KR20070014474A - Mass slit assembly - Google Patents
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Abstract
Description
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 매스 슬릿 어셈블리의 구성을 개략적으로 도시한 구성도이다.1 is a configuration diagram schematically showing the configuration of a mass slit assembly according to an embodiment of the present invention.
도 2는 도 1에 도시된 매스 슬릿 어셈블리의 작동 및 작용을 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining the operation and operation of the mass slit assembly shown in FIG.
* 도면의 주요 부분에 대한 부호 설명 *Explanation of symbols on the main parts of the drawings
100 : 매스 슬릿 어셈블리100: mass slit assembly
110, 112, 114 : 매스 슬릿부, 제 1 매스 슬릿, 제 2 매스 슬릿110, 112, 114: mass slit portion, first mass slit, second mass slit
116, 116a, 116b : 샤프트부, 제 1 샤프트, 제 2 샤프트116, 116a, 116b: shaft portion, first shaft, second shaft
118 : 브라켓118: bracket
120 : 냉각수 공급원120: cooling water source
130, 132 : 냉각수 순환 라인, 냉각수 공급 라인 130, 132: cooling water circulation line, cooling water supply line
133, 134 : 냉각수 연결 라인, 냉각수 회수 라인133, 134: coolant connection line, coolant return line
140, 142, 144 : 누수 라인, 제 1 누수 라인, 제 2 누수 라인140, 142, 144: leaking line, 1st leaking line, 2nd leaking line
150, 152 : 감지부, 감지부 케이스150, 152: detector, detector case
본 발명은 이온 주입 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이온 주입 장치에 구비되는 매스 슬릿 어셈블리에 관한 것이다.The present invention relates to an ion implantation apparatus, and more particularly, to a mass slit assembly provided in the ion implantation apparatus.
반도체 재료에서의 가장 중요한 특성 중의 하나인 전기 전도율은 불순물을 첨가하여 조절한다. 반도체에 불순물을 첨가하는 방법에는 확산(diffusion)에 의한 방법과 이온 주입(ion implantation)에 의한 방법이 있다.Electrical conductivity, one of the most important properties in semiconductor materials, is controlled by the addition of impurities. As a method of adding impurities to a semiconductor, there are a method by diffusion and a method by ion implantation.
그 중 이온 주입 방법은 도핑(dopping)시키고자 하는 불순물 물질을 이온화 시킨 후 가속 시킴으로서, 높은 운동 에너지의 불순물 원자를 웨이퍼 표면에 강제 주입시키는 기술이다. 이러한 강제 물리적 주입 방식인 이온 주입은 열 확산 방법과 비교해 수평 방향으로의 입자 이동이 거의 없어 단위 셀 집적도 향상에 크게 유리하므로 불순물 주입 방식으로 널리 사용된다.The ion implantation method is a technique of forcibly implanting impurity atoms of high kinetic energy onto the wafer surface by ionizing and accelerating an impurity material to be doped. The ion implantation, which is such a forced physical implantation method, is widely used as an impurity implantation method because it has little particle movement in the horizontal direction compared to the thermal diffusion method, and thus greatly benefits the unit cell density.
이러한 역할을 하는 이온 주입 장치는 이온 빔을 발생하는 이온소스헤드, 원하는 질량의 이온 빔만이 통과되도록 하는 분류기, 분류기에서 선별된 이온을 원하는 깊이까지 웨이퍼에 주입할 수 있는 정도의 에너지로 가속하는 가속기, 이온빔이 반발력에 의해 퍼져나가는 것을 방지하는 집속기, 웨이퍼 상에 이온빔을 균일하게 분포하기 위해 이온빔의 진행 방향을 상하좌우로 이동시키는 주사기, 그리고 웨이퍼가 로딩되는 엔드 스테이션을 포함한다.An ion implanter that plays this role includes an ion source head that generates an ion beam, a classifier that allows only an ion beam of the desired mass to pass through, and an accelerator that accelerates the energy enough to inject the selected ions from the classifier into the wafer to the desired depth. It includes a concentrator that prevents the ion beam from being spread by the repulsive force, a syringe for moving the direction of the ion beam up, down, left, and right to uniformly distribute the ion beam on the wafer, and an end station on which the wafer is loaded.
통상적으로, 이온 주입 장치에서 널리 사용하는 이온 주입기의 로테이팅 매스 슬릿(rotating mass slit)은 이온빔으로 인한 파티클 발생을 억제하고 이온빔의 효과적인 레솔루션(resloution)을 위해 이온빔의 분산을 방지하여 웨이퍼에 상기 이온빔을 집중시키는 기능을 갖는다.Typically, the rotating mass slit of ion implanters that are widely used in ion implantation devices suppress particle generation due to ion beams and prevent dispersion of the ion beams for effective resolution of the ion beams to the wafer. It has the function of concentrating the ion beam.
이러한 매스 슬릿은 보통 이온빔의 진행방향과 반대방향으로 대략 1200rpm으로 회전을 하는 제 1 및 제 2 매스 슬릿, 상기 제 1 및 제 2 매스 슬릿에 구비되어 회전하는 제 1 및 제 2 샤프트, 상기 제 1 및 제 2 샤프트를 지지하는 브라켓, 그리고 상기 매스 슬릿과 연결되는 위한 냉각수 순환 라인을 구비한다.The mass slit is usually the first and second mass slit to rotate at approximately 1200rpm in the direction opposite to the traveling direction of the ion beam, the first and second shafts provided in the first and second mass slit to rotate, the first And a bracket for supporting the second shaft, and a cooling water circulation line for connecting with the mass slit.
상기 냉각수 순환 라인은 상기 제 1 및 제 2 매스 슬릿과 연결되어, 냉각수 공급원으로부터 상기 제 1 및 제 2 매스 슬릿로 냉각수를 공급하며, 상기 냉각수는 제 1 및 제 2 매스 슬릿에 제공되는 소정의 냉각수 구간을 순환하면서 상기 제 1 및 제 2 매스 슬릿이 이온빔을 집중시킬 때 발생되는 열을 냉각시킨다.The coolant circulation line is connected to the first and second mass slits to supply coolant from a coolant source to the first and second mass slits, the coolant being provided to the first and second mass slits. Cooling heat generated when the first and second mass slits concentrate the ion beam while circulating the section.
그러나, 상기 냉각수 순환 라인은 여러 가지 요인에 의해 리크(leak)가 발생된다. 예컨대, 상기 제 1 및 제 2 매스 슬릿은 내부에 모터를 구비하고 있으므로, 상기 모터의 구동을 위해서는 상기 모터에 오일을 공급하기 위한 오일 공급 라인이 구비된다. 상기 오일 공급 라인에는 상기 제 1 및 제 2 매스 슬릿으로 오일을 공급하기 위해 소정의 압력 걸려 있어, 만약 상기 모터 또는 상기 오일 공급 라인에 이상이 발생되어 상기 오일 공급 라인에 제공된 압력이 일정 압력 이상을 초과하면, 상기 오일 공급 라인에 흐르는 상기 오일이 유출되어 제 1 및 제 2 매스 슬릿을 오염시킨다. 이때, 상기 냉각수 순환 라인에도 상기 오일 공급 라인에서 초과된 압력 때문에 리크가 발생된다.However, the coolant circulation line leaks due to various factors. For example, since the first and second mass slits have a motor therein, an oil supply line for supplying oil to the motor is provided to drive the motor. The oil supply line is subjected to a predetermined pressure to supply oil to the first and second mass slit, so if an abnormality occurs in the motor or the oil supply line, the pressure provided to the oil supply line may be above a certain pressure. If exceeded, the oil flowing in the oil supply line flows out and contaminates the first and second mass slits. At this time, the cooling water circulation line also leaks due to the excess pressure in the oil supply line.
이러한 상기 냉각수 순환 라인의 리크가 발생되면, 유출된 냉각수에 의해 이 온 주입 설비에 누전이 발생될 수 있으며, 냉각수 부족으로 인해 제 1 및 제 2 매스 슬릿이 가열되어 제 1 및 제 2 매스 슬릿의 오동작 및 운전 중지 등의 현상이 발생된다. 그리하여, 이를 유지 보수하기 위해서는 상당한 시간이 소요되며, 이온 주입 설비의 특성상 내부에는 고압의 전류가 인가되어 있으므로 작업자에게 큰 위험을 줄 수 있다. When the leakage of the cooling water circulation line occurs, an electric leakage may occur in the ion implantation facility by the leaked cooling water, and the first and second mass slits are heated due to the lack of cooling water, thereby causing the first and second mass slits. Phenomenon such as malfunction and suspension of operation occurs. Therefore, it takes a considerable time to maintain it, and because of the nature of the ion implantation facility, a high-voltage current is applied inside, which can pose a great danger to the operator.
그러나, 상기 냉각수 순환 라인의 리크를 감지하거나 방지할 수 있는 어떠한 수단이 구비되어 있지 않으므로 이를 개선하고자 한다.However, since there is no means for detecting or preventing the leakage of the cooling water circulation line is to be improved.
상기와 같은 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 이온 주입 장치의 매스 슬릿을 냉각하기 위해 냉각수를 제공하는 냉각수 순환 라인의 리크를 감지할 수 있는 매스 슬릿 어셈블리를 제공함에 있다.An object of the present invention for solving the above problems is to provide a mass slit assembly that can detect the leak of the cooling water circulation line for providing the cooling water to cool the mass slit of the ion implantation device.
본 발명의 다른 목적은 냉각수 순환 라인의 리크를 사전에 방지할 수 있는 매스 슬릿 어셈블리를 제공함에 있다.Another object of the present invention is to provide a mass slit assembly capable of preventing leakage of the cooling water circulation line in advance.
본 발명에 따른 이온 주입 장치의 매스 슬릿 어셈블리는 이온빔의 분산을 방지하여 웨이퍼에 상기 이온빔을 집중시키는 매스 슬릿부, 상기 매스 슬릿부에서 발생되는 열을 냉각하기 위해, 상기 매스 슬릿부으로/으로부터 냉각수를 공급 및 회수하는 냉각수 순환 라인, 상기 냉각수 순환 라인과 연결되고, 상기 냉각수 순환 라인의 압력이 일정 압력을 초과하면 상기 냉각수 순환 라인으로부터 냉각수가 유출되어 흐르는 적어도 하나의 누수 라인, 그리고 상기 누수 라인에 상기 냉각수 순 환 라인으로부터 유출된 냉각수가 흐를 때, 상기 유출된 냉각수의 유무를 감지하는 감지부를 포함한다.The mass slit assembly of the ion implantation apparatus according to the present invention is a mass slit portion for concentrating the ion beam on a wafer to prevent dispersion of ion beams, and cooling water to / from the mass slit portion for cooling heat generated in the mass slit portion. Cooling water circulation line for supplying and recovering the water, connected to the cooling water circulation line, when the pressure of the cooling water circulation line exceeds a predetermined pressure to at least one leaking line flowing out of the cooling water from the cooling water circulation line, and the leakage line When the coolant flows out of the coolant circulation line flows, the detection unit for detecting the presence or absence of the leaked coolant.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 매스 슬릿 어셈블리는 상기 감지부를 내부에 구비하는, 그리고 상기 유출된 냉각수가 유입되는 감지부 케이스를 더 포함하여, 상기 감지부가 상기 감지부 케이스 내부로 유입된 상기 유출된 냉각수를 감지하도록 한다.In one embodiment of the present invention, the mass slit assembly further includes a sensing unit case having the sensing unit therein, and the leaked coolant flows, the sensing unit introduced into the sensing unit case Be sure to detect leaked coolant.
본 발명의 일 실시예에 있어서, 상기 냉각수 순환 라인은 냉각수 공급원으로부터 상기 매스 슬릿으로 상기 냉각수를 공급하는 냉각수 공급 라인과, 상기 매스 슬릿으로부터 상기 냉각수 공급원으로 상기 냉각수를 회수하는 냉각수 회수 라인을 포함한다.In one embodiment of the present invention, the cooling water circulation line includes a cooling water supply line for supplying the cooling water from the cooling water supply source to the mass slit, and a cooling water recovery line for recovering the cooling water from the mass slit to the cooling water supply source. .
본 발명의 일 실시예로서 상기 메스 슬릿부는 제 1 및 제 2 매스 슬릿을 포함하고, 상기 냉각수 순환 라인은 상기 냉각수 공급원으로부터 상기 제 1 매스 슬릿으로 상기 냉각수를 공급하는 냉각수 공급 라인과, 상기 제 1 매스 슬릿으로부터 상기 제 2 매스 슬릿으로 냉각수가 전송되는 냉각수 연결 라인, 그리고 상기 제 2 매스 슬릿으로부터 상기 냉각수 공급원으로 냉각수를 회수하는 냉각수 회수 라인을 포함한다.In one embodiment of the present invention, the mass slit portion includes first and second mass slits, and the cooling water circulation line includes a cooling water supply line for supplying the cooling water from the cooling water supply source to the first mass slit, and the first mass slit. A cooling water connection line for transferring cooling water from the mass slit to the second mass slit, and a cooling water recovery line for recovering the cooling water from the second mass slit to the cooling water supply source.
상술한 본 발명에 일 실시예에 있어서, 상기 누수 라인은 복수개가 제공되어 각각의 상기 냉각수 공급 라인 및 상기 냉각수 회수 라인에 연결될 수 있다.In one embodiment of the present invention described above, a plurality of leaking lines may be provided and connected to each of the cooling water supply line and the cooling water recovery line.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예에 따른 이온주입장치의 매스 슬릿 어셈블리를 상세히 설명한다. 본 발명의 실시예는 여러 가지 형태로 변형될 수 있으며, 본 발명의 범위가 아래에서 상술하는 실시예로 인해 한정되어 지는 것으로 해석되어져서는 안 된다. 본 실시예는 당업계에서 평균적인 지식을 가진 자에게 본 발명을 보다 완전하게 설명하기 위해서 제공되어지는 것이다. 따라서, 도면에서의 요소의 형상은 명확한 설명을 강조하기 위해서 과장되어진 것이다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described in detail a mass slit assembly of the ion implantation apparatus according to an embodiment of the present invention. The embodiments of the present invention may be modified in various forms, and the scope of the present invention should not be construed as being limited by the embodiments described below. This embodiment is provided to more completely explain the present invention to those skilled in the art. Accordingly, the shape of elements in the figures is exaggerated to emphasize clear explanation.
(실시예)(Example)
도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 매스 슬릿 어셈블리의 구성을 개략적으로 도시한 구성도이다. 도 1을 참조하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 매스 슬릿 어셈블리(100)는 매스 슬릿부(110), 냉각수 공급원(120), 냉각수 순환 라인(130), 누수 라인(140), 감지부(150), 그리고 감지부 케이스(152)를 포함한다.1 is a configuration diagram schematically showing the configuration of a mass slit assembly according to an embodiment of the present invention. Referring to FIG. 1, the
매스 슬릿부(110)은 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114), 제 1 및 제 2 매스 슬릿 각각에 구비되어 소정의 속도로 회전하는 제 1 및 제 2 샤프트(116a, 116b)를 포함하는 샤프트부(116), 상기 샤프트부(116)를 지지하는 브라켓(118)을 포함한다.The
제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114) 각각은 내부에 모터와 같은 구동부(미도시됨)를 구비한다. 상기 구동부는 오일 공급 라인(미도시됨)과 결합되어 상기 구동부의 가동을 위한 오일을 제공받는다. 또한, 상기 구동부에는 전원 공급 라인(미도시됨)이 제공되어 상기 구동부에 전원을 공급한다. 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114)은 이온 주입이 실시될 때, 이온빔 전류로 인하여 발생되는 파티클을 억제시키고, 공정상 요구되는 이온빔 외에 다른 질량의 이온빔에 대한 레솔루션 (resolution)을 실시한다. 이를 위해, 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114)의 샤프트부(115)는 이온빔의 진행방향과 반대방향으로 회전한다.Each of the first and
또한, 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114) 내부에는 냉각수가 순환될 수 있는 냉각수 순환 구간(미도시됨)이 제공된다. 냉각수는 상기 냉각수 순환 구간을 따라 순환되면서 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114)에서 발생되는 열을 냉각한다.In addition, inside the first and
냉각수 공급원(120)는 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114)의 냉각을 위한 냉각수를 저장한다. 냉각수 공급원(120)은 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114)으로/으로부터 냉각수를 공급 및 회수하는 냉각수 순환 라인(130)과 연결된다.The
냉각수 순환 라인(130)은 냉각수 공급원(120)으로부터 제 1 매스 슬릿(112)으로 냉각수를 공급하는 냉각수 공급 라인(132), 제 1 매스 슬릿(112)에서 제 2 매스 슬릿(114)으로 냉각수를 이동하는 냉각수 연결 라인(133), 제 2 매스 슬릿(114)으로부터 냉각수 공급원(120)으로 냉각수를 회수하는 냉각수 회수 라인(134)을 포함한다. 이러한 냉각수 순환 라인(130)은 다양한 구경 및 재질의 라인을 포함할 수 있다. 일 실시예로써, 냉각수 순환 라인(130)은 테프론 재질의 3/8" 투명 튜브일 수 있다.Cooling
누수 라인(140)은 적어도 하나가 제공되며 본 실시예는 제 1 및 제 2 누수 라인(142, 144)를 포함하는 구성을 설명한다. 제 1 누수 라인(142)의 일단은 냉각수 공급 라인(132)과 연결된다. 이때, 제 1 누수 라인(142)의 일단과 냉각수 공급 라인(132)은 제 1 유니온(136)에 의해 연결된다. 제 1 유니온(136)은 냉각수 공급 라인(132)과 제 1 누수 라인(142)을 연결하기 위한 수단이며, 특히, 제 1 유니온 (136)은 내부에 오링과 같은 제 1 개폐 부재(136a)가 구비되어, 냉각수 공급 라인(132)의 압력이 일정 압력 이하일 때는 제 1 누수 라인(142)으로 냉각수가 흐르는 것을 방지하고, 일정 압력을 초과하면 제 1 누수 라인(142)으로 냉각수가 흐르도록 한다.At least one
같은 방식으로서, 제 2 누수 라인(142)의 일단은 냉각수 회수 라인(134)과 연결되며, 제 2 누수 라인(142)의 일단과 냉각수 회수 라인(134)은 제 2 유니온(138)에 의해 연결된다. 제 2 유니온(138)은 내부에도 상술한 상기 오링 또는 상기 삼상 밸브 등을 포함하는 개폐 부재(138a)가 제공되어, 냉각수 회수 라인(134)의 압력이 일정 압력 이하일 때는 제 2 누수 라인(144)으로 냉각수가 흐르는 것을 방지하고, 일정 압력을 초과하면 제 2 누수 라인(144)으로 냉각수가 흐르도록 한다.In the same way, one end of the
상기 개폐 부재(136a, 138a)는 다른 실시예로서, 전기적인 신호에 의해 작동되는 삼상 밸브(3-way valve)(미도시됨)일 수 있다. 예컨대, 상기 삼상 밸브는 냉각수 공급 라인(132)과 제 1 누수 라인(142)을 연결하고, 냉각수 공급 라인(132)에는 냉각수 공급 라인(132)의 압력이 측정되는 센서(미도시됨) 및 상기 센서로부터 감지하는 압력을 판단하여 상기 삼상 밸브를 제어하는 제어부(미도시됨) 등을 구비하여, 냉각수 공급 라인(132)의 압력이 일정 압력 이하일 때는 냉각수 공급 라인(132)과 제 1 누수 라인(142)이 연결되는 구간을 클로우즈하여 냉각수가 흐르는 것을 방지하고, 일정 압력을 초과하면 오픈되어 제 1 누수 라인(142)으로 냉각수가 흐르도록 한다.In other embodiments, the opening and
제 1 및 제 2 누수 라인(142, 144)의 다른 일단은 감지부 케이스(152)와 연 결된다. 감지부 케이스(152)는 예컨대, 상부가 개방된 용기 형상이며, 내부 바닥에는 냉각수의 유무를 감지하는 감지부(150)가 설치된다. 그리하여, 제 1 및 제 2 누수 라인(142, 144)을 따라 상기 유출된 냉각수가 감지부 케이스(152)로 이동되어, 상기 감지부(150)가 냉각수를 감지하도록 한다.The other ends of the first and
이하, 본 발명의 일 실시예에 따른 매스 슬릿 어셈블리(100)의 작동 및 작용을 도 2를 참조하면 설명한다. 여기서, 도 1에 도시된 구성요소들과 동일한 구성요소들은 참조번호를 동일하게 기재하고, 이들에 대한 구체적인 설명은 생략한다.Hereinafter, the operation and operation of the
도 2는 도 1에 도시된 매스 슬릿 어셈블리의 작동 및 작용을 설명하기 위한 도면이다. 도 2를 참조하면, 만약 제 1 또는 제 2 매스 슬릿(112, 114)에 오류가 발생되어, 냉각수 순환 라인(130)의 압력이 일정 압력을 초과하게 되면, 제 1 및 제 2 개폐 부재(136a, 138a)는 제 1 또는 제 2 누수 라인(142, 144)으로 냉각수를 유출시킨다. 이때, 유출된 냉각수는 감지부 케이스(152) 내부로 유입되게 되며, 감지부 케이스(152)에 구비된 감지부(150)는 이를 감지하여 이온 주입 설비(미도시됨)의 제어부(미도시됨)로 감지 여부를 전송한다. 상기 제어부는 감지부(150)에서 감지한 상기 유출된 냉각수의 감지 여부를 작업자가 인지할 수 있도록 표시하여 준다.2 is a view for explaining the operation and operation of the mass slit assembly shown in FIG. Referring to FIG. 2, if an error occurs in the first or second mass slits 112 and 114, and the pressure in the cooling
여기서, 제 1 및 제 2 개폐 부재(136a, 138a)에 설정되는 소정의 압력 크기는 작업자에 의해 지정되는 것이며, 작업자는 다양한 압력으로 제 1 및 제 2 개폐 부재(136a, 138a)의 압력을 셋팅할 수 있다. 그리하여, 냉각수 공급 라인(130)의 리크 발생을 감지와 함께 리크 발생을 방지하는 기능을 수행할 수 있다.Here, the predetermined pressure magnitudes set in the first and second opening and
예컨대, 냉각수 공급 라인(130)의 압력이 증가하는 이유 중 하나는 제 1 및 제 2 매스 슬릿(112, 114)에 오일을 공급하는 오일 공급 라인(미도시됨)의 압력이 과부하되어 리크가 발생되고, 이것이 냉각수 공급 라인(130)의 압력에 영향을 주기 때문이다. 그러므로, 작업자는 제 1 및 제 2 개폐 부재(136a, 138a)의 압력을 상기 오일 공급 라인이 과부하되어 리크되기 전에 압력으로 셋팅하면, 상기 오일 공급 라인이 리크되기 전에 제 1 및 제 2 누수 라인(142, 144)으로 흐르는 상기 유출된 냉각수를 감지부(150)가 감지할 수 있으므로 냉각수 공급 라인(130)이 손상되는 것을 방지할 수 있다.For example, one of the reasons for the increase in the pressure of the cooling
이상으로 본 발명의 일 실시예에 따른 매스 슬릿 어셈블리에 대해서 상세히 설명하였으나, 상술한 실시예로 인해서 본 발명의 범위가 한정되는 것은 아니며, 상술한 구성의 단순한 변형 내지 변경은 본 발명의 범주에 포함된다. 예컨대, 누수 라인의 재질 및 구경, 그리고 개수 등의 단순한 변경, 냉각수 공급 라인과 누수 라인의 연결 방식의 단순한 변경, 감지부의 종류 및 개수 등의 단순한 선택 등은 본 발명의 범위에 포함되는 것이 당연하다.Although the mass slit assembly according to an embodiment of the present invention has been described in detail above, the scope of the present invention is not limited by the above-described embodiments, and simple modifications or variations of the above-described configuration are included in the scope of the present invention. do. For example, a simple change in the material and diameter of the leaking line and the number of water, a simple change in the connection method of the cooling water supply line and the leaking line, and a simple selection of the type and number of the sensing parts are naturally included in the scope of the present invention. .
발명의 기술적 사상은 매스 슬릿 어셈블리에 제공되는 냉각수 순환 라인의 리크를 감지 및 방지하는 이온 주입 장치의 매스 슬릿 어셈블리를 제공하는 것이다.The technical idea of the invention is to provide a mass slit assembly of an ion implantation device that detects and prevents leaks in the cooling water circulation line provided in the mass slit assembly.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 매스 슬릿 어셈블리에 따르면, 매스 슬릿을 냉각하기 위해 제공되는 냉각수 순환 라인의 리크 현상을 감지 및 방지할 수 있 다. As described above, according to the mass slit assembly according to the present invention, it is possible to detect and prevent the leakage phenomenon of the coolant circulation line provided for cooling the mass slit.
그리하여, 냉각수 순환 라인의 리크로 인한 매스 슬릿의 오동작을 방지하고, 매스 슬릿의 오류로 인한 이온 주입 설비의 누전 문제 및 이온 주입 설비의 수명 단축 등을 방지하는 효과가 있다. Therefore, there is an effect of preventing the malfunction of the mass slit due to leakage of the cooling water circulation line, and the problem of leakage of the ion implantation facility and shortening of the life of the ion implantation facility due to the error of the mass slit.
Claims (5)
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CN108362442A (en) * | 2018-03-29 | 2018-08-03 | 山东和富工程检测有限公司 | A kind of fire-fighting plough groove type pipe joint reveals experimental rig without sealing ring |
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2005
- 2005-07-28 KR KR1020050069138A patent/KR20070014474A/en not_active Application Discontinuation
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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CN108362442A (en) * | 2018-03-29 | 2018-08-03 | 山东和富工程检测有限公司 | A kind of fire-fighting plough groove type pipe joint reveals experimental rig without sealing ring |
CN108362442B (en) * | 2018-03-29 | 2024-04-19 | 山东和富工程检测有限公司 | Sealing ring-free leakage test device for groove type pipe joint for fire control |
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