KR20060109371A - Manufacturing method of slanted-pyramid microlens using inclined-exposure process and it's application to light guide plate - Google Patents

Manufacturing method of slanted-pyramid microlens using inclined-exposure process and it's application to light guide plate Download PDF

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Abstract

A method of manufacturing an asymmetric pyramid microlens and a light guide plate manufactured by the method are provided to simplify a manufacturing process of a fine asymmetric pyramid microlens array pattern by forming an asymmetric pyramid microlens of a photoresist made by an inclination exposure process. A mask including a first region transmitting light and a plurality of second region blocking light is aligned on a substrate(31) coated with a photoresist. Inclination exposure is performed at least once to make light, which is emitted from an upper side of the second region to a lower side, have an asymmetric inclination angle in at least one direction. The inclination-exposed substrate is developed to obtain a plurality of photoresists(34) having an asymmetric pyramid shape. An engraving stamper is manufactured to engrave the asymmetric pyramid shaped-photoresist. A light guide plate on which the asymmetric pyramid shaped-photoresist is embossed is molded using the engraving stamper as a mold.

Description

반도체 리플로우 공정을 이용한 도광판의 비대칭 피라미드 마이크로렌즈 제조 방법 및 이의 방법에 의해 제조된 도광판{Manufacturing method of slanted-pyramid microlens using inclined-exposure process and it's application to Light Guide Plate}Manufacturing method of slanted-pyramid microlens using inclined-exposure process and it's application to light guide plate}

도 1은 본 발명에 사용되는 마스크의 사시도.1 is a perspective view of a mask used in the present invention.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 실시 예에 따른 비대칭 피라미드 형상의 포토레지스트를 제조하는 노광 공정을 보인 공정도.2A to 2C are process diagrams illustrating an exposure process for manufacturing an asymmetric pyramidal photoresist according to an embodiment of the present invention.

도 3a와 도 3b는 본 발명의 실시 예에 따라 제조된 피라미드형 포토레지스트들의 크기 및 모양의 특징을 보인 단면도.3a and 3b are cross-sectional views showing the size and shape of the pyramidal photoresist prepared in accordance with an embodiment of the present invention.

도 4a와 도 4b는 본 발명의 실시 예에 따른 경사 노광 공정 후에 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈로 변화된 포토레지스트의 형상을 보인 사시도.4A and 4B are perspective views illustrating the shape of a photoresist changed to an asymmetric pyramidal microlens after an inclined exposure process according to an embodiment of the present invention.

도 5a와 도 5b는 본 발명의 실시예에 따른 스탬퍼 제조 과정을 보인 공정도.5a and 5b is a process chart showing a stamper manufacturing process according to an embodiment of the present invention.

도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 양각 스탬퍼 제조 공정을 보인 개략도.6 is a schematic view showing an embossed stamper manufacturing process according to an embodiment of the present invention.

* 도면의 중요부분에 대한 부호의 설명** Explanation of symbols on important parts of drawing *

21: 마스크 22: 제1 영역21: mask 22: first region

23: 제2 영역 31: 기판23: second region 31: substrate

32: PR(포토레지스트) 34: 비대칭 피라미드형상의 PR32: PR (photoresist) 34: PR of asymmetric pyramidal shape

41: 금속박막 42: 음각 스탬퍼41: metal thin film 42: engraved stamper

44: 양각 스탬퍼44: embossed stamper

본 발명은 초미세패턴 형상가공 기술 및 미세성형기술에 관한 것으로, 특히, 마이크로 렌즈(micro-lens) 어레이(array) 또는 도광판(Light Guiding Plate: LGP) 등에 사용되는 광 확산 및 시야각 조절을 위한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 제조하는 방법 및 이 방법에 의해 제조된 도광판에 관한 것이다.The present invention relates to ultra-fine pattern shape processing technology and fine molding technology, in particular, asymmetry for light diffusion and viewing angle control used in micro-lens array (array) or light guiding plate (LGP), etc. A method of manufacturing a pyramidal microlens and a light guide plate produced by the method.

일반적으로 CRT, PDP, FED와는 달리 액정표시장치(LCD)에 의한 표시는 그 자체가 비발광성이기 때문에 빛이 없는 곳에서는 사용이 불가능하다. In general, unlike CRT, PDP, and FED, a display by a liquid crystal display (LCD) cannot be used in a place without light because it is non-luminous.

이러한 단점을 보완하고, 어두운 곳에서도 액정표시장치(LCD)의 사용이 가능하도록 하기 위해, 상기 액정표시장치의 패널 전체에 고르게 빛을 전달하는 조광장치로서 백라이트 유닛이 사용된다.In order to compensate for these disadvantages and to enable the use of a liquid crystal display (LCD) even in a dark place, a backlight unit is used as a dimming device for evenly transmitting light to the entire panel of the liquid crystal display.

상기 백라이트 유닛은 배경광원과, 빛을 반사시켜주는 반사판, 도광판, 확산판 등으로 구성된다. The backlight unit includes a background light source, a reflector, a light guide plate, a diffuser plate, etc. that reflect light.

상기 도광판은 양측면에 광원으로 사용되는 배경광원에서 방출되는 빛을 액정표시장치의 전체면에 균일하게 조사시키는 역할을 한다.The light guide plate uniformly irradiates the entire surface of the liquid crystal display device with light emitted from a background light source used as a light source on both sides.

종래에 휴대폰에 사용되는 도광판을 예로 설명하면, 도광판은 배면에 일정방 향으로 배열된 마이크로렌즈를 식각에 의한 도트나, 일정한 크기의 확산 잉크 도트(dot) 방식에 의해 제작 사용한다. Referring to the light guide plate used in the conventional mobile phone as an example, the light guide plate is manufactured by using a microlens arranged in a predetermined direction on the back by a dot by etching or a diffusion ink dot method of a constant size.

그러나, 상기와 같은 식각에 의한 도트 방식은 습식 에칭 과정에서의 문제로 일정한 크기나 거리를 가지는 패턴의 제조가 어려우며, 에칭면이 깨끗하지 못해 광학적으로도 광의 제어가 어렵고, 제조 기간이 길고 비용이 비싼 문제가 있다. However, the dot method by etching is a problem in the wet etching process, it is difficult to manufacture a pattern having a certain size or distance, the etching surface is not clean, it is difficult to optically control the light, the manufacturing period is long and cost is high There is an expensive problem.

또한, 확산 잉크 도트 형식을 사용한다하더라도 확산 잉크 자체의 흡수율과 산란으로 인해 광효율이 매우 떨어지는 문제가 있다.In addition, even if the diffusion ink dot format is used, there is a problem that the light efficiency is very low due to the absorption rate and scattering of the diffusion ink itself.

또한, 광학적 차원에서 액정표시장치는 장치면과 약 90도를 이루는 높은 출사각의 광이 필요한 반면, 종래 기술의 도광판을 통해서 출사되는 광은 출사각이 도광판 면과 약 30도로 매우 낮기 때문에, 낮은 출사각을 높이기 위하여 높은 가격의 프리즘 필름이나 확산 필름이 사용해야하는 문제가 있다. In addition, in the optical dimension, the liquid crystal display requires a high emission angle of about 90 degrees with the device surface, while the light emitted through the light guide plate of the prior art has a low emission angle of about 30 degrees with the surface of the light guide plate. In order to increase the exit angle, there is a problem that a high price prism film or a diffusion film should be used.

상기 사용되는 필름들을 줄이기 위하여 여러 가지 패턴들을 이용하기도 하는데, 이 또한, 기계가공이나 식각을 사용하기 때문에 균일한 형상의 제조가 어려운 문제가 있다.In order to reduce the films used, various patterns may be used. In addition, manufacturing of a uniform shape is difficult because machining or etching is used.

상기 문제점을 해결하기 위한 본 발명의 목적은 종래의 도광판에 사용되는 확산 잉크 도트 패턴이나 식각에 의한 도트 패턴을 대체하기 위하여 다수의 마이크로 단위의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 제작하는 공정을 쉽고 간단하게 하여, 사용자의 의도에 따라 상기의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈의 크기 또는 도 광판에서의 위치를 용이하게 할 수 있게 하는 도광판의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조방법 및 이 방법에 의해 제작된 도광판을 제공하는 것을 그 목적으로 한다.An object of the present invention for solving the above problems is to simplify and simplify the process of manufacturing asymmetric pyramidal microlenses of a plurality of micro units in order to replace the dot pattern by the diffusion ink dot pattern or etching used in the conventional light guide plate To provide a method of manufacturing an asymmetric pyramidal microlens of the light guide plate to facilitate the size or position of the asymmetric pyramidal microlens according to the user's intention and the light guide plate manufactured by the method The purpose.

또한, 상기 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈가 4방향의 각도가 서로 다른 비대칭 모양으로 제조되도록 하는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조방법 및 이 방법에 의해 제작된 도광판을 제공하는 것을 다른 목적으로 한다.Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an asymmetric pyramidal microlens such that the asymmetric pyramidal microlens is manufactured in an asymmetrical shape having different angles in four directions, and a light guide plate manufactured by the method.

상기 목적을 달성하기 위한 본 발명은 도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서, 빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계; 상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계; 상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 피라미드 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계; 상기 비대칭 피라미드 형상을 가진 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제4 단계; 및 상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 피라미드 형상의 포토레지스트가 양각된 도광판을 성형하는 제5 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 한다.In accordance with another aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a microlens of a light guide plate. First step; A second step of performing at least one oblique exposure so that light irradiated from above the second area downward has an asymmetric inclination angle in at least one direction or more; Developing the diagonally exposed substrate to obtain a plurality of photoresists having an asymmetric pyramid shape; A fourth step of fabricating an intaglio stamper for engraving the photoresist having the asymmetric pyramid shape; And forming a light guide plate in which the asymmetric pyramid-shaped photoresist is embossed using the intaglio stamper as a mold.

이하, 첨부한 도면을 참조로 하여 본 발명에 따른 바람직한 실시 예를 설명 한다. Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

하기에서 본 발명을 설명함에 있어 관련된 공지 기능 또는 구성에 대한 구체적인 기술은 본 발명의 요지를 불필요하게 흐릴 수 있다고 판단되는 경우에는 그 상세한 설명을 생략할 것이다. In the following description of the present invention, detailed descriptions of related well-known functions or configurations will be omitted when it is determined that they may unnecessarily obscure the subject matter of the present invention.

그리고, 후술되는 용어들은 본 발명에서의 기능을 고려하여 정의된 용어들로서 이는 사용자, 운용자의 의도 또는 관례 등에 따라 달라질 수 있다. 그러므로 그 정의는 본 명세서 전반에 걸친 내용을 토대로 내려져야 할 것이다.In addition, terms to be described below are terms defined in consideration of functions in the present invention, which may vary according to the intention or custom of a user or an operator. Therefore, the definition should be made based on the contents throughout the specification.

본 발명을 위해서는 우선적으로 노광 공정에 사용될 도 1에 도시된 바와 같은 마스크(21)를 제조를 한다. 여기서 마스크는 패턴의 정밀도에 따라 필름 마스크나 크롬 마스크 등이 결정된다. 크롬 마스크를 사용하면 1 ㎛ 정도의 정밀도로 제작이 가능하다.For the present invention, a mask 21 as shown in Fig. 1 to be used in the exposure process is first manufactured. Here, a mask, a chrome mask, etc. are determined by the mask with the precision of a pattern. If the chrome mask is used, it can be manufactured with a precision of about 1 μm.

도 1은 본 발명에 사용되는 마스크의 사시도로서, 동 도면에서 보여 지는 바와 같은 마스크(21)는 빛이 통과되는 제1 영역(22)과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역(23)으로 구성된다. FIG. 1 is a perspective view of a mask used in the present invention, wherein the mask 21 as shown in the drawing includes a first region 22 through which light passes and a plurality of second regions 23 through which light does not pass. It is composed.

이때, 상기 제2 영역(23)은 사각 형상으로 제작되는 것이 바람직한데, 물론 상기 제2 영역(23)을 사각이 아닌 다른 형상 즉, 원형, 타원, 오각, 육각 등의 형상으로 제작할 수 있다.In this case, the second region 23 may be manufactured in a rectangular shape, but of course, the second region 23 may be manufactured in a shape other than a square, that is, a circle, an ellipse, a pentagon, and a hexagon.

그리고, 본 발명의 마스크는 다수의 제2 영역(23)을 동일한 형상, 동일한 간격으로 제작할 수 있으며, 도 1에 도시된 바와 같이 다수의 제2 영역(23)이 동일한 사각 형상을 가지나 상기 사각 형상의 크기를 다르게 하고 그 간격과 방향 또한 다 르게 할 수 있다. In the mask of the present invention, the plurality of second regions 23 may be manufactured at the same shape and at the same interval, and as shown in FIG. 1, the plurality of second regions 23 may have the same square shape, but the square shape You can vary the size of the and change the spacing and direction.

또한, 상기 마스크(21)의 제2 영역(23)들은 일 방향의 연장선상에 배열되되, 상기 제2 영역(23)간의 거리는 근접하게 배열되고, 상기 배열과 이웃하는 또 다른 제 2영역(23)들의 배열로부터 적정거리 떨어져 형성되도록 한다.In addition, the second regions 23 of the mask 21 are arranged on an extension line in one direction, and the distance between the second regions 23 is arranged to be close, and another second region 23 neighboring the array is arranged. ) To form a distance away from the array.

도 2a 내지 도 2c는 본 발명의 실시 예에 따른 비대칭 피라미드 형상의 포토레지스트를 제조하는 노광 공정을 보인 공정도 이다.2A to 2C are process diagrams illustrating an exposure process for manufacturing an asymmetric pyramidal photoresist according to an embodiment of the present invention.

우선, 도 2a와 같이 스핀 코터(Spin Coater) 장비를 이용하여 유리 또는 실리콘 웨이퍼 기판(31) 상에 감광제인 PR(Photoresist; 32)를 코팅한다. 이때 사용되는 PR(32)의 종류는 두께에 따라 다양하게 정할 수 있다. First, a photoresist (PR) 32, which is a photoresist, is coated on a glass or silicon wafer substrate 31 using a spin coater device as shown in FIG. 2A. The type of PR 32 used at this time can be determined in various ways depending on the thickness.

상기 코팅공정이 끝나면, 오븐기에 넣고 코팅된 기판(31)을 소프트 베이킹(Soft baking)을 한다. 이때 베이킹 조건은 온도 70~120℃에서 시간은 2~30분 정도인 것이 양호하다.After the coating process is completed, the oven is put into an oven and subjected to soft baking of the coated substrate 31. At this time, the baking conditions are preferably about 2 to 30 minutes at a temperature of 70 ~ 120 ℃.

상기 소프트 베이킹이 끝나면, 도 2b에 도시된 바와 같이 마스크(21)를 PR 코팅된 기판(31) 상에 얼라인(align) 키(key)에 맞춰서 얼라인시키고, 도 2c와 같이 비대칭 피라미드 모양을 만들기 위하여 정해진 시간으로 4방향에서 경사 노광공정을 실시한다. After the soft baking is finished, the mask 21 is aligned on the PR-coated substrate 31 with an alignment key as shown in FIG. 2B, and the asymmetric pyramid shape as shown in FIG. 2C is obtained. In order to achieve this, a gradient exposure process is performed in four directions with a predetermined time.

이때, 상기 노광 공정에 사용되는 마스크(21)는 크기와 방향이 다른 사각형의 제2 영역(23) 들을 가진 마스크이다. 그리고, 상기 도 2b에서, Ra1, Ra2 는 제2 영역(23)의 수직방향 폭을 나타내고, Rb1, Rb2 제2 영역(23)의 수평방향 폭을 나타낸다. 그리고 La1, La2 는 제2 영역(23)의 수평방향 간 간격을 나타내고, Lb1, Lb2 는 제2 영역(23)의 수직방향 간의 간격을 나타낸다.In this case, the mask 21 used in the exposure process is a mask having rectangular second regions 23 having different sizes and directions. In FIG. 2B, Ra1 and Ra2 represent vertical widths of the second region 23, and Rb1 and Rb2 represent horizontal widths of the second region 23. And La1, La2 represent the space | interval between the horizontal direction of the 2nd area | region 23, and Lb1, Lb2 represent the space | interval between the vertical direction of the 2nd area | region 23. As shown in FIG.

동 도면에서 보는 바와 같이 상기 Ra1, Ra2의 폭과 Rb1, Rb2폭은 각기 다르게 제작될 수 있고, La1, La2의 간격이 Lb1, Lb2의 간격보다 넓게 배열되고 있음을 알 수 있다.As shown in the figure, the widths of Ra1 and Ra2 and the widths of Rb1 and Rb2 can be produced differently, and it can be seen that the interval between La1 and La2 is arranged wider than the interval between Lb1 and Lb2.

그리고, 상기 노광공정이 끝나면 현상 작업을 수행하도록 하는데, 현상액 온도는 상온에서 디핑(Dipping)하는 방식을 취한다.In addition, when the exposure process is completed, the developing operation is performed, and the developer temperature takes a dipping method at room temperature.

상기 현상결과를 도 2c를 통해 살펴보면, 동 도면에 도시된 바와 같이 경사 노광에 의해 빛을 통과한 제1 영역(22)의 PR(32)영역은 녹아서 없어지게 되고, 빛을 받지 않은 제2 영역(23)의 PR(32)영역은 남게 된다.As shown in FIG. 2C, the development result of the PR 32 region of the first region 22 that passes through the light by the oblique exposure is melted away, and the second region that is not subjected to light is shown in FIG. 2C. The PR 32 area of (23) remains.

결국, 기판(31)에 남는 것은 빛을 받지 않은 제2 영역(23)의 PR(34)이다. 이때, 상기 PR(34)의 형상은 제2 영역(23)의 형상과 동일한 사각형태를 따르게 되고, 경사노광의 결과로서, 하측으로 넓어지는 경사면을 갖는 피라미드형 기둥형상으로 제작된다.After all, what remains of the substrate 31 is the PR 34 of the second region 23 which is not subjected to light. At this time, the shape of the PR 34 follows the same rectangular shape as the shape of the second region 23, and as a result of the inclined exposure, it is manufactured into a pyramidal columnar shape having an inclined surface extending downward.

이때, 상기 PR(34)는 경사노광시의 조사각도 및 조사방향이 달라짐에 따라 비대칭형상을 갖는 피라미드형 기둥 형상으로 제작될 수 있다.In this case, the PR 34 may be manufactured in a pyramidal pillar shape having an asymmetric shape as the irradiation angle and the irradiation direction during the inclined exposure are changed.

상기와 같은 노광공정에 의해 형성된 비대칭 피라미드 형상의 PR(34)은 마스크(21)의 제2 영역(23)들의 패턴에 따르므로, 크기 및 간격이 서로 다른 비대칭 피라미드 형상의 PR(34)을 형성할 수 있게 되고, 상기 각 비대칭 피라미드 형상의 PR(34)들의 높이를 각기 다르게 형성할 수도 있다.Since the PR 34 having an asymmetric pyramidal shape formed by the above exposure process follows the pattern of the second regions 23 of the mask 21, the PR 34 having an asymmetric pyramidal shape having different sizes and intervals is formed. In this case, the heights of the PR asymmetric pyramid shapes 34 may be different.

도 3a는 노광된 기판을 비대칭 피라미드 형상의 PR(34) 길이가 긴 부분으로 절단한 단면도이고, 도 3b는 노광된 기판을 비대칭 피라미드 형상의 PR(34) 길이가 짧은 부분으로 절단한 단면도이다. FIG. 3A is a cross-sectional view of the exposed substrate cut into a portion having a long PR 34 length in an asymmetric pyramid shape, and FIG. 3B is a cross-sectional view of the exposed substrate cut into a short length PR 34 length in an asymmetric pyramid shape.

동 도면에서 보여 지는 바와 같은 비대칭 피라미드형 PR(34)들은 동일한 높이를 가지되, 크기를 다르게 제작할 수 있고, 각 피라미드형 PR(34) 간의 간격(La, Lb)을 방향에 따라 다르게 형성할 수 있다.The asymmetric pyramidal PR 34 as shown in the same drawing has the same height, but can be manufactured in different sizes, the spacing (La, Lb) between each pyramidal PR (34) can be formed differently depending on the direction. have.

도 4a는 본 발명에 따른 경사 노광 공정 후의 직선으로 배열된 PR의 상태를 보인 평면도이고, 도 4b는 본 발명에 따른 경사 노광 공정 후의 곡선으로 배열된 PR의 상태를 보인 평면도이다. 4A is a plan view showing a state of PR arranged in a straight line after the oblique exposure process according to the present invention, and FIG. 4B is a plan view showing a state of PR arranged in a curve after the oblique exposure process according to the present invention.

동 도면에서 보는 바와 같은 본 발명의 비대칭 피라미드 형상의 PR(34)은 마스크(21)의 제2 영역(23)의 형상과 경사노광각도 및 방향에 의해 결정되는데, 다양한 형태의 제작이 가능하고, 특히 도 4a 내지 4b와 같이 4방향의 각도가 서로 다른 비대칭 피라미드형상의 PR(34) 제작이 가능하게 된다.As shown in the drawing, the PR 34 of the asymmetric pyramidal shape of the present invention is determined by the shape of the second area 23 of the mask 21 and the inclination exposure angle and direction, and various types of fabrication are possible. In particular, as shown in FIGS. 4A to 4B, the asymmetric pyramidal PR 34 having different angles in four directions can be manufactured.

또한, 상기와 같은 비대칭 피라미드형상의 PR(34)은 도 4b에서와 같이 각 배열의 형태를 직선형 및 곡선형 등으로 다르게 형성할 수 있는데, 이는 마스크(21)에 형성되는 제2 영역(23)의 형상 및 배열로 결정된다.In addition, the asymmetric pyramidal PR 34 as described above may form different shapes of each array in a straight line or a curved line as shown in FIG. 4B, which is the second region 23 formed in the mask 21. Is determined by its shape and arrangement.

본 발명은 상기와 같은 방법을 통해 비대칭 미라미드형 PR(34)의 모양 및 크기에 따라 형성되는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 수치화할 수 있게 된다.According to the present invention, it is possible to quantify the asymmetric pyramidal microlenses formed according to the shape and size of the asymmetric miramid type PR 34 through the above method.

즉, 본 발명은 제품설계자의 의도에 따라 마스크의 제2 영역 및 경사노광의 각도를 조절하여 원하는 형태의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 만들 수 있게 되고, 나아가 원하는 형태의 광학 설계를 할 수 있게 된다. In other words, the present invention enables the asymmetric pyramidal microlens of a desired shape to be made by adjusting the angle of the second region and the oblique exposure of the mask according to the intention of the product designer, and further, the optical design of the desired shape can be made.

도 5a와 도 5b는 본 발명의 실시 예에 따른 음각 스탬퍼 제조 과정을 보인 공정도 이다.5A and 5B are process charts illustrating a process of manufacturing an intaglio stamper according to an exemplary embodiment of the present invention.

동 도면에서 보는 바와 같이 다수의 비대칭 피라미드 형상의 PR(34)이 패턴으로 형성된 기판(31) 상에 금속 박막(41)을 코팅한다. As shown in the figure, a plurality of asymmetric pyramidal PR 34 coating the metal thin film 41 on the substrate 31 formed in a pattern.

이때, 상기 금속 박막(41) 코팅은 보통 크롬(Cr) 코팅을 많이 하며, 금(Au)을 추가로 코팅할 수도 있다.In this case, the coating of the metal thin film 41 usually has a lot of chromium (Cr) coating, and may further coat gold (Au).

그리고, 상기 금속 박막(41) 코팅이 끝나면, 기판(31)을 도금장비에 장착하고 도 5b에 도시된 바와 같이 니켈 전기 도금을 실시한다. 이때 공급되는 전류는 각 스텝에 따라 수 암페어를 흘리며 이에 따른 도금두께는 400~450㎛가 되고(4인치 웨이퍼 기준),니켈 도금된 부분이 스탬퍼(stamper; 42)가 된다.Then, when the coating of the metal thin film 41 is completed, the substrate 31 is mounted on the plating equipment and nickel plating is performed as shown in FIG. 5B. At this time, the supplied current flows several amperes according to each step, and the plating thickness thereof is 400-450 µm (based on 4-inch wafer), and the nickel-plated portion becomes a stamper 42.

상기 니켈 전기 도금을 통해 스탬퍼(42)를 만들면, 기판(31)과 스탬퍼(42)를 분리시킨다. 이때 분리된 스탬퍼(42)는 비대칭 피라미드형상의 PR(34) 패턴이 음각으로 전사된 형태를 가진다. When the stamper 42 is made through the nickel electroplating, the substrate 31 and the stamper 42 are separated. At this time, the separated stamper 42 has a form in which an asymmetric pyramidal PR 34 pattern is intaglio transferred.

즉, 상기 스탬퍼(42; 이하 음각 스탬퍼라 함)에는 비대칭 피라미드형상의 PR(34) 패턴이 음각으로 새겨져 있고, 구면 렌즈 형태 간에 의한 그루부가 양각으로 새겨져 있다.That is, the stamper 42 (hereinafter referred to as the intaglio stamper) is engraved with an asymmetric pyramidal PR 34 pattern intaglio, and grooves between spherical lens types are engraved in relief.

상기와 같이 음각의 비대칭 피라미드형상의 PR(34) 패턴을 가진 음각 스탬퍼(42)를 제작하면, 상기 음각 스탬퍼(42)를 금형으로 하여 양각의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 어레이 패턴을 가진 도광판 또는 마이크로 렌즈 어레이를 성형할 수 있게 된다.When the intaglio stamper 42 having the intaglio asymmetric pyramidal PR 34 pattern is fabricated as described above, the light guide plate or the microlens having the intaglio asymmetric pyramidal microlens array pattern using the intaglio stamper 42 as a mold. The array can be molded.

그리고, 상기와 같은 음각 스탬퍼(42)를 이용하면, 음각의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 어레이 패턴을 가진 도광판을 제조하기 위한 또 다른 양각 스탬퍼를 제작할 수 있다.In addition, by using the intaglio stamper 42 as described above, another embossing stamper for manufacturing a light guide plate having an intaglio asymmetric pyramidal microlens array pattern may be manufactured.

도 6은 본 발명의 실시 예에 따른 양각 스탬퍼 제조 공정을 보인 개략도로서, 동 도면에서 보는 바와 같은 음각 스탬퍼(42)의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 어레이 패턴위에 새로운 니켈 도금공정을 실시한다.FIG. 6 is a schematic view showing an embossed stamper manufacturing process according to an exemplary embodiment of the present invention, and a new nickel plating process is performed on the asymmetric pyramidal microlens array pattern of the intaglio stamper 42 as shown in FIG.

상기 도금공정을 통해서 새로운 니켈도금 영역(44)이 형성되고, 상기 니켈 도금 영역(44)은 음각 스탬퍼(42)로부터 분리시킬 수 있다.A new nickel plating region 44 may be formed through the plating process, and the nickel plating region 44 may be separated from the intaglio stamper 42.

이렇게, 음각 스탬퍼(42)와 분리된 새로운 니켈도금 영역(44)은 상기 음각 스탬퍼(42)가 전사된 형태를 가지는 새로운 양각 스탬퍼(44)를 형성하게 된다. As such, the new nickel plating region 44 separated from the intaglio stamper 42 forms a new embossed stamper 44 having a form in which the intaglio stamper 42 is transferred.

즉, 새로운 양각 스탬퍼(44)는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈가 양각인데 반해, 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 간에 의한 그루부가 음각으로 새겨지게 되는 것이다.That is, the new embossed stamper 44 is embossed with the asymmetric pyramidal microlenses, while the grooves between the asymmetric pyramidal microlenses are engraved in the intaglio.

따라서, 상기 양각 스탬퍼(44)를 금형으로 하면 음각의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 어레이 패턴을 가진 도광판(미도시)을 성형할 수 있게 된다.Therefore, when the embossed stamper 44 is used as a mold, a light guide plate (not shown) having a negative asymmetric pyramidal microlens array pattern can be formed.

상기와 같은 본 발명은 3 차원적인 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 기계 가공이 아닌 반도체 노광 공정을 통하여 제작한다.As described above, the present invention manufactures a three-dimensional asymmetric pyramidal microlens through a semiconductor exposure process rather than by machining.

상기 본 발명은 이를 위하여 포토레지스트 재료를 4차례의 경사노광에 의해 4방향의 경사각이 각기 다른 비대칭 피라미드 형상의 포토레지스트를 제작하게 되고 이를 이용해서 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 갖는 도광판을 제작할 수 있게 된다.According to the present invention, a photoresist material having four asymmetrical exposures may be used to fabricate photoresist having asymmetrical pyramidal shapes having different inclination angles in four directions, and thus, a light guide plate having an asymmetric pyramidal microlens may be manufactured using the photoresist material. .

이상에서 본 발명에 대한 기술사상을 첨부도면과 함께 서술하였지만 이는 본 발명의 바람직한 실시 예를 예시적으로 설명한 것이지 본 발명을 한정하는 것은 아니다. 또한, 이 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 누구나 본 발명의 기술사상의 범주를 이탈하지 않는 범위 내에서 다양한 변형 및 모방이 가능함은 명백한 사실이다.The technical spirit of the present invention has been described above with reference to the accompanying drawings. In addition, it is obvious that any person skilled in the art can make various modifications and imitations without departing from the scope of the technical idea of the present invention.

상술한 설명에 따르면 본 발명은 경사 노광 공정에 의해 만들어진 포토레지스터에 의한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 제작시킴으로써, 간단한 제조 공정으로 미세한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 어레이 패턴을 제조할 수 있으며, 그에 따라 비용을 줄이고 제조 시간을 단축시키는 효과가 있다. According to the above description, the present invention can manufacture asymmetric pyramidal microlens array pattern by a simple manufacturing process by manufacturing an asymmetric pyramidal microlens by a photoresist made by an oblique exposure process, thereby reducing costs There is an effect of shortening the production time.

또한, 본 발명은 포토레지스터의 크기와 경사 노광의 각도를 조절함으로써, 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 제작자 임의대로 제조할 수 있어서 원하는 광학적 성질을 가지는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 도광판에 임의대로 제조할 수 있는 효과가 있다.In addition, by adjusting the size of the photoresist and the angle of the oblique exposure, the present invention can manufacture the asymmetric pyramid-type microlenses at the manufacturer's discretion, and can produce an asymmetric pyramidal microlens having the desired optical properties on the light guide plate. It works.

Claims (11)

도광판의 마이크로렌즈 제조방법에 있어서,In the microlens manufacturing method of the light guide plate, 빛이 통과되는 제1 영역과 빛이 통과되지 않는 복수 개의 제2 영역으로 이루어진 마스크를 포토레지스트가 코팅된 기판 상에 정렬시키는 제1 단계;A first step of aligning a mask comprising a first region through which light passes and a plurality of second regions through which light does not pass, on the photoresist-coated substrate; 상기 제2 영역 상측에서 하측으로 조사되는 빛이 적어도 1방향 이상에서 비대칭 경사각을 갖도록 하기위해서 적어도 1회 이상의 경사 노광을 실시하는 제2 단계;A second step of performing at least one oblique exposure so that light irradiated from above the second area downward has an asymmetric inclination angle in at least one direction or more; 상기 경사 노광된 기판을 현상하여 비대칭 피라미드 형태를 가진 다수의 포토레지스트를 얻는 제3 단계;Developing the diagonally exposed substrate to obtain a plurality of photoresists having an asymmetric pyramid shape; 상기 비대칭 피라미드 형상을 가진 포토레지스트가 음각되도록 하는 음각 스탬퍼를 제작하는 제4 단계; 및A fourth step of fabricating an intaglio stamper for engraving the photoresist having the asymmetric pyramid shape; And 상기 음각 스탬퍼를 금형으로 하여 상기 비대칭 피라미드 형상의 포토레지스트가 양각된 도광판을 성형하는 제5 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 도광판의 비대칭 피라미드 마이크로렌즈 제조 방법.And a fifth step of forming the light guide plate on which the asymmetric pyramid-shaped photoresist is embossed by using the intaglio stamper as a mold. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마스크는 필름 마스크 또는 크롬 마스크인 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 다수의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법.The mask is a film mask or a chromium mask, characterized in that a plurality of asymmetric pyramidal microlens manufacturing method using a semiconductor exposure process. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마스크의 제2 영역들은 일 방향의 연장선상에 배열되되, 상기 제2 영역간의 거리는 근접하게 배열되고, 상기 배열과 이웃하는 또 다른 제 2영역들의 배열로부터 적정거리 떨어져 형성되는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 도광판의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법. The second regions of the mask may be arranged on an extension line in one direction, and the distance between the second regions may be closely arranged, and the semiconductor may be formed at a proper distance from the arrangement of the other second regions adjacent to the array. A method of manufacturing an asymmetric pyramidal microlens of a light guide plate using an exposure process. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 마스크의 제2 영역은 사각형으로 제작되는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법.And a second area of the mask is formed in a quadrangle. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 제4 단계는 연속마이크로렌즈가 패턴으로 형성된 기판 상에 금속 박막을 코팅하는 단계와, 상기 금속 박막 상에 니켈 전기 도금을 수행하고 상기 니켈 전기 도금한 영역만을 분리시켜 스탬퍼를 형성하는 단계를 포함하여 이루어지는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 도광판의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법.The fourth step includes coating a metal thin film on a substrate on which a continuous microlens is formed in a pattern, and performing a nickel electroplating on the metal thin film and separating only the nickel electroplated region to form a stamper. A method of producing an asymmetric pyramidal microlens of a light guide plate using a semiconductor exposure process, characterized in that 제5항에 있어서,The method of claim 5, 상기 금속 박막 코팅은 크롬 코팅인 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법.The metal thin film coating is a symmetric pyramidal microlens manufacturing method using a semiconductor exposure process, characterized in that the chromium coating. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 금속 박막 코팅은 상기 크롬을 코팅한 후 금을 추가로 코팅하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법.The metal thin film coating is asymmetric pyramidal microlens manufacturing method using a semiconductor exposure process, characterized in that for further coating gold after coating the chromium. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 음각 스탬퍼를 마스터로 하여, 상기 음각 스탬퍼의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈의 형상이 양각되도록 한 양각 스탬퍼를 제작하는 단계 및 상기 양각 스탬퍼를 금형으로 하여 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈의 형상이 음각된 도광판을 성형하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법.Manufacturing an embossed stamper in which the shape of the asymmetric pyramidal microlens of the intaglio stamper is embossed by using the engraved stamper as a master; Asymmetric pyramidal microlens manufacturing method using a semiconductor exposure process, characterized in that it further comprises the step of. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 양각 스탬퍼는 음각 스탬퍼의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 어레이 패턴 위에 니켈 도금을 실시한 후, 이를 분리시켜 제작하는 것을 특징으로 하는 반도체 노광 공정을 이용한 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 제조 방법.The embossed stamper is nickel plated on the asymmetric pyramidal microlens array pattern of the intaglio stamper, and then manufactured by separating them. 복수개의 마이크로렌즈가 형성되는 도광판에 있어서,In the light guide plate in which a plurality of microlenses are formed, 상기 도광판 상의 일 방향 연장선상으로 비대칭 피라미드 형상을 갖는 복수 개의 마이크로렌즈가 정렬되되, 상기 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈 간의 거리가 근접 배열되도록 하고, 상기와 같은 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈들의 배열들이 도광판 상에 복수 개 형성되며, 상기 각각의 배열은 이웃하는 다른 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈들의 배열로부터 적정거리 떨어져 형성되는 것을 특징으로 하는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 갖는 도광판.A plurality of microlenses having an asymmetric pyramid shape is aligned on one direction extension line on the light guide plate such that the distances between the asymmetric pyramidal microlenses are arranged in close proximity, and the arrangement of the asymmetric pyramidal microlenses is arranged on the light guide plate. Wherein each of the arrays is formed at an appropriate distance from an array of neighboring other asymmetric pyramidal microlenses. 제 10항에 있어서,The method of claim 10, 상기 도광판에 형성되는 복수 개의 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈들 중 어느 일부는 크기를 달리하거나 배열방향을 달리하는 것을 특징으로 하는 비대칭 피라미드형 마이크로렌즈를 갖는 도광판.A light guide plate having an asymmetric pyramidal microlens, characterized in that some of the plurality of asymmetric pyramidal microlenses formed on the light guide plate vary in size or in an arrangement direction.
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Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100879948B1 (en) 2007-06-26 2009-01-23 희성전자 주식회사 Edge type backlight unit of using micro rectangular lens pattern
KR100897872B1 (en) * 2007-06-22 2009-05-18 순천향대학교 산학협력단 Light guiding plate for area light source and the manufacturing method thereof
WO2010080289A3 (en) * 2008-12-18 2010-09-16 3M Innovative Properties Company Lightguides having enhanced light extraction
WO2013122730A1 (en) * 2012-02-17 2013-08-22 3M Innovative Properties Company Backlight light guide
US8858010B2 (en) 2010-06-01 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Backlight unit and display apparatus having the same
KR20230045807A (en) * 2021-09-29 2023-04-05 엘지디스플레이 주식회사 Display Device

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101372863B1 (en) 2012-05-30 2014-03-10 (주)아스트로 Light distribution lens for led lamp
KR101567312B1 (en) 2014-02-26 2015-11-09 순천향대학교 산학협력단 Fabrication method of microlens array for oled out-coupling efficiency
CN105445845B (en) * 2015-12-28 2019-05-31 深圳市真屏科技发展有限公司 The optical lens mirror guiding device of LED screen
CN110515148A (en) * 2019-07-19 2019-11-29 浙江工业大学 A kind of production method of array micro-prism structure

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09269489A (en) * 1996-02-02 1997-10-14 Hitachi Ltd Manufacture of liquid crystal display device and light transmission plate for rear illuminating part
JPH11311778A (en) * 1998-02-27 1999-11-09 Hitachi Ltd Liquid crystal display device
JP3257457B2 (en) * 1997-07-31 2002-02-18 株式会社日立製作所 Liquid crystal display
JP2000131690A (en) * 1998-10-28 2000-05-12 Hitachi Ltd Light transmission plate and liquid crystal display device using it
JP2000171641A (en) * 1998-12-10 2000-06-23 Hitachi Ltd Back light device and liquid crystal display device as well as production of light transmission plate
JP3828402B2 (en) * 2001-11-08 2006-10-04 株式会社日立製作所 BACKLIGHTING DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE USING SAME, AND LIGHTING METHOD FOR LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100897872B1 (en) * 2007-06-22 2009-05-18 순천향대학교 산학협력단 Light guiding plate for area light source and the manufacturing method thereof
KR100879948B1 (en) 2007-06-26 2009-01-23 희성전자 주식회사 Edge type backlight unit of using micro rectangular lens pattern
WO2010080289A3 (en) * 2008-12-18 2010-09-16 3M Innovative Properties Company Lightguides having enhanced light extraction
US8909009B2 (en) 2008-12-18 2014-12-09 3M Innovative Properties Company Light guides having enhanced light extraction
US9429691B2 (en) 2008-12-18 2016-08-30 3M Innovative Properties Company Light guides having enhanced light extraction
US8858010B2 (en) 2010-06-01 2014-10-14 Samsung Display Co., Ltd. Backlight unit and display apparatus having the same
WO2013122730A1 (en) * 2012-02-17 2013-08-22 3M Innovative Properties Company Backlight light guide
US9632353B2 (en) 2012-02-17 2017-04-25 3M Innovative Properties Company Backlight light guide
KR20230045807A (en) * 2021-09-29 2023-04-05 엘지디스플레이 주식회사 Display Device

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