KR20060078939A - Ellipsometer having level - Google Patents

Ellipsometer having level Download PDF

Info

Publication number
KR20060078939A
KR20060078939A KR1020040118192A KR20040118192A KR20060078939A KR 20060078939 A KR20060078939 A KR 20060078939A KR 1020040118192 A KR1020040118192 A KR 1020040118192A KR 20040118192 A KR20040118192 A KR 20040118192A KR 20060078939 A KR20060078939 A KR 20060078939A
Authority
KR
South Korea
Prior art keywords
specimen
mounting
level
inclination
adjusting
Prior art date
Application number
KR1020040118192A
Other languages
Korean (ko)
Inventor
안일신
오혜근
Original Assignee
안일신
오혜근
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by 안일신, 오혜근 filed Critical 안일신
Priority to KR1020040118192A priority Critical patent/KR20060078939A/en
Publication of KR20060078939A publication Critical patent/KR20060078939A/en

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
    • G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
    • G01N21/21—Polarisation-affecting properties
    • G01N21/211—Ellipsometry
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J1/00—Photometry, e.g. photographic exposure meter
    • G01J1/02—Details
    • G01J1/04—Optical or mechanical part supplementary adjustable parts
    • G01J1/0407—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings
    • G01J1/0411—Optical elements not provided otherwise, e.g. manifolds, windows, holograms, gratings using focussing or collimating elements, i.e. lenses or mirrors; Aberration correction
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J4/00—Measuring polarisation of light
    • G01J4/04—Polarimeters using electric detection means
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01M—TESTING STATIC OR DYNAMIC BALANCE OF MACHINES OR STRUCTURES; TESTING OF STRUCTURES OR APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G01M11/00—Testing of optical apparatus; Testing structures by optical methods not otherwise provided for
    • G01M11/30—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides
    • G01M11/33—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face
    • G01M11/331—Testing of optical devices, constituted by fibre optics or optical waveguides with a light emitter being disposed at one fibre or waveguide end-face, and a light receiver at the other end-face by using interferometer

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)

Abstract

본 발명은, 몸체, 광원과 편광발생기와 사방으로 기울기 변화가 가능한 구조로 결합되는 시편장착대와 편광분석기와 검출기를 포함하여 몸체에 결합되는 측정수단, 시편장착대의 평면상 X방향 기울기를 조절하는 제 1 장착대 조절장치와 시편장착대의 평면상 Y방향 기울기를 조절하는 제 2 장착대 조절장치를 포함하는 장착대 조절장치, 몸체의 기울기를 표시하는 몸체 수준기, 시편장착대의 기울기를 표시하는 장착대 수준기, 몸체의 기울기를 조절하는 받침대, 장착대 수준기의 기울기를 조절하는 수준기 조절장치를 포함하여 구성되어, 수준기 2개만을 이용하여 영점을 맞출 수 있으므로 생산원가가 대폭 절감되고 전원장치가 요구되는 자동 콜리메이터를 이용하지 아니하므로 시편 측정 시 소요되는 비용도 절감할 수 있으며 영점 조정 작업이 매우 간편해지는 타원해석기를 제공한다.The present invention, the measuring means coupled to the body, including the specimen mount and the polarization analyzer and detector coupled in a structure capable of changing the tilt in all directions with the body, the light source and the polarization generator, to adjust the inclination in the planar X direction of the specimen mount Mounting adjuster including a first mounting adjuster and a second mounting adjuster for adjusting the inclination of the specimen mounting in the Y direction, a body level indicating the inclination of the body, a mounting indicating the inclination of the specimen mounting Consisting of a level, a base for adjusting the inclination of the body, and a level adjusting device for adjusting the inclination of the mounting level, the zero point can be zeroed using only two levels, which greatly reduces production costs and requires automatic power supply. Since no collimator is used, the cost of measuring the specimen can be reduced and the zeroing operation is very Easing provides ellipsometer.

타원해석기, 콜리메이터, 수준기, 영점, 기울기Elliptic analyzer, collimator, spirit level, zero point, slope

Description

수준기를 구비하는 타원해석기 {Ellipsometer having level} Ellipsometer having level             

도 1은 종래 타원해석기의 정면도이다.1 is a front view of a conventional elliptic analyzer.

도 2는 본 발명에 의한 타원해석기의 정면도이다.2 is a front view of an elliptical analyzer according to the present invention.

도 3은 본 발명에 의한 타원해석기에 사용되는 수준기의 사시도이다.Figure 3 is a perspective view of the level used in the elliptical analyzer according to the present invention.

< 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ><Description of Symbols for Main Parts of Drawings>

100 : 몸체 110 : 받침대100: body 110: stand

200 : 측정수단 210 : 광원200: measuring means 210: light source

220 : 편광발생기 230 : 시편장착대220: polarization generator 230: specimen mounting table

232 : 시편 234 : 장착대 조절장치232: Specimen 234: Mounting adjusting device

240 : 편광분석기 250 : 검출기240: polarization analyzer 250: detector

310 : 몸체 수준기 320 : 장착대 수준기310: body level 320: mounting level

322 : 장착대 수준기 조절장치322: Mounting level adjusting device

본 발명은 광학분석장비 중 타원해석기(ellipsometer)에 관한 것으로서, 더 상세하게는 시편이 장착되는 시편장착대의 표면이 일정방향을 유지할 수 있도록 수준기를 구비하는 타원해석기에 관한 것이다. The present invention relates to an ellipsometer (ellipsometer) of the optical analysis device, and more particularly to an ellipsometer having a level so that the surface of the specimen mounting to the specimen is maintained in a certain direction.

타원해석기술(ellipsometry)은 특정 편광상태를 가지고 있는 빛을 시편에 입사시킨 뒤 그 반사된 빛의 변화된 편광상태를 분석하여 시편이 지니고 있는 광학적 정보를 수집하는 기술로서, 시편이 지닌 광학적 성질을 파악할 수 있을 뿐만 아니라 시편이 박막인 경우 시편의 두께 추출도 가능하다. 이러한 분석을 위한 장비를 타원해석기(ellipsometer)라 한다. Ellipsometry is a technology that collects optical information of a specimen by injecting light with a specific polarization state into the specimen and analyzing the changed polarization state of the reflected light. In addition, the thickness of the specimen can be extracted if the specimen is a thin film. The equipment for this analysis is called an ellipsometer.

이하 첨부된 도면을 참조하여 종래의 타원분석기에 관하여 설명한다. Hereinafter, a conventional elliptic analyzer will be described with reference to the accompanying drawings.

도 1은 종래 타원해석기의 정면도이다.1 is a front view of a conventional elliptic analyzer.

도 1에 도시된 바와 같이 종래의 타원해석기는 몸체(10)와, 광원(20)과, 편광발생기(30)와, 시편장착대(40)와, 편광분석기(50)와, 검출기(60)와, 시편(42) 상면의 기울기를 측정하기 위한 자동 콜리메이터(Auto-collimator:70)를 포함하여 구성되며, 상기 각 부는 몸체(10)에 결합된다.As shown in FIG. 1, a conventional elliptical analyzer includes a body 10, a light source 20, a polarization generator 30, a specimen mounting table 40, a polarization analyzer 50, and a detector 60. And, it comprises an auto-collimator (70) for measuring the inclination of the upper surface of the specimen 42, each of which is coupled to the body (10).

시편장착대(40)에는 시편장착대(40)의 기울기를 조절하기 위한 장착대 조절장치(44)가 부착되어 있어, 사용자는 광원(20)에서 발광된 빛이 시편(42)에 반사된 후 검출기(60)로 들어 갈 수 있도록 시편장착대(40)의 각도를 조절할 수 있다.The specimen holder 40 has a mount controller 44 for adjusting the inclination of the specimen holder 40, so that the user can reflect the light emitted from the light source 20 to the specimen 42. The angle of the specimen mounting table 40 can be adjusted to enter the detector 60.

시편(42)이 교체되는 경우 시편장착대(40)의 기울기가 변화됨에 따라 시편(42)의 표면 기울기도 조금씩 바뀌게 되는데, 타원해석기 측정 결과는 시편(42) 표 면에 대한 편광발생기(30)와 편광분석기(50) 광학축의 상대적 위치변화에 민감하므로 시편(42)의 표면 기울기가 미세하게 변경되더라도 측정 결과에는 큰 차이가 발생된다. 따라서 사용자는 시편(42)을 교체할 때 마다 시편장착대(40)의 기울기를 조금씩 변경시켜가며 시편(42)에 반사되는 빛이 정확하게 검출기(60)까지 전달될 때까지 측정을 반복해야 된다.When the specimen 42 is replaced, as the inclination of the specimen mounting table 40 is changed, the surface inclination of the specimen 42 is also changed little by little. And because it is sensitive to the relative position change of the optical axis of the polarization analyzer 50, even if the surface slope of the specimen 42 is slightly changed, a large difference occurs in the measurement results. Therefore, the user should change the inclination of the specimen mounting table 40 every time the specimen 42 is replaced and repeat the measurement until the light reflected by the specimen 42 is accurately delivered to the detector 60.

이런 번거로움을 피하기 위해서 항시 일정한 시편(42) 정렬이 필요한데 이를 위해서 자동 콜리메이터(70)가 사용된다. 자동 콜리메이터(70)에서 나온 빛은 시편(42)의 표면에서 반사되어 자동 콜리메이터(70)의 내부에 있는 빔 분리기(미도시)에 의해 접안경(74)을 향하도록 굴절된다. In order to avoid this trouble, constant specimen 42 alignment is always required. For this purpose, an automatic collimator 70 is used. The light from the automatic collimator 70 is reflected off the surface of the specimen 42 and refracted towards the eyepiece 74 by a beam splitter (not shown) inside the automatic collimator 70.

관측자는 시편(42)을 시편장착대(40)에 안착시킨 이후 광원(20)에서 반사된 빛이 검출기(60)에 전달되어 정상적인 측정신호가 출력될 수 있도록 시편장착대(40)를 대략적으로 조절한 후, 자동 콜리메이터(70)를 보면서 미세 조정을 한다. 접안경(74)으로 굴절되는 빛의 각도를 보고 시편(42)의 기운 정도를 알 수 있으므로, 시편(42)에서 반사된 빛이 접안경(74)으로 관찰했을 때 가운데에 위치하도록 장착대 조절장치(44)를 조절함으로써 영점을 설정할 수 있다. After seating the specimen 42 on the specimen holder 40, the observer approximately moves the specimen holder 40 so that the light reflected from the light source 20 is transmitted to the detector 60 so that a normal measurement signal can be output. After adjustment, fine adjustment is made while watching the automatic collimator 70. Since the angle of the light refracted by the eyepiece 74 can be known to determine the aura of the specimen 42, the mounting bracket adjusting device is positioned so that the light reflected from the specimen 42 is centered when viewed with the eyepiece 74. You can set the zero point by adjusting 44).

일단 영점이 설정되면, 사용자는 새로운 시편을 시편장착대(40)에 놓을 때마다 상기와 같은 두 단계의 조정을 반복할 필요 없이, 자동 콜리메이터(70)의 접안경(74)을 통하여 시편(42)에서 반사된 빛이 한 가운데에 위치하는가를 확인하고 만일 그러하지 못한 경우는 자동 콜리메이터(70)의 접안경(74)을 보면서 장착대 조절장치(44)를 이용하여 시편(42)의 기울기를 미세하게 조절한다. Once the zero point is set, the user does not have to repeat the two-step adjustment as described above each time a new specimen is placed on the specimen holder 40, and the specimen 42 through the eyepiece 74 of the automatic collimator 70. Check if the reflected light is in the center, and if not, finely adjust the inclination of the specimen 42 using the mounting device 44 while looking at the eyepiece 74 of the automatic collimator 70. do.

그러나, 상기와 같은 구조로 구성되는 타원해석기는, 자동 콜리메이터(70)의 가격이 매우 비싸므로 제품의 단가가 높아진다.However, the elliptical analyzer configured as described above, the price of the automatic collimator 70 is very expensive, the price of the product is high.

또한, 자동 콜리메이터(70) 속의 광원을 위한 전원장치(미도시)와 자동 콜리메이터(70) 자체의 크기 때문에 자동 콜리메이터(70)가 장착된 타원해석기는 제품의 소형화에 한계가 있다.In addition, since the size of the power supply device (not shown) for the light source in the automatic collimator 70 and the automatic collimator 70 itself, the elliptical analyzer equipped with the automatic collimator 70 has a limitation in miniaturization of the product.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 안출된 것으로서, 시편장착대의 기울기를 조절하기 위한 장치를 단순화시킴으로써 사용이 간편하고 제품의 소형화를 구현할 수 있으며, 제조 원가를 절감할 수 있는 타원해석기를 제공하는데 목적이 있다.
The present invention has been made to solve the above problems, by simplifying the device for adjusting the inclination of the specimen mounting, it is easy to use and implement the miniaturization of the product, it provides an elliptical analyzer that can reduce the manufacturing cost The purpose is to.

상기한 목적을 달성하기 위한 본 발명에 의한 타원해석기는, 몸체, 기울기 변화가 가능한 구조로 상기 몸체에 장착되는 시편장착대, 시편장착대의 기울기를 조절하기 위한 장착대 조절장치, 몸체의 기울기를 표시하는 몸체 수준기, 시편장착대의 기울기를 표시하는 장착대 수준기를 포함하여 구성된다.Elliptical analyzer according to the present invention for achieving the above object, the body, the specimen mounting structure mounted on the body in a tiltable structure, the mounting bracket adjustment device for adjusting the inclination of the specimen mounting, the inclination of the body It consists of a body level, a mounting level indicating the slope of the specimen mounting.

장착대 조절장치는 시편장착대의 수평면 상의 서로 교차하는 2개 축에 대해 각각 조절하는 제 1 장착대 조절장치와 제 2 장착대 조절장치를 포함하여 구성된다. 이때, 제 2 장착대 조절장치와 제 2 장착대 조절장치가 조절하는 장착대의 각 은 직각을 이루도록 구성됨이 바람직하다.The mount adjuster comprises a first mount adjuster and a second mount adjuster that respectively adjust for two axes intersecting each other on the horizontal plane of the specimen mount. At this time, it is preferable that each of the mounting bracket adjusted by the second mounting device adjusting device and the second mounting device is configured to form a right angle.

또한, 본 발명에 의한 타원해석기는, 몸체의 기울기를 조절하는 받침대와 장착대 수준기의 기울기를 조절하는 수준기 조절장치를 추가로 구비한다. In addition, the elliptical analyzer according to the present invention further comprises a level adjusting device for adjusting the inclination of the base and the level of the mounting bracket to adjust the tilt of the body.

이하 첨부된 도면을 참조하여 본 발명에 의한 타원해석기의 실시예를 설명한다.Hereinafter, an embodiment of an elliptic analyzer according to the present invention will be described with reference to the accompanying drawings.

도 2는 본 발명에 의한 타원해석기의 정면도이고, 도 3은 본 발명에 의한 타원해석기에 사용되는 수준기의 사시도이다.Figure 2 is a front view of the elliptical analyzer according to the present invention, Figure 3 is a perspective view of the level used in the elliptical analyzer according to the present invention.

도 2에 도시된 바와 같이 본 발명에 의한 타원해석기는, 몸체(100)와, 몸체(100)에 결합되어 시편(232)의 광학적 정보를 수집하기 위한 측정수단(200)을 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 2, the elliptic analyzer according to the present invention includes a body 100 and measurement means 200 coupled to the body 100 to collect optical information of the specimen 232.

측정수단(200)은, 빛을 발광하는 광원(210)과, 광원(210)에서 나온 빛을 편광시키는 편광발생기(220)와, 편광발생기(220)에서 나온 편광된 빛이 입사될 시편(232)을 장착시키는 시편장착대(230)와, 시편(232)에서 반사되어 나온 편광을 분석하는 편광분석기(240)와, 편광분석기(240)를 통과한 빛을 검출하는 검출기(250)로 구성된다. The measuring means 200 includes a light source 210 that emits light, a polarization generator 220 that polarizes the light emitted from the light source 210, and a specimen 232 to which the polarized light emitted from the polarization generator 220 is incident. ) Is equipped with a specimen mounting bracket 230 for mounting, a polarization analyzer 240 for analyzing the polarization reflected from the specimen 232, and a detector 250 for detecting the light passing through the polarization analyzer 240 .

몸체(100)의 저면에는 몸체(100)의 기울기를 변화시키기 위하여 다수의 받침대(110)가 구비되고, 몸체(100)의 상면에는 몸체(100)의 기울기를 표시하는 몸체 수준기(310)가 구비된다. 이때, 받침대(110) 및 몸체 수준기(310)의 위치는 도 2에 도시된 실시예에 한정되지 아니하고, 사용자의 선택에 따라 다양하게 변경될 수 있 다.A bottom of the body 100 is provided with a plurality of pedestal 110 to change the inclination of the body 100, the upper surface of the body 100 is provided with a body level (310) indicating the inclination of the body 100 do. At this time, the position of the pedestal 110 and the body level 310 is not limited to the embodiment shown in Figure 2, it may be changed in various ways according to the user's selection.

시편장착대(230)에는, 시편(232)의 기울기를 변화시키기 위하여 시편장착대(230)의 기울기를 조절하는 장착대 조절장치(234)와, 시편장착대의 기울기를 표시하는 장착대 수준기(320)와, 장착대 수준기(320)의 기울기를 조절하는 수준기 조절장치(322)가 구비된다.In the specimen mounting platform 230, a mounting bracket adjusting device 234 for adjusting the tilt of the specimen mounting 230 to change the tilt of the specimen 232, and a mounting level 320 for displaying the tilt of the specimen mounting bracket. And a level adjusting device 322 for adjusting the inclination of the mounting level 320.

장착대 조절장치(234)는, 시편장착대(230)의 평면상 X 방향 기울기를 조절하는 제 1 장착대 조절장치와, 시편장착대(230)의 평면상 Y 방향 기울기를 조절하는 제 2 장착대 조절장치로 구성된다. 따라서 사용자는 제 1 장착대 조절장치와 제 2 장착대 조절장치를 이용하여 시편장착대(230)의 기울기를 어떠한 방향으로도 변경시킬 수 있다.Mounting device adjusting device 234, the first mounting device adjusting device for adjusting the in-plane X direction inclination of the specimen mounting plate 230, the second mounting for adjusting the in-plane Y direction inclination of the specimen mounting plate 230 It consists of a large adjustment device. Therefore, the user can change the inclination of the specimen mounting bracket 230 in any direction by using the first mounting bracket adjusting device and the second mounting bracket adjusting device.

또한, 장착대 조절장치(234)와 수준기 조절장치(322)는 끝단이 장착대 조절장치(234)와 수준기 조절장치(322)의 저면 일측에 접촉되는 나사결합 구조로 구성되어, 사용자는 장착대 조절장치(234)와 수준기 조절장치(322)를 회전시킴으로써 시편장착대(230)와 장착대 수준기(320)의 일측 높이를 변화시켜 전체 기울기를 변화시킬 수 있다. 이때, 장착대 조절장치(234)와 수준기 조절장치(322)의 구성은 본 실시예에 도시된 구성에 한정되지 아니하고, 사용자의 조절에 따라 장착대 조절장치(234)와 수준기 조절장치(322)의 기울기를 변화시킬 수 있다면 어떠한 구조의 장치로도 변경이 가능하다.In addition, the mount adjusting device 234 and the level adjusting device 322 is composed of a screw coupling structure in which the end is in contact with the bottom side of the mounting device adjusting device 234 and the level adjusting device 322, the user By rotating the adjusting device 234 and the level adjusting device 322, one side height of the specimen mounting bracket 230 and the mounting level 320 may be changed to change the overall inclination. At this time, the configuration of the mounting device adjusting device 234 and the level adjusting device 322 is not limited to the configuration shown in the present embodiment, the mounting device adjusting device 234 and the level adjusting device 322 according to the user's adjustment If the slope of can be changed, the device can be changed to any structure.

광원(210)에서 나온 빛은 편광발생기(220)를 통과하면서 특정 편광상태를 가 진 빛이 된다. 이 빛은 시편장착대(230)에 놓인 시편(232)에 반사되면서 다시 편광 상태가 변화된 후 편광분석기(240)를 통과한다. 이 때 편광분석기(240)는 특정방향으로 편광된 빛만 통과시키고, 검출기(106)는 편광분석기(240)를 통과한 빛을 검출하여 타원해석기 신호를 출력한다. 이 때 편광발생기(220) 및 편광분석기(240)의 광축 방향과 시편(232) 표면 방향 사이의 상대적 각이 타원해석기 신호에 큰 영향을 미치게 된다. 사용자는 측정을 쉽게 하기 위하여 상기와 같은 각을 항시 일정하게 유지할 필요가 있다.The light emitted from the light source 210 passes through the polarization generator 220 and becomes light having a specific polarization state. The light is reflected by the specimen 232 placed on the specimen mounting plate 230 and then passed through the polarization analyzer 240 after the polarization state is changed again. At this time, the polarization analyzer 240 passes only the light polarized in a specific direction, the detector 106 detects the light passing through the polarization analyzer 240 and outputs an ellipsometer signal. At this time, the relative angle between the optical axis direction of the polarization generator 220 and the polarization analyzer 240 and the surface direction of the specimen 232 has a great influence on the ellipsometer signal. The user needs to keep the angle constant at all times to make the measurement easier.

편광발생기(220) 및 편광분석기(240)의 광축 방향과 시편(232) 표면 방향 사이의 상대적 각을 일정하게 유지하기 위하여, 사용자는 먼저 몸체(100)에 장착된 몸체 수준기(310)가 수평을 가리킬 수 있도록 받침대(110)의 높이를 조절한다. 몸체(110)의 수평이 맞추어지면, 장착대 조절장치(234)를 적절히 조절하여 타원해석기 신호가 가장 잘 나올 때의 시편장착대(230) 기울기를 찾아내고, 수준기 조절장치(322)를 조절하여 장착대 수준기(320)가 수평을 가리키도록 조절한다. 이렇게 함으로써 두 수준기(310, 320)는 수평을 가리키고 타원해석기는 시편정렬을 위한 영점이 설정된다. In order to keep the relative angle between the optical axis direction of the polarization generator 220 and the polarization analyzer 240 and the surface direction of the specimen 232 constant, the user first needs to level the body level 310 mounted on the body 100. Adjust the height of the pedestal 110 to point. When the level of the body 110 is aligned, by adjusting the mounting adjuster 234 appropriately to find the inclination of the specimen mounting 230 when the elliptic analyzer signal is best, and adjust the level adjusting device 322 Adjust the mount level 320 to point horizontally. By doing so, the two levels (310, 320) point horizontally and the ellipsometer sets the zero point for specimen alignment.

사용자는 새로운 시편을 시편장착대(230)에 놓을 때 장착대 수준기(320)가 수평인가를 확인하고, 만일 그러하지 못한 경우는 장착대 조절장치(234)를 이용하여 장착대 수준기(320)가 수평이 되도록 조절한다. 장착대 수준기(320)가 수평이 되면, 타원해석기 신호가 가장 잘 나올 때와 동일하게 영점이 잡혀진다. The user checks whether the mount level 320 is horizontal when the new specimen is placed on the specimen mount 230, and if it is not, the mount level 320 is horizontal using the mount adjustment device 234. Adjust to When the mount level 320 is level, the ellipsometer signal is zeroed in the same way as the best signal.

이때, 수준기(310, 320)는 도 3에 도시된 바와 같이 원형 수준기를 사용하 면, 평면상 X방향의 기울기와 평면상 Y방향의 기울기를 동시에 측정할 수 있다.At this time, when the level (310, 320) using a circular level as shown in Figure 3, it is possible to measure the slope in the plane X direction and the slope in the plane Y direction at the same time.

또한, 타원해석기를 다른 장소에 옮겼을 경우에도 몸체(100)에 장착된 몸체 수준기(310)가 수평을 가리킬 수 있도록 받침대(110)를 조절하기만 하면, 타원해석기의 영점 설정은 완료가 된다. In addition, even when the elliptical analyzer is moved to another place, simply adjusting the pedestal 110 so that the body level 310 mounted on the body 100 can point horizontally, the zero point setting of the elliptical analyzer is completed.

이상, 본 발명을 바람직한 실시예를 사용하여 상세히 설명하였으나, 본 발명의 범위는 특정 실시예에 한정되는 것은 아니며, 첨부된 특허 청구범위에 의하여 해석되어야 할 것이다. 또한, 이 기술분야에서 통상의 지식을 습득한 자라면, 본 발명의 범위에서 벗어나지 않으면서도 많은 수정과 변형이 가능함을 이해하여야 할 것이다.As mentioned above, although this invention was demonstrated in detail using the preferable Example, the scope of the present invention is not limited to a specific Example and should be interpreted by the attached Claim. In addition, those skilled in the art should understand that many modifications and variations are possible without departing from the scope of the present invention.

본 발명에 따른 수준기를 구비하는 타원해석기는, 수준기 2개만을 이용하여 영점을 맞출 수 있으므로 생산원가가 대폭 절감되고, 전원장치가 요구되는 자동 콜리메이터를 이용하지 아니하므로 장비의 크기를 축소할 수 있고 시편 측정 시 소요되는 비용도 절감할 수 있으며, 영점 조정 작업이 매우 간편해진다는 장점이 있다.



Elliptical analyzer equipped with a spirit level according to the present invention, by using only two spirit level can be zero, so the production cost is greatly reduced, the size of the equipment can be reduced because it does not use the automatic collimator required power supply device The cost of measuring the specimens can also be reduced and the zeroing can be very simple.



Claims (4)

몸체, Body Part, 기울기 변화가 가능한 구조로 상기 몸체에 장착되는 시편장착대, Specimen mount mounted on the body in a tiltable structure, 상기 시편장착대의 기울기를 조절하기 위한 장착대 조절장치, Mount adjusting device for adjusting the tilt of the specimen mounting, 상기 몸체의 기울기를 표시하는 몸체 수준기, A body level indicating the inclination of the body, 상기 시편장착대의 기울기를 표시하는 장착대 수준기Mounting level indicating the slope of the specimen mount 를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 타원해석기.Elliptical analyzer, characterized in that configured to include. 청구항 1에 있어서,The method according to claim 1, 상기 장착대 조절장치는 상기 시편장착대의 수평면 상의 서로 교차하는 2개 축에 대해 각각 기울기를 조절하는 제 1 장착대 조절장치와 제 2 장착대 조절장치를 포함하여 구성되는 것을 특징으로 하는 타원해석기.The mount adjusting device is an elliptical analyzer comprising a first mounting device adjusting device and a second mounting device adjusting device for adjusting the inclination with respect to two axes intersecting each other on the horizontal plane of the specimen mounting device. 청구항 1 또는 청구항 2 중 어느 하나의 청구항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 몸체의 기울기를 조절하는 받침대를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 타원해석기.Elliptical analyzer, characterized in that further comprising a pedestal for adjusting the inclination of the body. 청구항 1 또는 청구항 2 중 어느 하나의 청구항에 있어서,The method according to claim 1 or 2, 상기 장착대 수준기의 기울기를 조절하는 수준기 조절장치를 추가로 구비하는 것을 특징으로 하는 타원해석기.Elliptical analyzer, characterized in that further comprising a level control device for adjusting the inclination of the mounting level.
KR1020040118192A 2004-12-31 2004-12-31 Ellipsometer having level KR20060078939A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040118192A KR20060078939A (en) 2004-12-31 2004-12-31 Ellipsometer having level

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
KR1020040118192A KR20060078939A (en) 2004-12-31 2004-12-31 Ellipsometer having level

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020060097187A Division KR20060108272A (en) 2006-10-02 2006-10-02 Ellipsometer having level

Publications (1)

Publication Number Publication Date
KR20060078939A true KR20060078939A (en) 2006-07-05

Family

ID=37170760

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
KR1020040118192A KR20060078939A (en) 2004-12-31 2004-12-31 Ellipsometer having level

Country Status (1)

Country Link
KR (1) KR20060078939A (en)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10969329B2 (en) 2018-05-28 2021-04-06 Samsung Display Co., Ltd. Ellipsometer

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0552772A (en) * 1991-08-28 1993-03-02 Anelva Corp Surface analyzing apparatus
JPH0843059A (en) * 1994-07-27 1996-02-16 Nikon Corp Near field-scanning microscope
KR19980019031A (en) * 1996-08-27 1998-06-05 고노 시게오 A stage device (A STAGE APPARATUS)
KR20010063215A (en) * 1999-12-22 2001-07-09 송재인 Apparatus for examining operation of an inertia measure
KR20040034375A (en) * 2002-10-18 2004-04-28 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Apparatus for measuring film thickness formed on object, apparatus and method of measuring spectral reflectance of object, and apparatus and method of inspecting foreign material on object

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0552772A (en) * 1991-08-28 1993-03-02 Anelva Corp Surface analyzing apparatus
JPH0843059A (en) * 1994-07-27 1996-02-16 Nikon Corp Near field-scanning microscope
KR19980019031A (en) * 1996-08-27 1998-06-05 고노 시게오 A stage device (A STAGE APPARATUS)
KR20010063215A (en) * 1999-12-22 2001-07-09 송재인 Apparatus for examining operation of an inertia measure
KR20040034375A (en) * 2002-10-18 2004-04-28 다이닛뽕스크린 세이조오 가부시키가이샤 Apparatus for measuring film thickness formed on object, apparatus and method of measuring spectral reflectance of object, and apparatus and method of inspecting foreign material on object

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10969329B2 (en) 2018-05-28 2021-04-06 Samsung Display Co., Ltd. Ellipsometer

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6621578B1 (en) Elliposometer, sample positioning mechanism, and polarization angular adjusting mechanism, used in the elliposometer
TWI269346B (en) Unified apparatus and method to assure probe card-to-wafer parallelism in semiconductor automatic wafer test, probe card measurement systems, and probe card manufacturing
KR930022065A (en) Auto ranger
CN105547657A (en) Device and method for detecting parallelism of split beams of optical lens
JP2005509153A (en) Accurate calibration of birefringence measurement system
JP2672563B2 (en) Device for measuring display screen contrast as a function of viewing direction.
CN101620044B (en) Young&#39;s elastic modulus tester with optical lever without reflector
US5995222A (en) Subject positioning device for optical interferometer
JPH0554902B2 (en)
CN210533303U (en) Optical lens piece eccentric instrument
CN110530821B (en) Measuring device and measuring method for refractive index of optical material
US4171910A (en) Retroreflectance measurement system
KR20060108272A (en) Ellipsometer having level
KR20130091390A (en) Goniometer of planar lightguide circuit
KR20060078939A (en) Ellipsometer having level
CN109596036A (en) A kind of glass sample right angle test device and its test method
CN109307931A (en) A kind of optical axis verticality regulating device and its adjusting method
CN213544383U (en) Refractive index measuring device
JPH07110966A (en) Method and apparatus for measurement of warp of substance
CN209043265U (en) A kind of detection system of prism flatness
CN108121179A (en) A kind of focusing leveling device
US2387852A (en) Precision measuring apparatus
CN108318451A (en) A kind of solid material refractive index measuring instrument from motion tracking reflection light
CN110927105B (en) Method for measuring refractive index of double-prism material
JPH0968478A (en) Lens meter

Legal Events

Date Code Title Description
A201 Request for examination
E902 Notification of reason for refusal
AMND Amendment
E601 Decision to refuse application
J201 Request for trial against refusal decision
A107 Divisional application of patent
AMND Amendment
E801 Decision on dismissal of amendment
B601 Maintenance of original decision after re-examination before a trial
J301 Trial decision

Free format text: TRIAL DECISION FOR APPEAL AGAINST DECISION TO DECLINE REFUSAL REQUESTED 20060908

Effective date: 20070530

S901 Examination by remand of revocation
E902 Notification of reason for refusal
S601 Decision to reject again after remand of revocation