KR20060093534A

KR20060093534A - Plasma display panel

Info

Publication number: KR20060093534A
Application number: KR1020050014432A
Authority: KR
Inventors: 권승욱; 김기동
Original assignee: 삼성에스디아이 주식회사
Priority date: 2005-02-22
Filing date: 2005-02-22
Publication date: 2006-08-25
Also published as: KR100667948B1

Abstract

본 발명은 보호막의 수명 특성을 향상시킬 수 있는 보호막을 구비하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 제1 기판과 제2 기판이 서로 대향 배치되고 이들의 사이 공간에는 격벽이 형성되어 방전셀을 구획하며 상기 각 방전셀 내에 형광체층이 형성된다. 상기 제1 기판에서 일 방향을 따라 어드레스전극들이 형성되고, 상기 제2 기판에서 상기 어드레스전극과 교차하는 방향을 따라 표시전극들이 형성된다. 이 때, 표시전극은 각 방전셀에 적어도 한 쌍이 대응되어 형성된다. 상기 제2 기판에서 상기 표시전극을 덮으면서 유전층이 형성되고, 이러한 유전층에는 상기 각 방전셀에 대응하는 표시전극들 사이에서 개구(開口)가 형성된다. 그리고, 상기 제2 기판에서 상기 유전층을 덮으면서 보호막이 형성된다. 이 때, 보호막은 상기 유전층의 개구 부분에 형성되는 제1 부분, 및 상기 제1 기판에 대향하는 상기 유전층 면을 덮으며 형성되는 제2 부분을 포함한다. 상기 보호막은 상기 제1 부분의 두께와 상기 제2 부분의 두께가 서로 다를 수 있다. The present invention relates to a plasma display panel having a protective film capable of improving the life characteristics of the protective film. In the plasma display panel according to the exemplary embodiment of the present invention, a first substrate and a second substrate are disposed to face each other, and a partition wall is formed in a space therebetween to partition a discharge cell, and a phosphor layer is formed in each discharge cell. Address electrodes are formed in one direction on the first substrate, and display electrodes are formed in a direction crossing the address electrodes on the second substrate. In this case, at least one pair of display electrodes is formed to correspond to each discharge cell. A dielectric layer is formed on the second substrate to cover the display electrode, and an opening is formed in the dielectric layer between display electrodes corresponding to the respective discharge cells. In addition, a protective film is formed while covering the dielectric layer on the second substrate. In this case, the passivation layer may include a first portion formed in the opening portion of the dielectric layer and a second portion formed covering the dielectric layer surface facing the first substrate. The passivation layer may have a thickness different from that of the first portion and the thickness of the second portion.

플라즈마 디스플레이 패널, 보호막, 두께 Plasma display panel, protective film, thickness

Description

Plasma Display Panel {PLASMA DISPLAY PANEL}

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해사시도이다. 1 is a partially exploded perspective view showing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention.

도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 평면도이다. 2 is a partial plan view of a plasma display panel according to an exemplary embodiment of the present invention.

도 3은 도 1의 플라즈마 디스플레이 패널을 결합한 상태에서 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 잘라서 본 부분 단면도이다. 3 is a partial cross-sectional view taken along the line III-III of the plasma display panel of FIG.

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 보다 상세하게는 보호막의 수명 특성을 향상시킬 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to a plasma display panel that can improve the life characteristics of the protective film.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널(plasma display panel, PDP)은 기체 방전에 의해 형성된 플라즈마로부터 방사되는 진공자외선(vacuum ultraviolet, VUV)이 형광체를 여기시킴으로써 발생되는 가시광을 이용하여 영상을 구현하는 디스플레이 소자이다. 이러한 플라즈마 디스플레이 패널은 고해상도의 대화면 구성이 가능하여 차세대 박형 표시장치로 각광받고 있다. In general, a plasma display panel (PDP) is a display device that displays an image using visible light generated by excitation of a phosphor by a vacuum ultraviolet ray (VUV) emitted from a plasma formed by gas discharge. The plasma display panel has a high resolution and large screen configuration, and has been in the spotlight as the next generation thin display device.

플라즈마 디스플레이 패널의 일반적인 구조는 3전극 면방전형 구조이다. 3전극 면방전형 구조는 두 개의 전극으로 이루어지는 표시전극이 형성되는 전면기판과 상기 전면기판으로부터 소정의 거리만큼 이격되며 어드레스전극이 형성되는 배면기판을 포함한다. 이 때, 전면기판에는 표시전극들을 덮으면서 유전층과 MgO 보호막이 차례로 형성된다. 그리고, 양 기판의 사이 공간은 격벽에 의해 다수의 방전셀로 구획되고, 방전셀 내에는 형광체층이 형성되고 방전 가스가 주입된다.The general structure of the plasma display panel is a three-electrode surface discharge type structure. The three-electrode surface discharge type structure includes a front substrate on which a display electrode composed of two electrodes is formed, and a back substrate on which the address electrode is formed and spaced apart from the front substrate by a predetermined distance. In this case, the dielectric layer and the MgO passivation layer are sequentially formed on the front substrate while covering the display electrodes. The space between the two substrates is partitioned into a plurality of discharge cells by partition walls, and a phosphor layer is formed in the discharge cells, and discharge gas is injected.

방전의 유무는 표시전극 중 하나의 전극과 어드레스전극 사이에서의 어드레스방전에 의해 결정되고, 휘도를 표시하는 유지방전은 동일면 상에 위치한 표시전극에 의해 이루어진다. The presence or absence of the discharge is determined by the address discharge between one of the display electrodes and the address electrode, and the sustain discharge indicating the luminance is made by the display electrodes located on the same surface.

상기에서 전면기판에 형성되는 MgO 보호막은 플라즈마 방전에 의해 전리된 이온의 충돌로부터 전면기판의 유전층을 보호하는 역할을 하므로, 이온 스퍼터링에 견딜 수 있는 충분한 내스퍼터링 특성을 구비하여야 한다. Since the MgO protective film formed on the front substrate serves to protect the dielectric layer of the front substrate from the collision of ions ionized by plasma discharge, it should have sufficient sputtering resistance to withstand ion sputtering.

또한, MgO 보호막은 방전 가스에 접촉하여 형성되며 이차전자를 방출하여 방전의 효율을 향상시키는 역할을 하므로 MgO 보호막의 막특성은 방전 특성에 큰 영향을 미칠 수 있다. 이 때, MgO 보호막에 의한 방전 특성은 어드레스방전의 지연시간으로 평가될 수 있다. 어드레스방전의 지연시간이 소정의 시간을 초과하는 경우에는 어드레스방전 미스(address miss) 현상이 발생할 수 있고, 이에 따라 선택된 셀이 발광하지 않는 블랙 노이즈(black noise) 현상이 발생할 수 있다. 따라서, MgO 보호막은 어드레스방전의 지연시간을 줄일 수 있는 우수한 방전 특성을 구비하여야 한다.In addition, since the MgO protective film is formed in contact with the discharge gas and serves to emit secondary electrons to improve the efficiency of the discharge, the film characteristics of the MgO protective film may have a great influence on the discharge characteristics. At this time, the discharge characteristic by the MgO protective film can be evaluated by the delay time of the address discharge. When the delay time of the address discharge exceeds a predetermined time, an address discharge miss may occur, and thus a black noise phenomenon in which the selected cell does not emit light may occur. Therefore, the MgO protective film should have excellent discharge characteristics that can reduce the delay time of the address discharge.

즉, MgO 보호막은 우수한 내스퍼터링 능력을 가져 수명을 향상시키면서 어드레스방전의 지연시간을 줄여 안정적인 방전이 이루어질 수 있도록 형성되는 것이 바람직하다.That is, the MgO passivation layer is preferably formed to have a stable sputtering ability by reducing the delay time of the address discharge while improving the service life.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀 내부에서는 전계 분포 등에 국부적인 차이가 있으므로, 이에 따라 보호막의 내스퍼터링 특성 및 방전 특성의 요구 정도가 각 부분에서 서로 다를 수 있다. 그런데, 종래에는 이러한 전계 분포 및 방전의 세기 등을 고려함이 없이 MgO 보호막을 전면기판의 전면에 걸쳐 동일하게 형성하였다. 따라서, 상대적으로 강한 방전이 일어나는 부분에서는 MgO 보호막의 손상이 가속화되어 보호막의 수명이 줄어들고, 상대적으로 약한 방전이 일어나는 부분에서는 방전의 안정성이 저하되는 문제가 있었다.In general, since there is a local difference in electric field distribution, etc. in the discharge cells of the plasma display panel, the sputtering resistance and the discharge characteristic of the protective film may be different in each part. However, in the related art, the MgO passivation layer was formed in the same manner over the entire surface of the front substrate without considering such electric field distribution and discharge intensity. Therefore, the damage of the MgO protective film is accelerated in the portion where the relatively strong discharge occurs, the life of the protective film is reduced, the stability of the discharge is deteriorated in the portion where the relatively weak discharge occurs.

본 발명은 상기의 문제점을 해결하기 위한 것으로, 본 발명의 목적은 전계 분포를 고려하여 보호막을 형성함으로써 보호막의 수명을 증가시킬 수 있고 우수한 방전 특성을 가질 수 있는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공하는 것이다. The present invention is to solve the above problems, an object of the present invention is to provide a plasma display panel that can increase the life of the protective film by having a protective film in consideration of the electric field distribution and can have excellent discharge characteristics.

상기의 목적을 달성하기 위하여 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은, 제1 기판과 제2 기판이 서로 대향 배치되고 이들의 사이 공간에는 격벽이 형성되어 방전셀을 구획하며 상기 각 방전셀 내에 형광체층이 형성된다. 상기 제1 기판에서 일 방향을 따라 어드레스전극들이 형성되고, 상기 제2 기판에서 상기 어드레스전극과 교차하는 방향을 따라 표시전극들이 형성된다. 이 때, 표시전 극은 각 방전셀에 적어도 한 쌍이 대응되어 형성된다. 상기 제2 기판에서 상기 표시전극을 덮으면서 유전층이 형성되고, 이러한 유전층에는 상기 각 방전셀에 대응하는 표시전극들 사이에서 개구(開口)가 형성된다. 그리고, 상기 제2 기판에서 상기 유전층을 덮으면서 보호막이 형성된다. 이 때, 보호막은 상기 유전층의 개구 부분에 형성되는 제1 부분, 및 상기 제1 기판에 대향하는 상기 유전층 면을 덮으며 형성되는 제2 부분을 포함한다. 상기 보호막은 상기 제1 부분의 두께와 상기 제2 부분의 두께가 서로 다를 수 있다. In order to achieve the above object, in the plasma display panel according to an embodiment of the present invention, a first substrate and a second substrate are disposed to face each other, and a partition wall is formed in a space therebetween to partition the discharge cells, and each of the discharge cells. The phosphor layer is formed in the inside. Address electrodes are formed in one direction on the first substrate, and display electrodes are formed in a direction crossing the address electrodes on the second substrate. In this case, at least one pair of display electrodes is formed to correspond to each discharge cell. A dielectric layer is formed on the second substrate to cover the display electrode, and an opening is formed in the dielectric layer between display electrodes corresponding to the respective discharge cells. In addition, a protective film is formed while covering the dielectric layer on the second substrate. In this case, the passivation layer may include a first portion formed in the opening portion of the dielectric layer and a second portion formed covering the dielectric layer surface facing the first substrate. The passivation layer may have a thickness different from that of the first portion and the thickness of the second portion.

상기 제2 부분의 두께보다 상기 제1 부분의 두께가 더 두껍게 형성될 수 있다. The thickness of the first portion may be thicker than the thickness of the second portion.

상기 제2 부분의 두께에 대한 상기 제1 부분의 두께의 비율이 1.2 내지 2의 범위에 속할 수 있다. 이 때, 상기 제2 부분의 두께에 대한 상기 제1 부분의 두께 의 비율이 1.5 내지 2의 범위에 속할 수 있다. The ratio of the thickness of the first portion to the thickness of the second portion may fall in the range of 1.2 to 2. At this time, the ratio of the thickness of the first portion to the thickness of the second portion may be in the range of 1.5 to 2.

상기 제1 부분의 두께가 900 nm 내지 1500 nm 의 범위에 속하고, 상기 제2 부분의 두께가 500 내지 900 nm 의 범위에 속할 수 있다. The thickness of the first portion may be in the range of 900 nm to 1500 nm, and the thickness of the second portion may be in the range of 500 to 900 nm.

상기 보호막은 MgO로 이루어질 수 있다. 상기 보호막은 증착법에 의해 형성될 수 있다. 증착법으로 물리 기상 가열 증착법(physicla vapor thermal deposition), 이온빔지원퇴적법(ion beam assisted deposition, IBAD), 이온 플레이팅법(ion plating) 등이 적용될 수 있다. The protective film may be made of MgO. The protective film may be formed by a deposition method. Physical vapor deposition (physical vapor thermal deposition), ion beam assisted deposition (IBAD), ion plating (ion plating) may be applied as the deposition method.

이하, 첨부한 도면을 참조하여 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 설명하면 다음과 같다. Hereinafter, a plasma display panel according to an embodiment of the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 분해사시도이고, 도 2는 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널을 도시한 부분 평면도이다. 그리고, 도 3은 도 1의 플라즈마 디스플레이 패널을 결합한 상태에서 Ⅲ-Ⅲ 선을 따라 잘라서 본 부분 단면도이다. 1 is a partially exploded perspective view showing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention, Figure 2 is a partial plan view showing a plasma display panel according to an embodiment of the present invention. 3 is a partial cross-sectional view taken along line III-III in a state in which the plasma display panel of FIG. 1 is coupled.

도 1을 참조하면, 본 실시예에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 제1 기판(10)(이하 '배면기판'이라 함)과 제2 기판(20)(이하 '전면기판'이라 함)이 대향 배치되고, 배면기판(10)과 전면기판(20)의 사이 공간은 격벽(16)에 의해 다수의 방전셀(18)로 구획된다. 각 방전셀(18) 내에는 형광체층(19)이 형성되고 방전가스가 충전되어 소정의 방전이 일어날 수 있다. Referring to FIG. 1, in the plasma display panel according to the present exemplary embodiment, a first substrate 10 (hereinafter referred to as a “back substrate”) and a second substrate 20 (hereinafter referred to as a “front substrate”) are disposed to face each other. The space between the back substrate 10 and the front substrate 20 is partitioned into a plurality of discharge cells 18 by the partition wall 16. In each discharge cell 18, a phosphor layer 19 is formed and a discharge gas is filled to cause a predetermined discharge.

배면기판(10)에는 전면기판(20)에 대향하는 일면에 일방향(도면의 y축 방향)을 따라 어드레스전극(12)들이 형성되며, 이러한 어드레스전극(12)들은 이웃한 것끼리 소정의 간격을 두고 나란히 형성된다. 어드레스전극(12)들을 덮으면서 배면기판(10)의 전면에 제1 유전층(14)(이하 '배면 유전층'이라 함)이 형성된다. On the rear substrate 10, address electrodes 12 are formed along one direction (y-axis direction of the drawing) on one surface opposite to the front substrate 20, and these address electrodes 12 are spaced apart from each other by a predetermined distance. It is formed side by side. The first dielectric layer 14 (hereinafter referred to as a “back dielectric layer”) is formed on the front surface of the back substrate 10 while covering the address electrodes 12.

이 배면 유전층(14)의 위로 다수의 방전셀(18)을 구획하는 격벽(16)이 형성된다. 본 실시예에서 격벽(16)은 어드레스전극(12)과 나란한 방향(도면의 y축 방향)으로 형성되는 제1 격벽부재(16a)와, 이러한 제1 격벽부재(16a)와 교차하는 방향(도면의 x축 방향)으로 형성되는 제2 격벽부재(16b)를 포함한다. A partition wall 16 is formed on the back dielectric layer 14 to partition the plurality of discharge cells 18. In this embodiment, the partition wall 16 has a first partition member 16a formed in a direction parallel to the address electrode 12 (y-axis direction in the drawing), and a direction crossing the first partition member 16a (drawings). The second partition wall member 16b formed in the x-axis direction).

이러한 격벽구조는 상기 설명한 구조에 한정되는 것은 아니며, 어드레스전극과 나란한 격벽부재로만 이루어지는 스트라이프형 격벽구조도 본 발명에 적용될 수 있으며, 방전셀을 구획하는 다양한 형상의 격벽구조가 적용되는 것이 가능하며 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. Such a barrier rib structure is not limited to the above-described structure, and a stripe-type barrier rib structure made of only a barrier member in parallel with the address electrode may be applied to the present invention, and a barrier rib structure having various shapes for partitioning discharge cells may be applied. It also belongs to the scope of the present invention.

방전셀(18) 내에는 진공자외선을 흡수하여 가시광을 발생시키는 적색, 녹색 및 청색의 형광체층(19)이 형성되고 방전가스(일례로 제논(Xe)과 네온(Ne)의 혼합 가스)가 주입되어, 각 방전셀(18)에서 소정의 방전 및 발광이 일어날 수 있도록 한다. In the discharge cell 18, a phosphor layer 19 of red, green, and blue, which absorbs vacuum ultraviolet rays and generates visible light, is formed, and a discharge gas (for example, a mixed gas of xenon and neon) is injected. Thus, predetermined discharge and light emission can occur in each discharge cell 18.

전면기판(20)에는 배면기판(10)에 대향하는 일면에 제1 전극(21)(이하 '유지전극'이라 함)과 제2 전극(22)(이하 '주사전극'이라 함)을 포함하는 표시전극(21, 22)들이 어드레스전극(12)과 교차하는 방향(도면의 x축 방향)을 따라 형성된다. 즉, 각 방전셀(18)에는 표시전극(21, 22) 한 쌍이 대응되어 형성된다. 그러나, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 표시전극이 각 방전셀에 적어도 한 쌍 대응되면 족하다. The front substrate 20 includes a first electrode 21 (hereinafter referred to as a 'holding electrode') and a second electrode 22 (hereinafter referred to as a 'scan electrode') on one surface facing the rear substrate 10. The display electrodes 21 and 22 are formed along the direction crossing the address electrode 12 (the x-axis direction in the drawing). That is, a pair of display electrodes 21 and 22 are formed to correspond to each discharge cell 18. However, the present invention is not limited thereto, and it is sufficient if the display electrodes correspond to at least one pair of discharge cells.

유지전극(21)과 주사전극(22) 각각은 어드레스전극(12)과 교차하는 방향(도면의 x축 방향)을 따라 길게 이어지는 버스전극(21b, 22b)과, 이러한 버스전극(21b, 22b)으로부터 각 방전셀(18)의 중심을 향해 연장되는 확대전극(21a, 22a)을 포함한다. 이 때, 버스전극(21b, 22b)은 방전셀(18)의 양쪽 가장자리 부근에서 각각 형성될 수 있고, 확대전극(21a, 22a)은 방전셀(18)에서 한 쌍이 서로 마주보며 형성될 수 있다. Each of the sustain electrode 21 and the scan electrode 22 has bus electrodes 21b and 22b extending along the direction crossing the address electrode 12 (x-axis direction in the drawing), and the bus electrodes 21b and 22b. And extending electrodes 21a and 22a extending toward the center of each of the discharge cells 18 therefrom. In this case, the bus electrodes 21b and 22b may be formed near both edges of the discharge cell 18, and the enlarged electrodes 21a and 22a may be formed to face each other in the discharge cell 18. .

확대전극(21a, 22a)은 각 방전셀(18) 내부에서 플라즈마 방전을 일으키는 역할을 하는 것으로 개구율 확보를 위해 투명 재료인 인듐-주석 산화물(indium tin oxide, ITO)로 이루어질 수 있고, 버스전극(21b, 22b)은 확대전극(21a, 22a)의 높 은 저항을 보상하여 통전성을 확보하기 위한 것으로 전기전도성이 우수한 금속재료로 이루어질 수 있다. The enlarged electrodes 21a and 22a serve to cause plasma discharge in each discharge cell 18, and may be made of indium tin oxide (ITO), which is a transparent material, to secure the aperture ratio. 21b and 22b may be made of a metal material having excellent electrical conductivity to compensate for the high resistance of the enlarged electrodes 21a and 22a to secure electrical conductivity.

주사전극(22)은 어드레스전극(12)과 함께 어드레스구간에서 소정의 전압을 인가받아 어드레스방전에 관여하고, 유지전극(21)은 주사전극(22)과 함께 유지구간에서 소정의 전압을 인가받아 유지방전에 관여한다. 그러나 각 전극들은 인가되는 신호 전압에 따라 그 역할을 달리할 수 있으므로 이에 한정될 필요는 없다. The scan electrode 22 receives the predetermined voltage in the address section together with the address electrode 12 to engage in address discharge, and the sustain electrode 21 receives the predetermined voltage in the sustain section together with the scan electrode 22. Engage in maintenance discharge. However, each electrode may have a different role depending on the signal voltage applied thereto, and thus the present invention is not limited thereto.

이러한 표시전극(21, 22)들을 덮으면서 전면기판(20)의 일면에 제2 유전층(24)(이하 '전면 유전층'이라 함)이 형성된다. 이러한 전면 유전층(24)에는, 각 방전셀(18)에서 서로 마주보는 유지전극(21)과 주사전극(22) 사이에 대응하여 개구(開口, opening)(24a)가 형성된다. The second dielectric layer 24 (hereinafter, referred to as a “front dielectric layer”) is formed on one surface of the front substrate 20 while covering the display electrodes 21 and 22. In the front dielectric layer 24, openings 24a are formed in correspondence between the sustain electrode 21 and the scan electrode 22 facing each other in each discharge cell 18.

이러한 전면 유전층(24)의 개구(24a)는 유지전극(21)과 주사전극(22) 사이에서 이들의 길이 방향(도면의 x축 방향)을 따라 길게 이어지면서 형성되는 것도 가능하고, 또는 도 2에 도시된 바와 같이 유지전극(21)과 주사전극(22) 사이에서 각 방전셀(18)에 별개로 형성되는 것도 가능하다. The opening 24a of the front dielectric layer 24 may be formed between the sustain electrode 21 and the scan electrode 22 while extending along their length direction (x-axis direction in the drawing), or FIG. 2 As shown in FIG. 2, the discharge cells 18 may be formed separately between the sustain electrodes 21 and the scan electrodes 22.

도 3을 참조하면, 유지전극(21)과 주사전극(22) 사이에서 일어나는 유지방전은, 전면 유전층(24)의 개구(24a) 부근에서는 실질적으로 대향 방전(D)에 의해 유도되어 방전개시작용을 하고, 상기 개구(24a)의 외곽으로부터 방전셀(18) 가장자리까지의 전면 유전층(24) 부분에서는 면방전(S)에 의해 방전이 유도되면서 확산된다. Referring to FIG. 3, the sustain discharge occurring between the sustain electrode 21 and the scan electrode 22 is substantially induced by the counter discharge D near the opening 24a of the front dielectric layer 24 to initiate the discharge. In the portion of the front side dielectric layer 24 from the outside of the opening 24a to the edge of the discharge cell 18, the discharge is induced by the surface discharge S.

본 실시예에서는 전면 유전층(24)에 개구(24a)를 형성함으로써, 이 부분에서 는 실질적으로 대향 방전으로 유지방전을 유도하여 방전개시전압을 저감시킬 수 있다. 그리고, 전면 유전층(24)의 개구(24a) 부근에서 짧은 방전 경로를 형성하여 해당 부분에 강한 전계가 인가될 수 있다. 이에 따라 강한 방전에 의해 방전 효율을 향상시킬 수 있다.In this embodiment, by forming the opening 24a in the front dielectric layer 24, the discharge start voltage can be reduced by inducing sustain discharge with substantially opposite discharge in this portion. In addition, a short discharge path may be formed in the vicinity of the opening 24a of the front dielectric layer 24, and a strong electric field may be applied to the corresponding portion. Thereby, discharge efficiency can be improved by strong discharge.

그리고, 플라즈마 방전 시 전리된 이온의 충돌로부터 전면 유전층(24)을 보호하기 위하여 전면 유전층(24)을 덮으면서 보호막(26)이 형성된다. 보호막(26)은 방전 효율의 향상을 위해 높은 이차전자 방출계수를 가지는 MgO로 이루어질 수 있다. In addition, the protective layer 26 is formed while covering the front dielectric layer 24 to protect the front dielectric layer 24 from collision of ionized ions during plasma discharge. The protective layer 26 may be made of MgO having a high secondary electron emission coefficient to improve discharge efficiency.

이러한 보호막(26)은 물리 기상 증착법(plasma vapor deposition, PVD) 등의 증착법에 의해 형성될 수 있다. 이 때 증착법의 일례로, 물리 기상 가열 증착법(physicla vapor thermal deposition), 이온빔지원퇴적법(ion beam assisted deposition, IBAD), 또는 이온 플레이팅법(ion plating)을 사용할 수 있다. The protective layer 26 may be formed by a vapor deposition method such as physical vapor deposition (PVD). In this case, as an example of the vapor deposition method, a physical vapor vapor deposition method, an ion beam assisted deposition method (IBAD), or an ion plating method may be used.

보호막(26)은 전면 유전층(24)의 개구(24a) 부분을 덮으면서 형성되는 제1 부분(26a)과, 전면 유전층(24)의 배면기판(10) 대향면(24b)을 덮으면서 형성되는 제2 부분(26b)를 포함한다. 즉, 제1 부분(26a)은 전면 유전층(24)의 개구(24a) 부분에 형성되어 상대적으로 강한 전계가 형성되는 부근에 위치하므로 제2 부분(26b)보다 우수한 내스퍼터링 능력을 가지는 것이 바람직하다. The passivation layer 26 is formed by covering the first portion 26a formed while covering the opening portion 24a of the front dielectric layer 24 and the opposing surface 24b of the back substrate 10 of the front dielectric layer 24. Second portion 26b. That is, since the first portion 26a is formed near the opening 24a portion of the front dielectric layer 24 to form a relatively strong electric field, it is preferable that the first portion 26a has better sputtering ability than the second portion 26b. .

방전셀 내에서 서로 다른 전계 분포를 고려하여 본 실시예에서는 제1 부분(26a)과 제2 부분(26b)의 두께를 서로 다르게 형성한다. 이를 위하여 물리 기상 증착법으로 보호막(26)을 형성할 때, 적어도 2의 전자빔의 전압을 조절하는 방법이 적용될 수 있다. 또는, 동일한 두께로 MgO를 증착 후 마스크를 이용하여 제1 부분(26a)의 대응부에만 MgO를 증착하는 방법이 적용될 수 있다. 이외에도 제1 부분(26a)과 제2 부분(26b)이 서로 다른 두께를 가지도록 하는 다양한 방법이 적용될 수 있으며 이 또한 본 발명의 범위에 속한다. In consideration of the different electric field distribution in the discharge cells, the thicknesses of the first portion 26a and the second portion 26b are different from each other in the present embodiment. To this end, when the protective layer 26 is formed by physical vapor deposition, a method of controlling the voltage of at least two electron beams may be applied. Alternatively, a method of depositing MgO to the corresponding portion of the first portion 26a using a mask after depositing MgO to the same thickness may be applied. In addition, various methods may be applied in which the first portion 26a and the second portion 26b have different thicknesses, which are also within the scope of the present invention.

제1 부분(26a)에서 상대적으로 강한 전계가 형성됨을 고려하여 제2 부분(26b)의 두께(t2)보다 제1 부분(26a)의 두께(t1)를 더 두껍게 형성한다. 이는 강한 전계에 의한 강한 이온 스퍼터링 때문에 손상이 발생할 수 있는 제1 부분(26a)의 내스퍼터링 특성을 향상시키기 위함이다. Considering that a relatively strong electric field is formed in the first portion 26a, the thickness t1 of the first portion 26a is made thicker than the thickness t2 of the second portion 26b. This is to improve the sputtering resistance of the first portion 26a, in which damage may occur due to strong ion sputtering by a strong electric field.

이 때, 제2 부분(26b)의 두께(t2)에 대한 제1 부분(26a)의 두께(t1)의 비율이 1.2 내지 2의 범위에 속하게 함으로써 방전 안정성을 저하시키지 않으면서 보호막(26)의내스퍼터링 능력을 향상시킬 수 있다. 이 때, 상기 두께 비율이 1.5 내지 2 범위에 속하는 것이 바람직하다. At this time, the ratio of the thickness t1 of the first portion 26a to the thickness t2 of the second portion 26b falls within the range of 1.2 to 2 so that the discharge stability of the protective film 26 is not reduced. Sputtering ability can be improved. At this time, the thickness ratio is preferably in the range of 1.5 to 2.

상기 두께 비율이 1.2 미만인 경우에는 보호막(26)의 내스퍼터링 능력의 향상 효과가 미미하며, 상기 두께 비율이 2를 초과하는 경우에는 보호막(26)의 제1 부분(26a)을 형성하기 위한 시간 및 전압이 증가하여 생산성이 저하될 수 있다. When the thickness ratio is less than 1.2, the effect of improving the sputtering resistance of the protective film 26 is insignificant. When the thickness ratio is more than 2, the time for forming the first portion 26a of the protective film 26 and Increasing the voltage may lower productivity.

여기서, 제2 부분(26a)의 두께(t2)는 500 nm 내지 900nm 의 범위에 속할 수 있다. 이는 어드레스구간에서 발생할 수 있는 어드레스방전 미스(address miss) 현상을 방지할 수 있는 범위로 결정된 것이다. 즉, 이러한 범위는 어드레스방전의 지연시간(delay time)을 줄일 수 있기 위한 최적의 조건으로 결정되어 방전의 안정성을 향상시킬 수 있는 범위이다. Here, the thickness t2 of the second portion 26a may be in the range of 500 nm to 900 nm. This is determined as a range that can prevent an address discharge miss that may occur in the address section. That is, such a range is determined as an optimal condition for reducing the delay time of the address discharge, thereby improving the stability of the discharge.

그리고, 제1 부분(26a)의 두께(t1)는 900 nm 내지 1500 nm 의 범위에 속할 수 있다. 이러한 제1 부분(26a)의 두께는 우수한 내스퍼터링 특성을 나타낼 수 있도록 결정된 것이다. In addition, the thickness t1 of the first portion 26a may be in the range of 900 nm to 1500 nm. The thickness of this first portion 26a is determined so as to exhibit excellent sputtering properties.

본 실시예에서는 어드레스방전에 의한 전하는 상대적으로 두께가 얇은 제2 부분(26b)에 축적되도록 하여 어드레스방전의 지연시간을 우수하게 유지하면서 방전셀(18) 전체에서 고른 방전을 일으킬 수 있도록 한다. 그리고, 강한 방전이 일어나는 부분에 위치하는 제1 부분(26a)의 두께를 증가시켜 우수한 내스퍼터링 특성을 가질 수 있게 한다. 따라서, 우수한 방전 안정성을 구현할 수 있고 보호막의 수명을 향상시킬 수 있다. In this embodiment, charges due to the address discharge are accumulated in the second portion 26b having a relatively thin thickness, so that even discharge can be generated in the entire discharge cells 18 while maintaining a good delay time of the address discharge. In addition, the thickness of the first portion 26a positioned at the portion where the strong discharge occurs may be increased to have excellent sputtering characteristics. Therefore, excellent discharge stability can be realized and the life of the protective film can be improved.

상기에서는 본 발명의 실시예에 대하여 설명하였지만, 본 발명은 이에 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다. Although the embodiments of the present invention have been described above, the present invention is not limited thereto, and various modifications and changes can be made within the scope of the claims and the detailed description of the invention and the accompanying drawings. Naturally, it belongs to the range.

이상 설명한 바와 같이 본 발명에 따른 플라즈마 디스플레이 패널은 대향 방전과 짧은 방전 경로에 의해 강한 전계가 형성되는 부분에 위치하는 보호막의 두께를 상대적으로 두껍게 형성함으로써 내스퍼터링 특성을 향상시킬 수 있다. 따라서, 보호막의 수명을 증가시키고 해당 플라즈마 디스플레이 패널의 신뢰성을 향상시킬 수 있다. As described above, the plasma display panel according to the present invention can improve the sputtering characteristics by forming a relatively thick thickness of the protective film positioned at the portion where the strong electric field is formed by the counter discharge and the short discharge path. Therefore, the life of the protective film can be increased and the reliability of the plasma display panel can be improved.

그리고, 어드레스방전에 의한 전하는 상대적으로 두께가 얇은 부분에 축적되 도록 하여 어드레스방전의 지연시간을 우수하게 유지하면서 방전셀 전체에서 고른 방전을 일으킬 수 있도록 한다. 즉, 방전 안정성을 향상시킬 수 있고 방전셀 전체에서 균일한 방전이 일어날 수 있다. The charge caused by the address discharge is accumulated in a relatively thin portion so that even discharge can be generated in the entire discharge cell while maintaining an excellent delay time of the address discharge. That is, the discharge stability may be improved and uniform discharge may occur in the entire discharge cell.

Claims

A first substrate and a second substrate disposed to face each other

A partition wall partitioning a discharge cell in a space between the first substrate and the second substrate

Phosphor layer formed in each discharge cell

Address electrodes formed in one direction on the first substrate

Display electrodes formed on the second substrate in a direction crossing the address electrode and formed at least one pair in each of the discharge cells;

A dielectric layer formed on the second substrate to cover the display electrodes and having an opening formed between the display electrodes corresponding to the respective discharge cells;

A protective film formed on the second substrate while covering the dielectric layer, the protective layer including a first portion formed in an opening portion of the dielectric layer and a second portion formed covering the one surface of the dielectric layer opposite to the first substrate.

Including,

The passivation layer may have a thickness different from that of the first portion and the thickness of the second portion.

The method of claim 1,

And a thickness of the first portion is thicker than a thickness of the second portion.

The method of claim 2,

And a ratio of the thickness of the first portion to the thickness of the second portion is in the range of 1.2 to 2.

The method of claim 3, wherein

And a ratio of the thickness of the first portion to the thickness of the second portion is in the range of 1.5 to 2.

The method of claim 2,

And a thickness of the first portion is in the range of 900 nm to 1500 nm.

The method of claim 2,

And a thickness of the second portion is in the range of 500 to 900 nm.

The method according to any one of claims 1 to 6,

The protective film is formed by a vapor deposition method.

The method of claim 7, wherein

The protective film is formed by a method selected from the group consisting of physical vapor vapor deposition, ion beam assisted deposition (IBAD), ion plating (ion plating).