KR20060092392A - 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법 - Google Patents

다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법 Download PDF

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KR20060092392A
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Abstract

본 발명에 따른 다공질 광섬유 모재를 그 내부에 배치하기 위한 머플과, 상기 머플의 외주 둘레에 상기 다공질 광섬유 모재의 길이 방향을 따라 다단으로 배치된 다수의 히터들을 포함하는 가열 장치 내에서 상기 다공질 광섬유 모재를 탈수 및 유리화하기 위한 방법은, (a) 그 전체 길이에 걸쳐서 상기 다단의 히터들에 의해 둘러싸이도록 상기 다공질 광섬유 모재를 상기 머플 내에 배치하는 과정과; (b) 상기 다단의 히터들의 온도가 상기 다공질 광섬유 모재의 탈수 온도에 이른 상태에서, 상기 다공질 광섬유 모재를 가열하여 탈수하는 과정과; (c-1) 상기 히터들 중 선택된 하나의 온도를 상기 다공질 광섬유 모재의 유리화 온도로 상승시키는 과정과; (c-2) 상기 선택된 히터에 의해 형성된 상기 머플 내부의 고온 영역을 지나도록 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재를 이동시켜서 유리화하는 과정을 포함한다.
다공질 광섬유 모재, 탈수, 유리화, 히터

Description

다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법{METHOD FOR DEHYDRATING AND CONSOLIDATING POROUS OPTICAL FIBER PREFORM}
도 1은 전형적인 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 장치를 나타내는 도면,
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 장치를 나타내는 도면,
도 3은 도 2에 도시된 장치를 이용하여 다공질 광섬유 모재를 탈수 및 유리화하는 방법을 나타내는 흐름도,
도 4는 도 2에 도시된 머플 내부의 산소 농도 분포를 나타내는 도면.
본 발명은 광섬유 모재(optical fiber preform)의 가열 방법에 관한 것으로서, 특히 다공질 광섬유 모재(porous optical fiber preform)를 탈수(dehydration) 및 유리화(consolidation)하기 위한 방법에 관한 것이다.
통상적으로 기상축 증착(vapor axial deposition: VAD) 공정 또는 외부 기상축 증착(outside vapor deposition: OVD) 공정에 의해 제조된 다공질 광섬유 모재에 탈수, 유리화 등의 과정을 수행하여 유리화된 광섬유 모재를 얻기 위해서, 상기 다공질 광섬유 모재를 Cl2, He 등의 분위기 가스(atmospheric gas)하에서 가열한다.
도 1은 전형적인 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 장치를 나타내는 도면이다. 상기 장치(100)는 머플(muffle, 110)과, 히터(heater, 120)를 포함한다.
다공질 광섬유 모재(130)는 핸들 로드(handle rod, 140)에 의해 지지되며, 상기 다공질 광섬유 모재(130)는 그 내부에 초기 로드(starting rod)를 포함하거나 포함하지 않을 수 있다.
상기 머플(110)은 그 상부에 상기 핸들 로드(140)가 통과되는 홀(hole)을 가지며, 그 측부의 상측에 배기관(114)을 갖고, 그 측부의 하측에 공급관(112)을 갖는다. 상기 공급관(112)를 통해 분위기 가스(150)가 상기 머플(110)의 내부로 공급되며, 상기 배기관(114)을 통해 상기 분위기 가스(150)가 외부로 배출된다. 상기 다공질 광섬유 모재(130)는 상기 머플(110)의 내부에 배치된다.
상기 히터(120)는 상기 머플(110)의 외주 둘레에 배치되며, 링(ring) 형상으로 배치된다.
상기 장치(100)를 이용하여 상기 다공질 광섬유 모재(130)를 탈수 및 유리화하는 방법을 살펴보면 아래와 같다. 상기 방법은 하기하는 (a)~(g) 과정들을 포함한다.
(a) 상기 머플(110) 내에 상기 다공질 광섬유 모재(130)를 배치한다. 이 때, 상기 다공질 광섬유 모재(130)의 하부가 상기 히터(120)의 위치에 놓이도록 한다.
(b) 상기 공급관(112)을 통해 상기 머플(110)의 내부에 분위기 가스(150)를 공급한다.
(c) 상기 히터(120)를 이용하여 상기 머플(110)의 내부에 상기 다공질 광섬유 모재(130)의 탈수 온도(1000~1200℃)에 이르는 고온 영역(high temperature zone)을 형성한다.
(d) 그 전체 길이에 걸쳐서 상기 고온 영역을 지나도록 상기 다공질 광섬유 모재(130)를 하향 이동시킨다.
(e) 상기 (d) 과정에 따라 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(130)를 원위치(즉, 상기 (a) 과정에서의 위치)로 상향 이동시킨다.
(f) 상기 히터(120)를 이용하여 상기 머플(110)의 내부에 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(130)의 유리화 온도(1500~1600℃)에 이르는 고온 영역을 형성한다.
(g) 그 전체 길이에 걸쳐서 상기 고온 영역을 지나도록 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(130)를 하향 이동시킨다.
상술한 전형적인 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법은 영역 가열(zone-heating) 방식을 취하고 있으며, 이러한 영역 가열 방식은 기포(bubble) 제거 및 치밀화가 용이하고, 분위기 가스의 사용을 통해 고순도의 유리화된 광섬유 모재를 얻을 수 있다는 이점이 있다. 반면에, 탈수 및 유리화 과정들을 위해 다공질 광섬유 모재를 최소 2회 이상 하향 이동시켜야 하며, 직경 200㎜ 이상, 길이 1500㎜ 이상의 대구경 다공질 광섬유 모재에 적용하는 경우에 좁은 길이(상기 다공질 광섬유 모재의 길이 방향을 따른)의 고온 영역으로 인해 장시간이 소요된다는 문제점이 있다.
본 발명은 상술한 종래의 문제점을 해결하기 위하여 안출한 것으로서, 본 발명의 목적은 대구경 다공질 광섬유 모재에 적용 가능하고, 다공질 광섬유 모재의 전체 길이에 걸쳐서 균일하면서 높은 품질을 얻을 수 있으며, 소요 시간을 최소화하고 단순한 제어를 요하는 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법을 제공함에 있다.
상기한 문제점을 해결하기 위하여, 본 발명에 따라 다공질 광섬유 모재를 그 내부에 배치하기 위한 머플과, 상기 머플의 외주 둘레에 상기 다공질 광섬유 모재의 길이 방향을 따라 다단으로 배치된 다수의 히터들을 포함하는 가열 장치 내에서 상기 다공질 광섬유 모재를 탈수 및 유리화하기 위한 방법은, (a) 그 전체 길이에 걸쳐서 상기 다단의 히터들에 의해 둘러싸이도록 상기 다공질 광섬유 모재를 상기 머플 내에 배치하는 과정과; (b) 상기 다단의 히터들의 온도가 상기 다공질 광섬유 모재의 탈수 온도에 이른 상태에서, 상기 다공질 광섬유 모재를 가열하여 탈수하는 과정과; (c-1) 상기 히터들 중 선택된 하나의 온도를 상기 다공질 광섬유 모재의 유리화 온도로 상승시키는 과정과; (c-2) 상기 선택된 히터에 의해 형성된 상기 머플 내부의 고온 영역을 지나도록 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재를 이동시켜서 유 리화하는 과정을 포함한다.
이하에서는 첨부도면들을 참조하여 본 발명의 실시예를 상세히 설명하기로 한다. 본 발명을 설명함에 있어서, 관련된 공지기능이나 구성에 대한 구체적인 설명은 본 발명의 요지를 모호하지 않게 하기 위하여 생략한다.
도 2는 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 장치를 나타내는 도면이다. 상기 장치(200)는 가열로(furnace, 220)와, 머플(210)을 포함한다.
다공질 광섬유 모재(240)는 원형 봉 형상의 핸들 로드(250)에 의해 지지되며, 상기 다공질 광섬유 모재(240)를 기상축 증착 공정에 따라 형성하는 방법을 예로 들자면 아래와 같다. 상기 다공질 광섬유 모재(240)는 그 길이 방향의 중심축을 따라 상하 이동이 가능하고, 상기 중심축의 둘레로 회전할 수 있다.
제1 버너(burner)를 이용하여 상기 핸들 로드(250)의 중심 방향으로 화염을 분사함으로써, 순수 실리카 재질의 코어층(core layer)을 하향 성장시킨다. 상기 제1 버너에는 연료와 원료물질이 공급되며, 화염 분사에 의해 상기 핸들 로드의 끝단 상에 코어층이 증착된다. 상기 원료물질은 SiCl4, GeCl4, POCl3 등의 화합물들일 수 있다. 제2 버너를 이용하여 상기 코어층의 외주면을 향하여 화염을 분사함으로써, 굴절률 제어 물질이 도핑된 실리카 재질의 클래드층(clad layer)을 증착한다. 상기 제2 버너에는 연료와 원료물질이 공급되며, 화염 분사에 의해 상기 코어층의 외주면 상에 클래드층이 증착된다.
상기 머플(210)은 상기 가열로(220)의 중심에 동축으로 배치된다. 상기 머플(210)은 그 상부에 상기 핸들 로드(250)가 통과되는 홀을 가지며, 그 측부의 상측에 배기관(214)을 갖고, 그 하부에 공급관(212)을 갖는다. 상기 공급관(212)를 통해 분위기 가스(260)가 상기 머플(210)의 내부로 공급되며, 상기 배기관(214)을 통해 상기 분위기 가스(260)가 외부로 배출된다. 상기 다공질 광섬유 모재(240)는 상기 머플(210)의 내부에 배치된다.
상기 가열로(220)는 중공 실린더의 형상을 가지며, 상기 머플(210)이 그 중심에 동축으로 배치된다. 상기 가열로(220)는 상기 머플(210)의 외주 둘레에 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 길이 방향을 따라 다단으로 배치된 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)을 포함한다. 이 때, 상기 제1 히터(230-1)는 최하단에 위치하고, 상기 제n 히터(230-n)는 최상단에 위치한다. 즉, 상기 제1 및 제n 히터들(230-1,230-n)은 끝단 히터들이다. 상기 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)은 각각 상기 가열로(220)의 몸체에 링 형상으로 배치된다. 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 길이 방향을 따른 상기 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)의 전체 길이(L2)는 적어도 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 길이(L1)보다 큰 것이 바람직하다. 상기 제2 내지 제n 히터들(230-1~230-n)은 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 탈수 온도(통상적으로, 1000~1200℃)까지 상승 가능한 저온용 히터들이고, 상기 제1 히터(230-1)는 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 유리화 온도(통상적으로, 1500~1600℃)까지 상승 가 능한 고온용 히터이다. 상기 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)은 탄소 또는 MoSi2 재질로 이루어질 수 있다.
도 3은 도 2에 도시된 장치를 이용하여 다공질 광섬유 모재를 탈수 및 유리화하는 방법을 나타내는 흐름도이다. 상기 방법은 상기 다공질 광섬유 모재를 머플 내에 배치하는 셋팅 과정(S1), 상기 다공질 광섬유 모재를 탈수하는 탈수 과정(S2), 상기 다공질 광섬유 모재를 유리화하는 유리화 과정(S3), 상기 다공질 광섬유 모재를 원위치시키는 리셋팅 과정(S4), 상기 머플 내부를 정화하는 정화 과정(S5)을 포함한다.
상기 장치(200)를 이용하여 상기 다공질 광섬유 모재(240)를 탈수 및 유리화하는 방법을 구체적 수치를 적용하여 예시하자면 아래와 같다.
(a) 상기 셋팅 과정(S1)은 그 전체 길이에 걸쳐서 상기 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)에 의해 둘러싸이도록 상기 다공질 광섬유 모재(240)를 상기 머플(210) 내에 배치하는 과정이다. 상기 다공질 광섬유 모재(240)는 165㎜의 직경과 1200㎜의 길이를 가지며, 상기 머플(210)은 215(장경)×200(단경)×2500(길이)[㎜]의 크기를 갖는다. 상기 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)의 전체 길이는 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 길이보다 크다. 즉, 상기 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)의 전체 길이는 최소한 1200㎜보다 크다.
(b) 상기 탈수 과정(S2)은 상기 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)의 온도를 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 탈수 온도 1100℃로 상승하고, 상기 다공질 광섬 유 모재(240)를 1~5rpm으로 회전시키며, 상기 공급관(212)을 통해 분위기 가스(260)인 Cl2 1.0slpm를 상기 머플(210) 내에 공급하는 과정이다. 상기 분위기 가스(260)는 상기 공급관(212)으로부터 상기 머플(210) 내부를 통과하여 상기 배기관(214)을 통해 외부로 배출된다. 상기 탈수 과정(S2)은 150분 정도 소요된다.
(c) 상기 유리화 과정(S3)은 아래의 두 단계들로 세분된다. 먼저, 상기 제1 히터(230-1)의 온도를 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)의 유리화 온도 1520℃로 상승시킨다. 이 때, 상승 속도는 10℃/min이다. 다음으로, 상기 제1 히터(230-1)의 온도가 유리화 온도에 도달하면, 상기 공급관(212)을 통해 분위기 가스(260)인 He를 상기 머플(210) 내에 공급하며, 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)를 5.5㎜/min의 속도로 하향 이동시킨다. 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)는 상기 제1 히터(230-1)에 의해 형성된 상기 머플(210) 내부의 고온 영역을 지나면서 그 하단부터 상단까지 점차적으로 유리화된다. 상기 유리화 과정(S3)은 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)의 상단이 상기 고온 영역을 지날 때까지 진행된다. 즉, 상기 유리화 과정(S3)은 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)가 그 하단부터 상단까지 전체적으로 유리화될 때까지 진행된다.
(d) 상기 리셋팅 과정(S4)은 상기 유리화된 광섬유 모재(240)를 원위치(즉, 상기 (a) 과정에서의 위치)로 상향 이동시키는 과정이다. 상기 리셋팅 과정(S5)은 다음 공정, 즉 다른 다공질 광섬유 모재를 탈수 및 유리화하는 공정을 위한 예비 과정으로서, 상기 리셋팅 과정(S4)은 하기하는 정화 과정(S5)을 진행한 후에 진행 하거나 생략될 수 있는 과정이다.
(e) 상기 정화 과정(S5)은 상기 제1 히터(230-1)의 온도를 휴지(idle) 온도 1100℃로 하강시키고, 상기 분위기 가스(260)를 차단하며, 상기 공급관(212)을 통해 정화 가스인 N2 5splm을 상기 머플(210) 내에 공급하는 과정이다.
(f) 정화 과정(S5)이 완료되면, 상기 유리화된 광섬유 모재(240)를 상기 머플(210)로부터 제거한다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법은 상기 다단의 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)을 이용하여 이동 과정없이 다공질 광섬유 모재(240)를 탈수하고, 상기 제1 히터(230-1)를 이용하여 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)를 영역 가열한다. 이에 따라서, 본 발명에 따른 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법은 아래와 같은 이점들을 갖는다.
첫 째, 상기 다단의 제1 내지 제n 히터들(230-1~230-n)을 이용하여 상기 머플(210) 내부에 상기 다공질 광섬유 모재(240)의 길이 이상의 길이를 갖는 고온 영역을 형성하므로, 영역 가열 방식에 비하여 공정 시간을 획기적으로 단축할 수 있다는 이점이 있다.
둘 째, 상기 유리화 과정(S3)에서 상기 제1 히터(230-1)를 이용하여 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)를 영역 가열하므로, 상기 머플(210)의 내측 상부에 존재 가능한 불균일한 가스(예를 들어, 상기 머플(210)의 상부 홀을 통해 외부로부터 유입된 질소 및 산소)의 영향을 최소화할 수 있다는 이점이 있다.
도 4는 상기 머플(210) 내부의 산소 농도 분포를 나타내는 도면이다. 도시된 바와 같이, 상기 머플(210)의 내측 상부에는 그 상부 홀을 통해 외부로부터 유입된 산소가 다량으로 존재함을 알 수 있다.
본 발명은 상기 유리화 과정(S3)에서 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재(240)를 하향 이동시키면서(즉, 상기 머플의 내측 상부로부터 내측 하부로 이동) 영역 가열하므로, 이러한 불균일한 가스의 영향을 최소화할 수 있다는 것이다.
상술한 첫 째 및 둘 째 이점들에 따라서, 본 발명은 대구경 다공질 광섬유 모재에 적용 가능하고, 다공질 광섬유 모재의 전체 길이에 걸쳐서 균일하면서 높은 품질을 얻을 수 있다.
셋 째, 상기 탈수 과정(S2)에서 상기 다공질 광섬유 모재를 이동하지 않고, 복잡한 온도 제어를 필요치 않으므로, 종래에 비하여 공정 제어가 단순하다는 이점이 있다.
상술한 바와 같이, 본 발명에 따른 다단의 히터들을 이용하여 다공질 광섬유 모재를 탈수하고, 하나의 히터를 이용하여 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재를 영역 가열함으로써, 공정 시간을 최소화하여 대구경 다공질 광섬유 모재에 적용 가능하고, 다공질 광섬유 모재의 전체 길이에 걸쳐서 균일하면서 높은 품질을 얻을 수 있으며, 공정 제어가 단순하다는 이점들이 있다.

Claims (6)

  1. 다공질 광섬유 모재를 그 내부에 배치하기 위한 머플과, 상기 머플의 외주 둘레에 상기 다공질 광섬유 모재의 길이 방향을 따라 다단으로 배치된 다수의 히터들을 포함하는 가열 장치 내에서 상기 다공질 광섬유 모재를 탈수 및 유리화하기 위한 방법에 있어서,
    (a) 그 전체 길이에 걸쳐서 상기 다단의 히터들에 의해 둘러싸이도록 상기 다공질 광섬유 모재를 상기 머플 내에 배치하는 과정과;
    (b) 상기 다단의 히터들의 온도가 상기 다공질 광섬유 모재의 탈수 온도에 이른 상태에서, 상기 다공질 광섬유 모재를 가열하여 탈수하는 과정과;
    (c-1) 상기 히터들 중 선택된 하나의 온도를 상기 다공질 광섬유 모재의 유리화 온도로 상승시키는 과정과;
    (c-2) 상기 선택된 히터에 의해 형성된 상기 머플 내부의 고온 영역을 지나도록 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재를 이동시켜서 유리화하는 과정을 포함함을 특징으로 하는 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 (b) 과정과 상기 (c-2) 과정 동안에 상기 머플 내부에 분위기 가스를 제공함을 특징으로 하는 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법.
  3. 제1항에 있어서,
    (d) 상기 유리화된 광섬유 모재를 상기 (a) 과정에서의 위치로 이동시키는 과정을 더 포함함을 특징으로 하는 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법.
  4. 제1항에 있어서,
    (e) 상기 (d) 과정을 완료한 후, 상기 머플 내부에 정화 가스를 제공하는 과정을 더 포함함을 특징으로 하는 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 선택된 히터는 상기 히터들 중 끝단 히터임을 특징으로 하는 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법.
  6. 제5항에 있어서,
    상기 끝단 히터는 상기 상기 히터들 중 최하단 히터이며, 상기 (c-2) 과정에서 상기 탈수된 다공질 광섬유 모재는 하향으로 이동됨을 특징으로 하는 다공질 광섬유 모재의 탈수 및 유리화 방법.
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