KR20060121500A - Gate valve - Google Patents
Gate valve Download PDFInfo
- Publication number
- KR20060121500A KR20060121500A KR1020050043719A KR20050043719A KR20060121500A KR 20060121500 A KR20060121500 A KR 20060121500A KR 1020050043719 A KR1020050043719 A KR 1020050043719A KR 20050043719 A KR20050043719 A KR 20050043719A KR 20060121500 A KR20060121500 A KR 20060121500A
- Authority
- KR
- South Korea
- Prior art keywords
- passage
- valve plate
- gas
- valve
- plate
- Prior art date
Links
Images
Classifications
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K27/00—Construction of housing; Use of materials therefor
- F16K27/04—Construction of housing; Use of materials therefor of sliding valves
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/02—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor
- F16K3/0254—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing with flat sealing faces; Packings therefor being operated by particular means
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K3/00—Gate valves or sliding valves, i.e. cut-off apparatus with closing members having a sliding movement along the seat for opening and closing
- F16K3/30—Details
- F16K3/314—Forms or constructions of slides; Attachment of the slide to the spindle
-
- F—MECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
- F16—ENGINEERING ELEMENTS AND UNITS; GENERAL MEASURES FOR PRODUCING AND MAINTAINING EFFECTIVE FUNCTIONING OF MACHINES OR INSTALLATIONS; THERMAL INSULATION IN GENERAL
- F16K—VALVES; TAPS; COCKS; ACTUATING-FLOATS; DEVICES FOR VENTING OR AERATING
- F16K31/00—Actuating devices; Operating means; Releasing devices
- F16K31/12—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid
- F16K31/122—Actuating devices; Operating means; Releasing devices actuated by fluid the fluid acting on a piston
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- Mechanical Engineering (AREA)
- Sliding Valves (AREA)
- Details Of Valves (AREA)
Abstract
Description
도 1은 본 발명에 따른 게이트 밸브의 밸브 플레이트의 평면도이다.1 is a plan view of a valve plate of a gate valve according to the present invention.
도 2는 본 발명에 따른 게이트 밸브의 몸체부의 평면도 및 측면도이다.2 is a plan view and a side view of a body portion of a gate valve according to the present invention.
도 3은 도 2의 몸체부의 부분 측면도이다. 3 is a partial side view of the body portion of FIG. 2;
도 4는 도 2의 몸체부의 측부에 결합되는 피스톤 하우징의 측면도이다. 4 is a side view of the piston housing coupled to the side of the body of FIG.
도 5는 도 1의 게이트 플레이트를 왕복운동 시키기 위한 피스톤과 연결 부품들을 보여주는 도면이다.5 is a view showing a piston and connecting parts for reciprocating the gate plate of FIG.
도 6a 내지 도 6c는 도 1의 밸브 플레이트가 닫혀진 상태에서 열려지는 상태로 변화되는 과정을 보여주는 도면.6A to 6C are views illustrating a process of changing from the closed state of the valve plate of FIG. 1 to the open state.
도 7a는 도 6a의 I-I선을 따라 절단된 요부 단면도이고, 도 7b는 도 6c의 II-II선을 따라서 절단된 요부 단면도이다.FIG. 7A is a cross-sectional view of the main part cut along the line II of FIG. 6A, and FIG. 7B is a cross-sectional view of the main part cut along the line II-II of FIG. 6C.
본 발명은 가스 공급시스템에 사용되는 게이트 밸브에 관한 것으로서, 보다 상세하게는, 펌프와 챔버 사이에 설치되어 챔버로 공급되는 가스에 포함된 성분들 이 밸브 내에 증착됨으로 인하여 밸브가 닫혀진 상태에서도 가스가 누설되는 것을 방지할 수 있는 개선된 구조를 갖는 게이트 밸브에 관한 것이다. The present invention relates to a gate valve used in the gas supply system, and more particularly, the gas is installed even between the pump and the chamber and the components contained in the gas supplied to the chamber is deposited in the valve, even if the gas is closed A gate valve having an improved structure capable of preventing leakage.
반도체 제조공정, 예를 들어, 웨이퍼 처리공정은 프로세스 가스와 정화 가스와 같은 여러가지 가스들의 사용을 필요로 한다. 이들 가스들은 반응챔버로 공급되어 특정 층의 형성을 위하여 사용되고, 사용후 연소 및 정화되어 배출된다.Semiconductor manufacturing processes, for example wafer processing, require the use of various gases such as process gases and purge gases. These gases are fed to the reaction chamber and used for the formation of a particular layer, which are then burned, purified and discharged.
반응챔버로 공급되는 가스의 흐름을 차단하기 위하여 사용되는 게이트 밸브는 가스에 함유된 성분들로 인하여 소정시간 사용후 그의 내표면에 슬러리와 같은 불필요한 증착층이 형성된다. 이 슬러리는 밸브 플레이트의 닫힘동작동안 밸브 플레이트의 밀착을 방해하여 밸브가 닫힌 후에도 가스의 누설을 야기한다. The gate valve used to block the flow of the gas supplied to the reaction chamber has an unnecessary deposition layer such as a slurry on its inner surface after a predetermined time due to the components contained in the gas. This slurry prevents the valve plate from sticking during the closing operation of the valve plate, causing leakage of gas even after the valve is closed.
실제 현장에서 이러한 가스 누설 문제를 해결하기 위하여, 공정을 중단하여 밸브 내에 증착된 슬러리를 주기적으로 제거해 주어야 하는데, 이는 결과적으로 제조수율의 저하로 귀결된다. In order to solve this gas leakage problem in the field, the process must be stopped to periodically remove the slurry deposited in the valve, resulting in a decrease in production yield.
따라서, 본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 반도체 또는 엘씨디 제조공정에서 게이트 밸브에서 발생하는 가스 누설문제를 해결하는 동시에 제조수율을 향상시킬 수 있는 게이트 밸브를 제공하는데 있다. Accordingly, the present invention has been made to solve the above problems, to provide a gate valve that can improve the production yield while solving the gas leakage problem occurring in the gate valve in the semiconductor or LCD manufacturing process.
상기한 목적을 달성하기 위하여, 본 발명의 일측면에 따르면, 가스가 공급되는 제1 통로와, 가스의 공급을 차단 또는 허용하기 위한 밸브 플레이트가 왕복운동하는 제2 통로를 갖는 몸체부; 상기 제2 통로를 따라 밸브 플레이트의 왕복운동을 가능하게 하는 제1 이송수단; 및 상기 밸브 플레이트가 상기 몸체부의 가스 공급통로를 차단하는 위치로 이동된 상태에서 상기 제1 통로를 따라서 소정 거리 왕복운동하여 상기 제1 통로의 내부에 부착되는 물질들을 제거하는 제2 이송수단을 포함하는 것을 특징으로 한다. In order to achieve the above object, according to an aspect of the present invention, the body portion having a first passage for supplying gas, and a second passage for reciprocating the valve plate for blocking or allowing the supply of gas; First conveying means for enabling reciprocating movement of the valve plate along the second passageway; And second conveying means for removing substances attached to the inside of the first passage by reciprocating a predetermined distance along the first passage while the valve plate is moved to a position to block the gas supply passage of the body portion. Characterized in that.
바람직하게는, 상기 제1 이송수단은, 유압 피스톤; 상기 유압 피스톤의 일단에 연결된 제1 로드; 상기 제1 로드의 타단에 그의 일단이 연결되고, 상기 밸브 플레이트의 소정 부분에 그의 타단이 연결된 제2 로드를 포함한다.Preferably, the first transfer means, the hydraulic piston; A first rod connected to one end of the hydraulic piston; One end thereof is connected to the other end of the first rod, and a second rod thereof whose other end is connected to a predetermined portion of the valve plate.
또한, 상기 밸브 플레이트는, 상기 몸체부의 제1 통로를 여닫기 위한 원형 플레이트; 및 상기 원형 플레이트의 소정 부분과 결합되어, 상기 원형 플레이트의 외측 둘레에 사각형상으로 된 사각틀을 포함한다.In addition, the valve plate, the circular plate for opening and closing the first passage of the body portion; And a square frame coupled to a predetermined portion of the circular plate and formed into a quadrangular shape around the outer side of the circular plate.
또한, 상기 제2 이송수단은, 상기 제1 통로의 내표면에 기밀 설치된 원통형 실린더; 및 상기 원통형 실린더에 연결되어 상기 제1 통로의 내표면을 따라서 상기 원통형 실린더의 상하 왕복운동을 제어하는 전자제어유닛을 포함한다. The second conveying means may further include a cylindrical cylinder hermetically installed on an inner surface of the first passage; And an electronic control unit connected to the cylindrical cylinder to control the vertical reciprocating motion of the cylindrical cylinder along the inner surface of the first passage.
선택적으로, 상기 제2 이송유닛은 상기 원통형 실린더에 설치된 집진 유닛을 추가로 포함한다. Optionally, said second transfer unit further comprises a dust collecting unit installed in said cylindrical cylinder.
이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 게이트 밸브의 구조 및 동작이 설명된다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described the structure and operation of the gate valve of the present invention.
도 1은 본 발명에 따른 게이트 밸브의 밸브 플레이트의 평면도이고, 도 2는 본 발명에 따른 게이트 밸브의 몸체부의 평면도 및 측면도이고, 도 3은 도 2의 몸체부의 부분 측면도이고, 도 4는 도 2의 몸체부의 측부에 결합되는 피스톤 하우징의 측면도이고, 도 5는 도 1의 게이트 플레이트를 왕복운동 시키기 위한 피스톤과 연결 부품들을 보여주는 도면이다.1 is a plan view of a valve plate of a gate valve according to the present invention, FIG. 2 is a plan view and a side view of the body part of the gate valve according to the present invention, FIG. 3 is a partial side view of the body part of FIG. Figure 5 is a side view of the piston housing coupled to the side of the body portion of, Figure 5 shows a piston and connecting parts for reciprocating the gate plate of Figure 1;
먼저, 도 2를 참조하면, 본 발명의 게이트 밸브는 몸체부(20)를 포함한다. 상기 몸체부(20)는 가스 공급관과 연결되는 플랜지(22)와, 상기 플랜지(22)와 결합되어 도 1에 도시된 밸브 플레이트(10)가 왕복운동하기 위한 통로를 제공하는 통로부(24)를 포함한다. First, referring to FIG. 2, the gate valve of the present invention includes a
밸브 플레이트(10)가 통로부(24)의 정해진 경로를 따라 이탈없이 왕복운동할 수 있도록, 밸브 플레이트(10)는 사각틀(12)에 원형 플레이트(14)가 결합된 구조로 되어 있다.The
도 1에 도시된 밸브 플레이트(10)는 유압으로 동작하는 제1 이송장치(50)(도 6a 내지 도 6c 참조)의 동작에 따라 밸브 몸체부(20)의 통로부(24)를 따라 왕복운동한다. 이를 위하여, 제1 이송장치(50)는, 도 4에 도시된 것처럼, 유압 실린더(52)와, 상기 유압 실린더의 샤프트에 연결된 제1 로드(54)와, 상기 제1 로드(54)의 일단에 그의 일단이 연결되고, 밸브 플레이트(10)의 소정 부분에 그의 타단이 연결된 제2 로드(56)를 포함한다. The
제1 이송장치(50)는 몸체부(20)의 측부에 결합되는데, 이를 위하여, 몸체부(20)는 그의 측부에 제1 이송장치(50)의 제2 로드(56)가 밸브 플레이트(10)에 연결될 수 있도록 개구를 갖고, 이와 대응하여 제1 이송장치는, 하우징(58)을 갖는다. 제1 이송장치(50)의 피스톤(52)과 제1 로드(54)는 하우징(58)의 내부에서 밸브 플레이트(10)를 왕복운동시키기 위하여 왕복운동한다. The
도 6a 내지 도 6c는 도 1의 밸브 플레이트가 닫혀진 상태에서 열려지는 상태로 변화되는 과정을 보여주는 도면이고, 도 7a는 도 6a의 I-I선을 따라 절단된 요부 단면도이고, 도 7b는 도 6c의 II-II선을 따라서 절단된 요부 단면도이다6A to 6C are views illustrating a process of changing from the closed state of the valve plate of FIG. 1 to the open state, FIG. 7A is a cross-sectional view of the main part cut along the line II of FIG. 6A, and FIG. -Cross section cut along line II
도 7a 내지 도 6b를 참고하면, 본 발명의 특징부를 구성하는 제2 이송장치는 몸체부(20)의 제1 플랜지(22)의 내경보다 약간 작은 외경을 갖고서 제1 플랜지(22)의 내부 경로를 상하 왕복운동하는 원통형 실린더(72)와, 상기 원통형 실린더(72)의 왕복운동을 제어하기 위한 전자제어유닛(74)을 포함한다. 7A-6B, the second conveying device constituting the features of the present invention has an outer diameter slightly smaller than the inner diameter of the
공정 가스가 공급되는 상태, 즉, 밸브 플레이트(10)가 도 6c에 도시된 것처럼, 개방 위치에 있을 때, 제2 이송장치의 원형 실린더(72)는 플랜지(22)의 아래쪽에 위치한다. When the process gas is supplied, that is, the
밸브 플래이트(10)의 원형 플레이트(12)가 공정 가스의 공급을 차단하기 위하여 플랜지(22) 내로 이동하여 도 6a 및 도 7a에 도시된 것처럼 플랜지(22)의 통로를 막을 때, 원통형 실린더(72)는 전자제어유닛(74)의 제어에 따라 플랜지(22) 내표면을 따라 상측으로 이동한다. 원통형 실린더(72)가 상측으로 이동하는 동안, 플랜지(22)의 내표면에 부착되었을 수 있는 슬러리는 플랜지(22)의 내표면으로부터 떨어지게 된다. When the
떨어진 슬러리는 퍼징(purging) 동안 배출된다. The slurried slurry is discharged during purging.
선택적으로, 상기 제2 이송장치(70)는 원통형 실린더에 설치된 집진 유닛을 포함할 수도 있다.Optionally, the second transfer device 70 may include a dust collecting unit installed in the cylindrical cylinder.
이 집진 유닛은 원통형 실린더(72)가 상측으로 이동할 때 플랜지(22)의 내표면에 부착되어 분리되는 슬러리를 흡입한다. This dust collecting unit sucks the slurry attached to and separated from the inner surface of the
그 후, 상기 원통형 실린더(72)는 다시 아래쪽으로 하강하여 도 7b와 같은 상태로 된다. Thereafter, the
상기한 원통형 실린더의 상승 및 하강 동작은 1회만 수행되거나, 다수회 반복적으로 수행되어, 슬러리 제거효율을 높일 수도 있다. The operation of raising and lowering the cylindrical cylinder may be performed only once, or may be repeatedly performed several times, thereby improving slurry removal efficiency.
이상의 설명은 바람직한 실시예들을 대상으로 설명되었지만, 본 발명의 사상과 범주 및 첨부한 청구항들에서 벗어남이 없이 본 발명의 변경과 변형들이 가능하다는 점을 이해할 것이다. While the foregoing description has been directed to the preferred embodiments, it will be understood that modifications and variations of the invention are possible without departing from the spirit and scope of the invention and the appended claims.
이상에서 설명한 것처럼, 본 발명에 따르면, 게이트 밸브의 닫힘 동작동안 게이트 밸브의 가스 유입로 내부의 소정 경로를 1회 또는 반복적으로 왕복운동하는 제2 이송장치가 플랜지의 내부경로의 표면에 퇴적되는 슬러리를 주기적으로 청소하므로써, 게이트 밸브 내에 슬러리의 퇴적으로 인한 가스 누설문제를 방지할 수 있다. 그 결과, 슬러리의 퇴적으로 인한 공정의 중단을 방지하여 생산성을 향상시킨다. As described above, according to the present invention, during the closing operation of the gate valve, a slurry is deposited on the surface of the inner path of the flange by a second transfer device that reciprocates once or repeatedly a predetermined path inside the gas inlet path of the gate valve. By periodically cleaning the, it is possible to prevent the gas leakage problem due to the deposition of slurry in the gate valve. As a result, interruption of the process due to deposition of the slurry is prevented, thereby improving productivity.
Claims (5)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050043719A KR100812117B1 (en) | 2005-05-24 | 2005-05-24 | Gate valve |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020050043719A KR100812117B1 (en) | 2005-05-24 | 2005-05-24 | Gate valve |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060121500A true KR20060121500A (en) | 2006-11-29 |
KR100812117B1 KR100812117B1 (en) | 2008-03-11 |
Family
ID=37707231
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020050043719A KR100812117B1 (en) | 2005-05-24 | 2005-05-24 | Gate valve |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100812117B1 (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112977718A (en) * | 2021-03-08 | 2021-06-18 | 徐晶 | Supporting mechanism for lifting ship |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR101015826B1 (en) | 2008-12-04 | 2011-02-23 | 주식회사 마이크로텍 | Apparatus for driving value plate of vacuum gate valve |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5078180A (en) * | 1990-07-30 | 1992-01-07 | Richard Collins | Automatically operated gate valve for recreational vehicles |
JPH0725371U (en) * | 1993-10-14 | 1995-05-12 | 日電アネルバ株式会社 | Gate valve |
KR19980076619A (en) | 1997-04-11 | 1998-11-16 | 김영귀 | Temperature sensitive solenoid ISC valve of vehicle engine |
KR20010000486U (en) | 1999-06-11 | 2001-01-05 | 이구택 | Remove apparatus of dust for sealing valve |
KR100497418B1 (en) * | 2002-12-28 | 2005-07-01 | 주식회사 에스티에스 | Gate valve |
-
2005
- 2005-05-24 KR KR1020050043719A patent/KR100812117B1/en active IP Right Grant
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN112977718A (en) * | 2021-03-08 | 2021-06-18 | 徐晶 | Supporting mechanism for lifting ship |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR100812117B1 (en) | 2008-03-11 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
KR100539691B1 (en) | Vacuum gate valve | |
KR20060121500A (en) | Gate valve | |
KR101494307B1 (en) | Vacuum gate valve | |
EP0062060A1 (en) | Back-flow prevention valve. | |
US9269547B2 (en) | Semiconductor equipment | |
KR100446455B1 (en) | Vacuum gate valve | |
CN203139819U (en) | Dust-suction filter-mesh online dust removal device | |
KR101295793B1 (en) | Apparatus and method for supplying isopropyl alcohol liquid | |
KR20120103170A (en) | Exhaust system and exhaust method of substrate processing apparatus | |
KR100979688B1 (en) | A gate valve | |
KR101725249B1 (en) | Vacuum valves | |
CN208781827U (en) | A kind of glue film lifts off equipment | |
KR101738681B1 (en) | Fluid Shut-off Valve for Anti-absorption of Powder | |
JP2012097691A (en) | Plunger pump | |
JPH06173850A (en) | Plunger pump device with shuttle valve | |
KR100324808B1 (en) | Three-way valve of waste gas treating apparatus. | |
JP5024148B2 (en) | Viscous material suction device | |
KR102257279B1 (en) | Wafer cleaning method | |
KR102455081B1 (en) | Piston elevating device using buoyancy and dead weight | |
KR19990021794U (en) | valve for an exhaust line | |
KR20190060513A (en) | Gate valve | |
KR20190060512A (en) | Gate valve | |
JPH08226378A (en) | Plunger pump | |
CN116755288B (en) | Device and method for removing sulfate radical of photomask | |
JP4297833B2 (en) | Molten metal water heater |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A201 | Request for examination | ||
E902 | Notification of reason for refusal | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
E90F | Notification of reason for final refusal | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
N231 | Notification of change of applicant | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20121210 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20140303 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20150223 Year of fee payment: 8 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20170303 Year of fee payment: 10 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20180305 Year of fee payment: 11 |
|
FPAY | Annual fee payment |
Payment date: 20200304 Year of fee payment: 13 |
|
R401 | Registration of restoration |