KR100911825B1 - Liquid crystal display polarizer and method for fabricating thereof - Google Patents

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Abstract

본 발명은 액정표시장치의 편광판 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 외부광 반사율을 최소로 하면서, 제조 비용을 줄인 액정표시장치용 편광판 및 그 제조방법을 개시한다. 개시된 본 발명의 액정표시장치용 편광판은, 광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름; 상기 편광필름 상하측에 각각 부착된 제 1, 2 지지체; 및 상기 제 1 또는 제 2 지지체에 다수개의 기공들이 형성된 저반사막을 포함한다.The present invention relates to a method for manufacturing a polarizing plate of a liquid crystal display device, and more particularly, to a liquid crystal display device polarizing plate and a method of manufacturing the same, which minimizes external light reflectance and reduces manufacturing costs. The disclosed polarizing plate for a liquid crystal display device includes a polarizing film for polarizing light in a predetermined direction; First and second supports attached to upper and lower sides of the polarizing film, respectively; And a low reflection film having a plurality of pores formed in the first or second support.

본 발명은 편광판 일측면 상에 다수개의 기공을 갖는 저반사막을 형성하여, 저반사율과 눈부심 방지를 구현할 수 있는 효과가 있다.The present invention is to form a low reflection film having a plurality of pores on one side of the polarizing plate, there is an effect that can implement a low reflectance and anti-glare.

편광판, PVA, 지지체, 기공, 저반사, AG Polarizer, PVA, Support, Pore, Low Reflection, AG

Description

액정표시장치용 편광판 및 그 제조 방법{LIQUID CRYSTAL DISPLAY POLARIZER AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}Polarizing plate for liquid crystal display device and its manufacturing method {LIQUID CRYSTAL DISPLAY POLARIZER AND METHOD FOR FABRICATING THEREOF}

도 1은 종래 기술에 따른 편광판 구조를 도시한 도면이다.1 is a view showing a polarizing plate structure according to the prior art.

도 2는 본 발명에서 적용되는 저반사율 구현 원리를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the principle of low reflectivity applied in the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 편광판 구조를 도시한 도면이다.3 is a view showing a polarizing plate structure according to the present invention.

도 4는 상기 도 3의 저반사막의 표면 구조를 도시한 도면이다.4 is a view showing the surface structure of the low reflection film of FIG.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 편광판 제조 공정을 도시한 도면이다.5A to 5C are views illustrating a polarizing plate manufacturing process according to the present invention.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 편광판 구조를 도시한 도면이다.6 is a view illustrating a polarizing plate structure according to another embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 편광판 제조 공정을 도시한 도면이다.7A to 7C are views illustrating a polarizing plate manufacturing process according to another embodiment of the present invention.

*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *

113: PVA 111a: 제 1 지지체113: PVA 111a: first support

111b: 제 2 지지체 120: 저반사막111b: second support 120: low reflection film

230: AG층230: AG layer

본 발명은 액정표시장치의 편광판 제조방법에 관한 것으로, 보다 구체적으로는 외부광 반사율을 최소로 하면서, 제조 비용을 줄인 액정표시장치용 편광판 및 그 제조방법에 관한 것이다.The present invention relates to a method of manufacturing a polarizing plate of a liquid crystal display device, and more particularly, to a polarizing plate for a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which minimizes external light reflectance and reduces manufacturing costs.

최근 액정표시장치가 광범위하게 산업에 이용됨에 따라 여기에 사용되는 박막(Thin-film) 상의 편광판이 이미 상품화되어 있다. 박막 편광판(Polarizing Plastic Thin Film)은 액정표시장치(Liquid Crystal Displays :이하 LCD라 한다)를 사용하는 손목 시계, 전자수첩, 노트북 컴퓨터 켐코더 등의 화상 표시장치나 선글라스(Sun glass)와 같이 편광을 요구하는 분야에서 광범위하게 이용되고 있다.Recently, as liquid crystal displays have been widely used in industry, polarizing plates on thin-films used for them have already been commercialized. Polarizing Plastic Thin Films require polarization such as sunglasses (sun glass) or display devices such as wrist watches, electronic notebooks, notebook computer camcorders, etc., which use liquid crystal displays (hereinafter referred to as LCDs). It is widely used in the field.

이 편광판은 그 용도상 편광 성능을 유지하면서 두께가 얇을수록 유용하고, 그 특성상 고도의 광투과성과 자외선 흡수성, 내수성, 치수 안정성, 내마모성(내스크래치성) 등을 고루 갖출 것이 요구되는 기술 집약형 제품이다.This polarizing plate is useful for the thinner thickness while maintaining polarization performance for its purpose, and it is a technology-intensive product that requires high light transmittance, ultraviolet absorbency, water resistance, dimensional stability, and abrasion resistance (scratch resistance). .

도 1은 종래 기술에 따른 편광판 구조를 도시한 도면이다.1 is a view showing a polarizing plate structure according to the prior art.

도 1에 도시한 바와 같이, LCD에서 사용되는 편광판은 요오드(Iodine)나 이색성 유기염료로 처리한 편광성 폴리비닐알콜(Poly Vinyl Achohol)인 PVA(13)에 제 1 지지체(11a)와 제 2 지지체(11b)가 부착되어 있다. 상기 제 1, 2 지지체(11a, 11b)는 트리아세틸셀룰로스(TAC)로 형성한다.As shown in FIG. 1, the polarizing plate used in the LCD includes a first support 11a and a first support 11a and a PVA 13 which is a polarizing polyvinyl alcohol treated with iodine or a dichroic organic dye. 2 support body 11b is attached. The first and second supports 11a and 11b are formed of triacetyl cellulose (TAC).

또한, 액정표시장치의 편광판 중에서 컬러필터기판 상에 부착되는 편광판(분해자)은 외부 광에 의한 눈부심 발생을 방지하기 위해 AG(Anti-Grare)층을 형성 한다. 상기 AG층은 SiO2 계열의 물질로된 굴곡 입자(15)를 바인더(binder:14)에 혼합하여 형성한다. 상기 굴곡 입자(15)는 상기 바인더(14) 표면에 일정한 표면 굴곡을 형성하기 위해 사용된다.In addition, the polarizer (decomposer) attached to the color filter substrate of the polarizing plate of the liquid crystal display device forms an anti-glare (AG) layer in order to prevent glare caused by external light. The AG layer is formed by mixing the curved particles 15 made of SiO 2 material into a binder 14. The curved particles 15 are used to form constant surface curvatures on the binder 14 surface.

그러나, 상기와 같은 구조를 갖는 편광판은 AG층을 편광판의 지지체 상에 형성하지 않으면 외부광에 의해 눈부심이 심하게 발생되고, AG층을 형성하면 AG층에서 굴곡 입자에 의해 형성되는 부분이 렌즈 효과를 발생시켜 백라이트 유닛으로부터 발생되는 내부광의 광로차를 유발시켜 화면 품위를 저하시킨다.However, in the polarizing plate having the above structure, glare is severely generated by external light unless the AG layer is formed on the support of the polarizing plate, and when the AG layer is formed, the portion formed by the curved particles in the AG layer has a lens effect. It causes the optical path difference of the internal light generated from the backlight unit to reduce the screen quality.

본 발명은, 편광판 일측면 상에 다수개의 기공을 갖는 저반사막을 형성하여, 반사율이 낮은 액정표시장치용 편광판 및 그 제조방법을 제공함에 그 목적이 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a polarizing plate for a liquid crystal display device having a low reflectance and a method of manufacturing the same by forming a low reflection film having a plurality of pores on one side of the polarizing plate.

또한, 본 발명은 AG층이 형성된 편광판 상에 다수개의 기공을 갖는 저반사막을 형성하여, 저반사율과 눈부심 방지를 할 수 있는 액정표시장치용 편광판 및 그 제조방법을 제공함에 다른 목적이 있다.Another object of the present invention is to provide a polarizing plate for a liquid crystal display device and a method of manufacturing the same, which form a low reflection film having a plurality of pores on a polarizing plate on which an AG layer is formed, thereby preventing low reflectivity and glare.

상기한 목적을 달성하기 위한, 본 발명에 따른 액정표시장치용 편광판은,In order to achieve the above object, a polarizing plate for a liquid crystal display device according to the present invention,

광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름;Polarizing film for polarizing light in a predetermined direction;

상기 편광필름 상하측에 각각 부착된 제 1, 2 지지체; 및First and second supports attached to upper and lower sides of the polarizing film, respectively; And

상기 제 1 또는 제 2 지지체에 다수개의 기공들이 형성된 저반사막을 포함한다.It includes a low reflection film formed with a plurality of pores in the first or second support.

본 발명의 다른 실시예에 의한 액정표시장치용 편광판은,Polarizing plate for a liquid crystal display device according to another embodiment of the present invention,

광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름;Polarizing film for polarizing light in a predetermined direction;

상기 편광필름 상하측에 각각 부착된 제 1, 2 지지체;First and second supports attached to upper and lower sides of the polarizing film, respectively;

상기 제 1 또는 제 2 지지체에 눈부심 방지를 위해 형성된 AG층; 및An AG layer formed on the first or second support to prevent glare; And

상기 AG층 상에 다수개의 기공들이 형성된 저반사막을 포함한다.It includes a low reflection film formed with a plurality of pores on the AG layer.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 편광판 제조방법은,According to another embodiment of the present invention, a method of manufacturing a polarizing plate for a liquid crystal display device may include

광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름의 상하측에 각각 제 1, 2 지지체를 형성하는 단계;Forming first and second supports on upper and lower sides of the polarizing film for polarizing light in a predetermined direction;

상기 제 1 또는 제 2 지지체 상에 저반사 코팅막을 형성하는 단계; 및Forming a low reflection coating film on the first or second support; And

상기 저반사 코팅막이 형성된 편광필름 상부에 자외선 조사 공정을 진행하여 저반사막을 형성하는 단계를 포함한다.And forming a low reflection film by performing an ultraviolet irradiation process on the polarizing film on which the low reflection coating film is formed.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 액정표시장치용 편광판 제조방법은,According to another embodiment of the present invention, a method of manufacturing a polarizing plate for a liquid crystal display device may include

광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름의 상하측에 각각 제 1, 2 지지체를 형성하는 단계;Forming first and second supports on upper and lower sides of the polarizing film for polarizing light in a predetermined direction;

상기 제 1 또는 제 2 지지체 상에 눈부심 방지를 위한 AG층을 형성하는 단계;Forming an AG layer on the first or second support to prevent glare;

상기 AG층 상에 저반사 코팅막을 형성하는 단계; 및Forming a low reflection coating film on the AG layer; And

상기 저반사 코팅막이 형성된 편광필름 상부에 자외선 조사 공정을 진행하여 저반사막을 형성하는 단계를 포함한다.And forming a low reflection film by performing an ultraviolet irradiation process on the polarizing film on which the low reflection coating film is formed.

본 발명에 의하면, 편광판 일측면 상에 다수개의 기공을 갖는 저반사막을 형 성하여, 편광판의 반사율을 최소화한 이점이 있다.According to the present invention, by forming a low reflection film having a plurality of pores on one side of the polarizing plate, there is an advantage of minimizing the reflectance of the polarizing plate.

또한, 본 발명은 AG층이 형성된 편광판 상에 다수개의 기공을 갖는 저반사막을 형성하여, 저반사율과 눈부심 방지를 할 수 있다.In addition, the present invention can form a low reflection film having a plurality of pores on the polarizing plate on which the AG layer is formed, it is possible to prevent low reflectivity and glare.

이하, 첨부한 도면에 의거하여 본 발명의 실시 예를 자세히 설명하도록 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 2a 및 도 2b는 본 발명에서 적용되는 저반사율 구현 원리를 설명하기 위한 도면이다.2A and 2B are diagrams for explaining a principle of implementing low reflectance applied in the present invention.

도 2a 및 도 2b에 도시된 바와 같이, 굴절율 n1, n2, n3를 갖는 매질이 순차적으로 적층되어 있을 때, 굴절율 n2의 매질에서 반사되는 광(A)과 굴절율 n3의 매질에서 반사되는 광(B)은 소정의 위상차를 갖는다.As shown in FIGS. 2A and 2B, when the media having the refractive indices n 1 , n 2 , n 3 are sequentially stacked, the light A reflected from the media having the refractive indices n 2 and the medium having the refractive indices n 3 The reflected light B has a predetermined phase difference.

굴절율 n2가 저반사막인 경우에는 도 2b에 도시된 바와 같이, 굴절율 n2 매질에서 반사되는 광(A)과 굴절율 n3 매질에서 반사되는 광(B)이 서로 180°위상차를 갖게 되어 서로 상쇄 간섭이 일어난다. 따라서, 눈부심이 줄어들고, 반사율을 낮출 수 있다.When the refractive index n 2 is a low reflection film, as shown in FIG. 2B, the light A reflected by the refractive index n 2 medium and the light B reflected by the refractive index n 3 medium have a 180 ° phase difference with each other to cancel each other. Interference occurs. Thus, glare can be reduced and the reflectance can be lowered.

상쇄간섭 조건은 다음과 갖는다.The offset interference condition is as follows.

첫째, 진폭 조건은

Figure 112007024334568-pat00001
,
Figure 112007024334568-pat00002
First, the amplitude condition
Figure 112007024334568-pat00001
,
Figure 112007024334568-pat00002

둘째, 위상 조건은

Figure 112007024334568-pat00003
이다. 여기서, d는 굴절율 n2 의 두께이다.Second, the phase condition
Figure 112007024334568-pat00003
to be. Here, d is the thickness of the refractive index n 2 .

보통 진폭 조건을 만족시키기 위한 저반사막(n2)의 굴절율은 1.22 수준이지만, 그 경우 코팅막의 강도가 현저히 떨어지기 때문에 통상적으로 1.4 정도의 굴절율을 사용한다.Usually, the refractive index of the low reflection film n 2 to satisfy the amplitude condition is 1.22 level, but in this case, since the strength of the coating film is significantly decreased, a refractive index of about 1.4 is usually used.

또한, 반사율(R)에 대한 수식은 다음과 같다.In addition, the formula for the reflectance (R) is as follows.

Figure 112007024334568-pat00004
Figure 112007024334568-pat00004

여기서,

Figure 112007024334568-pat00005
이고, h는 저반사막의 두께이고, θ는 광입사각을 나타낸다.here,
Figure 112007024334568-pat00005
Where h is the thickness of the low reflection film and? Represents the light incidence angle.

따라서, 저반사막의 두께를 조절함으로써, 반사율을 조절할 수 있다.Therefore, the reflectance can be adjusted by adjusting the thickness of the low reflection film.

본 발명에서는 상기의 두께 조절과 저반사막에 다수개의 기공을 형성함으로 써, 편광판 일측면 또는 양측면에 저반사막을 형성하여 외부광 또는 내부광(백라이트 유닛 광원)에 의한 반사율을 최소화시켰다.In the present invention, by forming a plurality of pores in the thickness control and the low reflection film, a low reflection film is formed on one side or both sides of the polarizing plate to minimize reflectance by external light or internal light (backlight unit light source).

도 3은 본 발명에 따른 편광판 구조를 도시한 도면이다.3 is a view showing a polarizing plate structure according to the present invention.

도 3에 도시된 바와 같이, 본 발명은 광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름 기능을 담당하는 PVA(113)의 양측에 각각 제 1, 2 지지체(111a, 111b)가 형성되어 있다. 그리고 상기 제 1, 2 지지체(111a, 111b)는 트리아세틸셀룰로스(TAC)로 형성한다.As shown in FIG. 3, in the present invention, first and second supports 111a and 111b are formed on both sides of the PVA 113 which is in charge of the polarizing film function to polarize light in a predetermined direction. The first and second supports 111a and 111b are formed of triacetyl cellulose (TAC).

상기 제 1 지지체(111a) 상에는 수십 나노 크기의 기공이 형성된 저반사막(120)이 형성되어 있다. A low reflection film 120 having pores of several tens of nanometers in size is formed on the first support 111a.

따라서, 도 2a와 도 2b에서 설명한 원리에 의해 외부 광원 중 저반사막(120)에서 반사된 광과 PVA(113) 상에서 반사된 광이 서로 상쇄 간섭을 일으켜 반사율을 최소화 시켰다.Therefore, according to the principles described with reference to FIGS. 2A and 2B, the light reflected from the low reflection film 120 among the external light sources and the light reflected on the PVA 113 cause mutual interference, thereby minimizing reflectance.

일반적으로 저반사층을 형성하기 위해 저굴절율을 갖는 Fluorocompound 성분을 사용하였으나, Fluorocompound 성분은 내스크래치성이 취약하여 굴절율을 1.4 이하로 형성하는데는 한계가 있다. 또한, Fluorocompound 성분은 가격이 높은 단점이 있다.In general, although a Fluorocompound component having a low refractive index is used to form a low reflection layer, the Fluorocompound component is weak in scratch resistance and thus has a limitation in forming a refractive index of 1.4 or less. In addition, Fluorocompound component has a disadvantage of high price.

따라서, 본 발명에서는 내스크래치성을 개선하고, 굴절율 1.23 이하의 값을 갖는 폴리스타일렌(PS)-PMMA(Polymethly Methacrylate) 합성 폴리머를 사용하여 저반사막을 형성하였다. 즉, PMMA 폴리머가 자외선(UV) 조사에 의해 활성화된 O3 에 의해 분해되면서 수십 나노미터(10~90 nm) 크기의 기공을 다수개 만들어 입사되는 광이 반사되면서 상쇄 간섭이 일어날 수 있도록 하여 외부광 반사율을 줄였다.Therefore, in the present invention, scratch resistance was improved, and a low reflection film was formed using polystyrene (PS) -PMMA (Polymethly Methacrylate) synthetic polymer having a refractive index of 1.23 or less. In other words, the PMMA polymer is decomposed by O 3 activated by ultraviolet (UV) radiation, creating a plurality of tens of nanometers (10-90 nm) pores, and the incident light is reflected so that destructive interference can occur. Reduced light reflectance

또한, 도 2a 및 도 2b에서 설명한 바와 같이, 다수개의 기공들이 형성된 저반사막(120)의 두께를 조절하여 반사율을 조절할 수 있으므로, 저반사막(120)의 두께와 기공들의 형성으로 외부광의 반사율이 최소가 되도록 설계할 수 있다.In addition, as described with reference to FIGS. 2A and 2B, since the reflectance may be adjusted by adjusting the thickness of the low reflection film 120 in which the plurality of pores are formed, the reflectance of external light is minimized by the thickness of the low reflection film 120 and the formation of pores. It can be designed to be.

도 4는 상기 도 3의 저반사막의 표면 구조를 도시한 도면으로서, 저반사막(120) 상에 다수개의 기공(121)들이 형성되어 있음을 볼 수 있다. 기공(121)들의 직경은 첨가되는 PMMA의 농도에 따라 다양하게 조절이 가능하다. 예를 들어, PS 영역에 포함된 PMMA의 농도가 전체막의 위치에 따라 다르면 그 위치에 따라 각각 분해 정도가 달라 기공들의 직경이 상이해진다.4 illustrates the surface structure of the low reflection film of FIG. 3, and it can be seen that a plurality of pores 121 are formed on the low reflection film 120. The diameter of the pores 121 can be variously adjusted according to the concentration of the PMMA is added. For example, if the concentration of PMMA included in the PS region varies depending on the position of the entire membrane, the diameter of the pores is different because the degree of decomposition is different depending on the position.

도 5a 내지 도 5c는 본 발명에 따른 편광판 제조 공정을 도시한 도면이다.5A to 5C are views illustrating a polarizing plate manufacturing process according to the present invention.

도 5a 내지 도 5c에 도시한 바와 같이, PVA(113)의 전면과 배면에 각각 제 1 지지체(111a)와 제 2 지지체(111b)를 형성한 다음, 제 1 지지체(111a) 상에 저반사 코팅막(117)을 형성한다. 저반사 코팅막(117)은 PMMA(117a)와 PS(117b)의 합성 폴리머로 구성되어 있다.5A to 5C, the first support 111a and the second support 111b are formed on the front and rear surfaces of the PVA 113, respectively, and then a low reflection coating film is formed on the first support 111a. 117 is formed. The low reflection coating film 117 is made of a synthetic polymer of the PMMA 117a and the PS 117b.

즉, 일정한 솔벤트에 PS-co-PMMA 폴리머의 농도를 1~5wt%로 하고, PS-co-PMMA 폴리머에서 PMMA는 대략 0.5wt%~0.9wt%가 포함되도록 한다. 이때, 솔벤트는 Toluen, Benzene, Hexane 등을 포함한다.That is, the concentration of the PS-co-PMMA polymer in a certain solvent is 1 ~ 5wt%, PMMA in the PS-co-PMMA polymer is to include approximately 0.5wt% ~ 0.9wt%. At this time, the solvent includes Toluen, Benzene, Hexane and the like.

상기 저반사 코팅막(117)은 스핀 코팅 또는 잉크젯 코팅방식을 사용할 수 있다.The low reflection coating layer 117 may be spin coating or inkjet coating.

상기와 같이 저반사 코팅막(117)이 제 1 지지체(111a) 상에 형성되면, 자외선(UV)을 조사하여 PMMA를 분해시키는 공정을 진행한다. UV 조사 공정으로 활성화된 O3가 PS-co-PMMA 합성 폴리머중 PMMA를 분해하면서 저반사 코팅막(117)에 다수개의 기공들을 형성한다. 기공들의 직경은 수십 나노미터(10~90nm)이다.When the low reflection coating film 117 is formed on the first support 111a as described above, a process of decomposing PMMA by irradiating ultraviolet (UV) is performed. O 3 activated by the UV irradiation process decomposes PMMA in the PS-co-PMMA synthetic polymer to form a plurality of pores in the low reflection coating film 117. The diameter of the pores is tens of nanometers (10-90 nm).

도 5c에 도시된 바와 같이, UV 조사로 다수개의 기공을 형성하고, 열처리 공정으로 솔벤트를 제거하면 제 1 지지체(111a) 상에는 저반사막(120)이 형성된다.As shown in FIG. 5C, when the plurality of pores are formed by UV irradiation and the solvent is removed by the heat treatment process, the low reflection film 120 is formed on the first support 111a.

상기 저반사막(120)은 PS-co-PMMA 합성 폴리머로 형성되기 때문에 종래 Fluorocompound를 사용하는 것보다 가격이 저렴하고, 내스크래치성이 우수하다. 또한, 굴절율을 1.23 이하로 유지할 수 있어 저반사 특성을 구현할 수 있다.Since the low reflection film 120 is formed of a PS-co-PMMA synthetic polymer, it is cheaper than using a conventional Fluorocompound and has excellent scratch resistance. In addition, since the refractive index can be maintained at 1.23 or less, low reflection characteristics can be realized.

도 6은 본 발명의 다른 실시예에 따른 편광판 구조를 도시한 도면이다.6 is a view illustrating a polarizing plate structure according to another embodiment of the present invention.

도 6에 도시된 바와 같이, 본 발명의 다른 실시예에 의한 편광판은 PVA(213)의 양측에 각각 제 1, 2 지지체(211a, 211b)가 형성되어 있고, 상기 제 1 지지체(211a) 상에는 AG층(230)이 형성되어 있다. 상기 제 1, 2 지지체(211a, 211b)는 트리아세틸셀룰로스(TAC)로 형성하고, AG층(230)은 바인더(230a)에 표면 굴곡을 형성을 위해 다수개의 굴절입자(230b)를 포함한다. 굴절입자(230b)는 SiO2 물질을 사용한다.As shown in FIG. 6, in the polarizer according to another embodiment of the present invention, first and second supports 211a and 211b are formed on both sides of the PVA 213, respectively, and AG is formed on the first support 211a. Layer 230 is formed. The first and second supports 211a and 211b are formed of triacetyl cellulose (TAC), and the AG layer 230 includes a plurality of refractive particles 230b to form surface curvatures in the binder 230a. The refractive particles 230b use SiO 2 material.

또한, 본 발명에서는 상기 AG층(230) 상에 수십 나노 크기의 기공이 형성된 저반사막(220)이 형성되어 있다.In addition, in the present invention, a low reflection film 220 having pores of several tens of nano-sizes is formed on the AG layer 230.

따라서, 도 2a와 도 2b에서 설명한 원리에 의해 외부 광원중 저반사막(220) 에서 반사된 광과 PVA(213) 상에서 반사된 광이 서로 상쇄 간섭을 일으켜 반사율을 최소화 시킨다.Therefore, according to the principles described with reference to FIGS. 2A and 2B, the light reflected from the low reflection film 220 and the light reflected on the PVA 213 of the external light sources cause mutual interference, thereby minimizing the reflectance.

상기 저반사막(220)은 내스크래치성이 우수하고, 굴절율 1.23 이하의 값을 갖는 폴리스타일렌(PS)-PMMA(Polymethly Methacrylate) 합성 폴리머를 사용하여 형성된다. 그 형성 원리는 도 4의 설명을 참조한다.The low reflection film 220 is formed using a polystyrene (PS) -PMMA (Polymethly Methacrylate) synthetic polymer having excellent scratch resistance and having a refractive index of 1.23 or less. The formation principle thereof refers to the description of FIG. 4.

상기 저반사막(220)은 표면에 형성된 기공들 두께를 조절하여 외부광의 반사를 최소로 설계할 수 있다.The low reflection film 220 may be designed to minimize the reflection of external light by adjusting the thickness of the pores formed on the surface.

도 7a 내지 도 7c는 본 발명의 다른 실시예에 따른 편광판 제조 공정을 도시한 도면이다.7A to 7C are views illustrating a polarizing plate manufacturing process according to another embodiment of the present invention.

도 7a 내지 도 7c에 도시한 바와 같이, PVA(213)의 전면과 배면에 각각 제 1 지지체(211a)와 제 2 지지체(211b)를 형성한 다음, 제 1 지지체(211a) 상에는 AG층(230)이 형성되어 있다. AG층(230)은 바인더(230a)에 표면 굴곡을 형성하기 위해 다수개의 굴절입자(230b)를 혼합하여 형성한다. 굴절입자(230b)는 SiO2 물질을 사용한다.As shown in FIGS. 7A to 7C, a first support 211a and a second support 211b are formed on the front and rear surfaces of the PVA 213, respectively, and then the AG layer 230 is formed on the first support 211a. ) Is formed. The AG layer 230 is formed by mixing a plurality of refractive particles 230b to form surface curvatures in the binder 230a. The refractive particles 230b use SiO 2 material.

상기와 같이 AG층(230)이 형성되면, 도 7b에 도시한 바와 같이, AG층(230) 상에 PMMA(217a)와 PS(217b)의 합성 폴리머를 포함하는 저반사막(217)을 형성한다.When the AG layer 230 is formed as described above, as shown in FIG. 7B, a low reflection film 217 including a synthetic polymer of PMMA 217a and PS 217b is formed on the AG layer 230. .

상기 저반사막(217)은 일정한 솔벤트에 PS-co-PMMA 폴리머의 농도를 1~5wt%로 하고, PS-co-PMMA 폴리머에서 PMMA는 대략 0.5wt%~0.9wt%가 포함되도록 한다. 이때, 솔벤트는 Toluen, Benzene, Hexane 등을 사용한다.The low reflection film 217 is a concentration of 1 ~ 5wt% PS-co-PMMA polymer in a certain solvent, PMMA in the PS-co-PMMA polymer is to include about 0.5wt% ~ 0.9wt%. At this time, the solvent is Toluen, Benzene, Hexane and the like.

상기 저반사 코팅막(217)은 스핀 코팅 또는 잉크젯 코팅방식을 사용할 수 있다.The low reflection coating layer 217 may be spin coating or inkjet coating.

상기와 같이 저반사 코팅막(217)이 제 1 지지체(211a) 상에 형성되면, 도 7b 및 도 7c에 도시한 바와 같이, 저반사 코팅막(217)에 자외선(UV)을 조사하여 PMMA를 분해하는 공정을 진행한다. UV 조사 공정으로 활성화된 O3가 PS-co-PMMA 합성 폴리머중 PMMA를 분해되면서 저반사 코팅막(217)에 다수개의 기공들이 형성된다. 기공들의 직경은 수십 나노미터이다. 분해 정도에 따라 기공들의 직경은 각각 서로 다른 직경을 갖는다.When the low reflection coating film 217 is formed on the first support 211a as described above, as shown in FIGS. 7B and 7C, the low reflection coating film 217 is irradiated with ultraviolet rays (UV) to decompose the PMMA. Proceed with the process. As the O 3 activated by the UV irradiation process decomposes PMMA in the PS-co-PMMA synthetic polymer, a plurality of pores are formed in the low reflection coating film 217. The diameter of the pores is tens of nanometers. Depending on the degree of decomposition, the pores have different diameters.

그런 다음, 열처리 공정을 진행하면 솔벤트가 제거되어 AG층(230) 상에는 저반사막(220)이 형성된다.Then, as the heat treatment process proceeds, the solvent is removed to form a low reflection film 220 on the AG layer 230.

상기 저반사막(220)은 PS-co-PMMA 합성 폴리머로 형성되기 때문에 종래 Fluorocompound를 사용하는 것보다 가격이 저렴하고, 내스크래치성이 우수하다. 또한, 굴절율을 1.23 이하로 유지할 수 있어 저반사 특성을 구현할 수 있다.Since the low reflection film 220 is formed of a PS-co-PMMA synthetic polymer, it is cheaper than using a conventional Fluorocompound and has excellent scratch resistance. In addition, since the refractive index can be maintained at 1.23 or less, low reflection characteristics can be realized.

이상에서 자세히 설명된 바와 같이, 본 발명은 편광판 일측면 상에 다수개의 기공을 갖는 저반사막을 형성하여, 편광판의 반사율을 줄인 효과가 있다.As described in detail above, the present invention forms a low reflection film having a plurality of pores on one side of the polarizing plate, thereby reducing the reflectance of the polarizing plate.

또한, 본 발명은 AG층이 형성된 편광판 상에 다수개의 기공을 갖는 저반사막을 형성하여, 저반사율과 눈부심 방지를 구현할 수 있는 효과가 있다.In addition, the present invention by forming a low reflection film having a plurality of pores on the polarizing plate formed AG layer, there is an effect that can implement a low reflectance and anti-glare.

본 발명은 상기한 실시 예에 한정되지 않고, 이하 청구 범위에서 청구하는 본 발명의 요지를 벗어남이 없이 당해 발명이 속하는 분야에서 통상의 지식을 가진 자라면 누구든지 다양한 변경 실시가 가능할 것이다.The present invention is not limited to the above-described embodiments, and various changes can be made by those skilled in the art without departing from the gist of the present invention as claimed in the following claims.

Claims (18)

광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름;Polarizing film for polarizing light in a predetermined direction; 상기 편광필름 상하측에 각각 부착된 제 1, 2 지지체; 및First and second supports attached to upper and lower sides of the polarizing film, respectively; And 상기 제 1 또는 제 2 지지체 상에 형성되어 다수개의 기공들을 가지는 저반사막을 포함하는 액정표시장치용 편광판.And a low reflection film having a plurality of pores formed on the first or second support. 제 1 항에 있어서, 상기 저반사막은 폴리스타일렌(PS)을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판.The polarizing plate of claim 1, wherein the low reflection film comprises polystyrene (PS). 광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름;Polarizing film for polarizing light in a predetermined direction; 상기 편광필름 상하측에 각각 부착된 제 1, 2 지지체;First and second supports attached to upper and lower sides of the polarizing film, respectively; 상기 제 1 또는 제 2 지지체에 눈부심 방지를 위해 형성된 AG층; 및An AG layer formed on the first or second support to prevent glare; And 상기 AG층 상에 형성되어 다수개의 기공들을 가지는 저반사막을 포함하는 액정표시장치용 편광판.And a low reflection film formed on the AG layer and having a plurality of pores. 제 3 항에 있어서, 상기 저반사막은 폴리스타일렌(PS)을 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판.The polarizing plate for a liquid crystal display device of claim 3, wherein the low reflection film comprises polystyrene (PS). 광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름의 상하측에 각각 제 1, 2 지지체를 형성하는 단계;Forming first and second supports on upper and lower sides of the polarizing film for polarizing light in a predetermined direction; 상기 제 1 또는 제 2 지지체 상에 코팅막을 형성하는 단계; 및Forming a coating film on the first or second support; And 상기 코팅막이 형성된 편광필름 상부에 자외선 조사 공정을 진행하여 저반사막을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.A method of manufacturing a polarizing plate for a liquid crystal display device, comprising: forming a low reflection film by performing an ultraviolet irradiation process on the polarizing film on which the coating film is formed. 제 5 항에 있어서, 상기 코팅막은 폴리스타일렌(PS)-co-PMMA(Polymethly Methacrylate) 합성 폴리머와 솔벤트를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 5, wherein the coating layer comprises a polystyrene (PS) -co-PMMA (Polymethly Methacrylate) synthetic polymer and a solvent. 제 6 항에 있어서, 상기 PS-co-PMMA 합성 폴리머의 농도는 1~5wt%인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 6, wherein the PS-co-PMMA synthetic polymer has a concentration of 1 to 5 wt%. 제 6 항에 있어서, 상기 PS-co-PMMA 합성 폴리머에서 PMMA는 0.5wt%~0.9wt%인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 6, wherein the PMMA in the PS-co-PMMA synthetic polymer is 0.5 wt% to 0.9 wt%. 제 5 항에 있어서, 상기 코팅막은 스핀 코팅 또는 잉크젯 코팅 방식으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 5, wherein the coating layer is formed by spin coating or inkjet coating. 제 5 항에 있어서, 상기 자외선 조사 공정 후 열처리 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.6. The method of claim 5, further comprising a heat treatment step after the ultraviolet irradiation step. 제 5 항에 있어서, 상기 저반사막에는 다수개의 기공들이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 5, wherein a plurality of pores are formed in the low reflection film. 광을 일정방향으로 편광시키는 편광필름의 상하측에 각각 제 1, 2 지지체를 형성하는 단계;Forming first and second supports on upper and lower sides of the polarizing film for polarizing light in a predetermined direction; 상기 제 1 또는 제 2 지지체 상에 눈부심 방지를 위한 AG층을 형성하는 단계;Forming an AG layer on the first or second support to prevent glare; 상기 AG층 상에 코팅막을 형성하는 단계; 및Forming a coating film on the AG layer; And 상기 코팅막이 형성된 편광필름 상부에 자외선 조사 공정을 진행하여 저반사막을 형성하는 단계를 포함하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.A method of manufacturing a polarizing plate for a liquid crystal display device, comprising: forming a low reflection film by performing an ultraviolet irradiation process on the polarizing film on which the coating film is formed. 제 12 항에 있어서, 상기 코팅막은 폴리스타일렌(PS)-co-PMMA(Polymethly Methacrylate) 합성 폴리머와 솔벤트를 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 12, wherein the coating layer comprises a polystyrene (PS) -co-PMMA (Polymethly Methacrylate) synthetic polymer and a solvent. 제 13 항에 있어서, 상기 PS-co-PMMA 합성 폴리머의 농도는 1~5wt%인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 13, wherein the PS-co-PMMA synthetic polymer has a concentration of about 1 wt% to about 5 wt%. 제 14 항에 있어서, 상기 PS-co-PMMA 합성 폴리머에서 PMMA는 0.5%~0.9%인 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.15. The method of claim 14, wherein the PMMA in the PS-co-PMMA synthetic polymer is 0.5% to 0.9%. 제 12 항에 있어서, 상기 코팅막은 스핀 코팅 또는 잉크젯 코팅 방식으로 형성하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 12, wherein the coating layer is formed by spin coating or inkjet coating. 제 12 항에 있어서, 상기 자외선 조사 공정 후 열처리 공정을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.13. The method of claim 12, further comprising a heat treatment step after the ultraviolet irradiation step. 제 12 항에 있어서, 상기 저반사막에는 다수개의 기공들이 형성된 것을 특징으로 하는 액정표시장치용 편광판 제조방법.The method of claim 12, wherein a plurality of pores are formed in the low reflection film.
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