KR20060080404A - Photosensitive paste composition for forming barrier rib, a pdp barrier rib prepared therefrom, and a pdp comprising the same - Google Patents

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KR20060080404A KR1020050000789A KR20050000789A KR20060080404A KR 20060080404 A KR20060080404 A KR 20060080404A KR 1020050000789 A KR1020050000789 A KR 1020050000789A KR 20050000789 A KR20050000789 A KR 20050000789A KR 20060080404 A KR20060080404 A KR 20060080404A
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한동희
신상욱
전진환
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Abstract

본 발명은 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물에 관한 것으로서, 더욱 구체적으로는 격벽 분말(barrier rib powder), 감광성 비이클 (photosensitive vehicle), 및 고리형 산 무수물(cyclic acid anhydride)을 포함하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물, 상기 조성물을 이용하여 제조한 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽, 및 상기 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. 본 발명에 따르면, 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 겔화 (gelation)가 근본적으로 방지되어 보존 안정성이 우수한 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제공할 수 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a photosensitive paste composition for partition formation, and more particularly, to a partition formation photosensitive paste including a barrier rib powder, a photosensitive vehicle, and a cyclic acid anhydride. A composition, a partition of a plasma display panel manufactured using the composition, and a plasma display panel including the partition. According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive paste composition for forming a barrier rib excellent in storage stability by fundamentally preventing gelation of the photosensitive paste composition for forming a barrier rib.

감광성 페이스트 조성물, PDPPhotosensitive Paste Composition, PDP

Description

격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 PDP 격벽, 및 이를 포함하는 PDP{Photosensitive paste composition for forming barrier rib, a PDP barrier rib prepared therefrom, and a PDP comprising the same}Photosensitive paste composition for forming barrier ribs, PDP barrier ribs prepared using the same, and PDPD comprising the same, a PDP barrier rib prepared therefrom, and a PDP comprising the same}

도 1은 본 발명에 따라서 제조된 격벽을 포함하는 PDP를 도시하는 부분절개 분리사시도이다.1 is a partial cutaway perspective view illustrating a PDP including a partition wall manufactured according to the present invention.

<도면의 주요부분에 대한 부호의 설명><Description of the symbols for the main parts of the drawings>

110: 전방 패널 111: 전면 기판110: front panel 111: front substrate

112: Y 전극 113: X 전극112: Y electrode 113: X electrode

114: 유지 전극쌍 115: 전방 유전체층114: sustain electrode pair 115: front dielectric layer

116: 보호막 120: 후방 패널116: protective film 120: rear panel

121: 배면기판 122: 어드레스 전극121: back substrate 122: address electrode

123: 후방 유전체층 124: 격벽123: rear dielectric layer 124: partition wall

125: 형광체층 126: 발광 셀 125: phosphor layer 126: light emitting cell

본 발명은 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라 즈마 디스플레이 패널의 격벽, 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로서, 더욱 상세하게는 격벽 분말(barrier rib powder), 감광성 비이클 (photosensitive vehicle), 및 고리형 산 무수물(cyclic acid anhydride)을 포함하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물, 이를 이용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽, 및 이를 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것이다. The present invention relates to a photosensitive paste composition for forming a partition, a partition of a plasma display panel manufactured using the same, and a plasma display panel including the same, and more particularly, a barrier rib powder and a photosensitive vehicle. And a photosensitive paste composition for forming a partition including cyclic acid anhydride, a partition of a plasma display panel manufactured using the same, and a plasma display panel including the same.

플라즈마 디스플레이 패널 (plasma display panel, PDP)의 제조에 있어서, 격벽 (barrier rib)은 하판 (또는 배면판)에 형성되는 구조물로서, 방전 공간 확보 및 인접한 셀 (cell) 간의 전기적 및 광학적 크로스토크 (cross talk)를 방지하는 역할을 한다. 이러한 격벽은 PDP 기종에 따라 다르나, 스트라이프 (stripe) 형태의 경우 150 내지 300 ㎛의 간격으로 상부 폭 60 내지 100 ㎛, 하부 폭 100 내지 160 ㎛, 및 높이 100 내지 150 ㎛를 갖는다.In the manufacture of plasma display panels (PDPs), barrier ribs are structures formed on the bottom plate (or back plate), which secure electric discharge space and electrically and optical crosstalk between adjacent cells. prevents talk) The barrier ribs vary depending on the PDP type, but have a stripe shape having an upper width of 60 to 100 μm, a lower width of 100 to 160 μm, and a height of 100 to 150 μm at intervals of 150 to 300 μm.

격벽은 PDP 하판에 어드레스 전극 및 그 위에 유전체를 형성한 다음, 스크린 인쇄법 (screen printing method), 샌드 블라스트법(sand blast method), 사진 식각법 (photolithography) 등을 이용하여 형성할 수 있다.The partition wall may be formed by forming an address electrode and a dielectric thereon on a PDP lower plate, and then using a screen printing method, a sand blast method, a photolithography method, or the like.

스크린 인쇄법은 패턴된 마스크를 사용하여 인쇄용 격벽 페이스트를 스퀴즈 (squeeze)를 이용하여 기판에 인쇄하고 건조하여 용매를 제거한 다음, 다시 인쇄 및 건조를 수회 반복 실시하여 원하는 두께의 건조된 막을 형성한 다음, 소성 공정을 거쳐 격벽 막을 얻는다. 그러나 이 방법의 문제점은 공정 시간이 많이 소요되고 낮은 해상도 및 반복된 인쇄 작업에 의한 오정렬로 인해 균일한 패턴의 격벽을 형성하기 어렵다는 것이다. Screen printing method uses a patterned mask to print a bulkhead paste on a substrate using a squeeze and dry to remove the solvent, and then repeat the printing and drying several times to form a dried film of the desired thickness The partition film is obtained through a calcination process. However, a problem with this method is that it is difficult to form a uniform pattern of partition walls due to process time, low resolution, and misalignment caused by repeated printing.                         

샌드 블라스트법은 격벽 페이스트를 테이블 코터 (table coater) 등을 이용하여 한번에 인쇄하고 건조하여 원하는 두께의 막을 형성한 다음, 내샌딩성을 갖는 드라이 필름 레지스트 (dry film resist, DFR)를 라미네이팅 (laminating)하고 노광 및 현상 공정을 통해 패턴닝한 다음, 이 DFR 패턴을 마스크로 사용하여 샌딩 공정에서 고압의 미세한 연마제를 분사시켜 격벽을 패턴화하고, 남아있는 DFR을 제거한 후 소성공정을 거쳐 격벽을 완성한다. 이러한 샌드 블라스트법은 스크린 인쇄법에 비해 높은 해상도의 격벽 형성이 가능한 장점이 있으나, 공정이 복잡하고 연마제에 의한 충격으로 전극 단자부가 손상되는 단점이 있다.In the sand blasting method, the barrier paste is printed at one time using a table coater or the like and dried to form a film having a desired thickness, and then laminating a dry film resist (DFR) having a sanding resistance. After patterning through exposure and development process, the DFR pattern is used as a mask to spray the high-pressure fine abrasive in the sanding process to pattern the partition, remove the remaining DFR, and then complete the partition by firing. . The sand blasting method has the advantage of forming a partition having a higher resolution than the screen printing method, but has a disadvantage in that the process is complicated and the electrode terminal part is damaged by the impact of the abrasive.

사진 식각법은 격벽 형성용 감광성 페이스트를 인쇄 및 건조하여 원하는 두께의 막을 형성한 다음, 포토마스크가 장착된 자외선 노광장치를 이용하여 노광한 후, 다시 인쇄, 건조, 및 노광 공정을 수회 반복 실시한 다음, 현상 공정에서 비노광부를 선택적으로 제거한 다음, 소성공정을 거쳐 격벽을 제조한다. 이러한 사진 식각법은 스크린 인쇄법에 비해 고 해상도의 격벽을 얻을 수 있고, 샌드 블라스트법에 비해 DFR 및 샌드 공정을 거치지 않는 장점이 있으나, 공정 처리 횟수가 많고 반복 공정 시 오정렬에 의한 문제가 발생될 수 있는 단점이 있다.Photolithography is performed by printing and drying the photosensitive paste for forming a partition to form a film having a desired thickness, and then exposing using an ultraviolet exposure apparatus equipped with a photomask, and then repeating the printing, drying and exposure processes several times. In the developing step, the non-exposed part is selectively removed, and then the partition wall is manufactured through the firing step. Such photolithography can obtain high resolution bulkheads compared to screen printing, and it does not go through DFR and sanding processes compared to sandblasting, but there are many times of processing and problems due to misalignment during repeated processes. There are drawbacks to this.

상기의 문제점을 해결하기 위하여 미국 특허 제6,197,480호에는 무기물과 유기물의 굴절률 차이를 최소화하는 방법, 대한민국 특허출원 제2004-0012298호에는 무기물을 퓸드 실리카로 표면처리하는 방법을 이용하여 노광감도를 향상시켜 1회의 노광 공정을 통해 격벽을 형성하는 것이 개시되어 있다.In order to solve the above problems, US Pat. No. 6,197,480 discloses a method of minimizing the difference in refractive index between inorganic and organic matters, and Korean Patent Application No. 2004-0012298 uses a method of surface treatment of inorganics with fumed silica to improve exposure sensitivity. It is disclosed to form a partition through one exposure process.

상기 사진 식각법에 의해 격벽을 형성하는데 이용되는 감광성 페이스트의 최 근 경향은, 환경 문제를 고려하여 유기 용매가 아닌 물 또는 알카리 수용액을 현상액으로 이용하는 경향이 증대되고 있으며, 이러한 연유로 페이스트 조성물의 구성 성분 중 하나인 유기 바인더는 카르복실기 등의 산성 관능기를 포함하는 공중합체를 사용하고 있다. 그러나, 유기 바인더로 이와 같은 카르복실기를 포함하는 공중합체를 사용할 경우에, 페이스트 주요 성분인 무기질계 바인더와 공중합체의 카르복실기가 결합하여 이온 가교에 의한 3차원 네트워크가 형성되면서 겔(gel)화가 진행되는 문제점이 있다. 이와 같은 페이스트의 겔화 현상은 점도를 급격히 상승시켜서 인쇄를 불가능하게 하며, 인쇄가 된다 하더라도 현상을 불가능하게 하는 문제점을 야기한다.The recent tendency of the photosensitive paste used to form the partition walls by the photolithography method is that the tendency to use water or alkaline aqueous solution as a developer rather than an organic solvent in consideration of environmental problems is increasing. The organic binder which is one of the components uses the copolymer containing acidic functional groups, such as a carboxyl group. However, in the case of using a copolymer including such a carboxyl group as an organic binder, gelation proceeds while forming a three-dimensional network by ion crosslinking by combining an inorganic binder, which is a paste main component, with a carboxyl group of the copolymer. There is a problem. Such a gelling phenomenon of the paste causes the viscosity to rise so that printing is impossible, and even if printing occurs, the development becomes impossible.

종래에 이러한 페이스트의 겔화 현상을 방지하기 위한 방법으로서 몇 가지 방안들이 제시된 바 있다. 예를 들어, 미국특허 제6,576,391에 개시된 트리아졸(triazole) 화합물로 무기질계 바인더를 표면 처리하는 방법, 미국특허 제6,326,125호에 개시된 공중합체의 입체 장애적 구조에 의한 방법 등이 있다. 그러나, 상기 방법들은 페이스트의 겔화를 지연시킬 수는 있지만, 이러한 겔화 반응을 근본적으로 방지할 수는 없다는 한계점이 있다.Several methods have been proposed in the past as a method for preventing the gelation of such paste. For example, a method of surface treatment of an inorganic binder with a triazole compound disclosed in US Pat. No. 6,576,391, a method by the steric hindrance structure of the copolymer disclosed in US Pat. No. 6,326,125, and the like. However, although these methods can delay the gelation of the paste, there is a limitation that this gelation reaction cannot be fundamentally prevented.

따라서, 본 발명은 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 겔화를 근본적으로 방지함으로써 보존 안정성이 우수한 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제공하며, 또한 이를 이용하여 제조된 PDP 격벽, 및 상기 격벽을 포함하는 PDP를 제공하고자 한다.Accordingly, the present invention provides a photosensitive paste composition for forming barrier ribs having excellent storage stability by fundamentally preventing gelation of the photosensitive paste composition for barrier rib formation, and also provides a PDP barrier rib manufactured using the same, and a PDP including the barrier rib. I would like to.

본 발명의 일구현예는 상기 기술적 과제를 달성하기 위하여,One embodiment of the present invention to achieve the above technical problem,

격벽 분말, 감광성 비이클, 및 고리형 산 무수물을 포함하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제공한다.Provided are a photosensitive paste composition for forming a partition including a partition powder, a photosensitive vehicle, and a cyclic acid anhydride.

본 발명의 다른 일구현예는 상기의 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여,Another embodiment of the present invention to achieve the above other technical problem,

격벽 분말, 감광성 비이클, 및 고리형 산 무수물을 포함하는 격벽 형성용 감광성 그린시트(green sheet)를 제공한다.There is provided a photosensitive green sheet for forming a partition comprising a partition powder, a photosensitive vehicle, and a cyclic acid anhydride.

본 발명의 다른 일구현예는 상기의 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여,Another embodiment of the present invention to achieve the above other technical problem,

본 발명은 상기의 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물 또는 격벽 형성용 감광성 그린시트를 이용하여 제조된 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽을 제공한다. The present invention provides a partition of a plasma display panel manufactured using the photosensitive paste composition for forming a partition or the photosensitive green sheet for forming a partition.

본 발명의 다른 일구현예는 상기의 다른 기술적 과제를 달성하기 위하여,Another embodiment of the present invention to achieve the above other technical problem,

또한 상기의 PDP 격벽을 포함하는 플라즈마 디스플레이 패널을 제공한다. The present invention also provides a plasma display panel including the PDP partition wall.

본 발명에 따르면, 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 겔화가 근본적으로 방지되어 보존 안정성이 우수한 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, gelation of the photosensitive paste composition for forming partitions is essentially prevented, thereby providing a photosensitive paste composition for forming partitions having excellent storage stability.

이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명하기로 한다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail.

본 발명에 따른 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물은, 격벽 분말, 감광성 비이클, 및 고리형 산 무수물을 포함한다. 본 발명에 따르면, PDP 격벽 제조에 통상적으로 사용되는 감광성 페이스트 조성물에 고리형 산 무수물을 첨가함으로써 상기 조성물의 보존 안정성을 현저하게 향상시킬 수 있게 된다. 이는, 상기 고리형 산 무수물이 다음과 같은 몇 가지 형태로 작용하여 격벽 분말이 상기 공중합체의 카르복실기와 결합하여 겔화가 진행되는 것을 방지하기 때문이다. 즉, i) 무기질계 바인더와 수분과의 반응에 의해 생성된 격벽 분말 표면의 히드록실기 (-OH)가 상기 고리형 산 무수물과 결합하거나, ii) 무기질계 바인더 중의 양이온 성분이 상기 고리형 산 무수물과 결합하거나, iii) 상기 고리형 산 무수물이 페이스트 중의 수분과의 반응에서 형성된 디카르복실기가 무기질계 바인더와 결합하거나, iv) 상기 고리형 산 무수물이 감광성 비이클 중의 공중합체에 존재하는 카르복실기와 결합함으로써 겔화를 방지할 수 있다.The photosensitive paste composition for forming a partition according to the present invention includes a partition powder, a photosensitive vehicle, and a cyclic acid anhydride. According to the present invention, it is possible to remarkably improve the storage stability of the composition by adding cyclic acid anhydride to the photosensitive paste composition commonly used in the production of PDP partition walls. This is because the cyclic acid anhydride acts in several forms as follows to prevent the partition wall from adhering to the carboxyl group of the copolymer to prevent gelation. That is, i) the hydroxyl group (-OH) on the surface of the partition powder formed by the reaction between the inorganic binder and water is bonded to the cyclic acid anhydride, or ii) the cation component in the inorganic binder is the cyclic acid. Or iii) the dicarboxylic group formed by the reaction of the cyclic acid anhydride with water in the paste, or an inorganic binder, or iv) the cyclic acid anhydride is bonded to the carboxyl group present in the copolymer in the photosensitive vehicle. This can prevent gelation.

상기 고리형 산 무수물은 페이스트 조성물을 제조할 때 첨가하여 사용할 수도 있고, 고리형 산 무수물로 격벽 분말을 표면 처리하여 사용할 수 있다. 표면처리 방법은 표면 처리할 격벽 분말 100 중량부에 대하여 0.1 내지 10 중량부에 해당하는 고리형 산 무수물을 아세톤, 메탄올, 에탄올, 에틸아세테이트, 메틸렌 클로라이드와 같은 휘발성이 높은 용매에 녹이고, 격벽 분말과 혼합하여 24시간 정도 교반하고, 상온에서 자연 건조시키거나 증발기 (evaporator)를 이용하여 건조시켜 용매를 제거하고, 60 내지 90℃로 10시간 이상 진공 건조하여 제조한다.The cyclic acid anhydride may be added and used when preparing the paste composition, or may be used by surface-treating the partition powder with the cyclic acid anhydride. The surface treatment method dissolves 0.1 to 10 parts by weight of a cyclic acid anhydride corresponding to 100 parts by weight of the bulkhead powder to be surface-treated in a highly volatile solvent such as acetone, methanol, ethanol, ethyl acetate, and methylene chloride. The mixture is stirred for about 24 hours, naturally dried at room temperature or dried using an evaporator to remove the solvent, and vacuum-dried at 60 to 90 ° C. for 10 hours or more to prepare.

상기 고리형 산 무수물을 페이스트에 첨가하는 방식과 고리형 산 무수물을 격벽 분말에 표면 처리하여 사용하는 방식과의 차이점은 첨가하는 방식은 간단하고 편리한 반면, 페이스트 점도가 안정될 때까지 수 십 시간에서 수 일을 필요로 하는 반면, 표면처리 방식은 표면처리 과정이 다소 불편하지만 페이스트의 점도가 초기부터 안정하게 유지된다는 장점이 있다. The difference between the method of adding the cyclic acid anhydride to the paste and the method of surface-treating the cyclic acid anhydride on the bulkhead powder is simple and convenient, while in the tens of hours until the paste viscosity is stabilized. While it requires several days, the surface treatment method is somewhat inconvenient, but has the advantage that the viscosity of the paste remains stable from the beginning.                     

본 발명에서는 비이클과 친화성이 있어서 비이클에 용이하게 용해가능하면서도, 격벽 분말의 분산성을 저해하지 않는 고리형 산 무수물을 사용하여 상기와 같은 효과를 얻을 수 있다.In the present invention, the above effects can be obtained by using a cyclic acid anhydride having affinity with the vehicle and being easily soluble in the vehicle, but not impairing the dispersibility of the partition powder.

상기와 같은 조건들을 만족시키는 고리형 산 무수물로는, 이에 제한되는 것은 아니지만, 숙신산 무수물, 메틸숙신산 무수물, 2,2-디메틸숙신산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물, 헥사히드로-4-메틸프탈산 무수물, 글루타르산 무수물, 3-메틸글루타르산 무수물, 2,2-디메틸글루타르산 무수물, 3,3-디메틸글루타르산 무수물, 3,3-테트라메틸렌 글루타르산 무수물 등과 같은 지방족 화합물들, 또는 페닐숙신산 무수물, 2-페닐글루타르산 무수물, 프탈산 무수물, 4-메틸프탈산 무수물, 3-히드록시프탈산 무수물, 1,2,4-벤젠트리카르복실산 무수물, 및 벤젠테트라카르복실산 디무수물 등과 같은 방향족 화합물들로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것이 있다.Cyclic acid anhydrides satisfying the above conditions include, but are not limited to, succinic anhydride, methyl succinic anhydride, 2,2-dimethylsuccinic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, hexahydro- 4-methylphthalic anhydride, glutaric anhydride, 3-methyl glutaric anhydride, 2,2-dimethyl glutaric anhydride, 3,3-dimethyl glutaric anhydride, 3,3-tetramethylene glutaric anhydride Aliphatic compounds such as phenylsuccinic anhydride, 2-phenylglutaric anhydride, phthalic anhydride, 4-methylphthalic anhydride, 3-hydroxyphthalic anhydride, 1,2,4-benzenetricarboxylic anhydride, and benzenetetra At least one selected from the group consisting of aromatic compounds such as carboxylic acid dianhydride and the like.

상기 고리형 산 무수물의 함량은, 격벽 분말 100 중량부에 대해서 0.1 내지 5.0 중량부인 것이 바람직하다. 고리형 산 무수물의 함량이 상기 범위에 미달되는 경우에는 페이스트의 보존 안정성이 확보되기 어렵다는 문제점이 있고, 상기 범위를 초과하는 경우에는 현상성이 나빠진다는 문제점이 있어서 바람직하지 않다.It is preferable that content of the said cyclic acid anhydride is 0.1-5.0 weight part with respect to 100 weight part of partition wall powder. If the content of the cyclic acid anhydride is less than the above range, there is a problem in that the storage stability of the paste is difficult to be secured, and if it exceeds the above range, there is a problem of poor developability, which is not preferable.

본 발명에 따른 조성물은 또한 격벽 분말 및 감광성 비이클을 포함하며, 각각의 함량은 격벽 분말 100중량부를 기준으로 하여 감광성 비이클 20 내지 100 중량부인 것이 바람직하다.The composition according to the invention also comprises a partition powder and a photosensitive vehicle, each of which is preferably 20 to 100 parts by weight of the photosensitive vehicle based on 100 parts by weight of the partition powder.

상기 격벽 분말로는 유리 분말(glass powder)의 성분을 단독으로 사용할 수 도 있으나, 현재는 주로 격벽을 불투명하게 하여 반사율을 증가시켜 휘도를 향상시키기 위해 유리 분말 성분에 알루미나 및/또는 산화티타늄 등을 첨가한 것이 사용된다. 유리 분말의 성분은, 이에 제한되지는 않지만 PbO-SiO2계, PbO-SiO2-B 2O3계, PbO-SiO2-B2O3-ZnO계, PbO-SiO2-B2O3 -BaO계, PbO-SiO2-ZnO-BaO계, ZnO-SiO2계, ZnO-B2O3-SiO2계, ZnO-K2O-B2O3-SiO 2-BaO계, Bi2O3-SiO2계, Bi2O3-B 2O3-SiO2계, 및 Bi2O3-B2O3-SiO2-BaO계, 및 Bi2O3-B2O 3-SiO2-BaO-ZnO계로 이루어진 군으로부터 선택된다. 또한, 이들 유리 분말들은 단독 또는 2종 이상 혼합하여 사용할 수 있다.As the partition powder, a component of glass powder may be used alone, but at present, alumina and / or titanium oxide may be added to the glass powder to improve the brightness by increasing the reflectance by making the partition opaque. Added ones are used. Components of the glass powder include, but are not limited to, PbO-SiO 2 based, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 based, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -ZnO based, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -BaO system, PbO-SiO 2 -ZnO-BaO system, ZnO-SiO 2 system, ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 system, ZnO-K 2 OB 2 O 3 -SiO 2 -BaO system, Bi 2 O 3 -SiO 2 system, Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 system, and Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -BaO system, and Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2- It is selected from the group consisting of BaO-ZnO system. In addition, these glass powders can be used individually or in mixture of 2 or more types.

상기 유리 분말의 입자 형상은 특별히 한정되지 않지만, 구형인 것이 바람직한데, 이는 구형의 입자가 충진율 및 자외선 투과도에 있어서 판상이나 무정형보다 우수한 특성을 갖기 때문이다. 유리 분말의 평균 입자 크기는 2 내지 5 ㎛, 최소 입자(Dmin)는 0.5 ㎛, 최대 입자(Dmax)는 10 ㎛인 것이 적합하다. 평균 입자 크기가 2 ㎛ 미만이거나 최소 입자(Dmin)가 0.5 ㎛ 미만이 되면 노광감도의 저하 및 소성 시 수축율이 커서 원하는 격벽 형태를 얻을 수 없고, 평균 입자가 5 ㎛를 초과하거나 최대 입자(Dmax)가 10 ㎛를 초과하게 되면 격벽의 치밀성 및 격벽 모양의 직진성이 떨어지는 문제가 발생한다. 유리 분말의 연화(softening) 온도는 400 내지 600℃인 것이 바람직하다. 연화 온도가 400℃ 미만이 되면 소성 시 원하는 형상의 격벽을 얻을 수 없고, 연화 온도가 600℃를 초과하게 되면 연화가 제대로 일어나지 않는다. 유리 분말의 열팽창 계수는 격벽이 형성되는 기판의 열 팽창 계수에 가까 울 수록 좋다. 유리 분말과 기판과의 열 팽창 계수 차이가 크게 되면 기판이 휘거나 심한 경우에는 파손될 수도 있다. Although the particle shape of the said glass powder is not specifically limited, It is preferable that it is spherical because spherical particle | grains have a characteristic superior to plate form or amorphous in a filling rate and an ultraviolet transmittance. The average particle size of the glass powder is 2 to 5 μm, the minimum particle size (D min ) is 0.5 μm, and the maximum particle size (D max ) is 10 micrometers is suitable. If the average particle size is less than 2 μm or the minimum particle size (D min ) is less than 0.5 μm, the reduction in exposure sensitivity and the shrinkage rate during firing are so large that a desired partition wall shape cannot be obtained. If the max ) exceeds 10 μm, the denseness of the barrier rib and the straightness of the barrier rib are deteriorated. The softening temperature of the glass powder is preferably 400 to 600 ° C. If the softening temperature is less than 400 ℃ can not obtain a partition of the desired shape during firing, if the softening temperature exceeds 600 ℃ softening does not occur properly. The thermal expansion coefficient of the glass powder is closer to the thermal expansion coefficient of the substrate on which the partition wall is formed. If the difference in coefficient of thermal expansion between the glass powder and the substrate becomes large, the substrate may bend or even break in severe cases.

격벽 분말의 함량은 감광성 페이스트 100 중량부에 대해서 40 내지 80 중량부가 적합하며, 40 중량부 미만이 되면 원하는 두께의 격벽을 얻을 수 없으며, 80 중량부를 초과하게 되면 노광 감도 부족으로 격벽을 형성할 수 없다.The content of the partition powder is suitable for 40 to 80 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive paste. If the content is less than 40 parts by weight, the partition wall may not be obtained. If the content exceeds 80 parts by weight, the partition may be formed due to insufficient exposure sensitivity. none.

본 발명에 따른 조성물은 또한 감광성 비이클을 포함하며, 감광성 비이클의 함량은 상기 격벽 분말 100 중량부에 대해서 20 내지 100 중량부인 것이 바람직하다. 감광성 비이클의 함량이 20 중량부 미만인 경우에는 페이스트의 인쇄성 불량 및 노광 감도가 저하되기 때문에 바람직하지 않고, 100 중량부를 초과하는 경우에는 상대적으로 격벽 분말의 함량비가 낮게 되어, 소성시에 수축이 심하게 일어나 원하는 형태의 격벽을 형성하기 어렵기 때문에 바람직하지 않다. The composition according to the invention also comprises a photosensitive vehicle, the content of the photosensitive vehicle is preferably 20 to 100 parts by weight based on 100 parts by weight of the partition powder. If the content of the photosensitive vehicle is less than 20 parts by weight, it is not preferable because the printability of the paste and the exposure sensitivity are lowered. If the content of the photosensitive vehicle exceeds 100 parts by weight, the content ratio of the partition wall powder is relatively low, and the shrinkage during the firing is severe. It is not preferable because it is difficult to get up and form a partition of a desired shape.

상기 감광성 비이클은, 유기 바인더, 가교제, 광개시제, 용매, 및 기타 첨가제를 포함한다.The photosensitive vehicle includes an organic binder, a crosslinking agent, a photoinitiator, a solvent, and other additives.

현상 공정에서 알카리 수용액을 현상액으로 사용하는 경우에 유기 바인더는 산성기를 포함하는 것을 사용한다. 이러한 유기 바인더로는 여러 가지 종류의 고분자가 사용될 수 있는데, 그 중 아크릴계 수지가 가격 특성 면에서 가장 적합하다. 아크릴계 수지 내에 산성기를 갖게 하기 위해서는 카르복실기를 갖는 모노머들을 이용할 수 있으며, 따라서 본 발명에 따른 유기 바인더로서 카르복실기를 갖는 모노머와 다른 1개 이상의 모노머들과의 공중합체를 사용할 수 있다. 상기 카르복실기를 갖는 모노머는 이에 제한되지는 않지만 아크릴산, 메타크릴산, 푸마르 산, 말레인산, 비닐초산 및 이들의 무수물로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것이 바람직하며, 이러한 카르복실기를 갖는 모노머와 공중합되는 다른 모노머는 메틸 아크릴레이트, 메틸 메타크릴레이트, 에틸 아크릴레이트, 에틸 메타크릴레이트, n-부틸 아크릴레이트, n-부틸 메타크릴레이트, 이소부틸 아크릴레이트, 이소부틸 메타크릴레이트, 2-히드록시 에틸 아크릴레이트, 2-히드록시 에틸 메타크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르 아크릴레이트, 에틸렌글리콜 모노메틸 에테르 메타크릴레이트, 스티렌, 및 p-히드록시 스티렌으로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이 바람직하다.When using alkaline aqueous solution as a developing solution in the image development process, the organic binder uses what contains an acidic group. Various kinds of polymers may be used as the organic binder, and an acrylic resin is most suitable in terms of price characteristics. In order to have an acidic group in acrylic resin, the monomer which has a carboxyl group can be used, Therefore, the copolymer of the monomer which has a carboxyl group with another 1 or more monomer can be used as an organic binder which concerns on this invention. The monomer having a carboxyl group is not limited thereto, but at least one selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, vinyl acetic acid, and anhydrides thereof, and another monomer copolymerized with a monomer having such a carboxyl group is Methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, 2-hydroxy ethyl acrylate, Preference is given to at least one selected from the group consisting of 2-hydroxy ethyl methacrylate, ethylene glycol monomethyl ether acrylate, ethylene glycol monomethyl ether methacrylate, styrene, and p-hydroxy styrene.

또한, 유기 바인더로는 상기 공중합체의 카르복실기와 에틸렌성 불포화 화합물을 반응시킴으로써, 결과적으로 바인더 내에 가교 반응을 일으킬 성분이 부가된 것을 이용할 수도 있다. 상기 에틸렌성 불포화 화합물로는 글리시딜메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트, 및 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 것이 사용될 수 있다.As the organic binder, a carboxyl group of the copolymer may be reacted with an ethylenically unsaturated compound, and as a result, a component to which a crosslinking reaction is added in the binder may be used. The ethylenically unsaturated compound may be one selected from the group consisting of glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate.

더 나아가, 유기 바인더로는 상기 공중합체를 단독으로 사용할 수도 있으나, 막 레벨링이나 요변 특성 향상 등의 목적으로 메틸셀룰로오즈, 에틸셀룰로오즈, 니트로셀룰로오즈, 히드록시메틸셀룰로오즈, 히드록시에틸셀룰로오즈, 히드록시프로필셀룰로오즈, 카르복시메틸셀룰로오즈, 카르복시에틸셀룰로오즈, 및 카르복시에틸메틸셀룰로오즈로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질을 혼합하여 사용할 수도 있다.Furthermore, although the copolymer may be used alone as an organic binder, methyl cellulose, ethyl cellulose, nitro cellulose, hydroxymethyl cellulose, hydroxyethyl cellulose, hydroxypropyl cellulose for the purpose of improving film leveling and thixotropic properties, etc. It may be used by mixing one or more substances selected from the group consisting of, carboxymethyl cellulose, carboxyethyl cellulose, and carboxyethyl methyl cellulose.

상기 공중합체의 분자량은 5,000 내지 100,000 g/mol인 것이 바람직하며, 산 가는 20 내지 150 mgKOH/g인 것이 바람직하다. 공중합체의 분자량이 5,000 g/mol 미만인 경우에는 페이스트의 인쇄성이 떨어지고, 100,000 g/mol을 초과하는 경우에는 현상시 비노광부가 제거가 안되는 문제점이 있어서 바람직하지 않다. 또한, 공중합체의 산가가 20 mgKOH/g 미만인 경우에는 현상성이 떨어지고, 150 mgKOH/g을 초과하는 경우에는 노광된 부분까지 현상되는 문제점이 있어서 바람직하지 않다.It is preferable that the molecular weight of the said copolymer is 5,000-100,000 g / mol, and it is preferable that acid value is 20-150 mgKOH / g. If the copolymer has a molecular weight of less than 5,000 g / mol, the printability of the paste is inferior, and if it exceeds 100,000 g / mol, there is a problem that the non-exposed part cannot be removed during development. In addition, when the acid value of the copolymer is less than 20 mgKOH / g, developability is inferior, when it exceeds 150 mgKOH / g, there is a problem that is developed to the exposed portion is not preferred.

상기 유기 바인더의 함량은 첨가되는 격벽 분말의 함량, 증점제의 첨가 여부 및 그 함량에 의해서 결정되는데, 유기 바인더는 감광성 비이클 100 중량부에 대해서 10 내지 50 중량부인 것이 바람직하다. 유기 바인더의 함량이 상기 범위 미만인 경우에는 점도 및 인쇄성 저하라는 문제점이 있어서 바람직하지 않고, 함량이 상기 범위를 초과하는 현상성 불량 및 수축율이 심해져서 원하는 격벽의 형상을 얻을 수 없어서 바람직하지 않다. The content of the organic binder is determined by the content of the partition wall powder to be added, the addition of a thickener, and the content thereof. The organic binder is preferably 10 to 50 parts by weight based on 100 parts by weight of the photosensitive vehicle. When the content of the organic binder is less than the above range, there is a problem such as a decrease in viscosity and printability, which is not preferable, and the developability defect and shrinkage rate of which the content exceeds the above range becomes severe, which is not preferable because the desired partition wall shape cannot be obtained.

가교제로는 단관능 및 다관능 모노머가 이용될 수 있는데, 일반적으로는 노광 감도가 좋은 다관능 모노머를 이용한다. 이러한 다관능 모노머로는, 이에 제한되는 것은 아니지만, 에틸렌 글리콜 디아크릴레이트(EGDA)와 같은 디아크릴레이트계; 트리메틸올프로판 트리아크릴레이트(TMPTA), 트리메틸올프로판에톡시레이트트리아크릴레이트(TMPEOTA), 또는 펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA)와 같은 트리아크릴레이트계; 테트라메틸올프로판 테트라아크릴레이트, 또는 펜타에리스리톨테트라아크릴레이트와 같은 테트라아크릴레이트계; 디펜타에리스리톨 헥사아크릴레이트(DPHA)와 같은 헥사아크릴레이트계로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것이 사용될 수 있다. 상기 가교제의 함량은 상기 공중합체 바인더 100 중량부에 대해서 50 내지 200 중량부인 것이 바람직한데, 가교제의 함량이 50 중량부 미만인 경우에는 노광 감도가 떨어져서 패턴된 격벽을 얻을 수 없고, 200 중량부를 초과하는 경우에는 수축율이 심해 원하는 격벽을 형상을 얻을 수 없어 바람직하지 않다.As the crosslinking agent, monofunctional and polyfunctional monomers can be used. Generally, a polyfunctional monomer having good exposure sensitivity is used. Such polyfunctional monomers include, but are not limited to, diacrylates such as ethylene glycol diacrylate (EGDA); Triacrylates such as trimethylolpropane triacrylate (TMPTA), trimethylolpropaneethoxylate triacrylate (TMPEOTA), or pentaerythritol triacrylate (PETA); Tetraacrylates such as tetramethylolpropane tetraacrylate or pentaerythritol tetraacrylate; One or more selected from the group consisting of hexaacrylates such as dipentaerythritol hexaacrylate (DPHA) can be used. The content of the crosslinking agent is preferably 50 to 200 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copolymer binder. When the content of the crosslinking agent is less than 50 parts by weight, the exposure sensitivity is poor to obtain a patterned partition wall, which exceeds 200 parts by weight. In this case, the shrinkage ratio is so high that the desired partition wall shape cannot be obtained, which is not preferable.

상기 광개시제로는, 이에 제한되는 것은 아니지만, 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4,4-비스(디메틸아민)벤조페논, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐-2-페닐아세토페논, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것이 사용될 수 있다. 상기 광개시제의 함량은 상기 공중합체 바인더 100 중량부에 대해서 20 내지 130 중량부인 것이 바람직한데, 광개시제의 함량이 20 중량부 미만인 경우에는 페이스트의 노광 감도가 떨어져서 원하는 크기의 격벽 선폭을 얻을 수가 없고, 130 중량부를 초과하는 경우에는 격벽 선폭이 크게 나오거나 현상이 안 되는 문제점이 있어서 바람직하지 않다.Examples of the photoinitiator include, but are not limited to, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2-die Methoxyacetophenone, 2,2-dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl- 2-dimethylamino-1- (4-morpholinophenyl) -1-butanone, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphineoxide, and bis (2,4 One or more selected from the group consisting of, 6-trimethylbenzoyl) phenylphosphine oxide can be used. The content of the photoinitiator is preferably 20 to 130 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the copolymer binder. When the content of the photoinitiator is less than 20 parts by weight, the exposure sensitivity of the paste is low, so that a barrier line width of a desired size cannot be obtained. If it exceeds the weight part, it is not preferable because there exists a problem that a partition line width is large or it does not develop.

상기 용매로는, 바인더 및 광개시제를 용해시킬 수 있고, 가교제 및 기타 첨가제와 잘 혼합되면서 비등점이 150 ℃이상인 것이 사용될 수 있다. 비등점이 150 ℃미만인 경우에는 조성물의 제조 과정, 특히 3-롤 밀 공정에서 휘발되는 경향이 커서 문제가 되며, 또한 인쇄시 용매가 너무 빨리 휘발되어 인쇄 상태가 좋지 않게 되므로 바람직하지 않다. 상기 조건을 충족시킬 수 있는 바람직한 용매로는, 이에 제한되는 것은 아니지만, 에틸카비톨, 부틸카비톨, 에틸카비톨아세테이트, 부틸카 비톨아세테이트, 텍사놀, 테르핀유, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 및 트리프로필렌글리콜로 이루어진 군으로부터 하나 이상 선택된 것이 사용될 수 있다. 상기 용매의 함량은 유기 바인더 100 중량부에 대해서 50 내지 400 중량부인 것이 바람직한데, 용매의 함량이 50 중량부 미만인 경우에는 페이스트의 점도가 너무 높아 인쇄가 제대로 안되는 문제점이 있어서 바람직하지 않고, 400 중량부를 초과하는 경우에는 점도가 너무 낮아서 인쇄를 할 수 없는 문제점이 있어서 바람직하지 않다.As the solvent, a binder and a photoinitiator may be dissolved, and a boiling point of 150 ° C. or more may be used while being well mixed with a crosslinking agent and other additives. If the boiling point is less than 150 ° C, the tendency of volatilization in the manufacturing process of the composition, in particular, the three-roll mill process is a large problem, and is also undesirable because the solvent volatilizes too quickly during printing, resulting in poor printing. Preferred solvents capable of satisfying the above conditions include, but are not limited to, ethyl carbitol, butyl carbitol, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, texanol, terpin oil, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene One or more selected from the group consisting of glycol ethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, γ-butyrolactone, cellosolve acetate, butyl cellosolve acetate, and tripropylene glycol may be used. The content of the solvent is preferably 50 to 400 parts by weight with respect to 100 parts by weight of the organic binder, but if the content of the solvent is less than 50 parts by weight, the viscosity of the paste is too high, it is not preferable to print properly, 400 weight If the amount is exceeded, the viscosity is so low that printing cannot be performed, which is not preferable.

또한, 상기 감광성 비이클은 감도를 향상시키는 증감제, 조성물의 보존성을 향상시키는 중합금지제 및 산화방지제, 해상도를 향상시키는 자외선 흡광제, 조성물 내의 기포를 줄여 주는 소포제, 분산성을 향상시키는 분산제, 인쇄시 막의 평탄성을 향상시키는 레벨링제, 및 요변 특성을 부여하는 가소제 등과 같은 첨가제를 더 포함할 수도 있다.In addition, the photosensitive vehicle includes a sensitizer to improve sensitivity, a polymerization inhibitor and an antioxidant to improve the preservation of the composition, an ultraviolet light absorber to improve the resolution, an antifoaming agent to reduce bubbles in the composition, a dispersant to improve dispersibility, printing It may further include additives such as leveling agents to improve flatness of the film and plasticizers to impart thixotropic properties.

본 발명의 다른 구현예에서는 상기 서술한 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 PDP 격벽을 제공한다. 격벽은 미세 패턴의 형성 과정 및 소성 과정을 통하여 제조된다.Another embodiment of the present invention provides a PDP partition wall manufactured using the photosensitive paste composition for partition wall formation described above. The partition wall is manufactured through a process of forming a fine pattern and a process of firing.

미세 패턴의 형성 과정은, 상기와 같이 제조된 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 테이블 코터 등을 이용하여 어드레스 전극과 유전층이 형성된 하판 기판에 인쇄를 행하고, 컨벡션 오븐 (convection oven) 또는 IR 오븐에서 80 내지 150 ℃ 의 온도로, 5 내지 30 분 동안 건조시킨 다음, 형성된 페이스트 코팅 막 위에 자외선 광원을 사용하여 300 내지 450 nm의 빛으로 패턴이 형성되도록 노광을 행하고, 다시 상기 격벽 형성용 감광성 페이스트의 인쇄 및 노광까지의 공정을 반복 실시한 다음 Na2CO3 용액, KOH, TMAH 등과 같은 적당한 알칼리 현상액으로 30 ℃ 내외의 온도에서 현상하여 미 노광된 부위를 제거함으로써 이루어진다. 또한, 소성 과정은, 상기와 같이 형성된 미세 패턴을 전기로 등에서 500 내지 600 ℃로 10 내지 30 분간 소성함으로써 이루어진다.Formation process of the fine pattern, the photosensitive paste composition for forming the partition wall formed as described above is printed on the lower substrate formed with the address electrode and the dielectric layer using a table coater or the like, 80 to 80 in a convection oven or IR oven Drying at a temperature of 150 ° C. for 5 to 30 minutes, and then exposing the pattern to form a pattern with light of 300 to 450 nm using an ultraviolet light source on the formed paste coating film, and again printing the photosensitive paste for forming partition walls and The process up to exposure is repeated and then developed at a temperature of about 30 ° C. with a suitable alkaline developer such as Na 2 CO 3 solution, KOH, TMAH, etc. to remove unexposed sites. In addition, the firing process is performed by firing the fine pattern formed as described above in an electric furnace or the like at 500 to 600 ° C. for 10 to 30 minutes.

상기 미세 패턴 형성 과정에서 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물 대신 격벽 형성용 감광성 그린 시트를 사용하는 경우에는 인쇄시 테이블 코터 대신 라미네이터를 이용하여 코팅하는 것 외에는 동일한 방식으로 실시하여 미세 패턴을 얻고 소성 공정을 거쳐 격벽을 형성하면 된다. 격벽 형성용 감광성 그린 시트 제조방법은 격벽 형성용 감광성 페이스트를 이용하여 다음과 같은 방법에 의해 제조한다.In the case of using the photosensitive green sheet for forming the barrier rib instead of the photosensitive paste composition for forming the barrier rib in the process of forming the fine pattern, a fine pattern is obtained by performing the same method except for coating by using a laminator instead of a table coater during printing, and then undergoing a firing process. What is necessary is just to form a partition. The photosensitive green sheet manufacturing method for forming the partition wall It is manufactured by the following method using the photosensitive paste for formation.

ㄱ) 지지체 필름에 코터(coater)를 이용하여 격벽 형성용 감광성 페이스트를 인쇄한다.A) printing a photosensitive paste for forming a partition by using a coater on a support film;

ㄴ) 건조 장치를 이용하여 페이스트를 건조시켜 감광층을 형성한다.B) The paste is dried using a drying apparatus to form a photosensitive layer.

ㄷ) 감광층 위에 보호 필름을 라미네이션시킨다.C) Laminate the protective film on the photosensitive layer.

본 발명의 또 다른 구현예에서는 상기와 같이 제조된 PDP 격벽을 포함하는 PDP를 제공한다.Another embodiment of the present invention provides a PDP including the PDP partition wall manufactured as described above.

본 발명에 따라서 제조된 PDP는 전방 패널 (110) 및 후방 패널 (120)을 포함하는 구조로 되어 있다. 상기 전방 패널 (110)은 전면 기판 (111), 상기 전면 기 판의 배면 (111a)에 형성된 Y전극 (112)과 X전극 (113)을 구비한 유지 전극쌍 (114)들, 상기 유지 전극쌍들을 덮는 전방 유전체층 (115), 및 상기 전방 유전체층을 덮는 보호막 (116)을 구비한다. 상기 Y전극 (112)과 X전극 (113) 각각은, ITO 등으로 형성된 투명 전극 (112b, 113b); 명암 향상을 위한 흑색 전극 (미도시) 및 도전성을 부여하는 백색 전극 (미도시)으로 구성되는 버스 전극 (112a, 113a)을 구비한다. 상기 버스 전극 (112a, 113a)들은 PDP의 좌우측에 배치된 연결 케이블 (31)과 연결된다.The PDP manufactured according to the present invention has a structure including a front panel 110 and a rear panel 120. The front panel 110 includes a front substrate 111, sustain electrode pairs 114 including a Y electrode 112 and an X electrode 113 formed on the rear surface 111a of the front substrate, and the sustain electrode pair. And a protective film 116 covering the front dielectric layer. Each of the Y electrode 112 and the X electrode 113 includes: transparent electrodes 112b and 113b formed of ITO or the like; Bus electrodes 112a and 113a constituted by black electrodes (not shown) for improving contrast and white electrodes (not shown) to impart conductivity are provided. The bus electrodes 112a and 113a are connected to connection cables 31 disposed on the left and right sides of the PDP.

상기 후방 패널 (120)은 배면 기판 (121), 배면 기판의 전면 (121a)에 상기 유지 전극쌍과 교차하도록 형성된 어드레스 전극 (122)들, 상기 어드레스 전극들을 덮는 후방 유전체층 (123), 상기 후방 유전체층 상에 형성되어 발광 셀 (126)들을 구획하는 격벽 (124), 및 상기 발광 셀 내에 배치된 형광체층 (125)을 구비한다. 상기 어드레스 전극 (122)들은 PDP의 상하측에 배치된 연결 케이블과 연결된다.The rear panel 120 includes a rear substrate 121, address electrodes 122 formed on the front surface 121a of the rear substrate to intersect the storage electrode pairs, a rear dielectric layer 123 covering the address electrodes, and the rear dielectric layer. A partition wall 124 formed on and partitioning the light emitting cells 126, and a phosphor layer 125 disposed in the light emitting cell. The address electrodes 122 are connected to connection cables disposed above and below the PDP.

이하, 본 발명을 실시예를 통하여 더욱 상세히 설명하나, 본 발명의 범위가 하기 실시예로 한정되는 것은 아니다.Hereinafter, the present invention will be described in more detail with reference to Examples, but the scope of the present invention is not limited to the following Examples.

실시예Example

실시예 1. 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 제조Example 1 Preparation of Photosensitive Paste Composition for Formation of Partition

고리형 산 무수물로서, 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물 1.0 중량%, 무기분말 (평균 입자 크기 = 3.5 ㎛, Dmax = 8.2 ㎛, 무정형, PbO-SiO2-B2O 3계+알루미나) 70.0 중량%, 바인더 1 (poly(MMA-co-MAA) 공중합체, 분자량 25,000 g/mol, 산가 110 mgKOH/g) 6.0 중량%, 바인더 2 (히드록시프로필 셀룰로오즈, 평균 분자량 (Mw) = 100,000 g/mol) 0.5 중량%, 광개시제 1 (2-메틸-1-[4-(메틸티오)페닐]-2-몰포리노프로판-1-온) 2.0 중량%, 광개시제 2 (2,4-디에틸티오산톤) 0.5 중량%, 가교제 1 (트리메틸올프로판 에톡시레이트 트리아크릴레이트) 4.0 중량%, 가교제 2 (에틸렌글리콜 디아크릴레이트) 2.0 중량%, 용매 (텍사놀) 14.0 중량%의 조성을 갖는 페이스트를 배합하여 교반기에 의해서 교반한 후, 3-롤 밀을 이용하여 반죽함으로써 본 발명에 따른 감광성 격벽 페이스트 조성물을 제조하였다. 상기 조성물의 제조에 있어서는 감광성 비이클 성분을 먼저 배합하여 비이클을 제조한 후, 격벽 분말을 첨가하였다.As cyclic acid anhydride, 1.0 wt% of 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, inorganic powder (average particle size = 3.5 μm, D max = 8.2 μm, amorphous, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 system + Alumina) 70.0 wt%, Binder 1 (poly (MMA-co-MAA) copolymer, molecular weight 25,000 g / mol, acid value 110 mgKOH / g) 6.0 wt%, binder 2 (hydroxypropyl cellulose, average molecular weight (Mw) = 100,000 g / mol) 0.5 wt%, photoinitiator 1 (2-methyl-1- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one) 2.0 wt%, photoinitiator 2 (2,4-di Ethyl thioxanthone) 0.5 wt%, crosslinker 1 (trimethylolpropane ethoxylate triacrylate) 4.0 wt%, crosslinker 2 (ethylene glycol diacrylate) 2.0 wt%, solvent (texanol) 14.0 wt% The paste was blended, stirred with a stirrer, and kneaded using a 3-roll mill to prepare a photosensitive partition wall paste composition according to the present invention. In the production of the composition, a photosensitive vehicle component was first blended to prepare a vehicle, and then partition powder was added.

실시예 2. 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 제조Example 2 Preparation of Photosensitive Paste Composition for Formation of Partition

실시예 1에서 격벽 분말을 고리형 산 무수물인 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물을 이용하여 표면처리 한 것을 사용한 것을 제외하고, 실시예 1과 동일한 방법에 따라서 본 발명에 따른 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제조하였다.For forming the partition wall according to the present invention according to the same method as in Example 1, except that the partition wall powder in Example 1 was surface-treated using 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride which is a cyclic acid anhydride A photosensitive paste composition was prepared.

표면 처리 방법은 다음과 같이 실시하였다. 1.0 g의 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물을 10 g의 메틸렌 클로라이드 용매에 녹인 다음 실시예 1의 격벽 분말 70 g을 넣어 24시간 상온에서 교반하였다. 이후 증발기(evaporator)를 이용하여 용매를 제거하고 70℃에서 12시간 진공 건조하여 제조하였다. The surface treatment method was performed as follows. 1.0 g of 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride was dissolved in 10 g of methylene chloride solvent, and then 70 g of the partition wall powder of Example 1 was added and stirred at room temperature for 24 hours. Then, the solvent was removed using an evaporator and prepared by vacuum drying at 70 ° C. for 12 hours.

실시예 3. 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 제조Example 3 Preparation of Photosensitive Paste Composition for Formation of Partition

고리형 산 무수물로서 프탈산 무수물을 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라서 본 발명에 따른 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제조 하였다.Except for using phthalic anhydride as the cyclic acid anhydride, a photosensitive paste composition for forming a partition according to the present invention was prepared according to the same method as in Example 1.

실시예 4. 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 제조Example 4 Preparation of Photosensitive Paste Composition for Formation of Partition

고리형 산 무수물로서 벤젠테트라카르복실산 디무수물을 사용한 점을 제외하고는, 실시예 1과 동일한 방법에 따라서 본 발명에 따른 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제조하였다.A photosensitive paste composition for forming a partition according to the present invention was prepared in the same manner as in Example 1 except that benzenetetracarboxylic acid dianhydride was used as the cyclic acid anhydride.

비교예. 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물의 제조Comparative example. Preparation of Photosensitive Paste Composition for Formation of Bulkhead

비교예로서, 고리형 산 무수물을 첨가하지 않고, 1.0 중량%의 용매를 더 첨가하여 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제조하였다.As a comparative example, without adding a cyclic acid anhydride, 1.0 wt% of a solvent was further added to form a partition wall. A photosensitive paste composition was prepared.

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예의 조성물 중 각 성분의 함량비를 하기 표 1에 정리하였다. The content ratio of each component in the compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples is summarized in Table 1 below.

성분ingredient 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 비교예Comparative example 격벽 분말Bulkhead powder 70.070.0 70.070.0 70.070.0 70.070.0 70.070.0 유기 바인더 1Organic Binders 1 6.06.0 6.06.0 6.06.0 6.06.0 6.06.0 유기 바인더 2Organic Binders 2 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 광개시제 1Photoinitiator 1 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 광개시제 2Photoinitiator 2 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 0.50.5 가교제 1Crosslinking agent 1 4.04.0 4.04.0 4.04.0 4.04.0 4.04.0 가교제 2Crosslinking agent 2 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 2.02.0 용매menstruum 14.014.0 14.014.0 14.014.0 14.014.0 15.015.0 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물1,2-cyclohexanedicarboxylic acid anhydride 1.01.0 1.0 (코팅)1.0 (coating) -- -- -- 프탈산 무수물Phthalic anhydride -- -- 1.01.0 -- -- 벤젠테트라카르복실산 무수물Benzene Tetracarboxylic Anhydride -- -- -- 1.01.0 --

(단위: 중량%)(Unit: weight%)

성능 평가 시험Performance test

상기 실시예 1 내지 4 및 비교예의 조성물에 대한 보존 안정성 평가는 가속 실험을 통해 실시하였다. 상기 조합된 페이스트 조성물을 70℃ 오븐에서 12시간, 1일, 3일, 5일, 10일이 경과한 시점에서 점도계를 이용하여 전단율 20/s에서 점도를 측정하였으며, 그 결과를 표 2에 나타내었다.Evaluation of the storage stability of the compositions of Examples 1 to 4 and Comparative Examples was carried out through accelerated experiments. 12 hours, 1 day, 3 days, 5 days, 10 days in the combined paste composition was measured at a shear rate of 20 / s by using a viscometer at the time of 12 hours, 1 day, 3 days, 5 days, 10 days, the results are shown in Table 2 Indicated.

기간term 실시예 1Example 1 실시예 2Example 2 실시예 3Example 3 실시예 4Example 4 비교예Comparative example 초기 Early 14,50014,500 13,00013,000 15,30015,300 16,10016,100 12,00012,000 12 시간 후 12 hours later 14,20014,200 13,50013,500 14,70014,700 15,50015,500 85,00085,000 1 일 후 1 day after 13,70013,700 13,30013,300 14,20014,200 15,10015,100 182,000182,000 3 일 후 3 days later 13,50013,500 13,30013,300 14,20014,200 14,90014,900 겔화Gelation 5 일 후 After 5 days 13,60013,600 13,50013,500 14,40014,400 14,90014,900 -- 10 일 후 10 days after 13,40013,400 13,60013,600 14,30014,300 15,00015,000 --

(단위: 점도(cps))(Unit: viscosity (cps))

상기 표 2의 결과로부터 알 수 있는 바와 같이, 보존 안정제로서 고리형 산 무수물을 첨가한 본 발명에 따른 조성물들은, 가속 실험에서도 보존 안정성이 우수한 반면, 고리형 산 무수물을 포함하지 않는 비교예에 따른 조성물은 페이스트 조성물 제조 후 시간이 경과됨에 따라서 페이스트의 점도가 상승하면서 보존 안정성이 떨어지는 결과를 나타내었다. 실시예 1 및 2를 비교하면 표면 처리를 한 실시예 2의 경우 초기의 점도가 안정되게 유지되는 반면, 고리형 산 무수물을 첨가한 실시예 1의 경우 안정되기까지 시간이 필요한 것을 알 수 있다. As can be seen from the results of Table 2, the compositions according to the present invention to which the cyclic acid anhydride is added as a storage stabilizer have excellent storage stability even in an accelerated experiment, but do not include the cyclic acid anhydride. The composition showed a result of poor storage stability with increasing viscosity of the paste as time passed after preparing the paste composition. Comparing Examples 1 and 2, it can be seen that, in Example 2 having a surface treatment, the initial viscosity was kept stable, whereas in Example 1 where cyclic acid anhydride was added, it required time to stabilize.

본 발명에 따르면, 고리형 산 무수물을 첨가하여 감광성 페이스트 조성물의 겔화를 근본적으로 방지함으로써 보존 안정성이 우수한 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 제공할 수 있다.According to the present invention, it is possible to provide a photosensitive paste composition for forming a partition having excellent storage stability by adding cyclic acid anhydride to essentially prevent gelation of the photosensitive paste composition.

Claims (13)

격벽 분말, 감광성 비이클 (vehicle), 및 고리형 산 무수물을 포함하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.A photosensitive paste composition for forming a partition, comprising a partition powder, a photosensitive vehicle, and a cyclic acid anhydride. 제1항에 있어서, 상기 고리형 산무수물은 숙신산 무수물, 메틸숙신산 무수물, 2,2-디메틸숙신산 무수물, 1,2-시클로헥산디카르복실산 무수물, 헥사히드로-4-메틸프탈산 무수물, 글루타르산 무수물, 3-메틸글루타르산 무수물, 2,2-디메틸글루타르산 무수물, 3,3-디메틸글루타르산 무수물, 3,3-테트라메틸렌 글루타르산 무수물, 페닐숙신산 무수물, 2-페닐글루타르산 무수물, 프탈산 무수물, 4-메틸프탈산 무수물, 3-히드록시프탈산 무수물, 1,2,4-벤젠트리카르복실산 무수물, 및 벤젠테트라카르복실산 디무수물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.The cyclic acid anhydride according to claim 1, wherein the cyclic acid anhydride is succinic anhydride, methyl succinic anhydride, 2,2-dimethylsuccinic anhydride, 1,2-cyclohexanedicarboxylic anhydride, hexahydro-4-methylphthalic anhydride, glutaric acid Acid anhydride, 3-methylglutaric anhydride, 2,2-dimethylglutaric anhydride, 3,3-dimethylglutaric anhydride, 3,3-tetramethylene glutaric anhydride, phenylsuccinic anhydride, 2-phenylglu At least one selected from the group consisting of tartaric anhydride, phthalic anhydride, 4-methylphthalic anhydride, 3-hydroxyphthalic anhydride, 1,2,4-benzenetricarboxylic acid anhydride, and benzenetetracarboxylic acid anhydride The photosensitive paste composition for forming a partition. 제1항에 있어서, 상기 격벽 분말 100 중량부를 기준으로 하여 감광성 비이클 20 내지 100 중량부 및 고리형 산무수물 0.1 내지 10 중량부를 포함하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.The photosensitive paste composition of claim 1, further comprising 20 to 100 parts by weight of the photosensitive vehicle and 0.1 to 10 parts by weight of the cyclic acid anhydride based on 100 parts by weight of the partition powder. 제1항에 있어서, 상기 격벽 분말은 연화 온도가 400 내지 600℃이고, 평균 입경이 2.0 내지 5.0 ㎛인 PbO-SiO2계, PbO-SiO2-B2O3계, PbO-SiO 2-B2O3-ZnO계, PbO- SiO2-B2O3-BaO계, PbO-SiO2-ZnO-BaO계, ZnO-SiO2 계, ZnO-B2O3-SiO2계, ZnO-K2O-B2O 3-SiO2-BaO계, Bi2O3-SiO2계, Bi2O3-B 2O3-SiO2계, Bi2O3-B2O3 -SiO2-BaO계, 및 Bi2O3-B2O3-SiO2-BaO-ZnO계로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 유리 성분과 알루미나 및/또는 산화티타늄을 포함하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.According to claim 1, wherein the partition powder has a softening temperature of 400 to 600 ℃, the average particle diameter of 2.0 to 5.0 ㎛ PbO-SiO 2 system, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 system, PbO-SiO 2 -B 2 O 3 -ZnO-based, PbO- SiO 2 -B 2 O 3 -BaO-based, PbO-SiO 2 -ZnO-BaO-based, ZnO-SiO 2 -based, ZnO-B 2 O 3 -SiO 2 -based, ZnO-K 2 OB 2 O 3 -SiO 2 -BaO system, Bi 2 O 3 -SiO 2 system, Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 system, Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -BaO system And Bi 2 O 3 -B 2 O 3 -SiO 2 -BaO-ZnO-based photosensitive paste composition for forming a partition comprising at least one glass component selected from the group consisting of alumina and / or titanium oxide. 제1항에 있어서, 상기 감광성 비이클은, 카르복실기를 갖는 모노머와 하나 이상의 에틸렌성 불포화 모노머들과의 공중합체, 가교제, 광개시제, 및 용매를 포함하며, 상기 카르복실기를 갖는 모노머와 하나 이상의 에틸렌성 모노머들과의 공중합체 100 중량부를 기준으로 하여 50 내지 200 중량부의 가교제, 20 내지 130 중량부의 광개시제, 및 50 내지 400 중량부의 용매를 포함하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.The photosensitive vehicle of claim 1, wherein the photosensitive vehicle comprises a copolymer of a monomer having a carboxyl group with one or more ethylenically unsaturated monomers, a crosslinking agent, a photoinitiator, and a solvent, wherein the monomer having a carboxyl group and one or more ethylenic monomers are included. 50 to 200 parts by weight of a crosslinking agent, 20 to 130 parts by weight of a photoinitiator, and 50 to 400 parts by weight of a solvent based on 100 parts by weight of a copolymer with a photosensitive paste composition for forming a partition. 제5항에 있어서, 상기 카르복실기를 갖는 모노머는 아크릴산, 메타크릴산, 푸마르산, 말레인산, 비닐초산, 및 이들의 무수물로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고; 상기 에틸렌성 불포화 모노머는 메틸아크릴레이트, 메틸메타크릴레이트, 에틸아크릴레이트, 에틸메타크릴레이트, n-부틸아크릴레이트, n-부틸메타크릴레이트, 이소부틸아크릴레이트, 이소부틸메타크릴레이트, 2-히드록시에틸아크릴레이트, 2-히드록시에틸메타크릴레이트, 에틸렌글리콜모노메틸에테르아크릴레이트, 및 에틸렌글리콜모노메틸에테르메타크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고; 상기 가교제는 디아크릴레이트계, 트리아크릴레이트계, 테트라아크릴레이트계, 및 헥사아크릴레이트계로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고; 상기 광개시제는 벤조페논, o-벤조일벤조산메틸, 4,4-비스(디메틸아민)벤조페논, 4,4-비스(디에틸아미노)벤조페논, 2,2-디에톡시아세토페논, 2,2-디메톡시-2-페닐-2-페닐아세토페논, 2-메틸-[4-(메틸티오)페닐]-2-모르폴리노프로판-1-온, 2-벤질-2-디메틸아미노-1-(4-모르폴리노페닐)-1-부타논, 비스(2,6-디메톡시벤조일)-2,4,4-트리메틸펜틸포스핀옥사이드, 및 비스(2,4,6-트리메틸벤조일)페닐포스핀옥사이드로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상이고; 상기 용매는 에틸카비톨, 부틸카비톨, 에틸카비톨아세테이트, 부틸카비톨아세테이트, 텍사놀, 테르핀유, 디프로필렌글리콜메틸에테르, 디프로필렌글리콜에틸에테르, 디프로필렌글리콜모노메틸에테르아세테이트, γ-부티로락톤, 셀로솔브아세테이트, 부틸셀로솔브아세테이트, 및 트리프로필렌글리콜로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상인 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.The method of claim 5, wherein the monomer having a carboxyl group is at least one selected from the group consisting of acrylic acid, methacrylic acid, fumaric acid, maleic acid, vinyl acetic acid, and anhydrides thereof; The ethylenically unsaturated monomers are methyl acrylate, methyl methacrylate, ethyl acrylate, ethyl methacrylate, n-butyl acrylate, n-butyl methacrylate, isobutyl acrylate, isobutyl methacrylate, 2- At least one selected from the group consisting of hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, ethylene glycol monomethyl ether acrylate, and ethylene glycol monomethyl ether methacrylate; The crosslinking agent is at least one selected from the group consisting of diacrylates, triacrylates, tetraacrylates, and hexaacrylates; The photoinitiator, benzophenone, methyl o-benzoylbenzoate, 4,4-bis (dimethylamine) benzophenone, 4,4-bis (diethylamino) benzophenone, 2,2-diethoxyacetophenone, 2,2- Dimethoxy-2-phenyl-2-phenylacetophenone, 2-methyl- [4- (methylthio) phenyl] -2-morpholinopropan-1-one, 2-benzyl-2-dimethylamino-1- ( 4-morpholinophenyl) -1-butanone, bis (2,6-dimethoxybenzoyl) -2,4,4-trimethylpentylphosphineoxide, and bis (2,4,6-trimethylbenzoyl) phenylforce At least one selected from the group consisting of fin oxides; The solvent is ethyl carbitol, butyl carbitol, ethyl carbitol acetate, butyl carbitol acetate, texanol, terpin oil, dipropylene glycol methyl ether, dipropylene glycol ethyl ether, dipropylene glycol monomethyl ether acetate, γ-buty It is one or more selected from the group consisting of a rock lactone, a cellosolve acetate, a butyl cellosolve acetate, and a tripropylene glycol, The photosensitive paste composition for partition formation. 제5항에 있어서, 상기 공중합체는 상기 공중합체의 카르복실기와 글리시딜메타크릴레이트, 3,4-에폭시시클로헥실메틸메타크릴레이트, 및 3,4-에폭시시클로헥실메틸아크릴레이트로 이루어진 군으로부터 선택된 에틸렌성 불포화 화합물과의 반응에 의해서 형성된 가교성 기를 포함하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.The method of claim 5, wherein the copolymer is selected from the group consisting of a carboxyl group of the copolymer, glycidyl methacrylate, 3,4-epoxycyclohexylmethyl methacrylate, and 3,4-epoxycyclohexylmethyl acrylate. A photosensitive paste composition for forming a partition, comprising a crosslinkable group formed by reaction with a selected ethylenically unsaturated compound. 제5항에 있어서, 상기 공중합체의 분자량은 5,000 내지 100,000 g/mol이고, 산가는 20 내지 150 mgKOH/g인 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.The photosensitive paste composition of claim 5, wherein the copolymer has a molecular weight of 5,000 to 100,000 g / mol and an acid value of 20 to 150 mgKOH / g. 제5항에 있어서, 상기 감광성 비이클은 메틸셀룰로오즈, 에틸셀룰로오즈, 니트로셀룰로오즈, 히드록시메틸셀룰로오즈, 히드록시에틸셀룰로오즈, 히드록시프로필셀룰로오즈, 카르복시메틸셀룰로오즈, 카르복시에틸셀룰로오즈, 및 카르복시에틸메틸셀룰로오즈로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 물질을 더 포함하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.6. The group of claim 5 wherein the photosensitive vehicle consists of methylcellulose, ethylcellulose, nitrocellulose, hydroxymethylcellulose, hydroxyethylcellulose, hydroxypropylcellulose, carboxymethylcellulose, carboxyethylcellulose, and carboxyethylmethylcellulose. The photosensitive paste composition of claim 1, further comprising at least one material selected from the group consisting of at least one material selected from the group. 제5항에 있어서, 상기 감광성 비이클은 증감제, 중합금지제, 산화방지제, 자외선 흡광제, 소포제, 분산제, 레벨링제, 및 가소제로 이루어진 군으로부터 선택된 하나 이상의 첨가제를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물.The barrier of claim 5, wherein the photosensitive vehicle further comprises at least one additive selected from the group consisting of a sensitizer, a polymerization inhibitor, an antioxidant, an ultraviolet light absorber, an antifoaming agent, a dispersing agent, a leveling agent, and a plasticizer. Photosensitive paste composition for formation. 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항의 상기 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 이용하여 제조한 지지체 필름, 감광층, 및 보호필름으로 구성된 감광성 그린 시트.The photosensitive green sheet comprised from the support film, the photosensitive layer, and the protective film which were manufactured using the said photosensitive paste composition for partition formation of any one of Claims 1-10. 제1항 내지 제10항 중의 어느 한 항의 격벽 형성용 감광성 페이스트 조성물을 이용하여 제조된 PDP 격벽.The PDP partition wall manufactured using the photosensitive paste composition for partition wall formation of any one of Claims 1-10. 제12항에 따른 PDP 격벽을 포함하는 PDP.PDP comprising a PDP partition wall according to claim 12.
KR1020050000789A 2005-01-05 2005-01-05 Photosensitive paste composition for forming barrier rib, a pdp barrier rib prepared therefrom, and a pdp comprising the same KR20060080404A (en)

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