KR20070008254A - 플랫존 검출 장치 - Google Patents

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KR20070008254A
KR20070008254A KR1020050063338A KR20050063338A KR20070008254A KR 20070008254 A KR20070008254 A KR 20070008254A KR 1020050063338 A KR1020050063338 A KR 1020050063338A KR 20050063338 A KR20050063338 A KR 20050063338A KR 20070008254 A KR20070008254 A KR 20070008254A
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윤종영
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삼성전자주식회사
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    • H01L21/67005—Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242—Apparatus for monitoring, sorting or marking
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Abstract

플랫존 검출 장치가 제공된다. 플랫존 검출 장치는 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 스테이지, 웨이퍼 스테이지 상에 형성되고 웨이퍼의 플랫존과 평행하게 배열된 다수의 센서를 구비하는 센서부 및 웨이퍼를 촬영한 영상과 웨이퍼가 웨이퍼 스테이지 상의 정확한 위치에 안착된 경우의 웨이퍼를 촬영한 기준 영상을 비교하여 비교결과를 출력하는 영상 비교부를 포함한다.
웨이퍼, 플랫존

Description

플랫존 검출 장치{Apparatus for detecting a flatzone}
도 1a은 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치가 장착된 프리 얼라인먼트를 나타낸 사시도이다.
도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치를 나타낸 사시도이다.
도 1c는 웨이퍼를 나타낸 사시도이다.
도 1d는 도 1a의 프리 얼라인먼트를 D-D'방향으로 자른 단면도이다.
도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치를 개략적으로 나타낸 개념도이다.
도 3a는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플랫존 검출 장치가 장착된 프리 얼라인먼트를 나타낸 사시도이다.
도 3b는 본 발명의 다른 실시예에 따른 플랫존 검출 장치를 나타낸 일부 사시도이다.
도 3c는 도 2a의 프리 얼라인먼트를 C-C'방향으로 자른 단면도이다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치의 전체 동작을 설명하기 위한 대략적인 흐름도이다.
도 5a는 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치의 동작을 센서부를 중심으로 설명하기 위해, 웨이퍼와 2개의 발광소자들과 2개의 수광소자들을 일부 도시한 평면도이다.
도 5b는 도 5a에 대하여 B-B'방향으로 자른 단면도이다.
도 6a는 도 5a의 웨이퍼를 45도 만큼 회전 이동시킨 일부 평면도이다.
도 6b는 도 6a에 대하여 B-B'방향으로 자른 단면도이다.
도 7a는 도 5a의 웨이퍼를 90도 만큼 회전 이동 시킨 일부 평면도이다.
도 7b는 도 7a에 대하여 B-B'방향으로 자른 단면도이다.
도 8은 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치의 동작을 영상 비교부를 중심으로 설명하는 흐름도이다.
(도면의 주요부분에 대한 부호의 설명)
101, 102 : 플랫존 검출 장치 121, 122 : 지지대
130 : 센서부 140 : 발광부
150 : 수광부 160 : 웨이퍼 스테이지
300 : 영상 비교부 W : 웨이퍼
본 발명은 플랫존 검출 장치에 관한 것으로, 보다 상세하게는 보다 신뢰성이 높은 플랫존 검출 장치에 관한 것이다.
반도체 칩을 생산하기 하기 위해서는 웨이퍼에 대해서 도포 공정, 노광 공 정, 현상 공정, 증착 공정, 식각 공정 등의 공정을 거친다. 반도체 칩의 고집적화, 대용량화, 소형화, 박형화의 경향에 따라 반도체 칩을 생산하는 각 공정에 대한 중요성과 정밀성의 요구는 점점 높아지고 있다.
반도체 칩을 생산하는 각 공정에서는 본 공정에 들어가기 전에, 먼저 웨이퍼에 대해서 예비 정렬(pre-align)을 행한다. 반도체 칩의 생산에 있어서 고정밀성을 요구하는 최근 추세에 따라, 예비 정렬 또한, 고정밀성이 요구된다. 이와 더불어, 웨이퍼가 정위치에 정렬되지 않고 본 공정에 들어가게 되면, 본 공정이 진행되는 중 웨이퍼의 깨짐 현상이 생기고, 불량율이 높아진다.
프리 얼라인먼트(pre-alignment)는 웨이퍼의 위치를 검출하는 엣지 센서(edge sensor), 웨이퍼가 안착되고 웨이퍼의 플랫존을 검출하기 위해 웨이퍼를 회전시키는 로테이션 유닛(rotation unit), 웨이퍼의 위치를 보정하는 센터링 유닛(centring unit)과 각각의 유닛을 제어하는 제어부를 포함한다.
웨이퍼에 대한 예비 정렬은 엣지 센서를 이용해서 웨이퍼의 위치를 검출한 후에, 로테이션 유닛과 센터링 유닛을 통해서 위치를 보정함으로써 이루어진다. 이 때, 엣지 센서의 검출력이 떨어지게 되면, 엣지 영역대의 신호가 평행을 이르는 현상이 발생하며 웨이퍼의 플랫존을 제대로 인식하지 못하는 현상이 초래된다. 이에 따라, 웨이퍼의 예비 정렬은 이루어 지지 않을 수 있고, 전술한 웨이퍼의 깨짐 현상과 본 공정의 불량율이 증가한다.
본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는, 보다 신뢰성이 높은 플랫존 검출 장치를 제공하는 것이다.
본 발명의 기술적 과제는 이상에서 언급한 기술적 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 기술적 과제는 아래의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.
상기 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치는 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 스테이지, 웨이퍼 스테이지 상에 형성되고 웨이퍼의 플랫존과 평행하게 배열된 다수의 센서를 구비하는 센서부 및 상기 웨이퍼를 촬영한 영상과 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 스테이지 상의 정확한 위치에 안착된 경우의 상기 웨이퍼를 촬영한 기준 영상을 비교하여 비교 결과를 출력하는 영상 비교부를 포함한다.
본 발명의 기타 구체적인 사항들은 상세한 설명 및 도면들에 포함되어 있다.
본 발명의 이점 및 특징, 그리고 그것들을 달성하는 방법은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 수 있으며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하고, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 명세서 전체에 걸쳐 동일 참조 부호는 동일 구성 요소를 지칭한다.
도 1a 내지 도 2를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치 를 설명한다.
도 1a는 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치를 장착한 프리 얼라인먼트를 나타낸 사시도이다. 도 1b는 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치를 나타낸 사시도이다. 도 1c는 웨이퍼를 나타낸 사시도이다. 도 1d는 도 1a의 D-D'방향으로 자른 프리 얼라인먼트의 단면도이다.
도 1a 내지 도 2를 참고하면, 프리 얼라인먼트(201)는 엣지 센서(220), 로테이션 유닛(230), 센터링 유닛(240), 제어부(250), 몸체(210), 플랫존 검출 장치(101)를 포함한다.
엣지 센서(220)는 웨이퍼(W)가 정위치에 있는지를 판단하기 위해서, 웨이퍼의 엣지(152, 153)를 검출한다. 웨이퍼(W)에는 플랫존(161)의 검출을 용이하게 하기 위하여 엣지 마크가 표시되어질 수 있다. 엣지 센서(220)는 몸체(210)의 상단에 위치하며, 웨이퍼의 플랫존 엣지들(152, 153)을 검출하기 위해서 로테이션 유닛(230) 방향으로 돌출된다.
로테이션 유닛(230)은 웨이퍼의 플랫존(161)을 검출하기 위해서 웨이퍼(W)를 회전시키고 제어부(250)의 지시에 따라 웨이퍼(W)를 회전시켜 웨이퍼(W)를 예비 정렬시킨다. 로테이션 유닛(230)은 프리 얼라인먼트(201)의 몸체(210)의 상단의 중앙에 위치하며, 로테이션 유닛(230)의 상단에는 웨이퍼 스테이지(160)가 놓여진다. 웨이퍼의 플랫존(161)을 검출할 때는 위쪽으로 올라오고, 웨이퍼(W)의 중심 보정을 할 때는 아래쪽으로 내려간다.
센터링 유닛(240)은 제어부(250)의 지시에 따라 웨이퍼(W)의 중심을 보정할 수 있다. 센터링 유닛(240)은 몸체(210)의 상단에 위치하며, 웨이퍼(W)의 중심 보정을 위해서 로테이션 유닛(230) 방향으로 돌출한다.
제어부(250)는 발광부가 웨이퍼(W)에 대하여 빛을 조사하도록 제어하고, 수광부(150)로부터 정보를 받아서, 정보를 변환한다. 그리고, 이 변환된 정보를 기초로 웨이퍼(W)가 정위치에 있는지를 판단하여, 로테이션 유닛(230)과 센터링 유닛(240)을 제어하여 웨이퍼(W)를 예비 정렬하도록 한다. 본 발명의 일 실시예들에 따른 플랫존 검출 장치들(101, 102)은 웨이퍼(W)로부터 빛을 반사받아 얻은 정보를 제어부(250)에 전달한다.
본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치(101)는 받침대(110), 지지대(121), 다수의 센서를 구비하는 센서부(130), 영상 비교부(300)와 웨이퍼 스테이지(160)를 포함한다. 그리고 센서부(130)는 발광부(140)와 수광부(150)를 포함한다. 더 나아가서, 발광부(140)는 2개의 발광소자들(141, 142)을 포함하고, 수광부(150)는 2개의 수광소자들(151, 152)을 포함할 수 있고, 영상 비교부(300)는 카메라부(310), 메모리부(320), 비교부(330)와 표시부(340)로 구비된다.
받침대(110)는 플랫존 검출 장치(101)을 지탱하는 역할을 한다. 받침대(110)는 프리 얼라인먼트의 우측에 장착되어지고, 지지대(121)와 연결되어진다.
지지대(121)는 중앙이 볼록한 형상을 가지며, 2개의 발광소자들(141, 142)는 지지대(121)의 볼록한 중앙에 장착되어지고, 2개의 수광소자들(151, 152)는 지지대(121)의 오목한 양끝에 장착되어진다. 지지대(121)의 중앙이 볼록한 형상은 2개의 수광소자들(151, 152)이 2개의 발광소자들(141, 142)로부터 직접 빛을 받는 것을 막아서, 웨이퍼(W)로부터 반사되는 빛만을 받도록 한다.
효율적인 웨이퍼(W)의 플랫존(161)의 검출을 위해서 2개의 발광소자들(141, 142)과 2개의 수광소자들(151, 152)은 웨이퍼(W)의 플랫존(161)과 평행하게 형성될 수 있다. 또한, 2개의 발광소자들(141, 142)은 2개의 수광소자들(151, 152)의 안쪽에 놓일 수 있다. 2개의 수광소자들(151, 152)은 웨이퍼(W)의 플랫존(161)의 길이와 상당하는 거리만큼 이격되어서 웨이퍼(W)의 플랫존(161)의 2개의 엣지들(162, 163)을 한 번에 검출할 수 있도록 한다. 2개의 수광소자들(151, 152)들로 2개의 엣지들(162, 163)을 한 번에 검출함으로 인해서, 수광부(150)의 검출력이 약해질 가능성은 그만큼 적어지므로, 플랫존 검출 장치(100)의 신뢰성은 더 높아진다.
각각의 발광소자들(141, 142)은 각각의 수광소자들(151, 152)이 빛을 받을 수 있도록, 웨이퍼(W)에 빛을 조사한다. 각각의 발광소자들(141, 142)의 방향은 각각의 발광소자들(141, 142)로부터 나온 빛이 각각의 수광소자들(151, 152)로 들어갈 수 있도록, 각각의 수광소자들(151, 152)을 웨이퍼(W)에 대하여 대칭 이동시킨 지점을 향하도록 할 수도 있다. 2개의 발광소자들(141, 142)은 일반적으로 발광원과 렌즈로 구성된다. 2개의 발광소자들(141, 142)은 레이저 다이오드(laser diode) 또는 LED(Light Emitting Diode)일 수 있다.
2개의 수광소자들(151, 152)은 2개의 발광소자들(141, 142)로부터 조사되고 웨이퍼(W)로부터 반사된 빛을 받는 기능을 수행한다. 2개의 수광소자들(151, 152)은 2개의 발광소자들(141, 142)로부터 조사된 빛을 효율적으로 받기 위해서 2개의 발광소자들(141, 142)에 대응하여 2개의 발광소자들(141, 142)을 웨이퍼(W)에 대하 여 대칭 이동시킨 지점을 향하도록 할 수도 있다. 2개의 수광소자들(151, 152)은 포토 다이오드 또는 CCD 카메라를 이용하여 구현될수 있다.
카메라부(310)는 웨이퍼 스테이지(160) 상에 올려지는 웨이퍼(W)를 촬영하여 비교부(330)에 촬영한 영상을 전달한다. 카메라부(310)는 서로 소정 거리 이격된 다수의 카메라를 포함할 수 있다. 다수의 카메라는 플랫존(161)을 한 번에 촬영하기 위해서 플랫존(161)과 평행하게 배열될 수 있다. 즉, 다수의 카메라를 이용하여 플랫존(161)을 한 번에 촬영함으로 인해서, 엣지 센서(220)의 검출력이 떨어지는 경우에도 플랫존(161) 검출의 신뢰성을 높일 수 있다. 특히, 검출력을 최대로 높이기 위해, 카메라부(310)는 플랫존(161)의 길이와 실질적으로 동일한 거리로 이격된 2 대의 카메라로 구성되어, 플랫존(161)의 에지(162, 163) 부분을 촬영할 수 있다.
카메라부(310)은 지지대(121)의 양끝에서 수광소자들(151, 152)과 함께 형성될수 있다. 또한, 수광소자들(151, 152)을 다수의 CCD 카메라들을 이용하여 구현하는 경우에는, 카메라부(310)를 수광소자들(151, 152)을 구성한 다수의 CCD 카메라를 이용하여 구현할 수 있다. 따라서, CCD 카메라를 이용하여, 수광부(150)와 카메라부(310)를 번거롭게 두 번 구현할 필요가 없다. 또한, CCD 카메라가 지원하는 디지털화된 이미지를 통해서, 보다 신뢰성이 높은 검출을 행할 수 있다.
메모리부(320)는 웨이퍼(W)가 웨이퍼 스테이지(160) 상의 정확한 위치에 안착된 경우의 상기 웨이퍼(W)를 촬영한 기준 영상이 저장된다. 메모리부(320)는 ROM(Read Only Memory) 또는 EPROM(Erasible Programmable Read Only Memory)로 구성될 수 있다. 또한, 카메라부(310)를 통해서 얻어진 정보를 이용하여 기준 영상은 업데이트 되어질 수 있다. 메모리부(320)는 비교부(330)와 함께 지지대(121)내에 장착될 수 있다.
비교부(330)는 카메라부(310)를 통해서 촬영된 영상과 메모리부(320)에 저장된 기준 영상을 비교하여 결과값을 산출한다. 카메라부(310)를 통해서 촬영된 영상과 기준 영상이 동일 이미지라면 "OK", 동일 이미지가 아니면 "NG"로써 결과값을 산출한다. 비교부(330)는 코드 변환기와 비교기로써 구현될 수 있다. 비교부(330)는 메모리부(320)와 함께 지지대(121) 내에 장착될 수 있다.
표시부(340)는 비교부(330)에서 비교되어진 결과값을 표시한다. 표시부(340)는 경보음, 경보등 또는 LCD와 같은 디스플레이 장치를 통해서 구현될 수 있다. 표시부(340)에 의해서 표시되어진 결과값을 기초로 작업자는 웨이퍼(W)를 재정렬할 수도 있고, 제어부(250)에 출력값을 전달하여 자동으로 웨이퍼(W)를 재정렬하게 할 수도 있다.
웨이퍼 스테이지(160)에는 웨이퍼(W)가 로딩되고, 로테이션 유닛(230)에 의해서 회전된다. 웨이퍼 스테이지(160)는 로테이션 유닛(230)의 위쪽에 장착된다. 웨이퍼 스테이지(160)는 빛을 흡수하는 유기 발색단 또는 레이저를 흡수하는 이광자 흡수 물질로 구현될 수 있다.
도 3a 내지 도 3c를 참조하여, 본 발명의 다른 실시예에 따른 플랫존 검출 장치를 설명한다. 도 1a 내지 도 2와 실질적으로 동일한 구성요소에 대해서는 동일한 도면 부호를 사용하며, 해당 구성 요소에 대한 상세한 설명은 생략하기로 한다.
도 3a 내지 3c를 참고하면, 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치 (102)는 받침대(110), 중앙이 오목한 지지대(122), 2개의 발광소자들(141, 142), 2개의 수광소자들(151, 152)을 포함한다. 2개의 발광소자들(141, 142)은 지지대(122)의 오목한 중앙에 장착되어지고, 2개의 수광소자들(151, 152)은 지지대(122)의 오목한 양끝에 장착되어진다. 지지대(122)의 중앙이 오목한 형상 또한, 볼록한 형상과 마찬가지로 각각의 수광소자들(151, 152)에 각각의 발광소자들(141, 142)로부터의 빛이 직접 도달되는 것을 막는 역할을 한다. 따라서, 각각의 발광소자들(141, 142)로부터의 빛은 웨이퍼(W)로부터 반사되어서 각각의 수광소자들(151, 152)에 도달될 수 있다.
도 4 내지 도 8을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치의 전체 동작을 설명한다.
도 4는 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치의 전체 동작을 설명하기 위한 대략적인 흐름도이다.
도 4를 참고하면, 먼저, 웨이퍼 스테이지에 웨이퍼가 로딩되면(S1), 다음으로, 로딩된 웨이퍼에 대해서 센서부를 중심으로 한 플랫존 검출(S2)과 로딩된 웨이퍼에 대해서 영상 비교부를 중심으로 한 플랫존 검출(S3)가 각각 실시되고, 실시된 결과값을 기초로 웨이퍼 재정렬 또는 본 공정을 실시하게 된다.
도 5a내지 도 7b를 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치의 동작을 센서부를 중심으로 설명한다.
도 5a 및 도 5b를 참고하면, 각각의 발광소자들(141, 142)과 각각의 수광소자들(151, 152)이 웨이퍼(W)의 플랫존(161)과 평행하게 형성되면, 각 소자의 절반 은 웨이퍼의 평면 위에 있고, 각 소자의 나머지 절반은 웨이퍼 평면 밖에 있게 된다. 따라서, 발광소자들(141, 142)로부터 조사된 빛 중 절반 정도만이 웨이퍼(W)로부터 반사된다. 그리고, 각각의 수광소자들(151, 152)은 각각의 발광소자들(141, 142)로부터 조사된 빛 중 절반 정도의 빛을 받는다. 그리고 각각의 수광소자들(151, 152)은 이러한 정보를 제어부(도 1a의 250)로 전달한다.
도 6a 및 도 6b를 참고하면, 로테이션 유닛(도 1a의 230)에 의해서 웨이퍼(W)가 시계 방향으로 45도 만큼 회전 이동하면, 발광소자들(141, 142)과 수광소자들(151, 152)이 웨이퍼(W)의 플랫존(161)과 비스듬히 놓이게 되고, 발광소자들(141, 142)로부터 조사된 빛 중 절반 정도만이 웨이퍼(W)로부터 반사된다. 즉, 제 1 수광소자(151)는 제 1 발광소자(141)로부터 조사된 빛 중 대부분의 빛을 받지만, 제 2 수광소자(152)는 제 2 발광소자(142)로부터 조사된 빛 중 대부분을 받지 못한다. 그리고, 각각의 수광소자들(151, 152)는 제어부(도 1a의 250)에 이러한 정보를 전달한다.
도 7a 및 도 7b를 참고하면, 로테이션 유닛(도 1a의 230)에 의해서 웨이퍼(W)가 시계 방향으로 90도 만큼 회전 이동하면, 발광소자들(141, 142)와 수광소자들(151, 152)가 웨이퍼(W)의 평면 위에 모두 놓이게 되고, 발광소자들(141, 142)로부터 조사된 빛은 웨이퍼(W)로부터 대부분 반사되어 수광소자들(151, 152)에 이른다. 그리고, 각각의 수광소자들(151, 152)은 제어부(도 1a의 250)에 이러한 정보를 전달한다.
각각의 수광소자들(151, 152)로부터 전달된 정보는 제어부(도 1a의 250)에서 신호의 양으로 변환되어져 기존의 신호의 양과 비교된다. 제어부(도 1a의 250)는 기존의 신호의 양과 비교하여 웨이퍼(W)가 정위치에 있는지를 판단한다. 그리고, 웨이퍼(W)의 재정렬이 필요한 경우에는, 로테이션 유닛(도 1a의 230)과 센터링 유닛(도 a1의 240)을 이용하여 재정렬한다.
도 8을 참조하여, 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치의 동작을 영상 비교부를 중심으로 설명한다.
도 8을 참고하면, 먼저, 웨이퍼 스테이지에 웨이퍼가 로딩되어진다(S1). 다음으로 발광부로부터 웨이퍼에 빛이 조광되어지고(S2), 웨이퍼에 조광된 빛은 웨이퍼에 의해서 반사되어진다(S3). 카메라부는 웨이퍼를 촬영하고 촬영된 영상을 비교부에 전달한다(S4). 비교부에서는 기준 영상과 촬영된 영상을 비교하여 출력값을 산출한다(S5). 이 산출된 출력값을 표시부에 의해서 표시되어지고(S6), 작업자는 이것을 기초로 재정렬 또는 본 공정을 실시할 수 있다(S7). 따라서, 작업자는 보다 신뢰성이 높은 검출 결과값을 기초로 효율적으로 작업을 진행시킬 수 있을 것이다.
이상에서 설명한 바와 같이, 본 발명의 일 실시예에 따른 플랫존 검출 장치는 센서부와 영상 비교부를 이용하여 여러 번의 플랫존 검출을 수행할 수 있다. 또한, 센서부를 이용한 플랫존 검출과 영상 비교부를 이용한 플랫존 검출은 각각 병행적으로 동시에 수행될 수도 있으므로, 더욱 신뢰성이 높은 플랫존 검출을 빠르게 수행할 수 있다.
플랫존 검출 장치는 웨이퍼를 다루는 반도체 칩을 생산하는 전 공정에 있어서 쓰일 수 있다. 플랫존 검출 장치는 프리 얼라인먼트에 장착되어 쓰일 수도 있 다. 더 나아가서, 반도체 칩을 생산하는 데 사용되어지는 도포기, 노광기, 현상기 등에 프리 얼라인먼트가 장착됨으로 인해서 쓰일 수도 있다. 또한, 도포기, 노광기, 현상기 등에 직접 플랫존 검출 장치가 장착됨으로 인해서도 쓰일 수 있다.
이상 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 실시예를 설명하였지만, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적인 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적이 아닌 것으로 이해해야만 한다.
상기한 바와 같은 플랫존 검출 장치에 따르면 다음과 같은 효과가 하나 혹은 그 이상 있다.
첫째, 플랫존 검출 장치가 웨이퍼의 플랫존의 에지 위에 존재하는 다수의 센서를 구비하여, 보다 신뢰성이 높은 웨이퍼의 플랫존 검출을 행할 수 있다.
둘째, 다수의 센서가 장착된 지지대의 형상은 볼록한 형상 또는 오목한 형상일 수 있다. 따라서, 플랫존 검출 장치 중 수광부는 발광부의 방해 없이 웨이퍼로부터 빛을 수광할 수 있으므로, 보다 신뢰성이 높은 웨이퍼의 플랫존 검출을 행할 수 있다.
셋째, 플랫존 검출 장치는 영상 비교부를 더 포함하여, 플랫존 검출 장치의 정확성을 더 높일 수 있다.

Claims (8)

  1. 웨이퍼가 안착되는 웨이퍼 스테이지;
    상기 웨이퍼 스테이지 상에 형성되고, 상기 웨이퍼의 플랫존과 평행하게 배열된 다수의 센서를 구비하는 센서부; 및
    상기 웨이퍼를 촬영한 영상과 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 스테이지 상의 정확한 위치에 안착된 경우의 상기 웨이퍼를 촬영한 기준 영상을 비교하여, 비교 결과를 출력하는 영상 비교부를 포함하는 플랫존 검출 장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 센서부는 발광부와 수광부를 포함하는 플랫존 검출 장치.
  3. 제 2항 있어서,
    상기 발광부는 2개의 발광 소자들을 포함하고, 상기 수광부는 2개의 수광소자들을 포함하는 플랫존 검출 장치.
  4. 제 3항에 있어서,
    중앙 부분이 오목하거나, 볼록한 지지대를 포함하고, 상기 지지대의 중앙 부분에는 상기 센서 중 2개의 발광소자들이 장착되는 플랫존 검출 장치.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 영상 비교부는 상기 웨이퍼 상에서 형성되어 상기 웨이퍼를 촬영하는 카메라부와, 상기 웨이퍼가 상기 웨이퍼 스테이지 상의 정확한 위치에 안착된 경우의 상기 웨이퍼를 촬영한 기준 영상이 저장된 메모리부와, 상기 웨이퍼를 촬영한 영상과 상기 기준 영상을 비교하는 비교부와, 상기 비교 결과를 출력하는 표시부를 포함하는 플랫존 검출 장치.
  6. 제 5항에 있어서,
    상기 카메라부는 서로 소정 거리 이격된 다수의 카메라를 포함하는 플랫존 검출 장치.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 카메라부는 상기 웨이퍼의 플랫존의 길이와 실질적으로 동일한 거리 이격된 2대의 카메라를 포함하는 플랫존 검출 장치.
  8. 제 5항에 있어서,
    상기 카메라부는 상기 수광소자를 이용하여 구현한 플랫존 검출 장치.
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