KR100797778B1 - Method for forming polymer pattern, metal stamper, micro lens array - Google Patents

Method for forming polymer pattern, metal stamper, micro lens array Download PDF

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장성일
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Abstract

A method for forming polymer patterns, a metal stamper, and a micro lens array is provided to form the micro lens array having a section shaped like a secondary parabola and various aspect ratios. A method for forming polymer patterns, a metal stamper, and a micro lens array comprises steps for irradiating the light progressing in a predetermined direction, to a positive-type photoresist polymer film; removing a mask(120) and irradiating the light progressing in parallel, to the positive-type photoresist polymer film; forming the polymer pattern by developing the positive-type photoresist polymer film; forming a metal mold on the polymer pattern; separating the metal mold and the polymer pattern; and forming metal materials on the separated metal mold.

Description

폴리머 패턴, 금속 스탬퍼 및 마이크로렌즈 어레이 형성 방법{METHOD FOR FORMING POLYMER PATTERN, METAL STAMPER, MICRO LENS ARRAY}METHOD FOR FORMING POLYMER PATTERN, METAL STAMPER, MICRO LENS ARRAY}

도 1 내지 도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법을 나타낸 도면.1 to 4 is a view showing a polymer pattern forming method according to an embodiment of the present invention.

도 5 내지 도 10은 본 발명의 일실시 예에 따른 금속 스탬퍼 형성방법을 나타낸 도면.5 to 10 is a view showing a metal stamper forming method according to an embodiment of the present invention.

도 11 내지 도 15는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법을 나타낸 도면.11 to 15 illustrate a method of forming a microlens array according to a first embodiment of the present invention.

도 16 내지 도 22는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법을 나타낸 도면.16 to 22 illustrate a method of forming a microlens array according to a second embodiment of the present invention.

도 23은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법에 따라 형성된 다양한 종횡비를 갖는 마이크로렌즈 어레이의 전자현미경 사진.FIG. 23 is an electron micrograph of a microlens array having various aspect ratios formed by a method of forming a microlens array according to a second embodiment of the present invention. FIG.

도 24는 도 23의 마이크로렌즈의 단면을 2차 포물선 곡선과 비교한 결과를 나타낸 도면.FIG. 24 is a view showing a result of comparing the cross section of the microlens of FIG. 23 with a secondary parabolic curve;

***** 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ********** Explanation of symbols for the main parts of the drawing *****

100 : 기판 110 : 양성 감광성 폴리머 막100 substrate 110 positive photosensitive polymer film

111 : 1차 노광영역 112 : 2차 노광영역111: first exposure area 112: second exposure area

113 : 폴리머 패턴 120 : 마스크113 polymer pattern 120 mask

130 : 디퓨저 900 : 금속 몰드130: diffuser 900: metal mold

1000 : 금속 스탬퍼 1500, 2200 : 마이크로렌즈 어레이1000: Metal Stamper 1500, 2200: Micro Lens Array

본 발명은 마이크로렌즈 어레이의 형성방법 등에 관한 것이다.The present invention relates to a method of forming a microlens array and the like.

일반적으로 마이크로렌즈 어레이는 감광성 폴리머 리플로우 방법 (Zoran D. Popovic, Robert A. Sprague, and G. A. Neville Connel, "Technique for monolithic fabrication of microlens arrays," Appl. Opt. vol. 27, pp. 1281-1284, 1988, Hsiharng Yang, Ching-Kong Chao, Mau-Kuo Wei, and Che-Ping Lin, "High fill-factor microlens array mold insert fabrication using a thermal reflow process," J. Micromech. Microeng. vol. 14, pp. 1197-1204, 2004), 프록시미티 프린팅 방법 (Lin Che-Ping, Yang Hsiharng, and Chao Ching-Kong, "A new microlens array fabrication method using UV proximity printing," J. Micromech. Microeng. vol. 13, pp. 748-757, 2003), 마이크로젯 프린팅 (D. L. MacFarlane, V. Narayan, J. A. Tatum, W. R. Cox, T. Chen, and D. J. Hayes, "Microjet fabrication of microlens arrays," IEEE Photon. Technol. Lett. vol. 6, pp. 1112-1114, 1994), 계조 마스크를 이용한 리소그래피 (Qinjun Peng, Yongkang Guo, and Shijie Liu, "Real-time gray-scale photolithography for fabrication of continuous microstructure," Opt. Lett. vol. 27, pp. 1720-1722, 2002) 등의 방법을 이용하여 직접 제작하거나, 감광성 폴리머 또는 기타 박막 패턴을 마스크로 하여 기판을 식각하고 마스크 패턴을 제거한 후 플라스틱으로 전사하는 방법 (Su-dong Moon, Shinill Kang, and Jong-Uk Bu, "Fabrication of polymeric microlens of hemispherical shape using micromolding," Opt. Eng. vol. 41, pp. 2267-2270, 2002) 등을 이용하여 제작한다.Microlens arrays are generally described as photosensitive polymer reflow methods (Zoran D. Popovic, Robert A. Sprague, and GA Neville Connel, "Technique for monolithic fabrication of microlens arrays," Appl. Opt. Vol. , 1988, Hsiharng Yang, Ching-Kong Chao, Mau-Kuo Wei, and Che-Ping Lin, "High fill-factor microlens array mold insert fabrication using a thermal reflow process," J. Micromech.Microeng. Vol. 14, pp 1197-1204, 2004), Lin Che-Ping, Yang Hsiharng, and Chao Ching-Kong, "A new microlens array fabrication method using UV proximity printing," J. Micromech.Microeng. Vol. 13, 748-757, 2003), Microjet Printing (DL MacFarlane, V. Narayan, JA Tatum, WR Cox, T. Chen, and DJ Hayes, "Microjet fabrication of microlens arrays," IEEE Photon. Technol. Lett. vol. 6, pp. 1112-1114, 1994), Lithography Using Gradation Masks (Qinjun Peng, Yongkang Guo, and Shijie Liu, "Real-time gray-scale photoli thography for fabrication of continuous microstructure, "Opt. Lett. vol. 27, pp. 1720-1722, 2002), or by etching the substrate using a photosensitive polymer or other thin film pattern as a mask Transfer to plastic after removal of su-dong moon, Shinill Kang, and Jong-Uk Bu, "Fabrication of polymeric microlens of hemispherical shape using micromolding," Opt. Eng. vol. 41, pp. 2267-2270, 2002).

그러나 이러한 마이크로렌즈 어레이 제작 방법은 두 가지 측면에서 한계를 가진다. 첫 번째는 마이크로렌즈의 단면의 모양이 모두 원의 일부인 호의 모양이라는 것이고, 두 번째는 마이크로렌즈의 종횡비가 0.1 정도로 매우 작기 때문에 개구수 (numerical aperture)가 작다는 것이다. 마이크로렌즈의 종횡비는 마이크로렌즈의 높이를 마이크로렌즈의 폭으로 나눈 값이다.However, this method of manufacturing a microlens array has limitations in two aspects. The first is that the shape of the cross section of the microlens is all the shape of an arc that is part of the circle, and the second is that the numerical aperture is small because the aspect ratio of the microlens is very small, such as 0.1. The aspect ratio of the microlenses is obtained by dividing the height of the microlens by the width of the microlens.

마이크로렌즈 어레이의 다양한 응용 분야 중에서 초점 영역의 모양 및 크기를 조절하거나 마이크로렌즈 어레이를 통과한 빛의 방사 각을 조절할 필요가 있는 경우, 구형 마이크로렌즈 어레이보다는 2차 포물선 모양을 가지는 마이크로렌즈 어레이가 적합하다 (R. Grunwald, S. Woggon, R. Ehlert, and W. Reinecke, "Thin-film microlens arrays with non-spherical elements," Pure Appl. Opt. vol. 6, pp. 663-671, 1997). 예를 들면, retina scanning display 장치에서 입사한 빛을 넓은 각도로 퍼뜨려주는 빔 확장자 (beam expander)로 사용되는 마이크로렌즈 어레이의 경우 (H. Urey and K. D. Powell, "Microlens-array-based exit-pupil expander for full-color displays," Appl. Opt. vol. 44, pp. 4930-4936, 2005), 큰 개구수와 높은 종횡비를 갖는 마이크로렌즈 어레이가 필요하다. 그러나, 종래의 마이크로렌즈 어레이 제조방법에 따라 제조된 마이크로렌즈 어레이는 개구수가 작고, 종횡비가 낮기 때문에, 빔 확장자 (beam expander)로서의 성능이 떨어지는 문제점이 있다.Among the various applications of microlens arrays, if you need to adjust the shape and size of the focus area or the angle of radiation of light passing through the microlens array, a microlens array with a secondary parabolic shape is preferable to a spherical microlens array. (R. Grunwald, S. Woggon, R. Ehlert, and W. Reinecke, "Thin-film microlens arrays with non-spherical elements," Pure Appl. Opt. Vol. 6, pp. 663-671, 1997). For example, in the case of a microlens array used as a beam expander that spreads light incident from a retina scanning display device at a wide angle (H. Urey and KD Powell, “Microlens-array-based exit-pupil expander”). for full-color displays, "Appl. Opt. vol. 44, pp. 4930-4936, 2005), which requires a microlens array with large numerical aperture and high aspect ratio. However, since the microlens array manufactured according to the conventional microlens array manufacturing method has a small numerical aperture and a low aspect ratio, performance as a beam expander is inferior.

기타 엑시머 레이저 빔 셰이핑(eximer laser beam shaping), 디스플레이 스크린(display screen), 라이트-컨트롤 필름 (light-control film), 일루미네이션(illumination) 등의 분야에 사용되는 마이크로렌즈 어레이의 경우 마이크로렌즈의 분산 패턴 (scatter pattern)을 자유자재로 조절하기 위해 마이크로렌즈의 크기 또는 종횡비를 조절하여 입사하는 빛의 진행 방향 및 각도를 조절할 필요가 있지만 (T. R. M. Sales, "Structures microlens arrays for beam shaping," Opt. Eng. vol. 42, pp. 3084-3085, 2003), 종래의 마이크로렌즈 어레이 제조방법에 따라 제조된 마이크로렌즈 어레이는 이러한 요구를 충족시키지 못하는 문제점이 있다.The dispersion pattern of microlenses for microlens arrays used in other excimer laser beam shaping, display screen, light-control film, illumination, etc. In order to freely adjust the scatter pattern, it is necessary to adjust the direction or angle of the incident light by adjusting the size or aspect ratio of the microlens (TRM Sales, "Structures microlens arrays for beam shaping," Opt. Eng. vol. 42, pp. 3084-3085, 2003), a microlens array manufactured according to a conventional method of manufacturing a microlens array has a problem that does not satisfy this requirement.

이러한 문제점들을 해결하기 위한 본 발명은 실질적으로 2차 포물선 모양의 단면과 다양한 종횡비를 갖는 폴리머 패턴, 금속 스탬퍼, 마이크로렌즈 어레이 형성방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.An object of the present invention is to provide a method for forming a polymer pattern, a metal stamper, and a microlens array having a substantially parabolic cross section and various aspect ratios.

마이크로렌즈 어레이를 대량생산하고, 마이크로렌즈 어레이의 제조비용과 제조시간을 줄이는 마이크로렌즈 어레이 형성방법을 제공하는 것을 목적으로 한다.It is an object of the present invention to provide a method for forming a microlens array, which mass-produces a microlens array and reduces manufacturing cost and manufacturing time of the microlens array.

이러한 기술적 과제를 달성하기 위한 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법은 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계 및 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계를 포함한다.In accordance with one aspect of the present invention, there is provided a method of forming a polymer pattern, which irradiates a positive photosensitive polymer film with a light traveling in an arbitrary direction through a mask, and removes the mask, in a parallel direction. Irradiating the light with the positive photosensitive polymer film.

본 발명의 일실시 예에 따른 금속 스탬퍼 형성방법은 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 상기 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계와, 상기 폴리머 패턴 상에 금속 몰드를 형성하는 단계와, 상기 금속 몰드와 상기 폴리머 패턴을 분리하는 단계 및 상기 분리된 금속 몰드 상에 금속 물질을 형성하는 단계를 포함한다.According to an embodiment of the present invention, a method of forming a metal stamper may include irradiating a positive photosensitive polymer film with light traveling in an arbitrary direction through a mask, removing the mask, and generating light traveling in a parallel direction. Irradiating a photosensitive polymer film, developing the positive photosensitive polymer film to form a polymer pattern, forming a metal mold on the polymer pattern, separating the metal mold and the polymer pattern, and Forming a metal material on the separated metal mold.

본 발명의 제1 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법은 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 상기 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계 및 상기 폴리머 패턴을 마이크로렌즈 어레이 형성용 제1 고분자물질에 전사하는 단계를 포함한다.The method of forming a microlens array according to the first embodiment of the present invention comprises irradiating a positive photosensitive polymer film with light traveling in an arbitrary direction through a mask, removing the mask, and applying light traveling in a parallel direction. Irradiating the positive photosensitive polymer film, developing the positive photosensitive polymer film to form a polymer pattern, and transferring the polymer pattern to a first polymer material for forming a microlens array.

본 발명의 제2 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법은 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 상기 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계와, 상기 폴리머 패턴 상에 금속 몰드를 형성하는 단계와, 상기 금속 몰드와 상기 폴리머 패턴을 분리하는 단계와, 상기 분리된 금속 몰드 상에 금속 스탬퍼를 형성하는 단계 및 상기 금속 스탬퍼를 마이크로렌즈 어레이 형성용 제2 고분자물질에 전사하는 단계를 포함한다.In the method of forming a microlens array according to the second embodiment of the present invention, the method of irradiating a positive photosensitive polymer film with light traveling in an arbitrary direction through a mask, removing the mask, and applying light traveling in a parallel direction Irradiating the positive photosensitive polymer film, developing the positive photosensitive polymer film to form a polymer pattern, forming a metal mold on the polymer pattern, and separating the metal mold and the polymer pattern And forming a metal stamper on the separated metal mold and transferring the metal stamper to a second polymer material for forming a microlens array.

상기 임의의 방향으로 진행하는 광의 세기를 조절하여, 상기 폴리머 패턴에 포함된 단위 패턴들이 서로 만나게 하는 것이 바람직하다.It is preferable that the unit patterns included in the polymer pattern meet each other by adjusting the intensity of light traveling in the arbitrary direction.

상기 마이크로렌즈 어레이에 포함된 마이크로렌즈의 종횡비는 0.5 이상인 것이 바람직하다.The aspect ratio of the microlenses included in the microlens array is preferably 0.5 or more.

상기 마이크로렌즈 어레이에 포함된 마이크로렌즈들 중 인접한 마이크로렌즈들간의 거리는 0.5 μm 이하인 것이 바람직하다.Preferably, the distance between adjacent microlenses among the microlenses included in the microlens array is 0.5 μm or less.

상기 제1 고분자물질은 폴리디메틸실옥산(polydimethylsiloxane, PDMS), 자외선에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 열에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 스핀-온-글래스(spin-on-glass) 중 하나인 것이 바람직하다.The first polymer material may be polydimethylsiloxane (PDMS), a polymer cured by ultraviolet light, a polymer cured by heat, or spin-on-glass. It is preferable to be one.

상기 금속 몰드를 형성하는 단계는 상기 폴리머 패턴 상에 금속 시드층을 증착하는 단계 및 상기 금속 시드층 상에 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다.The forming of the metal mold may include depositing a metal seed layer on the polymer pattern and forming a metal layer on the metal seed layer. It is preferred to include the step of forming.

상기 금속 시드층은 이베퍼레이션 (evaporation) 또는 스퍼터링 (sputtering)으로 박막 증착되는 것이 바람직하다.The metal seed layer is preferably thin film deposited by evaporation or sputtering.

상기 금속 시드층은 구리(Cu) 또는 금(Au)을 포함하는 것이 바람직하다.The metal seed layer preferably includes copper (Cu) or gold (Au).

상기 금속 스탬퍼는 니켈(Ni)을 포함하는 것이 바람직하다.The metal stamper preferably includes nickel (Ni).

상기 금속 스탬퍼는 사출성형(Injection Molding) 또는 핫 엠보싱(Hot Embossing)에 의해 상기 제2 고분자물질에 전사되는 것이 바람직하다.The metal stamper is preferably transferred to the second polymer material by injection molding or hot embossing.

상기 제2 고분자물질은 폴리디메틸실옥산(polydimethylsiloxane, PDMS), 자외선에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 열에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 스핀-온-글래스 (spin-on-glass), 폴리메틸메타아크릴레이트(polymethylmetaacrylate, PMMA), 폴리카보네이트 (polycarbonate) 중 하나인 것이 바람직하다.The second polymer material may be polydimethylsiloxane (PDMS), a polymer cured by ultraviolet light, a polymer cured by heat, spin-on-glass, It is preferably one of polymethyl methacrylate (PMMA) and polycarbonate.

이하에서는 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시 예를 상세히 설명한다.Hereinafter, with reference to the accompanying drawings will be described a preferred embodiment of the present invention;

도 1 내지 도 4는 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법을 나타낸 도면이다.1 to 4 is a view showing a polymer pattern forming method according to an embodiment of the present invention.

도 1 내지 도 4에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법은 기판(100) 상에 형성된 양성 감광성 폴리머 막(110) 상에 마스크(120)를 위치시키는 단계와, 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크(120)를 통하여 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사하는 단계와, 마스크(120)를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계 및 양성 감광성 폴리머 막을 현상하는 단계를 포함한다.1 to 4, a method of forming a polymer pattern according to an embodiment of the present invention includes positioning a mask 120 on a positive photosensitive polymer film 110 formed on a substrate 100; Irradiating the positive photosensitive polymer film 110 with light traveling in an arbitrary direction through the mask 120, removing the mask 120, and irradiating the positive photosensitive polymer film with light traveling in a parallel direction. And developing the positive photosensitive polymer film.

먼저 도 1에 도시된 바와 같이, 기판(100) 상에 양성 감광성 폴리머 막(110) 을 형성한다. 기판(100)은 소정의 목적을 갖는 반도체 기판(semiconductor substrate) 또는 유리 기판(glass substrate) 또는 액정 패널(liquid crystal panel) 일 수 있다. First, as shown in FIG. 1, a positive photosensitive polymer film 110 is formed on a substrate 100. The substrate 100 may be a semiconductor substrate, a glass substrate, or a liquid crystal panel having a predetermined purpose.

다음으로 도 2에 도시된 바와 같이, 양성 감광성 폴리머 막(110) 상에 소정의 패턴이 형성된 마스크(120)를 위치시키고, 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크(120)를 통하여 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사한다. 이 과정을 보다 상세히 설명하면 다음과 같다. 먼저, (1) 입력되는 광을 산란시켜 출력하는 디퓨저(130)를 마스크(120) 상에 위치시킨다. 다음으로, (2) 평행한 방향으로 진행하는 광을 디퓨저(130)에 조사한다. 디퓨저(130)는 평행한 방향으로 진행하는 광을 산란시켜 임의의 방향으로 진행하는 광으로 바꾼다. 임의의 방향으로 진행하는 광은 패턴이 형성된 마스크(120)를 통과하여 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사된다. 임의의 방향으로 진행하는 광이 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사되면, 마스크(120) 패턴에 대응하는 형상을 갖는 1차 노광영역(111)이 양성 감광성 폴리머 막(110)에 형성된다. 마스크(120)의 패턴 즉, 마스크(120)의 열린 영역의 폭과 임의의 방향으로 진행하는 광의 세기를 조절하여, 1차 노광영역(111) 즉, 임의의 방향으로 진행하는 광이 조사된 폴리머 영역들이 서로 만나게 할 수 있다. 이와 같이 하면, 폴리머 패턴에 포함된 인접하는 단위 패턴들이 서로 만나게 할 수 있고, 폴리머 패턴의 밀도를 높일 수 있다. 폴리머 패턴의 밀도는 단위면적에 포함된 단위 패턴의 수이다. 예를 들어, 단위 패턴의 폭이 10 μm인 폴리머 패턴을 형성하기 위해서 마스크(120)의 열린 영역의 폭을 3~8 μm로 하고, 임의의 방향으로 진행하는 광의 세 기를 6000~4000 mJ/cm2로 하면, 폴리머 패턴에 포함된 인접한 단위 패턴들이 서로 만나도록 할 수 있다. Next, as shown in FIG. 2, a mask 120 having a predetermined pattern is positioned on the positive photosensitive polymer film 110, and light propagating in an arbitrary direction is passed through the positive photosensitive polymer film. Check 110. This process is described in more detail as follows. First, (1) the diffuser 130 for scattering and outputting the input light is positioned on the mask 120. Next, (2) light propagating in the parallel direction is radiated to the diffuser 130. The diffuser 130 scatters the light traveling in the parallel direction and converts the light into the light traveling in the arbitrary direction. Light traveling in any direction passes through the mask 120 on which the pattern is formed and is irradiated to the positive photosensitive polymer film 110. When light traveling in an arbitrary direction is irradiated to the positive photosensitive polymer film 110, a primary exposure region 111 having a shape corresponding to the mask 120 pattern is formed in the positive photosensitive polymer film 110. The pattern of the mask 120, that is, the width of the open area of the mask 120 and the intensity of light traveling in an arbitrary direction to adjust the primary exposure area 111, that is, the polymer irradiated with light traveling in an arbitrary direction Areas can meet each other. In this way, adjacent unit patterns included in the polymer pattern may meet each other, and the density of the polymer pattern may be increased. The density of the polymer pattern is the number of unit patterns included in the unit area. For example, in order to form a polymer pattern having a unit pattern having a width of 10 μm, the width of the open area of the mask 120 is set to 3 to 8 μm, and the light intensity traveling in an arbitrary direction is 6000 to 4000 mJ / cm. When set to 2 , adjacent unit patterns included in the polymer pattern may meet each other.

다음으로 도 3에 도시된 바와 같이, 마스크(120)를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 양성 감광성 폴리머 막에 조사한다. 이와 같이 하면, (1) 제거된 마스크(120)의 닫힌 영역 바로 아래 부분에 평행한 방향으로 진행하는 광이 조사되고, (2) 제거된 마스크(120)의 열린 영역 아래 부분 즉, 임의의 방향으로 진행하는 광이 조사된 1차 노광영역(111)의 아래 부분이 평행한 방향으로 진행하는 광에 의하여 추가적으로 노광되어, 2차 노광영역(112)이 형성된다.Next, as shown in FIG. 3, the mask 120 is removed, and the light traveling in the parallel direction is irradiated onto the positive photosensitive polymer film. In this way, (1) light traveling in a direction parallel to the portion directly below the closed region of the removed mask 120 is irradiated, and (2) the portion below the open region of the removed mask 120, that is, in any direction. The lower portion of the primary exposure area 111 irradiated with light is additionally exposed by the light traveling in a parallel direction to form a secondary exposure area 112.

다음으로 도 4에 도시된 바와 같이, 1차 노광영역(111) 및 2차 노광영역(112)이 형성된 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 제거하여, 2차 포물선 모양의 단면을 가지는 폴리머 패턴(113)을 형성한다. Next, as shown in FIG. 4, the positive photosensitive polymer film having the first exposure region 111 and the second exposure region 112 is developed and removed to remove the polymer pattern 113 having a secondary parabolic cross section. Form.

폴리머 패턴(113)에 포함된 단위 패턴의 종횡비는 0.5 이상인 것이 바람직하다. 단위 패턴의 종횡비는 단위 패턴의 높이를 단위 패턴의 폭으로 나눈 값이다. 이러한 단위 패턴의 종횡비는 2차 노광영역을 형성하는 평행한 방향으로 진행하는 광의 세기에 따라 조절될 수 있다.The aspect ratio of the unit pattern included in the polymer pattern 113 is preferably 0.5 or more. The aspect ratio of the unit pattern is a value obtained by dividing the height of the unit pattern by the width of the unit pattern. The aspect ratio of the unit pattern may be adjusted according to the intensity of light traveling in a parallel direction forming the secondary exposure area.

폴리머 패턴(113)에 포함된 단위 패턴들 중 인접한 단위 패턴들 간의 거리를 0.5 μm 이하로 하여, 폴리머 패턴(113)의 밀도를 높일 수 있다.The distance between adjacent unit patterns among the unit patterns included in the polymer pattern 113 may be 0.5 μm or less, thereby increasing the density of the polymer pattern 113.

도 5 내지 도 10은 본 발명의 일실시 예에 따른 금속 스탬퍼 형성방법을 나 타낸 도면이다.5 to 10 is a view showing a metal stamper forming method according to an embodiment of the present invention.

도 5 내지 도 10에 도시된 바와 같이, 본 발명의 일실시 예에 따른 금속 스탬퍼 형성방법은 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크(120)를 통하여 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사하는 단계와, 마스크(120)를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사하는 단계와, 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계와, 폴리머 패턴(113) 상에 금속 몰드(900)를 형성하는 단계와, 금속 몰드(900)와 폴리머 패턴(113)을 분리하는 단계 및 분리된 금속 몰드(900) 상에 금속 물질을 형성하는 단계를 포함한다.As shown in Figure 5 to 10, the metal stamper forming method according to an embodiment of the present invention comprises the steps of irradiating the positive photosensitive polymer film 110 through the mask 120 to the light traveling in an arbitrary direction and Removing the mask 120 and irradiating the positive photosensitive polymer film 110 with light traveling in a parallel direction, developing the positive photosensitive polymer film to form the polymer pattern 113, and Forming a metal mold 900 on 113, separating the metal mold 900 and the polymer pattern 113, and forming a metal material on the separated metal mold 900.

본 발명의 일실시 예에 따른 금속 스탬퍼 형성방법에 포함된 공정 단계들 중 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계까지의 공정 단계들은 앞서 상세히 설명한 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법과 동일하다. 따라서 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계까지의 공정 단계들에 대한 설명은 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법에 대한 설명으로 대체한다.Process steps up to forming the polymer pattern 113 among the process steps included in the metal stamper forming method according to an embodiment of the present invention are the same as the polymer pattern forming method according to an embodiment of the present invention described above in detail Do. Therefore, the description of the process steps up to the step of forming the polymer pattern 113 is replaced with the description of the method of forming the polymer pattern according to an embodiment of the present invention.

도 9에 도시된 바와 같이, 폴리머 패턴(113) 상에 금속 몰드(900)를 형성한다.As shown in FIG. 9, a metal mold 900 is formed on the polymer pattern 113.

금속 몰드(900)를 형성하는 단계는 폴리머 패턴(113) 상에 금속 시드층을 증착하는 단계 및 금속 시드층 상에 금속층을 형성하는 단계를 포함하는 것이 바람직하다. 금속 시드층은 이베퍼레이션 (evaporation) 또는 스퍼터링 (sputtering)으로 박막 증착될 수 있다. 금속 시드층은 구리(Cu) 또는 금(Au)을 포함하는 것이 바람직하지만, 이에 한정되지 않고 도금성이 우수한 물질이면 채택할 수 있다. 금속층 은 도금법에 의해 금속 시드층 상에 형성될 수 있지만, 이에 한정되지 않는다.Forming the metal mold 900 may include depositing a metal seed layer on the polymer pattern 113 and depositing a metal layer on the metal seed layer. It is preferred to include the step of forming. The metal seed layer may be thin film deposited by evaporation or sputtering. The metal seed layer preferably contains copper (Cu) or gold (Au). However, the metal seed layer is not limited thereto and may be adopted as long as the material has excellent plating properties. The metal layer may be formed on the metal seed layer by the plating method, but is not limited thereto.

도 10에 도시된 바와 같이, 금속 몰드(900)와 폴리머 패턴(113)을 분리하고, 분리된 금속 몰드(900) 상에 금속 물질을 형성하고, 금속 몰드와 금속 물질을 분리하여 금속 스탬퍼(1000)를 형성한다.As shown in FIG. 10, the metal mold 900 and the polymer pattern 113 are separated, a metal material is formed on the separated metal mold 900, and the metal mold and the metal material are separated from the metal stamper 1000. ).

금속 스탬퍼(1000)는 니켈(Ni) 또는 니켈(Ni) 합금 등과 같이 강도(strength)와 경도(hardness)가 우수한 물질을 채택하여 구성하는 것이 바람직하다. 이와 같이 하여, 금속 스탬퍼(1000)의 내마모성 등을 향상시킬 수 있다.The metal stamper 1000 is preferably configured by adopting a material having excellent strength and hardness, such as nickel (Ni) or nickel (Ni) alloy. In this way, the wear resistance and the like of the metal stamper 1000 can be improved.

도 11 내지 도 15는 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법을 나타낸 도면이다.11 to 15 are diagrams illustrating a method of forming a microlens array according to a first embodiment of the present invention.

도 11 내지 도 15에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제1 실시 예에 따른 마이크로렌즈 형성방법은 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크(120)를 통하여 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사하는 단계와, 마스크(120)를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계 및 폴리머 패턴(113)을 마이크로렌즈 어레이 형성용 제1 고분자물질에 전사하는 단계를 포함한다.11 to 15, in the method of forming a microlens according to the first embodiment of the present invention, irradiating the positive photosensitive polymer film 110 with light traveling in an arbitrary direction through the mask 120. Removing the mask 120 and irradiating the positive photosensitive polymer film with light traveling in a parallel direction, developing the positive photosensitive polymer film to form the polymer pattern 113, and the polymer pattern 113. And transferring the first polymer material for forming the microlens array.

본 발명의 제1 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법에 포함된 공정 단계들 중 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계까지의 공정 단계들은 앞서 상세히 설명한 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법과 동일하다. 따라서 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계까지의 공정 단계들에 대한 설명은 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법에 대한 설명으로 대체한다.The process steps up to forming the polymer pattern 113 among the process steps included in the method for forming the microlens array according to the first embodiment of the present invention are the method of forming the polymer pattern according to the embodiment of the present invention described above in detail. Is the same as Therefore, the description of the process steps up to the step of forming the polymer pattern 113 is replaced with the description of the method of forming the polymer pattern according to an embodiment of the present invention.

도 15에 도시된 바와 같이, 폴리머 패턴(113)을 마이크로렌즈 어레이 형성용 제1 고분자물질에 전사하여 마이크로렌즈 어레이(1500)를 형성한다.As shown in FIG. 15, the microlens array 1500 is formed by transferring the polymer pattern 113 to the first polymer material for forming the microlens array.

제1 고분자물질은 폴리디메틸실옥산(polydimethylsiloxane, PDMS), 자외선에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 열에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 스핀-온-글래스(spin-on-glass) 중 하나일 수 있다.The first polymer material is one of polydimethylsiloxane (PDMS), a polymer cured by ultraviolet light, a polymer cured by heat, and spin-on-glass Can be.

마이크로렌즈 어레이(1500)에 포함된 마이크로렌즈의 종횡비는 0.5 이상인 것이 바람직하다. 마이크로렌즈의 종횡비는 마이크로렌즈의 높이(H)를 마이크로렌즈의 폭(W)으로 나눈 값이다. The aspect ratio of the microlenses included in the microlens array 1500 is preferably 0.5 or more. The aspect ratio of the microlens is a value obtained by dividing the height H of the microlens by the width W of the microlens.

마이크로렌즈 어레이(1500)에 포함된 마이크로렌즈들 중 인접한 마이크로렌즈들 간의 거리를 0.5 μm 이하로 하여, 마이크로렌즈 어레이(1500)의 밀도를 높일 수 있다.The distance between adjacent microlenses among the microlenses included in the microlens array 1500 may be 0.5 μm or less, thereby increasing the density of the microlens array 1500.

도 16 내지 도 22는 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법을 나타낸 도면이다.16 to 22 illustrate a method of forming a microlens array according to a second embodiment of the present invention.

도 16 내지 도 22에 도시된 바와 같이, 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법은 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크(120)를 통하여 양성 감광성 폴리머 막(110)에 조사하는 단계와, 마스크(120)를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계와, 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계와, 폴리머 패턴(113) 상 에 금속 몰드(900)를 형성하는 단계와, 금속 몰드(900)와 폴리머 패턴(113)을 분리하는 단계와, 분리된 금속 몰드(900) 상에 금속 스탬퍼(1000)를 형성하는 단계 및 금속 스탬퍼(1000)를 마이크로렌즈 어레이(2200) 형성용 제2 고분자물질에 전사하는 단계를 포함한다.16 to 22, in the method of forming a microlens array according to the second embodiment of the present invention, the positive photosensitive polymer film 110 is irradiated with light traveling in an arbitrary direction through the mask 120. Removing the mask 120 and irradiating the positive photosensitive polymer film with light traveling in a parallel direction, developing the positive photosensitive polymer film to form the polymer pattern 113, and the polymer pattern 113. Forming a metal mold (900) on the surface, separating the metal mold (900) and the polymer pattern (113), forming a metal stamper (1000) on the separated metal mold (900), and And transferring the metal stamper 1000 to the second polymer material for forming the microlens array 2200.

본 발명의 제2 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법에 포함된 공정 단계들 중 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계까지의 공정 단계들은 앞서 상세히 설명한 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법과 동일하고, 금속 몰드(900)를 형성하는 단계부터 금속 스탬퍼(1000)를 형성하는 단계까지의 공정 단계들은 앞서 상세히 설명한 본 발명의 일실시 예에 따른 금속 스탬퍼 형성방법과 동일하다. 따라서 폴리머 패턴(113)을 형성하는 단계까지의 공정 단계들에 대한 설명은 본 발명의 일실시 예에 따른 폴리머 패턴 형성방법에 대한 설명으로 대체하고, 금속 몰드(900)를 형성하는 단계부터 금속 스탬퍼(1000)를 형성하는 단계까지의 공정 단계들에 대한 설명은 본 발명의 일실시 예에 따른 금속 스탬퍼 형성방법에 대한 설명으로 대체한다.The process steps up to forming the polymer pattern 113 among the process steps included in the method for forming the microlens array according to the second embodiment of the present invention are the method of forming the polymer pattern according to the embodiment of the present invention described above in detail. The process steps from forming the metal mold 900 to forming the metal stamper 1000 are the same as the metal stamper forming method according to an embodiment of the present invention described above in detail. Therefore, the description of the process steps up to the step of forming the polymer pattern 113 is replaced with the description of the method of forming the polymer pattern according to an embodiment of the present invention, and the metal stamper from the step of forming the metal mold 900 The description of the process steps up to the step of forming the 1000 is replaced with the description of the metal stamper forming method according to an embodiment of the present invention.

도 22에 도시된 바와 같이, 금속 스탬퍼(1000)를 마이크로렌즈 어레이 형성용 제2 고분자물질에 전사하여 마이크로렌즈 어레이(2200)를 형성한다.As shown in FIG. 22, the metal stamper 1000 is transferred to the second polymer material for forming the microlens array to form the microlens array 2200.

금속 스탬퍼(1000)는 사출성형(Injection Molding) 또는 핫 엠보싱(Hot Embossing)에 의해 제2 고분자물질에 전사될 수 있고, 제2 고분자물질은 폴리디메틸실옥산(polydimethylsiloxane, PDMS), 자외선에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 열에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 스핀-온-글래스 (spin-on-glass), 폴리 메틸메타아크릴레이트(polymethylmetaacrylate, PMMA), 폴리카보네이트 (polycarbonate) 중 하나일 수 있다.The metal stamper 1000 may be transferred to the second polymer material by injection molding or hot embossing, and the second polymer material may be cured by polydimethylsiloxane (PDMS) or ultraviolet light. It can be one of a polymer that is cured, a polymer cured by heat, spin-on-glass, polymethylmetaacrylate (PMMA), or polycarbonate. have.

마이크로렌즈 어레이(2200)에 포함된 마이크로렌즈의 종횡비는 0.5 이상인 것이 바람직하다. 마이크로렌즈의 종횡비는 마이크로렌즈의 높이(H)를 마이크로렌즈의 폭(W)으로 나눈 값이다. The aspect ratio of the microlenses included in the microlens array 2200 is preferably 0.5 or more. The aspect ratio of the microlens is a value obtained by dividing the height H of the microlens by the width W of the microlens.

마이크로렌즈 어레이(2200)에 포함된 마이크로렌즈들 중 인접한 마이크로렌즈들 간의 거리를 0.5 μm 이하로 하여, 마이크로렌즈 어레이(2200)의 밀도를 높일 수 있다.The distance between adjacent microlenses among the microlenses included in the microlens array 2200 may be 0.5 μm or less, thereby increasing the density of the microlens array 2200.

도 23은 본 발명의 제2 실시 예에 따른 마이크로렌즈 어레이 형성방법에 따라 형성된 다양한 종횡비를 갖는 마이크로렌즈 어레이(2200)의 전자현미경 사진이다.FIG. 23 is an electron micrograph of a microlens array 2200 having various aspect ratios formed by a method of forming a microlens array according to a second embodiment of the present invention.

도 23은 마이크로렌즈 어레이에 포함된 마이크로렌즈의 폭이 10 μm인 경우이다.23 illustrates a case where the width of the microlens included in the microlens array is 10 μm.

도 23의 (a)를 참조하면, 평행한 방향으로 진행하는 광의 세기가 25 mJ/cm2인 경우, 마이크로렌즈의 종횡비가 1.0인 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 23A, when the intensity of light traveling in the parallel direction is 25 mJ / cm 2 , the aspect ratio of the microlens is 1.0.

도 23의 (b)를 참조하면, 평행한 방향으로 진행하는 광의 세기가 50 mJ/cm2인 경우, 마이크로렌즈의 종횡비가 1.2인 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 23B, when the intensity of light traveling in the parallel direction is 50 mJ / cm 2 , the aspect ratio of the microlens is 1.2.

도 23의 (c)를 참조하면, 평행한 방향으로 진행하는 광의 세기가 100 mJ/cm2 인 경우, 마이크로렌즈의 종횡비가 1.7인 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 23C, when the intensity of light traveling in the parallel direction is 100 mJ / cm 2 , the aspect ratio of the microlens is 1.7.

도 23의 (d)를 참조하면, 평행한 방향으로 진행하는 광의 세기가 150 mJ/cm2인 경우, 마이크로렌즈의 종횡비가 2.1인 것을 알 수 있다.Referring to FIG. 23D, when the intensity of light traveling in the parallel direction is 150 mJ / cm 2 , the aspect ratio of the microlens is 2.1.

도 24는 도 23의 마이크로렌즈의 단면을 2차 포물선 곡선과 비교한 결과를 나타낸 도면.FIG. 24 is a view showing a result of comparing the cross section of the microlens of FIG. 23 with a secondary parabolic curve; FIG.

도 24에 도시된 바와 같이, 종횡비와 상관없이 마이크로렌즈들의 실제 단면은 이상적인 2차 포물선과 거의 일치함을 알 수 있다. 마이크로렌즈들의 실제 단면은 점선으로 표시되어 있고, 이상적인 2차 포물선 곡선은 실선으로 표시되어 있다.As shown in FIG. 24, it can be seen that the actual cross section of the microlenses almost coincides with the ideal secondary parabola regardless of the aspect ratio. The actual cross section of the microlenses is shown in dashed lines, and the ideal secondary parabolic curve is shown in solid lines.

이상에서 보는 바와 같이, 본 발명이 속하는 기술 분야의 당업자는 본 발명이 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다. 그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해해야만 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가 개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.As described above, those skilled in the art will appreciate that the present invention can be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features. Therefore, the exemplary embodiments described above are to be understood as illustrative and not restrictive in all respects, and the scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description, and the meaning and scope of the claims and All changes or modifications derived from the equivalent concept should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 실질적으로 2차 포물 선 모양의 단면과 다양한 종횡비를 갖는 폴리머 패턴, 금속 스탬퍼, 마이크로렌즈 어레이를 형성할 수 있는 효과가 있다. As described in detail above, according to the present invention, there is an effect of forming a polymer pattern, a metal stamper, and a microlens array having a substantially parabolic cross section and various aspect ratios.

폴리머 패턴 또는 금속 스탬퍼를 사용하여, 마이크로렌즈 어레이를 대량생산할 수 있는 효과가 있다.By using a polymer pattern or a metal stamper, there is an effect to mass-produce a microlens array.

마이크로렌즈 어레이의 제조비용을 줄이는 효과가 있다.There is an effect of reducing the manufacturing cost of the microlens array.

마이크로렌즈 어레이의 제조시간을 줄이는 효과가 있다.There is an effect of reducing the manufacturing time of the microlens array.

Claims (14)

임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계; 및Irradiating the positive photosensitive polymer film through the mask with light traveling in an arbitrary direction; And 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계;Removing the mask and irradiating the positive photosensitive polymer film with light traveling in a parallel direction; 를 포함하는 폴리머 패턴 형성방법.Polymer pattern forming method comprising a. 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계;Irradiating the positive photosensitive polymer film through the mask with light traveling in an arbitrary direction; 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계;Removing the mask and irradiating the positive photosensitive polymer film with light traveling in a parallel direction; 상기 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계;Developing the positive photosensitive polymer film to form a polymer pattern; 상기 폴리머 패턴 상에 금속 몰드를 형성하는 단계;Forming a metal mold on the polymer pattern; 상기 금속 몰드와 상기 폴리머 패턴을 분리하는 단계; 및Separating the metal mold and the polymer pattern; And 상기 분리된 금속 몰드 상에 금속 물질을 형성하는 단계;Forming a metal material on the separated metal mold; 를 포함하는 금속 스탬퍼 형성방법.Metal stamper forming method comprising a. 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계;Irradiating the positive photosensitive polymer film through the mask with light traveling in an arbitrary direction; 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계;Removing the mask and irradiating the positive photosensitive polymer film with light traveling in a parallel direction; 상기 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계; 및Developing the positive photosensitive polymer film to form a polymer pattern; And 상기 폴리머 패턴을 마이크로렌즈 어레이 형성용 제1 고분자물질에 전사하는 단계;Transferring the polymer pattern to a first polymer material for forming a microlens array; 를 포함하는 마이크로렌즈 어레이 형성방법.Microlens array forming method comprising a. 임의의 방향으로 진행하는 광을 마스크를 통하여 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계;Irradiating the positive photosensitive polymer film through the mask with light traveling in an arbitrary direction; 상기 마스크를 제거하고, 평행한 방향으로 진행하는 광을 상기 양성 감광성 폴리머 막에 조사하는 단계;Removing the mask and irradiating the positive photosensitive polymer film with light traveling in a parallel direction; 상기 양성 감광성 폴리머 막을 현상하여 폴리머 패턴을 형성하는 단계;Developing the positive photosensitive polymer film to form a polymer pattern; 상기 폴리머 패턴 상에 금속 몰드를 형성하는 단계;Forming a metal mold on the polymer pattern; 상기 금속 몰드와 상기 폴리머 패턴을 분리하는 단계;Separating the metal mold and the polymer pattern; 상기 분리된 금속 몰드 상에 금속 스탬퍼를 형성하는 단계; 및Forming a metal stamper on the separated metal mold; And 상기 금속 스탬퍼를 마이크로렌즈 어레이 형성용 제2 고분자물질에 전사하는 단계;Transferring the metal stamper to a second polymer material for forming a microlens array; 를 포함하는 마이크로 렌즈 어레이 형성방법.Micro lens array forming method comprising a. 제3 항 또는 제4 항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 임의의 방향으로 진행하는 광의 세기를 조절하여, 상기 폴리머 패턴에 포함된 단위 패턴들이 서로 만나게 하는 마이크로렌즈 어레이 형성방법.The method of forming a microlens array in which the unit patterns included in the polymer pattern meet each other by adjusting the intensity of light traveling in the arbitrary direction. 제3 항 또는 제4 항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 마이크로렌즈 어레이에 포함된 마이크로렌즈의 종횡비는 0.5 이상인 마이크로렌즈 어레이 형성방법.An aspect ratio of the microlenses included in the microlens array is 0.5 or more. 제3 항 또는 제4 항에 있어서,The method according to claim 3 or 4, 상기 마이크로렌즈 어레이에 포함된 마이크로렌즈들 중 인접한 마이크로렌즈들간의 거리는 0.5 μm 이하인 마이크로렌즈 어레이 형성방법.And a distance between adjacent microlenses of the microlenses included in the microlens array is 0.5 μm or less. 제3 항에 있어서,The method of claim 3, wherein 상기 제1 고분자물질은 폴리디메틸실옥산(polydimethylsiloxane, PDMS), 자외선에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 열에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 스핀-온-글래스(spin-on-glass) 중 하나인 마이크로렌즈 어레이 형성방법.The first polymer material may be polydimethylsiloxane (PDMS), a polymer cured by ultraviolet light, a polymer cured by heat, or spin-on-glass. One microlens array forming method. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 금속 몰드를 형성하는 단계는Forming the metal mold 상기 폴리머 패턴 상에 금속 시드층을 증착하는 단계; 및Depositing a metal seed layer on the polymer pattern; And 상기 금속 시드층 상에 금속층을 형성하는 단계;A metal layer on the metal seed layer Forming; 를 포함하는 마이크로렌즈 어레이 형성방법.Microlens array forming method comprising a. 제9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 금속 시드층은 이베퍼레이션 (evaporation) 또는 스퍼터링 (sputtering)으로 박막 증착되는 마이크로렌즈 어레이 형성방법.And the metal seed layer is thin film deposited by evaporation or sputtering. 제9 항에 있어서,The method of claim 9, 상기 금속 시드층은 구리(Cu) 또는 금(Au)을 포함하는 마이크로렌즈 어레이 형성방법.And the metal seed layer comprises copper (Cu) or gold (Au). 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 금속 스탬퍼는 니켈(Ni)을 포함하는 마이크로렌즈 어레이 형성방법.The metal stamper comprises a nickel (Ni) microlens array forming method. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 금속 스탬퍼는 사출성형(Injection Molding) 또는 핫 엠보싱(Hot Embossing)에 의해 상기 제2 고분자물질에 전사되는 마이크로렌즈 어레이 형성방법.And the metal stamper is transferred to the second polymer material by injection molding or hot embossing. 제4 항에 있어서,The method of claim 4, wherein 상기 제2 고분자물질은 폴리디메틸실옥산(polydimethylsiloxane, PDMS), 자외선에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 열에 의해 큐어링(curing)되는 폴리머, 스핀-온-글래스 (spin-on-glass), 폴리메틸메타아크릴레이트(polymethylmetaacrylate, PMMA), 폴리카보네이트 (polycarbonate) 중 하나인 마이크로렌즈 어레이 형성방법.The second polymer material may be polydimethylsiloxane (PDMS), a polymer cured by ultraviolet light, a polymer cured by heat, spin-on-glass, A method of forming a microlens array, which is one of polymethylmetaacrylate (PMMA) and polycarbonate.
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