페논류, 포스핀 옥시드류, 케탈류, 안트라퀴논류, 티옥산톤류, 아조 화합물, 퍼옥시드류 (예를 들면, JP-A-2001-139663 에 기재된 것), 2,3-디알킬디온 화합물, 디술피드 화합물, 플루오로아민 화합물, 방향족 술포늄류, 로핀 이량체류, 오늄 염, 보레이트 염, 활성 에스테르류, 활성 할로겐류, 무기 착물 및 쿠마린류가 포함된다.Examples of the radical photopolymerization initiator include acetophenones, benzoin, benzophenones, phosphine oxides, ketals, anthraquinones, thioxanthones, azo compounds and peroxides (for example, JP-A-2001 -139663), 2,3-dialkyldione compounds, disulfide compounds, fluoroamine compounds, aromatic sulfoniums, ropin dimers, onium salts, borate salts, active esters, active halogens, inorganic complexes and Coumarins are included.

아세토페논류의 예에는 2,2-디메톡시아세토페논, 2,2-디에톡시아세토페논, p-디메틸아세토페논, 1-히드록시-디메틸 페닐 케톤, 1-히드록시-디메틸-p-이소프로필 페닐 케톤, 1-히드록시시클로헥실 페닐 케톤, 2-메틸-4-메틸티오-2-모르폴리노프로피오페논, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)부타논, 4-페녹시디클로로아세토페논 및 4-t-부틸-디클로로아세토페논이 포함된다.Examples of acetophenones include 2,2-dimethoxyacetophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, p-dimethylacetophenone, 1-hydroxy-dimethyl phenyl ketone, 1-hydroxy-dimethyl-p-isopropyl Phenyl ketone, 1-hydroxycyclohexyl phenyl ketone, 2-methyl-4-methylthio-2-morpholinopropiophenone, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) buta Non, 4-phenoxydichloroacetophenone and 4-t-butyl-dichloroacetophenone.

벤조인류의 예에는 벤조인, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르, 벤조인 이소프로필 에테르, 벤질 디메틸 케탈, 벤조인 벤젠술폰산 에스테르, 벤조인 톨루엔술폰산 에스테르, 벤조인 메틸 에테르, 벤조인 에틸 에테르 및 벤조인 이소프로필 에테르가 포함된다. 벤조페논류의 예에는 벤조페논, 히드록시벤조페논, 4-벤조일-4'-메틸디페닐 술피드, 2,4-디클로로벤조페논, 4,4-디클로로벤조페논, p-클로로벤조페논, 4,4'-디메틸아미노벤조페논 (미힐러 케톤 (Michler's ketone)) 및 3,3',4,4'-테트라(t-부틸 퍼옥시카르보닐)벤조페논이 포함된다.Examples of benzoins include benzoin, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether, benzoin isopropyl ether, benzyl dimethyl ketal, benzoin benzenesulfonic acid ester, benzoin toluenesulfonic acid ester, benzoin methyl ether, benzoin ethyl ether and Benzoin isopropyl ether. Examples of benzophenones include benzophenone, hydroxybenzophenone, 4-benzoyl-4'-methyldiphenyl sulfide, 2,4-dichlorobenzophenone, 4,4-dichlorobenzophenone, p-chlorobenzophenone, 4 , 4'-dimethylaminobenzophenone (Michler's ketone) and 3,3 ', 4,4'-tetra (t-butyl peroxycarbonyl) benzophenone.

보레이트 염의 예에는 일본 특허 제 2764769 호, JP-A-2002-116539 및 문헌 [Kunz 및 Martin, Red Tech '98. Proceeding, April, 19 내지 22 페이지 (1998), Chicago] 에 기재된 바와 같은 유기 붕산 염 화합물이 포함된다. 예를 들면, 상기 JP-A-2002-116539 의 단락 [0022] 내지 [0027] 에 기재된 바와 같은 화합물이 열거된다. 또한, 기타 유기 붕소 화합물의 구체적인 예에는 JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527 및 JP-A-7-292014 에 기재된 바와 같은 유기 붕소 전이 금속-배위결합 착물이 포함된다. 이의 구체적인 예에는 또한 양이온성 염료와의 이온 착물이 포함된다. Examples of borate salts include Japanese Patent No. 2764769, JP-A-2002-116539 and Kunz and Martin, Red Tech '98. Proceedings, April, pages 19-22 (1998), Chicago, are included. For example, the compounds as described in paragraphs [0022] to [0027] of JP-A-2002-116539 are listed. In addition, specific examples of other organoboron compounds include JP-A-6-348011, JP-A-7-128785, JP-A-7-140589, JP-A-7-306527 and JP-A-7-292014. Organoboron transition metal-coordination complexes as described. Specific examples thereof also include ionic complexes with cationic dyes.

포스핀 옥시드류의 예에는 2,4,6-트리메틸벤조일 디페닐포스핀 옥시드가 포함된다. Examples of phosphine oxides include 2,4,6-trimethylbenzoyl diphenylphosphine oxide.

활성 에스테르류의 예에는 1,2-옥탄디온, 1-[4-(페닐티오)-2-(O-벤조일옥심)], 술폰산 에스테르 및 시클릭 활성 에스테르 화합물이 포함된다.Examples of active esters include 1,2-octanedione, 1- [4- (phenylthio) -2- (O-benzoyloxime)], sulfonic acid esters and cyclic active ester compounds.

구체적으로는, JP-A-2000-80068 의 작동예에 기재된 바와 같은 화합물 1 내지 21 이 특히 바람직하다. Specifically, compounds 1 to 21 as described in the working examples of JP-A-2000-80068 are particularly preferable.

오늄류의 예에는 방향족 디아조늄 염, 방향족 요오도늄 염 및 방향족 술포늄 염이 포함된다. Examples of oniums include aromatic diazonium salts, aromatic iodonium salts, and aromatic sulfonium salts.

활성 할로겐류로는, 문헌 [Wakabayashi 등, Bull Chem. Soc. Japan, Vol. 42, 2924 (1969)], 미국 특허 제 3,905,815 호, JP-A-5-27830 및 문헌 [M.P. Hutt, Journal of Heterocyclic Chemistry, Vol. 1 (No. 3), 1970] 에 기재된 바와 같은 화합물, 특히 그 위에 트리할로메틸기가 치환되어 있는 s-트리아진 화합물 및 옥사졸 화합물이 구체적으로 열거된다. 더 적절하게는, 하나 이상의 모노-, 디- 또는 트리할로겐-치환 메틸기가 s-트리아진 고리에 결합된 s-트리아진 유도체가 열거된다. 구체적인 예로는, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-메톡시페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(p-스티릴페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진, 2-(3-브로모-4-디(에틸 아세테이트)아미노)페닐)-4,6-비스(트리클로로메틸)-s-트리아진 및 2-트리할로메틸-5-(p-메톡시페닐)-1,3,4-옥사디아졸을 포함하는 s-트리아진 또는 옥사티아졸 화합물이 공지되어 있다. 구체적으로는, JP-A-58-15503 의 14 내지 30 페이지 및 JP-A-55-77742 의 6 내지 10 페이지에 기재된 바와 같은 화합물; 및 JP-B-60-27673 의 287 페이지에 기재된 바와 같은 화합물 번호 1 내지 8, JP-A-60-239736 의 443 내지 444 페이지에 기재된 바와 같은 화합물 번호 1 내지 17, 및 미국 특허 제 4,701,399 호의 화합물 번호 1 내지 19 가 있다. As active halogens, Wakabayashi et al. , Bull Chem. Soc. Japan, Vol. 42, 2924 (1969), US Pat. No. 3,905,815, JP-A-5-27830 and in MP Hutt, Journal of Heterocyclic Chemistry, Vol. 1 (No. 3), 1970], specifically s-triazine compound and oxazole compound in which trihalomethyl group is substituted thereon are specifically listed. More suitably, s-triazine derivatives in which one or more mono-, di- or trihalogen-substituted methyl groups are bonded to the s-triazine ring are listed. Specific examples include 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-methoxyphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (p-styrylphenyl) -4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine, 2- (3-bromo-4-di (ethyl acetate) amino) phenyl S-tri comprising 4,6-bis (trichloromethyl) -s-triazine and 2-trihalomethyl-5- (p-methoxyphenyl) -1,3,4-oxadiazole Azine or oxathiazole compounds are known. Specifically, compounds as described in pages 14 to 30 of JP-A-58-15503 and pages 6 to 10 of JP-A-55-77742; And compound numbers 1 to 8 as described on page 287 of JP-B-60-27673, compound numbers 1 to 17 as described on pages 443 to 444 of JP-A-60-239736, and US Pat. No. 4,701,399 There are numbers 1 to 19;

무기 착물의 예에는 비스-(η5-2,4-시클로펜타디엔-1-일)-비스(2,6-디플루오로-3-(1H-피롤-1-일)페닐)티타늄이 포함된다.Examples of inorganic complexes include bis- (η 5 -2,4-cyclopentadien-1-yl) -bis (2,6-difluoro-3- (1H-pyrrol-1-yl) phenyl) titanium do.

쿠마린의 예에는 3-케토쿠마린이 포함된다. Examples of coumarins include 3-ketocoumarin.

이러한 개시제는 단독으로 또는 부가혼합물로 사용될 수 있다. These initiators may be used alone or in admixture.

각종 예가 문헌 [Saishin UV Koka Gijutsu (Latest UV Curing Technologies), Technical Information Institute Co., Ltd. 발행, 159 페이지 (1991)] 및 문헌 [Kiyoshi Kato, Shigaisen Koka Shisuternu (Ultraviolet Ray Curing Systems), Sogo Gijutsu Center 발행, 65 내지 148 페이지 (1988)] 에 기재되어 있고, 이들은 본 발명에 유용하다. Various examples are described in Saishin UV Koka Gijutsu (Latest UV Curing Technologies), Technical Information Institute Co., Ltd. 159 (1991) and Kiyoshi Kato, Shigaisen Koka Shisuternu (Ultraviolet Ray Curing Systems), published by Sogo Gijutsu Center, pages 65-148 (1988), which are useful for the present invention.

시판중인 광 라디칼 중합 개시제에 대해서는, Nippon Kayaku Co., Ltd. 에서 제조한 KAYACURE 시리즈 (예를 들면, DETX-S, BP-1OO, BDMK, CTX, BMS, 2-FAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC 및 MCA), Ciba Speciality Chemicals 에서 제조한 IRGACURE 시리즈 (예를 들면, 651, 184, 500, 819, 907, 369, 1173, 1870, 2959, 4265 및 4263), Sartmer Company Inc. 에서 제조한 ESACURE 시리즈 (예를 들면, KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150 및 TZT), 및 이들의 조합이 바람직한 예로 열거된다. As for commercially available photoradical polymerization initiators, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE series (e.g., DETX-S, BP-1OO, BDMK, CTX, BMS, 2-FAQ, ABQ, CPTX, EPD, ITX, QTX, BTC and MCA) manufactured by IRGACURE manufactured by Ciba Specialty Chemicals Series (e.g., 651, 184, 500, 819, 907, 369, 1173, 1870, 2959, 4265, and 4263), Sartmer Company Inc. ESACURE series (e.g., KIP100F, KB1, EB3, BP, X33, KT046, KT37, KIP150 and TZT), and combinations thereof, manufactured by

광중합 개시제는 바람직하게는 다관능 단량체의 100 중량부에 대해, 0.1 내지 15 중량부 범위의 양으로 사용되고, 더 바람직한 범위는 1 내지 10 질량부이다. 특히, 광중합 개시제를 본 발명의 저굴절률층에 0.1 내지 5 중량부 범위로 혼입시킴으로써, 저굴절률층 자체의 가교 및 계면에서의 결합이 증진되고, 이로써 내반흔성이 향상될 수 있다. The photopolymerization initiator is preferably used in an amount in the range of 0.1 to 15 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the polyfunctional monomer, more preferably in the range of 1 to 10 parts by mass. In particular, by incorporating the photopolymerization initiator into the low refractive index layer of the present invention in the range of 0.1 to 5 parts by weight, crosslinking of the low refractive index layer itself and bonding at the interface can be enhanced, thereby improving the scratch resistance.

<감광제><Photoresist>

광중합 개시제 외에, 감광제를 사용할 수 있다. 감광제의 구체적인 예에는 n-부틸아민, 트리에틸아민, 트리-n-부틸 포스핀, 미힐러 케톤 및 티옥산톤이 포함된다. In addition to a photoinitiator, a photosensitive agent can be used. Specific examples of photosensitizers include n-butylamine, triethylamine, tri-n-butyl phosphine, Michler's ketone and thioxanthone.

또한, 아지드 화합물, 티오우레아 화합물 및 메르캅토 화합물과 같은 하나 이상의 보조제 (auxiliary) 를 조합하여 사용할 수 있다. In addition, one or more auxiliary such as azide compounds, thiourea compounds and mercapto compounds can be used in combination.

시판중인 감광제에 대해서는, Nippon Kayaku Co., Ltd. 에서 제조한 KAYACURE 시리즈 (예를 들면, DMBI 및 EPA) 가 열거된다.For commercial photosensitizers, Nippon Kayaku Co., Ltd. KAYACURE series (e.g., DMBI and EPA) manufactured by

<열 개시제><Thermal initiator>

사용할 수 있는 열 개시제의 예에는 유기 또는 무기 퍼옥시드 및 유기 아조 또는 디아조 화합물이 포함된다.Examples of thermal initiators that can be used include organic or inorganic peroxides and organic azo or diazo compounds.

구체적으로, 유기 퍼옥시드의 예에는 벤조일 퍼옥시드, 할로겐 벤조일 퍼옥시드, 라우로일 퍼옥시드, 아세틸 퍼옥시드, 디부틸 퍼옥시드, 쿠멘 히드로퍼옥시드 및 부틸 히드로퍼옥시드가 포함되고; 무기 퍼옥시드의 예에는 과산화수소, 암모늄 퍼술페이트 및 칼륨 퍼술페이트가 포함되고; 아조 화합물의 예에는 2,2'-아조비스(이소부티로니트릴), 2,2'-아조비스(프로피오니트릴) 및 1,1'-아조비스(시클로헥산카르보니트릴)이 포함되고; 디아조 화합물의 예에는 디아조아미노벤젠 및 p-니트로벤젠 디아조늄이 포함된다. Specifically, examples of the organic peroxide include benzoyl peroxide, halogen benzoyl peroxide, lauroyl peroxide, acetyl peroxide, dibutyl peroxide, cumene hydroperoxide and butyl hydroperoxide; Examples of inorganic peroxides include hydrogen peroxide, ammonium persulfate and potassium persulfate; Examples of azo compounds include 2,2'-azobis (isobutyronitrile), 2,2'-azobis (propionitrile) and 1,1'-azobis (cyclohexanecarbonitrile); Examples of diazo compounds include diazoaminobenzenes and p-nitrobenzene diazonium.

1-(6) 가교 화합물 [본 발명의 저굴절률층의 구성 성분 (B)]1- (6) crosslinking compound [constituent component (B) of low refractive index layer of the present invention]

[경화제][Curing agent]

본 발명에서는, 히드록실기를 함유하는 불소-함유 중합체 및 불소-함유 중합체 내의 히드록실기와 반응할 수 있는 화합물 (경화제) 을 함유하는 경화성 조성물, 즉, 소위 경화성 수지 조성물을 사용하여 저굴절률층을 형성하는 것이 바람직하다. 경화제는 바람직하게는 히드록실기와 반응할 수 있는 2 개 이상, 더욱 바람직하게는 4 개 이상의 부위를 포함하고 있다. In the present invention, a low refractive index layer using a curable composition containing a fluorine-containing polymer containing a hydroxyl group and a compound (curing agent) capable of reacting with a hydroxyl group in the fluorine-containing polymer, that is, a so-called curable resin composition It is preferable to form The curing agent preferably comprises two or more, more preferably four or more sites capable of reacting with hydroxyl groups.

경화제의 구조는, 히드록실기와 반응할 수 있는 상기 언급한 수의 관능기를 함유하기만 한다면 특별히 제한되지 않는다. 이의 예로는, 폴리이소시아네이트, 이소시아네이트 화합물의 부분 축합물 또는 중합체, 다가 알콜과의 부가물, 저분자량 폴리에스테르 필름 등, 페놀과 같은 블로킹제 (blocking agent) 에 의해 블로킹된 이소시아네이트기를 갖는 블록 폴리이소시아네이트 화합물, 아미노플라스트 및 다염기성 산 또는 이의 무수물이 포함된다. The structure of the curing agent is not particularly limited as long as it contains the aforementioned number of functional groups capable of reacting with hydroxyl groups. Examples thereof include block polyisocyanate compounds having isocyanate groups blocked by a blocking agent such as phenol, such as polyisocyanates, partial condensates or polymers of isocyanate compounds, adducts with polyhydric alcohols, low molecular weight polyester films, and the like. , Aminoplasts and polybasic acids or anhydrides thereof.

그 중에서도, 본 발명에서는, 저장시의 안정성 및 가교 반응의 작용이 서로 상용성이 되도록 만드는 견지에서 및 형성된 필름의 강도의 견지에서, 산성 조건 하에 히드록실기 함유 중합체와 가교 반응을 일으킬 수 있는 아미노플라스트가 바람직하다. 아미노플라스트는 불소-함유 중합체 내의 히드록실기와 반응할 수 있는 아미노기를 함유하는 화합물, 즉, 히드록시알킬아미노기 또는 알콕시알킬아미노기, 또는 질소 원자에 인접하고 알콕시기로 치환된 탄소 원자이다. 이의 구체예로는, 멜라민계 화합물, 우레아계 화합물 및 벤조구아나민계 화합물이 포함된다.Among them, in the present invention, aminoflavor which can cause a crosslinking reaction with a hydroxyl group-containing polymer under acidic conditions in terms of making the storage stability and the action of the crosslinking reaction compatible with each other and in terms of the strength of the formed film. Is preferred. An aminoplast is a compound containing an amino group capable of reacting with a hydroxyl group in a fluorine-containing polymer, ie, a hydroxyalkylamino group or an alkoxyalkylamino group, or a carbon atom adjacent to a nitrogen atom and substituted with an alkoxy group. Specific examples thereof include melamine compounds, urea compounds and benzoguanamine compounds.

상기 멜라민계 화합물은 일반적으로, 질소 원자가 트리아진 고리에 결합되어 있는 골격을 갖는 화합물로 알려져 있으며, 그 구체예로는 멜라민, 알콕시화 멜라민, 메틸올멜라민 및 알킬화 메틸멜라민이 포함된다. 그 중에서도, 염기성 조건 하에 멜라민을 포름알데히드와 반응시켜 수득된 메틸올화 멜라민, 알콕시화 메틸멜라민 및 이들의 유도체가 바람직하며; 저장 안정성의 측면에서 알콕시화 메틸멜라민이 특히 바람직하다. 또한, 메틸올화 멜라민 및 알콕시화 메틸멜라민에 대해 특별한 제한은 없으며, 예를 들어 문헌 [Plastic Material Course [8]: Ureaㆍmelamine Resins (Nikkan Kogyo Shimbun Ltd. 발행)] 에 기재된 바와 같은 방법에 의해 수득될 수 있는 다양한 수지를 사용할 수 있다. The melamine-based compound is generally known as a compound having a skeleton in which a nitrogen atom is bonded to a triazine ring, and specific examples thereof include melamine, alkoxylated melamine, methylolmelamine and alkylated methylmelamine. Among them, methylolated melamine, alkoxylated methylmelamine and derivatives thereof obtained by reacting melamine with formaldehyde under basic conditions are preferable; In view of storage stability, alkoxylated methylmelamine is particularly preferred. In addition, there are no particular limitations on the methylolated melamine and the alkoxylated methylmelamine, and are obtained by the method as described, for example, in Plastic Material Course [8]: Urea-melamine Resins (issued by Nikkan Kogyo Shimbun Ltd.). Various resins can be used.

또한, 전술한 우레아 화합물로는, 우레아 외에, 그의 유도체로서의 폴리메틸올화 우레아 및 알콕시화 메틸우레아 및 고리형 우레아 구조로서 2-이미다졸리디논 골격 또는 글리콜 우릴 골격을 갖는 화합물이 바람직하다. 상기 우레아 유도체와 같은 아미노 화합물에 관해서는, 상기 참조 문헌 [Ureaㆍmelamine Resins] 등에 기재된 바와 같은 다양한 수지를 사용할 수 있다. As the above-mentioned urea compound, in addition to urea, a compound having a 2-imidazolidinone skeleton or a glycol uril skeleton as a polymethylolated urea and alkoxylated methylurea as its derivative and a cyclic urea structure is preferable. Regarding amino compounds such as the urea derivatives, see the above reference [ Urea.melamine Resins ] Various resins, such as those described, can be used.

본 발명에서, 가교제로서 적절히 사용되는 화합물로는, 불소 함유 공중합체와의 상용성의 측면에서 멜라민 화합물 또는 글리콜 우릴 화합물이 특히 바람직하다. 그 중에서도, 가교제는 그의 분자 내에 질소 원자를 함유하고 상기 질소 원자에 인접한 2 개 이상의 탄소 원자를 함유하며 알콕시기로 치환된 화합물인 것이 바람직하다. 특히 바람직한 화합물의 예로는, 하기 H-1 또는 H-2 로 표시되는 구조를 갖는 화합물 및 이의 부분 축합물이 포함된다. 하기 화학식에서, R 은 탄소수 1 내지 6 의 알킬기 또는 히드록실기를 나타낸다. In this invention, as a compound used suitably as a crosslinking agent, a melamine compound or a glycol uril compound is especially preferable from a compatibility with a fluorine-containing copolymer. Among them, the crosslinking agent is preferably a compound containing a nitrogen atom in its molecule, containing two or more carbon atoms adjacent to the nitrogen atom and substituted with an alkoxy group. Examples of particularly preferred compounds include compounds having structures represented by the following H-1 or H-2 and partial condensates thereof. In the following formulae, R represents an alkyl group or hydroxyl group having 1 to 6 carbon atoms.

Figure 112006055903608-PAT00037
Figure 112006055903608-PAT00037

불소-함유 중합체에 대한 아미노플라스트의 첨가량은, 공중합체 100 중량부를 기준으로 1 내지 50 중량부, 바람직하게는 3 내지 40 중량부, 더욱 바람직하게는 5 내지 30 중량부이다. 아미노플라스트의 첨가량이 1 중량부 이상인 경우, 본 발명의 특징적인 성질인 박막으로서의 내구성을 충분히 나타낼 수 있다. 상기 첨가량이 50 중량부 이하인 경우, 광학적인 적용에 이용시, 본 발명에서 저굴절률층의 특징적 성질인 저굴절률을 유지할 수 있으므로, 바람직하다. 경화제를 첨가하여 저굴절률을 균일하게 유지하는 측면에서, 첨가시에도 굴절률의 증가가 적은 경화제가 바람직하다. 이러한 관점에서, 상기 언급한 화합물들 중, H-2 로 표시되는 골격을 갖는 화합물이 더욱 바람직하다. The amount of aminoplast added to the fluorine-containing polymer is 1 to 50 parts by weight, preferably 3 to 40 parts by weight, more preferably 5 to 30 parts by weight, based on 100 parts by weight of the copolymer. When the added amount of aminoplast is 1 part by weight or more, the durability as a thin film, which is a characteristic feature of the present invention, can be sufficiently exhibited. When the addition amount is 50 parts by weight or less, when used for optical applications, the low refractive index, which is a characteristic of the low refractive index layer in the present invention, can be maintained. In view of keeping the low refractive index uniform by adding a curing agent, a curing agent having a small increase in refractive index even when added is preferable. From this point of view, among the above-mentioned compounds, a compound having a skeleton represented by H-2 is more preferable.

1-(7) 경화 촉매: 1- (7) Curing Catalyst:

본 발명의 필름에서는, 불소-함유 중합체의 히드록실기 및 상기 언급한 경화제를 가열하면서 가교 반응시킴으로써 필름을 경화시킨다. 상기 시스템에서, 경화는 산에 의해 촉진되기 때문에, 경화성 수지 조성물 내에 산성 물질을 첨가하는 것이 바람직하다. 그러나, 통상의 산을 첨가할 경우, 코팅 용액 내에서도 가교 반응이 진행되어, 결점 (예를 들어, 불균일성 및 뭉침 (cissing)) 이 야기된다. 따라서, 저장 안정성 및 경화 작용이 열 경화 시스템 내에서 서로 상용성이 되게 하기 위해, 가열에 의해 산을 생성할 수 있는 화합물을 경화 촉매로서 첨가하는 것이 더욱 바람직하다.In the film of this invention, a film is hardened by crosslinking-reacting, heating the hydroxyl group of a fluorine-containing polymer and the hardening | curing agent mentioned above. In the above system, since curing is promoted by an acid, it is preferable to add an acidic substance in the curable resin composition. However, when the conventional acid is added, the crosslinking reaction proceeds even in the coating solution, causing defects (for example, nonuniformity and cissing). Therefore, in order for the storage stability and the curing action to be compatible with each other in the thermal curing system, it is more preferable to add a compound capable of generating an acid by heating as a curing catalyst.

경화 촉매는 산 및 유기 염기로 이루어진 염인 것이 바람직하다. 산의 예로는, 유기 산, 예컨대 술폰산, 포스폰산 및 카르복실산; 및 무기 산, 예컨대 황산 및 인산이 포함된다. 중합체와의 상용성의 측면에서, 유기 산이 더욱 바람직하고; 술폰산 및 포스폰산이 더욱 더 바람직하고; 술폰산이 가장 바람직하다. 술폰산의 바람직한 예로는, p-톨루엔술폰산 (PTS), 벤젠술폰산 (BS), p-도데실벤젠술폰산 (DBS), p-클로로벤젠술폰산 (CBS), 1,4-나프탈렌디술폰산 (NDS), 메탄술폰산 (MsOH) 및 노나플루오로부탄-1-술폰산 (NFBS) 이 포함된다. 이러한 화합물 모두가 바람직하게 사용될 수 있다. (각 괄호 안의 표현은 약어이다.)The curing catalyst is preferably a salt consisting of an acid and an organic base. Examples of the acid include organic acids such as sulfonic acid, phosphonic acid and carboxylic acid; And inorganic acids such as sulfuric acid and phosphoric acid. In view of compatibility with the polymer, organic acids are more preferred; Sulfonic and phosphonic acids are even more preferred; Sulfonic acid is most preferred. Preferred examples of sulfonic acids include p-toluenesulfonic acid (PTS), benzenesulfonic acid (BS), p-dodecylbenzenesulfonic acid (DBS), p-chlorobenzenesulfonic acid (CBS), 1,4-naphthalenedisulfonic acid (NDS), Methanesulfonic acid (MsOH) and nonafluorobutane-1-sulfonic acid (NFBS). All of these compounds can be preferably used. (The expressions in brackets are abbreviations.)

경화 촉매는 산과 조합되는 유기 염기의 염기도 및 비점에 따라 크게 달라진다. 본 발명에서 바람직하게 사용되는 경화 촉매는 개개의 관점에서 하기에 기술될 것이다.The curing catalyst depends greatly on the basicity and boiling point of the organic base combined with the acid. The curing catalysts preferably used in the present invention will be described below from individual viewpoints.

유기 염기의 염기도에 관해서 설명한다. 낮은 염기도를 갖는 유기 염기는 가열 시 산 생성 효율이 높고, 경화 작용의 측면에서 바람직하다. 그러나, 염기도가 너무 낮을 경우, 저장 안정성이 불충분해진다. 따라서, 적절한 염기도를 갖는 유기 염기를 사용하는 것이 바람직하다. 염기도를 지수로서 컨쥬게이션된 산의 pKa 로 나타낼 경우, 본 발명에서 사용되는 유기 염기의 pKa 는 5.0 내지 10.5, 바람직하게는 6.0 내지 10.0, 더욱 더 바람직하게는 6.5 내지 10.0 이 되어야 한다. 유기 염기의 pKa 값에 관해, 수용액 내에서의 값은 문헌 [The Chemical Handbook Basic Edition (개정판, 제 5 판, The Chemical Society of Japan 사에서 편집, Maruzen Co., Ltd. 사에서 발행), Vol. 2, II, 334 ~ 340 페이지] 에 기재되어 있기 때문에, 이들 중 적절한 pKa 를 갖는 유기 염기를 선택할 수 있다. 또한, 대상 참조 문헌에 기재되어 있지 않은 것이라도, 구조 측면에서 적절한 pKa 를 갖는 화합물을 바람직하게 사용할 수 있다. 또한, 대상 참조문헌에 기재되어 있는 바와 같은 적절한 pKa 를 갖는 화합물이 하기 표 6 에 제시될 것이나, 본 발명이 이에 제한되는 것으로 생각되어서는 안된다.The basicity of an organic base is demonstrated. Organic bases having a low basicity have high acid production efficiency upon heating and are preferable in view of the curing action. However, when the basicity is too low, the storage stability becomes insufficient. Therefore, it is preferable to use an organic base having an appropriate basicity. When the basicity is expressed as the pKa of the conjugated acid as an index, the pKa of the organic base used in the present invention should be 5.0 to 10.5, preferably 6.0 to 10.0, even more preferably 6.5 to 10.0. Regarding the pKa value of the organic base, the value in the aqueous solution is described in The Chemical Handbook Basic Edition (revised edition, 5th edition, edited by The Chemical Society of Japan, published by Maruzen Co., Ltd.), Vol. 2, II, pages 334 to 340, and among these, an organic base having an appropriate pKa can be selected. Moreover, even if it is not described in the target reference document, the compound which has a suitable pKa from a structural point can be used preferably. In addition, compounds having suitable pKa as described in the subject reference will be presented in Table 6 below, but the present invention should not be considered to be limited thereto.

pKa                                                                pKa b-1b-1 N,N-디메틸아닐린N, N-dimethylaniline 5.15.1 b-2b-2 벤즈이미다졸Benzimidazole 5.55.5 b-3b-3 피리딘Pyridine 5.75.7 b-4b-4 3-메틸피리딘3-methylpyridine 5.85.8 b-5b-5 2,9-디메틸-1,10-페난트롤린2,9-dimethyl-1,10-phenanthroline 5.95.9 b-6b-6 4,7-디메틸-1,10-페난트롤린4,7-dimethyl-1,10-phenanthroline 5.95.9 b-7b-7 2-메틸피리딘2-methylpyridine 6.16.1 b-8b-8 4-메틸피리딘4-methylpyridine 6.16.1 b-9b-9 3-(N,N-디메틸아미노)피리딘3- (N, N-dimethylamino) pyridine 6.56.5 b-10b-10 2,6-디메틸피리딘2,6-dimethylpyridine 7.07.0 b-11b-11 이미다졸Imidazole 7.07.0 b-12b-12 2-메틸 이미다졸2-methyl imidazole 7.67.6 b-13b-13 N-에틸모르폴린N-ethylmorpholine 7.77.7 b-14b-14 N-메틸모르폴린N-methylmorpholine 7.87.8 b-15b-15 비스(2-메톡시에틸)아민Bis (2-methoxyethyl) amine 8.98.9 b-16b-16 2,2'-이미노디에탄올2,2'-iminodieethanol 9.19.1 b-17b-17 N,N-디메틸-2-아미노에탄올N, N-dimethyl-2-aminoethanol 9.59.5 b-18b-18 트리메틸아민Trimethylamine 9.99.9 b-19b-19 트리에틸아민Triethylamine 10.710.7

유기 염기의 비점에 관해서 설명한다. 비점이 낮은 유기 염기는 가열 시 산 생성 효율이 높으며, 경화 작용의 측면에서 바람직하다. 따라서, 적절한 비점을 갖는 유기 염기를 사용하는 것이 바람직하다. 염기의 비점은 바람직하게는 120℃ 이하이다.The boiling point of an organic base is demonstrated. An organic base having a low boiling point has a high acid generating efficiency upon heating and is preferable in view of a curing action. Therefore, preference is given to using organic bases having suitable boiling points. The boiling point of the base is preferably 120 ° C. or less.

본 발명에서 유기 염기로서 바람직하게 사용될 수 있는 화합물의 예는 하기에 제시될 것이나, 본 발명이 이에 제한되는 것으로 생각되어서는 안된다. 각 괄호 안의 표현은 비점을 나타낸다. Examples of compounds which can be preferably used as organic bases in the present invention will be given below, but the present invention should not be considered to be limited thereto. Expressions in brackets indicate boiling points.

b-3: 피리딘 (115℃), b-14: 4-메틸모르폴린 (115℃), b-20: 디알릴메틸아민 (111℃), b-19: 트리에틸아민 (88.8℃), b-21: t-부틸메틸아민 (67 내지 69℃), b-22: 디메틸이소프로필아민 (66℃), b-23: 디에틸메틸아민 (63 내지 65℃), b-24: 디메틸에틸아민 (36 내지 38℃), b-18: 트리메틸아민 (3 내지 5℃)b-3: pyridine (115 ° C), b-14: 4-methylmorpholine (115 ° C), b-20: diallylmethylamine (111 ° C), b-19: triethylamine (88.8 ° C), b -21: t-butylmethylamine (67-69 degreeC), b-22: dimethylisopropylamine (66 degreeC), b-23: diethylmethylamine (63-65 degreeC), b-24: dimethylethylamine (36 to 38 ° C), b-18: trimethylamine (3 to 5 ° C)

본 발명에서 사용되는 유기 염기의 비점은 특히 바람직하게는 35℃ 이상 85℃ 이하이다. 특정 범위의 비점을 가진 유기 염기를 사용함으로써, 경화 활성, 내반흔성 및 안정성이 양호한 코팅 용액을 수득할 수 있다. 비점은 더욱 바람직하게는 45℃ 이상 80℃ 이하이고, 가장 바람직하게는 55℃ 이상 75℃ 이하이다. The boiling point of the organic base used in the present invention is particularly preferably 35 ° C. or higher and 85 ° C. or lower. By using an organic base having a specific range of boiling point, a coating solution having good curing activity, scar resistance and stability can be obtained. The boiling point is more preferably 45 ° C or more and 80 ° C or less, and most preferably 55 ° C or more and 75 ° C or less.

본 발명의 산 촉매로서 사용될 경우, 산 및 유기 염으로 이루어진 상기 염은 단리되어 사용될 수 있다. 이와 달리, 용액 내에서 염을 형성하는 유기 염과 산을 혼합하여 수득된 용액이 사용될 수 있다. 또한, 각각 한 종류의 산 및 유기 염기를 사용할 수 있으며, 여러 종류의 산 및 유기 염기를 각각 혼합하여 사용할 수 있다. 산 및 유기 염기를 혼합하여 사용할 경우, 산 및 유기 염기를, 당량비가 바람직하게는 1/0.9 내지 1/1.5, 더욱 바람직하게는 1/0.95 내지 1/1.3, 더욱 더 바람직하게는 1/1.0 내지 1/1.1 이 되도록 혼합하는 것이 바람직하다. When used as the acid catalyst of the present invention, the salt consisting of an acid and an organic salt can be isolated and used. Alternatively, a solution obtained by mixing an acid with an organic salt that forms a salt in the solution can be used. In addition, one type of acid and organic base may be used, respectively, and various types of acid and organic base may be mixed and used. In the case where a mixture of an acid and an organic base is used, the equivalent ratio of the acid and the organic base is preferably 1 / 0.9 to 1 / 1.5, more preferably 1 / 0.95 to 1 / 1.3, even more preferably 1 / 1.0 to It is preferable to mix so as to be 1 / 1.1.

사용되는 상기 산 촉매의 비율은, 상기 언급한 경화 수지 조성물 내의 불소-함유 중합체 100 중량부를 기준으로, 바람직하게는 0.01 내지 10 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 중량부, 더욱 더 바람직하게는 0.2 내지 3 중량부이다. The proportion of the acid catalyst to be used is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight, even more preferably based on 100 parts by weight of the fluorine-containing polymer in the above-mentioned cured resin composition. 0.2 to 3 parts by weight.

<감광성 산 발생제 및 광 산 발생제 (photo acid generator)><Photosensitive acid generator and photo acid generator>

본 발명에서, 상기 언급한 열 산 발생제 (heat acid generator) 외에, 광 조사시 산을 발생시킬 수 있는 화합물, 즉, 감광성 산 발생제가 추가로 첨가될 수 있다. 본 발명에서 사용될 수 있는 광 산 발생제는 이하에 상세히 기술될 것이다.In the present invention, in addition to the above-mentioned heat acid generator, a compound capable of generating an acid upon light irradiation, that is, a photosensitive acid generator may be further added. Photoacid generators that can be used in the present invention will be described in detail below.

산 발생제의 예로는 광 양이온 중합 (photo cationic polymerization) 의 광 개시제와 같은 공지된 화합물, 염료의 광 탈색제 (photo decoloring agent), 광 변색제 (photo discoloring agent) 및 마이크로레지스트 (microresist) 용으로 사용되는 공지의 산 발생제 등, 및 이들의 혼합물이 포함된다. 감광성 산 발생제는 대상 경화성 수지 조성물의 필름에 감광성을 부여하며, 빛과 같은 방사선 조사 시 대상 필름의 광 경화를 겪을 수 있는 물질이다. 감광성 산 발생제로서는, (1) 다양한 오늄 염, 예컨대 요오도늄 염, 술포늄 염, 포스포늄 염, 디아조늄 염, 암모늄 염, 이미늄 염, 아르소늄 염, 셀레노늄 염 및 피리디늄 염; (2) 술폰 화합물, 예컨대 β-케토에스테르, β-술포닐술폰 및 이들의 α-디아조 화합물; (3) 술폰산 에스테르, 예컨대 알킬술폰산 에스테르, 할로알킬술폰산 에스테르, 아릴술폰산 에스테르 및 이미노술포네이트; (4) 술폰이미드 화합물; (5) 디아조메탄 화합물; 및 기타를 언급할 수 있으며, 이들을 적절히 사용할 수 있다. 그 중에서도, 광중합 개시에 대한 감광성, 화합물의 재료 안정성 등의 측면에서 디아조늄 염, 요오도늄 염, 술포늄 염 및 이미늄 염이 바람직하다. 예를 들어, JP-A-2002-29162 의 단락 [0058] 내지 [0059] 에 기재된 화합물이 언급된다.Examples of acid generators are known compounds such as photoinitiators of photo cationic polymerization, for photo decoloring agents, photo discoloring agents and microresists of dyes. Known acid generators, and mixtures thereof. The photosensitive acid generator imparts photosensitivity to the film of the curable resin composition, and is a material capable of undergoing photocuring of the film of interest when irradiated such as light. As the photosensitive acid generator, (1) various onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, diazonium salts, ammonium salts, iminium salts, arsonium salts, selenium salts and pyridinium salts; (2) sulfone compounds such as β-ketoesters, β-sulfonylsulfones and α-diazo compounds thereof; (3) sulfonic acid esters such as alkylsulfonic acid esters, haloalkylsulfonic acid esters, arylsulfonic acid esters and iminosulfonates; (4) sulfonimide compounds; (5) diazomethane compounds; And others may be mentioned, and these may be appropriately used. Among them, diazonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, and iminium salts are preferred in view of photosensitivity to photopolymerization initiation, material stability of compounds, and the like. For example, the compounds described in paragraphs [0058] to [0059] of JP-A-2002-29162 are mentioned.

감광성 산 발생제는 단독으로 또는 이들 중 2 종 이상이 조합 사용될 수 있다. 더욱이, 감광성 산 발생제는 또한 상기 언급한 열 산 발생제와 함께 사용될 수도 있다. 사용되는 감광성 산 발생제의 비율은 경화성 수지 조성물 내의 불소-함유 중합체 100 중량부를 기준으로, 바람직하게는 0 내지 20 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 10 중량부이다. 감광성 산 발생제의 비율이 상기 언급한 상한값 이하인 경우, 생성된 경화된 필름은 우수한 강도 및 만족스러운 투명도를 가지므로 바람직하다.The photosensitive acid generator may be used alone or in combination of two or more thereof. Moreover, the photosensitive acid generator may also be used in combination with the above-mentioned thermal acid generator. The ratio of the photosensitive acid generator to be used is preferably 0 to 20 parts by weight, more preferably 0.1 to 10 parts by weight based on 100 parts by weight of the fluorine-containing polymer in the curable resin composition. When the ratio of the photosensitive acid generator is below the above-mentioned upper limit, the resulting cured film is preferable because it has excellent strength and satisfactory transparency.

감광성 산 발생제는 또한 상기 언급한 저굴절률층 외의 다른 층, 예를 들어 하드 코트층에도 사용될 수 있다. 이의 사용 비율은 경화성 수지 조성물 100 중량부를 기준으로, 바람직하게는 0.01 내지 10 중량부, 더욱 바람직하게는 0.1 내지 5 중량부이다. Photosensitive acid generators may also be used in layers other than the low refractive index layers mentioned above, for example in hard coat layers. The use ratio thereof is preferably 0.01 to 10 parts by weight, more preferably 0.1 to 5 parts by weight based on 100 parts by weight of the curable resin composition.

그밖에도, 예를 들어 JP-A-2005-43876 에 개시된 내용이 구체적인 화합물 및 이의 사용 방법으로서 이용될 수 있다. In addition, the contents disclosed in, for example, JP-A-2005-43876 can be used as specific compounds and methods of using the same.

1-(8) 반투명 입자: 1- (8) Translucent Particles:

본 발명의 필름, 특히 눈부심 방지층 또는 하드 코트층에 눈부심 방지성 (표면 산란성) 또는 내부 산란성을 부여하기 위해, 다양한 반투명 입자를 사용할 수 있다. Various translucent particles can be used to impart antiglare (surface scattering) or internal scattering properties to the films of the invention, in particular antiglare or hard coat layers.

반투명 입자는 유기 입자 또는 무기 입자일 수 있다. 입자 크기가 산재되어 있지 않을 경우, 산란 특징에서 산재가 작아져 헤이즈 (haze) 값을 설계하기가 용이하다. 플라스틱 비드가 반투명 입자로서 적합하다. 특히, 높은 투명도를 갖고 바인더와의 굴절률의 차에 있어서 상기 언급한 수치를 갖는 것들이 바람직하다. Translucent particles may be organic particles or inorganic particles. If the particle size is not interspersed, the scattering characteristics in the scattering feature are small, making it easy to design haze values. Plastic beads are suitable as translucent particles. In particular, those having high transparency and having the above-mentioned numerical values in the difference in refractive index with the binder are preferable.

유기 입자의 예로는, 폴리메틸 메타크릴레이트 입자 (굴절률: 1.49), 가교 폴리(아크릴-스티렌) 공중합체 입자 (굴절률: 1.54), 멜라민 수지 입자 (굴절률: 1.57), 폴리카르보네이트 입자 (굴절률: 1.57), 폴리스티렌 입자 (굴절률: 1.60), 가교 폴리스티렌 입자 (굴절률: 1.61), 폴리비닐 클로라이드 입자 (굴절률: 1.60) 및 벤조구아나민-멜라민 포름알데히드 입자 (굴절률: 1.68) 가 포함된다. Examples of the organic particles include polymethyl methacrylate particles (refractive index: 1.49), crosslinked poly (acryl-styrene) copolymer particles (refractive index: 1.54), melamine resin particles (refractive index: 1.57), polycarbonate particles (refractive index) : 1.57), polystyrene particles (refractive index: 1.60), crosslinked polystyrene particles (refractive index: 1.61), polyvinyl chloride particles (refractive index: 1.60), and benzoguanamine-melamine formaldehyde particles (refractive index: 1.68).

무기 입자의 예로는, 실리카 입자 (굴절률: 1.44), 알루미나 입자 (굴절률: 1.63), 지르코니아 입자, 티타니아 입자 및 공동 (hollow) 또는 다공성 무기 입자가 포함된다. Examples of inorganic particles include silica particles (refractive index: 1.44), alumina particles (refractive index: 1.63), zirconia particles, titania particles and hollow or porous inorganic particles.

그 중에서도, 가교 폴리스티렌 입자, 가교 폴리((메트)아크릴레이트) 입자 및 가교 폴리(아크릴-스티렌) 입자가 바람직하게 사용된다. 바인더의 굴절률을, 상기 입자들 중에서 선택된 각 반투명 입자의 굴절률에 적합하게 조정함으로써, 본 발명의 내부 헤이즈, 표면 헤이즈 및 중심선 평균 조도 (center line mean roughness) 를 수득할 수 있다. Among them, crosslinked polystyrene particles, crosslinked poly ((meth) acrylate) particles and crosslinked poly (acryl-styrene) particles are preferably used. By adjusting the refractive index of the binder suitably to the refractive index of each translucent particle selected from the above particles, the internal haze, surface haze and center line mean roughness of the present invention can be obtained.

또한, 주성분으로서, 3관능성 또는 다관능 (메트)아크릴레이트 단량체 (경화 후의 굴절률: 1.50 내지 1.53) 로 이루어진 바인더를 50 내지 100 중량% 의 아크릴 함량을 갖는 가교 폴리(메트)아크릴레이트 중합체로 이루어진 반투명 입자와 조합 사용하는 것이 바람직하다. 가교 폴리(스티렌-아크릴) 공중합체로 이루어진 반투명 입자 (굴절률: 1.48 내지 1.54) 와 바인더의 조합물이 특히 바람직하다.Further, as a main component, a binder consisting of a trifunctional or polyfunctional (meth) acrylate monomer (refractive index after curing: 1.50 to 1.53) is composed of a crosslinked poly (meth) acrylate polymer having an acrylic content of 50 to 100% by weight. Preference is given to using in combination with semitransparent particles. Particular preference is given to a combination of semitransparent particles (refractive index: 1.48 to 1.54) consisting of a crosslinked poly (styrene-acrylic) copolymer and a binder.

본 발명에서, 반투명 입자와 바인더 (반투명 수지) 의 조합물의 굴절률은 바람직하게는 1.45 내지 1.70, 더욱 바람직하게는 1.48 내지 1.65 이다. 굴절률이 상기 범위 내에 포함되도록 하기 위해서, 바인더 및 반투명 입자의 종류 및 양을 적절히 선택할 수 있다. 상기 종류 및 양을 선택하는 방법은 사전에 용이하게 실험에 의해 알 수 있다.In the present invention, the refractive index of the combination of the translucent particles and the binder (translucent resin) is preferably 1.45 to 1.70, more preferably 1.48 to 1.65. In order to make refractive index fall in the said range, the kind and quantity of a binder and a semitransparent particle can be selected suitably. The method of selecting the said kind and quantity can be known easily by experiment beforehand.

더욱이, 본 발명에서, 바인더 및 반투명 입자 간의 굴절률의 차 [(반투명 입자의 굴절률) - (바인더의 굴절률)] 은 절대값으로 환산하여, 바람직하게는 0.001 내지 0.030, 더욱 바람직하게는 0.001 내지 0.020, 더욱 바람직하게는 0.001 내지 0.015 이다. 상기 차가 0.030 을 초과할 경우, 필름 문자의 번짐 (blurring), 다크 룸 콘트라스트 (dark room contrast) 의 저하, 표면의 흐림 (cloudness) 과 같은 문제가 발생한다. Furthermore, in the present invention, the difference in the refractive index between the binder and the semi-transparent particles [(the refractive index of the semi-transparent particles)-(the refractive index of the binder)] is converted to an absolute value, preferably 0.001 to 0.030, more preferably 0.001 to 0.020, More preferably, it is 0.001 to 0.015. When the difference exceeds 0.030, problems such as blurring of film characters, a decrease in dark room contrast, and cloudiness of the surface occur.

여기서, 바인더의 굴절률은 정량적으로 측정될 수 있고, 예를 들어, 아베의 굴절계 (Abbe's refractometer) 에 의한 직접 측정 또는 분광 반사 스펙트럼 (spectral reflection spectrum) 또는 분광 엘립소메트리 (spectral ellipsometry) 의 측정에 의해 평가될 수 있다. 상기 반투명 입자의 굴절률은, 상이한 굴절률을 갖는 2종의 용매의 혼합비를 변화시킴으로써 변화된 굴절률을 갖는 용매에 등량의 반투명 입자를 분산시켜 탁도 (turbidity) 를 측정하고, 아베의 굴절계에 의해 상기 탁도가 최소가 되는 용매의 굴절률을 측정함으로써 측정된다. Here, the refractive index of the binder can be measured quantitatively, for example, by direct measurement by Abbe's refractometer or by measurement of spectral reflection spectrum or spectral ellipsometry. Can be evaluated. The refractive index of the semi-transparent particles is measured by dispersing an equivalent amount of semi-transparent particles in a solvent having a changed refractive index by changing the mixing ratio of two solvents having different refractive indices, and measuring the turbidity by using Abbe's refractometer. It measures by measuring the refractive index of the solvent used.

상기 반투명 입자의 경우, 반투명 입자는 바인더 내에서도 침전하기 쉽기 때문에, 침전을 예방하기 위해 실리카와 같은 무기 충전재를 첨가할 수 있다. 부수적으로, 무기 충전재의 첨가량을 증가시키는 것이 반투명 입자의 침전을 예방하는 데는 효과적이지만, 필름의 투명도에는 악영향을 미친다. 따라서, 입자 크기가 0.5 ㎛ 이하인 무기 충전재가 바인더 내에, 필름의 투명도를 방해하지 않는 정도인 약 0.1 중량% 미만의 양으로 함유되는 것이 바람직하다. In the case of the semi-transparent particles, since the semi-transparent particles are easy to precipitate in the binder, an inorganic filler such as silica may be added to prevent precipitation. Incidentally, increasing the amount of inorganic filler added is effective in preventing precipitation of semi-transparent particles, but adversely affects the transparency of the film. Therefore, it is preferable that the inorganic filler having a particle size of 0.5 mu m or less is contained in the binder in an amount of less than about 0.1% by weight, which does not interfere with the transparency of the film.

반투명 입자는 평균 입자 크기가 바람직하게는 0.5 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 2.0 내지 6.0 ㎛ 이다. 반투명 입자의 평균 입자 크기가 0.5 ㎛ 미만인 경우, 빛의 산란각 분포가 넓은 각도로 퍼져 디스플레이 상의 문자의 번짐이 야기되므로, 이는 바람직하지 않다. 한편, 상기 평균 입자 크기가 10 ㎛ 를 초과할 경우, 반투명 입자가 첨가된 층의 두께가 두꺼워져, 컬 (curl) 및 비용의 증가와 같은 문제가 발생한다. The semi-transparent particles preferably have an average particle size of 0.5 to 10 μm, more preferably 2.0 to 6.0 μm. If the average particle size of the translucent particles is less than 0.5 mu m, this is not preferable because the scattering angle distribution of light spreads over a wide angle, causing smearing of characters on the display. On the other hand, when the average particle size exceeds 10 mu m, the thickness of the layer to which the semi-transparent particles are added becomes thick, causing problems such as an increase in curl and cost.

또한, 상이한 입자 크기를 갖는 2종 이상의 반투명 입자가 함께 사용될 수 있다. 각각, 보다 큰 입자 크기를 갖는 반투명 입자에 의해 눈부심 방지성을 부여할 수 있고, 보다 작은 입자 크기를 갖는 반투명 입자에 의해 표면의 거친 느낌을 감소시킬 수 있다. In addition, two or more kinds of translucent particles having different particle sizes may be used together. Respective antiglare can be imparted by the translucent particles having a larger particle size, respectively, and the rough feeling of the surface can be reduced by the translucent particles having a smaller particle size.

상기 반투명 입자는, 반투명 입자가 첨가된 층의 고형물 전체를 기준으로, 바람직하게는 3 내지 30 중량%, 더욱 바람직하게는 5 내지 20 중량% 의 양으로 함유되도록 배합된다. 반투명 입자의 배합량이 3 중량% 미만일 경우, 첨가 효과가 불충분한 반면, 상기 배합량이 30 중량% 를 초과할 경우, 이미지의 번짐, 표면의 흐림 및 눈부심과 같은 문제가 발생한다. The translucent particles are formulated to contain in an amount of preferably 3 to 30% by weight, more preferably 5 to 20% by weight, based on the total solids of the layer to which the translucent particles are added. When the blending amount of the translucent particles is less than 3% by weight, the addition effect is insufficient, whereas when the blending amount exceeds 30% by weight, problems such as blurring of the image, blurring of the surface, and glare occur.

또한, 반투명 입자는 바람직하게는 10 내지 1,000 mg/㎡, 더욱 바람직하게는 100 내지 700 mg/㎡ 의 밀도를 가진다. In addition, the semi-transparent particles preferably have a density of 10 to 1,000 mg / m 2, more preferably 100 to 700 mg / m 2.

<반투명 입자의 제조 및 분류 방법><Method of producing and classifying semi-transparent particles>

본 발명에 따른 반투명 입자의 제조 방법의 예로는, 현탁 중합법, 에멀젼 중합법, 무(無)비누 에멀젼 중합법 (soap-free emulsion polymerization method), 분산 중합법 및 씨드 중합법 (seed polymerization method) 이 포함된다. 반투명 입자는 상기 방법들 중 어느 하나에 의해 제조될 수 있다. 이러한 제조법은 예를 들어, 문헌 [Kobunshi Gosei no Jikkenho (Exerimental Methods of Polymer Synthesis) (Takayuki Otsu 및 Masayoshi Kinoshita 저, Kagaku-dojin Publishing Company, Inc. 발행), 130 및 146 내지 147 페이지], [Gosei Kobunshi (Synthetic Polymers), Vol. 1, 246 내지 290 페이지, ibid., Vol. 3, 1 내지 108 페이지], 일본 특허 제 2543503 호, 제 3508304 호, 제 2746275 호, 제 3521560 호 및 제 3580320 호, JP-A-10-1561, JP-A-7-2908, JP-A-5-297506 및 JP-A-2002-145919 호에 기재된 방법에 따라 수행될 수 있다. Examples of the preparation method of the semi-transparent particles according to the present invention include suspension polymerization method, emulsion polymerization method, soap-free emulsion polymerization method, dispersion polymerization method and seed polymerization method. This includes. Translucent particles can be produced by any of the above methods. Such preparations are described, for example, in Kobunshi Gosei no Jikkenho (Exerimental Methods of Polymer Synthesis) by Takayuki Otsu and Masayoshi Kinoshita, issued by Kagaku-dojin Publishing Company, Inc., 130 and pages 146 to 147, Gosei Kobunshi Synthetic Polymers, Vol. 1, pages 246-290 , ibid. , Vol. 3, pages 1 to 108], Japanese Patent Nos. 2543503, 3508304, 2746275, 3521560 and 3580320, JP-A-10-1561, JP-A-7-2908, JP-A- It may be carried out according to the method described in 5-297506 and JP-A-2002-145919.

반투명 입자의 입자 크기 분포에 대해, 헤이즈값 및 확산성 및 코팅 표면 특성의 균질성의 측면에서, 1분산된 입자가 바람직하다. 예를 들어, 평균 입자 크기보다 20% 이상 더 큰 입자 크기를 갖는 입자를 거친 입자로 정의할 경우, 이러한 거친 입자의 비율은 바람직하게는 1% 이하, 더욱 바람직하게는 0.1% 이하, 더욱 더 바람직하게는 0.01% 이하이다. 이러한 입자 크기 분포를 갖는 입자를 수득하기 위해서는, 제조 또는 합성 반응 후 분류를 수행하는 것이 효과적인 방법이다. 분류 횟수를 증가시키거나 이의 강도를 강화시킴으로써, 목적한 입자 크기 분포를 갖는 입자를 수득할 수 있다. For particle size distribution of translucent particles, monodisperse particles are preferred in terms of haze value and diffusivity and homogeneity of coating surface properties. For example, when defining particles having a particle size of at least 20% larger than the average particle size as coarse particles, the proportion of such coarse particles is preferably 1% or less, more preferably 0.1% or less, even more preferred. Preferably 0.01% or less. In order to obtain particles having such particle size distribution, it is an effective method to carry out sorting after the preparation or synthesis reaction. By increasing the number of fractions or enhancing their strength, particles with the desired particle size distribution can be obtained.

분류를 위해, 공기 분류법, 원심분리 분류법, 침전 분류법, 여과 분류법 및 정전기 분류법과 같은 방법을 사용하는 것이 바람직하다. For classification, it is preferable to use methods such as air fractionation, centrifugal fractionation, precipitation fractionation, filtration fractionation and electrostatic fractionation.

1-(9) 무기 입자: 1- (9) inorganic particles:

본 발명에서, 경도와 같은 물리적 특징 및 반사율 및 산란성과 같은 광학 특징을 개선하기 위해, 다양한 무기 입자를 사용할 수 있다. In the present invention, various inorganic particles may be used to improve physical characteristics such as hardness and optical characteristics such as reflectance and scattering properties.

상기 무기 입자의 예로는, 규소, 지르코늄, 알루미늄, 인듐, 아연, 주석 및 안티몬 중에서 선택된 하나 이상의 금속의 산화물이 포함된다. 성분 (E) 로 나나낸 무기 입자 또한 포함된다. 이의 구체적인 예로는, ZrO2, TiO2, Al2O3, In2O3, ZnO, SnO2, Sb2O3 및 ITO 가 포함된다. 그 밖에도, BaSO4, CaCO3, 탈크 및 카올린이 포함된다. Examples of the inorganic particles include oxides of one or more metals selected from silicon, zirconium, aluminum, indium, zinc, tin and antimony. Also included are inorganic particles released as component (E). Specific examples thereof include ZrO 2 , TiO 2 , Al 2 O 3 , In 2 O 3 , ZnO, SnO 2 , Sb 2 O 3, and ITO. In addition, BaSO 4 , CaCO 3 , talc and kaolin are included.

본 발명에서 사용되는 무기 입자의 입자 크기에 관해, 무기 입자가 분산 매질에 가능한 한 미세하게 분리되는 것이 바람직하다. 무기 입자의 입자 크기는 중량 평균 분자량으로 환산하여, 1 내지 200 nm, 바람직하게는 5 내지 150 nm, 더욱 바람직하게는 10 내지 100 nm, 특히 바람직하게는 10 내지 80 nm 이다. 무기 입자를 100 nm 이하로 미세하게 분리시킴으로써, 필름의 투명도가 방해되지 않도록 필름을 형성할 수 있다. 무기 입자의 입자 크기는 광 산란법에 의해 또는 전자 현미경 사진으로부터 측정될 수 있다. Regarding the particle size of the inorganic particles used in the present invention, it is preferable that the inorganic particles are separated as finely as possible in the dispersion medium. The particle size of the inorganic particles is 1 to 200 nm, preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 100 nm, particularly preferably 10 to 80 nm, in terms of weight average molecular weight. By finely separating the inorganic particles to 100 nm or less, the film can be formed so that the transparency of the film is not disturbed. The particle size of the inorganic particles can be measured by light scattering or from electron micrographs.

무기 입자는 바람직하게는 10 내지 400 ㎡/g, 더욱 바람직하게는 20 내지 200 ㎡/g, 가장 바람직하게는 30 내지 150 ㎡/g 의 비표면적을 가진다.The inorganic particles preferably have a specific surface area of 10 to 400 m 2 / g, more preferably 20 to 200 m 2 / g, most preferably 30 to 150 m 2 / g.

분산 매질 내의 분산액으로 사용되는 층용 코팅 용액에, 본 발명에서 사용되는 무기 입자를 첨가하는 것이 바람직하다. It is preferable to add the inorganic particles used in the present invention to the coating solution for layers used as the dispersion in the dispersion medium.

무기 입자의 분산 매질로서 60 내지 170℃ 의 비점을 갖는 액체를 사용하는 것이 바람직하다. 분산 매질의 예로는, 물, 알콜 (예를 들어, 메탄올, 에탄올, 이소프로판올, 부탄올 및 벤질 알콜), 케톤 (예를 들어, 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 및 시클로헥사논), 에스테르 (예를 들어, 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 프로필 아세테이트, 부틸 아세테이트, 메틸 포르메이트, 에틸 포르메이트, 프로필 포르메이트 및 부틸 포르메이트), 지방족 탄화수소 (예를 들어, 헥산 및 시클로헥산), 할로겐화 탄화수소 (예를 들어, 메틸렌 클로라이드, 클로로포름 및 사염화탄소), 방향족 탄화수소 (예를 들어, 벤젠, 톨루엔 및 자일렌), 아미드 (예를 들어, 디메틸포름아미드, 디메틸아세트아미드 및 n-메틸피롤리돈), 에테르 (예를 들어, 디에틸 에테르, 디옥산 및 테트라히드로푸란) 및 에테르 알콜 (예를 들어, 1-메톡시-2-프로판올) 이 포함된다. 이 중에서, 톨루엔, 자일렌, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논 및 부탄올이 특히 바람직하다.It is preferable to use a liquid having a boiling point of 60 to 170 ° C as a dispersion medium of the inorganic particles. Examples of dispersion media include water, alcohols (eg methanol, ethanol, isopropanol, butanol and benzyl alcohol), ketones (eg acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone and cyclohexanone), esters ( For example methyl acetate, ethyl acetate, propyl acetate, butyl acetate, methyl formate, ethyl formate, propyl formate and butyl formate), aliphatic hydrocarbons (eg, hexane and cyclohexane), halogenated hydrocarbons (eg Methylene chloride, chloroform and carbon tetrachloride), aromatic hydrocarbons (eg benzene, toluene and xylene), amides (eg dimethylformamide, dimethylacetamide and n-methylpyrrolidone), ethers ( Diethyl ether, dioxane and tetrahydrofuran) and ether alcohols (eg 1-methoxy-2-propanol). Among them, toluene, xylene, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone and butanol are particularly preferred.

가장 바람직한 분산 매질은 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤 또는 시클로헥사논이다. Most preferred dispersion medium is methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone or cyclohexanone.

무기 입자는 분산기를 이용하여 분산시킨다. 분산기의 예에는 샌드 그라인더 밀 (예를 들어, 핀-제공 비드 밀), 고속 임펠러 밀, 페블 밀, 롤러 밀, 분쇄기 (attritor) 및 콜로이드 밀이 포함된다. 이들 중, 샌드 그라인더 밀 및 고속 임펠러 밀이 특히 바람직하다. 더욱이, 예비 분산 처리가 수행될 수 있다. 예비 분산 처리에 사용되는 분산기의 예에는 볼 밀, 3 중 롤 밀, 혼련기 및 압출기가 포함된다.Inorganic particles are dispersed using a disperser. Examples of dispersers include sand grinder mills (eg, pin-providing bead mills), high speed impeller mills, pebble mills, roller mills, attritors and colloid mills. Among these, sand grinder mill and high speed impeller mill are particularly preferable. Moreover, preliminary dispersion processing can be performed. Examples of the disperser used for the predispersion treatment include a ball mill, a triple roll mill, a kneader and an extruder.

<고굴절률 입자><High refractive index particle>

본 발명을 이루는 층의 고굴절률을 실현하기 위한 목적으로, 고굴절률을 가진 무기 입자가 단량체, 개시제 및 유기 치환 규소 화합물 내에 분산된 조성물의 경화 재료.Hardening material of the composition in which the inorganic particle which has high refractive index is disperse | distributed in a monomer, an initiator, and an organic substituted silicon compound for the purpose of realizing the high refractive index of the layer which comprises this invention.

상기의 경우, 굴절률의 관점에서 ZrO2 및 TiO2 이 무기 입자로서 특히 바람직하게 사용된다. ZrO2 는 하드 코트층의 고굴절률을 실현하기 위한 목적에 가장 바람직하며; TiO2 의 미세 입자는 고굴절률층 또는 중굴절률층에 대한 입자로서 가장 바람직하다.In this case, ZrO 2 and TiO 2 are particularly preferably used as the inorganic particles in view of the refractive index. ZrO 2 is most preferable for the purpose of realizing the high refractive index of the hard coat layer; The fine particles of TiO 2 are most preferred as particles for the high refractive index layer or the medium refractive index layer.

주요 성분으로서 TiO2 를 함유하며, 코발트, 알루미늄 및 지르코늄으로부터 선택되는 하나 이상의 원소를 함유하는 무기 입자가 상기한 TiO2 의 입자로서 특히 바람직하다. 본원에서 언급되는 "주 성분" 은 입자를 이루는 성분들 중 최고 함량 (중량%) 을 가진 성분을 의미한다. Particularly preferred as the particles of TiO 2 described above are inorganic particles containing TiO 2 as a main component and containing at least one element selected from cobalt, aluminum and zirconium. As used herein, "major component" means a component having the highest content (% by weight) of the components constituting the particle.

본 발명에서, 주 성분으로서 TiO2 로 이루어진 입자는 바람직하게는 굴절률이 1.90 내지 2.80, 더욱 바람직하게는 2.10 내지 2.80, 가장 바람직하게는 2.20 내지 2.80 이다.In the present invention, the particles composed of TiO 2 as the main component preferably have a refractive index of 1.90 to 2.80, more preferably 2.10 to 2.80, most preferably 2.20 to 2.80.

주 성분으로서 TiO2 로 이루어진 입자의 1 차적인 입자는 바람직하게는 중량 평균 분자량이 1 내지 200 nm, 더욱 바람직하게는 1 내지 150 nm, 더욱 더 바람직하게는 1 내지 100 nm, 특히 바람직하게는 1 내지 80 nm 이다. The primary particles of the particles composed of TiO 2 as the main component preferably have a weight average molecular weight of 1 to 200 nm, more preferably 1 to 150 nm, even more preferably 1 to 100 nm, particularly preferably 1 To 80 nm.

주 성분으로서 TiO2 로 이루어진 입자의 결정 구조에 있어서, 주 성분이 루틸 구조, 루틸/예추석 혼합 구조, 예추석 구조 또는 무정형 구조인 것이 바람직하다. 이들 중에서도, 주 성분이 루틸 구조인 것이 특히 바람직하다. 본원에서 언급되는 "주 성분" 은 입자를 구성하는 성분들 중 최고 함량 (중량%) 을 가진 성분을 의미한다. In the crystal structure of the particles composed of TiO 2 as the main component, it is preferable that the main component is a rutile structure, a rutile / analyzed mixed structure, an anatase structure, or an amorphous structure. Among these, it is especially preferable that the main component has a rutile structure. As used herein, "major component" means a component having the highest content (% by weight) of the components constituting the particle.

주 성분으로서 TiO2 를 포함하는 입자 내에 Co (코발트), Al (알루미늄) 및 Zr (지르코늄) 으로부터 선택되는 하나 이상의 원소를 포함시킴으로써, TiO2 가 가진 광촉매 활성을 억제하고 본 발명의 필름의 내후성을 개선하는 것이 가능하다.By including at least one element selected from Co (cobalt), Al (aluminum) and Zr (zirconium) in the particles containing TiO 2 as a main component, the photocatalytic activity of TiO 2 is suppressed and the weather resistance of the film of the present invention It is possible to improve.

Co (코발트) 는 특히 바람직한 원소이다. 더욱이, 2 종 이상의 원소를 사용하는 것이 바람직하다. Co (cobalt) is a particularly preferred element. Moreover, it is preferable to use 2 or more types of elements.

본 발명에서, 주 성분으로서 TiO2 로 이루어진 무기 입자는 JP-A-2001-166104 에 기재된 바와 같은 표면 처리를 통해 코어/쉘 구조를 가질 수 있다.In the present invention, the inorganic particles composed of TiO 2 as a main component may have a core / shell structure through surface treatment as described in JP-A-2001-166104.

층 중 단량체 또는 무기 입자의 첨가량은 바람직하게는 바인더 전체 중량의, 10 내지 90 중량%, 더욱 바람직하게는 20 내지 80 중량% 이다. 층 내에 2 종 이상의 무기 입자를 사용할 수 있다. The amount of the monomer or inorganic particles added in the layer is preferably 10 to 90% by weight, more preferably 20 to 80% by weight of the total weight of the binder. Two or more kinds of inorganic particles can be used in the layer.

<저굴절률 입자> [본 발명의 저굴절률층의 구성 성분 (E)]<Low refractive index particle> [A structural component (E) of the low refractive index layer of this invention]

저굴절률층에 포함되는 무기 입자는 저굴절률을 갖는 것이 바람직하다. 이들의 예에는 마그네슘 플루오라이드 및 실리카의 미세 입자가 포함된다. 굴절률, 분산 안정성 및 비용의 관점에서 실리카 미세 입자가 특히 바람직하다. It is preferable that the inorganic particle contained in a low refractive index layer has a low refractive index. Examples of these include fine particles of magnesium fluoride and silica. Silica fine particles are particularly preferable in view of refractive index, dispersion stability and cost.

실리카 미세 입자의 평균 입자 크기는 바람직하게는 저굴절률층 두께의 30% 이상 150% 이하, 더욱 바람직하게는 35% 이상 80% 이하, 더욱 더 바람직하게는 40% 이상 60% 이하이다. 즉, 저굴절률층의 두께가 100 nm 이면, 실리카 미세 입자의 입자 크기는 바람직하게는 30 nm 이상 150 nm 이하, 더욱 바람직하게는 35 nm 이상 80 nm 이하, 더욱 더 바람직하게는 40 nm 이상 60 nm 이하이다. The average particle size of the silica fine particles is preferably 30% or more and 150% or less, more preferably 35% or more and 80% or less, even more preferably 40% or more and 60% or less of the low refractive index layer thickness. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the silica fine particles is preferably 30 nm or more and 150 nm or less, more preferably 35 nm or more and 80 nm or less, even more preferably 40 nm or more and 60 nm. It is as follows.

실리카 미세 입자의 입자 크기가 너무 작은 경우, 내반흔성 개선 효과가 낮아지며, 너무 큰 경우에는 저굴절률층 표면 상에 미세 비균일이 형성되어 딥 블랙 및 전체적인 반사와 같은 외양이 악화된다. 실리카 미세 입자는 결정성이거나 또는 무정형일 수 있으며; 이는 단일분산된 입자일 수 있고; 처방된 입자 크기가 맞는 한, 응고된 입자일 수 있다. 실리카 미세 입자의 형상이 가장 바람직하게는 구형이지만, 심지어 무정형일 때조차 문제는 없다.If the particle size of the silica fine particles is too small, the effect of improving the scratch resistance is low, and if too large, fine nonuniformity is formed on the surface of the low refractive index layer, thereby deteriorating appearance such as deep black and overall reflection. Silica fine particles can be crystalline or amorphous; It may be monodisperse particles; As long as the prescribed particle size is correct, it may be coagulated particles. Although the shape of the silica fine particles is most preferably spherical, there is no problem even when it is amorphous.

더욱이, 상기한 입자 크기를 가진 실리카 미세 입자 ("대형 입자-크기 실리카 미세 입자" 로 지칭) 와 더불어 저굴절률층 두께의 25% 이하의 평균 입자 크기를 가진 하나 이상의 실리카 미세 입자 ("소형 입자-크기 실리카 미세 입자" 로 지칭) 를 사용하는 것이 바람직하다.Moreover, one or more silica fine particles ("small particles-") having an average particle size of 25% or less of the low refractive index layer thickness together with the silica fine particles having the above-described particle size (referred to as "large particle-size silica fine particles"). Size silica fine particles).

소형 입자-크기 실리카 미세 입자가 대형 입자-크기 실리카 미세 입자들 사이의 틈에 존재할 수 있으므로, 이는 대형 입자-크기 실리카 미세 입자의 홀딩제로서 기여할 수 있다.Since small particle-size silica fine particles may be present in the gaps between the large particle-size silica fine particles, this may serve as a holding agent for the large particle-size silica fine particles.

저굴절률층의 두께가 100 nm 인 경우, 소형 입자-크기 실리카 미세 입자의 평균 입자 크기는 바람직하게는 1 nm 이상 20 nm 이하이며, 더욱 바람직하게는 5 nm 이상 15 nm 이하이며, 특히 바람직하게는 10 nm 이상 15 nm 이하이다. 이러한 실리카 미세 입자의 사용은 원료 비용 및 홀딩제의 효과 면에서 바람직하다. When the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the average particle size of the small particle-sized silica fine particles is preferably 1 nm or more and 20 nm or less, more preferably 5 nm or more and 15 nm or less, particularly preferably 10 nm or more and 15 nm or less. The use of such silica fine particles is preferable in view of the raw material cost and the effect of the holding agent.

저굴절률 입자의 코팅량은 바람직하게는 1 mg/m2 내지 100 mg/m2 , 더욱 바람직하게는 5 mg/m2 내지 80 mg/m2 , 더욱 더 바람직하게는 10 mg/m2 내지 60 mg/m2 이다. 저굴절률 입자의 코팅량이 너무 적은 경우, 내반흔성 개선 효과가 작아지며, 너무 많은 경우에는 미세 불균일이 저굴절률층 표면 상에 형성되어 딥 블랙 및 전체적인 반사와 같은 외양이 악화된다.The coating amount of the low refractive index particles is preferably 1 mg / m 2 to 100 mg / m 2 , more preferably 5 mg / m 2 to 80 mg / m 2 , even more preferably 10 mg / m 2 to 60 mg / m 2 . When the coating amount of the low refractive index particles is too small, the effect of improving the scar resistance becomes small, and when too large, fine nonuniformity is formed on the surface of the low refractive index layer, thereby deteriorating appearance such as deep black and overall reflection.

<중공 실리카 입자><Hollow Silica Particles>

굴절률을 더욱 작게 하려는 목적으로, 중공 실리카 미세 입자를 사용하는 것이 바람직하다. For the purpose of making the refractive index smaller, it is preferable to use hollow silica fine particles.

중공 실리카 미세 입자는 바람직하게는 굴절률이 1.15 내지 1.40, 더욱 바람직하게는 1.17 내지 1.35, 가장 바람직하게는 1.17 내지 1.30 이다. 본원에서 언급되는 굴절률은 입자 전체로서의 굴절률을 나타내는 것이며, 중공 실리카 미세 입자를 형성하는 최외각으로서의 실리카만의 굴절률을 나타내지 않는다. 이 때, 입자 내 빈 공간의 반경을 "a" 로 정의하고, 입자의 최외각의 반경을 "b" 로 정의하면, 하기 수식 VIII 으로 표현되는 다공도 x:The hollow silica fine particles preferably have a refractive index of 1.15 to 1.40, more preferably 1.17 to 1.35 and most preferably 1.17 to 1.30. The refractive index referred to herein refers to the refractive index as a whole particle and does not represent the refractive index of silica alone as the outermost part to form hollow silica fine particles. At this time, if the radius of the empty space in the particle is defined as "a", and the radius of the outermost part of the particle is defined as "b", the porosity x represented by the following formula VIII:

수식 VIIIFormula VIII

x = (4πa3/3)/(4πb3/3) ×100x = (4πa3 / 3) / (4πb3 / 3) × 100

는, 바람직하게는 10 내지 60%, 더욱 바람직하게는 20 내지 60%, 가장 바람직하게는 30 내지 60% 이다. 중공 실리카 미세 입자가 더욱 작은 굴절률 및 더 큰 다공성을 갖도록 하고자 하면, 오직 최외각의 두께만 얇아져 입자로서의 강도가 약해진다. 따라서, 1.15 미만의 저굴절률을 가진 입자는 내반흔성의 관점에서 바람직하지 않다. Is preferably 10 to 60%, more preferably 20 to 60%, most preferably 30 to 60%. In order to make the hollow silica fine particles have smaller refractive index and greater porosity, only the outermost thickness is thinned, so that the strength as the particles is weakened. Therefore, particles having a low refractive index of less than 1.15 are not preferable in terms of scar resistance.

중공 실리카의 제조 방법은 예를 들어 JP-A-2001-233611 및 JP-A-2002-79616 에 기재되어 있다. 상기 외각의 공극들이 위치한, 외각 내부의 빈 공간을 가진 입자가 특히 바람직하다. 흔히, 이러한 중공 실리카 입자의 굴절률은 JP-A-2002-79616 에 기재된 방법으로 계산될 수 있다. Processes for the preparation of hollow silica are described, for example, in JP-A-2001-233611 and JP-A-2002-79616. Particular preference is given to particles having an empty space inside the outer shell, in which the pores of the outer shell are located. Often, the refractive index of such hollow silica particles can be calculated by the method described in JP-A-2002-79616.

중공 실리카의 코팅량은 바람직하게는 1 mg/m2 내지 100 mg/m2, 더욱 바람직하게는 5 mg/m2 내지 80 mg/m2, 더욱 더 바람직하게는 10 mg/m2 내지 60 mg/m2 이다. 중공 실리카의 코팅량이 너무 적은 경우, 저굴절률을 실현하는 효과 및 내반흔성을 개선하는 효과가 낮아지고, 너무 높은 경우, 저굴절률층의 표면 상에 미세 불균일이 형성되며, 딥 블랙 및 전체적인 반사와 같은 외양이 악화된다. The coating amount of the hollow silica is preferably 1 mg / m 2 to 100 mg / m 2 , more preferably 5 mg / m 2 to 80 mg / m 2 , even more preferably 10 mg / m 2 to 60 mg. / m 2 . If the coating amount of the hollow silica is too small, the effect of realizing low refractive index and the improvement of scar resistance are low, and if too high, fine nonuniformity is formed on the surface of the low refractive index layer, and the deep black and the overall reflection The same appearance deteriorates.

중공 실리카의 평균 입자 크기는 바람직하게는 저굴절률층 두께의 30% 이상 150% 이하, 더욱 바람직하게는 35% 이상 80% 이하, 더욱 더 바람직하게는 40% 이상 60% 이하이다. 즉, 저굴절률층의 두께가 100 nm 인 경우, 중공 실리카의 입자 크기는 바람직하게는 30 nm 이상 150 nm 이하, 더욱 바람직하게는 35 nm 이상 80 nm 이하, 더욱 더 바람직하게는 40 nm 이상 65 nm 이하이다. The average particle size of the hollow silica is preferably 30% or more and 150% or less, more preferably 35% or more and 80% or less, even more preferably 40% or more and 60% or less of the low refractive index layer thickness. That is, when the thickness of the low refractive index layer is 100 nm, the particle size of the hollow silica is preferably 30 nm or more and 150 nm or less, more preferably 35 nm or more and 80 nm or less, even more preferably 40 nm or more and 65 nm. It is as follows.

실리카 미세 입자의 입자 크기가 너무 작은 경우, 빈 공간의 비율이 감소하여 굴절률 감소 효과를 기대할 수 없으며, 너무 큰 경우에는 저굴절률층 상에 미세 비균일이 형성되어 딥 블랙 및 전체적인 반사와 같은 외양이 악화된다. 실리카 미세 입자는 결정성이거나 또는 무정형일 수 있고, 단일분산 입자일 수 있다. 실리카 미세 입자의 형태는 가장 바람직하게는 구형이지만, 무정형일 때조차 문제는 없다. If the particle size of the silica fine particles is too small, the proportion of the void space is reduced, the refractive index reduction effect can not be expected, if too large, fine non-uniformity is formed on the low refractive index layer, the appearance such as deep black and overall reflection Worsens. The silica fine particles may be crystalline or amorphous and may be monodisperse particles. The shape of the silica fine particles is most preferably spherical, but there is no problem even when it is amorphous.

더욱이, 중공 실리카에 대하여, 상이한 평균 입자 크기를 가진 2 종 이상의 중공 실리카가 함께 사용될 수 있다. 본원에서, 중공 실리카의 평균 입자 크기는 전자 현미경 사진으로 결정될 수 있다. Moreover, for hollow silica, two or more hollow silicas with different average particle sizes can be used together. Herein, the average particle size of the hollow silica can be determined by electron micrographs.

본 발명에서, 중공 실리카는 바람직하게는 비표면적이 20 내지 300 m2/g, 더욱 바람직하게는 30 내지 120 m2/g, 가장 바람직하게는 40 내지 90 m2/g 이다. 표면적은 질소를 사용한 BET 법으로 측정될 수 있다. In the present invention, the hollow silica preferably has a specific surface area of 20 to 300 m 2 / g, more preferably 30 to 120 m 2 / g, most preferably 40 to 90 m 2 / g. Surface area can be measured by the BET method using nitrogen.

본 발명에서, 중공 실리카와 함께 빈 공간이 없는 실리카 입자를 사용하는 것이 가능하다. 빈 공간이 없는 실리카는 바람직하게는 입자 크기가 30 nm 이상 150 nm 이하, 더욱 바람직하게는 35 nm 이상 100 nm 이하, 가장 바람직하게는 40 nm 이상 80 nm 이하이다. In the present invention, it is possible to use silica particles without hollow space together with hollow silica. Silicas without void spaces preferably have a particle size of 30 nm or more and 150 nm or less, more preferably 35 nm or more and 100 nm or less, most preferably 40 nm or more and 80 nm or less.

1-(10) 전도성 입자: 1- (10) conductive particles:

본 발명의 필름에 전도성을 부여하기 위해 각종 전도성 입자가 사용될 수 있다. Various conductive particles can be used to impart conductivity to the film of the invention.

전도성 입자가 금속 산화물 또는 질화물로 형성되는 것이 바람직하다. 금속 산화물 또는 질화물의 예에는 주석 산화물, 인듐 산화물, 아연 산화물 및 티탄 질화물이 포함된다. 이들 중, 주석 산화물 및 인듐 산화물이 특히 바람직하다. 전도성 무기 입자는, 주 성분으로서, 상기 금속 산화물 또는 질화물을 포함하며, 추가로 기타 원소를 포함할 수 있다. 본원에서 언급하는 "주 성분" 은 입자를 구성하는 성분들 중 최대 함량 (중량%) 을 가진 성분을 의미한다. 기타 원소의 예에는, Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, S, B, Nb, In, V 및 할로겐 원자가 포함된다. 주석 산화물 및 인듐 산화물의 전도성 증강을 목적으로, Sb, P, B, Nb, In, V 또는 할로겐 원자를 사용하는 것이 바람직하다. Sb 를 포함하는 주석 산화물 (ATO) 및 Sn 을 포함하는 인듐 산화물 (ITO) 이 특히 바람직하다. ATO 중 Sb 의 비율은 바람직하게는 3 내지 20 중량% 이며; ITO 중 Sn 의 비율은 바람직하게는 5 내지 20 중량% 이다. It is preferable that the conductive particles are formed of metal oxides or nitrides. Examples of metal oxides or nitrides include tin oxide, indium oxide, zinc oxide and titanium nitride. Of these, tin oxide and indium oxide are particularly preferred. The conductive inorganic particles include, as main components, the metal oxides or nitrides, and may further contain other elements. As used herein, "main component" means a component having the maximum content (% by weight) of the components constituting the particle. Examples of other elements include Ti, Zr, Sn, Sb, Cu, Fe, Mn, Pb, Cd, As, Cr, Hg, Zn, Al, Mg, Si, P, S, B, Nb, In, V and Halogen atoms are included. For the purpose of enhancing conductivity of tin oxide and indium oxide, it is preferable to use Sb, P, B, Nb, In, V or halogen atoms. Particular preference is given to tin oxides (ATO) comprising Sb and indium oxides (ITO) comprising Sn. The proportion of Sb in ATO is preferably from 3 to 20% by weight; The proportion of Sn in ITO is preferably 5 to 20% by weight.

대전방지층에 이용되는 전도성 무기 입자의 1 차 입자는 바람직하게는 평균 입자 크기가 1 내지 150 nm, 더욱 바람직하게는 5 내지 100 nm, 가장 바람직하게는 5 내지 70 nm 이다. 형성될 대전방지층 중의 전도성 무기 입자는 평균 입자 크기가 1 내지 200 nm, 바람직하게는 5 내지 150 nm, 더욱 바람직하게는 10 내지 100 nm, 가장 바람직하게는 10 내지 80 nm 이다. 전도성 무기 입자의 평균 입자 크기는 입자의 중량을 예측하는 평균 입자 크기이며, 광산란기법 또는 전자 현미경 사진으로 측정될 수 있다. The primary particles of the conductive inorganic particles used in the antistatic layer preferably have an average particle size of 1 to 150 nm, more preferably 5 to 100 nm and most preferably 5 to 70 nm. The conductive inorganic particles in the antistatic layer to be formed have an average particle size of 1 to 200 nm, preferably 5 to 150 nm, more preferably 10 to 100 nm and most preferably 10 to 80 nm. The average particle size of the conductive inorganic particles is the average particle size that predicts the weight of the particles, and can be measured by light scattering techniques or electron micrographs.

전도성 무기 입자는 바람직하게는 비표면적이 10 내지 400 m2/g, 더욱 바람직하게는 20 내지 200 m2/g, 가장 바람직하게는 30 내지 150 m2/g 이다. The conductive inorganic particles preferably have a specific surface area of 10 to 400 m 2 / g, more preferably 20 to 200 m 2 / g, most preferably 30 to 150 m 2 / g.

전도성 무기 입자는 표면 처리에 적용될 수 있다. 표면 처리는 무기 화합물 또는 유기 화합물을 사용하여 수행된다. 표면 처리에 사용되는 무기 화합물의 예에는 알루미나 및 실리카가 포함된다. 실리카 처리가 특히 바람직하다. 표면 처리에 사용되는 유기 화합물의 예에는 폴리올, 알카놀아민, 스테아르산, 실란 커플링제 및 티타네이트 커플링제가 포함된다. 이들 중, 실란 커플링제가 가장 바람직하다. 표면 처리는 2 종 이상의 표면 처리를 조합하여 수행될 수 있다. Conductive inorganic particles can be applied to the surface treatment. Surface treatment is carried out using inorganic compounds or organic compounds. Examples of the inorganic compound used for the surface treatment include alumina and silica. Silica treatment is particularly preferred. Examples of organic compounds used for surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents and titanate coupling agents. Of these, the silane coupling agent is most preferred. Surface treatment can be performed by combining two or more surface treatments.

전도성 무기 입자의 형상이 쌀 낱알형, 구형, 정방형, 방추사형 또는 무정형인 것이 바람직하다. The shape of the conductive inorganic particles is preferably rice grain, spherical, square, spindle shaped or amorphous.

2 종 이상의 전도성 입자를 특정 층 내에 또는 필름으로서 함께 사용할 수 있다. Two or more kinds of conductive particles may be used together in a specific layer or as a film.

대전방지층 중의 전도성 무기 입자의 비율은 바람직하게는 20 내지 90 중량%, 더욱 바람직하게는 25 내지 85 중량%, 더욱 더 바람직하게는 30 내지 80 중량% 이다. The proportion of the conductive inorganic particles in the antistatic layer is preferably 20 to 90% by weight, more preferably 25 to 85% by weight, even more preferably 30 to 80% by weight.

전도성 무기 입자는 대전방지층 제조를 위한 분산물 상태로 사용될 수 있다. The conductive inorganic particles can be used in the dispersion state for preparing the antistatic layer.

1-(11) 표면 처리제:1- (11) Surface Treatment Agents:

분산물 또는 코팅 용액 중에 바인더 성분과의 바인딩 특성 또는 상용성의 증강 또는 분산물 안정화를 달성하기 위한 고안을 목적으로, 본 발명에 사용되는 무기 입자는 플라즈마 방전 처리 및 코로나 방전 처리와 같은 물리적인 표면 처리 또는 계면활성제, 커플링제 등을 이용한 화학적 표면 처리에 적용할 수 있다. For the purpose of inventing to enhance binding properties or compatibility of binder components or dispersions in dispersions or coating solutions or to stabilize dispersions, the inorganic particles used in the present invention are subjected to physical surface treatments such as plasma discharge treatment and corona discharge treatment. Or the chemical surface treatment using a surfactant, a coupling agent, or the like.

표면 처리는 무기 화합물 또는 유기 화합물로 제조된 표면 처리제를 이용하여 수행될 수 있다. 표면 처리에 사용되는 무기 화합물의 예에는, 코발트 함유 무기 화합물 (예를 들어, CoO2, Co2O3 및 Co3O4), 알루미늄 함유 무기 화합물 (예를 들어, Al2O3 및 Al(OH)3), 지르코늄 함유 무기 화합물 (예를 들어, ZrO2 및 Zr(OH)4), 규소 함유 무기 화합물 (예를 들어, SiO2) 및 철 함유 무기 화합물 (예를 들어, Fe2O3) 이 포함된다. Surface treatment can be performed using a surface treating agent made of an inorganic compound or an organic compound. Examples of the inorganic compound used for the surface treatment include cobalt-containing inorganic compounds (for example, CoO 2 , Co 2 O 3 and Co 3 O 4 ), aluminum-containing inorganic compounds (for example, Al 2 O 3 and Al ( OH) 3 ), zirconium-containing inorganic compounds (eg ZrO 2 and Zr (OH) 4 ), silicon-containing inorganic compounds (eg SiO 2 ) and iron-containing inorganic compounds (eg Fe 2 O 3 ) Is included.

이들 중, 코발트 함유 무기 화합물, 알루미늄 함유 무기 화합물 및 지르코늄 함유 무기 화합물이 특히 바람직하며; 코발트 함유 무기 화합물, Al(OH)3 및 Zr(OH)4 이 가장 바람직하다. Of these, cobalt-containing inorganic compounds, aluminum-containing inorganic compounds and zirconium-containing inorganic compounds are particularly preferable; Most preferred are cobalt containing inorganic compounds, Al (OH) 3 and Zr (OH) 4 .

표면 처리에 사용되는 유기 화합물의 예에는 폴리올, 알카놀아민, 스테아르산, 실란 커플링제 및 티타네이트 커플링제가 포함된다. 이들 중, 실란 커플링제가 가장 바람직하다. 표면 처리를 하나 이상의 실란 커플링제 (예를 들어, 유기실란 화합물) 및 그의 부분 수화물 또는 축합물을 이용하여 수행하는 것이 특히 바람직하다. Examples of organic compounds used for surface treatment include polyols, alkanolamines, stearic acid, silane coupling agents and titanate coupling agents. Of these, the silane coupling agent is most preferred. Particular preference is given to performing the surface treatment with one or more silane coupling agents (eg organosilane compounds) and partial hydrates or condensates thereof.

티타네이트 커플링제의 예에는, 금속 알콕시드, 예컨대 테트라메톡시티타늄, 테트라에톡시티타늄 및 테트라이소프로폭시티타늄; 및 PLENACT 시리즈 (예를 들어, KR-TTS, KR-46B, KR-55 및 KR-41B, 이들 모두 Ajinomoto Co., Inc. 에서 제조) 가 포함된다. Examples of titanate coupling agents include metal alkoxides such as tetramethoxytitanium, tetraethoxytitanium and tetraisopropoxytitanium; And PLENACT series (eg, KR-TTS, KR-46B, KR-55 and KR-41B, all of which are manufactured by Ajinomoto Co., Inc.).

표면 처리에 사용되는 유기 화합물로서, 폴리올 및 알카놀아민 및 그밖에, 음이온성 기 포함 유기 화합물이 바람직하며; 카르복실기, 술폰산기 또는 인산기를 포함하는 유기 화합물이 특히 바람직하다. 스테아르산, 라우르산, 올레산, 리놀레산, 리놀렌산 등이 바람직하게 사용될 수 있다. As the organic compound used for the surface treatment, polyols and alkanolamines and other organic compounds containing anionic groups are preferable; Especially preferred are organic compounds comprising a carboxyl group, sulfonic acid group or phosphoric acid group. Stearic acid, lauric acid, oleic acid, linoleic acid, linolenic acid and the like can be preferably used.

표면 처리에 사용되는 유기 화합물이 가교 또는 중합성 관능기를 추가로 포함하는 것이 바람직하다. 가교 또는 중합성 관능기의 예에는, 라디칼 종에 의한 첨가 반응 또는 중합 반응을 견딜 수 있는 에틸렌계 불포화기 (예를 들어, (메트)아크릴기, 알릴기, 스테아릴기 및 비닐옥시기), 양이온성 중합가능 기 (예를 들어, 에폭시기, 옥사타닐기 및 비닐옥시기) 및 중축합 반응성 기 (예를 들어, 가수분해가능 실릴기 및 N-메틸올기) 가 포함된다. 이들 중, 에틸렌계 불포화기-함유 기가 바람직하다. It is preferable that the organic compound used for surface treatment further contains a crosslinking or a polymerizable functional group. Examples of crosslinking or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (eg, (meth) acrylic groups, allyl groups, stearyl groups, and vinyloxy groups), cations that can withstand addition reactions or polymerization reactions by radical species. Sexically polymerizable groups (eg, epoxy groups, oxantanyl groups and vinyloxy groups) and polycondensation reactive groups (eg, hydrolyzable silyl groups and N-methylol groups). Of these, ethylenically unsaturated group-containing groups are preferred.

2 종 이상의 상기 표면 처리가 채용될 수 있다. 알루미늄 함유 무기 화합물 및 지르코늄 함유 무기 화합물의 조합이 특히 바람직하다. Two or more kinds of the above surface treatments may be employed. Particular preference is given to combinations of aluminum containing inorganic compounds and zirconium containing inorganic compounds.

무기 입자가 실리카인 경우, 커플링제를 사용하는 것이 특히 바람직하다. 알콕시 금속 화합물 (예를 들어, 티탄 커플링제 및 실란 커플링제) 가 커플링제로서 바람직하게 사용된다. 무엇보다도, 실란 커플링 처리가 특히 유효하다. When the inorganic particles are silica, it is particularly preferable to use a coupling agent. Alkoxy metal compounds (for example, titanium coupling agents and silane coupling agents) are preferably used as coupling agents. Above all, the silane coupling process is particularly effective.

상기 커플링제는 저굴절률층의 무기 필러의 표면 처리제로서 코팅 용액의 제조 전 사전 표면 처리 적용에 사용된다. 상기 층용 코팅 용액 제조시 첨가제로서 추가로 첨가함으로써 대상 층에 커플링제를 포함시키는 것이 바람직하다. The coupling agent is a surface treatment agent for the inorganic filler of the low refractive index layer, and is used for pre-surface treatment application before the preparation of the coating solution. It is preferable to include a coupling agent in the target layer by further adding as an additive in preparing the coating solution for the layer.

표면 처리의 하중 감소를 목적으로, 실리카 미세 입자를 표면 처리 전 매질에 미리 분산시키는 것이 바람직하다. For the purpose of reducing the load of the surface treatment, it is preferable to disperse the silica fine particles in the medium before the surface treatment.

본 발명에 바람직하게 사용될 수 있는 표면 처리제 및 표면 처리용 촉매의 구체적인 예에는 예를 들어 WO 2004/017105 에 기재되어 있는 유기실란 화합물 및 촉매가 포함된다. Specific examples of surface treating agents and catalysts for surface treatment which can be preferably used in the present invention include organosilane compounds and catalysts described, for example, in WO 2004/017105.

1-(12) 분산제:1- (12) Dispersant:

본 발명에 사용되는 입자 분산에 각종 분산제가 사용될 수 있다. Various dispersants may be used to disperse the particles used in the present invention.

분산제가 추가로 가교 또는 중합성 관능기를 포함하는 것이 바람직하다. 가교 또는 중합성 관능기의 예에는 라디칼 종에 의한 첨가 반응 또는 중합 반응을 견딜 수 있는 에틸렌계 불포화기 (예를 들어, (메트)아크릴기, 알릴기, 스테아릴기 및 비닐옥시기), 양이온성 중합가능 기 (예를 들어, 에폭시기, 옥사타닐기 및 비닐옥시기) 및 중축합 반응성 기 (예를 들어, 가수분해가능 실릴기 또는 N-메틸올기) 가 포함된다. 이들 중, 에틸렌계 불포화기 함유 기가 바람직하다. It is preferred that the dispersant further comprise a crosslinking or polymerizable functional group. Examples of crosslinking or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (e.g., (meth) acrylic groups, allyl groups, stearyl groups and vinyloxy groups) capable of withstanding addition reactions or polymerization reactions by radical species, cationic Polymerizable groups (eg, epoxy groups, oxatanyl groups and vinyloxy groups) and polycondensation reactive groups (eg, hydrolyzable silyl groups or N-methylol groups). Among these, an ethylenically unsaturated group containing group is preferable.

무기 입자의 분산을 위해서, 특히 주 성분으로서 TiO2 로 이루어진 무기 입자의 분산을 위해서는, 음이온성 기를 함유하는 분산제를 사용하는 것이 바람직하다. 분산제가 음이온성 기 및 가교 또는 중합성 관능기를 포함하는 것이 더욱 바람직하다. 대상 가교 또는 중합성 관능기가 분산제의 측쇄에 포함되는 것이 특히 바람직하다. For the dispersion of the inorganic particles, in particular for the dispersion of the inorganic particles composed of TiO 2 as a main component, it is preferable to use a dispersant containing an anionic group. More preferably, the dispersant comprises anionic groups and crosslinked or polymerizable functional groups. It is particularly preferable that the target crosslinking or polymerizable functional group is included in the side chain of the dispersant.

음이온성 기로서는, 산성 양성자 포함 기, 예컨대 카르복실기, 술폰산기 (술포), 인산기 (포스포노) 및 술폰아미드기 또는 이들의 염이 유효하다. 무엇보다도, 카르복실기, 술폰산기, 인산기 및 이들의 염이 바람직하며; 카르복실기 및 인산기가 특히 바람직하다. 분자 당 분산제에 포함되는 음이온성 기의 갯수에 대해서는, 여러 종이 1 분자 내에 포함될 수 있다. 음이온성 기의 갯수는 평균적으로 바람직하게는 2 개 이상, 더욱 바람직하게는 5 개 이상, 특히 바람직하게는 10 개 이상이다. 더욱이, 분산제에 포함될 여러 종의 음이온성 기가 한 분자내에 포함될 수 있다. As anionic groups, acidic proton-containing groups such as carboxyl groups, sulfonic acid groups (sulfo), phosphoric acid groups (phosphono) and sulfonamide groups or salts thereof are effective. Above all, carboxyl groups, sulfonic acid groups, phosphoric acid groups and salts thereof are preferred; Carboxyl groups and phosphoric acid groups are particularly preferred. Regarding the number of anionic groups included in the dispersant per molecule, several species may be included in one molecule. The number of anionic groups is on average preferably 2 or more, more preferably 5 or more, particularly preferably 10 or more. Moreover, several species of anionic groups to be included in the dispersant may be included in one molecule.

측쇄에 음이온성 기를 포함하는 분산제에서, 음이온성 기 함유 반복 단위체의 조성은 반복 단위체 전체 몰에 대하여 10-4 내지 100 몰%, 바람직하게는 1 내지 50 몰%, 특히 바람직하게는 5 내지 20 몰%이다. In the dispersant comprising anionic groups in the side chain, the composition of the anionic group-containing repeating unit is 10 -4 to 100 mol%, preferably 1 to 50 mol%, particularly preferably 5 to 20 mol, based on the total moles of the repeating unit. %to be.

분산제가 가교 또는 중합성 관능기를 추가로 포함하는 것이 바람직하다. 가교 또는 중합성 관능기의 예에는 라디칼 종에 의한 첨가 반응 또는 중합 반응을 견딜 수 있는 에틸렌계 불포화 기 (예를 들어, (메트)아크릴기, 알릴기, 스테아릴기 및 비닐옥시기), 양이온성 중합가능 기 (예를 들어, 에폭시기, 옥사타닐기 및 비닐옥시기) 및 중축합 반응성 기 (예를 들어, 가수분해가능한 실릴기 및 N-메틸올기) 가 포함된다. 이들 중, 에틸렌계 불포화기 포함 기가 바람직하다. It is preferred that the dispersant further comprise a crosslinking or polymerizable functional group. Examples of crosslinking or polymerizable functional groups include ethylenically unsaturated groups (e.g., (meth) acrylic groups, allyl groups, stearyl groups and vinyloxy groups) capable of withstanding addition reactions or polymerization reactions by radical species, cationic Polymerizable groups (eg, epoxy groups, oxatanyl groups and vinyloxy groups) and polycondensation reactive groups (eg, hydrolyzable silyl groups and N-methylol groups) are included. Among these, groups containing ethylenically unsaturated groups are preferable.

분자 당 분산제에 포함되는 가교 또는 중합성 관능기의 갯수는 평균적으로 바람직하게는 2 개 이상, 더욱 바람직하게는 5 개 이상, 특히 바람직하게는 10 개 이상이다. 더욱이, 분산제에 포함될 여러 종의 가교 또는 중합성 관능기가 1 분자 내에 포함될 수 있다. The number of crosslinking or polymerizable functional groups contained in the dispersing agent per molecule is preferably 2 or more, more preferably 5 or more, particularly preferably 10 or more on average. Moreover, various kinds of crosslinking or polymerizable functional groups to be included in the dispersant may be included in one molecule.

본 발명에 사용되는 바람직한 분산제에서, 측쇄에 에틸렌계 불포화기를 포함하는 반복 단위체로서는, 특정 잔기 (-COOR 또는 -CONHR 중 R 기) 에 결합되는 폴리-1,2-부타디엔 또는 폴리-1,2-이소프렌 구조 또는 (메트)아크릴 에스테르 또는 아미드의 반복 단위체가 이용될 수 있다. 상기 특정 잔기 (R 기) 의 예에는, -(CH2)n-CR21=CR22R23, -(CH2O)n-CH2CR21=CR22R23, -(CH2CH2O)n-CH2CR21=CR22R23, -(CH2O)n-NH-CO-O-CH2CR21=CR22R23, -(CH2)n-O-CO-CR21=CR22R23 및 -(CH2CH2O)n-X (식 중, R21 내지 R23 은 각각 수소 원자, 할로겐 원자, 탄소수 1 내지 20 의 알킬기, 아릴기, 알콕시기 또는 아릴옥시기를 나타내며; R21 및 R22 또는 R23 은 함께 취해져 고리를 형성할 수 있으며; n 은 1 내지 10 의 정수를 나타내며; X 는 디시클로펜타디에닐 잔기를 나타냄) 가 포함된다. 에스테르 잔기의 R 의 구체적인 예에는 -CH2CH=CH2 (JP-A-64-17047 에 기재된 알릴 (메트)아크릴레이트의 중합체에 상응함), -CH2CH2O-CH2CH=CH2, -CH2CH2OCOCH=CH2, -CH2CH2OCOC(CH3)=CH2, -CH2C(CH3)=CH2, -CH2CH=CH-C6H5, -CH2CH2OCOCH=CH-C6H5, -CH2CH2-NHCOO-CH2CH=CH2 및 -CH2CH2O-X (식 중, X 는 디시클로펜타디에닐 잔기를 나타냄) 가 포함된다. 아미드 잔기의 R 의 구체적인 예에는 -CH2CH=CH2, -CH2CH2-Y (식 중, Y 는 1-시클로헥세닐 잔기를 나타냄), -CH2CH2-OCO-CH=CH2 및 -CH2CH2-OCO-C(CH3)=CH2 가 포함된다.In a preferred dispersant used in the present invention, as the repeating unit containing an ethylenically unsaturated group in the side chain, poly-1,2-butadiene or poly-1,2- bonded to a specific residue (R group in -COOR or -CONHR) Isoprene structures or repeating units of (meth) acrylic esters or amides can be used. Examples of the specific residue (R group) include-(CH 2 ) n -CR 21 = CR 22 R 23 ,-(CH 2 O) n -CH 2 CR 21 = CR 22 R 23 ,-(CH 2 CH 2 O) n -CH 2 CR 21 = CR 22 R 23 ,-(CH 2 O) n -NH-CO-O-CH 2 CR 21 = CR 22 R 23 ,-(CH 2 ) n -O-CO-CR 21 = CR 22 R 23 and — (CH 2 CH 2 O) n —X wherein R 21 to R 23 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, an alkyl group having 1 to 20 carbon atoms, an aryl group, an alkoxy group, or an aryloxy R 21 and R 22 or R 23 may be taken together to form a ring; n represents an integer from 1 to 10; X represents a dicyclopentadienyl moiety. Specific examples of R of the ester moiety include -CH 2 CH = CH 2 (corresponding to the polymer of allyl (meth) acrylate described in JP-A-64-17047), -CH 2 CH 2 O-CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 CH 2 OCOCH = CH 2 , -CH 2 CH 2 OCOC (CH 3 ) = CH 2 , -CH 2 C (CH 3 ) = CH 2 , -CH 2 CH = CH-C 6 H 5 , -CH 2 CH 2 OCOCH = CH-C 6 H 5 , -CH 2 CH 2 -NHCOO-CH 2 CH = CH 2 and -CH 2 CH 2 OX (where X represents a dicyclopentadienyl residue) Included. Specific examples of R of the amide moiety include -CH 2 CH = CH 2 , -CH 2 CH 2 -Y (wherein Y represents 1-cyclohexenyl residue), -CH 2 CH 2 -OCO-CH = CH 2 and —CH 2 CH 2 —OCO—C (CH 3 ) ═CH 2 .

상기 에틸렌계 불포화기 포함 분산제에서, 자유 라디칼 (중합가능한 화합물의 중합 과정에서의 중합 개시 라디칼 또는 성장 라디칼) 은 불포화기에 첨가되며, 분자들 사이에서 직접 또는 중합가능한 화합물의 중합 사슬을 통해 첨가 중합이 야기되어, 분자들 사이에 가교가 형성되어 경화가 발생한다. 대안적으로, 분자 내 원자 (예를 들어, 불포화 결합기에 인접한 탄소 원자 상의 수소 원자) 는 자유 라디칼에 의해 제거되어 중합체 라디칼을 형성하고, 이어서 이들이 서로 결합되어 분자들 사이에 가교가 형성되어 경화가 발생한다. In the ethylenically unsaturated group-containing dispersant, free radicals (polymerization initiation radicals or growth radicals in the course of the polymerization of the polymerizable compound) are added to the unsaturated group and the addition polymerization is carried out directly between the molecules or through the polymerization chain of the polymerizable compound. Causing crosslinking between the molecules to cause curing. Alternatively, atoms in the molecule (eg, hydrogen atoms on carbon atoms adjacent to unsaturated bond groups) are removed by free radicals to form polymer radicals, which are then bonded to each other to form crosslinks between the molecules, thereby providing curing Occurs.

음이온성 기 및 가교 또는 중합성 관능기를 포함하며, 측쇄에 대상 가교 또는 중합성 관능기를 포함하는 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 에는 특별한 제한이 없으나, 1,000 이상인 것이 바람직하다. 분산제의 중량 평균 분자량 (Mw) 은 더욱 바람직하게는 2,000 내지 1,000,000 이고, 더욱 더 바람직하게는 5,000 내지 200,000 이고, 특히 바람직하게는 10,000 내지 100,000 이다.There is no particular limitation on the weight average molecular weight (Mw) of the dispersant containing an anionic group and a crosslinking or polymerizable functional group, and including a target crosslinking or polymerizable functional group in the side chain, but is preferably 1,000 or more. The weight average molecular weight (Mw) of the dispersant is more preferably 2,000 to 1,000,000, even more preferably 5,000 to 200,000, particularly preferably 10,000 to 100,000.

가교 또는 중합성 관능기 포함 단위체가 음이온성 기 포함 반복 단위체 이외의 반복 단위체 전부를 구성할 수도 있지만, 바람직하게는 가교 또는 반복 단위체 전체 몰의 5 내지 50 몰%, 특히 바람직하게는 5 내지 30 몰% 을 차지한다. Although the monomer containing a crosslinking or polymerizable functional group may constitute all of the repeating units other than the anionic group containing repeating unit, preferably 5 to 50 mol%, particularly preferably 5 to 30 mol% of the total moles of the crosslinking or repeating unit. Occupies.

분산제는 가교 또는 중합성 관능기 및 음이온성 기를 포함하는 단량체 이외의 적합한 단량체와의 공중합체일 수 있다. 공중합 성분에는 특별한 제한이 없으나, 분산 안정성, 나머지 단량체 성분과의 상용성 및 형성되는 필름의 강도와 같은 여러 관점으로부터 선택된다. 그의 바람직한 예에는 메틸 (메트)아크릴레이트, n-부틸 (메트)아크릴레이트, t-부틸 (메트)아크릴레이트, 시클로헥실 (메트)아크릴레이트 및 스티렌이 포함된다. The dispersant may be a copolymer with suitable monomers other than monomers comprising crosslinked or polymerizable functional groups and anionic groups. There is no particular limitation on the copolymerization component, but it is selected from various aspects such as dispersion stability, compatibility with the remaining monomer components, and strength of the film to be formed. Preferred examples thereof include methyl (meth) acrylate, n-butyl (meth) acrylate, t-butyl (meth) acrylate, cyclohexyl (meth) acrylate and styrene.

분산제의 형태에는 특별한 제한이 없지만, 바람직하게는 블록 공중합체 또는 랜덤 공중합체의 형태이다. 합성의 용이함의 관점에서 랜덤 공중합체의 형태가 특히 바람직하다. The form of the dispersant is not particularly limited, but is preferably in the form of a block copolymer or a random copolymer. In view of ease of synthesis, the form of the random copolymer is particularly preferred.

무기 입자에 사용되는 분산제의 사용량은 바람직하게는 1 내지 50 중량%, 더욱 바람직하게는 5 내지 30 중량%, 가장 바람직하게는 5 내지 20 중량% 이다. 더욱이, 2 종 이상의 분산제가 함께 사용될 수 있다. The amount of the dispersant used for the inorganic particles is preferably 1 to 50% by weight, more preferably 5 to 30% by weight, most preferably 5 to 20% by weight. Moreover, two or more dispersants may be used together.

1-(13) 방오제:1- (13) antifouling agent:

본 발명의 필름에서, 특히 필름의 최고층에서, 방오성, 방수성, 내화성 및 매끄러움과 같은 특성 부여를 목적으로, 공지된 폴리실록산 기재 또는 불소 기재 방오제 및 슬립제 (slipping agent) 등을 적절히 첨가하는 것이 바람직하다.In the film of the present invention, in particular at the top layer of the film, it is preferable to appropriately add a known polysiloxane-based or fluorine-based antifouling agent and a slipping agent, etc., for the purpose of imparting properties such as antifouling property, water resistance, fire resistance and smoothness. Do.

그러한 첨가제가 첨가되는 경우, 첨가제의 첨가량은 저굴절률층의 전체 고형물의 바람직하게는 0.01 내지 20 중량% 의 범위, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 10 중량% 의 범위, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 의 범위에 있다.When such an additive is added, the amount of the additive added is preferably in the range of 0.01 to 20% by weight, more preferably in the range of 0.05 to 10% by weight, particularly preferably 0.1 to 5% by weight of the total solids of the low refractive index layer. Is in the range of.

[폴리실록산 구조의 화합물] [Compound of polysiloxane structure]

[본 발명의 저굴절률 필름의 구성 성분 (F)][Structural Component (F) of Low Refractive Index Film of the Present Invention]

다음으로, 폴리실록산 구조의 화합물이 기술될 것이다.Next, the compound of polysiloxane structure will be described.

본 발명에서는, 매끄러움의 부여 및 방오성의 부여에 의한 내반흔성 향상의 목적을 위하여 폴리실록산 구조의 화합물이 사용된다. 상기 화합물의 구조는 특별히 제한되지 않으며, 이들의 예에는, 반복 단위로서 복수의 디메틸실릴옥시 단위를 포함하고, 화학적 사슬의 곁사슬 및/또는 말단에 치환체를 포함하는 구조가 포함된다. 또한, 디메틸실릴옥시 이외의 구조적 단위가, 반복 단위로서 디메틸실릴옥시를 함유하는 화학적 사슬에 포함될 수 있다.In the present invention, a compound having a polysiloxane structure is used for the purpose of improving the scratch resistance by imparting smoothness and imparting antifouling property. The structure of the compound is not particularly limited, and examples thereof include a structure including a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units, and a substituent including a substituent at the side chain and / or terminal of the chemical chain. In addition, structural units other than dimethylsilyloxy may be included in the chemical chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit.

폴리실록산 구조의 화합물의 분자량은 특별히 제한되지는 않지만, 바람직하게는 100,000 이하, 특히 바람직하게는 50,000 이하, 가장 바람직하게는 3,000 내지 30,000 이다.The molecular weight of the compound of the polysiloxane structure is not particularly limited, but is preferably 100,000 or less, particularly preferably 50,000 or less, most preferably 3,000 to 30,000.

이동이 발생되는 것을 방지하기 위한 관점에서, 히드록실기 또는 히드록실기와 반응하여 결합을 형성할 수 있는 작용기가 함유되는 것이 바람직하다. 상기 결합 형성 반응은 가열 조건 하 및/또는 촉매의 존재 하에서 신속히 진행된다. 그러한 치환체의 예에는 에폭시기 및 카르복실기가 포함된다. 상기 화합물의 바람직한 예가 하기에 제공될 것이나, 본 발명이 여기에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.In view of preventing migration from occurring, it is preferable to contain a hydroxyl group or a functional group capable of reacting with a hydroxyl group to form a bond. The bond formation reaction proceeds rapidly under heating conditions and / or in the presence of a catalyst. Examples of such substituents include epoxy groups and carboxyl groups. Preferred examples of such compounds will be provided below, but the invention should not be construed as being limited thereto.

(히드록실기 함유 화합물)(Hydroxyl group-containing compound)

X-22-16OAS, KF-600l, KF-6002, KF-6003, X-22-17ODX, X-22-176DX, X-22-1 76D 및 X-22-176F (이들 모두는 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 사제임); FM-441l, FM-442l, FM-4425, FM-041l, FM-0421, FM-0425, FM-DA11, FM-DA21 및 FM-DA25 (이들 모두는 Chisso Corporaiton 사제임); 및 CMS-626 및 CMS-222 (이들 모두는 Gelest, Inc.사제임).X-22-16OAS, KF-600l, KF-6002, KF-6003, X-22-17ODX, X-22-176DX, X-22-1 76D and X-22-176F (all of these are Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; FM-441l, FM-442l, FM-4425, FM-041l, FM-0421, FM-0425, FM-DA11, FM-DA21 and FM-DA25 (all of which are manufactured by Chisso Corporaiton); And CMS-626 and CMS-222 (all of which are manufactured by Gelest, Inc.).

(히드록실기와 반응할 수 있는 관능기를 함유하는 화합물)(Compound containing functional group that can react with hydroxyl group)

X-22-162C 및 KF-105 (이들 모두는 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 사제임); 및 FM-5511, FM-5521, FM-5525, FM-6611, FM-6621 및 FM-6625 (이들 모두는 Chisso Corporation 사제임)X-22-162C and KF-105, all of which are manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd .; And FM-5511, FM-5521, FM-5525, FM-6611, FM-6621, and FM-6625 (all of which are manufactured by Chisso Corporation)

상기 폴리실록산 기재 화합물 외에, 기타 폴리실록산 기재 화합물이 추가로 함께 사용될 수 있다. 이들의 바람직한 예에는, 반복 단위로서 복수의 디메틸실릴옥시 단위를 함유하고, 화학적 사슬의 곁사슬 및/또는 말단에 치환체를 함유하는 화합물이 포함된다. 덧붙여, 디메틸실릴옥시 이외의 구조적 단위가, 반복 단위로서 디메틸실릴옥시를 함유하는 화학적 사슬에 포함될 수 있다. 치환체는 동일하거나 상이할 수 있고, 복수의 치환체가 함유되는 것이 바람직하다. 치환체의 바람직한 예에는, 예를 들어, 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 아릴기, 신나모일기, 옥세타닐기, 플루오로알킬기, 폴리옥시알킬렌기, 카르복실기 또는 아미노기를 함유하는 기들이 포함된다. 상기 폴리실록산 기재 화합물의 분자량은 특별히 제한되지는 않지만, 바람직하게는 100,000 이하, 더욱 바람직하게는 50,000 이하, 특히 바람직하게는 3,000 내지 30,000, 가장 바람직하게는 10,O0O 내지 20,000 이다. 실리콘 기재 화합물의 규소 원자 함량은 특별히 제한되지는 않지만, 바람직하게는 18.0 중량% 이상, 특히 바람직하게는 25.0 내지 37.0 중량%, 가장 바람직하게는 30.0 내지 37.0 중량% 이다. 실리콘 기재 화합물의 바람직한 예에는 X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X-22-164C 및 X-22-1821 (이들 모두는 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 사의 상품명임); FM-0725, FM-7725, FM-6621 및 FM-1121 (이들 모두는 Chisso Corporation 사의 상품명임); 및 DMS-U22, RMS-033, RMS-083, UMS-l82, DMS-H21, DMS-H31, HMS-301, FMS121, FMS123, FMS131, FMS141 및 FMS221 (이들 모두는 Gelest, Inc. 사의 상품명임) 이 포함된다.In addition to the above polysiloxane based compounds, other polysiloxane based compounds may further be used together. Preferred examples thereof include compounds containing a plurality of dimethylsilyloxy units as repeating units, and containing substituents on the side chain and / or terminal of the chemical chain. In addition, structural units other than dimethylsilyloxy may be included in the chemical chain containing dimethylsilyloxy as a repeating unit. The substituents may be the same or different, and it is preferable that a plurality of substituents are contained. Preferred examples of the substituent include, for example, groups containing acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, oxetanyl group, fluoroalkyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group or amino group. Included. The molecular weight of the polysiloxane based compound is not particularly limited, but is preferably 100,000 or less, more preferably 50,000 or less, particularly preferably 3,000 to 30,000, most preferably 10, 000 to 20,000. The silicon atom content of the silicone based compound is not particularly limited, but is preferably at least 18.0% by weight, particularly preferably 25.0 to 37.0% by weight, most preferably 30.0 to 37.0% by weight. Preferred examples of silicone based compounds include X-22-174DX, X-22-2426, X-22-164B, X-22-164C and X-22-1821 (all of which are manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.). Trade name); FM-0725, FM-7725, FM-6621 and FM-1121 (all of which are trade names of Chisso Corporation); And DMS-U22, RMS-033, RMS-083, UMS-l82, DMS-H21, DMS-H31, HMS-301, FMS121, FMS123, FMS131, FMS141 and FMS221, all of which are trade names of Gelest, Inc. This includes.

방오제로서 사용되는 불소 기재 화합물로서는, 플루오로알킬기가 함유된 화합물이 바람직하다. 대상 플루오로알킬기는 바람직하게는 탄소수가 1 내지 20 이고, 더욱 바람직하게는 탄소수가 1 내지 10 이다. 플루오로알킬기는 선형 구조 (예를 들어, -CF2CF3, -CH2(CF2)4H, -CH2(CF2)3CF3 및 -CH2CH2(CF2)4H), 분지형 구조 (예를 들어, CH(CF3)2, CH2CF(CF3)2, CH(CH3)CF2CF3 및 CH(CH3)(CF2)5CF2H) 또는 지환족 구조 (바람직하게는 5-원 고리 또는 6-원 고리; 예를 들어, 퍼플루오로시클로헥실기, 퍼플루오로시클로펜틸기 및 상기한 기로 치환된 알킬기) 일 수 있고; 에테르 결합을 포함할 수 있다 (예를 들어, CH2OCH2CF2CF3, CH2CH2OCH2C4F8H, CH2CH2OCH2CH2C8F17 및 CH2CH2OCF2CF2OCF2CF2H). 복수의 플루오로알킬기가 동일한 분자 중에 함유될 수 있다. As a fluorine-based compound used as an antifouling agent, a compound containing a fluoroalkyl group is preferable. The target fluoroalkyl group preferably has 1 to 20 carbon atoms, more preferably 1 to 10 carbon atoms. Fluoroalkyl groups are linear structures (e.g., -CF 2 CF 3 , -CH 2 (CF 2 ) 4 H, -CH 2 (CF 2 ) 3 CF 3 and -CH 2 CH 2 (CF 2 ) 4 H) Branched structures (eg, CH (CF 3 ) 2 , CH 2 CF (CF 3 ) 2 , CH (CH 3 ) CF 2 CF 3 and CH (CH 3 ) (CF 2 ) 5 CF 2 H), or An alicyclic structure (preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring; for example, a perfluorocyclohexyl group, a perfluorocyclopentyl group, and an alkyl group substituted with the aforementioned group); Ether linkages (eg, CH 2 OCH 2 CF 2 CF 3 , CH 2 CH 2 OCH 2 C 4 F 8 H, CH 2 CH 2 OCH 2 CH 2 C 8 F 17 and CH 2 CH 2 OCF 2 CF 2 OCF 2 CF 2 H). Plural fluoroalkyl groups may be contained in the same molecule.

불소 기재 화합물은, 저굴절률층 필름에 대한 결합의 형성 또는 이들과의 혼화성에 기여하는 치환체를 추가로 함유하는 것이 바람직하다. 대상 치환체는 동일하거나 상이할 수 있고, 복수의 치환체가 함유되는 것이 바람직하다. 치환체의 바람직한 예에는 아크릴로일기, 메타크릴로일기, 비닐기, 아릴기, 신나모일기, 에폭시기, 옥세타닐기, 히드록실기, 폴리옥시알킬렌기, 카르복실기 및 아미노기가 포함된다. 불소 기재 화합물은 불소 원자-자유 화합물과의 올리고머 또는 중합체일 수 있다. 이의 분자량은 특별히 제한되지는 않는다. 불소 기재 화합물 중 불소 원자의 함량은 특별히 제한되지는 않으나, 바람직하게는 20 중량% 이상, 특히 바람직하게는 30 내지 70 중량%, 가장 바람직하게는 40 내지 70 중량% 이다. 불소 기재 화합물의 바람직한 예에는 R-2020, M-2020, R-3833 및 M-3833 (이들 모두는 Daikin Industries, Ltd. 사의 상품명임); 및 MEGAFAC F-171, MEGAFAC F-172 및 MEGAFAC F-170A 및 DEFENSA MCF-300 (이들 모두는 Dainippon Ink and Chemical, Incorporated 사의 상품명임) 이 포함된다. 그러나, 본 발명이 여기에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.It is preferable that a fluorine base compound further contains the substituent which contributes to formation of the bond with respect to a low refractive index layer film, or miscibility with these. The target substituents may be the same or different and preferably contain a plurality of substituents. Preferred examples of the substituent include acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, aryl group, cinnamoyl group, epoxy group, oxetanyl group, hydroxyl group, polyoxyalkylene group, carboxyl group and amino group. The fluorine based compound may be an oligomer or a polymer with a fluorine atom-free compound. Its molecular weight is not particularly limited. The content of fluorine atoms in the fluorine-based compound is not particularly limited, but is preferably 20% by weight or more, particularly preferably 30 to 70% by weight, most preferably 40 to 70% by weight. Preferred examples of the fluorine-based compound include R-2020, M-2020, R-3833 and M-3833 (all of which are trade names of Daikin Industries, Ltd.); And MEGAFAC F-171, MEGAFAC F-172 and MEGAFAC F-170A and DEFENSA MCF-300 (all of which are trade names of Dainippon Ink and Chemical, Incorporated). However, the present invention should not be construed as being limited thereto.

먼지 제거 특성 및 대전 방지 성질과 같은 특성을 부여하기 위한 목적을 위해, 먼지 제거제 또는 대전 방지제, 예컨대 공지된 양이온성 계면활성제 및 폴리옥시알킬렌 기재 화합물이 또한 적절히 첨가될 수 있다. 그러한 먼지 제거제 또는 대전 방지제에 있어서, 이의 구조 단위가 상기 실리콘 기재 화합물 또는 불소 기재 화합물에서 작용기의 부분으로서 포함될 수 있다. 그러한 먼지 제거제 및 대전 방지제가 첨가제로서 첨가되는 경우, 바람직하게는 저굴절률층의 전체 고형물 중 0.01 내지 20 중량%, 더욱 바람직하게는 0.05 내지 10 중량%, 특히 바람직하게는 0.1 내지 5 중량% 범위의 양으로 첨가된다. 먼지 제거제 또는 대전 방지제의 바람직한 예에는 MEGAFAC F-150 (Dainippon Ink and Chemicals, Incorporated 사의 상품명) 및 SH-3748 (Dow Corning Toray Co., Ltd. 사의 상품명) 이 포함된다. 그러나, 본 발명이 여기에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.For the purpose of imparting properties such as dust removal properties and antistatic properties, dust removers or antistatic agents such as known cationic surfactants and polyoxyalkylene based compounds may also be added as appropriate. In such dust removers or antistatic agents, structural units thereof may be included as part of the functional groups in the silicone based compound or fluorine based compound. When such a dust remover and an antistatic agent are added as an additive, preferably in the range of 0.01 to 20% by weight, more preferably 0.05 to 10% by weight, particularly preferably 0.1 to 5% by weight of the total solids of the low refractive index layer Is added in amounts. Preferred examples of dust remover or antistatic agent include MEGAFAC F-150 (Dainippon Ink and Chemicals, trade name of Incorporated) and SH-3748 (trade name of Dow Corning Toray Co., Ltd.). However, the present invention should not be construed as being limited thereto.

1-(14) 계면활성제:1- (14) Surfactant:

특히, 코팅 비평활성, 건조 비평활성 및 점결함과 같은 표면 성질에서의 균일성을 확보하기 위하여, 광확산층의 형성을 위한 코팅 조성물에 불소 기재 계면활성제 및 실리콘 기재 계면활성제 중 임의의 하나 또는 둘 모두가 함유되는 것이 바람직하다. 특히, 불소 기재 계면활성제가 보다 소량의 첨가로, 코팅 비평활성, 건조 비평활성 및 점결함과 같은 표면 성질의 결점을 개선하는 효과를 나타내므로 바람직하게 사용될 수 있다. 고속 코팅 적용성을 가져옴으로써 생산성을 향상시키고, 동시에 표면 성질의 균일성을 향상시키는 것이 가능하다.In particular, in order to ensure uniformity in surface properties such as coating non-smoothness, dry non-smoothness and point defects, any one or both of the fluorine based surfactant and the silicon based surfactant may be added to the coating composition for forming the light diffusion layer. It is preferable to contain. In particular, fluorine-based surfactants can be preferably used because of their effect of improving the defects of surface properties such as coating non-smoothness, dry non-smoothness and point defects with smaller amounts of addition. By bringing high speed coating applicability it is possible to improve productivity and at the same time improve the uniformity of the surface properties.

불소 기재 계면활성제의 바람직한 예에는 플루오로 지방족기-함유 공중합체 ("불소 기재 중합체" 라고도 칭함) 이 포함된다. 불소 기재 중합체로서, 하기 단량체 (i) 에 대응하는 반복 단위를 함유하거나, 하기 단량체 (ii) 에 대응하는 반복 단위를 함유하는 것을 특징으로 하는 아크릴계 수지 또는 메타크릴계 수지, 또는 공중합가능 비닐 기재 단량체와 이들과의 공중합체가 유용하다.Preferred examples of fluorine-based surfactants include fluoro aliphatic group-containing copolymers (also referred to as "fluorine-based polymers"). As the fluorine-based polymer, an acrylic resin or methacrylic resin, or a copolymerizable vinyl-based monomer, containing a repeating unit corresponding to the following monomer (i) or containing a repeating unit corresponding to the following monomer (ii). And copolymers thereof are useful.

(i) 하기 화학식 (a) 로 표시되는 플루오로 지방족기-함유 단량체:(i) a fluoro aliphatic group-containing monomer represented by the following formula (a):

Figure 112006055903608-PAT00038
Figure 112006055903608-PAT00038

화학식 (a) 에서, R11 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고; X 는 산소 원자, 황 원자 또는 -N(R12)- 를 나타내고; m 은 1 이상 6 이하의 정수를 나타내고; n 은 2 내지 4 의 정수를 나타낸다. R12 는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 4 의 알킬기, 특히 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기를 나타내고, 이들 중, 수소 원자 및 메틸기가 바람직하다. X 는 바람직하게는 산소 원자이다.In formula (a), R 11 represents a hydrogen atom or a methyl group; X represents an oxygen atom, a sulfur atom or -N (R 12 )-; m represents an integer of 1 or more and 6 or less; n represents the integer of 2-4. R <12> represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, especially a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, Among these, a hydrogen atom and a methyl group are preferable. X is preferably an oxygen atom.

(ii) 상기 (i) 의 단량체와 공중합가능한 하기 화학식 (b) 로 표시되는 단량체:(ii) a monomer represented by the following formula (b) copolymerizable with the monomer of (i):

Figure 112006055903608-PAT00039
Figure 112006055903608-PAT00039

화학식 (b) 에서, R13 은 수소 원자 또는 메틸기를 나타내고; Y 는 산소 원자 또는 황 원자 또는 -N(R15)- 를 나타내고; R15 는 수소 원자 또는 탄소수 1 내지 4 의 알킬기, 특히 메틸기, 에틸기, 프로필기 또는 부틸기를 나타내고, 이들 중, 수소 원자 및 메틸기가 바람직하다. Y 는 바람직하게는 산소 원자, -N(H)- 또는 -N(CH3)- 이다.In formula (b), R 13 represents a hydrogen atom or a methyl group; Y represents an oxygen atom or a sulfur atom or -N (R 15 )-; R <15> represents a hydrogen atom or a C1-C4 alkyl group, especially a methyl group, an ethyl group, a propyl group, or a butyl group, Among these, a hydrogen atom and a methyl group are preferable. Y is preferably an oxygen atom, -N (H)-or -N (CH 3 )-.

R14 는 탄소수 4 이상 20 이하의 임의 치환된 선형, 분지형 또는 환형 알킬기를 나타낸다. R14 로 표시되는 알킬기의 치환체의 예에는 히드록실기, 알킬카르보닐기, 아릴카르보닐기, 카르복실기, 알킬 에테르기, 아릴 에테르기, 할로겐 원자 (예를 들어, 불소 원자, 염소 원자 및 브롬 원자), 니트로기, 시아노기 및 아미노기가 포함된다. 그러나, 본 발명이 여기에 제한된다고 해석되어서는 안된다. 탄소수 4 이상 20 이하의 선형, 분지형 또는 환형 알킬기로서, 부틸기, 펜틸기, 헥실기, 헵틸기, 옥틸기, 노닐기, 데실기, 운데실기, 도데실기, 트리데실기, 테트라데실기, 펜타데실기, 옥타데일기 및 에이코사닐기 (이들 각각은 선형 또는 분지형일 수 있음); 단일환형 시클로알킬기, 예컨대 시클로헥실기 및 시클로헵틸기; 및 다환형 시클로알킬기, 예컨대 비시클로헵틸기, 비시클로데실기, 트리시클로운데실기, 테트라시클로도데실기, 아다만틸기, 노르보르닐기 및 테트라시클로데실기가 적합하게 사용된다.R 14 represents an optionally substituted linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms. Examples of the substituent of the alkyl group represented by R 14 include hydroxyl group, alkylcarbonyl group, arylcarbonyl group, carboxyl group, alkyl ether group, aryl ether group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom and bromine atom), nitro group , Cyano groups and amino groups are included. However, it should not be construed that the present invention is limited thereto. As a linear, branched or cyclic alkyl group having 4 to 20 carbon atoms, butyl group, pentyl group, hexyl group, heptyl group, octyl group, nonyl group, decyl group, undecyl group, dodecyl group, tridecyl group, tetradecyl group, Pentadecyl groups, octadale groups and eicosanyl groups (each of which may be linear or branched); Monocyclic cycloalkyl groups such as cyclohexyl group and cycloheptyl group; And polycyclic cycloalkyl groups such as bicycloheptyl group, bicyclodecyl group, tricycloundecyl group, tetracyclododecyl group, adamantyl group, norbornyl group and tetracyclodecyl group.

본 발명에서 사용되는 불소 기재 중합체에서 사용되는 하기 화학식 (a) 로 표시되는 플루오로 지방족기-함유 단량체의 양은 불소 기재 중합체의 각각의 단량체를 기준으로 10 몰% 이상, 바람직하게는 15 내지 70 몰%, 더욱 바람직하게는 20 내지 60 몰% 의 범위이다.The amount of the fluoro aliphatic group-containing monomer represented by the formula (a) used in the fluorine-based polymer used in the present invention is 10 mol% or more, preferably 15 to 70 mol, based on each monomer of the fluorine-based polymer. %, More preferably 20 to 60 mol%.

본 발명에서 사용되는 불소 기재 중합체는 중량 평균 분자량이 바람직하게는 3,000 내지 100,000, 더욱 바람직하게는 5,000 내지 80,000 이다.The fluorine-based polymer used in the present invention preferably has a weight average molecular weight of 3,000 to 100,000, more preferably 5,000 to 80,000.

덧붙여, 본 발명에서 사용되는 불소 기재 중합체의 첨가량은 코팅 용액을 기준으로 바람직하게는 0.001 내지 5 중량% 의 범위, 더욱 바람직하게는 0.005 내지 3 중량% 의 범위, 더욱 바람직하게는 0.01 내지 1 중량% 의 범위이다. 불소 기재 중합체의 첨가량이 0.001 중량% 미만인 경우, 효과가 불충분한 반면, 상기 첨가량이 5 중량% 를 초과하면, 필름의 건조가 충분히 수행되지 않고, 필름으로서의 성능 (예를 들어, 반사율 및 내반흔성) 이 불리한 영향을 받는다.In addition, the amount of the fluorine-based polymer used in the present invention is preferably in the range of 0.001 to 5% by weight, more preferably in the range of 0.005 to 3% by weight, more preferably 0.01 to 1% by weight, based on the coating solution. Range. When the added amount of the fluorine-based polymer is less than 0.001% by weight, the effect is insufficient, while when the added amount is more than 5% by weight, the drying of the film is not sufficiently performed, and the performance as a film (for example, reflectance and scar resistance) ) Is adversely affected.

1-(15) 증점제:1- (15) Thickener:

본 발명의 필름에서, 코팅 용액의 점도 조절의 목적을 위해 증점제가 사용될 수 있다. In the films of the invention, thickeners can be used for the purpose of controlling the viscosity of the coating solution.

특히, 산란 입자들을 함유하는 하드 코트층을 위하여, 증점제를 첨가하는 것이 바람직하다. 점도를 증가시킴으로써, 산란 입자들의 부유 (surfacing) 또는 침강 (downwelling) 속도를 저하시킬 수 있다.In particular, for the hard coat layer containing scattering particles, it is preferable to add a thickener. By increasing the viscosity, it is possible to lower the surfacing or downwelling rate of the scattering particles.

본 원에서 언급되는 "증점제" 는 이들의 첨가에 의해 용액의 점도를 증가시킬 수 있는 물질을 의미한다. 증점제의 첨가에 의한 코팅 용액의 점도의 증가의 수준은 바람직하게는 0.05 내지 50 cP (mPaㆍs), 더욱 바람직하게는 0.10 내지 20 cP (mPaㆍs), 가장 바람직하게는 0.10 내지 10 cP (mPaㆍs) 이다.As used herein, "thickener" means a substance that can increase the viscosity of a solution by addition thereof. The level of increase in viscosity of the coating solution by addition of thickeners is preferably 0.05 to 50 cP (mPa.s), more preferably 0.10 to 20 cP (mPa.s), most preferably 0.10 to 10 cP ( mPa · s).

그러한 증점제의 예가 하기에 제공될 것이나, 본 발명이 여기에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다.Examples of such thickeners will be provided below, but the present invention should not be construed as being limited thereto.

폴리-ε-카프로락톤Poly-ε-caprolactone

폴리-ε-카프로락톤 디올Poly-ε-caprolactone diol

폴리-ε-카프로락톤 트리올Poly-ε-caprolactone triol

폴리비닐 아세테이트Polyvinyl acetate

폴리(에틸렌 아디페이트)Poly (ethylene adipate)

폴리(1,4-부틸렌 아디페이트)Poly (1,4-butylene adipate)

폴리(1,4-부틸렌 글루타레이트)Poly (1,4-butylene glutarate)

폴리(1,4-부틸렌 숙시네이트)Poly (1,4-butylene succinate)

폴리(1,4-부틸렌 테레프탈레이트)Poly (1,4-butylene terephthalate)

폴리(에틸렌 테레프탈레이트)Poly (ethylene terephthalate)

폴리(2-메틸-1,3-프로필렌 아디페이트)Poly (2-methyl-1,3-propylene adipate)

폴리(2-메틸-1,3-프로필렌 글루타레이트)Poly (2-methyl-1,3-propylene glutarate)

폴리(네오펜틸 글리콜 아디페이트)Poly (neopentyl glycol adipate)

폴리(네오펜틸 글리콜 세바케이트)Poly (Neopentyl Glycol Sebacate)

폴리(1,3-프로필렌 아디페이트)Poly (1,3-propylene adipate)

폴리(1,3-프로필렌 글루타레이트)Poly (1,3-propylene glutarate)

폴리비닐 부티랄Polyvinyl butyral

폴리비닐 포르말Polyvinyl formal

폴리비닐 아세탈Polyvinyl acetal

폴리비닐 프로파날Polyvinyl propanal

폴리비닐 헥사날Polyvinyl hexanal

폴리비닐피롤리돈Polyvinylpyrrolidone

폴리아크릴산 에스테르Polyacrylic acid ester

폴리메타크릴산 에스테르Polymethacrylic acid ester

셀룰로오스 아세테이트Cellulose acetate

셀룰로오스 프로피오네이트Cellulose propionate

셀룰로오스 아세테이트 부티레이트Cellulose acetate butyrate

덧붙여, 공지된 점도 조절제 및 요변제, 예컨대, JP-A-8-325491 에 기술된 바와 같은 스멕타이트, 플루오로테트라실리코미카, 벤토나이트, 실리카, 몬모릴로나이트 및 폴리(소듐 아크릴레이트); 및 JP-A-10-219136 에 기술된 바와 같은 에틸 셀룰로오스, 폴리아크릴산 및 유기 점토가 또한 사용될 수 있다.In addition, known viscosity modifiers and thixotropic agents such as smectite, fluorotetrasilicomica, bentonite, silica, montmorillonite and poly (sodium acrylate) as described in JP-A-8-325491; And ethyl cellulose, polyacrylic acid and organic clays as described in JP-A-10-219136 may also be used.

1-(16) 코팅 용매:1- (16) Coating Solvent:

본 발명의 각각의 층을 형성하기 위한 코팅 조성물에 사용되는 용매로서, 다양한 용매 (각각의 성분을 여기에 용해시키거나 분산시킬 수 있고; 코팅 단계 및 건조 단계에서 균일한 표면 성질을 수득하기 쉽고; 액체 보존성을 확보할 수 있고; 적절한 포화 증기압을 갖는다는 견지에서 선택됨) 가 사용될 수 있다.As the solvent used in the coating composition for forming each layer of the present invention, various solvents (each component can be dissolved or dispersed therein; it is easy to obtain uniform surface properties in the coating step and the drying step; Liquid preservation can be ensured; selected in view of having a suitable saturated vapor pressure) can be used.

두 종류 이상의 용매의 혼합물이 사용될 수 있다. 특히, 건조 부하량의 관점에서 볼 때, 대기압 하 실온에서 비점이 100 ℃ 이하인 용매를 주요 성분으로 사용하는 것이 바람직하지만, 건조 속도 조절의 목적을 위해 비점이 100 ℃ 이상인 용매가 소량으로 함유된다.Mixtures of two or more solvents may be used. In particular, from the viewpoint of the drying load, it is preferable to use a solvent having a boiling point of 100 ° C. or lower as a main component at room temperature under atmospheric pressure, but a small amount of solvent having a boiling point of 100 ° C. or higher is contained for the purpose of controlling the drying rate.

비점이 100 ℃ 이하인 용매의 예에는 탄화수소, 예컨대 헥산 (비점: 68.7 ℃), 헵탄 (비점: 98.4 ℃), 시클로헥산 (비점: 80.7 ℃) 및 벤젠 (비점: 80.1 ℃); 할로겐화 탄화수소, 예컨대 디클로로메탄 (비점: 39.8 ℃), 클로로포름 (비점: 61.2 ℃), 사염화탄소 (비점: 76.8 ℃), 1,2-디클로로에탄 (비점: 83.5 ℃) 및 트리클로로에틸렌 (비점: 87.2 ℃); 에테르, 예컨대 디에틸 에테르 (비점: 34.6 ℃), 디이소프로필 에테르 (비점: 68.5 ℃), 디프로필 에테르 (비점: 90.5 ℃) 및 테트라히드로푸란(비점: 66 ℃); 에스테르, 예컨대 에틸 포르메이트 (비점: 54.2 ℃), 메틸 아세테이트 (비점: 57.8 ℃), 에틸 아세테이트 (비점: 77.1 ℃) 및 이소프로필 아세테이트 (비점: 89 ℃); 케톤, 예컨대 아세톤 (비점: 56.1 ℃) 및 2-부타논 (메틸 에틸 케톤과 동일, 비점: 79.6 ℃); 알콜, 예컨대 메탄올 (비점: 64.5 ℃), 에탄올 (비점: 78.3 ℃), 2-프로판올 (비점: 82.4 ℃) 및 1-프로판올 (비점: 97.2 ℃); 시아노 화합물, 예컨대 아세토니트릴 (비점: 81.6 ℃) 및 프로피오니트릴 (비점: 97.4 ℃); 및 이황화탄소 (비점: 46.2 ℃) 가 포함된다. 이들 중, 케톤 및 에스테르가 바람직하고; 케톤이 특히 바람직하다. 케톤 중, 2-부탄올이 특히 바람직하다.Examples of solvents having a boiling point of 100 ° C. or lower include hydrocarbons such as hexane (boiling point: 68.7 ° C.), heptane (boiling point: 98.4 ° C.), cyclohexane (boiling point: 80.7 ° C.), and benzene (boiling point: 80.1 ° C.); Halogenated hydrocarbons such as dichloromethane (boiling point: 39.8 ° C.), chloroform (boiling point: 61.2 ° C.), carbon tetrachloride (boiling point: 76.8 ° C.), 1,2-dichloroethane (boiling point: 83.5 ° C.) and trichloroethylene (boiling point: 87.2 ° C.) ); Ethers such as diethyl ether (boiling point: 34.6 ° C.), diisopropyl ether (boiling point: 68.5 ° C.), dipropyl ether (boiling point: 90.5 ° C.) and tetrahydrofuran (boiling point: 66 ° C.); Esters such as ethyl formate (boiling point: 54.2 ° C.), methyl acetate (boiling point: 57.8 ° C.), ethyl acetate (boiling point: 77.1 ° C.) and isopropyl acetate (boiling point: 89 ° C.); Ketones such as acetone (boiling point: 56.1 ° C.) and 2-butanone (same as methyl ethyl ketone, boiling point: 79.6 ° C.); Alcohols such as methanol (boiling point: 64.5 ° C.), ethanol (boiling point: 78.3 ° C.), 2-propanol (boiling point: 82.4 ° C.) and 1-propanol (boiling point: 97.2 ° C.); Cyano compounds such as acetonitrile (boiling point: 81.6 ° C.) and propionitrile (boiling point: 97.4 ° C.); And carbon disulfide (boiling point: 46.2 ° C.). Of these, ketones and esters are preferred; Ketones are particularly preferred. Of the ketones, 2-butanol is particularly preferred.

비점이 100 ℃ 이상인 용매의 예에는 옥탄 (비점: 125.7 ℃), 톨루엔 (비점: 110.6 ℃), 자일렌 (비점: 138 ℃), 테트라클로로에틸렌 (비점: 121.2 ℃), 클로로벤젠 (비점: 131.7 ℃), 디옥산 (비점: 101.3 ℃), 디부틸 에테르 (비점: 142.4 ℃), 이소부틸 아세테이트 (비점: 118 ℃), 시클로헥사논 (비점: 155.7 ℃), 2-메틸-4-펜타논 (MIBK 와 동일, 비점: 115.9 ℃), 1-부탄올 (비점: 117.7 ℃), N,N-디메틸포름아미드 (비점: 153 ℃), N,N-디메틸아세트아미드 (비점: 166 ℃) 및 디메틸 술폭시드 (비점: 189 ℃) 가 포함된다. 이들 중, 시클로헥사논 및 2-메틸-4-펜타논이 바람직하다.Examples of a solvent having a boiling point of 100 ° C. or more include octane (boiling point: 125.7 ° C.), toluene (boiling point: 110.6 ° C.), xylene (boiling point: 138 ° C.), tetrachloroethylene (boiling point: 121.2 ° C.), chlorobenzene (boiling point: 131.7 ° C), dioxane (boiling point: 101.3 ° C), dibutyl ether (boiling point: 142.4 ° C), isobutyl acetate (boiling point: 118 ° C), cyclohexanone (boiling point: 155.7 ° C), 2-methyl-4-pentanone (Same as MIBK, boiling point: 115.9 ° C), 1-butanol (boiling point: 117.7 ° C), N, N-dimethylformamide (boiling point: 153 ° C), N, N-dimethylacetamide (boiling point: 166 ° C) and dimethyl Sulfoxide (boiling point: 189 ° C.) is included. Among these, cyclohexanone and 2-methyl-4-pentanone are preferable.

1-(17) 기타:1- (17) Other:

상기 성분들 외에, 수지, 커플링제, 착색방지제, 착색제 (예를 들어, 안료 및 염료), 소포제, 평활제, 난연제, 자외선 흡수제, 적외선 흡수제, 점착부여제, 중합방지제, 산화방지제, 표면개질제 등이 또한 본 발명의 필름에 첨가될 수 있다.In addition to the above components, resins, coupling agents, colorants, colorants (eg pigments and dyes), antifoams, levelers, flame retardants, ultraviolet absorbers, infrared absorbers, tackifiers, polymerization inhibitors, antioxidants, surface modifiers, and the like This may also be added to the film of the present invention.

1-(18) 지지체:1- (18) support:

본 발명의 필름의 지지체는 특별히 제한되지는 않으며, 이들의 예에는 투명 수지 필름, 투명 수지 평판, 투명 수지 시트 및 투명 유리가 포함된다. 투명 수지 필름의 예에는 셀룰로오스 아실레이트 필름 (예를 들어, 셀룰로오스 트리아세테이트 필름 (굴절률: 1.48), 셀룰로오스 디아세테이트 필름, 셀룰로오스 아세테이트 부티레이트 필름 및 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 필름), 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름, 폴리에테르술폰 필름, 폴리아크릴계 수지 필름, 폴리우레탄 기재 필름, 폴리에스테르 필름, 폴리카르보네이트 필름, 폴리술폰 필름, 폴리에테르 필름, 폴리메틸펜텐 필름, 폴리에테르 케톤 필름 및 (메트)아크릴로니트릴 필름이 포함된다.The support of the film of the present invention is not particularly limited, and examples thereof include a transparent resin film, a transparent resin flat plate, a transparent resin sheet, and a transparent glass. Examples of transparent resin films include cellulose acylate films (eg, cellulose triacetate films (refractive index: 1.48), cellulose diacetate films, cellulose acetate butyrate films and cellulose acetate propionate films), polyethylene terephthalate films, polyethers Contains sulfone films, polyacrylic resin films, polyurethane base films, polyester films, polycarbonate films, polysulfone films, polyether films, polymethylpentene films, polyether ketone films, and (meth) acrylonitrile films do.

<셀룰로오스 아실레이트 필름><Cellulose acylate film>

무엇보다도, 투명성이 높고, 광학 복굴절이 낮고, 제조가 용이하며, 편광판의 보호 필름으로서 일반적으로 사용되는 셀룰로오스 아실레이트 필름이 바람직하고, 셀룰로오스 트리아세테이트 필름이 특히 바람직하다. 더욱이, 투명 지지체의 두께는 통상 25 ㎛ 내지 1,000 ㎛ 이다.Above all, the cellulose acylate film which is high in transparency, low in optical birefringence, is easy to manufacture, and is generally used as a protective film of a polarizing plate, and a cellulose triacetate film is particularly preferable. Moreover, the thickness of the transparent support is usually 25 μm to 1,000 μm.

본 발명에서는, 셀룰로오스 아실레이트 필름용으로 아세틸화 수준이 59.0 내지 61.5 % 인 셀룰로오스 아세테이트를 사용하는 것이 바람직하다.In the present invention, it is preferable to use cellulose acetate having an acetylation level of 59.0 to 61.5% for cellulose acylate film.

여기서 언급되는 "아세틸화 수준" 은 셀룰로오스 단위 중량당 결합된 아세트산의 양을 의미한다. 아세틸화 수준은 ASTM D-817-91 의 측정 및 계산에 따른다 (셀룰로오스 아세테이트 등을 시험하는 시험 방법)."Acetylation level" as referred to herein means the amount of acetic acid bound per unit weight of cellulose. Acetylation levels are in accordance with the measurements and calculations of ASTM D-817-91 (test methods for testing cellulose acetate and the like).

셀룰로오스 아실레이트는 바람직하게는 점도 평균 중합도 (DP) 가 250 이상, 더욱 바람직하게는 290 이상이다.The cellulose acylate preferably has a viscosity average degree of polymerization (DP) of 250 or more, more preferably 290 or more.

더욱이, 본 발명에서 사용되는 셀룰로오스 아실레이트는 겔 투과 크로마토그래피에 의해 측정된 Mw/Mn 값 (여기서, Mw 는 중량평균 분자량을 나타내고, Mn 은 수평균 분자량을 나타냄) 이 1.0 에 근접하는 것이, 즉, 분자량 분포가 좁은 것이 바람직하다. 구체적으로는, Mw/Mn 값은 바람직하게는 1.0 내지 1.7 이고, 더욱 바람직하게는 1.3 내지 1.65 이고, 가장 바람직하게는 1.4 내지 1.6 이다.Moreover, the cellulose acylate used in the present invention has a Mw / Mn value measured by gel permeation chromatography, where Mw represents a weight average molecular weight and Mn represents a number average molecular weight, that is, close to 1.0 Narrow molecular weight distribution is preferable. Specifically, the Mw / Mn value is preferably 1.0 to 1.7, more preferably 1.3 to 1.65, and most preferably 1.4 to 1.6.

일반적으로, 셀룰로오스 아실레이트의 2-, 3- 및 6-위치에서 히드록실기가 전체 치환도의 매 1/3 으로 동등하게 분포하는 것이 아니라고 할 수 있으며, 6-위치에서 히드록실기의 치환도가 작아지는 경향이 있다. 본 발명에서는, 셀룰로오스 아실레이트의 6-위치에서의 히드록실기의 치환도가 2- 또는 3- 위치에서의 것보다 큰 것이 바람직하다.In general, it can be said that the hydroxyl groups at 2-, 3- and 6-positions of cellulose acylate are not distributed equally every third of the total degree of substitution, and the degree of substitution of hydroxyl groups at the 6-position Tends to be small. In this invention, it is preferable that substitution degree of the hydroxyl group in the 6-position of a cellulose acylate is larger than the thing in 2- or 3-position.

상기 위치에서 히드록실기는 바람직하게는 전체 치환도의 32 % 이상, 더욱 바람직하게는 33 % 이상, 특히 바람직하게는 34 % 이상의 비율로 아실기로 치환된다. 덧붙여, 셀룰로오스 아실레이트의 6-위치에서 아실기의 치환도가 0.88 이상인 것이 바람직하다. 6-위치에서 히드록실기는 아세틸기 이외에 탄소수 3 이상의 아실기로 치환될 수 있다 (예를 들어, 프로피오닐기, 부티로일기, 발레로일기, 벤조일기 및 아크릴로일기). 각 위치에서의 치환도의 측정은 NMR 에 의해 결정될 수 있다.The hydroxyl group in this position is preferably substituted with an acyl group in a proportion of at least 32%, more preferably at least 33%, particularly preferably at least 34% of the total degree of substitution. In addition, it is preferable that the substitution degree of an acyl group in the 6-position of a cellulose acylate is 0.88 or more. The hydroxyl group in the 6-position may be substituted with an acyl group having 3 or more carbon atoms in addition to the acetyl group (eg, propionyl group, butyroyl group, valeroyl group, benzoyl group and acryloyl group). Measurement of the degree of substitution at each position can be determined by NMR.

본 발명에서, JP-A-11-5851, 단락 [0043] 내지 [0044], [실시예] [합성예 1], 단락 [0048] 내지 [0049], [합성예 2] 및 단락 [0051] 내지 [0052], [합성예 3] 에 기술된 바와 같은 방법에 의해 수득된 셀룰로오스 아세테이트가 셀룰로오스 아실레이트로서 사용될 수 있다.In the present invention, JP-A-11-5851, paragraphs [0043] to [0044], [Examples] [Synthesis Example 1], paragraphs [0048] to [0049], [Synthesis Example 2], and paragraph [0051] To cellulose acetate obtained by the method as described in Synthesis Example 3 can be used as the cellulose acylate.

<폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름><Polyethylene terephthalate film>

본 발명에서는, 폴리에틸렌 테레프탈레이트 필름 역시 바람직하게 사용되는데, 이는 그것이 투명성, 기계적 강도, 평탄성, 내화학성 및 내습성에서 모두 우수할 뿐 아니라, 저렴하기 때문이다.In the present invention, polyethylene terephthalate film is also preferably used because it is not only excellent in transparency, mechanical strength, flatness, chemical resistance and moisture resistance but also inexpensive.

투명 플라스틱 필름 및 그 상부에 제공될 하드 코트층 (hard coat layer) 의 접착력을 보다 향상시킬 목적을 위하여, 투명 플라스틱 필름을 용이한 접착 처리에 적용하는 것이 더욱 바람직하다.For the purpose of further improving the adhesion of the transparent plastic film and the hard coat layer to be provided thereon, it is more preferable to apply the transparent plastic film to an easy adhesion treatment.

시판되는 광학적 간편 접착층 (optical easy-adhesion layer)-제공 PET 필름으로서, Toyobo Co., Ltd 사에 의해 제조된 COSMOSHINE A4l00 및 A4300 이 열거된다.Commercially available optical easy-adhesion layer-providing PET films include COSMOSHINE A4100 and A4300 manufactured by Toyobo Co., Ltd.

2.반사 방지 필름을 구성하는 층:2.Layer constituting the antireflection film:

본 발명의 반사 방지 필름은, 상기 지지체 상에 상기 각각의 층 구성 성분을 혼합 및 코팅함으로써 수득된다. 다음으로, 본 발명의 반사 방지 필름을 구성하는 층들이 기술될 것이다.The antireflective film of the present invention is obtained by mixing and coating the respective layer constituents on the support. Next, the layers constituting the antireflective film of the present invention will be described.

2-(1) 눈부심 방지층:2- (1) anti-glare layer:

필름에 대하여, 본 발명에서 정의된 바와 같은 표면 산란으로 인한 눈부심 방지 성질 및 바람직하게는 필름의 내반흔성을 향상시키기 위한 하드 코트 성질을 부여하기 위한 목적을 위해 눈부심 방지층을 형성한다.For the film, an anti-glare layer is formed for the purpose of imparting anti-glare properties due to surface scattering as defined in the present invention and preferably hard coat properties for improving the scar resistance of the film.

눈부심 방지층의 형성 방법으로서, JP-A-6-16851 에 기술된 바와 같이 표면에 미세 불규칙성을 갖는 매트형 (mat-like) 형상의 필름 적층에 의하여 눈부심 방지층을 형성하는 방법; JP-A-2000-206317 에 기술된 바와 같이 전리 방사선 조사량의 차이에 기인한, 전리 방사선 경화성 수지의 경화 및 수축에 의한 눈부심 방지층의 형성 방법; JP-A-2000-338310 에 기술된 바와 같이, 반투명 미세 입자 및 반투명 수지의 고체화와 동시에, 건조시에 반투명 수지에 대하여 양호한 용매의 중량비 감소에 의한 겔화와, 그로 인한 필름 표면상에서의 불규칙성 형성에 의한 눈부심 방지층 형성 방법; 및 JP-A-2000-275404 에 기술된 바와 같이, 외부로부터의 압력에 의한 표면 불규칙성의 부여에 의한 눈부심 방지층의 형성 방법이 공지되어 있다. 상기 공지된 방법들이 사용될 수 있다.A method of forming an antiglare layer, comprising: a method of forming an antiglare layer by laminating a film of a mat-like shape having fine irregularities on a surface as described in JP-A-6-16851; A method of forming an anti-glare layer by curing and shrinking of the ionizing radiation curable resin due to the difference in the amount of ionizing radiation as described in JP-A-2000-206317; As described in JP-A-2000-338310, the solidification of the semi-transparent fine particles and the semi-transparent resin, simultaneously with the gelation by reducing the weight ratio of the good solvent to the semi-transparent resin upon drying, resulting in the formation of irregularities on the film surface Anti-glare layer forming method; And JP-A-2000-275404, a method of forming an antiglare layer by imparting surface irregularities by pressure from the outside is known. Known methods can be used.

본 발명에서 사용될 수 있는 눈부심 방지층에서, 하드 코트 성질을 부여할 수 있는 바인더, 눈부심 방지 성질의 부여를 위한 반투명 입자 및 용매가 필수 성분으로서 함유되고, 표면 불규칙성이 반투명 입자 그 자체의 돌출 또는, 복수의 입자의 집적체에 의해 형성된 돌출에 의해 형성되는 것이 바람직하다.In the anti-glare layer which can be used in the present invention, a binder capable of imparting a hard coat property, semi-transparent particles and a solvent for imparting anti-glare properties are contained as essential components, and surface irregularities protrude from the translucent particles themselves, or a plurality of them. It is preferably formed by the protrusion formed by the aggregate of particles of.

매트 입자의 분산에 의해 형성되는 눈부심 방지층은 바인더 및 상기 바인더 중에 분산된 반투명 입자로 만들어진다. 눈부심 방지 성질을 갖는 눈부심 방지층은 눈부심 방지 성질 및 하드 코트 성질을 둘다 갖는 것이 바람직하다.The anti-glare layer formed by the dispersion of the mat particles is made of a binder and semi-transparent particles dispersed in the binder. It is preferable that an anti-glare layer having anti-glare property has both anti-glare property and hard coat property.

적합하게 사용되는 매트 입자의 구체적 예에는 무기 화합물의 입자, 예컨대 실리카 입자 및 TiO2 입자; 및 수지 입자, 예컨대 아크릴계 수지 입자, 가교화 아크릴계 수지 입자, 폴리스티렌 입자, 가교화 스티렌 수지 입자, 멜라민 수지 입자 및 벤조구아나민 입자가 포함된다. 이들 중, 가교화 스티렌 수지 입자, 가교화 아크릴계 수지 입자 및 실리카 입자가 바람직하다.Specific examples of mat particles suitably used include particles of inorganic compounds such as silica particles and TiO 2 particles; And resin particles such as acrylic resin particles, crosslinked acrylic resin particles, polystyrene particles, crosslinked styrene resin particles, melamine resin particles and benzoguanamine particles. Among these, crosslinked styrene resin particles, crosslinked acrylic resin particles and silica particles are preferable.

사용될 수 있는 매트 입자의 형상은 구형 또는 비정형일 수 있다.The shape of the mat particles that can be used can be spherical or amorphous.

매트 입자의 입자 크기 분포는 입자계측기법 (Coulter counter method) 에 의해 측정되며, 측정된 분포는 입자 수 분포로 환산된다.The particle size distribution of the mat particles is measured by the particle counter method, and the measured distribution is converted into the particle number distribution.

상기 입자 중에서 선택된 각각의 반투명 입자의 굴절률에 따라 반투명 수지의 굴절률을 조절함으로써, 본 발명의 내부 헤이즈 및 표면 헤이즈를 이룰 수 있다. 구체적으로는, 주 성분으로서, 후술된 바와 같이 본 발명의 눈부심 방지층에서 바람직하게 사용되는, 3관능성 또는 다관능 (메트)아크릴레이트 단량체(경화 후 굴절률: 1.55 내지 1.70)로 이루어진 반투명 수지 및 50 내지 100 중량% 의 스티렌 함량을 가진 가교 폴리(메트)아크릴레이트 중합체로 이루어진 반투명 입자 및/또는 벤조쿠안아민 입자의 조합이 바람직하며; 상기 반투명 수지 및 50 내지 100 중량%의 스티렌 함량을 가진 가교된 폴리(스티렌-아크릴레이트) 공중합체로 이루어진 반투명 입자의 조합(굴절률: 1.54 내지 1.59)이 특히 바람직하다.By adjusting the refractive index of the translucent resin according to the refractive index of each translucent particle selected from the particles, the internal haze and the surface haze of the present invention can be achieved. Specifically, as the main component, a translucent resin composed of a trifunctional or polyfunctional (meth) acrylate monomer (refractive index after curing: 1.55 to 1.70) and 50, which is preferably used in the anti-glare layer of the present invention as described below, and 50 Combinations of translucent particles and / or benzokuanamine particles consisting of crosslinked poly (meth) acrylate polymers having a styrene content of from 100% by weight to 100% by weight are preferred; Particular preference is given to a combination of semitransparent particles (refractive index: 1.54 to 1.59) consisting of the translucent resin and a crosslinked poly (styrene-acrylate) copolymer having a styrene content of 50 to 100% by weight.

반투명 입자가, 형성된 눈부심 방지층 내에서 눈부심 방지층의 고형물 전체 중 3 내지 30 중량%의 양으로 함유되도록 배합되는 것이 바람직하다. 반투명 입자의 양은 더욱 바람직하게는 5 내지 20 중량% 이다. 반투명 입자의 양이 3 중량% 미만인 경우, 눈부심 방지 특성은 불충분한 반면, 30 중량% 초과인 경우, 이미지의 번짐, 표면의 흐림 및 눈부심과 같은 문제점이 야기된다. The semi-transparent particles are preferably blended in the formed antiglare layer in an amount of 3 to 30% by weight in the total solid of the antiglare layer. The amount of semitransparent particles is more preferably 5 to 20% by weight. When the amount of the semi-transparent particles is less than 3% by weight, the anti-glare property is insufficient, while when the amount of the semi-transparent particles is more than 30% by weight, problems such as blurring of the image, blurring of the surface, and glare are caused.

더욱이, 반투명 입자의 밀도는 바람직하게는 10 내지 1,000 mg/㎡, 더욱 바람직하게는 100 내지 700 mg/㎡ 이다. Moreover, the density of the semi-transparent particles is preferably 10 to 1,000 mg / m 2, more preferably 100 to 700 mg / m 2.

더욱이, 반투명 수지의 굴절률 및 반투명 입자의 굴절률 간의 절대값 차이는 바람직하게는 0.04 이하이다. 반투명 수지의 굴절률 및 반투명 입자의 굴절률간의 절대값 차이는 더욱 바람직하게는 0.001 내지 0.030, 더욱 바람직하게는 0.001 내지 0.020, 특히 바람직하게는 0.001 내지 0.015 이다. 이러한 차이가 0.040 을 초과하는 경우, 필름 문자의 번짐, 다크 룸 콘트라스트의 저하 및 표면의 흐림과 같은 문제가 야기된다. Moreover, the difference in absolute values between the refractive indices of the semitransparent resin and the refractive indices of the semitransparent particles is preferably 0.04 or less. The difference in absolute value between the refractive index of the semitransparent resin and the refractive index of the semitransparent particles is more preferably 0.001 to 0.030, more preferably 0.001 to 0.020, particularly preferably 0.001 to 0.015. If this difference exceeds 0.040, problems such as bleeding of film characters, a decrease in dark room contrast and blurring of the surface are caused.

본원에서, 상기 반투명 수지의 굴절률은 예를 들면, 아베의 굴절계로써의 직접 측정 또는 분광 반사 스펙트럼 측정 또는 분광 엘립소메트리(ellipsometry)로써 정량적으로 결정 및 평가될 수 있다. 상기 반투명 입자의 굴절률은, 혼탁도를 측정하기 위한 상이한 굴절률을 가진 2 종류의 용매의 혼합률을 바꿈으로써 여러가지의 굴절률을 가진 용매 중에 등량의 반투명 입자를 분산시키고 혼탁도가 아베의 굴절계에 의해 최소화되는 용매의 굴절률을 측정함으로써 측정된다Here, the refractive index of the translucent resin can be quantitatively determined and evaluated, for example, by direct measurement with Abbe's refractometer or by spectral reflection spectrum measurement or spectroscopic ellipsometry. The refractive index of the semi-transparent particles is to change the mixing rate of the two kinds of solvents having different refractive index for measuring the turbidity, dispersing the same amount of semi-transparent particles in the solvent having various refractive index, and the turbidity is minimized by Abe's refractometer It is measured by measuring the refractive index of the solvent to be

또한, 상이한 입자 크기를 가진 2 종류 이상의 매트 입자를 함께 사용할 수 있다. 더 큰 입자 크기를 가진 매트 입자로써 눈부심 방지 특성을 부여하고, 더 작은 입자 크기를 가진 매트 입자로써 기타 광학 특성을 각각 부여할 수 있다. 예를 들면, 눈부심 방지 반사방지 필름이 133 ppi 이상을 가진 고해상력 디스플레이 상으로 고착되는 경우에, "눈부심"으로 불리우는 디스플레이 이미지 품질의 결점이 야기될 가능성이 있다. "눈부심"은 픽셀이 눈부심 방지 반사방지 필름의 표면 상에 존재하는 불규칙성에 의해 확대되거나 수축되어 휘도의 균일성을 잃는 점으로부터 유래된다. 눈부심 방지 특성을 부여할 수 있고 바인더 유래의 상이한 굴절률을 함께 가질 수 있는 매트 입자보다 더 작은 입자 크기를 갖는 매트 입자를 이용함으로써 눈부심을 대개 개선시킬 수 있다. It is also possible to use two or more kinds of mat particles having different particle sizes together. Matte particles with larger particle size can impart anti-glare properties, and matte particles with smaller particle size can impart other optical properties, respectively. For example, if an antiglare antireflective film is stuck onto a high resolution display having 133 ppi or more, there is a possibility of causing a defect in display image quality called "glare". "Glare" derives from the point that pixels lose or lose luminance uniformity by being enlarged or shrunk by irregularities present on the surface of the anti-glare antireflective film. Glare can usually be improved by using matt particles having a smaller particle size than matt particles that can impart anti-glare properties and can have different refractive indices from the binder.

눈부심 방지층의 두께는 바람직하게는 1 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게는 1.2 내지 8 ㎛ 이다. 눈부심 방지층이 너무 얇은 경우, 단단한 특성이 불충분한 반면에, 매우 두꺼운 경우에는, 컬 또는 부스러짐성이 악화되어 공정 적용가능성이 가능하게는 낮춰질 수 있다. 따라서, 눈부심 방지층의 두께는 상기 범위 이내에 존재하는 것이 바람직하다. The thickness of the antiglare layer is preferably 1 to 10 µm, more preferably 1.2 to 8 µm. If the anti-glare layer is too thin, the hard properties are insufficient, while if it is very thick, the curling or brittleness may deteriorate and possibly lower the process applicability. Therefore, it is preferable that the thickness of an anti-glare layer exists in the said range.

반면에, 눈부심 방지층의 중심선 평균 거칠기 (Ra) 의 범위는 바람직하게는 0.10 내지 0.40 ㎛ 이다. 눈부심 방지층의 중심선 평균 거칠기 (Ra) 가 0.40 ㎛ 을 초과하는 경우, 눈부심 또는 외부광이 반사될 때 표면의 백색화와 같은 문제점이 야기된다. 더욱이, 전달된 이미지 선명도 (image sharpness) 값은 바람직하게 5 내지 60% 이다. On the other hand, the range of the centerline average roughness Ra of the antiglare layer is preferably 0.10 to 0.40 m. When the centerline average roughness Ra of the anti-glare layer exceeds 0.40 μm, problems such as whitening of the surface are caused when glare or external light is reflected. Moreover, the delivered image sharpness value is preferably 5 to 60%.

눈부심 방지층의 강도는 연필 강도 시험으로써 바람직하게는 H 이상, 더욱 바람직하게는 2H 이상, 가장 바람직하게는 3H 이상이다. The strength of the anti-glare layer is preferably at least H, more preferably at least 2H, most preferably at least 3H, by a pencil strength test.

2-(2) 하드 코트층:2- (2) hard coat layer:

눈부심 방지층에 더하여 필름에 물리적인 강도를 부여하기 위해, 하드 코트층이 본 발명의 필름에 제공될 수 있다. In order to impart physical strength to the film in addition to the anti-glare layer, a hard coat layer may be provided for the film of the present invention.

바람직하게는, 저굴절률층이 그 위에 제공되고; 더욱 바람직하게는, 중굴절률층 및 고굴절률층이 하드 코트층 및 저굴절률층 사이에 제공되어 반사방지 필름을 이룬다. Preferably, a low refractive index layer is provided thereon; More preferably, a medium refractive index layer and a high refractive index layer are provided between the hard coat layer and the low refractive index layer to form an antireflection film.

하드 코트층은 2 개 이상의 층의 스택(stack)으로써 이루어질 수 있다. The hard coat layer may consist of a stack of two or more layers.

본 발명에서, 반사방지 필름의 수득을 위한 광학적 디자인에 따르면 하드 코트층은 바람직하게 1.48 내지 2.00 의 굴절률, 바람직하게는 1.52 내지 1.90 의 굴절률, 더 바람직하게는 1.55 내지 1.80 의 굴절률을 가진다. 본 발명에서, 하나 이상의 저굴절률층이 하드 코트층 상에 존재하기 때문에, 굴절률이 이러한 범위와 비교시 매우 낮은 경우, 반사방지 특성이 감소되는 반면에, 굴절률이 매우 큰 경우에는, 반사 광의 색감이 강해지는 경향이 있다. In the present invention, according to the optical design for obtaining the antireflective film, the hard coat layer preferably has a refractive index of 1.48 to 2.00, preferably a refractive index of 1.52 to 1.90, more preferably a refractive index of 1.55 to 1.80. In the present invention, since at least one low refractive index layer is present on the hard coat layer, when the refractive index is very low compared with this range, the antireflection property is reduced, whereas when the refractive index is very large, the color of the reflected light is decreased. Tends to be strong.

충분한 내구력 및 필름에 대한 충격 내성을 부여하는 관점에서 볼 때, 하드 코트층의 두께는 통상적으로는 약 0.5 ㎛ 내지 50 ㎛, 바람직하게는 1 ㎛ 내지 20 ㎛, 더욱 바람직하게는 2 ㎛ 내지 10 ㎛, 가장 바람직하게는 3 ㎛ 내지 7 ㎛ 이다. In view of imparting sufficient durability and impact resistance to the film, the thickness of the hard coat layer is usually about 0.5 μm to 50 μm, preferably 1 μm to 20 μm, more preferably 2 μm to 10 μm. And most preferably from 3 μm to 7 μm.

더욱이, 하드 코트층의 강도는 연필 강도 시험으로써 바람직하게는 H 이상, 더욱 바람직하게는 2H 이상, 가장 바람직하게는 3 H 이상이다. Moreover, the strength of the hard coat layer is preferably at least H, more preferably at least 2H, most preferably at least 3H, by a pencil strength test.

게다가, 상기 시험 전 후의 견본의 마모량이 JIS K5400 에 따른 테이버 시험(taber test) 에서 가능한 한 적은 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the amount of wear of the specimen before and after the test is as small as possible in a taper test according to JIS K5400.

하드 코트층이 전리 방사선 경화성 화합물의 가교 반응 또는 중합 반응으로써 형성되는 것이 바람직하다. 예를 들면, 전리 방사선 경화성 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머를 함유하는 코팅 조성물을 투명 지지체 상에서 코팅하고 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머를 가교 반응 또는 중합 반응에 적용함으로써 하드 코트층을 형성할 수 있다. It is preferable that a hard-coat layer is formed by the crosslinking reaction or polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound. For example, a hard coat layer can be formed by coating a coating composition containing an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer on a transparent support and applying the polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer to a crosslinking reaction or a polymerization reaction.

전리 방사선 경화성 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머의 관능기로서, 광중합성 관능기, 전자빔 중합성 관능기 및 방사선 중합성 관능기가 바람직하고, 광중합성 관능기가 특히 바람직하다. As a functional group of an ionizing radiation curable polyfunctional monomer or a polyfunctional oligomer, a photopolymerizable functional group, an electron beam polymerizable functional group, and a radiation polymerizable functional group are preferable, and a photopolymerizable functional group is especially preferable.

광중합성 관능기의 예에는 불포화 중합성 관능기, 예컨대 (메트)아크릴로일기, 비닐기, 스티릴기 및 알릴기가 포함되고, (메트)아클릴로일기가 바람직하다. Examples of the photopolymerizable functional group include unsaturated polymerizable functional groups such as (meth) acryloyl group, vinyl group, styryl group and allyl group, and a (meth) acryloyl group is preferable.

내부 산란 특성을 부여하기 위한 목적으로, 1.0 내지 10.0 ㎛, 바람직하게는 1.5 내지 7.0 ㎛ 의 평균 입자 크기를 가진 매트 입자, 예를 들면 무기 화합물의 입자 또는 수지 입자가 하드 코트층 내에 함유될 수 있다. For the purpose of imparting internal scattering properties, mat particles having an average particle size of 1.0 to 10.0 μm, preferably 1.5 to 7.0 μm, for example inorganic particles or resin particles may be contained in the hard coat layer. .

하드 코트층의 굴절률을 제어하기 위해서, 고굴절률 단량체 또는 무기 입자 또는 그 둘 모두가 하드 코트층의 바인더에 첨가될 수 있다. 무기 입자는 굴절률을 제어하는 효과에 덧붙여 가교 반응으로 인한 경화 및 수축을 억제하는 효과를 가진다. 본 발명에서, 이는 상기의 다관능 단량체 및/또는 고굴절률 단량체 등의 중합으로써 형성된 바와 같은 중합체 및 하드 코트층의 형성 후 그 안에서 확산된 바와 같은 무기 입자를 포함하는 바인더라 한다. In order to control the refractive index of the hard coat layer, high refractive index monomers or inorganic particles or both may be added to the binder of the hard coat layer. The inorganic particles have an effect of suppressing hardening and shrinkage due to the crosslinking reaction in addition to the effect of controlling the refractive index. In the present invention, this is referred to as a binder comprising a polymer as formed by polymerization of the above polyfunctional monomer and / or a high refractive index monomer and the like and inorganic particles as diffused therein after formation of the hard coat layer.

이미지 선명도를 유지하기 위해, 표면의 불규칙한 모양을 조절하는 것 외에, 전달된 이미지 선명도를 조절하는 것이 바람직하다. 선명한 반사방지 필름은 바람직하게는 60% 이상의 전달된 이미지 선명도를 가진다. 전달된 이미지 선명도는 일반적으로 필름을 통해 전달되고 영사된 이미지의 번지는 상태를 나타내는 지수이다. 이 값이 클수록, 필름을 통해 보여지는 이미지의 선명도는 더 좋아진다. 전달된 이미지 선명도는 바람직하게는 70% 이상, 더욱 바람직하게는 80% 이상이다. In order to maintain image sharpness, in addition to controlling the irregular shape of the surface, it is desirable to adjust the transmitted image sharpness. The clear antireflective film preferably has a delivered image clarity of at least 60%. The transmitted image clarity is generally an index indicating the blurring state of the image transmitted and projected through the film. The higher this value, the better the clarity of the image seen through the film. The delivered image sharpness is preferably at least 70%, more preferably at least 80%.

2-(3) 고굴절률층 및 중굴절률층:2- (3) high and medium refractive index layers:

본 발명의 필름에서, 반사방지 특성은 고굴절률층 및 중굴절률층을 제공함으로써 강화될 수 있다. In the film of the present invention, the antireflection property can be enhanced by providing a high refractive index layer and a medium refractive index layer.

본 명세서에서, 고굴절률층 및 중굴절률층은 종종 총칭적으로 고굴절률층으로 불리운다. 덧붙여 말하자면, 본 발명에서 고굴절률층, 중굴절률층 및 저굴절률층에서의 용어 "고", "중" 및 "저" 는 층들간 상대적으로 크고 작은 상호 관계를 표현한다. 더욱이, 투명 지지체와의 관계가 관련되는 한, 굴절률은 [(투명 지지체)>(저굴절률층)] 및 [(고굴절률층)>(투명 지지체)]의 관계를 만족하는 것이 바람직하다. In this specification, the high refractive index layer and the medium refractive index layer are often referred to collectively as the high refractive index layer. Incidentally, in the present invention, the terms "high", "medium" and "low" in the high refractive index layer, the medium refractive index layer, and the low refractive index layer express relatively large and small interrelationships between layers. Moreover, as long as the relationship with the transparent support is related, the refractive index preferably satisfies the relationship of [(transparent support)> (low refractive index layer)] and [(high refractive index layer)> (transparent support)].

더욱이, 본 명세서에서, 고굴절률층, 중굴절률층 및 저굴절률층은 종종 총칭적으로 반사방지층으로서 불리울 것이다. Moreover, in this specification, the high refractive index layer, the medium refractive index layer and the low refractive index layer will often be referred to collectively as an antireflection layer.

고굴절률층 상에 저굴절률층을 구축하여 반사방지 필름을 제조하기 위해서, 고굴절률층은 바람직하게는 1.55 내지 2.40, 더욱 바람직하게는 1.60 내지 2.20, 더욱 바람직하게 1.65 내지 2.10, 가장 바람직하게 1.80 내지 2.00 의 굴절률을 가진다. In order to form a low refractive index layer on the high refractive index layer to produce an antireflection film, the high refractive index layer is preferably 1.55 to 2.40, more preferably 1.60 to 2.20, more preferably 1.65 to 2.10, most preferably 1.80 to It has a refractive index of 2.00.

중굴절률층, 고굴절률층 및 저굴절률층이 이러한 순서로 지지체 상에 코팅되고 제공되어 반사방지 필름을 제조하는 경우에서, 고굴절률층은 바람직하게 1.65 내지 2.40, 더 바람직하게는 1.70 내지 2.20 의 굴절률을 가진다. 중굴절률층의 굴절률은 저굴절률층의 굴절률 및 고굴절률층의 굴절률 사이의 값을 갖도록 조절된다. 중굴절률층의 굴절률은 바람직하게 1.55 내지 1.80 이다. In the case where the medium refractive index layer, the high refractive index layer and the low refractive index layer are coated and provided on the support in this order to prepare the antireflection film, the high refractive index layer is preferably 1.65 to 2.40, more preferably 1.70 to 2.20 Has The refractive index of the medium refractive index layer is adjusted to have a value between the refractive index of the low refractive index layer and the refractive index of the high refractive index layer. The refractive index of the medium refractive index layer is preferably 1.55 to 1.80.

고굴절률층 및 중굴절률층에서 사용된, 주 성분으로서 TiO2 로 이루어진 무기 입자는 고굴절률층 및 중굴절률층의 형성을 위해 분산 상태에서 사용된다. Inorganic particles composed of TiO 2 as a main component, used in the high refractive index layer and the medium refractive index layer, are used in a dispersed state for formation of the high refractive index layer and the medium refractive index layer.

상기 무기 입자를 분산시에, 무기 입자는 분산제의 존재하에서 분산 매질 내 분산된다. Upon dispersing the inorganic particles, the inorganic particles are dispersed in the dispersion medium in the presence of a dispersant.

본 발명에서 사용된 고굴절률층 및 중굴절률층을, 바람직하게 매트릭스 형성에 필수적인 바인더 전구체(예를 들면, 후술된 바와 같은 전리 방사선 경화성 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머), 광중합 개시제 등을 분산 매질 내 분산된 무기 입자를 가진 분산액 중에 추가로 첨가함으로써 형성시켜, 고굴절률층 형성용 코팅 조성물 및 중굴절률층 형성용 코팅 조성물을 제조하고, 고굴절률층 형성용 코팅 조성물 및 중굴절률층 형성 용 코팅 조성물을 투명 지지체 상에 코팅하고, 이어서 이들을 전리 방사선 경화성 화합물(예를 들면, 다관능 단량체 및 다관능 올리고머)의 중합 반응 또는 가교 반응에 의해 경화시키는 것이 바람직하다. The high refractive index layer and the medium refractive index layer used in the present invention preferably contain a binder precursor (e.g., ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer as described below), a photopolymerization initiator, and the like, which are essential for matrix formation, in a dispersion medium. It is formed by further addition in a dispersion having dispersed inorganic particles to prepare a coating composition for forming a high refractive index layer and a coating composition for forming a medium refractive index layer, and a coating composition for forming a high refractive index layer and a coating composition for forming a medium refractive index layer. It is preferable to coat on a transparent support and then to cure them by polymerization reaction or crosslinking reaction of an ionizing radiation curable compound (for example, polyfunctional monomer and polyfunctional oligomer).

게다가, 고굴절률층의 바인더 및 중굴절률의 바인더는 상기 층을 코팅할 때 또는 코팅 후에 분산제를 이용하여 가교 반응 또는 중합 반응에 적용하는 것이 바람직하다. In addition, the binder of the high refractive index layer and the binder of the medium refractive index are preferably applied to the crosslinking reaction or the polymerization reaction using a dispersant when coating the layer or after coating.

이에 따라 제조된 고굴절률층의 바인더 및 중굴절률층의 바인더에서, 예를 들면 상기 바람직한 분산제 및 전리 방사선 경화성 다관능 단량체 또는 다관능 올리고머는 가교 반응 또는 중합 반응을 거치고, 이에 의해 분산제의 음이온성 기는 바인더 각각으로 들어간다. 더욱이, 고굴절률층의 바인더 및 중굴절률층의 바인더 각각에서 음이온성 기는 무기 입자의 분산 상태를 유지하는 기능을 가지며, 가교 또는 중합 구조는 바인더에 필름 형성 능력을 부여하여, 무기 입자를 각각 함유하는 고굴절률층 및 중굴절률층의 물리적 강도, 내화학성 및 내후성을 개선한다. In the binder of the high refractive index layer and the binder of the medium refractive index layer thus prepared, for example, the preferred dispersant and the ionizing radiation curable polyfunctional monomer or polyfunctional oligomer undergo a crosslinking reaction or a polymerization reaction, whereby the anionic groups of the dispersant Enter each binder. Furthermore, in each of the binder of the high refractive index layer and the binder of the medium refractive index layer, the anionic groups have a function of maintaining the dispersed state of the inorganic particles, and the crosslinked or polymerized structure imparts a film forming ability to the binder, thereby containing inorganic particles, respectively. It improves the physical strength, chemical resistance and weather resistance of the high refractive index layer and the medium refractive index layer.

고굴절률층의 바인더는 대상 층의 코팅 조성물의 고형물 함량을 기준으로 5 내지 80 중량% 양으로 첨가된다. The binder of the high refractive index layer is added in an amount of 5 to 80% by weight based on the solids content of the coating composition of the target layer.

고굴절률층에서 무기 입자의 함량은 고굴절률층의 중량을 기준으로 하여 바람직하게 10 내지 90 중량%, 더욱 바람직하게는 15 내지 80 중량%, 특히 바람직하게는 15 내지 75 중량% 이다. 2 종류 이상의 무기 입자는 고굴절률층 내에서 함께 사용될 수 있다. The content of the inorganic particles in the high refractive index layer is preferably 10 to 90% by weight, more preferably 15 to 80% by weight, particularly preferably 15 to 75% by weight based on the weight of the high refractive index layer. Two or more kinds of inorganic particles may be used together in the high refractive index layer.

저굴절률층이 고굴절률층 상에 존재하는 경우에는, 고굴절률층의 굴절률이 투명 지지체의 굴절률보다 더 큰 것이 바람직하다. When the low refractive index layer is present on the high refractive index layer, it is preferable that the refractive index of the high refractive index layer is larger than that of the transparent support.

고굴절률층에서, 가교 또는 중합 반응에 의해 수득가능한 바인더, 예컨대 방향족 고리-함유 전리 방사선 경화성 화합물, 불소 이외의 할로겐 원자(예를 들면, Br, I 및 Cl)를 함유하는 전리 방사선 경화성 화합물 및 원자, 예컨대 S, N 및 P 를 함유하는 전리 방사선 경화성 화합물이 또한 바람직하게 사용될 수 있다. In the high refractive index layer, binders obtainable by crosslinking or polymerization reactions such as aromatic ring-containing ionizing radiation curable compounds, ionizing radiation curable compounds and atoms containing halogen atoms other than fluorine (eg, Br, I and Cl) For example, ionizing radiation curable compounds containing S, N and P can also be preferably used.

고굴절률층의 두께는 적용에 따라 적당하게 설계될 수 있다. 고굴절률층이 후술된 바와 같이 광 간섭층으로서 사용되는 경우, 이의 두께는 바람직하게는 30 내지 200 nm, 더욱 바람직하게는 50 내지 170 nm, 특히 바람직하게는 60 내지 150 nm 이다. The thickness of the high refractive index layer can be appropriately designed depending on the application. When the high refractive index layer is used as the optical interference layer as described below, the thickness thereof is preferably 30 to 200 nm, more preferably 50 to 170 nm, particularly preferably 60 to 150 nm.

고굴절률층이 눈부심 방지 기능을 부여할 수 있는 입자를 함유하지 않는 경우에는, 고굴절률층의 헤이즈가 가능한 한 낮은 것이 바람직하다. 상기 헤이즈는 바람직하게는 5 % 이하, 더욱 바람직하게는 3% 이하, 특히 바람직하게는 1 % 이하이다. When the high refractive index layer does not contain particles capable of imparting an antiglare function, it is preferable that the haze of the high refractive index layer is as low as possible. The haze is preferably 5% or less, more preferably 3% or less, particularly preferably 1% or less.

고굴절률층이 상기 투명한 지지체 상에 직접적으로 또는 다른 층을 통해 구축되는 것이 바람직하다. It is preferred that a high refractive index layer is built on the transparent support directly or through another layer.

2-(4) 저굴절률층:2- (4) low refractive index layer:

본 발명의 필름의 반사율을 낮추기 위해, 저굴절률층을 이용하는 것이 요구된다. In order to lower the reflectance of the film of this invention, it is required to use a low refractive index layer.

저굴절률층은 바람직하게는 1.20 내지 1.46, 더욱 바람직하게는 1.25 내지 1.46, 특히 바람직하게는 1.30 내지 1.46 의 굴절률을 가진다. The low refractive index layer preferably has a refractive index of 1.20 to 1.46, more preferably 1.25 to 1.46, particularly preferably 1.30 to 1.46.

저굴절률층은 바람직하게 50 내지 200 nm, 더욱 바람직하게는 70 내지 100 nm 의 두께를 가진다. 저굴절률층은 바람직하게는 3% 이하, 더욱 바람직하게는 2% 이하, 가장 바람직하게는 1 % 이하의 헤이즈를 가진다. 구체적으로, 저굴절률층은 500 g 의 하중을 이용한 연필 경도 테스트에 의해, 바람직하게는 H 이상, 더욱 바람직하게는 2H 이상, 가장 바람직하게는 3H 이상의 강도를 가진다. The low refractive index layer preferably has a thickness of 50 to 200 nm, more preferably 70 to 100 nm. The low refractive index layer preferably has a haze of 3% or less, more preferably 2% or less, most preferably 1% or less. Specifically, the low refractive index layer has a strength of preferably at least H, more preferably at least 2H, most preferably at least 3H, by a pencil hardness test using a load of 500 g.

더욱이, 광학 필름의 방오 성능을 개선하기 위해, 표면 상의 물에 대한 접촉각은 바람직하게는 90°이상, 더욱 바람직하게는 95°이상, 특히 바람직하게는 100°이상이다. Moreover, in order to improve the antifouling performance of the optical film, the contact angle with respect to water on the surface is preferably at least 90 °, more preferably at least 95 °, particularly preferably at least 100 °.

상기 경화성 조성물은 (A) 상기 불소-함유 중합체, (B) 무기 입자 및 (C) 유기실란 화합물을 포함하는 것이 바람직하다. It is preferable that the said curable composition contains (A) the said fluorine-containing polymer, (B) inorganic particle, and (C) organosilane compound.

본 발명의 미세 입자를 분산하고 고정하기 위해, 바인더가 저굴절률층에서 사용된다. 앞서 기재된 하드 코트층에서의 바인더가 바인더로서 사용될 수 있으나, 불소-함유 중합체 또는 바인더 그 자체의 저굴절률을 가진 불소-함유 졸-겔 원료를 사용하는 것이 바람직하다. 불소-함유 중합체 또는 불소-함유 졸-겔은 바람직하게는 열 또는 전리 방사선으로써 가교된 원료이고 여기서 형성된 저굴절률층의 표면은 0.03 내지 0.30의 동적 마찰계수 및 85 내지 120°의 물에 대한 접촉각을 가진다. In order to disperse and fix the fine particles of the present invention, a binder is used in the low refractive index layer. Although the binder in the hard coat layer described above can be used as the binder, it is preferable to use a fluorine-containing sol-gel raw material having a low refractive index of the fluorine-containing polymer or the binder itself. The fluorine-containing polymer or fluorine-containing sol-gel is preferably a raw material crosslinked with heat or ionizing radiation and the surface of the low refractive index layer formed here has a dynamic friction coefficient of 0.03 to 0.30 and a contact angle to water of 85 to 120 °. Have

2-(5) 대전방지층 및 전도성 층:2- (5) antistatic and conductive layers:

본 발명에서, 필름 표면 상의 정전기제거 관점에서 볼 때 대전방지층을 제공하는 것이 바람직하다. 대전방지층의 형성 방법의 예에는 통상적으로 공지된 방법, 예컨대 전도성 미세 입자 및 반응성 경화성 수지를 함유하는 전도성 코팅 용액의 코팅 방법 및 투명 필름 등을 형성할 수 있는 금속 또는 산화금속의 스퍼터링(sputtering) 또는 증착에 의한 전도성 박막 형성 방법이 포함된다. 전도성 층은 지지체에 부착을 강화할 수 있는 프라이머(primer) 층을 통하거나 또는 직접 지지체 상에 형성될 수 있다. 더욱이, 대전방지층은 반사방지 필름의 일부로서 사용될 수 있다. 이러한 경우, 대전방지층이 최외 층에 가까운 층에 사용되는 경우, 심지어 필름이 얇은 경우에도, 대전방지 특성을 충분히 수득하는 것이 가능하다. In the present invention, it is desirable to provide an antistatic layer in view of the static elimination on the film surface. Examples of the method of forming the antistatic layer include conventionally known methods, such as a method of coating a conductive coating solution containing conductive fine particles and a reactive curable resin, and sputtering of metal or metal oxide capable of forming a transparent film, or the like. The conductive thin film formation method by vapor deposition is included. The conductive layer can be formed on the support directly or through a primer layer that can enhance adhesion to the support. Moreover, the antistatic layer can be used as part of the antireflective film. In this case, when the antistatic layer is used for the layer closest to the outermost layer, it is possible to sufficiently obtain the antistatic property even if the film is thin.

대전방지층은 바람직하게 0.01 내지 10 ㎛, 더욱 바람직하게 0.03 내지 7 ㎛, 더욱 바람직하게 0.05 내지 5 ㎛ 의 두께를 가진다. 대전방지층은 바람직하게는 표면 저항력이 105 내지 1012 Ω/sq, 더욱 바람직하게는 105 내지 109 Ω/sq, 가장 바람직하게는 105 내지 108 Ω/sq 이다. 표면 저항력은 4 개의 탐침 방법에 의해 측정될 수 있다. The antistatic layer preferably has a thickness of 0.01 to 10 μm, more preferably 0.03 to 7 μm, more preferably 0.05 to 5 μm. The antistatic layer preferably has a surface resistivity of 10 5 to 10 12 dl / sq, more preferably 10 5 to 10 9 dl / sq, most preferably 10 5 to 10 8 dl / sq. Surface resistivity can be measured by four probe methods.

대전방지층이 실질적으로 투명한 것이 바람직하다. 구체적으로, 대전방지층은 바람직하게는 10% 이하, 더욱 바람직하게는 5% 이하, 더욱 바람직하게는 3 % 이하, 가장 바람직하게는 1% 이하의 헤이즈를 가진다. 대전방지층은 바람직하게는 550 nm 파장의 광에 대한 투과율이 50% 이상, 더욱 바람직하게는 60% 이상, 더욱 바람직하게는 65% 이상, 가장 바람직하게는 70% 이상이다. It is preferable that the antistatic layer is substantially transparent. Specifically, the antistatic layer preferably has a haze of 10% or less, more preferably 5% or less, more preferably 3% or less, most preferably 1% or less. The antistatic layer preferably has a transmittance of 50% or more, more preferably 60% or more, more preferably 65% or more, and most preferably 70% or more for light having a wavelength of 550 nm.

본 발명의 대전방지층은 강도면에서 우수하다. 구체적으로, 대전방지층은 1kg 의 하중의 연필 강도로 환산하여 바람직하게는 H 이상, 더욱 바람직하게는 2H 이상, 더욱 바람직하게는 3H 이상, 가장 바람직하게는 4 H 이상의 강도를 가진다. The antistatic layer of the present invention is excellent in strength. Specifically, the antistatic layer preferably has a strength of at least H, more preferably at least 2H, more preferably at least 3H, and most preferably at least 4H, in terms of pencil strength of a load of 1 kg.

2-(6) 방오층:2- (6) antifouling layer:

본 발명의 최외 표면 상에 방오층을 제공하는 것이 가능하다. 방오층은 반사방지층의 표면 에너지를 감소시켜 친수성 또는 친유성 얼룩이 거의 부착되지 않게 한다. It is possible to provide an antifouling layer on the outermost surface of the present invention. The antifouling layer reduces the surface energy of the antireflective layer so that the hydrophilic or lipophilic stain is hardly attached.

방오층은 불소-함유 중합체 또는 방오제를 이용함으로써 형성될 수 있다. The antifouling layer can be formed by using a fluorine-containing polymer or an antifouling agent.

방오층은 바람직하게는 2 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 5 내지 30 nm 의 두께를 가진다. The antifouling layer preferably has a thickness of 2 to 100 nm, more preferably 5 to 30 nm.

2-(7) 간섭 불균일(분광 불균일) 방지용 층 2- (7) Interference Nonuniformity (Spectral Nonuniformity) Prevention Layer

투명 지지체 및 하드 코트층 간 또는 투명 지지체 및 눈부심 방지층 간의 실질적인 굴절률 차가 존재하는 경우(굴절률 차가 0.3 이상임)에는, 반사광이 투명 지지체 및 하드 코트층 간 또는 투명 지지체 및 눈부심 방지층 간의 경계면 상에 발생된다. 상기 반사광은 가능하게는 반사방지층의 표면 상에 반사광에 의해 간섭될 수 있어, 하드 코트층 (또는 눈부심 방지층)의 두께에서 미미한 불균일로 인해 야기된 간섭 불균일을 발생시킨다. 그러한 간섭 불균일을 방지하기 위해, 투명 지지체 및 하드 코트층 (또는 눈부심 방지층) 사이에, 예컨대 중굴절률 np 를 갖고 그의 두께 dp 가 하기 식을 만족하는 간섭 불균일 방지용 층이 또한 제공될 수 있다:When there is a substantial difference in refractive index between the transparent support and the hard coat layer or between the transparent support and the anti-glare layer (the refractive index difference is 0.3 or more), reflected light is generated on the interface between the transparent support and the hard coat layer or between the transparent support and the anti-glare layer. The reflected light may possibly be interfered by reflected light on the surface of the antireflective layer, resulting in interference unevenness caused by a slight unevenness in the thickness of the hard coat layer (or anti-glare layer). In order to prevent such interference unevenness, an interference non-uniformity prevention layer may also be provided between the transparent support and the hard coat layer (or anti-glare layer), for example having a medium refractive index n p and whose thickness d p satisfies the following equation:

수식(dFormula (d pp ))

dp = (2N-1) × λ/(4np)d p = (2N-1) x λ / (4n p )

상기 식에서, λ 는 가시광선의 파장을 나타내고 그 값은 450 내지 650 nm 범위 내 임의의 값이며; N 은 자연수를 나타낸다. Wherein λ represents the wavelength of visible light and the value is any value in the range from 450 to 650 nm; N represents a natural number.

더욱이, 반사방지 필름이 영상 표시 등 상으로 고착되는 경우, 압력 민감성 부착층 (또는 부착층)이 반사방지층이 스택되지 않은 투명 지지체 면에 스택되는 경우가 있을 수 있다. 그러한 구현예에서는, 투명 지지체 및 압력 민감성 부착층 (또는 부착층) 간의 굴절률의 실질적인 차 (0.3 이상) 가 존재하는 경우에 투명 지지체 및 압력 민감성 부착층 (또는 부착층) 간에 반사광이 발생되는 경우가 있을 수 있고, 상기 반사광은 반사방지층 등의 표면 상에 반사광에 의해 간섭되어 상기 경우와 마찬가지로 지지체 또는 하드 코트층의 두께에 있어서의 불균일로 인해 야기된 간섭 불균일이 발생된다. 그러한 간섭 불균일을 방지하기 위해, 반사방지층이 스택되지 않은 투명 지지체의 면에, 간섭 불균일을 방지하기 위한 상기 층과 유사한 간섭 불균일 방지용 층이 제공될 수 있다. Moreover, when the antireflective film is fixed onto an image display or the like, there may be a case where the pressure sensitive adhesive layer (or adhesive layer) is stacked on the transparent support surface on which the antireflective layer is not stacked. In such embodiments, there is a case where reflected light is generated between the transparent support and the pressure sensitive adhesion layer (or adhesion layer) when there is a substantial difference (0.3 or more) of the refractive index between the transparent support and the pressure sensitive adhesion layer (or adhesion layer). The reflected light may be interfered by the reflected light on the surface of the antireflective layer or the like to generate interference nonuniformity caused by the nonuniformity in the thickness of the support or the hard coat layer as in the above case. To prevent such interference nonuniformity, an interference nonuniformity prevention layer similar to the above layer for preventing interference nonuniformity may be provided on the side of the transparent support on which the antireflection layer is not stacked.

덧붙여, 상기 간섭 불균일 방지용 층은 JP-A-2004-345333 에 상세히 기재되어 있으며, 이 특허 문헌에 제시된 바와 같은 간섭 불균일 방지용 층이 또한 본 발명에 활용될 수 있다. In addition, the interference non-uniformity preventing layer is described in detail in JP-A-2004-345333, and the interference non-uniformity preventing layer as set forth in this patent document can also be utilized in the present invention.

2-(8) 용이한 부착층:2- (8) easy adhesion layer:

용이한 부착층은 본 발명의 필름에 코팅되고 제공될 수 있다. 본원에서 언급된 "용이한 부착층" 이란, 예를 들면 편광판용 보호 필름 및 그의 인접 층 또는 하드 코트층 및 지지체를 서로 용이하게 부착하게 하는 기능을 부여할 수 있는 층을 의미한다. Easy adhesion layers may be coated and provided on the films of the present invention. As used herein, the term "easy adhesion layer" means a layer that can impart a function of, for example, easily attaching a protective film for a polarizing plate and its adjacent layer or hard coat layer and a support to each other.

용이한 부착 처리의 예에는 용이한 부착층을 폴리에스테르, 아크릴산 에스테르, 폴리우레탄, 폴리에틸렌이민, 실란 커플링제 등으로 이루어진 용이한 접착제로써 투명한 플라스틱 필름 상에 용이한 부착층을 제공하는 처리가 포함된다. Examples of easy adhesion treatment include treatment of providing an easy adhesion layer on a transparent plastic film with an easy adhesive consisting of the polyester, acrylic acid ester, polyurethane, polyethyleneimine, silane coupling agent and the like. .

본 기술에 바람직하게 사용된 용이한 부착층의 예에는 -COOM 기 (식 중, M 은 수소 원자 또는 양이온을 나타냄)를 함유하는 중합체 화합물을 함유하는 층이 포함된다. 더 바람직한 구현예는 -COOM 기-함유 중합체 화합물을 함유하는 층이 필름 기판의 측면에 제공되고, 주 성분으로서 친수성 중합체 화합물을 함유하는 층이 편광 필름의 측면 내 거기에 인접해 제공되어 있는 것과 관련된다. 본원에서 언급된 -COOM 기-함유 중합체 화합물의 예에는 -COOM 기-함유 스티렌 말레산 공중합체 및 -COOM 기-함유 비닐 아세테이트-말레산 공중합체 또는 비닐 아세테이트-말레산-무수 말레산 공중합체가 포함된다. -COOM 기-함유 비닐 아세테이트-말레산 공중합체를 사용하는 것이 특히 바람직하다. 상기 중합체 화합물은 단독으로 또는 그의 2 종류 이상을 혼합하여 사용되고, 이의 중량평균 분자량은 바람직하게 약 500 내지 500,000 이다. -COOM 기-함유 중합체 화합물의 특히 바람직한 예로서 JP-A-6-094915 에 기재된 것 및 JP-A-7-333436 에 기재된 것이 적절하게 사용된다. Examples of easy adhesion layers which are preferably used in the present technology include layers containing polymer compounds containing -COOM groups, wherein M represents a hydrogen atom or a cation. A more preferred embodiment relates to the fact that a layer containing a -COOM group-containing polymer compound is provided on the side of the film substrate and a layer containing the hydrophilic polymer compound as a main component is provided adjacent therein in the side of the polarizing film. do. Examples of the -COOM group-containing polymer compounds mentioned herein include -COOM group-containing styrene maleic acid copolymers and -COOM group-containing vinyl acetate-maleic acid copolymers or vinyl acetate-maleic acid-maleic anhydride copolymers. Included. Particular preference is given to using -COOM group-containing vinyl acetate-maleic acid copolymers. The polymer compound is used alone or in combination of two or more thereof, and its weight average molecular weight is preferably about 500 to 500,000. Particularly preferred examples of the -COOM group-containing polymer compound include those described in JP-A-6-094915 and those described in JP-A-7-333436.

더욱이, 친수성 중합체 화합물의 바람직한 예에는 친수성 셀룰로오스 유도체 (예를 들면, 메틸 셀룰로오스, 카르복시메틸 셀룰로오스 및 히드록시셀룰로오스), 폴리비닐 알콜 유도체 (예를 들면, 폴리비닐 알콜, 비닐 아세테이트-비닐 알콜 공중합체, 폴리비닐 아세탈, 폴리비닐 포르말 및 폴리비닐 벤잘), 천연 중합체 화합물(예를 들면, 젤라틴, 카제인 및 아라비아고무), 친수성 폴리에스테르 유도체 (예를 들면, 부분 술포네이트화 폴리에틸렌 테레프탈레이트) 및 친수성 폴리비닐 유도체 (예를 들면, 폴리-N-비닐피롤리돈, 폴리아크릴아미드, 폴리비닐 인다졸 및 폴리비닐 피라졸)이 포함된다. 상기 친수성 중합체 화합물은 단독으로 또는 그의 2 종류 이상이 혼합되어 사용된다. Moreover, preferred examples of hydrophilic polymer compounds include hydrophilic cellulose derivatives (eg methyl cellulose, carboxymethyl cellulose and hydroxycellulose), polyvinyl alcohol derivatives (eg polyvinyl alcohol, vinyl acetate-vinyl alcohol copolymers, Polyvinyl acetal, polyvinyl formal and polyvinyl benzal), natural polymer compounds (e.g. gelatin, casein and gum arabic), hydrophilic polyester derivatives (e.g. partially sulfonated polyethylene terephthalate) and hydrophilic poly Vinyl derivatives (eg, poly-N-vinylpyrrolidone, polyacrylamide, polyvinyl indazole and polyvinyl pyrazole). The said hydrophilic polymer compound is used individually or in mixture of 2 or more types.

용이한 부착층은 바람직하게는 0.05 내지 1.0 ㎛ 의 두께를 가진다. 용이한 부착층의 두께가 0.05 ㎛ 미만인 경우, 충분한 부착성이 거의 수득되지 않는 반면에, 1.0 ㎛ 를 초과하는 경우에는, 부착 효과는 포화된다. The easy adhesion layer preferably has a thickness of 0.05 to 1.0 μm. When the thickness of the easy adhesion layer is less than 0.05 mu m, sufficient adhesion is hardly obtained, whereas when it exceeds 1.0 mu m, the adhesion effect is saturated.

2-(9) 컬링방지층(Anticurl layer):2- (9) Antiurl layer:

본 기술의 필름에 대해 컬링방지 가공을 하는 것이 가능하다. 본원에서 언급된 "컬링방지 가공" 은 컬링방지 가공이 내부를 향해 적용된 표면을 둥글게 마는 기능을 부여하는 것이다. 이러한 가공을 적용함으로써, 투명 수지 필름의 표면 상으로 일부 표면 가공을 적용함으로써 상이한 정도 및 유형으로 표면 가공을 두 표면에 적용시에, 대상 표면이 안으로 컬링되는 현상이 발생하는 것을 방지하는데 작용한다. It is possible to perform anti-curling processing on the film of the present technology. As referred to herein, "Anti-Curling" is to impart the ability to round the surface to which the Anti-Curling is applied. By applying this processing, the application of some surface processing onto the surface of the transparent resin film serves to prevent a phenomenon in which the object surface curls in when the surface processing is applied to the two surfaces at different degrees and types.

눈부심 방지층 또는 반사방지층이 제공된 측면과 반대편의 기판의 측면에 컬링방지층이 제공되는 구현예; 용이한 부착층이 투명 수지 필름의 한 표면에 코팅 및 제공되는 구현예; 및 컬링방지 가공이 반대편 표면상에 적용되는 구현예가 열거된다.An embodiment in which an anti-curling layer is provided on the side of the substrate opposite the side on which the anti-glare or anti-reflection layer is provided; Embodiments in which an easy adhesion layer is coated and provided on one surface of the transparent resin film; And embodiments in which anti-curling processing is applied on the opposite surface.

컬링방지 가공의 구체적인 예는 용매를 사용한 코팅 및 용매 및 셀룰로오스 트리아세테이트, 셀룰로오스 디아세테이트, 셀룰로오스 아세테이트 프로피오네이트 등으로 제조된 투명 수지층을 코팅하고 제공하는 것을 포함한다. 구체적으로, 본원에 나타낸 용매를 사용한 방법은, 편광판용 보호 필름으로서 사용되는 셀룰로오스 아세테이트 필름을 용해 또는 팽윤시킬 수 있는 용매를 함유하는 조성물을 코팅함으로써 수행된다. 따라서, 컬링이 일어나는 것을 방지하는 작용을 가진 층의 코팅 용액으로서, 케톤 기재 또는 에스테르 기재 유기 용매를 함유한 것이 바람직하다. 케톤 기재 유기 용매의 바람직한 예에는 아세톤, 메틸 에틸 케톤, 메틸 이소부틸 케톤, 시클로헥사논, 에틸 락테이트, 아세틸아세톤, 디아세톤 알콜, 이소포론, 에틸 n-부틸 케톤, 디이소프로필 케톤, 디에틸 케톤, 디-n-프로필 케톤, 메틸 시클로헥사논, 메틸 n-부틸 케톤, 메틸 n-프로필 케톤, 메틸 n-헥실 케톤 및 메틸 n-헵틸 케톤이 포함되고; 에스테르 기재 유기 용매의 바람직한 예에는 메틸 아세테이트, 에틸 아세테이트, 부틸 아세테이트, 메틸 락테이트 및 에틸 락테이트가 포함된다. 그러나, 사용되는 용매로서, 셀룰로오스 아크릴레이트 필름을 용해시킬 수 있는 용매 및/또는 셀룰로오스 아크릴레이트 필름을 팽윤시킬 수 있는 용매의 혼합물 외에, 셀룰로오스 아크릴레이트 필름을 용해시키지 않는 용매를 함유하는 경우가 있을 수 있다. 컬링방지 가공은 코팅량 내에서 투명 수지 필름의 컬링 정도 및 수지의 종류에 따라 상기 용매를 적절한 비율로 혼합함으로써 수득되는 조성물을 사용하여 수행된다. 그 외에, 컬링방지 작용은 또한 투명 하드 가공 또는 대전방지 가공을 사용하여 밝혀진다.Specific examples of anti-curling processing include coating and providing a solvent and a transparent resin layer made of a solvent and cellulose triacetate, cellulose diacetate, cellulose acetate propionate, and the like. Specifically, the method using the solvent shown herein is carried out by coating a composition containing a solvent capable of dissolving or swelling a cellulose acetate film used as a protective film for a polarizing plate. Therefore, as the coating solution of the layer having the action of preventing curling from occurring, it is preferable to contain a ketone-based or ester-based organic solvent. Preferred examples of ketone-based organic solvents include acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, ethyl lactate, acetylacetone, diacetone alcohol, isophorone, ethyl n-butyl ketone, diisopropyl ketone, diethyl Ketones, di-n-propyl ketones, methyl cyclohexanone, methyl n-butyl ketones, methyl n-propyl ketones, methyl n-hexyl ketones and methyl n-heptyl ketones; Preferred examples of ester based organic solvents include methyl acetate, ethyl acetate, butyl acetate, methyl lactate and ethyl lactate. However, as the solvent used, there may be a case where a solvent which does not dissolve the cellulose acrylate film may be contained in addition to a mixture of a solvent which can dissolve the cellulose acrylate film and / or a solvent which can swell the cellulose acrylate film. have. Curling prevention processing is performed using the composition obtained by mixing the said solvent in an appropriate ratio according to the curling degree of a transparent resin film and the kind of resin in coating amount. In addition, anti-curling action is also found using transparent hard processing or antistatic processing.

2-(10) 물 흡수층:2- (10) water absorbing layer:

물 흡수제를 본 발명의 필름에 사용할 수 있다. 물 흡수제는 알칼리 토금속을 중심으로 하는 물 흡수 작용을 가진 화합물 중에서 선택될 수 있다. 그의 예에는 BaO, SrO, CaO 및 MgO 가 포함된다. 또한, 물 흡수제는 또한 Ti, Mg, Ba 및 Ca 와 같은 금속 원소 중에서 선택될 수 있다. 상기 흡수제 입자의 입자 크기는 바람직하게는 100 nm 이하, 더욱 바람직하게는 50 nm 이하이다.Water absorbers can be used in the films of the present invention. The water absorbent may be selected from compounds having a water absorption action centered on alkaline earth metals. Examples thereof include BaO, SrO, CaO and MgO. In addition, the water absorbent may also be selected from metal elements such as Ti, Mg, Ba and Ca. The particle size of the absorbent particles is preferably 100 nm or less, more preferably 50 nm or less.

상기 물 흡수제를 함유하는 층은 전술한 장벽층과 마찬가지의 진공 증착 방법을 사용하여 제조될 수 있거나, 또는 다양한 방법에 의해 나노 입자를 제조할 수 있다. 층의 두께는 바람직하게는 1 내지 100 nm, 더욱 바람직하게는 1 내지 10 nm 이다. 물 흡수제-함유 층은 지지체 및 스택 (stack) (장벽층 및 유기층의 스택) 사이에, 스택의 최상부 층에, 스택 사이에, 또는 스택 내 유기층 또는 장벽층에 첨가될 수 있다. 벽층에 첨가되는 경우, 공-증착 방법을 사용하는 것이 바람직하다.The layer containing the water absorbent may be prepared using the same vacuum deposition method as the barrier layer described above, or the nanoparticles may be prepared by various methods. The thickness of the layer is preferably 1 to 100 nm, more preferably 1 to 10 nm. The water absorbent-containing layer may be added between the support and the stack (a stack of barrier and organic layers), in the top layer of the stack, between the stacks, or in the organic or barrier layer in the stack. When added to the wall layer, preference is given to using a co-deposition method.

2-(11) 프라이머 층 또는 무기 박막층:2- (11) primer layer or inorganic thin film layer:

본 발명의 필름에서, 공지된 프라이머 층 또는 무기 박막층을 지지체 및 스택 사이에 둠으로써 기체 장벽 특성을 증진시키는 것이 가능하다.In the film of the present invention, it is possible to enhance gas barrier properties by placing a known primer layer or inorganic thin film layer between the support and the stack.

프라이머 층용으로, 예를 들어, 아크릴 수지, 에폭시 수지, 우레탄 수지 및 실리콘 수지가 사용될 수 있다. 그러나, 본 발명에서, 유기/무기 하이브리드 층이 상기 프라이머 층으로서 바람직하다. 더욱이, 무기 증착층 또는 졸-겔 방법에 의한 미세한 무기 코팅 박막이 무기 박막층으로서 바람직하다. 무기 증착층은 진공 증착 방법, 스퍼터링 방법 등에 의해 형성될 수 있다.For the primer layer, for example, acrylic resins, epoxy resins, urethane resins and silicone resins can be used. However, in the present invention, an organic / inorganic hybrid layer is preferred as the primer layer. Moreover, a fine inorganic coating thin film by the inorganic vapor deposition layer or the sol-gel method is preferable as the inorganic thin film layer. The inorganic deposition layer may be formed by a vacuum deposition method, a sputtering method, or the like.

3. 필름의 층 배열:3. Layer arrangement of film:

본 발명의 필름에 관해, 전술한 층을 사용한 공지된 층 배열이 사용될 수 있다. 그의 대표적인 예는 하기에 나타낼 것이다.With regard to the film of the present invention, known layer arrangements using the layers described above can be used. Representative examples thereof will be shown below.

(a) 지지체/하드 코트층(a) support / hard coat layer

(b) 지지체/하드 코트층/저굴절률층 (도 1 참조)(b) support / hard coat layer / low refractive index layer (see FIG. 1)

(c) 지지체/하드 코트층/고굴절률층/저굴절률층 (도 2 참조) (c) support / hard coat layer / high refractive index layer / low refractive index layer (see FIG. 2)

(d) 지지체/하드 코트층/중굴절률층/고굴절률층/저굴절률층 (도 3 참조)(d) support / hard coat layer / medium refractive index layer / high refractive index layer / low refractive index layer (see FIG. 3)

(b) (도 1) 에서와 같이, 지지체 (1) 상에 코팅된 하드 코트층 (2) 상에 저굴절률층 (5) 를 쌓음으로써, 반사방지 필름으로서 스택을 적합하게 사용할 수 있다. 하드 코트층 (2) 상에 광 파장의 약 1/4 의 두께로 저굴절률층 (5) 를 형성함으로써, 박막 간섭의 원리로 인한 표면 반사를 감소시킬 수 있다.(b) As in (FIG. 1), by stacking the low refractive index layer 5 on the hard coat layer 2 coated on the support 1, a stack can be suitably used as an antireflection film. By forming the low refractive index layer 5 on the hard coat layer 2 with a thickness of about 1/4 of the light wavelength, the surface reflection due to the principle of thin film interference can be reduced.

더욱이, (c) (도 2) 에서와 같이, 지지체 (1) 상에 코팅된 하드 코트층 (2) 상에 고굴절률층 (4) 및 저굴절률층 (5) 를 쌓음으로써, 반사방지 필름으로서 스택을 적합하게 사용할 수도 있다. 또한, (d) (도 3) 에서와 같이, 지지체 (1), 하드 코트층 (2), 중굴절률층 (3), 고굴절률층 (4) 및 저굴절률층 (5) 를 이러한 순서로 층 배열함으로써, 반사율을 1% 이하로 유지할 수 있다.Furthermore, as in (c) (FIG. 2), by stacking the high refractive index layer 4 and the low refractive index layer 5 on the hard coat layer 2 coated on the support 1, as an antireflection film The stack may be suitably used. Further, as in (d) (FIG. 3), the support 1, the hard coat layer 2, the medium refractive index layer 3, the high refractive index layer 4 and the low refractive index layer 5 are layered in this order. By arranging, the reflectance can be kept at 1% or less.

(a) 내지 (d) 의 배열에서, 하드 코트층 (2) 는 눈부심 방지 특성을 가진 눈부심 방지층으로 제조될 수 있다. 상기 눈부심 방지 특성은 도 4 에 예시된 매트 입자를 분산시킴으로써 제공될 수 있거나, 또는 도 5 에 예시된 엠보싱과 같은 방법에 의해 표면을 형성시킴으로써 제공될 수 있다. 매트 입자를 분산시킴으로써 형성되는 눈부심 방지층은 바인더 및 바인더에서 분산된 반투명 입자로 이루어진다. 바람직하게는 눈부심 방지 특성을 가진 눈부심 방지층은 눈부심 방지 특성 및 하드코팅 특성 둘 다를 갖고 있고, 예를 들어 2 내지 4 개 층의 복수층으로 구성될 수 있다.In the arrangement of (a) to (d), the hard coat layer 2 can be made of an antiglare layer having antiglare characteristics. The anti-glare property may be provided by dispersing the matte particles illustrated in FIG. 4, or may be provided by forming a surface by a method such as embossing illustrated in FIG. 5. The anti-glare layer formed by dispersing the mat particles consists of a binder and semi-transparent particles dispersed in the binder. Preferably, the anti-glare layer having anti-glare properties has both anti-glare properties and hard coating properties, and may be composed of, for example, a plurality of layers of 2 to 4 layers.

더욱이, 최외 표면 상 또는 표면의 한 면에 있는 층과 투명 지지체 사이에 제공될 수 있는 층의 예에는 간섭 불균일 (분광 불균일) 방지층, 대전방지층 (디스플레이 면으로부터의 표면 저항값의 감소와 같은 요구가 있는 경우, 또는 표면 등에서의 염색이 문제가 되는 경우), 기타 하드 코트층 (단일층으로 제조된 하드 코트층 또는 눈부심 방지층만으로는 경도가 불충분한 경우), 기체 장벽층, 물 흡수층 (방수층), 접착 향상층 및 방오층 (오염-방지층) 이 포함된다.Moreover, examples of layers that may be provided between the layer on the outermost surface or on one side of the surface and the transparent support include requirements such as interference nonuniformity (spectroscopic nonuniformity) prevention layer, antistatic layer (reduction of surface resistance value from the display surface). If present, or if staining on the surface is a problem), other hard coat layers (if the hardness is insufficient only with a single hard coat layer or antiglare layer), gas barrier layer, water absorbing layer (waterproof layer), adhesion Enhancement layer and antifouling layer (pollution-preventing layer) are included.

본 발명에서 반사방지층을 갖는 눈부심 방지 반사방지 필름을 구성하는 각각의 층의 굴절률은 하기 관계를 충족시키는 것이 바람직하다.In the present invention, the refractive index of each layer constituting the anti-glare antireflection film having the antireflection layer preferably satisfies the following relationship.

(하드 코트층의 굴절률) > (투명 지지체의 굴절률) > (저굴절률층의 굴절률)(Refractive index of hard coat layer)> (Refractive index of transparent support)> (Refractive index of low refractive index layer)

4. 제조 방법:4. Manufacturing Method:

본 발명의 필름을 하기 방법으로 형성할 수 있으나, 본 발명이 이에 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다.The film of the present invention may be formed by the following method, but the present invention should not be construed as being limited thereto.

4-(1) 코팅 용액의 제조Preparation of 4- (1) Coating Solution

<제조><Production>

우선, 각 층을 형성하는 성분을 함유하는 코팅 용액을 제조한다. 그 경우, 용매의 휘발량을 최소화함으로써, 코팅 용액 중의 물 함량의 증가를 억제시킬 수 있다. 코팅 용액 중의 물 함량은 바람직하게는 5% 이하, 더욱 바람직하게는 2% 이하이다. 용매의 휘발량의 억제는, 예를 들어 각각의 원료를 탱크에 충전한 후 교반 시에 견고성을 향상시키고 액체 이송 작업 시에 코팅 용액의 공기 접촉면을 최소화함으로써 달성된다. 더욱이, 코팅하는 동안 또는 코팅 전이나 후에 코팅 용액 중의 물 함량의 저하를 측정할 수 있다.First, a coating solution containing the components forming each layer is prepared. In that case, by minimizing the volatilization amount of the solvent, it is possible to suppress the increase in the water content in the coating solution. The water content in the coating solution is preferably 5% or less, more preferably 2% or less. Inhibition of the volatilization amount of the solvent is achieved by, for example, filling each tank with a raw material and then improving the firmness upon stirring and minimizing the air contact surface of the coating solution during the liquid transfer operation. Furthermore, the drop in the water content in the coating solution during or before coating can be measured.

<코팅 용액의 물리적 특성>Physical Properties of Coating Solution

본 발명의 코팅 시스템에서, 코팅이 가능한 상한비가 용액의 물리적 특성에 의해 크게 영향을 받기 때문에, 코팅 시에 용액의 물리적 특성, 특히 점도 및 표면 장력을 조절하는 것이 필요하다.In the coating system of the present invention, it is necessary to control the physical properties of the solution, in particular the viscosity and the surface tension, during coating since the upper limit on the coating is greatly influenced by the physical properties of the solution.

본 발명에서 사용되는 저굴절률층의 점도는 바람직하게는 2.0 [mPa·s] 이하, 더욱 바람직하게는 1.5 [mPa·s] 이하, 가장 바람직하게는 1.0 [mPa·s] 이하이다. 점도는 코팅 용액에 따라 전단률에 의해 달라지기 때문에, 전술한 값은 코팅시의 전단률에서의 점도를 나타낸다. 코팅 용액에 요변제를 첨가함으로써, 점도는 고 전단이 적용되는 코팅 시에는 낮아지는 반면, 전단이 코팅 용액에 실질적으로 가해지지 않는 건조 시에는 점도가 높아져, 건조 시에 불균일이 거의 발생하지 않게 된다. 따라서, 이는 바람직하다.The viscosity of the low refractive index layer used in the present invention is preferably 2.0 [mPa · s] or less, more preferably 1.5 [mPa · s] or less, and most preferably 1.0 [mPa · s] or less. Since the viscosity depends on the shear rate depending on the coating solution, the above values represent the viscosity at the shear rate at the time of coating. By adding thixotropic agents to the coating solution, the viscosity is lower for coatings where high shear is applied, while the viscosity is high for drying where the shear is not substantially applied to the coating solution, and there is little variation in drying. . Thus, this is desirable.

더욱이, 용액의 물리적 특성뿐만 아니라, 투명 지지체 상에 코팅되는 코팅 용액의 양은 또한 코팅이 가능한 상한비에 영향을 미친다. 투명 지지체 상에 코팅되는 코팅 용액의 양은 바람직하게는 2.0 내지 5.0 [㎖/㎡] 이다. 투명 지지체 상에 코팅되는 코팅 용액의 양을 증가시킴으로써, 코팅이 가능한 상한비가 증가되고, 따라서 그러한 것이 바람직하다. 그러나, 투명 지지체 상에 코팅되는 코팅 용액의 양이 과다하게 증가되는 경우, 건조에 적용되는 하중은 커지게 된다. 따라서, 용액 제형 및 가공 조건에 의해 투명 지지체 상에 코팅되는 코팅 용액의 최적량을 결정하는 것이 바람직하다.Moreover, in addition to the physical properties of the solution, the amount of coating solution to be coated on the transparent support also affects the upper limit on which coating is possible. The amount of coating solution coated on the transparent support is preferably 2.0 to 5.0 [ml / m 2]. By increasing the amount of coating solution to be coated on the transparent support, the upper limit of the amount at which coating is possible is increased, and thus such is preferable. However, if the amount of coating solution coated on the transparent support is excessively increased, the load applied to drying becomes large. Therefore, it is desirable to determine the optimal amount of coating solution to be coated on the transparent support by the solution formulation and processing conditions.

표면 장력은 바람직하게는 15 내지 36 [mN/m] 의 범위이다. 건조 시에 불균일이 조절되기 때문에, 평활제를 첨가하거나 또는 기타 수단에 의해 표면 장력을 저하시키는 것이 바람직하다. 한편, 표면 장력이 너무 많이 감소하는 경우, 코팅이 가능한 상한비는 저하된다. 따라서, 표면 장력은 더욱 바람직하게는 17 [mN/m] 내지 32 [mN/m] 의 범위, 더욱 바람직하게는 19 [mN/m] 내지 26 [mN/m] 의 범위이다.The surface tension is preferably in the range of 15 to 36 [mN / m]. Since the nonuniformity is controlled at the time of drying, it is preferable to lower the surface tension by adding a smoothing agent or by other means. On the other hand, when the surface tension is reduced too much, the upper limit of the coating ratio is lowered. Therefore, the surface tension is more preferably in the range of 17 [mN / m] to 32 [mN / m], more preferably in the range of 19 [mN / m] to 26 [mN / m].

<여과><Filtration>

코팅에 사용되는 코팅 용액이 코팅 전에 여과되는 것이 바람직하다. 여과용 필터에 관해서는, 코팅 용액 중의 성분이 제거되지 않는 범위 내에서 가능한 한 작은 공경을 가진 필터를 사용하는 것이 바람직하다. 여과를 위해, 0.1 내지 10 ㎛ 의 절대 여과 정확도를 가진 필터를 사용하고, 0.1 내지 5 ㎛ 의 절대 여과 정확도를 가진 필터가 바람직하게 사용된다. 필터의 두께는 바람직하게는 0.1 내지 10 ㎜ 이고, 더욱 바람직하게는 0.2 내지 2 ㎜ 이다. 그 경우, 여과는 1.5 MPa 이하, 더욱 바람직하게는 1.0 MPa 이하 및 더욱 더 바람직하게는 0.2 MPa 이하의 여과압 하에서 수행된다.It is preferable that the coating solution used for coating be filtered before coating. As for the filter for filtration, it is preferable to use a filter having a pore diameter as small as possible within the range in which the components in the coating solution are not removed. For filtration, a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 10 탆 is used, and a filter having an absolute filtration accuracy of 0.1 to 5 탆 is preferably used. The thickness of the filter is preferably 0.1 to 10 mm, more preferably 0.2 to 2 mm. In that case, the filtration is carried out under a filtration pressure of 1.5 MPa or less, more preferably 1.0 MPa or less and even more preferably 0.2 MPa or less.

여과 필터원 (filter member) 은 코팅 용액에 영향을 미치지 않는 한, 특별히 제한되지 않는다. 엄밀히 말해서, 전술한 바와 동일한 무기 화합물의 습식 분산액용 필터원이 고려된다. The filter member is not particularly limited as long as it does not affect the coating solution. Strictly speaking, the same filter source for the wet dispersion liquid of the inorganic compound as mentioned above is considered.

더욱이, 여과된 코팅 용액을 코팅 바로 직전에 초음파로 분산시키고, 그로 인해 분산액의 소포를 돕고, 분산 및 홀딩하는 것이 또한 바람직하다.Moreover, it is also desirable to disperse the filtered coating solution ultrasonically just before coating, thereby helping to deflate, disperse and hold the dispersion.

4-(2) 코팅 전 처리:4- (2) pre-coating treatment:

본 발명에 사용되는 지지체를 코팅 전에 표면 처리하는 것이 바람직하다. 그의 특정 예에는 코로나 방전 처리, 글로우 방전 처리, 화염 처리, 산 처리, 알칼리 처리 및 자외선 조사 처리가 포함된다. 더욱이, JP-A-7-333433 에 기술된 바와 같은 하부코팅층을 제공하는 것이 또한 바람직하게 사용된다.It is preferable to surface-treat the support used in the present invention before coating. Specific examples thereof include corona discharge treatment, glow discharge treatment, flame treatment, acid treatment, alkali treatment and ultraviolet irradiation treatment. Moreover, providing a bottom coating layer as described in JP-A-7-333433 is also preferably used.

또한, 코팅 전 가공으로서 먼지 제거 가공에 사용되는 먼지 제거 방법의 예에는 JP-A-59-150571 에 기술된 바와 같이 부직포, 블레이드 등을 필름 표면 상으로 가압하는 방법; JP-A-10-309553 에 기술된 바와 같이 필름 표면으로부터 침전물을 분리하기 위해 고속에서 높은 세정으로 공기를 불어넣고 인접 흡입 개구에 의해 분리된 침전물을 빨아들이는 방법; JP-A-7-333613 에 기술된 바와 같이 침전물을 분리하기 위해 초음파로 진공 압축 공기를 불어 넣고 침전물을 빨아들이는 방법 (예를 들어, NEW ULTRASONIC CLEANER, Shinko Co., Ltd. 제조) 과 같은 건성 먼지 제거 방법이 포함된다.In addition, examples of the dust removal method used in the dust removal process as the pre-coating process include a method of pressing a nonwoven fabric, a blade or the like onto the film surface as described in JP-A-59-150571; A method of blowing air at high speed and high cleaning to suck up the sediment separated by the adjacent suction opening to separate the sediment from the film surface as described in JP-A-10-309553; As described in JP-A-7-333613, a method of blowing vacuum compressed air and sucking the precipitate with ultrasonic waves to separate the precipitate (for example, manufactured by NEW ULTRASONIC CLEANER, Shinko Co., Ltd.) Dry dust removal methods are included.

또한, 필름을 세정 탱크 내로 도입하고 초음파 진동기에 의해 침전물을 분리하는 방법; JP-B-49-13020 에서 기술된 바와 같이 세정액을 필름 내로 공급하고, 고속 공기를 불어 넣고, 흡입을 수행하는 방법; 및 JP-A-2001-38306 에서 기술된 바와 같이 액체-습식 롤에 의해 웹 (web) 을 계속해서 문지른 다음, 문질러진 표면 상으로 액체를 분무하여 세정하는 방법과 같은 적용가능한 습식 먼지 제거 방법도 있다. 상기 먼지 제거 방법 중에서, 초음파 먼지 제거 방법 및 습식 먼지 제거 방법이 먼지 제거 효과 면에서 특히 바람직하다.In addition, a method of introducing the film into the cleaning tank and separating the precipitate by an ultrasonic vibrator; A method of supplying a cleaning liquid into the film, blowing high-speed air, and performing suction as described in JP-B-49-13020; And applicable wet dust removal methods, such as the method of continuously rubbing a web with a liquid-wet roll as described in JP-A-2001-38306 and then spraying and cleaning the liquid onto the rubbed surface. have. Among the dust removal methods, the ultrasonic dust removal method and the wet dust removal method are particularly preferable in terms of the dust removal effect.

또한, 먼지 제거 가공 전에 필름 지지체 상에 정전기를 제거하는 것이 먼지 제거의 효율을 증가시키고, 먼지의 부착을 억제하는 점에서 특히 바람직하다. 상기 정전기 제거 방법을 달성하기 위해, 코로나 방전 시스템의 이온화 장치, UV 및 연성 X-선과 같은 광선을 이용한 조사 시스템의 이온화 장치 등을 사용할 수 있다. 먼지 제거 및 코팅 전 후의 필름 지지체는 바람직하게는 1,000 V 이하, 바람직하게는 300 V 이하, 특히 바람직하게는 100 V 이하의 충전 전압을 가진다.In addition, removing static electricity on the film support before the dust removal process is particularly preferable in that it increases the efficiency of dust removal and suppresses adhesion of dust. In order to achieve the static elimination method, an ionizer of the corona discharge system, an ionizer of the irradiation system using light rays such as UV and soft X-rays, and the like can be used. The film support before and after dust removal and coating preferably has a charging voltage of 1,000 V or less, preferably 300 V or less, particularly preferably 100 V or less.

필름의 편평함을 유지하는 점에서, 셀룰로오스 아크릴레이트 필름의 온도를 상기 처리에서 Tg 이하, 특별하게는 150℃ 이하로 조절하는 것이 바람직하다. In view of maintaining the flatness of the film, it is preferable to adjust the temperature of the cellulose acrylate film to Tg or less, particularly 150 ° C or less, in the treatment.

셀룰로오스 아크릴레이트 필름이 편광판용 보호 필름으로서 본 발명의 필름을 사용하는 경우에서처럼 편광판에 부착되도록 제조된 경우, 셀룰로오스 아크릴레이트에 대해 산 처리 또는 알칼리 처리, 즉 비누화 처리를 수행하는 것이 편광판으로의 부착의 관점에서 특히 바람직하다.When the cellulose acrylate film is made to adhere to the polarizing plate as in the case of using the film of the present invention as a protective film for the polarizing plate, it is necessary to perform acid treatment or alkali treatment, that is, saponification treatment, on the cellulose acrylate. It is especially preferable from a viewpoint.

부착 등의 관점에서, 셀룰로오스 아크릴레이트 필름은 바람직하게는 55 mN/m 이상, 더욱 바람직하게는 60 mN/m 이상 75 mN/m 이하의 표면 에너지를 갖는다. 표면 에너지는 전술된 표면 처리에 의해 조정될 수 있다.From the standpoint of adhesion and the like, the cellulose acrylate film preferably has a surface energy of 55 mN / m or more, more preferably 60 mN / m or more and 75 mN / m or less. Surface energy can be adjusted by the surface treatment described above.

4-(3) 코팅:4- (3) coating:

본 발명의 필름의 각 층은 하기 코팅 방법에 의해 형성될 수 있으나, 본 발명이 상기 방법에 제한되는 것으로 해석되어서는 안된다.Each layer of the film of the present invention may be formed by the following coating method, but the present invention should not be construed as being limited to the above method.

딥 코팅 방법, 공기 나이프 코팅 방법, 커튼 코팅 방법, 롤 코팅 방법, 와이어 바 코팅 방법, 그라비어 코팅 방법 및 압출 코팅 방법 (다이 코팅 방법) (미국 특허 제 2,681,294 호 참조) 및 마이크로그라비어 코팅 방법과 같은 공지된 방법을 사용한다. 상기 중에서, 마이크로그라비어 코팅 방법 및 다이 코팅 방법이 바람직하다.Notices such as dip coating method, air knife coating method, curtain coating method, roll coating method, wire bar coating method, gravure coating method and extrusion coating method (die coating method) (see US Patent No. 2,681,294) and microgravure coating method Use the old method. Among the above, the microgravure coating method and the die coating method are preferable.

본원에 언급된 "마이크로그라비어 코팅 방법" 은 본 발명에서 사용되는데, 직경이 약 10 내지 100 ㎜, 바람직하게는 약 20 내지 50 ㎜ 이면서 그의 전체적인 주변에 걸쳐서 그라비어 패턴이 새겨진 그라비어 롤을 지지체 밑에 배치하고, 동시에 역방향으로 있는 그라비어 롤을 지지체의 이동 방향으로 회전시키고, 독터 블레이드에 의해 대상 그라비어 롤의 표면으로부터 잉여 코팅 용액을 벗겨 내고, 고정량의 코팅 용액을 지지체의 상부 표면이 자유로운 상태에 있는 위치에서 지지체의 하부 표면 상으로 옮기고, 이로써 코팅하는 것을 특징으로 하는 코팅 방법이다. 롤 상태의 투명 지지체는 계속해서 풀려지고, 하드 코트층 및 불소-코팅 올레핀 기재 중합체-함유 저굴절률층 중 하나 이상의 층이 마이크로그라비어 코팅 방법에 의해 상기 풀려진 지지체의 한 면에 코팅될 수 있다.The "microgravure coating method" referred to herein is used in the present invention, wherein a gravure roll having a diameter of about 10 to 100 mm, preferably about 20 to 50 mm and engraved with a gravure pattern over its entire periphery is placed under the support and At the same time, rotating the gravure roll in the reverse direction in the direction of movement of the support, peeling off the excess coating solution from the surface of the target gravure roll by the doctor blade, and fixing the coating solution in a position where the upper surface of the support is free. A coating method characterized by transferring onto a lower surface of a support and thereby coating. The transparent support in the rolled state is subsequently unwound and one or more layers of the hard coat layer and the fluorine-coated olefin based polymer-containing low refractive index layer may be coated on one side of the unwrapped support by the microgravure coating method.

마이크로그라비어 방법에 의한 코팅 조건에 대해, 그라비어 롤 상에 새겨진 그라비어 패턴의 라인 수는 바람직하게는 인치 당 50 내지 800 라인, 더욱 바람직하게는 인치 당 100 내지 300 라인이고; 그라비어 패턴의 깊이는 바람직하게는 1 내지 600 ㎛, 더욱 바람직하게는 5 내지 200 ㎛ 이고; 그라비어 롤의 회전수는 바람직하게는 3 내지 800 rpm, 더욱 바람직하게는 5 내지 200 rpm 이고; 지지체의 이동 속도는 바람직하게는 0.5 내지 100 m/분, 더욱 바람직하게는 1 내지 50 m/분이다.For coating conditions by the microgravure method, the number of lines of the gravure pattern engraved on the gravure roll is preferably 50 to 800 lines per inch, more preferably 100 to 300 lines per inch; The depth of the gravure pattern is preferably 1 to 600 mu m, more preferably 5 to 200 mu m; The rotation speed of the gravure roll is preferably 3 to 800 rpm, more preferably 5 to 200 rpm; The moving speed of the support is preferably 0.5 to 100 m / min, more preferably 1 to 50 m / min.

생산성이 높은 본 발명의 필름을 공급하기 위해, 압출 코팅 방법 (다이 코팅 방법) 을 바람직하게 사용한다. 특히, JP-A-2006-122889 에 개시된 제조 방법을 하드 코트층 및 반사방지층과 같은 적은 습식 코팅량 (20 cc/㎡ 이하) 을 가진 구역에 적용하여, 필름의 균일성을 향상시킬 수 있다.In order to supply the film of this invention with high productivity, an extrusion coating method (die coating method) is used preferably. In particular, the manufacturing method disclosed in JP-A-2006-122889 can be applied to areas having a small amount of wet coating (20 cc / m 2 or less) such as a hard coat layer and an antireflective layer to improve the uniformity of the film.

4-(4) <건조>4- (4) <drying>

직접 또는 다른 층을 통해 지지체 상에서 코팅한 후에, 본 발명의 필름을 웹을 사용해 용매를 건조시키기 위해 가열된 구역 내로 이동시키는 것이 바람직하다.After coating on the support, either directly or through another layer, it is preferred to transfer the film of the invention into a heated zone to dry the solvent using a web.

용매의 건조 방법으로서, 다양한 지식을 사용할 수 있다. 상기 지식의 구체적인 예에는 JP-A-2001-286817, JP-A-2001-314798, JP-A-2003-126768, JP-A-2003-315505 및 JP-A-2004-34002 에 기술된 바와 같은 방법이 포함된다.As a method of drying the solvent, various knowledges can be used. Specific examples of such knowledge include those described in JP-A-2001-286817, JP-A-2001-314798, JP-A-2003-126768, JP-A-2003-315505 and JP-A-2004-34002. Method is included.

건조 구역의 온도는 바람직하게는 25℃ 내지 140℃ 이고; 건조 구역의 처음 절반의 온도는 상대적으로 낮은 반면, 건조 구역의 두번째 절반의 온도는 상대적으로 높은 것이 바람직하다. 그러나, 상기 온도는 각 층의 코팅 조성물 내에 함유되는 용매 이외의 성분의 휘발이 시작되는 온도 이하인 것이 바람직하다. 예를 들어, 자외선 경화성 수지와 함께 사용되는 시판되는 광 라디칼 발생제 중에서, 120℃ 의 따뜻한 공기 내에서 수 분 내에 그의 수 십% 가 휘발되는 것들이 있다. 더욱이, 단일작용성 또는 2작용성 아크릴레이트 단량체 중에서, 100℃ 의 따뜻한 공기 내에서 휘발이 진행되는 것들이 있다. 상기 경우, 건조 구역의 온도는 각 층의 코팅 조성물 내에 함유되는 용매 이외의 성분의 휘발이 시작되는 온도 이하인 것이 바람직하다.The temperature of the drying zone is preferably 25 ° C. to 140 ° C .; It is preferred that the temperature of the first half of the drying zone is relatively low, while the temperature of the second half of the drying zone is relatively high. However, the temperature is preferably below the temperature at which volatilization of components other than the solvent contained in the coating composition of each layer starts. For example, among commercially available optical radical generators used in combination with ultraviolet curable resins, there are those in which several ten percent of their volatilized in a few minutes in warm air at 120 ° C. Moreover, among the monofunctional or bifunctional acrylate monomers, there are those in which volatilization proceeds in warm air at 100 ° C. In this case, the temperature of the drying zone is preferably below the temperature at which volatilization of components other than the solvent contained in the coating composition of each layer starts.

더욱이, 각 층의 코팅 조성물을 지지체 상에 코팅시킨 후 건조한 공기에 대해, 코팅 조성물의 고형물 함량이 1 내지 50% 인 경우, 건조 불균일이 발생하는 것을 예방하기 위해, 코팅 필름 표면 상의 공기 속도가 0.1 내지 2 m/초의 범위인 것이 바람직하다.Furthermore, with respect to dry air after coating the coating composition of each layer on the support, if the solids content of the coating composition is 1-50%, the air velocity on the surface of the coating film is 0.1 to prevent the occurrence of dry unevenness. It is preferably in the range of 2 m / sec.

더욱이, 각 층의 코팅 조성물을 지지체 상에 코팅시킨 후, 코팅 표면에 대하여 지지체의 반대 표면과 접촉하는 이동 롤 사이의 온도 차이가 건조 구역 내에서 0 내지 20℃ 의 범위 내에 속하는 경우, 이동 롤 상에서 열전달 불균일로 인한 건조 불균일이 일어나는 것을 예방할 수 있으며, 따라서, 그러한 것이 바람직하다.Furthermore, after coating the coating composition of each layer on the support, if the temperature difference between the moving rolls in contact with the opposite surface of the support with respect to the coating surface falls within the range of 0 to 20 ° C. in the drying zone, It is possible to prevent the occurrence of dry unevenness due to heat transfer unevenness, and therefore such is preferable.

4-(5) 경화:4- (5) Curing:

용매의 건조 후, 본 발명의 필름을, 웹에 의한 전리 방사선 및/또는 가열에 의해 각 코팅 필름을 경화시킬 수 있는 구역을 통해 통과시킴으로써, 코팅 필름을 경화시킬 수 있다.After drying of the solvent, the coating film can be cured by passing the film of the invention through a zone where each coating film can be cured by ionizing radiation and / or heating by a web.

본 발명의 필름을 70℃ 이상 130℃ 이하의 온도에서 5 내지 20 분의 기간 동안 가열하고, 이어서 자외선으로 제공되는 활성 에너지선에 의해 경화시키는 것이 바람직하다.It is preferable that the film of the present invention is heated at a temperature of 70 ° C. or higher and 130 ° C. or lower for a period of 5 to 20 minutes, and then cured by active energy rays provided by ultraviolet rays.

가열 경화 온도는 바람직하게는 70℃ 이상 120℃ 이하, 가장 바람직하게는 80℃ 이상 115℃ 이하이다.The heat curing temperature is preferably 70 ° C or more and 120 ° C or less, and most preferably 80 ° C or more and 115 ° C or less.

본 발명에서, 전리 방사선의 종류는 특별히 제한되지 않고, 필름을 형성하는 경화성 조성물의 종류에 따라 자외선, 전자빔, 근자외선, 가시광선, 근적외선, 적외선 및 X-선 중에서 적절하게 선택될 수 있다. 무엇보다도, 자외선 및 전자빔이 바람직하고; 자외선이 취급이 간단하고 용이하며, 고 에너지가 쉽게 수득되는 점에서 특히 바람직하다.In the present invention, the kind of ionizing radiation is not particularly limited, and may be appropriately selected from ultraviolet rays, electron beams, near ultraviolet rays, visible rays, near infrared rays, infrared rays, and X-rays depending on the type of curable composition forming the film. Above all, ultraviolet rays and electron beams are preferred; Ultraviolet light is particularly preferred in that it is simple and easy to handle and high energy is easily obtained.

자외선 반응성 화합물을 광중합하기 위한 자외선 광원으로서, 자외선을 방출할 수 있는 한, 임의의 광원을 사용할 수 있다. 예를 들어, 저압 수은 증기 램프, 중압 수은 증기 램프, 고압 수은 증기 램프, 초-고압 수은 증기 램프, 탄소 아크 램프, 메탈 할라이드 램프, 제논 램프 등을 사용할 수 있다. 또한, ArF 엑시머 레이저, KrF 엑시머 레이저, 엑시머 램프, 신크로톤 조사 등을 또한 사용할 수 있다. 그 중에서도, 초-고압 수은 증기 램프, 고압 수은 증기 램프, 저압 수은 증기 램프, 탄소 아크 램프, 제논 아크 램프 및 메탈 할라이드 램프가 바람직하게 사용될 수 있다.As the ultraviolet light source for photopolymerizing the ultraviolet reactive compound, any light source can be used as long as it can emit ultraviolet rays. For example, low pressure mercury vapor lamps, medium pressure mercury vapor lamps, high pressure mercury vapor lamps, ultra-high pressure mercury vapor lamps, carbon arc lamps, metal halide lamps, xenon lamps and the like can be used. In addition, ArF excimer lasers, KrF excimer lasers, excimer lamps, synchrotone irradiation and the like can also be used. Among them, ultra-high pressure mercury vapor lamps, high pressure mercury vapor lamps, low pressure mercury vapor lamps, carbon arc lamps, xenon arc lamps and metal halide lamps can be preferably used.

추가로, 전자빔을 유사하게 사용할 수 있다. 전자빔으로서, 50 내지 1,000 keV, 바람직하게는 100 내지 300 keV 의 에너지를 갖는 전자빔을 열거할 수 있는데, 이는 Cockcroft-Walton 유형 전자빔 가속기, van de Graaff 유형 전자빔 가속기, 공명 변환 유형 전자빔 가속기, 절연 코어 변환체 유형 전자빔 가속기, 선형 전자빔 가속기, 다이나미트론 유형 전자빔 가속기 및 고주파 유형 전자빔 가속기와 같은 다양한 전자빔 가속기로부터 방출된다.In addition, electron beams can be used similarly. As electron beams, electron beams having an energy of 50 to 1,000 keV, preferably 100 to 300 keV, can be enumerated, which are Cockcroft-Walton type electron beam accelerators, van de Graaff type electron beam accelerators, resonance conversion type electron beam accelerators, insulating core conversions. It emits from various electron beam accelerators such as sieve type electron beam accelerators, linear electron beam accelerators, dynamtron type electron beam accelerators and high frequency type electron beam accelerators.

조사 조건은 각각의 램프에 따라 다양하다. 조사 선량의 에너지 강도는 바람직하게는 10 mJ/㎠ 이상, 더욱 바람직하게는 50 mJ/㎠ 내지 10,000 mJ/㎠, 특히 바람직하게는 50 mJ/㎠ 내지 2,000 mJ/㎠ 이다. 상기 경우, 양 끝을 포함하여 웹의 폭 방향에서의 조사 선량 분포는 중심에서의 최대 조사 선량을 기준으로 바람직하게는 50 내지 100%, 더욱 바람직하게는 80 내지 100% 이다. Irradiation conditions vary with each lamp. The energy intensity of the irradiation dose is preferably 10 mJ / cm 2 or more, more preferably 50 mJ / cm 2 to 10,000 mJ / cm 2, particularly preferably 50 mJ / cm 2 to 2,000 mJ / cm 2. In this case, the irradiation dose distribution in the width direction of the web including both ends is preferably 50 to 100%, more preferably 80 to 100% based on the maximum irradiation dose at the center.

본 발명에서, 전리 방사선 조사의 상태에서 10 부피% 이하의 산소 농도를 갖는 대기 중에서 전리 방사선을 조사하고, 60℃ 이상의 필름 표면 온도에서 전리 방사선으로의 조사를 시작한 후 0.5 초 이상의 기간 동안 가열하는 단계에 의해, 지지체 상에 붙은 하나 이상의 층을 경화시키는 것이 바람직하다.In the present invention, the step of irradiating the ionizing radiation in the atmosphere having an oxygen concentration of 10% by volume or less in the state of ionizing radiation, and heating for a period of 0.5 seconds or more after starting irradiation with ionizing radiation at a film surface temperature of 60 ℃ or more It is preferred to cure one or more layers adhering on the support.

3 부피% 이하의 산소 농도를 갖는 대기 중에서 전리 방사선으로의 조사와 동시에 또는 연속해서 가열을 수행하는 것이 또한 바람직하다.It is also preferable to perform heating simultaneously or continuously with irradiation with ionizing radiation in an atmosphere having an oxygen concentration of 3% by volume or less.

특히, 최외 층이며 두께가 얇은 저굴절률층을 상기 방법에 의해 경화시키는 것이 바람직하다. 경화 반응은 열에 의해 가속화되어, 우수한 물리적 강도 및 내화학성을 갖는 필름이 형성될 수 있다.In particular, it is preferable to harden the low refractive index layer which is outermost layer and a thickness is thin by the said method. The curing reaction is accelerated by heat, so that a film with good physical strength and chemical resistance can be formed.

전리 방사선 조사 시간은 바람직하게는 0.7 초 이상 60 초 이하이고, 더욱 바람직하게는 0.7 초 이상 10 초 이하이다. 전리 방사선 조사 시간이 0.5 초 이하인 경우, 경화 반응은 완료될 수 없어서, 경화가 전체적으로 달성될 수 없다. 또한, 저산소 조건이 오랜 기간 동안 유지되는 것은, 장비의 크기가 커지고, 많은 양의 불활성 기체가 필요하기 때문에, 바람직하지 않다.The ionizing irradiation time is preferably 0.7 seconds or more and 60 seconds or less, and more preferably 0.7 seconds or more and 10 seconds or less. If the ionizing irradiation time is 0.5 seconds or less, the curing reaction cannot be completed and curing cannot be achieved as a whole. It is also undesirable to maintain low oxygen conditions for long periods of time because of the large size of the equipment and the large amount of inert gas required.

6 부피% 이하의 산소 농도를 갖는 대기 중에서 전리 방사선 경화성 화합물의 가교 반응 또는 중합 반응에 의해 필름을 형성시키는 것이 바람직하다. 대기의 산소 농도는 더욱 바람직하게는 4 부피% 이하, 특히 바람직하게는 2 부피% 이하, 가장 바람직하게는 1 부피% 이하이다. 산소 농도를 필요한 것 초과로 감소시키기 위해서는, 질소와 같은 많은 양의 불활성 기체가 필요하고, 따라서 그러한 것은 제조 비용의 관점에서 바람직하지 않다.It is preferable to form a film by crosslinking reaction or polymerization reaction of an ionizing radiation curable compound in an atmosphere having an oxygen concentration of 6 vol% or less. The oxygen concentration in the atmosphere is more preferably at most 4% by volume, particularly preferably at most 2% by volume and most preferably at most 1% by volume. In order to reduce the oxygen concentration above what is necessary, a large amount of inert gas such as nitrogen is required, and such is not preferable in view of the manufacturing cost.

산소 농도를 10 부피% 이하로 조절하는 것의 측정으로서, 공기 (질소 농도: 약 79 부피%, 산소 농도: 약 21 부피%) 를 다른 기체로 치환하는 것이 바람직하다. 공기를 질소로 치환 (퍼징) 하는 것이 특히 바람직하다.As a measure of adjusting the oxygen concentration to 10% by volume or less, it is preferable to replace air (nitrogen concentration: about 79% by volume, oxygen concentration: about 21% by volume) with another gas. Particular preference is given to substituting (purging) air with nitrogen.

전리 방사선 조사 챔버 내로 불활성 기체를 공급하고 조건을 설정하여 조사 챔버의 웹 주입면 내로 불활성 기체를 약간 불어넣음으로써, 이동 후에 비말동반된 공기를 배제하고, 반응기 챔버 내의 산소 농도를 효과적으로 감소시킬 수 있을 뿐만 아니라, 또한 산소로 인한 큰 경화 방해를 갖는 극성 표면 상에서 실질적인 산소 농도를 효과적으로 감소시킬 수 있다. 조사 챔버의 웹 주입면에서 불활성 기체 흐름의 방향은 공기 공급 및 조사 챔버의 배출 사이의 균형을 조정함으로써 조절될 수 있다.By supplying an inert gas into the ionizing radiation chamber and setting a condition to slightly blow the inert gas into the web injection surface of the irradiation chamber, it is possible to exclude the entrained air after the movement and to effectively reduce the oxygen concentration in the reactor chamber. In addition, it is also possible to effectively reduce the substantial oxygen concentration on polar surfaces with large curing disturbances due to oxygen. The direction of inert gas flow at the web injection side of the irradiation chamber can be adjusted by adjusting the balance between the air supply and the discharge of the irradiation chamber.

비말동반된 공기의 배출 방법에 관해서는, 불활성 기체를 웹 표면 상에 직접 불어넣는 것이 바람직하다.As for the method of discharging entrained air, it is preferable to blow inert gas directly onto the web surface.

또한, 미리 웹 표면에서 산소를 제거하기 위해 앞선 반응 챔버의 앞에 프론트 챔버를 제공함으로써, 경화 공정을 더 효과적으로 만들 수 있다. 게다가, 불활성 기체를 효과적으로 사용하기 위한 목적으로 전리 방사선 반응 챔버 또는 프론트 챔버의 웹 주입구 측을 이루는 측면과 웹 표면 사이의 틈은 바람직하게 0.2 내지 15 mm, 더 바람직하게 0.2 내지 10 mm, 가장 바람직하게 0.2 내지 5 mm 이다. 그러나, 연속적으로 웹을 생산하기 위해서, 웹을 접합 및 연결하는 것이 필요하다. 접합을 위해, 접합 테이프 등으로 붙이는 방법이 널리 사용된다. 이러한 이유로, 전리 방사선 반응 챔버 또는 프론트 챔버의 웹 주입구 측과 웹 사이가 지나치게 좁으면, 접합 테이프와 같은 접합 멤버가 걸리는(stuck) 것과 같은 문제가 야기된다. 이러한 이유로, 틈을 좁게 만들기 위해, 전리 방사선 반응 챔버 또는 프론트 챔버의 웹 주입구 측의 한 부분 이상을 이동가능하게 만들어, 접합 부분이 들어오면 접합 두께에 대응하는 비율로 틈이 넓어지게 하는 것이 바람직하다. 이를 실현하기 위해 사용할 수 있는 방법으로는, 전리 방사선 반응 챔버 또는 프론트 챔버의 주입구 측이 이동 방향으로 앞뒤로 움직일 수 있게 만들고, 접합 부분이 그곳을 통과할 때 앞뒤로 움직여 틈을 넓히는 방법; 및 전리 방사선 반응 챔버 또는 프론트 챔버의 주입구 측을 웹 표면의 수직 방향으로 움직일 수 있게 만들고, 결합 부분이 그곳을 통과할 때, 위 아래로 움직여 틈을 넓히는 방법이 있다.In addition, by providing a front chamber in front of the reaction chamber to remove oxygen from the web surface in advance, the curing process can be made more effective. In addition, the gap between the side and the web surface of the web inlet side of the ionizing radiation reaction chamber or front chamber for the purpose of effectively using the inert gas is preferably 0.2 to 15 mm, more preferably 0.2 to 10 mm, most preferably 0.2 to 5 mm. However, in order to produce the web continuously, it is necessary to join and connect the webs. For joining, a method of pasting with a joining tape or the like is widely used. For this reason, too narrow a gap between the web inlet side and the web of the ionizing radiation reaction chamber or front chamber causes a problem such as a sticking of a bonding member such as a bonding tape. For this reason, in order to narrow the gap, it is preferable to make at least one portion of the web inlet side of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber movable, so that the gap is widened at a rate corresponding to the thickness of the joint when the joint portion comes in. . Methods that can be used to realize this include a method of making the inlet side of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber move back and forth in the direction of movement, and moving back and forth as the junction passes therethrough to widen the gap; And making the inlet side of the ionizing radiation reaction chamber or the front chamber moveable in the vertical direction of the web surface, and moving up and down to widen the gap as the joining portion passes therethrough.

경화에 있어서, 필름 표면을 60 ℃ 이상 및 170 ℃ 이하로 가열하는 것이 바람직하다. 가열 온도가 60 ℃ 미만일 때, 가열 효과가 낮고, 반면 170 ℃ 초과일 때, 기판의 변형과 같은 문제가 야기된다. 가열 온도는 더 바람직하게 60 ℃ 내지 100 ℃ 이다. 본원에서 지칭하는 "필름 표면"의 온도는 층의 필름 표면이 경화되는 온도를 의미한다. 따라서, 상기 온도에 도달하는데 요구되는 시간은 UV 조사 시작 후, 0.1 초 이상 및 300 초 이하, 더 바람직하게는 10 이하이다. 필름 표면의 온도를 상기 온도 범위내에 유지하는 시간이 지나치게 짧으면, 필름 형성이 가능한 경화성 조성물의 반응이 가속될 수 없다. 반면, 이것이 지나치게 길면, 필름의 광학 성능이 저하되고, 장비가 커지는 등의 생산에서의 문제가 야기된다.In hardening, it is preferable to heat a film surface to 60 degreeC or more and 170 degrees C or less. When the heating temperature is lower than 60 ° C., the heating effect is low, whereas when it is higher than 170 ° C., problems such as deformation of the substrate are caused. The heating temperature is more preferably 60 ° C to 100 ° C. The temperature of "film surface" as referred to herein means the temperature at which the film surface of the layer cures. Thus, the time required to reach the temperature is at least 0.1 seconds and at most 300 seconds, more preferably at most 10, after the start of UV irradiation. If the time for keeping the temperature of the film surface within the above temperature range is too short, the reaction of the curable composition capable of forming a film cannot be accelerated. On the other hand, if it is too long, problems in production, such as deterioration in optical performance of the film and increase in equipment, are caused.

가열 방법이 특별히 제한되는 것은 아니지만, 이의 바람직한 예에는 롤을 가열하고, 이것을 필름과 접촉시키는 방법; 가열 질소를 송풍하는 방법; 및 근적외선 및 적외선을 조사하는 방법이 포함된다. 일본 특허 제 2523574 호에 기재된, 온수, 증기 및 오일과 같은 매질을 회전 금속 롤 내로 흐르게 하면서 가열을 수행하는 방법도 사용될 수 있다. 가열 수단으로써, 유전체 가열 롤 등을 사용할 수 있다. The heating method is not particularly limited, but preferred examples thereof include a method of heating a roll and contacting it with a film; A method of blowing heated nitrogen; And a method of irradiating near infrared rays and infrared rays. A method of performing heating while flowing a medium such as hot water, steam and oil into a rotating metal roll, described in Japanese Patent No. 2523574, can also be used. As the heating means, a dielectric heating roll or the like can be used.

자외선 조사는 각각의 구조적인 복수의 층에 대한 하나의 층을 제공할 때, 또는 적층 후 매번 수행할 수 있다. 대안적으로, 조사는 이것을 조합함으로서 수행할 수 있다. 생산성의 관점에서 다중 층을 적층한 후 자외선을 조사는 것이 바람직하다. Ultraviolet irradiation can be performed each time when providing one layer for each of the plurality of structural layers, or after lamination. Alternatively, the investigation can be performed by combining this. It is preferable to irradiate an ultraviolet-ray after laminating | stacking multiple layers from a productivity viewpoint.

본 발명에서, 전리 방사선을 수 회 조사함으로써 지지체에 적층된 하나 이상의 층을 경화시킬 수 있다. 이 경우, 전리 방사선 조사는, 산소 농도가 3 부피% 를 초과하지 않는 연속 반응 챔버 내에서 2 회 이상 수행되는 것이 바람직하다. 이와 동일하게 낮은 산소 농도를 가지는 반응 챔버 내에서 전리 방사선 조사를 수 회 수행함으로써, 경화에 필요한 반응 시간을 효과적으로 확보할 수 있다.In the present invention, one or more layers laminated to the support can be cured by irradiating the ionizing radiation several times. In this case, the ionizing radiation is preferably carried out two or more times in a continuous reaction chamber in which the oxygen concentration does not exceed 3% by volume. By carrying out the ionizing radiation irradiation several times in the reaction chamber having the same low oxygen concentration, it is possible to effectively secure the reaction time required for curing.

특히, 고 생산성을 위해 생산 속도를 증가시키는 경우, 경화 반응에 필요한 전리 방사선의 에너지를 확보하기 위해, 전리 방사선 조사를 수 회 수행하는 것이 필요하다. In particular, when increasing the production rate for high productivity, it is necessary to perform ionizing irradiation several times in order to secure the energy of the ionizing radiation required for the curing reaction.

또한, 경화 속도 [100-(잔여 관능기 함량)] 수치가 100 % 미만인 경우, 그 위에 층을 제공하고 전리 방사선 및/또는 열을 통해 경화시키는데 있어서, 하부 층의 경화 속도가 상부 층을 제공하기 전보다 높을 때, 하부 층 및 상부 층의 사이의 부착성이 개선되고, 이것은 바람직하다.Furthermore, if the cure rate [100- (remaining functional group content)] value is less than 100%, in providing a layer thereon and curing through ionizing radiation and / or heat, the cure rate of the lower layer is higher than before providing the top layer. When high, the adhesion between the bottom layer and the top layer is improved, which is desirable.

4-(6) 취급:4- (6) Handling:

본 발명의 필름의 연속 생산을 위해, 롤 상태의 지지체 필름을 연속 전달하는 단계; 코팅 용액의 코팅 및 건조 단계; 코팅 필름의 경화 단계; 및 경화 층을 가지는 지지체 필름을 감는 단계가 수행된다. Continuous delivery of a roll of support film for continuous production of the film of the invention; Coating and drying of the coating solution; Curing of the coating film; And winding the support film having the cured layer.

필름 지지체는 연속적으로 롤 상태의 필름 지지체로부터 청정 챔버 속으로 전달되고; 필름 지지체에 충전된 정전기는 청정 챔버 내의 정전기제거(destaticization) 장치에 의해 제거되고; 이어서, 필름 지지체에 붙어 있는 외부 물질은 먼지 제거 단위에 의해 제거된다. 이어서, 코팅 용액은 청정 챔버 내에 위치하면서 코팅 부분의 필름 지지체 상에 코팅되고, 코팅된 필름 지지체는 건조 챔버로 보내지고, 건조된다. The film support is continuously transferred from the rolled film support into the clean chamber; Static electricity charged in the film support is removed by a destaticization device in the clean chamber; Subsequently, the foreign matter adhering to the film support is removed by the dust removal unit. The coating solution is then coated on the film support of the coating portion while located in the clean chamber, and the coated film support is sent to a drying chamber and dried.

건조된 코팅 층을 가지는 필름 지지체는 건조 챔버에서 경화 챔버로 전달되고, 코팅 층에 함유된 단량체는 중합되고, 경화된다. 부가적으로, 경화된 층을 가지는 필름 지지체는 경화 부분으로 보내지고, 거기서 경화가 완성되고; 완전히 경화된 층을 가지는 필름 지지체는 감아져 롤 상태가 된다.The film support having the dried coating layer is transferred from the drying chamber to the curing chamber, and the monomers contained in the coating layer are polymerized and cured. In addition, the film support having the cured layer is sent to a curing portion, where curing is completed; The film support having the fully cured layer is wound to a roll state.

앞선 단계들을 각 층을 형성할 때마다 수행할 수 있다. 복수의 코팅 부분/건조 챔버/경화 부분을 제공함으로써, 각 층의 형성을 수행하는 것이 가능하다.The foregoing steps can be performed for each layer formation. By providing a plurality of coating portions / drying chambers / curing portions, it is possible to carry out the formation of each layer.

본 발명의 필름을 제조하기 위해서, 코팅 용액의 상기 마이크로여과 과정과 동시에, 코팅 부분의 코팅 단계 및 건조 챔버 내에서의 건조 단계가 고청정 공기 대기 중에서 수행되고, 코팅을 수행하기 전, 필름 상의 오염물 및 먼지를 철저히 제거한다. 코팅 단계 및 건조 단계에서의 공기 청정도는, 연방 표준 제 209E 에 따른 공기 청정도를 기초로, 바람직하게 등급 10 (0.5 ㎛ 이상인 입자의 수가 353/m3 이하) 이상, 더 바람직하게는 등급 1 (0.5 ㎛ 이상인 입자의 수가 35.5/m3 이하)이상이다. 또한, 전달 및 감기(winding up)와 같은, 코팅 및 건조 단계 이외의 단계에서도 공기 청정도가 높은것이 바람직하다.In order to produce the film of the present invention, at the same time as the microfiltration process of the coating solution, the coating step of the coating portion and the drying step in the drying chamber are performed in a high clean air atmosphere, and before the coating is carried out, contaminants on the film And dust thoroughly. The air cleanliness in the coating step and in the drying step is preferably based on air cleanliness in accordance with Federal Standard No. 209E, preferably of grade 10 (number of particles having a diameter of 0.5 μm or more, 353 / m 3 or less), more preferably of class 1 (0.5) The number of particles having a thickness of not less than 35.5 / m 3 ). It is also desirable to have high air cleanliness in steps other than the coating and drying steps, such as transfer and winding up.

4-(7) 비누화 처리:4- (7) Saponification Treatment:

본 발명의 필름을 편광 필름의 2 개 표면 보호 필름 중 하나로 사용하여 편광판을 제조함에 있어서, 편광 필름이 부착되는 면의 표면을 친수화시켜 부착 표면의 부착력을 개선시키는 것이 바람직하다.In manufacturing a polarizing plate using the film of this invention as one of the two surface protection films of a polarizing film, it is preferable to hydrophilize the surface of the surface to which a polarizing film adheres, and to improve the adhesive force of an adhesion surface.

(a) 알칼리 용액에 침지시키는 방법(a) Method of Dipping in Alkaline Solution

이 방법은 필름을 알칼리 용액에 침지시켜, 필름 표면 전체에 알칼리와 반응성을 지니는 모든 표면을 비누화 하는 수단이다. 이 방법에는 특별한 장비가 요구되지 않으므로, 비용의 관점에 바람직하다. 수산화나트륨 수용액이 알칼리 용액으로 바람직하다. 알칼리 용액의 농도는 바람직하게 0.5 내지 3 몰/L, 더 바람직하게 1 내지 2 몰/L 이고; 및 알칼리 용액의 액온은 바람직하게 30 내지 75 ℃, 더 바람직하게 40 내지 60 ℃ 이다.This method is a means by which the film is immersed in an alkaline solution to saponify all surfaces that are reactive with alkali over the entire film surface. This method does not require special equipment and is therefore preferable in terms of cost. An aqueous sodium hydroxide solution is preferred as the alkaline solution. The concentration of the alkaline solution is preferably 0.5 to 3 mol / L, more preferably 1 to 2 mol / L; And the liquid temperature of the alkaline solution is preferably 30 to 75 ° C, more preferably 40 to 60 ° C.

상기 비누화 조건의 조합이 상대적으로 온건한 조건의 조합이지만, 이는 원료 및 필름의 배열 및 요구되는 접촉각에 따라 설정할 수 있다.Although the combination of the saponification conditions is a combination of relatively moderate conditions, it can be set according to the arrangement of the raw material and the film and the contact angle required.

알칼리 용액에 침지시킨 후, 필름을 물로 철저히 세정하거나 또는 필름을 희석 산에 침지시킴으로써 알칼리 성분을 중화시켜, 알칼리 성분이 필름에 남지 않도록 하는 것이 바람직하다. After being immersed in the alkaline solution, it is preferable to neutralize the alkali component by thoroughly washing the film with water or immersing the film in dilute acid so that the alkali component does not remain on the film.

비누화 처리에 의해서, 코팅 층이 존재하는 표면의 반대 표면이 친수화된다. 편광판용 보호 필름은, 투명 지지체의 친수화 표면을 편광 필름에 부착시킨 후의 사용을 위해 제공된다.By the saponification treatment, the opposite surface of the surface on which the coating layer is present is hydrophilized. The protective film for polarizing plates is provided for use after attaching the hydrophilized surface of a transparent support body to a polarizing film.

친수화 표면은 주 성분으로써 폴리비닐 알콜로 만들어진 부착 표면으로의 부착을 개선시키는데 효과적이다.Hydrophilized surfaces are effective in improving adhesion to adhesion surfaces made of polyvinyl alcohol as a main component.

비누화 처리에 있어서, 편광 필름에의 부착의 관점에서, 코팅 층이 존재하는 측면의 반대측에서의 투명 지지체 표면의, 물에 대한 접촉각이 가능한 한 낮은 것이 바람직하다. 한편, 침지법에서는, 필름이, 코팅층이 존재하는 표면에서부터 필름의 내부까지 알칼리에 의해 동시에 손상되므로, 필요한 최소한의 조건을 적용하는 것이 중요하다. 반대측의 표면 상의 투명 지지체의 물에 대한 접촉각이, 알칼리에 의해서 각 층이 받은 손상의 지수로 사용되는 경우, 특히 투명 지지체가 트리아세틸 셀룰로오스일 때, 접촉각은 바람직하게 10° 내지 50°, 더 바람직하게 30° 내지 50°, 더욱 바람직하게 40° 내지 50°이다. 접촉각이 50°를 초과하는 경우, 편광 필름으로의 부착에 문제가 야기되고, 따라서, 이것은 바람직하지 않다. 반면, 10° 미만인 경우, 필름이 받는 손상이 지나치게 커지고, 물리적 강도가 방해받으므로, 바람직하지 않다.In the saponification process, from the viewpoint of adhesion to the polarizing film, it is preferable that the contact angle to water of the transparent support surface on the opposite side to the side where the coating layer is present is as low as possible. On the other hand, in the immersion method, since the film is simultaneously damaged by alkali from the surface where the coating layer exists to the inside of the film, it is important to apply the minimum conditions necessary. When the contact angle of the transparent support on the surface on the opposite side to water is used as an index of damage received by each layer by alkali, especially when the transparent support is triacetyl cellulose, the contact angle is preferably 10 ° to 50 °, more preferably. 30 ° to 50 °, more preferably 40 ° to 50 °. If the contact angle exceeds 50 °, problems arise in adhesion to the polarizing film, and therefore this is not preferable. On the other hand, if it is less than 10 °, the damage to the film becomes excessively large and the physical strength is hindered, which is not preferable.

(b) 알칼리 용액 코팅법:(b) Alkaline solution coating method:

상기 침지법에서 각 필름에 대한 손상을 피하기 위한 수단으로, 코팅 층이 존재하는 표면의 반대쪽의 표면에만 알칼리 용액을 코팅하고, 이어서 가열, 물로 세정 및 건조하여 알칼리 용액을 코팅하는 방법을 사용하는 것이 바람직하다. 그런데 이 경우, 여기서 지칭하는 "코팅"은 알칼리 용액 등을 비누화가 수행된 표면에만 접촉시키는 것을 의미한다. 코팅 외에, 분무, 액체-함유 벨트와의 접촉 또는 다른 수단도 포함된다. 이러한 방법을 사용하면, 알칼리 용액 코팅용 장치 및 단계가 별도로 요구되므로, 이 방법은 침지 방법 (a) 에 비하여 비용 측면에서 열등하다. 반면, 비누화 처리가 적용된 표면에만 알칼리 용액이 접촉하므로, 알칼리 용액에 대하여 취약한 원료를 사용한 층이 반대측 표면에 제공될 수 있다. 예를 들어, 기상 증착 필름 또는 졸-겔 필름에서, 부식, 분해 및 박리와 같은 다양한 영향이 알칼리 용액 때문에 야기된다. 따라서, 이러한 기상 증착 필름 또는 졸-겔 필름을, 침지법을 통해 제공하는 것이 바람직하지 않지만, 이 코팅 방법에서는 필름이 용액과 접촉하지 않으므로, 이러한 기상 증착 필름 또는 졸-겔 필름을 어떠한 문제 없이 사용할 수 있다.As a means for avoiding damage to each film in the immersion method, it is preferable to use the method of coating the alkali solution only by coating the alkali solution only on the surface opposite to the surface on which the coating layer is present, followed by heating, washing with water and drying. desirable. In this case, however, "coating" as used herein means contacting an alkaline solution or the like only with the surface on which saponification has been performed. In addition to coatings, spraying, contact with liquid-containing belts or other means are also included. With this method, since the apparatus and steps for coating the alkaline solution are separately required, this method is inferior in cost compared to the dipping method (a). On the other hand, since the alkaline solution contacts only the surface to which the saponification treatment has been applied, a layer using a raw material vulnerable to the alkaline solution can be provided on the opposite surface. For example, in vapor deposition films or sol-gel films, various effects such as corrosion, decomposition and delamination are caused due to the alkaline solution. Therefore, it is not desirable to provide such vapor deposition film or sol-gel film by dipping, but in this coating method, since the film is not in contact with the solution, such vapor deposition film or sol-gel film can be used without any problem. Can be.

상기 모든 비누화 방법 (a) 및 (b) 에서, 필름을 롤 상태의 지지체에서 풀어내고, 각 층을 형성한 후, 비누화를 수행할 수 있으므로, 이는 필름 생산 단계 이후에 첨가될 수 있고, 일련의 공정에서 달성될 수 있다. 또한, 종합적으로 유사하게 풀어낸 지지체로 만든 편광판에 붙이는 단계를 연속적으로 수행함으로써, 동일한 공정을 시트마다 수행하는 경우에 비하여 양호한 효율로 편광판을 제조할 수 있다. In all the saponification methods (a) and (b) above, the film can be unrolled from the support in a rolled state, and after forming each layer, saponification can be carried out, so that it can be added after the film production step, and a series of Can be achieved in the process. Further, by continuously performing the step of attaching to a polarizing plate made of a support body which is similarly unwound in general, a polarizing plate can be produced with good efficiency as compared with the case of performing the same process for each sheet.

(c) 라미네이트 필름으로 보호하여 비누화를 달성하는 방법:(c) How to protect with laminate film to achieve saponification:

상기 방법 (b) 와 유사하게, 코팅 층이 알칼리 용액에 대한 저항성이 부족한 경우, 최종 층을 형성한 후, 라미네이트 필름을 최종 층이 형성된 표면에 붙이고, 알칼리 용액에 침지시킴으로써, 최종 층이 형성된 표면의 반대 측의 트리아세틸 셀룰로오스 표면만 친수화시키고, 라미네이트 필름을 박리제거할 수 있다. 이 방법에 따르면, 코팅 층을 손상시키지 않으면서, 편광판용 보호 필름으로서 충분한 친수화 처리를, 최종 층이 형성된 표면의 반대측에 있는 트리아세틸 셀룰로오스 필름의 표면에만 적용할 수 있다. 상기 방법 (b) 와 비교하여 이 방법은, 라미네이트 필름이 폐기물로 생성되지만, 알칼리 용액을 코팅하기 위한 특별 장치가 요구되지 않는다는 장점을 지닌다.Similar to the above method (b), when the coating layer lacks resistance to the alkaline solution, after forming the final layer, the laminate film is applied to the surface on which the final layer is formed, and then immersed in the alkaline solution to form the surface on which the final layer is formed. Only the triacetyl cellulose surface on the opposite side can be hydrophilized and the laminate film can be peeled off. According to this method, sufficient hydrophilicity treatment as a protective film for polarizing plates can be applied only to the surface of the triacetyl cellulose film on the side opposite to the surface on which the final layer is formed, without damaging the coating layer. Compared with the above method (b), this method has the advantage that the laminate film is produced as waste, but no special apparatus for coating the alkaline solution is required.

(d) 중간 층을 형성한 후, 알칼리 용액에 침지하는 방법:(d) After forming the intermediate layer, the method is immersed in alkaline solution:

하부 층이 알칼리 용액에 대한 저항을 갖지만, 상부 층의 알칼리 용액에 대한 저항성이 불충분한 경우에는, 하부 층을 형성한 후, 필름을 알칼리 용액에 침지시켜, 양 표면을 친수화 시킨 후, 상부 층을 형성할 수 있다. 생산 공정은 복잡해진다. 그러나, 예를 들어, 불소-함유 졸-겔 필름으로 만들어진 저굴절률층 및 눈부심 방지층으로 이루어진 필름에서는, 친수성 층이 존재하는 경우에, 눈부심 방지층과 저굴절률층 사이의 층간 부착성이 개선되는 장점이 있다.If the lower layer has resistance to the alkaline solution, but the resistance of the upper layer to the alkaline solution is insufficient, after forming the lower layer, the film is immersed in the alkaline solution to hydrophilize both surfaces, and then the upper layer Can be formed. The production process is complicated. However, for example, in a film composed of a low refractive index layer and an antiglare layer made of a fluorine-containing sol-gel film, the advantage that the interlayer adhesion between the antiglare layer and the low refractive index layer is improved when a hydrophilic layer is present have.

(e) 미리 비누화된 트리아세틸 셀룰로오스 필름 상에 코팅 층을 형성하는 방법:(e) A method of forming a coating layer on a previously saponified triacetyl cellulose film:

알칼리 용액에 침지시키거나 또는 다른 수단으로 미리 비누화한 트리아세틸 셀룰로오스 필름의 한 표면에 직접 또는 다른 층을 통해서 코팅 층을 형성할 수 있다. 트리아세틸 셀룰로오스 필름을 알칼리 용액에 침지시켜 비누화하는 경우, 비누화를 통해 친수화된 트리아세틸 셀룰로오스 표면에 대한 층간 부착성이 악화될 수 있다. 이러한 경우, 비누화 후 코팅 층이 형성된 표면만, 코로나 방전 또는 글로우 방전 처리 또는 다른 수단 처리하여, 친수화된 표면을 제거함으로서, 이 문제를 해결할 수 있다. 또한, 코팅 층이 친수성 기를 포함하는 경우, 층간 부착성이 양호해 질 수 있다.The coating layer may be formed directly or through another layer on one surface of the triacetyl cellulose film which has been immersed in alkaline solution or previously saponified by other means. When saponification of the triacetyl cellulose film by dipping in an alkaline solution, the interlayer adhesion to the hydrophilized triacetyl cellulose surface through saponification may be deteriorated. In this case, this problem can be solved by removing only the surface on which the coating layer is formed after saponification, by treating with corona discharge or glow discharge or by other means to remove the hydrophilized surface. In addition, when the coating layer includes hydrophilic groups, the interlayer adhesion may be good.

4-(8) 편광 필름의 제조:Preparation of 4- (8) Polarizing Film:

본 발명의 필름은 이의 한 측면 또는 양쪽 측면에 배치된 편광 필름 및 보호 필름으로서 사용하여 편광 필름으로 사용할 수 있다.The film of this invention can be used as a polarizing film using it as a polarizing film and a protective film arrange | positioned at one side or both sides thereof.

본 발명의 필름은 하나의 보호 필름으로 사용할 수 있고, 한편 통상의 셀룰로오스 아세테이트 필름을 다른 보호 필름으로 사용할 수 있다. 그러나, 상기 용액 필름 형성 방법으로 생산되고 롤 상태에서 폭 방향으로 연신되어, 연신 비율이 10 내지 100 % 가 되는 셀룰로오스 아세테이트 필름을 사용하는 것이 바람직하다. The film of the present invention can be used as one protective film, while a conventional cellulose acetate film can be used as another protective film. However, it is preferable to use the cellulose acetate film produced by the solution film forming method and stretched in the width direction in the roll state, so that the stretching ratio is 10 to 100%.

부가적으로, 본 발명의 편광판은 그 한 표면이 반사방지 필름인 반면 다른 보호 필름은 액체 결정질 화합물로 만들어진 광학 보정 필름인 것이 바람직하다. In addition, it is preferable that the polarizing plate of the present invention is an antireflection film while one surface thereof is an optical correction film made of a liquid crystalline compound.

편광 필름의 예는, 요오드 기재 편광 필름, 2색성 염료를 사용한 염료 기재 편광 필름 및 폴리엔 기재 편광 필름을 포함한다. 요오드 기재 편광 필름 및 염료 기재 편광 필름은 일반적으로 폴리비닐 알콜 기재 필름을 사용하여 생산된다.Examples of the polarizing film include an iodine-based polarizing film, a dye-based polarizing film using a dichroic dye, and a polyene-based polarizing film. Iodine based polarizing films and dye based polarizing films are generally produced using polyvinyl alcohol based films.

반사방지 필름 또는 셀룰로오스 아세테이트 필름의 투명 지지체의 느린 축 및 편광 필름의 전송 축은 실질적으로 서로 평행하게 배치된다.The slow axis of the transparent support of the antireflective film or cellulose acetate film and the transmission axis of the polarizing film are arranged substantially parallel to each other.

편광판의 생산을 위해, 보호 필름의 투습성이 중요하다. 편광 필름 및 보호 필름이 서로 수성 부착제를 통해 부착되고, 이 부착제의 용매가 보호 필름으로 확산되어, 건조가 달성된다. 보호 필름의 투습성이 높을 때, 건조는 빨라지고, 생산성이 개선된다. 그러나 투습성이 지나치게 높을 때는, 수분이 액정 디스플레이 장치의 사용 환경에서(고습 하에서) 편광 필름으로 들어가고, 따라서 편광 능력이 낮아진다.For the production of polarizing plates, the moisture permeability of the protective film is important. The polarizing film and the protective film are attached to each other through the aqueous adhesive, and the solvent of the adhesive is diffused into the protective film, so that drying is achieved. When the moisture permeability of the protective film is high, drying is faster and productivity is improved. However, when the moisture permeability is too high, moisture enters the polarizing film in the use environment of the liquid crystal display device (under high humidity), and thus the polarizing ability is lowered.

보호 필름의 투습성은 투명 지지체 또는 중합체 필름(및 중합가능 액정 화합물)의 두께, 자유 부피, 친수성 또는 소수성 등에 의해 결정된다.The moisture permeability of the protective film is determined by the thickness, free volume, hydrophilicity or hydrophobicity, etc. of the transparent support or the polymer film (and the polymerizable liquid crystal compound).

본 발명의 필름이 편광판용 보호 필름으로 사용될 때, 투습성은 바람직하게 100 내지 1,000 g/m2·24 시간, 더 바람직하게 300 내지 700 g/m2·24 시간이다.When the film of the present invention is used as a protective film for a polarizing plate, the moisture permeability is preferably 100 to 1,000 g / m 2 · 24 hours, more preferably 300 to 700 g / m 2 · 24 hours.

필름을 형성하는 경우에, 투명 지지체의 두께는 립(lip) 유속 및 선 속도 또는 연신 또는 압축으로 조정할 수 있다. 투습성은 사용되는 주요 원료에 따라 변화하므로, 두께를 조정함으로써, 바람직한 범위의 투습성을 설정할 수 있다.In the case of forming a film, the thickness of the transparent support can be adjusted by lip flow rate and linear velocity or stretching or compression. Since moisture permeability changes with the main raw material used, moisture permeability of a preferable range can be set by adjusting thickness.

필름을 형성하는 경우, 투명 지지체의 자유 부피는 건조 온도 및 시간으로 조정할 수 있다.When forming the film, the free volume of the transparent support can be adjusted by drying temperature and time.

이 경우, 투습성은 또한 사용되는 주요 원료에 따라 변화하므로, 자유 부피를 조정하여 바람직한 범위로 결정할 수 있다.In this case, the moisture permeability also varies depending on the main raw materials used, so that the free volume can be adjusted to determine the desired range.

투명 지지체의 친수성 또는 소수성은 첨가제로 조정할 수 있다. 친수성 첨가제를 상기 자유 부피로 첨가함으로써, 투습성이 높아지고, 반면 소수성 첨가제를 첨가하면 투습성이 낮아질 수 있다.Hydrophilicity or hydrophobicity of the transparent support can be adjusted with additives. By adding hydrophilic additives to the free volume, the moisture permeability is increased, while the addition of hydrophobic additives can lower the moisture permeability.

상기 투습성을 독립적으로 제어함으로써, 저비용 및 높은 생산성으로 광학 보정 능력을 가지는 편광판을 생산할 수 있다. By independently controlling the moisture permeability, it is possible to produce a polarizing plate having optical correction capability at low cost and high productivity.

편광 필름으로서, 흡수축이 종단 방향에 대해 평행 또는 수직이 아닌 종단 편광 필름으로부터 잘린 편광 필름 및 공지된 편광 필름을 사용할 수 있다. 흡수축이 종단 방향에 대해 평행 또는 수직이 아닌 종단 편광 필름을 하기 방법으로 제조한다. As the polarizing film, it is possible to use a polarizing film and a known polarizing film in which the absorption axis is cut from the terminal polarizing film which is not parallel or perpendicular to the longitudinal direction. The terminal polarizing film whose absorption axis is not parallel or perpendicular to the longitudinal direction is produced by the following method.

즉, 이 편광 필름은, 고정(holding) 단위로 그 양끝을 고정하면서 장력을 부여함으로써 연속적으로 공급되는 중합체를 연신시켜 제조된 편광 필름이다. 편광 필름은, 필름을 적어도 필름 폭 방향으로 1.1 내지 20.0 배의 비율로 연신하고; 종단 방향에서 양 필름 말단의 고정 단위 사이의 이동 속도 차이가 3 % 이내이고; 및 필름 양 말단을 고정하는 단계의 출구에서 필름의 이동 방향과 필름의 실질적인 연신 방향 사이의 각이 20° 내지 70°로 기울어지도록, 필름 양 말단을 고정한 상태에서 필름의 이동 방향을 구부리는 연신 방법으로 생산할 수 있다. 특히, 대상 각이 45°로 기울어진 편광 필름이 생산성의 관점에서 바람직하게 사용된다.That is, this polarizing film is a polarizing film manufactured by extending | stretching the polymer continuously supplied by giving tension, fixing both ends in a holding unit. The polarizing film extends the film at a ratio of 1.1 to 20.0 times at least in the film width direction; The difference in the speed of movement between the fixing units at both film ends in the longitudinal direction is within 3%; And a stretching method of bending the moving direction of the film in a state where both ends of the film are fixed so that an angle between the moving direction of the film and the substantially stretching direction of the film is inclined at 20 ° to 70 ° at the exit of the step of fixing the both ends of the film. Can be produced by In particular, a polarizing film in which the object angle is inclined at 45 ° is preferably used in view of productivity.

중합체 필름의 연신 방법은 JP-A-2002-86554 의 단락 [0020] 내지 [0030] 에 자세히 기재되어 있다.The stretching method of the polymer film is described in detail in paragraphs [0020] to [0030] of JP-A-2002-86554.

편광자의 2 개의 보호 필름 중, 반사방지 필름이 아닌 필름이 광학적 이방성 층을 포함하는 광학 보정층을 가지는 광학 보정 필름인 것이 또한 바람직하다. 광학 보정 필름(지연 필름)은 액정 디스플레이 스크린의 시야각 특징을 개선시킬 수 있다.Among the two protective films of the polarizer, it is also preferable that the film which is not an antireflection film is an optical correction film having an optical correction layer including an optically anisotropic layer. Optical correction films (delay films) can improve viewing angle characteristics of liquid crystal display screens.

공지된 광학 보정 필름이 광학 보정 필름으로 사용될 수 있다. JP-A-2001-100042에 기재된 광학 보정 필름이 시야각을 넓히는 관점에서 바람직하다.Known optical correction films can be used as the optical correction films. The optical correction film of JP-A-2001-100042 is preferable from a viewpoint of extending a viewing angle.

5. 본 발명의 용도 구현예:5. Uses of the Invention Embodiments:

본 발명의 필름은 영상 표시 장치, 예컨대 액정 디스플레이 장치 (LCD), 플라즈마 디스플레이 패널 (PDP), 전계발광 디스플레이 장치 (ELD) 및 음극선관 디스플레이 장치 (CRT) 에 사용된다. 본 발명에 따른 광학 필터는 공지된 디스플레이 장치, 예컨대 플라즈마 디스플레이 패널 (PDP) 등에 사용될 수 있다.The film of the present invention is used in an image display device such as a liquid crystal display device (LCD), a plasma display panel (PDP), an electroluminescent display device (ELD) and a cathode ray tube display device (CRT). The optical filter according to the present invention can be used for a known display device such as a plasma display panel (PDP) or the like.

5-(1) 액정 디스플레이 장치:5- (1) liquid crystal display device:

본 발명의 필름은 유리하게 액정 디스플레이 장치와 같은 영상 표시 장치에 사용될 수 있다. 디스플레이의 최외 층에 본 발명의 필름을 사용하는 것이 바람직하다. The film of the present invention can advantageously be used in an image display device such as a liquid crystal display device. It is preferable to use the film of the present invention for the outermost layer of the display.

액정 디스플레이 장치는 액정 셀 및 2 개의 편광판이 그 양 측면에 배치되어 있고, 액정 셀은 2 개의 전극 기판 사이의 액정을 지지한다. 부가적으로, 1 개의 광학 이방성 층은 액정 셀과 1 개의 편광판 사이에 배치될 수 있고, 또는 2 개의 광학 이방성 층이 액정 셀과 2 개의 각 편광판 사이에 배치될 수 있다. In the liquid crystal display device, a liquid crystal cell and two polarizing plates are disposed on both sides thereof, and the liquid crystal cell supports the liquid crystal between the two electrode substrates. In addition, one optically anisotropic layer may be disposed between the liquid crystal cell and one polarizing plate, or two optically anisotropic layers may be disposed between the liquid crystal cell and two respective polarizing plates.

액정 셀이 TN 모드, VA 모드, OCB 모드, IPS 모드 또는 ECB 모드인 것이 바람직하다. It is preferable that a liquid crystal cell is TN mode, VA mode, OCB mode, IPS mode, or ECB mode.

<TN 모드><TN mode>

TN 모드의 액정 셀에서, 간상 액체 결정질 분자가 실질적으로 수평하게 배열되고, 전압을 적용하지 않는 시기에 60°내지 120°에서 비틀어진 상태로 추가적으로 정렬된다.In the liquid crystal cell of the TN mode, the liquid crystalline molecules are sometimes arranged substantially horizontally, and further aligned in a twisted state at 60 ° to 120 ° when no voltage is applied.

TN 모드의 액정 셀은 컬러 TFT 액정 디스플레이 장치로써 가장 빈번히 이용되고, 많은 참조 문헌에 기재되어 있다.Liquid crystal cells in TN mode are most frequently used as color TFT liquid crystal display devices and are described in many references.

<VA 모드><VA mode>

VA 모드의 액정 셀에서, 간상 액체 결정질 분자는 전압이 적용되지 않는 시기에 실질적으로 수직으로 정렬한다. In the liquid crystal cell of VA mode, the liquid crystalline molecules are aligned substantially vertically at the time when no voltage is applied.

VA 모드의 액정 셀은 (1) 간상 액체 결정질 분자가 액정 셀이 전압이 적용되지 않는 시기에 실질적으로 수직으로 정렬하고, 반면, 전압 적용 시기에는 실질적으로 수평하게 정렬하는 협의의 VA 모드의 액정 셀 (JP-A-2-176625 에 기재됨) 외에, (2) 시야각 확장용 다중 도메인 VA 모드 (MVA 모드) 의 액정 셀 (SID 97, Digest of Tech. Papers, 28 (1997), p 845 에 기재됨), (3) 간상 액체 결정질 분자가 전압이 적용되지 않는 시기에 실질적으로 수직으로 정렬하고, 전압이 적용되는 시기에 비틀린 다중 도메인 정렬이 되는 모드의 액정 셀 (n-ASM 모드) (Preprints of Forum on Liquid Crystal, p 58 ~ 59 (1998) 에 기재됨), 및 (4) SURVIVAL 모드의 액정 셀 (LCD International 98 에 발표됨) 을 포함한다.The liquid crystal cell in VA mode is (1) the liquid crystal cell in narrow VA mode in which the liquid crystalline molecules are substantially vertically aligned at the time when no voltage is applied, while the liquid crystal cells are substantially horizontally aligned at the time when voltage is applied. In addition to (described in JP-A-2-176625), (2) a liquid crystal cell of multi-domain VA mode (MVA mode) for viewing angle extension (described in SID 97, Digest of Tech. Papers , 28 (1997), p 845). search), (3) rods liquid crystalline molecules are liquid crystal cells (n-ASM mode of the mode in which the twisted multi-domain alignment at the time that is aligned substantially perpendicular to the timing at which the voltage is not applied, the voltage is applied) (Preprints of Forum on Liquid Crystal, p 58-59 (1998)), and (4) liquid crystal cells in SURVIVAL mode (presented in LCD International 98 ).

<OCB 모드><OCB Mode>

OCB 모드의 액정 셀은, 간상 액체 결정질 분자가 액정 셀의 상부 및 하부에서 실질적으로 반대방향(대칭 방식으로)으로 정렬되는 구부러진(bend) 정렬 모드의 액정 셀이고, 미국 특허 제 4,583,825 호 및 제 5,410,422 호에 기재되어 있다. 간상 액체 결정질 분자가 액정 셀의 상부 및 하부에서 대칭으로 정렬되어 있으므로, 구부러진 정렬 모드의 액정 셀이 자기 광학 보상(self optical compensation) 능력을 가진다. 이런 이유로 이 액정 모드는 OCB(광학 보충의 구부러짐) 액정 모드로 명명되었다. 구부러진 정렬 모드의 액정 디스플레이 장치는 반응 속도가 빠른 것 등의 장점을 가진다.Liquid crystal cells in OCB mode are liquid crystal cells in a bent alignment mode in which liquid crystalline molecules are sometimes aligned substantially in opposite directions (symmetrically) at the top and bottom of the liquid crystal cell, US Pat. Nos. 4,583,825 and 5,410,422 It is described in the issue. Since liquid crystalline molecules are symmetrically aligned at the top and bottom of the liquid crystal cell, the bent alignment mode liquid crystal cell has a self optical compensation capability. For this reason, this liquid crystal mode was named OCB (optical supplementary bend) liquid crystal mode. The bent alignment mode liquid crystal display device has advantages such as fast reaction speed.

<IPS 모드><IPS Mode>

IPS 모드의 액정 셀은 횡전계를 네마틱 액정에 적용함으로써 시스템을 개폐하는 것이고, 상세한 내용은 문헌 [Proc. IDRC (Asia Display `95), p 577 ~ 580 및 p 707 ~ 710] 에 기재되어 있다.The liquid crystal cell of the IPS mode is to open and close the system by applying a transverse electric field to the nematic liquid crystal. For details, see Proc. IDRC (Asia Display `95), p 577-580 and p 707-710.

<ECB 모드><ECB mode>

ECB 모드의 액정 셀에서, 간상 액체 결정질 분자는 전압을 적용하지 않는 시기에 실질적으로 수평하게 정렬한다. ECB 모드는 가장 단순한 구조를 가지는 액정 디스플레이 모드 중 하나이고, 상세한 내용은, 예를 들어, JP-A-5-203946 에 기재되어 있다.In the liquid crystal cell of the ECB mode, the liquid crystalline molecules are aligned substantially horizontally at the time when no voltage is applied. The ECB mode is one of the liquid crystal display modes having the simplest structure, and details are described, for example, in JP-A-5-203946.

5-(2) 액정 디스플레이 장치 이외의 디스플레이Display other than 5- (2) liquid crystal display device

<PDP><PDP>

플라즈마 디스플레이 패널 (PDP) 은 일반적으로 기체, 유리 기판, 전극, 전극 납 재료, 두꺼운 필름 프린팅 재료 및 형광 재료로 이루어진다. 유리 기판은 앞 유리 기판 및 뒷 유리 기판의 2 시트로 이루어진다. 상기 2 개의 유기 기판 각각에서, 전극 및 절연층이 형성된다. 뒷 유리 기판에서, 형광 재료 층이 추가적으로 형성된다. 2 개의 유리 기판이 조립되고 기체가 그 사이에 밀봉된다.Plasma display panels (PDPs) generally consist of substrates, glass substrates, electrodes, electrode lead materials, thick film printing materials and fluorescent materials. The glass substrate consists of two sheets, a front glass substrate and a back glass substrate. In each of the two organic substrates, an electrode and an insulating layer are formed. In the back glass substrate, a layer of fluorescent material is additionally formed. Two glass substrates are assembled and the gas is sealed therebetween.

플라즈마 디스플레이 패널 (PDP) 은 이미 시판되고 있다. 플라즈마 디스플레이 패널은 JP-A-5-205643 및 JP-A-9-306366 에 기재되어 있다. Plasma display panels (PDPs) are already commercially available. Plasma display panels are described in JP-A-5-205643 and JP-A-9-306366.

앞 판이 플라즈마 디스플레이 패널의 앞쪽에 배열되는 경우도 있을 수 있다. 앞 판이 플라즈마 디스플레이 패널을 보호할 수 있을 정도로 충분히 강한 것이 바람직하다. 앞 판은 플라즈마 디스플레이 패널로부터 일정 간격에서 사용될 수 있고, 또는 플라즈마 디스플레이 패널의 몸체에 직접 붙여서 사용할 수 있다.In some cases, the front plate may be arranged in front of the plasma display panel. It is desirable that the front plate is strong enough to protect the plasma display panel. The front plate may be used at regular intervals from the plasma display panel, or may be directly attached to the body of the plasma display panel.

영상 표시 장치, 예컨대 플라즈마 디스플레이 패널에 있어서, 광학 필터를 디스플레이 표면에 직접 붙일 수 있다. 또한, 앞판이 디스플레이의 앞에 제공되는 경우, 광학 필터를 앞 판의 앞 쪽(외부 측) 또는 뒷 쪽(디스플레이 측)에 붙일 수 있다.In an image display device such as a plasma display panel, an optical filter may be directly attached to the display surface. In addition, when the front plate is provided in front of the display, the optical filter may be attached to the front side (outside side) or the rear side (display side) of the front plate.

<터치 패널><Touch panel>

본 발명의 필름은 JP-A-5-l27822 및 JP-A-2002-48913 등에 기재된 바와 같은 터치 패널에 적용할 수 있다.The film of the present invention can be applied to a touch panel as described in JP-A-5-l27822 and JP-A-2002-48913 and the like.

<유기 EL 소자><Organic EL element>

본 발명의 필름은 유기 EL 소자의 기판(기판 필름) 또는 보호 필름 등으로서 사용할 수 있다. The film of this invention can be used as a board | substrate (substrate film), a protective film, etc. of organic electroluminescent element.

본 발명의 필름이 유기 EL 소자 등에 사용되는 경우, JP-A-11-335661, JP-A-11-335368, JP-A-2001-192651, JP-A-2001-192652, JP-A-2001-192653, JP-A-2001-335776, JP-A-2001-247859, JP-A-2001-1816l6, JP-A-2001-1816l7, JP-A-2002-181816, JP-A-2002-l8l617 및 JP-A-2002-056976 에 기재된 내용을 적용할 수 있다. 또한, JP-A-2001-148291, JP-A-2001-221916 및 JP-A-2001-231443 에 기재된 내용을 조합하여 사용하는 것이 바람직하다.When the film of this invention is used for organic electroluminescent element etc., JP-A-11-335661, JP-A-11-335368, JP-A-2001-192651, JP-A-2001-192652, JP-A-2001 -192653, JP-A-2001-335776, JP-A-2001-247859, JP-A-2001-1816l6, JP-A-2001-1816l7, JP-A-2002-181816, JP-A-2002-l8l617 And JP-A-2002-056976 can be applied. Moreover, it is preferable to use combining the content of JP-A-2001-148291, JP-A-2001-221916, and JP-A-2001-231443.

6. 다양한 특성 값:6. Various characteristic values:

본 발명과 관련해서 다양한 측정 방법 및 바람직한 특성 값을 하기에 제시할 것이다.Various measurement methods and preferred property values will be presented below in connection with the present invention.

6-(1) 반사율:6- (1) Reflectance:

거울 반사율 및 색감 (color taste) 의 측정과 관련해서, 어댑터 "ARV-474" 가 장치된 분광광도계 "V-550" (JASCO Corporation 에 의해 제조됨) 을 사용하여, 입사각 5°및 반사각 -5°각각에서 거울 반사율을 380 내지 780 nm 의 파장 영역에서 측정하고, 450 내지 650 nm 에서의 평균 반사율을 계산하여, 그에 의해 반사방지 특성을 평가한다.Regarding the measurement of mirror reflectance and color taste, using a spectrophotometer "V-550" (manufactured by JASCO Corporation) equipped with adapter "ARV-474", the angle of incidence 5 ° and the angle of reflection -5 ° In each case, the mirror reflectance is measured in the wavelength region of 380 to 780 nm, and the average reflectance at 450 to 650 nm is calculated, thereby evaluating antireflective properties.

본 발명의 눈부심방지 반사방지 필름과 관련해서, 거울 반사율이 2.0 % 이하이고 투과율이 90% 이상인 것이 외부 광의 반사가 억제될 수 있고, 가시도가 향상될 수 있기 때문에 바람직하다. 거울 반사율은 특히 1.5 % 이하가 바람직하다. 3-(d) 에서 기재된 바와 같은 층 배열을 사용하여 반사율을 1.0 % 이하로 조절하는 것이 가장 바람직하다.Regarding the anti-glare antireflection film of the present invention, a mirror reflectance of 2.0% or less and a transmittance of 90% or more are preferable because reflection of external light can be suppressed and visibility can be improved. The mirror reflectance is particularly preferably 1.5% or less. Most preferably, the reflectance is adjusted to 1.0% or less using the layer arrangement as described in 3- (d).

6-(2) 색감:6- (2) color:

반사방지 능력이 제공된 본 발명의 편광판과 관련해서, 380 nm 내지 780 nm 의 파장을 갖는, CIE 표준 광원 D65 의 영역에서 입사각 5°에서 입사각에 대항하여 정반사된 광의 색감을, 즉 CIE1976 L*, a* 및 b* 색상 공간의 L*, a* 및 b* 값을 정함으로써 색감을 평가하는 것이 가능하다.With respect to the polarizing plate of the present invention provided with antireflection capability, the color of light specularly reflected against the angle of incidence at the angle of incidence 5 ° in the region of the CIE standard light source D 65 , having a wavelength of 380 nm to 780 nm, namely CIE1976 L *, It is possible to evaluate color by setting the L *, a * and b * values of the a * and b * color spaces.

L*, a* 및 b* 값은 각각, (3≤L*≤20), (-7≤a*≤7) 및 (-10≤b*≤10) 의 관계를 만족하는 것이 바람직하다. 이러한 값이 상기 범위에 놓이게 함으로써, 지금까지 문제가 있는 것으로 고려되었던 양상인, 적보라색에서 청보라색까지의 반사된 광의 색감이 감소한다. 또한, L*, a* 및 b* 값이 각각, (3≤L*≤10), (0≤a*≤5) 및 (-7≤b*≤0) 의 관계를 만족하는 경우, 상기 통상적인 문제가 크게 감소하여, 편광판이 액정 디스플레이 장치에 적용되는 경우, 심지어 실내의 형광등으로부터 방출되는 광과 같은 높은 발광성을 갖는 외부 광이 약하게 반사되는 경우에도, 색감이 중성이어서 눈에 띄지 않는다. 상세히는, (a*≤7) 의 경우, 적색 색감은 과도하게 강해지지 않는 반면, (a*≥7) 의 경우, 청록색 색감은 과도하게 강하지 않으므로, 이러한 것이 바람직하다. 또한, (b*≥7) 의 경우, 청색 색감은 과도하게 강해지지 않는 반면, (b*≤0) 의 경우, 황색 색감이 과도하게 강해지지 않으므로, 이러한 것이 바람직하다. The L *, a * and b * values preferably satisfy the relationship of (3≤L * ≤20), (-7≤a * ≤7) and (-10≤b * ≤10), respectively. By allowing this value to fall within this range, the color of the reflected light from red purple to blue purple, an aspect that has been considered problematic until now, is reduced. Further, when the L *, a * and b * values satisfy the relationship of (3≤L * ≤10), (0≤a * ≤5) and (-7≤b * ≤0), respectively, The phosphorus problem is greatly reduced, and when the polarizing plate is applied to the liquid crystal display device, even when external light having high luminescence such as light emitted from a fluorescent lamp in the room is weakly reflected, the color is neutral and inconspicuous. In detail, in the case of (a * ≦ 7), the red color is not excessively strong, whereas in the case of (a * ≧ 7), the cyan color is not excessively strong, so this is preferable. In addition, in the case of (b * ≧ 7), the blue color does not become excessively strong, whereas in the case of (b * ≦ 0), the yellow color does not become excessively strong, so this is preferable.

또한 반사된 광의 색감 균일성은, 하기 수식 (21) 에 따른 색감의 변환에 의해서 380 nm 내지 680 nm 에서의 반사된 광의 반사 스펙트럼으로부터 정해진 바와 같은 L*a*b* 색도도 상의 a* 및 b* 로부터 수득될 수 있다.In addition, the color uniformity of the reflected light is a * and b * on the L * a * b * chromaticity diagram as determined from the reflection spectrum of the reflected light at 380 nm to 680 nm by the conversion of color according to the following formula (21). Can be obtained from.

수식 (21)Formula (21)

[(a*) 의 색감의 변환] = [(a*최대 - a*최소)/a*평균] × 100[Conversion of color in (a *)] = [(a * max -a * min ) / a * average ] × 100

[(b*) 의 색감의 변환] = [(b*최대 - b*최소)/b*평균] × 100[Conversion of color in (b *)] = [(b * max -b * min ) / b * average ] × 100

여기서, a*최대 및 a*최소 는 각각 a* 값의 최대값 및 최소값을 나타내고; b*최대 및 b*최소 는 각각 b* 값의 최대값 및 최소값을 나타내고; a*평균 및 b*평균 은 각각 a* 값의 평균값 및 b* 값의 평균값을 나타낸다. 색상의 변환은 각각 바람직하게는 30 % 이하, 더욱 바람직하게는 20 % 이하, 가장 바람직하게는 8 % 이하이다.Where a * max and a * min represent the maximum and minimum values of the a * values, respectively; b * max and b * min represent the maximum and minimum values of the b * values, respectively; a * mean and b * mean represent the mean value of a * value and the mean value of b * value, respectively. Each of the color conversions is preferably 30% or less, more preferably 20% or less, and most preferably 8% or less.

게다가 본 발명의 필름은 바람직하게는, 내후성 시험 전후 색감의 변화인 △EW 가 15 이하, 더욱 바람직하게는 10 이하, 가장 바람직하게는 5 이하이다. △EW 가 상기 범위 내에 놓이는 경우, 저반사율 및 반사된 광의 색감의 감소 모두를 달성하는 것이 가능하다. 따라서, 예를 들어 본 발명의 필름이 영상 표시 장치의 최외 층에 적용되는 경우, 심지어 실내의 형광등으로부터 방출되는 광과 같은 높은 발광성을 갖는 외부 광이 약하게 반사되는 경우에도, 색감이 중성이고 표시 영상의 질이 양호해지므로, 이러한 것이 바람직하다.Furthermore, the film of this invention, Preferably, (DELTA) EW which is a change of the color feeling before and behind a weather resistance test is 15 or less, More preferably, it is 10 or less, Most preferably, it is 5 or less. When ΔE W lies within this range, it is possible to achieve both low reflectance and a reduction in the color of the reflected light. Thus, for example, when the film of the present invention is applied to the outermost layer of an image display device, even when external light having high luminescence such as light emitted from a fluorescent lamp in the room is weakly reflected, the color is neutral and the display image is Since the quality becomes good, such a thing is preferable.

색감의 변화인 상기 △EW 는 하기 수식 (22) 에 따라 정해질 수 있다.ΔE W, which is a change in color, may be determined according to the following equation (22).

수식 (22)Formula (22)

△EW = [(△LW)2 + (△aW)2 + (△bW)2]1/2 △ E W = [(△ L W ) 2 + (△ a W ) 2 + (△ b W ) 2 ] 1/2

여기서, △LW, △aW 및 △bW 는 각각, 내후성 시험 전후 L* 값의 변화량, a* 값의 변화량 및 b* 값의 변화량을 나타낸다.Here, ΔL W , Δa W and Δb W represent the amount of change in L * value, the amount of change in a * value and the amount of change in b * value before and after the weathering test, respectively.

6-(3) 투과된 이미지 선명도:6- (3) transmitted image clarity:

투과된 이미지 선명도는 Suga Test Instruments Co., Ltd. 에 의해 제조된 바와 같은 이미지 선명도 미터 (MICM-2D Model) 에 의해 JIS K7105 에 따라 0.5 mm 의 슬릿 (slit) 폭을 갖는 광학 콤 (comb) 을 사용하여 측정할 수 있다.The transmitted image clarity is Suga Test Instruments Co., Ltd. It can be measured using an optical comb having a slit width of 0.5 mm according to JIS K7105 by an image sharpness meter (MICM-2D Model) as manufactured by.

본 발명의 필름은 바람직하게는 15 내지 100 % 의 투과된 이미지 선명도를 갖는다. 투과된 이미지 선명도는 일반적으로 필름을 통해 투과되고 투사된 이미지의 번짐 상태를 나타내기 위한 지표이다. 상기 값이 클수록, 필름을 통해 보이는 이미지의 선명도가 더욱 양호하다. 본 발명의 필름이 눈부심방지 필름인 경우, 상기 필름의 투과된 이미지 선명도는 15 % 내지 40 % 인 것이, 충분한 눈부심방지 특성 및 이미지 번짐 및 다크 룸 콘트라스트의 저하의 개선이 달성될 수 있기 때문에 바람직하다.The film of the invention preferably has a transmitted image clarity of 15 to 100%. The transmitted image clarity is generally an indicator for indicating the bleeding state of the image transmitted and projected through the film. The larger the value, the better the sharpness of the image seen through the film. When the film of the present invention is an anti-glare film, it is preferable that the transmitted image clarity of the film is 15% to 40%, since sufficient anti-glare property and improvement of image blur and reduction of dark room contrast can be achieved. .

6-(4) 표면 거칠기:6- (4) Surface Roughness:

중심선 평균 거칠기 (Ra) 의 측정을 JIS B0601 에 따라서 수행할 수 있다.The measurement of the center line average roughness Ra can be performed according to JIS B0601.

본 발명의 반사방지 필름이 표면 불규칙 모양에 관련해서 중심선 평균 거칠기 Ra 가 0.08 내지 0.30 ㎛ 이고; 10-점 평균 거칠기 Rz 가 Ra 의 10 배 이하이고; 평균 크레스트 (crest)/루트 (root) 거리 Sm 이 1 내지 100 ㎛ 이고; 불규칙성의 가장 깊은 부분으로부터 볼록한 부분의 높이의 표준 편차가 0.5 ㎛ 이하이고; 중심선에 대한 평균 크레스트/루트 거리 Sm 의 표준 편차가 20 ㎛ 이하이며; 입사각이 0 내지 5°인 면이 10% 이상 차지하는 것이, 충분한 눈부심방지 특성 및 가시적으로 균일한 매트 감촉을 모두 달성하기 때문에 이와 같이 고안한다. Ra 가 0.08 ㎛ 미만인 경우, 충분한 눈부심방지 특성이 수득되지 않는 반면, 0.30 ㎛ 초과인 경우, 외부 광이 반사될 때 표면의 눈부심 및 백색화와 같은 문제가 야기된다.The antireflective film of the present invention has a centerline average roughness Ra of 0.08 to 0.30 mu m in relation to the surface irregularity shape; 10-point average roughness Rz is 10 times or less of Ra; The average crest / root distance Sm is 1 to 100 μm; The standard deviation of the height of the convex portion from the deepest portion of the irregularity is 0.5 μm or less; The standard deviation of the mean crest / root distance Sm relative to the centerline is 20 μm or less; It is devised in this way to occupy 10% or more of the surfaces having an incidence angle of 0 to 5 ° to achieve both sufficient anti-glare properties and visually uniform mat feel. If Ra is less than 0.08 μm, sufficient anti-glare properties are not obtained, whereas if it is more than 0.30 μm, problems such as glare and whitening of the surface are caused when external light is reflected.

6-(5) 헤이즈:6- (5) haze:

본 발명의 필름의 헤이즈는 JIS K7105 에서 정의된 바와 같은 헤이즈 값이고, JIS K7361-1 에 기재된 바와 같은 측정 방법에 기초해서 Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. 에 의해 제조된 헤이즈 탁도계 "NDH-1001DP" 를 사용하여 "헤이즈 = [(산란광)/(전체 투과된 광)] × 100 (%)" 로 자동적으로 측정된다.The haze of the film of the present invention is a haze value as defined in JIS K7105 and is based on Nippon Denshoku Industries Co., Ltd. based on the measurement method as described in JIS K7361-1. The haze turbidimeter " NDH-1001DP " manufactured automatically by " haze = [(scattered light) / (total transmitted light)] × 100 (%) ") is automatically measured.

덧붙여, 표면 헤이즈 및 내부 헤이즈를 하기 절차에 의해 측정할 수 있다.In addition, surface haze and internal haze can be measured by the following procedure.

(1) 필름의 총 헤이즈 값 (H) 를 JIS K7136 에 따라 측정한다.(1) The total haze value (H) of the film is measured according to JIS K7136.

(2) 저굴절률층의 면에 있는 필름의 전면 및 상기 필름의 뒷면에 몇 방울의 실리콘 오일을 첨가하고; 두께가 1 mm 인 유리판 (MICRO SLIDE GLASS Product No. S9111, Matsunami Glass Ind., Ltd. 제조) 2 장에 의해 필름을 전면에서 뒷면까지 샌드위치시켜 필름을 2 장의 유리판과 완전 밀접 접촉시키고; 표면 헤이즈를 제거한 상태에서 헤이즈를 측정하고; 그로부터의 2 장의 유리판 사이에 오직 실리콘 오일만을 넣어 개별적으로 측정된 헤이즈를 감하여 수득된 값을 필름의 내부 헤이즈 (Hi) 로서 계산한다.(2) adding a few drops of silicone oil to the front of the film and the back of the film on the side of the low refractive index layer; Sandwiching the film from front to back by two sheets of glass plate 1 mm thick (manufactured by MICRO SLIDE GLASS Product No. S9111, Matsunami Glass Ind., Ltd.) to bring the film into full contact with the two glass plates; The haze is measured with the surface haze removed; The value obtained by subtracting the individually measured haze by putting only silicone oil between two glass plates therefrom is calculated as the internal haze (Hi) of the film.

(3) 상기 (1) 에서 측정된 총 헤이즈 (H) 에서 상기 (2) 에서 계산된 내부 헤이즈 (Hi) 를 감하여 수득된 값을 표면 헤이즈 (Hs) 로서 계산한다.(3) The value obtained by subtracting the internal haze (Hi) calculated in the above (2) from the total haze (H) measured in the above (1) is calculated as the surface haze (Hs).

6-(7) 내반흔성:6- (7) Scars:

<스틸 울 (steel wool) 에 의한 내반흔성의 평가><Evaluation of scar resistance by steel wool>

문지름 시험기를 사용하여 하기 조건하에서 문지름 시험을 수행하여, 내반흔성에 대한 지수를 제공하는 것이 가능하다.It is possible to provide an index for scar resistance by performing a rubbing test under the following conditions using a rubbing tester.

·평가 환경 조건: 25 ℃, 60 % RHEvaluation environmental conditions: 25 ℃, 60% RH

·문지름 재료: 스틸 울 (Nippon Steel Wool Co., Ltd. 에 의해 제조됨, Grade No. 0000). 스틸 울을 표본과 접촉시키는 시험기의 팁 부분 (1 cm × 1 cm) 주변에 손상을 입히고 밴드로 고정시킨다.Rub material: Steel Wool (manufactured by Nippon Steel Wool Co., Ltd., Grade No. 0000). Damage and fasten the band around the tip of the tester (1 cm × 1 cm) where the steel wool is in contact with the specimen.

·이동 거리 (편도): 13 cmTravel distance (one way): 13 cm

·문지름 속도: 13 cm/초Rub Speed: 13 cm / sec

·하중: 500 g/cm2 및 200 g/cm2 Load: 500 g / cm 2 and 200 g / cm 2

·팁 부분의 접촉 면적: 1 cm × 1 cmTip area of contact: 1 cm × 1 cm

·문지름 횟수: 10 회 왕복 이동Number of rubs: 10 round trips

문지른 표본의 후면에 유성 검정 잉크를 적용하고, 문지른 부분의 상처를 반사된 광에 의한 시각적 관찰 또는 문지른 부분 외의 다른 부분으로부터의 반사된 광의 양의 차이에 의해 평가한다.Oily black ink is applied to the back side of the rubbed specimen, and the wound on the rubbed portion is evaluated by visual observation by reflected light or by the difference in the amount of reflected light from portions other than the rubbed portion.

<지우개 문지름에 의한 내반흔성의 평가><Evaluation of scar resistance by eraser rub>

문지름 시험기를 사용하여 하기 조건하에서 문지름 시험을 수행하여, 내반흔성에 대한 지수를 제공하는 것이 가능하다.It is possible to provide an index for scar resistance by performing a rubbing test under the following conditions using a rubbing tester.

·평가 환경 조건: 25 ℃, 60 % RHEvaluation environmental conditions: 25 ℃, 60% RH

·문지름 재료: 플라스틱 지우개 (MONO, Tombow Pencil Co., Ltd. 에 의해 제조됨). 플라스틱 지우개를 표본과 접촉시키는 시험기의 팁 부분 (1 cm × 1 cm) 에 고정시킨다.Rub material: Plastic eraser (manufactured by MONO, Tombow Pencil Co., Ltd.). Secure the plastic eraser to the tip of the tester (1 cm x 1 cm) in contact with the specimen.

·이동 거리 (편도): 4 cmTravel distance (one way): 4 cm

·문지름 속도: 2 cm/초Rub Speed: 2 cm / sec

·하중: 500 g/cm2 Load: 500 g / cm 2

·팁 부분의 접촉 면적: 1 cm × 1 cmTip area of contact: 1 cm × 1 cm

·문지름 횟수: 100 회 왕복 이동Number of rubs: 100 round trips

문지른 표본의 후면에 유성 검정 잉크를 적용하고, 문지른 부분의 상처를 반사된 광에 의한 시각적 관찰 또는 문지른 부분 외의 다른 부분으로부터의 반사된 광의 양의 차이에 의해 평가한다.Oily black ink is applied to the back side of the rubbed specimen, and the wound on the rubbed portion is evaluated by visual observation by reflected light or by the difference in the amount of reflected light from portions other than the rubbed portion.

<테스터 시험><Tester test>

JIS K5400 에 따른 테이버 (taber) 시험에 의해 시험 전후의 시편의 마모량으로부터 내반흔성을 평가할 수 있다.By the taper test according to JIS K5400, the scar resistance can be evaluated from the amount of wear of the specimen before and after the test.

상기 마모량이 가능한 한 적은 것이 바람직하다.It is desirable that the amount of wear is as small as possible.

6-(8) 경도:6- (8) Hardness:

<연필 경도><Pencil hardness>

본 발명의 필름의 경도를 JIS K5400 에 따른 연필 경도 시험에 의해 평가할 수 있다.The hardness of the film of this invention can be evaluated by the pencil hardness test according to JISK5400.

연필 경도는 바람직하게는 H 이상, 더욱 바람직하게는 2H 이상, 가장 바람직하게는 3H 이상이다.Pencil hardness is preferably at least H, more preferably at least 2H, most preferably at least 3H.

<표면 탄성 계수>Surface modulus of elasticity

본 발명에서, 표면 탄성 계수는 마이크로-표면 경도 시험기 (Fischer Scope H100VP-HCU, Fischer Instruments K.K. 에 의해 제조됨) 을 사용하여 측정되는 값이다. 구체적으로 표면 탄성 계수는, 다이아몬드로 만들어진 네모꼴의 피라미드 압입자 (팁 정면각: 136°) 를 사용하고 압입 깊이가 1 ㎛ 를 초과하지 않는 범위 내의 적절한 시험 하중 하에서 압입 깊이를 측정하여, 하중과 하중 제거시의 변위 사이의 변화로부터 측정되는 탄성 계수이다.In the present invention, the surface elastic modulus is a value measured using a micro-surface hardness tester (manufactured by Fischer Scope H100VP-HCU, Fischer Instruments K.K.). Specifically, the surface modulus of elasticity is measured by using a diamond-shaped pyramid indenter (tip face angle: 136 °) and measuring the indentation depth under an appropriate test load within a range where the indentation depth does not exceed 1 μm. Elastic modulus measured from the change between displacements during removal.

게다가, 표면 경도는, 또한 일반 경도로서 상기 마이크로-표면 경도 시험기를 사용함으로써 측정할 수 있다. 일반 경도는 네모꼴의 피라미드 압입자의 시험 하중하에서 압입 깊이를 측정하고, 시험 하중을 그 자국의 기하학적 형상으로부터 계산된 상기 시험 하중 하에서 발생되는 자국의 표면적으로 나눔으로써 수득된 값이다. 상기 표면 탄성 계수 및 일반 경도 사이에는 양의 상관관계가 있다고 알려져있다.In addition, surface hardness can also be measured by using the micro-surface hardness tester as general hardness. General hardness is a value obtained by measuring the indentation depth under test load of a square pyramidal indenter, and dividing the test load by the surface area of the mark generated under the test load calculated from the geometry of the mark. It is known that there is a positive correlation between the surface elastic modulus and the general hardness.

본 발명에서 정의된 바와 같은 가교 중합체의 일반 경도는, 하기 측정 과정에 따라 마이크로 경도 시험기 H100 을 사용하여 유리판 상에 경화되고 형성되는, 두께가 약 20 내지 30 ㎛ 인 가교 중합체 필름과 관련해서 정해지는 일반 경도 (N/mm2) 로 표현된다.The general hardness of the crosslinked polymer as defined in the present invention is determined in relation to the crosslinked polymer film having a thickness of about 20 to 30 μm, which is cured and formed on the glass plate using the micro hardness tester H100 according to the following measuring procedure. It is expressed as general hardness (N / mm 2 ).

가교 중합체에 더해 필수 촉매, 가교제 및 중합 개시제를 함유하고, 고체 함량이 약 25 % 인 코팅 용액을, Toshinriko Co., Ltd. 에 의해 제조된 바와 같은 광택 있는 슬라이드 유리판 (26 mm × 76 mm × 1.2 mm) 상에, 경화 후 두께가 약 20 내지 30 ㎛ 가 되도록 적절한 바 코터 (bar coater) 를 선택하여 코팅하였다. 가교 중합체가 열적으로 경화가능한 경우에는, 필름이 완전히 경화되는 열 경화 조건 (예를 들어, 125 ℃ 에서 10 분 동안) 을 미리 결정하고; 가교 중합체가 전리 방사선 경화가능한 경우에는, 필름이 완전히 경화되는 경화 조건 (예를 들어, 산소 농도: 12 ppm, UV 조사 선량: 750 mJ/cm2) 을 미리 결정한다. 각 필름에 관련해서, 하중을 0 에서 4 mN 으로 지속적으로 증가시키고; 원뿔형 다이아몬드 압입자를, 기판 유리판의 경도가 영향을 주지 않는 1/10 두께를 최대로 만들면서 압입시키고; 각 하중 F 에 대항한 압입 면적 A (mm2) 로부터 측정되는 F/A 의 N = 6 의 평균 측정값으로부터 일반 경도를 계산한다.In addition to the crosslinked polymer, a coating solution containing an essential catalyst, a crosslinking agent and a polymerization initiator, and having a solid content of about 25%, is manufactured by Toshinriko Co., Ltd. On a glossy slide glass plate (26 mm x 76 mm x 1.2 mm) as prepared by the above, an appropriate bar coater was selected and coated so as to have a thickness of about 20 to 30 m after curing. If the crosslinked polymer is thermally curable, the thermal curing conditions (eg, at 125 ° C. for 10 minutes) at which the film is fully cured are predetermined; If the crosslinked polymer is ionizing radiation curable, the curing conditions (eg oxygen concentration: 12 ppm, UV irradiation dose: 750 mJ / cm 2 ) at which the film is fully cured are predetermined. For each film, the load is continuously increased from 0 to 4 mN; Conical diamond indenter is indented while maximizing the 1/10 thickness that the hardness of the substrate glass plate does not affect; The general hardness is calculated from the average measured value of N = 6 of F / A measured from the indentation area A (mm 2 ) against each load F.

또한, JP-A-2004-354828 에서 기재된 바와 같은 나노 압입에 의해 표면 경도를 측정할 수 있다. 상기 경우, 경도가 2 GPa 내지 4 GPa 이고, 나노 압입 탄성 계수가 10 GPa 내지 30 GPa 인 것이 바람직하다.In addition, surface hardness can be measured by nano indentation as described in JP-A-2004-354828. In this case, the hardness is preferably 2 GPa to 4 GPa, and the nano-indentation modulus is 10 GPa to 30 GPa.

6-(9) 방오 시험:6- (9) antifouling test:

<마커 잉크 와이핑 특성><Marker ink wiping characteristics>

필름을 접착제로 유리 표면에 고정시키고; 25 ℃ 및 60 RH % 의 조건하에서 지름 5 mm 의 원을 검정 마킹 펜 "McKee Ultra-fine (Zebra Co., Ltd. 의 상품명)" 의 펜 팁 (fine) 으로 3 번 그리고; 5 초 후, 10-겹으로 포개진 BEMCOT (Asahi Kasei Corporation 의 상품명) 의 묶음에 의해 BEMCOT 묶음이 압입되는 범위까지의 하중 하에서 20 회 왕복 이동을 수행한다. 상기 조건 하에서 마커 잉크 자국이 와이핑에 의해 사라지지 않을 때까지 상기 그리기 및 와이핑을 반복함으로써, 와이핑이 가능한 와이핑의 횟수로 환산한 방오 특성을 평가하는 것이 가능하다.The film is fixed to the glass surface with an adhesive; A circle 5 mm in diameter under conditions of 25 ° C. and 60 RH% 3 times with a pen tip of the black marking pen “McKee Ultra-fine (trade name of Zebra Co., Ltd.)”; After 5 seconds, 20 reciprocating movements are carried out under a load up to the range in which the BEMCOT bundle is press-fitted by a bundle of 10-folded BEMCOT (trade name of Asahi Kasei Corporation). By repeating the drawing and wiping until the marker ink marks do not disappear by wiping under the above conditions, it is possible to evaluate the antifouling properties converted into the number of wipings that can be wiped.

마커 잉크 자국이 사라지지 않을 때까지 와이핑의 횟수는 바람직하게는 5 회 이상, 더욱 바람직하게는 10 회 이상이다.The number of wipings is preferably 5 or more times, more preferably 10 or more times until the marker ink marks do not disappear.

검정 마커 잉크와 관련해서, 표본 상에 MAGIC INK No. 700 (M700-T1 Black) Ultra-fine 을 사용하여 지름 1 cm 의 원을 그려 칠하고, 24 시간 동안 방치한 후, BEMCOT (Asahi Kasei Corporation 에 의해 제조됨) 로 문지른다. 그 다음 마커 잉크가 닦아내지는 지의 여부에 의해 와이핑 특성을 평가할 수 있다.Regarding the black marker ink, MAGIC INK No. Draw a circle 1 cm in diameter using 700 (M700-T1 Black) Ultra-fine, leave for 24 hours, then rub with BEMCOT (manufactured by Asahi Kasei Corporation). The wiping properties can then be evaluated by whether the marker ink is wiped off.

6-(10) 접촉각:6- (10) Contact Angle:

접촉각 미터 ("CA-X" 유형 접촉각 미터, Kyowa Interface Science Co., Ltd. 에 의해 제조됨) 를 사용하여, 액체로서 순수 물을 사용하여 건조 상태 (20 ℃ 및 65 % RH 에서) 에서 바늘 팁으로 지름이 1.0 mm 인 작은 물방울을 제조하고, 이것을 그 후 필름의 표면과 접촉시켜 필름 상에 작은 물방울을 제조하였다. 필름 및 액체가 서로 접촉하는 지점에서, 액체 표면과 필름 표면에 대한 접선과 액체를 함유하는 면 사이에 형성된 각도를 접촉각으로 정의한다.Needle tip in dry condition (at 20 ° C and 65% RH) using pure water as liquid, using a contact angle meter ("CA-X" type contact angle meter, manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) Droplets having a diameter of 1.0 mm were prepared and then contacted with the surface of the film to produce droplets on the film. At the point where the film and the liquid contact each other, the angle formed between the liquid surface and the tangent to the film surface and the surface containing the liquid is defined as the contact angle.

본 발명의 필름의 접촉각은 바람직하게는 94° 이상, 더욱 바람직하게는 97° 이상, 가장 바람직하게는 101° 이상이다.The contact angle of the film of the present invention is preferably 94 ° or more, more preferably 97 ° or more, most preferably 101 ° or more.

6-(11) 표면 자유 에너지:6- (11) surface free energy:

접촉각 방법, 습윤 열 측정법, 또는 문헌 [Foundation and Application of Wetting, Realize Advanced Technology Limited 출판, 1989 년 12 월 10 일] 에 기재된 바와 같은 흡수법에 의해 표면 에너지를 측정할 수 있다. 본 발명의 필름의 경우, 접촉각 방법을 사용하는 것이 바람직하다.Surface energy can be measured by contact angle methods, wet heat measurements, or absorption methods as described in Foundation and Application of Wetting , published by Realize Advanced Technology Limited, December 10, 1989. In the case of the film of the present invention, it is preferable to use a contact angle method.

구체적으로는 공지된 표면 에너지를 갖는 2 가지 종류의 용매를 셀룰로오스 아실레이트 필름 상에 떨어뜨리고; 작은 물방울-함유 면의 각을, 작은 물방울 표면과 필름 표면의 교점 지점에서 작은 물방울 및 필름 표면에 대항하여 그린 접선 사이에 형성된 각에 의해 정의되고; 필름의 표면 에너지를 계산에 의해 산출할 수 있다.Specifically, two kinds of solvents having a known surface energy are dropped on the cellulose acylate film; The angle of the droplet-containing face is defined by the angle formed between the droplet and the tangent drawn against the film surface at the intersection of the droplet surface and the film surface; The surface energy of a film can be calculated by calculation.

본원에서 언급되는 바와 같이 본 발명의 필름의 표면 자유 에너지 (γsv: 단위, mN/m) 는, 문헌 [D.K. Owens, J. Appl. Polym. Sci., 13, 1974 (1969)] 를 참조하면서 실험적으로 측정된 바와 같은, 반사방지 필름에 대한 순수한 물 H2O 및 요오드화 메틸렌 CH2I2 각각의 접촉각 θH2O 및 θCH2I2 으로부터 하기 일련 식 (a) 및 (b) 에 의해 측정되는 γsd 및 γsh 의 합에 의해 표현되는 값 γsv (= γsd + γsh) 에 의해 정의되는 바와 같은 반사방지 필름의 표면 장력을 의미한다. 상기 γsv 가 작고, 표면 자유 에너지가 낮은 경우, 필름은 표면 반발력이 높고, 일반적으로 방오 특성이 뛰어나다.As mentioned herein, the surface free energy (γ s v : unit, mN / m) of the film of the present invention is described in DK Owens, J. Appl. Polym. Sci. , 13 , 1974 (1969)] from the contact angles θ H2O and θ CH2I2 of pure water H 2 O and methylene iodide CH 2 I 2, respectively, on the antireflective film as measured experimentally with reference to And the surface tension of the antireflective film as defined by the value γs v (= γs d + γs h ) expressed by the sum of γs d and γs h measured by (b). When the γs v is small and the surface free energy is low, the film has a high surface repulsive force and generally has excellent antifouling properties.

식 (a)Formula (a)

1 + cosθH2O = 2√γsd (√γH2O dH2O v) + 2√γsh(√γH2O hH2O v)1 + cosθ H2O = 2√γs d (√γ H2O d / γ H2O v ) + 2√γs h (√γ H2O h / γ H2O v )

식 (b)Equation (b)

1 + cosθCH2I2 = 2√γsd (√γCH2I2 dCH2I2 v) + 2√γsh(√γCH2I2 hCH2I2 v)1 + cosθ CH2I2 = 2√γs d (√γ CH2I2 d / γ CH2I2 v ) + 2√γs h (√γ CH2I2 h / γ CH2I2 v )

γH2O d = 21.8, γH2O h = 51.0, γH2O v = 72.8γ H2O d = 21.8, γ H2O h = 51.0, γ H2O v = 72.8

γCH2I2 d = 49.5, γCH2I2 h = 1.3, γCH2I2 v = 50.8γ CH2I2 d = 49.5, γ CH2I2 h = 1.3, γ CH2I2 v = 50.8

필름을 25 ℃ 및 60 % 의 조건하에서 1 시간 이상 동안 습도 조절하고, 자동 접촉각 미터인, Kyowa Interface Science Co., Ltd. 에 의해 제조된 CA-V150 Model 을 사용하여 2 μL 의 작은 물방울을 필름 상에 떨어뜨리고 30 초 후, 접촉각을 측정함으로써 접촉각 측정을 수행하였다.Kyowa Interface Science Co., Ltd., which controls the film under humidity of 25 ° C. and 60% for at least 1 hour, is an automatic contact angle meter. A contact angle measurement was performed by dropping 2 μL of droplets onto the film using a CA-V150 Model prepared by the present invention and after 30 seconds, measuring the contact angle.

본 발명의 필름의 표면 자유 에너지는 바람직하게는 25 mN/m 이하이고, 특히 바람직하게는 20 mN/m 이하이다.The surface free energy of the film of the present invention is preferably 25 mN / m or less, particularly preferably 20 mN / m or less.

6-(12) 컬 (Curl):6- (12) Curl:

JIS K7619-1988 의 "Determination of the curl of photographic film" 에서의 방법 A 의 컬 측정용 형판을 사용하여 컬의 측정을 수행한다.The curl is measured using the template for curl measurement of method A in "Determination of the curl of photographic film" of JIS K7619-1988.

측정은 25 ℃, 상대 습도 60 % 에서의 조건하에서 10 시간의 습도 조절 시간 동안 수행된다.The measurement is carried out for a humidity control time of 10 hours under conditions at 25 ° C. and 60% relative humidity.

본 발명의 필름에서, 컬은 바람직하게는 하기 수식에 의해 나타나는 값으로서, -15 에서 +15 의 범위, 더욱 바람직하게는 -12 내지 +12 의 범위, 더욱 더 바람직하게는 -10 내지 +10 의 범위로 나타나는 값을 갖는다. 이 때, 웹 상태의 코팅의 경우에는, 표본 내의 컬의 측정 방향은 기판의 운반 방향이다.In the film of the present invention, the curl is preferably a value represented by the following formula, in the range from -15 to +15, more preferably in the range from -12 to +12, even more preferably from -10 to +10 It has a value represented by a range. At this time, in the case of the coating of a web state, the measurement direction of the curl in a sample is a conveyance direction of a board | substrate.

수식Equation

컬 = I/R (R: 곡률 반경 (m))Curl = I / R (R: radius of curvature (m))

이것은 필름 시장에서 제조, 가공 및 취급에 있어 발생하는 갈라짐 또는 필름 분리를 방지하기 위한 중요한 특성이다. 컬 값이 상기 범위 내에 놓이고 작은 것이 바람직하다.This is an important property for preventing cracking or film separation that occurs in manufacturing, processing and handling in the film market. It is preferable that the curl value is within this range and small.

여기서, 컬이 (+) 값인 것은 필름의 코팅 면이 안쪽으로 말리는 것인 반면, 컬이 (-) 값인 것은 필름의 코팅 면이 바깥쪽으로 말리는 것이다.Here, a curl with a positive value means that the coating side of the film is curled inwards, whereas a curl with a negative value means that the coating side of the film is curled outwards.

게다가, 본 발명의 필름에서, 단지 상대 습도가 각각 80 % 및 10 % 로 변하는 경우, 각각 상기 컬 측정 방법에 기초해서, 그 사이의 컬 값의 차이의 절대값은 바람직하게는 24 내지 0, 더욱 바람직하게는 15 내지 0, 가장 바람직하게는 8 내지 0 이다. 이것은 필름이 다양한 습도하에서 붙는 경우, 취급 성질, 분리 및 갈라짐에 관련된 특성이다.In addition, in the film of the present invention, when only the relative humidity changes to 80% and 10%, respectively, based on the curl measuring method, respectively, the absolute value of the difference in curl values therebetween is preferably 24 to 0, more Preferably it is 15-0, most preferably 8-0. This is a property related to handling properties, separation and cracking when the film sticks under various humidity.

6-(13) 접착력의 평가:Evaluation of 6- (13) Adhesion:

필름의 층들 사이 또는 지지체와 코팅층 사이의 접착력을 하기 방법에 의해서 평가할 수 있다.The adhesion between the layers of the film or between the support and the coating layer can be evaluated by the following method.

코팅 층이 존재하는 면에서 필름의 표면을, 커터 칼을 사용하여 1 mm 간격으로 길이 방향으로 11 라인 및 폭 방향으로 11 라인 교차-커팅하여, 총 100 개의 사각형을 제공하고; Nitto Denko Corporation 에 의해 제조된 폴리에스테르 감압성 접착 테이프 (No. 31B) 를 압착 접촉시키고; 24 시간 동안 유지시킨 후, 박리 시험을 동일한 장소에서 3 번 반복하여, 박리의 존재 또는 부재를 가시적으로 확인하였다.The surface of the film in terms of where the coating layer is present is cross-cutted 11 lines in the longitudinal direction and 11 lines in the width direction using a cutter knife to provide a total of 100 squares; Press-contacting a polyester pressure-sensitive adhesive tape (No. 31B) manufactured by Nitto Denko Corporation; After holding for 24 hours, the peel test was repeated three times at the same place to visually confirm the presence or absence of peeling.

박리가 100 개의 사각형에서 10 개 내로 관찰되는 것이 바람직하고; 박리가 100 개의 사각형에서 2 개 내로 관찰되는 것이 더욱 바람직하다.It is preferable that peeling is observed within 10 out of 100 squares; More preferably, peeling is observed in two out of 100 squares.

6-(14) 취성도 시험 (내균열성):6- (14) Brittleness Test (Crack Resistance):

내균열성은 필름의 코팅, 가공 및 커팅과 같은 취급에 있어서의 균열 결함, 접착제의 코팅 및 다양한 물질에 대한 끈적거림 발생을 방지하기 위한 중요한 특성이다.Crack resistance is an important property for preventing cracking defects in coatings such as coating, processing and cutting of films, coating of adhesives and sticking to various materials.

표면 균열은 필름 표본을 35 mm × 140 mm 의 크기로 커팅하고, 이것을 25 ℃ 의 온도 및 상대 습도 60% 의 조건하에서 2 시간 동안 유지시키고, 원주형 모양으로 말아올려, 균열이 발생하기 시작하는 곡률 반경을 측정하여 평가할 수 있다.The surface crack cuts the film specimen into a size of 35 mm × 140 mm, which was maintained for 2 hours under a temperature of 25 ° C. and a relative humidity of 60%, rolled up into a columnar shape, and the curvature at which the crack began to occur. The radius can be measured and evaluated.

본 발명의 필름의 내균열성과 관련해서, 코팅층 면이 바깥쪽으로 위치되는 식으로 필름이 말아올려지는 경우, 균열이 발생하는 곡률 반경은 바람직하게는 50 mm 이하, 더욱 바람직하게는 40 mm 이하, 가장 바람직하게는 30 mm 이하이다. 가장자리 부분에서의 균열과 관련해서, 균열이 발생하지 않거나 또는 균열의 길이가 평균 1 mm 미만인 것이 바람직하다.With regard to the crack resistance of the film of the present invention, when the film is rolled up in such a manner that the coating layer surface is located outward, the radius of curvature in which the crack occurs is preferably 50 mm or less, more preferably 40 mm or less, most Preferably it is 30 mm or less. With regard to cracks at the edges, it is preferred that no cracks occur or that the length of the cracks is on average less than 1 mm.

6-(15) 먼지 제거 특성:6- (15) Dust Removal Characteristics:

본 발명의 필름을 모니터에 붙이고, 모니터 표면 상으로 먼지 (예를 들어, 이불 또는 섬유 뭉치) 를 뿌리고, 청소용 천으로 먼지를 닦아냄으로써 먼지 제거 특성을 평가할 수 있다.The dust removal characteristics can be evaluated by attaching the film of the present invention to a monitor, spraying dust (for example, blankets or bundles of fibers) onto the monitor surface, and wiping off the dust with a cleaning cloth.

6 회의 와이핑에 의해 먼지가 완전하게 제거될 수 있는 것이 바람직하고; 3 회 이내의 와이핑에 의해서 먼지가 완전하게 제거될 수 있는 것이 더욱 바람직하다.It is preferable that the dust can be completely removed by six wiping cycles; More preferably, the dust can be completely removed by wiping within three times.

6-(16) 액정 디스플레이 장치의 성능:6- (16) Liquid Crystal Display Device Performance:

디스플레이 장치 상에서 본 발명의 필름을 사용할 때의 특성 및 바람직한 상태의 평가 방법을 하기에 기술할 것이다.The evaluation method of the characteristic and the preferred state when using the film of the present invention on the display device will be described below.

TN 유형 액정 셀 (TH-15TA2, Matsushita Electric Industrial Co., Ltd. 에 의해 제조됨) 을 사용하는 액정 디스플레이 장치에 제공되는, 시야 면에서의 편광판을 벗겨내고, 그 대신, 본 발명의 필름 또는 편광판을, 코팅 표면이 시야 면에 존재하고 편광판의 투과축이 제품에 붙어있는 편광판과 일치하도록 접착제를 통해 부착시켰다. 다양한 하기 특성을 액정 디스플레이 장치를 흑색 전시하면서 밝은 공간에서 다양한 시야각으로부터 가시적으로 평가할 수 있다. Peel off the polarizing plate on the viewing surface provided in the liquid crystal display device using the TN type liquid crystal cell (TH-15TA2, manufactured by Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.), and instead, the film or polarizing plate of the present invention The adhesive was attached so that the coating surface was present on the viewing surface and the transmission axis of the polarizing plate coincided with the polarizing plate adhered to the product. Various display characteristics can be visually evaluated from various viewing angles in a bright space while displaying a liquid crystal display device in black.

<이미지 불균일성 및 색감의 평가><Evaluation of Image Unevenness and Color>

제조된 액정 디스플레이 장치를 사용함으로써, 흑색 디스플레이 (L1) 를 사용할 때의 불균일성 및 색감의 변화를 다수의 관찰자에 의해 가시적으로 평가한다.By using the manufactured liquid crystal display device, the nonuniformity and the change of a color feeling at the time of using a black display L1 are visually evaluated by many observers.

10 명의 관찰자가 평가하는 경우, 3 명 이하의 관찰자가 불균일성, 색감 좌우의 변화, 온도 및 습도에 의한 색감의 변화 및 백색 번짐을 인지할 수 있는 것이 바람직하고; 아무도 이것들을 인지할 수 없는 것이 더욱 바람직하다.When ten observers evaluate, it is preferable that three or fewer observers can recognize the nonuniformity, the change of color left and right, the change of color by temperature and humidity, and white bleeding; It is more desirable that no one can recognize these.

게다가 외부 광의 반사와 관련해서, 형광등을 사용하여 반사의 변화를 비교적 가시적으로 평가할 수 있다.In addition, with respect to reflection of external light, fluorescent light can be used to evaluate the change in reflection relatively visually.

<흑색 디스플레이의 광 누출><Light leak on black display>

흑색 디스플레이의 광 누출 비율은 액정 디스플레이 장치의 정면으로부터 45° 의 아지무스 (azimuth) 방향 및 70° 의 극각 방향에서 측정한다. 광 누출 비율은 바람직하게는 0.4% 이하, 더욱 바람직하게는 0.1% 이하이다.The light leakage rate of the black display is measured in the azimuth direction of 45 ° and the polar angle direction of 70 ° from the front of the liquid crystal display device. The light leakage rate is preferably 0.4% or less, more preferably 0.1% or less.

<대조 및 시야각><Contrast and viewing angle>

대조 및 시야각에 관련해서, 좌우 방향 (셀의 문지름 방향에 직각 방향) 에서 대조비 및 시야각 (대조비가 10 이상인 각도 범위의 정도) 을 분석기 (EZ-Contrast 160D, ELDIM 에 의해 제조됨) 를 사용하여 검사할 수 있다.Regarding contrast and viewing angle, check contrast ratio and viewing angle (degree of angular range with contrast ratio of 10 or more) in the left and right direction (perpendicular to the rubbing direction of the cell) using an analyzer (EZ-Contrast 160D, manufactured by ELDIM) can do.

실시예Example

본 발명은 하기에 실시예와 관련하여 상세하게 설명될 것이나, 본 발명이 그에 한정되는 것으로 해석되어서는 안된다. 하기 실시예 및 합성예에서, 용어 "%" 는 달리 표시되지 않는 한 중량% 이다.The invention will be described in detail with reference to the following examples, but the invention should not be construed as being limited thereto. In the following examples and synthesis examples, the term "%" is% by weight unless otherwise indicated.

[실시예 1]Example 1

<반사방지 필름의 제조><Production of Antireflection Film>

[불소-함유 중합체의 합성][Synthesis of fluorine-containing polymer]

합성예 1: 불소-함유 중합체 P1 의 합성Synthesis Example 1 Synthesis of Fluorine-Containing Polymer P1

내부 부피가 100 mL 인, 스테인레스 스틸로 만들어진 교반기가 장착된 오토클레이브에, 에틸 아세테이트 40 mL, 히드록시에틸 비닐 에테르 (HEVE) 14.7 g 및 디라우로일 퍼옥시드 0.55 g 을 충전하고, 상기 시스템의 내부를 공기제거하고 질소 기체로 퍼지 (purge) 시켰다. 부가적으로, 헥사플루오로프로필렌 (HFP) 25 g 을 오토클레이브에 도입하고, 온도를 65℃ 로 승온시켰다. 오토클레이브의 온도가 65℃ 에 도달한 시점에서, 압력은 5.4 kg/㎠ 였다. 반응은 오토클레이브 내의 온도를 65℃ 로 유지시키며 8 시간 동안 지속되었고, 압력이 3.2 kg/㎠ 에 도달하는 시점에서 가열을 중지한 후, 냉각되도록 방치시켰다.An autoclave equipped with a stirrer made of stainless steel, having an internal volume of 100 mL, was charged with 40 mL of ethyl acetate, 14.7 g of hydroxyethyl vinyl ether (HEVE) and 0.55 g of dilauroyl peroxide, The interior was deaerated and purged with nitrogen gas. Additionally, 25 g of hexafluoropropylene (HFP) was introduced into the autoclave and the temperature was raised to 65 ° C. When the temperature of the autoclave reached 65 degreeC, the pressure was 5.4 kg / cm <2>. The reaction lasted for 8 hours while maintaining the temperature in the autoclave at 65 ° C., and the heating was stopped when the pressure reached 3.2 kg / cm 2, and then left to cool.

내부 온도가 실온으로 된 시점에서, 반응되지 않은 단량체를 방출하고, 오토클레이브를 열고 반응 용액을 꺼내었다. 수득된 반응 용액을 과량의 헥산에 넣고, 용매를 경사분리에 의해 제거하고, 침전된 중합체를 꺼내었다. 부가적으로, 상기 중합체를 소량의 에틸 아세테이트에 용해시키고 헥산으로부터 2회 재침전시킴으로써 잔류 단량체를 완전히 제거하였다. 건조 후, 1/1 의 HFP 대 HEVE 몰비를 갖는 공중합체 PI 28 g 을 수득하였다. 수득된 중합체는 15,000 의 수평균 분자량을 가졌다.When the internal temperature reached room temperature, the unreacted monomer was released, the autoclave was opened and the reaction solution was taken out. The obtained reaction solution was taken into excess hexane, the solvent was removed by decantation and the precipitated polymer was taken out. Additionally, the polymer was completely removed by dissolving the polymer in a small amount of ethyl acetate and reprecipitating twice from hexane. After drying, 28 g of copolymer PI with an HFP to HEVE molar ratio of 1/1 were obtained. The polymer obtained had a number average molecular weight of 15,000.

합성예 2 내지 5Synthesis Examples 2 to 5

불소-함유 중합체 P18, P37, P39 및 P45 를 상기 합성예 1 의 P1 합성에서와 실질적으로 동일한 방식으로 합성하였으나, 단, 원료를 표 1 내지 5 에 나타난 것으로 바꾸었다. 수득된 각 불소-함유 중합체의 수평균 분자량은 상기 표 1 및 2 에 나타나 있다.Fluorine-containing polymers P18, P37, P39 and P45 were synthesized in substantially the same manner as in the synthesis of P1 of Synthesis Example 1 above, except that the raw materials were changed to those shown in Tables 1 to 5. The number average molecular weights of the respective fluorine-containing polymers obtained are shown in Tables 1 and 2 above.

합성예 6: 불소-함유 중합체 P49 의 합성Synthesis Example 6 Synthesis of Fluorine-Containing Polymer P49

스테인레스 스틸 교반기가 장착되고 내부 부피가 2 d㎥ 인 오토클레이브에, 2-부타논 133.0 g, 2-프로판올 33.0 g, 히드록시에틸 비닐 에테르 (HEVE) 52.9 g, 에틸 비닐 에테르 (EVE) 28.8 g, Syraplane FM-0721 15.0 g, 및 V-65 (Wako Pure Chemical Co., Ltd. 에 의해 제조된 중합 개시제) 3.9 g 를 충전한 후, 시스템의 내부를 질소 기체로 대체하였다. 헥사플루오로프로필렌 (HFP) 184.1 g 을 오토클레이브에 추가적으로 도입한 후, 온도를 60℃ 로 승온시켰다. 오토클레이브 내의 온도가 60℃ 에 달하였을때 압력이 0.93 MPa 였다. 오토클레이브 내의 온도를 60℃ 로 유지시키며 반응을 8 시간 동안 지속시켰다. 그 후, 오토클레이브의 온도를 80℃ 으로 승온시키고, 반응을 추가의 1 시간 동안 지속시켰다. 압력이 0.44 MPa 가 될때, 가열을 중지시키고, 시스템이 냉각되도록 방치하였다. 내부 온도가 실온으로 낮춰진 후, 반응되지 않은 단량체를 퍼지시켰다. 이후, 오토클레이브를 열어 반응 용액을 꺼내었다. 이렇게 수득된 중합체의 수율은 217 g 이었다. 중합체의 수평균 분자량은 11,000 이었다.In an autoclave equipped with a stainless steel stirrer and having an internal volume of 2 dm3, 133.0 g of 2-butanone, 33.0 g of 2-propanol, 52.9 g of hydroxyethyl vinyl ether (HEVE), 28.8 g of ethyl vinyl ether (EVE), After charging 15.0 g of Syraplane FM-0721 and 3.9 g of V-65 (polymerization initiator made by Wako Pure Chemical Co., Ltd.), the interior of the system was replaced with nitrogen gas. After additionally introducing 184.1 g of hexafluoropropylene (HFP) into the autoclave, the temperature was raised to 60 ° C. The pressure was 0.93 MPa when the temperature in the autoclave reached 60 ° C. The temperature in the autoclave was maintained at 60 ° C. and the reaction was continued for 8 hours. Thereafter, the temperature of the autoclave was raised to 80 ° C. and the reaction was continued for an additional 1 hour. When the pressure reached 0.44 MPa, heating was stopped and the system was left to cool. After the internal temperature was lowered to room temperature, unreacted monomer was purged. Thereafter, the autoclave was opened to take out the reaction solution. The yield of the polymer thus obtained was 217 g. The number average molecular weight of the polymer was 11,000.

합성예 7Synthesis Example 7

불소-함유 중합체 P54 를 상기된 합성예에서의 P49 의 합성과 실질적으로 동일한 방식으로 합성하였다. 결과적으로 수득된 중합체의 수평균 분자량은 표 5 에 나타나 있다.Fluorine-containing polymer P54 was synthesized in substantially the same manner as the synthesis of P49 in the above synthesis example. The number average molecular weight of the resulting polymer is shown in Table 5.

합성예 8: p-톨루엔술폰산염의 합성Synthesis Example 8: Synthesis of p-toluenesulfonate

디에틸메틸아민 3.0 g 을 2-부타논 30 ㎤ 에 용해하고, 이에 p-톨루엔술폰산 모노히드레이트 5.7 g 을 교반하며 서서히 첨가하였다. 교반을 추가로 1 시간 동안 지속한 후, 용매를 진공 하에서 증류제거하였다. 수득된 고체를 아세톤으로부터 재결정화시켜 p-톨루엔술폰산의 디에틸메틸아민염을 수득하였다.3.0 g of diethylmethylamine was dissolved in 30 cm 3 of 2-butanone, and 5.7 g of p-toluenesulfonic acid monohydrate was slowly added thereto with stirring. After stirring was continued for an additional hour, the solvent was distilled off under vacuum. The obtained solid was recrystallized from acetone to give the diethylmethylamine salt of p-toluenesulfonic acid.

(졸 용액 (a) 의 제조)(Preparation of sol solution (a))

교반기 및 환류 응축기가 장착된 반응기에, 메틸 에틸 케톤 120 부, 아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란 (KBM-5103, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조) 100 부 및 디이소프로폭시알루미늄 에틸 아세토아세테이트 3 부를 첨가하고 혼합하였다. 이온 교환수 30 부를 첨가한 후, 그 혼합물을 4 시간 동안 60℃ 에서 반응시키고, 이어서 실온으로 냉각시켰다. 반응 생성물은 1,600 의 중량 평균 분자량을 가졌고, 올리고머 또는 중합체 성분을 함유하는 성분 중, 1,000 내지 20,000 의 분자량을 갖는 성분이 100% 을 차지하였다. 추가적으로, 기체 크로마토그래피 분석으로, 출발 아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란이 전혀 남아있지 않은 것으로 밝혀졌다. 반응 용액을 메틸 에틸 케톤으로 조절하여 29% 의 고형물 함량을 갖도록 하여, 졸 용액 (a) 를 제조하였다.In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 120 parts of methyl ethyl ketone, 100 parts of acryloyloxypropyl trimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and diisopropoxyaluminum ethyl Three parts of acetoacetate were added and mixed. After addition of 30 parts of ion-exchanged water, the mixture was reacted at 60 DEG C for 4 hours, and then cooled to room temperature. The reaction product had a weight average molecular weight of 1,600 and among the components containing the oligomer or polymer component, the component having a molecular weight of 1,000 to 20,000 accounted for 100%. In addition, gas chromatographic analysis revealed no starting acryloyloxypropyl trimethoxysilane left. The sol solution (a) was prepared by adjusting the reaction solution with methyl ethyl ketone to have a solids content of 29%.

(졸 용액 (b) 의 제조)(Preparation of sol solution (b))

교반기 및 환류 응축기가 장착된 반응기에, 아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란 80 부, 메틸 트리메톡시실란 (KBM-13, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조) 20 부 및 디이소프로폭시알루미늄 에틸 아세토아세테이트 3 부를 첨가하고 혼합하였다. 이온 교환수 30 부를 첨가한 후, 그 혼합물을 60 분간 40℃ 에서 반응시켰다. 반응 생성물은 800 의 중량 평균 분자량을 가졌고, 올리고머 또는 중합체 성분을 함유하는 성분 중, 1,000 내지 20,000 의 분자량을 갖는 성분이 30% 을 차지하였다. 추가적으로, 기체 크로마토그래피 분석에 의해, 출발 아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란 및 메틸 트리메톡시실란이 10% 이하의 잔류율을 갖는 것으로 나타났다. In a reactor equipped with a stirrer and a reflux condenser, 80 parts of acryloyloxypropyl trimethoxysilane, 20 parts of methyl trimethoxysilane (KBM-13, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and diisopropoxy Three parts of aluminum ethyl acetoacetate were added and mixed. After adding 30 parts of ion-exchanged water, the mixture was reacted at 40 ° C for 60 minutes. The reaction product had a weight average molecular weight of 800, and among the components containing the oligomer or polymer component, the component having a molecular weight of 1,000 to 20,000 accounted for 30%. Additionally, gas chromatography analysis showed that the starting acryloyloxypropyl trimethoxysilane and methyl trimethoxysilane had a residual rate of 10% or less.

(중공 실리카 분산물 A 의 제조)(Preparation of Hollow Silica Dispersion A)

실리카 중공 미세 입자 졸 (JP-A-2002-79616 의 제조예 4 에 따라 크기를 변화시켜 제조된 바와 같은, 이소프로필 알콜 실리카 졸, 평균 입자 크기: 40 nm, 쉘 두께: 6 nm, 실리카 농도: 20 중량%, 실리카 입자의 굴절률: 1.30) 500 부에, 아크릴로일옥시프로필 트리메톡시실란 (KBM-5103, Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조) 30 부 및 트리메틸 메톡시실란 2 부 및 디이소프로폭시알루미늄 에틸 아세토아세테이트 1.5 부를 첨가하고 혼합하였다. 이온 교환수 9 부를 첨가한 후, 그 혼합물을 60℃ 에서 8 시간 동안 반응시켰다. 실온으로 냉각시킨 후, 아세틸 아세톤 1.8 부를 첨가하였다.Isopropyl alcohol silica sol, prepared by varying the size according to Preparation Example 4 of JP-A-2002-79616, average particle size: 40 nm, shell thickness: 6 nm, silica concentration: 20 wt%, refractive index of the silica particles: 1.30) to 500 parts, 30 parts of acryloyloxypropyl trimethoxysilane (KBM-5103, manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) and 2 parts of trimethyl methoxysilane; and 1.5 parts of diisopropoxyaluminum ethyl acetoacetate was added and mixed. After adding 9 parts of ion-exchanged water, the mixture was reacted at 60 ° C for 8 hours. After cooling to room temperature, 1.8 parts of acetyl acetone were added.

용매 치환을 20 kPa 의 압력 하, 진공 하에서의 증류에 의해 수행하는 동안 이 분산물 500 g 에 시클로헥사논을 첨가하여 실리카 함량이 일정하도록 하였다. 이 분산물은 이물질의 생성으로부터 자유로웠다. 시클로헥사논으로 고형물 함량이 26 중량% 로 조정되었을 때, 점도는 25℃ 에서 10 mPa·s 인 것으로 나타났다. 수득된 분산물 A 중 이소프로필 알콜의 잔류양은 기체 크로마토그래피로 분석하였다. 그 결과, 이는 1.0% 인 것으로 나타났다.While solvent substitution was carried out by distillation under vacuum at a pressure of 20 kPa, cyclohexanone was added to 500 g of this dispersion to keep the silica content constant. This dispersion was free from the creation of foreign matter. When the solids content was adjusted to 26 wt% with cyclohexanone, the viscosity was found to be 10 mPa · s at 25 ° C. The residual amount of isopropyl alcohol in the obtained dispersion A was analyzed by gas chromatography. As a result, it was found to be 1.0%.

[반사방지 필름의 제조][Production of Antireflection Film]

[저굴절률층용 코팅 용액 (LLL-1 내지 LLL-53) 의 제조][Preparation of Coating Solutions for Low Refractive Index Layers (LLL-1 to LLL-53)]

표 7 에 나타난 해당 성분을 혼합하고 MEK 에 용해시켜 각각 8% 의 고형물 함량을 갖는 저굴절률층용 코팅 용액을 제조하였다. 표 7 의 괄호 안의 수치는 각 성분의 고형물의 중량부를 나타낸다.The corresponding components shown in Table 7 were mixed and dissolved in MEK to prepare a coating solution for the low refractive index layer, each having a solids content of 8%. The numerical values in parentheses of Table 7 represent the weight parts of solids of each component.

Figure 112006055903608-PAT00040
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Figure 112006055903608-PAT00041
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Figure 112006055903608-PAT00042
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Figure 112006055903608-PAT00043
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Figure 112006055903608-PAT00044
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Figure 112006055903608-PAT00045
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Figure 112006055903608-PAT00046
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Figure 112006055903608-PAT00047
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Figure 112006055903608-PAT00048
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Figure 112006055903608-PAT00049
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Figure 112006055903608-PAT00050
Figure 112006055903608-PAT00050

(*1) 졸 용액 (a) 및 DPHA 의 혼합물 (1/1) (중량비)(* 1) Mixture of sol solution (a) and DPHA (1/1) (weight ratio)

(*2) MEK-ST-L 및 MEK-ST 의 혼합물 (3/7) (중량비)(* 2) Mixture of MEK-ST-L and MEK-ST (3/7) (weight ratio)

(*3) 중공 실리카 및 MEK-ST-L 의 혼합물 (39/9) (중량비)(* 3) A mixture of hollow silica and MEK-ST-L (39/9) (weight ratio)

추가적으로, 표의 재료명 및 제품명은 하기와 같다.In addition, the material names and product names in the table are as follows.

MEK-ST: Nissan Chemical Industries, Ltd. 에 의해 제조된 콜로이드성 실리카, 평균 입자 크기: 10 내지 15 nmMEK-ST: Nissan Chemical Industries, Ltd. Colloidal silica prepared by, average particle size: 10 to 15 nm

MEK-ST-L: Nissan Chemical Industries, Ltd. 에 의해 제조된 콜로이드성 실리카, 평균 입자 크기: 약 50 nmMEK-ST-L: Nissan Chemical Industries, Ltd. Colloidal silica prepared by, average particle size: about 50 nm

중공 실리카: 상기 중공 실리카 분산물 A. 상기 표의 고형물 함량은 실리카 및 표면 처리제의 총 합계를 나타낸다.Hollow Silica: Hollow Silica Dispersion A. The solids content of the table represents the total sum of silica and surface treatment agent.

CYMEL 303: Nihon Cytec Industries Inc. 에 의해 제조된 메틸올화 멜라민CYMEL 303: Nihon Cytec Industries Inc. Methylated Melamine Prepared by

TAKENATE D110: Takeda Pharmaceutical Industries Limited 에 의해 제조된 이소시아네이트 기재 경화제TAKENATE D110: isocyanate based curing agent manufactured by Takeda Pharmaceutical Industries Limited

DPHA: Nippon Kayaku Co., Ltd. 에 의해 제조된 UV 경화성 수지DPHA: Nippon Kayaku Co., Ltd. UV curable resin produced by

PTS: p-톨루엔술폰산 모노히드레이트PTS: p-toluenesulfonic acid monohydrate

H-a 및 H-b 는 하기 구조를 갖는 화합물이다.H-a and H-b are compounds having the following structure.

Figure 112006055903608-PAT00051
Figure 112006055903608-PAT00051

표 7 의 불소-함유 중합체 PR1 은 하기 구조를 갖는 화합물이며, 하기의 특허 문헌에 기재된 바와 동일한 조건 하에서 합성된 것이다.Fluorine-containing polymer PR1 in Table 7 is a compound having the following structure and synthesized under the same conditions as described in the following patent document.

PR1: 일본 특허 제 3498481 호에 기재된 실시예 2 의 공중합체.PR1: The copolymer of Example 2 described in Japanese Patent No. 3498481.

숫자는 각 단량체의 몰분율을 나타낸다.The numbers indicate the mole fraction of each monomer.

Figure 112006055903608-PAT00052
Figure 112006055903608-PAT00052

[눈부심 방지층용 코팅 용액 (HCL-1) 의 제조][Preparation of Coating Solution for Anti-Glare Layer (HCL-1)]

PET-30: 50.0 gPET-30: 50.0 g

IRGACURE 184: 2.0 gIRGACURE 184: 2.0 g

SX-350 (30%): 1.5 gSX-350 (30%): 1.5 g

가교된 아크릴-스티렌 입자 (30%): 13.9 gCross-linked acrylic-styrene particles (30%): 13.9 g

졸 용액 (b): 10.0 gSol solution (b): 10.0 g

톨루엔: 38.5 gToluene: 38.5 g

상기 혼합 용액을 공경이 30 ㎛ 인 폴리프로필렌으로 제조된 필터를 통해 여과하여 하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-1) 을 제조하였다.The mixed solution was filtered through a filter made of polypropylene having a pore diameter of 30 μm to prepare a coating solution for hard coat layer (HCL-1).

여기에 사용된 화합물은 하기와 같다.The compound used here is as follows.

PET-30: 펜타에리트리톨 아크릴레이트 및 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트의 혼합물 (Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조)PET-30: A mixture of pentaerythritol acrylate and pentaerythritol tetraacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.)

IRGACURE 184: 중합 개시제 (Ciba Speciality Chemicals 제조)IRGACURE 184: polymerization initiator (manufactured by Ciba Specialty Chemicals)

SX-350: 3.5 ㎛ 의 평균 입자 크기를 갖는 가교된 폴리스티렌 입자 (굴절률: 1.60, Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. 제조; Polytron 분산 기계로 10,000 rpm 에서 20 분간 분산시킨 후 사용되는 것과 같은, 30% 톨루엔 분산물)SX-350: crosslinked polystyrene particles having an average particle size of 3.5 μm (refractive index: 1.60, manufactured by Soken Chemical & Engineering Co., Ltd .; 30, as used after dispersion for 20 minutes at 10,000 rpm with a Polytron dispersion machine % Toluene dispersion)

[반사방지 필름 시료 101 의 제조][Preparation of Antireflection Film Sample 101]

80 ㎛ 두께의 트리아세틸 셀룰로오스 필름 "TAC-TD80U" (Fuji Photo Film Co., Ltd. 제조) 를 둥글게 말린 상태에서 풀고; 독터 블레이드 및 50 mm 의 지름을 갖고 40 ㎛ 의 깊이 및 인치 당 180 라인을 갖는 그라비어 패턴을 가진 마이크로그라비어 롤을 사용하여, 30 rpm 의 그라비어 롤의 분해수 (resolution number) 및 30 m/분의 전달 속도의 조건 하에서, 상기 하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-1) 을 그 위에 직접 코팅하고; 60℃ 에서 150 초간 건조한 후, 0.1 부피% 의 산소 농도에서 질소로의 퍼지 하에서, 160 W/cm 의 공기-냉각된 금속 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여, 400 mW/㎠ 의 조사 조도 및 100 mJ/㎠ 의 조사량을 갖는 자외선으로 조사시켜 코팅 층을 경화시킴으로써, 6 ㎛ 의 두께를 갖는 층을 형성하고, 이어서 이를 감았다. 이렇게 제조되고 수득된 눈부심 방지층 (HC-1) 은 Ra = 0.18 ㎛ 및 Rz = 1.40 ㎛ 의 표면 거칠기, 표면 헤이즈 12% 및 내부 헤이즈 29% 를 가졌다.The 80-micrometer-thick triacetyl cellulose film "TAC-TD80U" (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was unwound in a curled state; Resolution number and transfer of 30 m / min of gravure roll at 30 rpm using a doctor blade and a microgravure roll having a diameter of 50 mm and a gravure pattern having a depth of 40 μm and 180 lines per inch. Under conditions of speed, coating the coating solution for hard coat layer (HCL-1) directly thereon; 400 mW / cm 2 using an air-cooled metal halide lamp of 160 W / cm (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) under a purge with nitrogen at an oxygen concentration of 0.1 vol. The coating layer was cured by irradiation with ultraviolet light having an irradiance of and an irradiation dose of 100 mJ / cm 2, thereby forming a layer having a thickness of 6 μm, which was then wound. The antiglare layer (HC-1) thus prepared and obtained had a surface roughness of Ra = 0.18 mu m and Rz = 1.40 mu m, a surface haze of 12% and an internal haze of 29%.

이렇게 수득된 눈부심 방지층 상에, 상기 저굴절률층용 코팅 용액 (LLL-1) 을, 그 저굴절률층이 95 nm 의 두께를 갖도록 코팅하여, 반사방지 필름 시료 101 을 제조하였다. 코팅 용액에 대해서는, 각 성분을 2 시간 동안 혼합한 후, 적용하였고; 건조 조건에 대해서는, 저굴절률층을 110℃ 에서 10 분간 건조하였고; 자외선 경화 조건에 대해서는, 0.01 부피% 이하의 산소 농도를 갖는 대기 중 질소로의 퍼지 하에서, 240 W/cm 의 공기-냉각된 금속 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여, 자외선을 120 mW/㎠ 의 조사 조도 및 240 mJ/㎠ 의 조사 에너지 강도로 조사하였다.On the thus obtained anti-glare layer, the coating solution for low refractive index layer (LLL-1) was coated so that the low refractive index layer had a thickness of 95 nm to prepare an antireflection film sample 101. For the coating solution, each component was mixed for 2 hours and then applied; For the drying conditions, the low refractive index layer was dried at 110 ° C. for 10 minutes; For ultraviolet curing conditions, ultraviolet light was absorbed using an air-cooled metal halide lamp of 240 W / cm (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) under purge with atmospheric nitrogen with an oxygen concentration of 0.01% by volume or less. Irradiation with 120 mW / cm 2 irradiation intensity and 240 mJ / cm 2 irradiation energy intensity was carried out.

[반사방지 필름 102 내지 153 의 제조][Preparation of antireflection films 102 to 153]

반사방지 필름 101 의 제조에서 저굴절률층용 코팅 용액 (LLL-1) 이 코팅 용액 (LLL-2) 내지 (LLL-53) 의 각각으로 대체된 것을 제외하고는, 반사방지 필름 101 에서와 같은 방식으로 반사방지 필름 102 내지 153 을 제조하였다.In the preparation of the antireflective film 101 in the same manner as in the antireflection film 101, except that the coating solution for low refractive index layer (LLL-1) was replaced with each of the coating solutions (LLL-2) to (LLL-53). Antireflective films 102 to 153 were prepared.

[반사방지 필름의 비누화 처리][Saponification treatment of antireflection film]

각각의 수득된 반사방지 필름을 하기 비누화 표준 조건 하에서 처리하고 건조하였다.Each antireflective film obtained was treated and dried under the following saponification standard conditions.

알칼리성 조 (bath): 1.5 몰/dm3 수산화나트륨 수용액, 55℃ 에서 120 초간Alkaline bath: 1.5 mol / dm 3 aqueous sodium hydroxide solution at 55 ° C. for 120 seconds

제 1 물세척 조: 60 초간 수돗물1st water wash tank: tap water for 60 seconds

중성화 조: 0.05 몰/dm3 황산, 30℃ 에서 20 초간Neutralization bath: 0.05 mol / dm 3 sulfuric acid at 30 ° C. for 20 seconds

제 2 물세척 조: 60 초간 수돗물Second wash cycle: tap water for 60 seconds

건조: 120℃, 60 초Drying: 120 ℃, 60 seconds

[반사방지 필름의 평가][Evaluation of Antireflection Film]

이렇게 수득된 비누화 반사방지 필름 각각을 하기의 방식으로 평가하였다.Each of the saponified antireflective films thus obtained was evaluated in the following manner.

(평가 1) 평균 반사율의 측정:(Evaluation 1) Measurement of average reflectance:

450 내지 650 nm 의 평균 반사율을 본 명세서에 기재된 방법으로 이용하였다. 편광판으로 가공된 표본에 대해, 편광판 상태의 표본은 그대로 사용되었고; 편광판을 사용하지 않는 상태의 디스플레이 장치 또는 필름 그 자체의 경우에는, 반사방지 필름의 뒷 표면에 황삭 처리 (roughing treatment) 후, 흑색 잉크로의 광 흡수 처리 (380 내지 780 nm 에서의 투과도: 10% 미만) 를 하고, 이어서 흑색 테이블 상의 측정을 위해 제공하였다.Average reflectances between 450 and 650 nm were used in the methods described herein. For the specimen processed with the polarizer, the specimen in the polarizer state was used as it is; In the case of the display device or the film itself without a polarizing plate, after the roughing treatment on the back surface of the antireflective film, light absorption treatment with black ink (transmittance at 380 to 780 nm: 10% Below), and then provided for measurement on the black table.

(평가 2) 스틸 울에 의한 내반흔성 평가 (Evaluation 2) scar resistance evaluation by steel wool

이 실험은 본 명세서에 기술된 바와 같은 방법으로 수행되었으며, 문질러진 표본의 후면에 유성 흑색 잉크를 적용하고, 문지른 부분의 흠을 반사된 광으로 육안으로 관찰하고 하기 기준에 따라 평가하였다. 하중을 500 g/㎠ 으로 설정하였다.This experiment was performed by the method as described herein, applying oily black ink to the back side of the rubbed specimen, visually observing the scratches on the rubbed portions with reflected light and evaluating according to the following criteria. The load was set to 500 g / cm 2.

A: 매우 면밀한 관찰에 의해서도, 흠이 전혀 관찰되지 않음.A: A flaw is not observed at all even by the very close observation.

AB: 충분한 면밀한 관찰로, 약한 흠이 조금 관찰됨.AB: With close observation, a few minor flaws are observed.

B: 약한 흠이 관찰됨.B: A weak flaw is observed.

BC: 흠이 중간 정도로 관찰됨.BC: The blemish is observed moderately.

C: 흠이 첫눈에 관찰됨.C: blemish is observed at first sight.

(평가 3) 지우개 문지름에 의한 내반흔성의 평가(Evaluation 3) evaluation of scar resistance by eraser rub

이 실험은 본 명세서에 기술된 바와 같은 방법으로 수행되었으며, 문질러진 표본의 후면에 유성의 흑색 잉크를 적용하고, 문지른 부분의 흠을 반사된 광으로 육안으로 관찰하고 하기의 기준에 따라 평가하였다.This experiment was performed by the method as described herein, applying oily black ink to the back side of the rubbed specimen, visually observing the scratches on the rubbed portions with reflected light and evaluating according to the following criteria.

A: 매우 면밀한 관찰에 의해서도, 흠이 전혀 관찰되지 않음.A: A flaw is not observed at all even by the very close observation.

AB: 충분한 면밀한 관찰로, 약한 흠이 조금 관찰됨.AB: With close observation, a few minor flaws are observed.

B: 약한 흠이 관찰됨.B: A weak flaw is observed.

BC: 흠이 중간 정도로 관찰됨.BC: The blemish is observed moderately.

C: 흠이 첫눈에 관찰됨.C: blemish is observed at first sight.

CC: 흠이 필름의 전체 표면에 있음.CC: blemishes on the entire surface of the film.

(평가 4) 마커 잉크 와이핑 특성:(Evaluation 4) Marker Ink Wiping Properties:

이 실험은 본 명세서에 기술된 바와 같은 방법으로 수행되었으며, 마커 잉크가 사라질때 까지의 와이핑 수를 측정하였다. 마커 잉크가 사라질때 까지의 와이핑 수가 5회 이상인 것이 바람직하며; 마커 잉크가 사라질때 까지의 와이핑 수가 10 이상인 것이 더욱 바람직하다.This experiment was performed by the method as described herein and the number of wipings until the marker ink disappeared was measured. It is preferable that the number of wiping until the marker ink disappears is five or more times; More preferably, the wiping number until the marker ink disappears is 10 or more.

(평가 5) 먼지 제거 특성:(Evaluation 5) Dust Removal Characteristics:

이 실험은 본 명세서에 기술된 바와 같은 방법으로 수행되었으며, 먼지가 완전히 제거될때 까지의 와이핑 수를 측정하였다. 먼지가 6회의 와이핑에 의해 완전히 제거될 수 있는 것이 바람직하며; 먼지가 3 회 이내의 와이핑에 의해 완전히 제거될 수 있는 것이 더욱 바람직하다.This experiment was performed in the manner as described herein and the number of wipings until the dust was completely removed. It is desirable that the dust can be completely removed by six wipings; More preferably, the dust can be completely removed by wiping up to three times.

평가 결과는 표 8 에 나타나 있다.The evaluation results are shown in Table 8.

Figure 112006055903608-PAT00053
Figure 112006055903608-PAT00053

Figure 112006055903608-PAT00054
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Figure 112006055903608-PAT00055
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Figure 112006055903608-PAT00056
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Figure 112006055903608-PAT00057
Figure 112006055903608-PAT00057

본 실시예로부터 명백하듯이, 본 발명에 따라 히드록실기 함량이 20% 를 초과하는 중합체 공중합체를 사용하고 본 발명의 구성 성분을 함유하는 반사방지 필름이 우수한 SW 문지름 저항성 및 지우개 문지름 저항성 및 우수한 방오성을 것는 것을 알 수 있다.As is apparent from this example, an antireflective film using a polymer copolymer having a hydroxyl group content of more than 20% according to the present invention and containing the constituents of the present invention has excellent SW rub resistance and eraser rub resistance and excellent You can see that it is antifouling.

불소-함유 중합체 내의 히드록실기 함량에 의한 여러 성능의 개선은 반사방지 필름 101 내지 112 와 반사방지 필름 139 내지 144 간의 비교로 나타난다.Several improvements in performance due to the hydroxyl group content in the fluorine-containing polymers result from a comparison between antireflective films 101-112 and antireflective films 139-144.

추가적으로, 중합체 그래프트 사슬로서 폴리실록산 구조를 갖는 것에 의해 마커 잉크 와이핑 특성이 현저하게 개선되는 것을 알 수 있다 (반사방지 필름 107 내지 112 및 113 내지 119 비교).Additionally, it can be seen that marker ink wiping properties are significantly improved by having a polysiloxane structure as the polymer graft chain (compare antireflective films 107 to 112 and 113 to 119).

또한, 중공 실리카를 사용함으로써 반사율이 현저히 감소되는 것을 알 수 있다 (반사방지 필름 134, 135, 137, 138 및 149 비교).It can also be seen that by using hollow silica the reflectance is significantly reduced (compare antireflective films 134, 135, 137, 138 and 149).

[실시예 2]Example 2

[반사방지 필름의 제조][Production of Antireflection Film]

[저굴절률층용 코팅 용액 (LLL-54 내지 LLL-63) 의 제조][Production of Coating Solution for Low Refractive Index Layer (LLL-54 to LLL-63)]

코팅 용액 LLL-54 내지 LLL-58 및 LLL-59 내지 LLL-63 을, 표 8 에 나타난 경화 촉매의 종류를 바꾸는 것을 제외하고는, 저굴절률층용 코팅 용액 (LLL-17 및 LLL-38) 의 제조에서와 동일한 방식으로 제조하였다. 경화 촉매를 변화하는데 있어서, 그 변화는 산이 등몰량으로 사용되도록 이루어졌다. 염기를 산과 당량 (1/1) 으로 사용되었다.Preparation of Coating Solutions for Low Refractive Index Layers (LLL-17 and LLL-38), except that Coating Solutions LLL-54 to LLL-58 and LLL-59 to LLL-63 were changed in the type of curing catalyst shown in Table 8. Prepared in the same manner as in. In changing the curing catalyst, the change was made such that the acid was used in equimolar amounts. Base was used as acid and equivalent (1/1).

(하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-2) 의 제조)(Preparation of Coating Solution for Hard Coat Layer (HCL-2))

MEK 90 중량부에, 시클로헥사논 10 중량부, 카프로락톤으로 부분적으로 개질된 다관능 아크릴레이트 (DPCA-20, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조) 85 중량부, KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 에 의해 제조된 실란 커플링제) 10 중량부 및 광중합 개시제 (IRGACURE 184, Ciba Speciality Chemicals 제조) 5 중량부를 첨가하고 교반하였다. 이 혼합물을 공경이 0.4 ㎛ 인 폴리프로필렌으로 제조된 필터를 통해 여과하여, 하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-2) 을 제조하였다.90 parts by weight of MEK, 10 parts by weight of cyclohexanone, 85 parts by weight of polyfunctional acrylate partially modified with caprolactone (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical) 10 parts by weight of a silane coupling agent manufactured by Co., Ltd. and 5 parts by weight of a photopolymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added and stirred. This mixture was filtered through a filter made of polypropylene having a pore size of 0.4 mu m to prepare a coating solution for hard coat layer (HCL-2).

[반사방지 필름 시료 201 내지 212 의 제조 및 평가][Preparation and Evaluation of Antireflection Film Samples 201 to 212]

80 ㎛ 두께의 트리아세틸 셀룰로오스 필름 "TAC-TD80U" (Fuji Photo Film Co., Ltd. 제조) 를 둥글게 말린 상태로 풀고; 독터 블레이드 및 50 mm 의 지름을 갖고 40 ㎛ 의 깊이 및 인치 당 180 라인을 갖는 그라비어 패턴을 갖는 마이크로그라비어 롤을 사용하여, 30 rpm 의 그라비어 롤의 분해수 및 30 m/분의 전달 속도의 조건 하에서, 상기 하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-2) 을 그 위에 직접 코팅하고; 60℃ 에서 150 초간 건조한 후, 0.1 부피% 의 산소 농도에서 질소로의 퍼지 하에서, 160 W/cm 의 공기-냉각된 금속 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여, 400 mW/㎠ 의 조사 조도 및 100 mJ/㎠ 의 조사 에너지 강도를 갖는 자외선으로 조사시켜 코팅 층을 경화시킴으로써, 7 ㎛ 의 두께를 갖는 층을 형성하고, 이어서 이를 감았다. 이렇게 제조되고 수득된 눈부심 방지층 (HC-2) 은 Ra = 0.005 ㎛ 및 Rz = 0.01 ㎛ 의 표면 거칠기를 가졌다.The 80-micrometer-thick triacetyl cellulose film "TAC-TD80U" (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was unwound in a curled state; Using a doctor blade and a microgravure roll having a diameter of 50 mm and a gravure pattern having a depth of 40 μm and 180 lines per inch, under conditions of decomposition water of a gravure roll at 30 rpm and a delivery speed of 30 m / min. Coating the coating solution for hard coat layer (HCL-2) directly thereon; 400 mW / cm 2 using an air-cooled metal halide lamp of 160 W / cm (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) under a purge with nitrogen at an oxygen concentration of 0.1 vol. The coating layer was cured by irradiation with ultraviolet light having an irradiance of and an irradiation energy intensity of 100 mJ / cm 2, thereby forming a layer having a thickness of 7 μm, which was then wound. The antiglare layer (HC-2) thus prepared and obtained had a surface roughness of Ra = 0.005 mu m and Rz = 0.01 mu m.

상기 저굴절률층을 실시예 1 에서와 동일한 방식으로 하드 코트층 HC-2 위에 코팅하고 제공하여, 반사방지 필름 201 내지 212 을 제조하였다. 저굴절률층의 제조에서 코팅까지의 시간에 대해, 표준 조건을 2 시간으로 설정하였다. 추가적으로, 열 경화 시간이 110℃ 에서 5 분으로 단축된 시료를 동시에 제조하고, 실시예 1 과 동일한 조건 하에서 비누화 처리하고, 지우개 문지름 저항성에 대해 평가하였다.The low refractive index layer was coated and provided on the hard coat layer HC-2 in the same manner as in Example 1 to prepare antireflective films 201 to 212. For the time from the preparation of the low refractive index layer to the coating, the standard conditions were set to 2 hours. In addition, samples of which the heat curing time was shortened to 110 minutes at 110 ° C. were simultaneously prepared, saponified under the same conditions as in Example 1, and evaluated for eraser rub resistance.

부가적으로, 저굴절률층용 코팅 용액을 30℃ 에서 광-차폐 및 밀폐된 조건하에서 각각 1 개월 및 3 개월 동안 저장한 후, 코팅하였다. 유성 흑색 잉크를 코팅 필름의 뒤 표면에 적용하고, A4-크기 면적 상의 표면 특성을 하기 기준에 따라 평가하였다.Additionally, the coating solution for the low refractive index layer was stored for 1 month and 3 months, respectively, under light-shielding and closed conditions at 30 ° C., and then coated. Oily black ink was applied to the back surface of the coating film and the surface properties on the A4-size area were evaluated according to the following criteria.

A: 매우 면밀한 관찰에 의해서도, 흠이 전혀 관찰되지 않음.A: A flaw is not observed at all even by the very close observation.

AB: 충분한 면밀한 관찰로, 흠이 조금 관찰됨 (1 내지 3개/A4).AB: With close observation, a few flaws were observed (1-3 / A4).

B: 약한 흠이 관찰됨 (4 내지 10개/A4).B: Weak spots were observed (4-10 pieces / A4).

C: 흠이 첫눈에 관찰됨 (11개 이상/A4).C: blemishes were observed at first sight (more than 11 / A4).

평가 결과는 표 9 에 나타나 있다.The evaluation results are shown in Table 9.

Figure 112006055903608-PAT00058
Figure 112006055903608-PAT00058

Figure 112006055903608-PAT00059
Figure 112006055903608-PAT00059

본 실시예에서 명백하듯이, 경화 촉매로서 본 발명의 염기와 함께 산을 사용함으로써, 코팅 용액의 보관 안정성이 우수하고 내반흔성이 우수한 반사방지 필름이 수득될 수 있음을 알 수 있다.As is evident in this example, it can be seen that by using an acid together with the base of the present invention as a curing catalyst, an antireflection film having excellent storage stability of the coating solution and excellent scar resistance can be obtained.

[실시예 3]Example 3

하기 기술되는 바와 같은 다층 반사방지 필름을 제조하였다.A multilayer antireflective film was prepared as described below.

하기 조성물을 혼합조 내로 넣고 교반하여 하드 코트층용 코팅 용액을 제조하였다.The following composition was put into a mixing vessel and stirred to prepare a coating solution for a hard coat layer.

트리메틸올프로판 트리아크릴레이트 (TMPTA, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조) 750.0 중량부에, 중량 평균 분자량이 15,000 인 폴리(글리시딜 메타크릴레이트) 270.0 중량부, 메틸 에틸 케톤 730.0 중량부, 시클로헥사논 500.0 중량부, 광양이온 (photo cationic) 중합 개시제 (RHODORSIL 2074) 25.0 중량부 및 광중합 (photopolymerization) 개시제 (IRGACURE 184, Ciba Speciality Chemicals 제조) 50.0 중량부를 첨가하고 교반하였다.750.0 parts by weight of trimethylolpropane triacrylate (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), 270.0 parts by weight of poly (glycidyl methacrylate) having a weight average molecular weight of 15,000, 730.0 parts by weight of methyl ethyl ketone, and cyclo 500.0 parts by weight of hexanone, 25.0 parts by weight of photo cationic polymerization initiator (RHODORSIL 2074) and 50.0 parts by weight of photopolymerization initiator (IRGACURE 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) were added and stirred.

상기 혼합물을 공경이 0.4 ㎛ 인 폴리프로필렌-기재 여과기로 여과하여, 하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-3) 을 제조하였다.The mixture was filtered with a polypropylene-based filter having a pore size of 0.4 mu m to prepare a coating solution for hard coat layer (HCL-3).

(이산화티탄 미세 입자 분산물의 제조)(Preparation of titanium dioxide fine particle dispersion)

수산화알루미늄 및 수산화지르코늄으로 표면 처리된 코발트 함유의 이산화티탄 미세 입자 (MPT-129C, Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd. 제조, TiO2/Co3O4/Al2O3/ZrO3 = 90.5/3.0/4.0/0.5 (중량비)) 를 이산화티탄 미세 입자로서 사용하였다.Cobalt-containing titanium dioxide fine particles surface-treated with aluminum hydroxide and zirconium hydroxide (MPT-129C, manufactured by Ishihara Sangyo Kaisha, Ltd., TiO 2 / Co 3 O 4 / Al 2 O 3 / ZrO 3 = 90.5 / 3.0 / 4.0 /0.5 (weight ratio)) was used as titanium dioxide fine particles.

이 입자 257.1 중량부에, 하기 분산제 41.1 중량부 및 시클로헥사논 701.8 중량부를 첨가하고, 상기 혼합물을 Dyno-Mill 로 분산시켜, 중량 평균 입자 크기가 70 nm 인 이산화티탄 분산물을 제조하였다.To 257.1 parts of this particle, 41.1 parts by weight of the following dispersant and 701.8 parts by weight of cyclohexanone were added, and the mixture was dispersed with Dyno-Mill to prepare a titanium dioxide dispersion having a weight average particle size of 70 nm.

Figure 112006055903608-PAT00060
Figure 112006055903608-PAT00060

(중굴절률층용 코팅 용액의 제조)(Production of Coating Solution for Medium Refractive Index Layer)

상기한 이산화티탄 분산물 99.1 중량부에, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트의 혼합물 (DPHA) 68.0 중량부, 광중합 개시제 (IRGACURE 907) 3.6 중량부, 감광제 (KAYACURE DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조) 1.2 중량부, 메틸 에틸 케톤 279.6 중량부 및 시클로헥사논 1,049.0 중량부를 첨가하고 교반하였다. 완전히 교반한 후, 상기 혼합물을 공경이 0.4 ㎛ 인 폴리프로필렌-기재 여과기로 여과하여, 중굴절률층용 코팅 용액을 제조하였다.99.1 parts by weight of the titanium dioxide dispersion described above, 68.0 parts by weight of a mixture of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA), 3.6 parts by weight of a photopolymerization initiator (IRGACURE 907), and a photosensitizer (KAYACURE DETX, 1.2 parts by weight of Nippon Kayaku Co., Ltd.), 279.6 parts by weight of methyl ethyl ketone and 1,049.0 parts by weight of cyclohexanone were added and stirred. After complete stirring, the mixture was filtered through a polypropylene-based filter having a pore size of 0.4 mu m to prepare a coating solution for the medium refractive index layer.

(고굴절률층용 코팅 용액의 제조)(Preparation of coating solution for high refractive index layer)

상기한 이산화티탄 분산물 469.8 중량부에, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트 혼합물 (DPHA) 40.0 중량부, 광중합 개시제 (IRGACURE 907, Ciba Speciality Chemicals 제조) 3.3 중량부, 감광제 (KAYACURE DETX, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조) 1.1 중량부, 메틸 에틸 케톤 526.2 중량부 및 시클로헥사논 459.6 중량부를 첨가하고 교반하였다. 상기 혼합물을 공경이 0.4 ㎛ 인 폴리프로필렌-기재 여과기로 여과하여, 고굴절률층용 코팅 용액을 제조하였다.469.8 parts by weight of the titanium dioxide dispersion described above, 40.0 parts by weight of dipentaerythritol pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate mixture (DPHA), 3.3 parts by weight of a photopolymerization initiator (IRGACURE 907, manufactured by Ciba Specialty Chemicals), a photosensitive agent (KAYACURE DETX, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) 1.1 parts by weight, 526.2 parts by weight of methyl ethyl ketone and 459.6 parts by weight of cyclohexanone were added and stirred. The mixture was filtered with a polypropylene-based filter having a pore size of 0.4 μm to prepare a coating solution for the high refractive index layer.

(반사방지 필름 (301) 의 제조)(Preparation of antireflection film 301)

상기한 하드 코트층용 코팅 용액을 그라비어 코터 (gravure coater) 를 사용하여 80 ㎛ 두께의 트리아세틸 셀룰로오스 필름 (TAC-TD80U, Fuji Photo Film Co., Ltd. 제조) 상에 코팅하였다. 100 ℃ 에서 건조시킨 후, 1.0 부피% 의 산소 농도에서 질소로 퍼징 (purging) 하면서 160 W/cm 의 공냉 메탈 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여, 방사 조도가 400 mW/㎠ 이고 방사 에너지 강도가 300 mJ/㎠ 인 자외선을 조사하여 상기 코팅층을 경화시켜, 두께가 8 ㎛ 인 하드 코트층을 형성하였다.The coating solution for the hard coat layer was coated on a triacetyl cellulose film (TAC-TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) having a thickness of 80 μm using a gravure coater. After drying at 100 ° C., the irradiance was 400 mW / cm 2 using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen at an oxygen concentration of 1.0 vol%. UV light having a radiation energy intensity of 300 mJ / cm 2 was cured to form a hard coat layer having a thickness of 8 μm.

상기 하드 코트층에, 3 개의 코팅실을 가진 그라비어 코터를 사용하여, 중굴절률층용 코팅 용액, 고굴절률층용 코팅 용액 및 저굴절률층용 코팅 용액 (LLL-1) 을 연속적으로 코팅하였다.On the hard coat layer, a gravure coater having three coating chambers was used to continuously coat the coating solution for the medium refractive index layer, the coating solution for the high refractive index layer, and the coating solution for the low refractive index layer (LLL-1).

건조 조건에 관해서, 상기 중굴절률층을 90 ℃ 에서 30 초간 건조시켰고; 자외선 경화 조건에 관해서는, 산소 농도가 0.1 부피% 이하인 대기 중에서 질소로 퍼징하면서 180 W/cm 의 공냉 메탈 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여, 400 mW/㎠ 의 방사 조도 및 400 mJ/㎠ 의 방사 에너지 강도로 자외선을 조사하였다. 경화 후의 중굴절률층의 굴절률은 1.630 이었고, 두께는 67 nm 이었다.With respect to drying conditions, the medium refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds; Regarding the UV curing conditions, a radiation intensity of 400 mW / cm 2 and a 180 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.1% by volume or less and Ultraviolet rays were irradiated at a radiation energy intensity of 400 mJ / cm 2. The refractive index of the medium refractive index layer after curing was 1.630, and the thickness was 67 nm.

건조 조건에 관해서, 상기 고굴절률층을 90 ℃ 에서 30 초간 건조시켰고; 자외선 경화 조건에 관해서는, 산소 농도가 0.1 부피% 이하인 대기 중에서 질소로 퍼징하면서 240 W/cm 의 공냉 메탈 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여, 600 mW/㎠ 의 방사 조도 및 400 mJ/㎠ 의 방사 에너지 강도로 자외선을 조사하였다.As to the drying conditions, the high refractive index layer was dried at 90 ° C. for 30 seconds; Regarding the UV curing conditions, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.1% by volume or less, a radiation intensity of 600 mW / cm 2 and Ultraviolet rays were irradiated at a radiation energy intensity of 400 mJ / cm 2.

경화 후의 고굴절률층의 굴절률은 1.905 이었고, 두께는 107 nm 이었다.The refractive index of the high refractive index layer after curing was 1.905, and the thickness was 107 nm.

건조 조건에 관해서, 상기 저굴절률층을 110 ℃ 에서 10 분간 건조시켰고; 자외선 경화 조건에 관해서는, 산소 농도가 0.01 부피% 이하인 대기 중에서 질소로 퍼징하면서 240 W/cm 의 공냉 메탈 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여, 120 mW/㎠ 의 방사 조도 및 480 mJ/㎠ 의 방사 에너지 강도로 자외선을 조사하였다.As to the drying conditions, the low refractive index layer was dried at 110 ° C. for 10 minutes; Regarding the UV curing conditions, using a 240 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen in an atmosphere having an oxygen concentration of 0.01% by volume or less, Ultraviolet rays were irradiated with a radiant energy intensity of 480 mJ / cm 2.

경화 후의 저굴절률층의 굴절률은 1.45 이었고, 두께는 85 nm 이었다.The refractive index of the low refractive index layer after curing was 1.45, and the thickness was 85 nm.

저굴절률층용 코팅 용액을 각각 (LLL-2) 내지 (LLL-53) 으로 교환한 것을 제외하고는, 상기 수득한 표본 301 의 제조에서와 동일하게 하여 표본 302 내지 353 을 제조하였다. 실시예 1 에 따른 비누화 처리 및 평가의 결과로서, 중굴절률층 및 고굴절률층을 제공함으로써 모든 표본들에서 반사가 크게 저하되었다. 본 발명에 따르면 저반사를 가지며 마커 잉크 와이핑 특성 및 내반흔성이 우수한 반사방지 필름이 수득되는 것이 명백하였다.Samples 302 to 353 were prepared in the same manner as in the preparation of Sample 301 obtained above, except that the coating solution for low refractive index layer was replaced with (LLL-2) to (LLL-53), respectively. As a result of the saponification treatment and evaluation according to Example 1, the reflection was greatly reduced in all samples by providing the medium refractive index layer and the high refractive index layer. According to the present invention, it was evident that an antireflection film having low reflection and excellent marker ink wiping characteristics and scar resistance was obtained.

또한, 고굴절률층 내의 전체 고형물을 기준으로 5 중량%의 양의 KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 제조의 실란 커플링제) 을 첨가하여 표본을 제조하고 이를 평가하였다. 그 결과, 히드록실기의 양이 20 몰% 를 초과하는 불소-함유 중합체를 사용한 경우에, 강벽 (steel wall) 마찰 저항성이 특히 향상되었다.In addition, samples were prepared and evaluated by adding KBM-5103 (a silane coupling agent manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.) in an amount of 5% by weight based on the total solids in the high refractive index layer. As a result, especially when the fluorine-containing polymer in which the amount of hydroxyl groups exceeds 20 mol% is used, the steel wall friction resistance is particularly improved.

[실시예 4]Example 4

(하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-4) 의 제조)(Production of Coating Solution for Hard Coat Layer (HCL-4))

DeSolite Z7404 (JSR Corporation 에서 제조된, 지르코니아 미세 입자 함유의 하드코팅 조성물 용액) 100 중량부, DPHA (Nippon Kayaku Co., Ltd. 제조의 UV 경화성 수지) 31 중량부, KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. 에서 제조한 실란 커플링제) 10 중량부, KE-P150 (Nippon Shokubai Co., Ltd. 에서 제조한 1.5 ㎛ 의 실리카 입자) 8.9 중량부, MXS-300 (Soken Chemical & Engineering Co., Ltd. 에서 제조한 3 ㎛-가교 PMMA 입자) 3.4 중량부, MEK 29 중량부 및 MIBK 13 중량부를 혼합조에 넣고 교반하여, 하드 코트층용 코팅 용액을 제조하였다.100 parts by weight of DeSolite Z7404 (hard coating composition solution containing zirconia fine particles manufactured by JSR Corporation), 31 parts by weight of DPHA (UV curable resin manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), KBM-5103 (Shin-Etsu Chemical 10 parts by weight of a silane coupling agent manufactured by Co., Ltd., 8.9 parts by weight of KE-P150 (1.5 μm of silica particles manufactured by Nippon Shokubai Co., Ltd.), MXS-300 (Soken Chemical & Engineering Co. 3 parts by weight of 3 μm-crosslinked PMMA particles), Ltd., 29 parts by weight of MEK and 13 parts by weight of MIBK were put into a mixing vessel and stirred to prepare a coating solution for a hard coat layer.

(반사방지 필름의 제조)(Preparation of antireflection film)

지지체로서, 트리아세틸 셀룰로오스 필름 (TD80U, Fuji Photo Film Co., Ltd. 제조) 을 감긴 상태에서 풀어 내고; 그 위에 바로, 운반 속도 10 m/분의 조건하에서 1 인치 당 라인수가 135 이고 깊이가 60 ㎛ 이고 직경이 50 mm 인 그라비어 패턴을 가진 마이크로그라비어 롤 (microgravure roll) 및 독터 블레이드 (doctor blade) 를 사용하여 상기한 하드 코트층용 코팅 용액을 코팅하고; 60 ℃ 에서 150 초간 건조한 후, 질소로 퍼징하면서 160 W/cm 의 공냉 메탈 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여 방사 조도가 400 mW/㎠ 이고 방사 에너지 강도가 250 mJ/㎠ 인 자외선으로 조사하여 상기 코팅층을 추가로 경화하여, 하드 코트층을 형성한 후, 이를 감았다. 경화 후의 하드 코트층의 두께가 4.0 ㎛ 이 되도록 그라비어 롤의 회전수를 조정하여 하드코팅 (401) 를 제조하였다. 이렇게 수득한 하드코팅 (401) 의 표면 거칠기는 Ra = 0.02 ㎛, PMS = 0.03 ㎛ 및 Rz = 0.25 ㎛ 이었다. (Ra (중심선 평균 거칠기), RMS (제곱 평균 표면 거칠기) 및 Rz (n-점 평균 거칠기) 는, Seiko Instruments Inc. 사 제조의 주사 탐침 현미경 시스템 SPI3800 으로 측정하였다)As a support, a triacetyl cellulose film (TD80U, manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was unwound in a wound state; Directly above it is used a microgravure roll and doctor blade with a gravure pattern of 135 lines per inch, depth of 60 μm and diameter of 50 mm under conditions of transport speed 10 m / min. Coating the coating solution for the hard coat layer; After drying at 60 ° C. for 150 seconds, using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen, the irradiance is 400 mW / cm 2 and the radiation energy intensity is 250 mJ / cm 2 The coating layer was further cured by irradiation with ultraviolet rays to form a hard coat layer, which was then wound. The hard coat 401 was manufactured by adjusting the rotation speed of the gravure roll so that the thickness of the hard-coat layer after hardening might be set to 4.0 micrometers. The surface roughness of the hard coat 401 thus obtained was Ra = 0.02 mu m, PMS = 0.03 mu m and Rz = 0.25 mu m. (Ra (center line average roughness), RMS (square average surface roughness) and Rz (n-point average roughness) were measured by the scanning probe microscope system SPI3800 manufactured by Seiko Instruments Inc.)

상기 하드코팅 (401) 상에, 실시예 1 의 저굴절률층을 코팅하여 제공하고, 생성된 반사방지 필름에 대하여 비누화 처리를 하고, 이를 실시예 1 에 따라 평가하였다. 그 결과, 본 발명에 따르면 저반사를 가지며 내반흔성 및 마커 잉크 와이핑 특성이 우수한 반사방지 필름이 수득된다는 것이 명백하였다.On the hard coat 401, a low refractive index layer of Example 1 was coated and provided, and the resulting antireflective film was saponified, and this was evaluated according to Example 1. As a result, it was evident that according to the present invention, an antireflective film having low reflection and excellent in scratch resistance and marker ink wiping characteristics was obtained.

[실시예 5]Example 5

(하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-5) 의 제조)(Production of Coating Solution for Hard Coat Layer (HCL-5))

MEK 40 질량부에, 시클로헥사논 15 질량부, 펜타에리트리톨 트리아크릴레이트 및 펜타에리트리톨 테트라아크릴레이트의 혼합물 (PET-30, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제품) 28 질량부, 디펜타에리트리톨 펜타아크릴레이트 및 디펜타에리트리톨 헥사아크릴레이트의 혼합물 (DPHA, Nippon Kayaku Co., Ltd. 제품) 12 질량부 및 응집 실리카 (2차 응집물 직경: 1.5 ㎛, 1차 입자 직경: 수십 nm, Nihon Silica Co., Ltd. 제품) 5 질량부, 광중합 개시제 (Irgacure 184, Ciba Specialty Chemicals 제품) 1 질량부, 광중합 개시제 (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals) 0.2 질량부 및 불소-기재 표면 개질제 (SP-13) 0.08 질량부를 교반하에 첨가하여 하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-5) 을 제조하였다.28 parts by mass of cyclohexanone, 15 parts by mass of cyclohexanone, a mixture of pentaerythritol triacrylate and pentaerythritol tetraacrylate (PET-30, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), dipentaerythritol 12 parts by mass of a mixture of pentaacrylate and dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA, manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.) and agglomerated silica (secondary aggregate diameter: 1.5 μm, primary particle diameter: tens of nm, Nihon Silica Co., Ltd.) 5 parts by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 184, manufactured by Ciba Specialty Chemicals) 1 part by mass, photopolymerization initiator (Irgacure 907, Ciba Specialty Chemicals) 0.2 parts by mass and fluorine-based surface modifier (SP-13) 0.08 mass part was added under stirring to prepare a coating solution for hard coat layer (HCL-5).

Figure 112006055903608-PAT00061
불소-기재 표면 개질제 SP-13:
Figure 112006055903608-PAT00061
Fluorine-Based Surface Modifiers SP-13:

Figure 112006055903608-PAT00062
Figure 112006055903608-PAT00062

(하드코팅 (501) 의 코팅)(Coating of Hard Coating 501)

80 ㎛-두께의 트리아세틸 셀룰로오스 필름 "TAC-TD80U" (Fuji Photo Film Co., Ltd. 제조) 을 감긴 상태에서 풀어 내고; 그 위에 바로, 운반 속도 30 m/분의 조건하에서 스로틀 다이 (throttle die) 가 장치된 코터를 사용하여 압출하여 상기한 하드 코트층용 코팅 용액 (HCL-5) 을 코팅하였다. 30 ℃ 에서 15 초간 건조하고, 그 후 90 ℃ 에서 20 초간 건조한 후, 질소로 퍼징하면서 160 W/cm 의 공냉 메탈 할라이드 램프 (Eyegraphics Co., Ltd. 제조) 를 사용하여 조사선량이 90 mJ/㎠ 인 자외선으로 조사하여 상기 코팅층을 경화하여, 눈부심 방지 특성이 부여된 두께 2.5 ㎛ 의 눈부심 방지층을 형성하였다. 상기 필름을 감아 하드코팅 (501) 를 수득하였다. 상기 하드코팅 (501) 의 표면 헤이즈 (surface haze) 는 6 이었고, 내부 헤이즈는 1 이었다.The 80 μm-thick triacetyl cellulose film “TAC-TD80U” (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was unwound in a wound state; Directly thereon, the coating solution for hard coat layer (HCL-5) was coated by extrusion using a coater equipped with a throttle die under conditions of a conveying speed of 30 m / min. After drying at 30 ° C. for 15 seconds, and then drying at 90 ° C. for 20 seconds, the irradiation dose is 90 mJ / cm 2 using a 160 W / cm air-cooled metal halide lamp (manufactured by Eyegraphics Co., Ltd.) while purging with nitrogen. Irradiation with phosphorus ultraviolet rays cured the coating layer, thereby forming an antiglare layer having a thickness of 2.5 μm to which antiglare characteristics were given. The film was wound up to obtain a hard coat 501. The surface haze of the hard coat 501 was 6 and the internal haze was 1.

PM980M (광중합 개시제, Wako Pure Chemical 제품) 0.5 질량부를 실시예 1 에서의 저굴절률층용 코팅 용액 LLL-51 및 LLL-53 에 첨가하여 저굴절률층용 코팅 용액을 제조하였다. 상기 하드코팅 (501) 상에, 이들 저굴절률층용 코팅 용액들을 코팅하였다. 코팅된 제품에 대하여 비누화 처리를 하고, 실시예 1 의 방법에 따라 평가하였다. 그 결과, 저반사를 나타내고 내반흔성 및 마커 잉크 와이핑 특성이 우수한 반사방지 필름의 수득이 재현되었다.0.5 parts by mass of PM980M (photopolymerization initiator, manufactured by Wako Pure Chemical) was added to the coating solutions LLL-51 and LLL-53 for the low refractive index layer in Example 1 to prepare a coating solution for the low refractive index layer. On the hard coating 501, coating solutions for these low refractive index layers were coated. The coated product was saponified and evaluated according to the method of Example 1. As a result, the production of an antireflection film showing low reflection and excellent in scratch resistance and marker ink wiping characteristics was reproduced.

[실시예 6]Example 6

<반사방지 필름이 제공된 편광판의 제조><Production of Polarizing Plate Provided with Antireflection Film>

연신된 폴리비닐 알콜 필름 상에 요오드를 흡착시켜 편광 필름을 제조하였다. 폴리비닐 알콜 기재의 접착제를 사용하여, 비누화 처리된 실시예 1 의 반사방지 필름을 상기 편광 필름의 한쪽 면에 부착시켜 상기 반사방지 필름의 지지체 (트리아세틸 셀룰로오스) 면이 편광 필름 면을 대하도록 하였다. 광학 보정층을 가진 시야각 확대 필름인, "WIDE VIEW FILM SA12B" (Fuji Photo Film Co., Ltd. 제조) 을 비누화 처리하고, 폴리비닐 알콜 기재의 접착제를 사용하여 상기 편광 필름의 다른 면에 부착시켰다. 이렇게 하여 편광판이 제조되었다. 이 편광판을 실시예 1 에 따라 평가하였다. 그 결과, 본 발명의 저굴절률층을 사용함으로써 동일한 효과가 수득되었다.Iodine was adsorbed onto the stretched polyvinyl alcohol film to prepare a polarizing film. Using an adhesive based on polyvinyl alcohol, the antireflective film of Example 1 subjected to saponification was attached to one side of the polarizing film such that the support (triacetyl cellulose) side of the antireflective film faced the polarizing film side. . "WIDE VIEW FILM SA12B" (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.), a viewing angle magnifying film with an optical correction layer, was saponified and adhered to the other side of the polarizing film using an adhesive based on polyvinyl alcohol. . In this way, a polarizing plate was produced. This polarizing plate was evaluated in accordance with Example 1. As a result, the same effect was obtained by using the low refractive index layer of this invention.

[실시예 7]Example 7

이렇게 제조된 본 발명의 편광판이 내장된 TN 방식의 투과형 액정 표시장치는 가시도 (visibility), 내반흔성 및 방오성이 우수함을 확인할 수 있었다.The TN-type transmissive liquid crystal display device having the polarizing plate of the present invention manufactured as described above was excellent in visibility, scar resistance and antifouling property.

[실시예 8]Example 8

실시예 2 의 반사방지 필름 표본을 접착제를 통해 유기 EL 표시장치의 표면 상의 유리 기판에 부착시켰다. 그 결과, 상기 유리 표면 상에서의 반사가 억제되어 고(高) 가시도의 표시장치가 수득되었다.The antireflective film sample of Example 2 was attached to the glass substrate on the surface of the organic EL display via an adhesive. As a result, reflection on the glass surface was suppressed to obtain a display device having high visibility.

본 출원은 2005 년 8 월 3 일 제출된 일본 특허 출원 JP 2005-225478 및 2006 년 4 월 14 일 제출된 일본 특허 출원 JP 2006-112368 을 기초로 하며, 이들은 마치 충분히 개시된 것과 동일하게 그 전문이 참조로서 본원에 포함된다.This application is based on Japanese Patent Application JP 2005-225478, filed August 3, 2005 and Japanese Patent Application JP 2006-112368, filed April 14, 2006, which are incorporated by reference in their entirety as if fully disclosed. It is incorporated herein by reference.

본 발명의 반사방지 필름은 충분한 반사방지 특성을 가짐에도, 내반흔성 및 방오성 모두 뛰어나다. 게다가, 본 발명의 반사방지 필름은, 저장 특성 및 경화 활성이 서로 양립가능하게 된 코팅 용액을 이용하여 제조되므로 생산 적응성이 높다. 나아가, 본 발명의 반사방지 필름이 제공된 영상 표시 장치 및 본 발명의 반사방지 필름을 이용한 편광판이 제공된 영상 표시 장치는 외부 광에 의한 반사 및 배경 반사가 덜하고 가시성은 매우 우수하다.Although the antireflection film of the present invention has sufficient antireflection properties, it is excellent in both scar resistance and antifouling property. In addition, the antireflective film of the present invention has high production adaptability since it is produced using a coating solution in which storage properties and curing activities are compatible with each other. Furthermore, the image display device provided with the antireflective film of the present invention and the image display device provided with the polarizing plate using the antireflective film of the present invention have less visibility and background reflection by external light and have excellent visibility.

Claims (27)

하기 성분들을 함유한 코팅 조성물을 코팅하여 제조되는 저굴절률층 및 지지체를 포함하는 반사방지 필름:An antireflection film comprising a low refractive index layer and a support prepared by coating a coating composition containing the following components: (A) 주쇄가 탄소 원자로만 이루어지고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 함유하며, 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하고, 단, 주쇄에 폴리실록산 구조를 가지지 않는, 불소-함유 중합체;(A) the main chain consists only of carbon atoms, contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit, and has a content of 20 moles of hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit Fluorine-containing polymers having a percentage exceeding%, but having no polysiloxane structure in the main chain; (B) 히드록실기와 반응할 수 있는 가교제; 및(B) a crosslinking agent capable of reacting with hydroxyl groups; And (C) 1 분자 내에 2 개 이상의 (메트)아크릴로일기를 함유한 화합물.(C) A compound containing two or more (meth) acryloyl groups in one molecule. 하기 성분들을 함유한 코팅 조성물을 코팅하여 제조되는 저굴절률층 및 지지체를 포함하는 반사방지 필름:An antireflection film comprising a low refractive index layer and a support prepared by coating a coating composition containing the following components: (A) 주쇄가 탄소 원자로만 이루어지고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 함유하며, 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하고, 단, 주쇄에 폴리실록산 구조를 가지지 않는, 불소-함유 중합체;(A) the main chain consists only of carbon atoms, contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit, and has a content of 20 moles of hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit Fluorine-containing polymers having a percentage exceeding%, but having no polysiloxane structure in the main chain; (B) 히드록실기와 반응할 수 있는 가교제; 및(B) a crosslinking agent capable of reacting with hydroxyl groups; And (D) 유기실란 화합물, 또는 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및 상기 유기실란 화합물의 부분 축합물 둘 중 하나 이상을 함유한 조성물.(D) A composition containing at least one of an organosilane compound or a hydrolyzate of the organosilane compound and a partial condensate of the organosilane compound. 하기 성분들을 함유한 코팅 조성물을 코팅하여 제조되는 저굴절률층 및 지지체를 포함하는 반사방지 필름:An antireflection film comprising a low refractive index layer and a support prepared by coating a coating composition containing the following components: (A) 주쇄가 탄소 원자로만 이루어지고, 하나 이상의 불소-함유 비닐 단량체 중합 단위 및 하나 이상의 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위를 함유하며, 히드록실기-함유 비닐 단량체 중합 단위의 함량이 20 몰% 를 초과하고, 단, 주쇄에 폴리실록산 구조를 가지지 않는, 불소-함유 중합체;(A) the main chain consists only of carbon atoms, contains at least one fluorine-containing vinyl monomer polymerized unit and at least one hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit, and has a content of 20 moles of hydroxyl group-containing vinyl monomer polymerized unit Fluorine-containing polymers having a percentage exceeding%, but having no polysiloxane structure in the main chain; (B) 히드록실기와 반응할 수 있는 가교제; 및(B) a crosslinking agent capable of reacting with hydroxyl groups; And (E) 입자 크기가 1 nm 이상 100 nm 이하인 무기 입자.(E) Inorganic particles having a particle size of 1 nm or more and 100 nm or less. 제 1 항에 있어서, 코팅 조성물이 하기 성분을 추가로 함유하는 반사방지 필름:The antireflective film of claim 1, wherein the coating composition further comprises: (E) 입자 크기가 1 nm 이상 100 nm 이하인 무기 입자.(E) Inorganic particles having a particle size of 1 nm or more and 100 nm or less. 제 2 항에 있어서, 코팅 조성물이 하기 성분을 추가로 함유하는 반사방지 필름:The antireflective film of claim 2 wherein the coating composition further comprises: (E) 입자 크기가 1 nm 이상 100 nm 이하인 무기 입자.(E) Inorganic particles having a particle size of 1 nm or more and 100 nm or less. 제 1 항에 있어서, 불소-함유 중합체가, 측쇄에 하기 화학식 (1) 로 표시되는 폴리실록산 반복 단위를 함유한 그래프트 부위 (graft site) 를 갖는 하나 이상 의 중합 단위를 포함하는 반사방지 필름:The antireflection film according to claim 1, wherein the fluorine-containing polymer comprises at least one polymerized unit having a graft site in the side chain containing a polysiloxane repeating unit represented by the following general formula (1):
Figure 112006055903608-PAT00063
Figure 112006055903608-PAT00063
{식 중, R1 및 R2 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 알킬기 또는 아릴기를 나타내고; p 는 10 ~ 500 의 정수를 나타낸다}.Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each represents an alkyl group or an aryl group; p represents an integer of 10 to 500}.
제 2 항에 있어서, 불소-함유 중합체가, 측쇄에 하기 화학식 (1) 로 표시되는 폴리실록산 반복 단위를 함유한 그래프트 부위를 갖는 하나 이상의 중합 단위를 포함하는 반사방지 필름:The antireflection film according to claim 2, wherein the fluorine-containing polymer comprises at least one polymerized unit having a graft moiety containing in the side chain a polysiloxane repeating unit represented by the following general formula (1):
Figure 112006055903608-PAT00064
Figure 112006055903608-PAT00064
{식 중, R1 및 R2 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 알킬기 또는 아릴기를 나타내고; p 는 10 ~ 500 의 정수를 나타낸다}.Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each represents an alkyl group or an aryl group; p represents an integer of 10 to 500}.
제 1 항에 있어서, 불소-함유 중합체가, 측쇄에 하기 화학식 (3) 으로 표시 되는 폴리실록산 반복 단위를 함유한 그래프트 부위를 갖는 하나 이상의 중합 단위를 포함하는 반사방지 필름:The antireflection film according to claim 1, wherein the fluorine-containing polymer comprises at least one polymerized unit having a graft moiety containing a polysiloxane repeating unit represented by the following general formula (3) in a side chain:
Figure 112006055903608-PAT00065
Figure 112006055903608-PAT00065
{식 중, R1 및 R2 는 동일 또는 상이할 수 있고, 각각 알킬기 또는 아릴기를 나타내고; p 는 10 ~ 500 의 정수를 나타낸다}.Wherein R 1 and R 2 may be the same or different and each represents an alkyl group or an aryl group; p represents an integer of 10 to 500}.
제 1 항에 있어서, 코팅 조성물이 하기 성분을 추가로 함유하는 반사방지 필름:The antireflective film of claim 1, wherein the coating composition further comprises: (F) 히드록실기 또는 히드록실기와 반응하여 결합을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 폴리실록산 화합물.(F) A polysiloxane compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group or a hydroxyl group to form a bond. 제 2 항에 있어서, 코팅 조성물이 하기 성분을 추가로 함유하는 반사방지 필름:The antireflective film of claim 2 wherein the coating composition further comprises: (F) 히드록실기 또는 히드록실기와 반응하여 결합을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 폴리실록산 화합물.(F) A polysiloxane compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group or a hydroxyl group to form a bond. 제 3 항에 있어서, 코팅 조성물이 하기 성분을 추가로 함유하는 반사방지 필름:The antireflective film of claim 3, wherein the coating composition further comprises: (F) 히드록실기 또는 히드록실기와 반응하여 결합을 형성할 수 있는 관능기를 갖는 폴리실록산 화합물.(F) A polysiloxane compound having a functional group capable of reacting with a hydroxyl group or a hydroxyl group to form a bond. 제 1 항에 있어서, 코팅 조성물이, 짝산의 pKa 가 5.0 내지 10.5 인 유기 염기 및 산을 포함하는 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필름.The antireflective film of claim 1, wherein the coating composition further comprises at least one salt comprising an acid and an organic base having a pKa of 5.0 to 10.5 of the conjugate acid. 제 2 항에 있어서, 코팅 조성물이, 짝산의 pKa 가 5.0 내지 10.5 인 유기 염기 및 산을 포함하는 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필름.The antireflective film of claim 2, wherein the coating composition further comprises one or more salts comprising an acid and an organic base having a pKa of 5.0 to 10.5 of the conjugate acid. 제 3 항에 있어서, 코팅 조성물이, 짝산의 pKa 가 5.0 내지 10.5 인 유기 염기 및 산을 포함하는 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필름.4. The antireflective film of claim 3, wherein the coating composition further comprises at least one salt comprising an acid and an organic base having a pKa of 5.0 to 10.5 of the conjugate acid. 제 1 항에 있어서, 코팅 조성물이, 비점이 35℃ 이상 및 85℃ 이하인 질소-함유 유기 염기 및 산을 포함하는 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필름.The antireflective film of claim 1, wherein the coating composition further comprises at least one salt comprising a nitrogen-containing organic base and an acid having a boiling point of at least 35 ° C and at most 85 ° C. 제 2 항에 있어서, 코팅 조성물이, 비점이 35℃ 이상 및 85℃ 이하인 질소-함유 유기 염기 및 산을 포함하는 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필 름.3. The antireflective film of claim 2, wherein the coating composition further comprises at least one salt comprising a nitrogen-containing organic base and an acid having a boiling point of at least 35 ° C and at most 85 ° C. 제 3 항에 있어서, 코팅 조성물이, 비점이 35℃ 이상 및 85℃ 이하인 질소-함유 유기 염기 및 산을 포함하는 하나 이상의 염을 추가로 함유하는 반사방지 필름.The antireflective film of claim 3, wherein the coating composition further comprises at least one salt comprising a nitrogen-containing organic base and an acid having a boiling point of at least 35 ° C and at most 85 ° C. 제 3 항에 있어서, 무기 입자가 중공 실리카 (hollow silica) 입자인 반사방지 필름.4. The antireflective film of claim 3, wherein the inorganic particles are hollow silica particles. 제 1 항에 있어서, 지지체와 저굴절률층 사이에 저굴절률층 보다 굴절률이 큰 하나 이상의 층을 추가로 가지며, 상기 하나 이상의 층이 유기실란 화합물, 또는 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및 상기 유기실란 화합물의 부분 축합물 둘 중 하나 이상을 함유하는 조성물을 함유하는 반사방지 필름.The method according to claim 1, further comprising at least one layer having a refractive index greater than that of the low refractive index layer between the support and the low refractive index layer, wherein the at least one layer is an organosilane compound, or a hydrolyzate of the organosilane compound and the organosilane compound. An antireflective film containing a composition containing at least one of two partial condensates. 제 2 항에 있어서, 지지체와 저굴절률층 사이에 저굴절률층 보다 굴절률이 큰 하나 이상의 층을 추가로 가지며, 상기 하나 이상의 층이 유기실란 화합물, 또는 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및 상기 유기실란 화합물의 부분 축합물 둘 중 하나 이상을 함유하는 조성물을 함유하는 반사방지 필름.The method according to claim 2, further comprising at least one layer having a refractive index greater than the low refractive index layer between the support and the low refractive index layer, wherein the at least one layer is an organosilane compound, or a hydrolyzate of the organosilane compound and the organosilane compound. An antireflective film containing a composition containing at least one of two partial condensates. 제 3 항에 있어서, 지지체와 저굴절률층 사이에 저굴절률층 보다 굴절률이 큰 하나 이상의 층을 추가로 가지며, 상기 하나 이상의 층이 유기실란 화합물, 또는 상기 유기실란 화합물의 가수분해물 및 상기 유기실란 화합물의 부분 축합물 둘 중 하나 이상을 함유하는 조성물을 함유하는 반사방지 필름.4. The organic silane compound according to claim 3, further comprising at least one layer having a refractive index greater than that of the low refractive index layer between the support and the low refractive index layer, wherein the at least one layer is an organosilane compound or a hydrolyzate of the organosilane compound and the organosilane compound. An antireflective film containing a composition containing at least one of two partial condensates. 제 1 항에 청구된 바와 같은 반사방지 필름 및 편광 필름을 포함하는 편광판으로서, 상기 반사방지 필름이 편광판 내에 편광 필름용의 2 개의 보호 필름 중 하나로서 제공되는 편광판.A polarizing plate comprising an antireflective film and a polarizing film as claimed in claim 1, wherein the antireflective film is provided in the polarizing plate as one of two protective films for the polarizing film. 제 2 항에 청구된 바와 같은 반사방지 필름 및 편광 필름을 포함하는 편광판으로서, 상기 반사방지 필름이 편광판 내에 편광 필름용의 2 개의 보호 필름 중 하나로서 제공되는 편광판.A polarizing plate comprising an antireflective film and a polarizing film as claimed in claim 2, wherein the antireflective film is provided in the polarizing plate as one of two protective films for the polarizing film. 제 3 항에 청구된 바와 같은 반사방지 필름 및 편광 필름을 포함하는 편광판으로서, 상기 반사방지 필름이 편광판 내에 편광 필름용의 2 개의 보호 필름 중 하나로서 제공되는 편광판.A polarizing plate comprising an antireflective film and a polarizing film as claimed in claim 3, wherein the antireflective film is provided in the polarizing plate as one of two protective films for the polarizing film. 제 1 항에 청구된 바와 같은 반사방지 필름을 포함하는 영상 표시 장치로서, 상기 반사방지 필름이 디스플레이의 최외 표면에 제공되는 영상 표시 장치.An image display device comprising an antireflection film as claimed in claim 1, wherein the antireflection film is provided on the outermost surface of the display. 제 2 항에 청구된 바와 같은 반사방지 필름을 포함하는 영상 표시 장치로서, 상기 반사방지 필름이 디스플레이의 최외 표면에 제공되는 영상 표시 장치.An image display device comprising an antireflection film as claimed in claim 2, wherein the antireflection film is provided on the outermost surface of the display. 제 3 항에 청구된 바와 같은 반사방지 필름을 포함하는 영상 표시 장치로서, 상기 반사방지 필름이 디스플레이의 최외 표면에 제공되는 영상 표시 장치.An image display device comprising an antireflection film as claimed in claim 3, wherein the antireflection film is provided on the outermost surface of the display.
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