KR20060074383A - Apparatus for a coating layer for shielding electro magnetic interference and its method - Google Patents

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Abstract

본 발명은 이온빔을 사용하여 무선 단말기의 케이스를 친수성으로 표면 개질하고 그 상부에 전자파 차폐를 위한 금속박막을 증착함으로써 무선 단말기를 전자파로부터 차폐하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 복수개의 고분자 케이스를 장착하기 위한 지지부들이 서로 연결된 실린더형으로 구성되고 실린더 외주면을 따라 회전 가능한 케이스 장착부와, 진공챔버의 일측에 구비되어 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 주입구와, 실린더의 길이 방향으로 배치되며 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하는 이온 건을 구비하여 상기 고분자 케이스의 표면을 친수성으로 개질시키기 위한 표면개질부와, 실린더의 길이 방향으로 배치되며 표면이 개질된 고분자 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 증착부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention relates to an apparatus and a method for shielding a wireless terminal from electromagnetic waves by surface modification of the case of the wireless terminal with hydrophilicity using ion beams and depositing a metal thin film for shielding electromagnetic waves thereon. The support parts are formed in a cylindrical shape connected to each other and rotatable along the outer circumferential surface of the cylinder, provided on one side of the vacuum chamber, a reactive gas inlet for supplying a reactive gas to the surface of the polymer case, and arranged in the longitudinal direction of the cylinder The surface of the case is provided with an ion gun irradiating an ion beam to modify the surface of the polymer case hydrophilic, and the vacuum is deposited on the polymer case is disposed in the longitudinal direction of the cylinder and the surface is modified Metal foil for coating thin film And a film deposition unit.

무선 단말기, 전자파, 차폐, 친수성, 이온빔Wireless terminal, electromagnetic wave, shielding, hydrophilicity, ion beam

Description

전자파 차폐막 코팅장치 및 그 방법{APPARATUS FOR A COATING LAYER FOR SHIELDING ELECTRO MAGNETIC INTERFERENCE AND ITS METHOD}Electromagnetic shielding film coating apparatus and its method {APPARATUS FOR A COATING LAYER FOR SHIELDING ELECTRO MAGNETIC INTERFERENCE AND ITS METHOD}

도 1은 종래 기술에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 횡단면도1 is a cross-sectional view of an electromagnetic shielding film coating apparatus according to the prior art

도 2는 도 1의 전자파 차폐막 코팅장치의 챔버에 대한 종단면도2 is a longitudinal cross-sectional view of a chamber of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus of FIG.

도 3은 본 발명에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 제1 실시예를 보인 사시도Figure 3 is a perspective view showing a first embodiment of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus according to the present invention

도 4는 도 3의 종단면도4 is a longitudinal cross-sectional view of FIG.

도 5는 본 발명에 따른 케이스 장착부의 사시도5 is a perspective view of the case mounting portion according to the present invention

도 6은 본 발명에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 제2 실시예를 보인 측면도Figure 6 is a side view showing a second embodiment of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus according to the present invention

도 7은 본 발명에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 제3 실시예를 보인 측면도Figure 7 is a side view showing a third embodiment of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus according to the present invention

※ 도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명 ※※ Explanation of code about main part of drawing ※

S 고분자 케이스 10 진공챔버S polymer case 10 vacuum chamber

11 회전구동부 20 케이스 장착부11 Rotary Drive 20 Case Mount

21 림 22 지지대21 rim 22 support

23 지지체 30 이온 건23 Support 30 Ion Gun

40 스퍼터링 건 44 스퍼터링 타겟40 sputtering gun 44 sputtering target

50 케이스 장착부 이송수단50 Case mount transport means

본 발명은 고분자 물질의 케이스에 금속박막을 코팅하는 장치 및 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 이온빔을 사용하여 무선 단말기의 케이스를 친수성으로 표면 개질하고 그 상부에 전자파 차폐를 위한 금속박막을 증착하는 장치 및 방법에 관한 것이다.The present invention relates to an apparatus and method for coating a metal thin film on a case of a polymer material, and more particularly, to surface-modify the case of a wireless terminal with hydrophilicity using an ion beam and to deposit a metal thin film for shielding electromagnetic waves thereon. An apparatus and method are provided.

최근들어 핸드폰, PDA 등의 무선 단말기의 보급이 기하급수적으로 늘어감에 따라 이러한 통신 단말기에서 발생되는 전자파가 사용자에게 무차별적으로 노출되게 된다. 전자파는 인체에 나쁜 영향을 줄뿐만 아니라, 항공기, 의료기기, 특히 인공심장 등 정밀기기의 작동에 영향으로 주어 오작동을 유발하는 요인이 된다.Recently, as the spread of wireless terminals such as mobile phones and PDAs increases exponentially, electromagnetic waves generated from such communication terminals are exposed to users indiscriminately. Electromagnetic waves not only adversely affect the human body, but also affect the operation of precision instruments such as aircraft, medical devices, especially artificial heart, and cause malfunctions.

따라서, 이러한 문제를 해결하기 위하여 다양한 노력들이 경주되고 있는 바, 그 방법 중의 하나가 무선 단말기 케이스의 내부 표면을 전자파를 차폐할 수 있는 금속막으로 코팅하는 것으로, 한국공개특허공보 제2000-32426호에 개시되어 있다.Therefore, various efforts have been made to solve such a problem, and one of the methods is to coat the inner surface of the wireless terminal case with a metal film capable of shielding electromagnetic waves. Korean Laid-Open Patent Publication No. 2000-32426 Is disclosed.

도 1은 한국공개특허공보 제2000-32426호에 개시된 종래 기술에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 횡단면도이고, 도 2는 전자파 차폐막 코팅장치의 챔버에 대한 종단면도이다.1 is a cross-sectional view of an electromagnetic shielding film coating apparatus according to the prior art disclosed in Korean Patent Laid-Open No. 2000-32426, and FIG. 2 is a longitudinal cross-sectional view of a chamber of the electromagnetic shielding film coating apparatus.

도시된 바와 같이, 종래의 전자파 차폐막 코팅장치는 원통형 챔버(1), 챔버의 내측에 설치되어 다수개의 합성수지물(S)을 장착할 수 있는 원통형상의 회전지그(2)와, 그 회전지그의 후방에 설치되어 회전지그를 일정속도로 회전시키기 위한 지그회전수단(3)과, 상기 회전지그(2)의 하측에 설치되어 회전지그(2)를 챔버의 내 측으로 놓거나 꺼내기 위한 지그이동수단(4a)과, 상기 챔버의 내부에 배치되며 전기적으로 음극이 되는 수개의 타겟(5a, 5b) 및 상기 챔버의 외측에 설치되며 회전지그(2)를 얹어 놓기 위한 지그이송대(4b)로 구성되어 있다. 챔버(1)의 전면에는 도어(6)가 개폐 가능하도록 설치되어 있다. As shown, the conventional electromagnetic shielding film coating apparatus is a cylindrical chamber (1), a cylindrical rotary jig (2) that can be installed inside the chamber to mount a plurality of synthetic resin (S), and the rear of the rotary jig Jig rotation means (3) is installed in the jig rotation means for rotating the rotary jig at a constant speed, and jig movement means (4a) for placing or removing the rotary jig (2) to the inner side of the chamber is installed below the rotary jig (2) And a plurality of targets 5a and 5b which are disposed inside the chamber and are electrically cathodes, and a jig feeder 4b that is installed outside the chamber and on which the rotary jig 2 is placed. The front of the chamber 1 is provided so that the door 6 can be opened and closed.

회전지그(2)는 마주하는 2개의 림 사이에 합성수지물(S)을 장착한 상태로 수납받아 지지하는 가동클램프(7)가 다수개 설치된다. 지그회전수단(3)은 회전지그(2)를 챔버 내에서 회전시키는 기능을 수행하는대, 챔버의 후면 외측에 설치되는 모터(3a), 모터에 연결됨과 아울러 챔버의 내측에 회전 가능하게 배치되는 구동기어(3b) 및 구동기어에 기어 결합됨과 아울러 내주면이 지지롤러(3c)에 지지된다.The rotary jig 2 is provided with a plurality of movable clamps 7 for receiving and supporting the state in which the synthetic resin S is mounted between the two rims facing each other. Jig rotation means (3) is to drive the rotary jig (2) in the chamber, the motor 3a is installed on the outside of the rear of the chamber, the drive is connected to the motor and rotatably disposed inside the chamber In addition to being geared to the gear 3b and the drive gear, the inner circumferential surface is supported by the support roller 3c.

이러한 종래의 장치를 사용하여 전자파 차폐를 위한 박막을 형성하는 방법을 설명하면 다음과 같다. 먼저, 무선 단말기 케이스 등의 합성수지물에 대한 사출품검사 및 초음파 세척을 실시하고, 오븐열풍으로 건조한 후, 산소 플라즈마를 사용하여 표면을 플라즈마 에칭한다. 이와 같은 공정을 거친 합성수지물을 치구에 장착한 상태로 회전지그에 장착하여 챔버에 투입하고 도어를 닫고, 스퍼터링 방법으로 구리 및 스테인레스막을 코팅한다. Referring to the method of forming a thin film for electromagnetic shielding using such a conventional device as follows. First, injection molding inspection and ultrasonic cleaning are performed on a synthetic resin such as a wireless terminal case, dried with an oven hot air, and the surface is plasma-etched using oxygen plasma. The synthetic resin, which has undergone such a process, is mounted on a jig and placed in a rotating jig to be placed in a chamber, the door is closed, and a copper and stainless film is coated by a sputtering method.

전술한 공정 중에 산소 플라즈마로 에칭하는 것은 피코팅물의 표면에 흡착된 오염물을 제거하고 미세표면거칠기를 증가시켜, 표면에너지가 증가할 뿐만 아니라 코팅물과 접하는 면적이 증가하여 구리막의 코팅시 구리 코팅물과의 흡착력을 증가키게 된다.Etching with oxygen plasma during the above process removes contaminants adsorbed on the surface of the coating and increases the microsurface roughness, which not only increases the surface energy but also increases the area in contact with the coating, resulting in a copper coating during coating of the copper film. It will increase the adsorption power of the.

그러나, 종래의 기술에 의하면, 피코팅물의 표면을 물리적으로 식각하는 것 으로 접착력을 원하는 만큼 증가시키지 못하는 면이 있다. 이에 따라 피코팅물의 표면에 화학 처리를 하여 표면의 결합 상태를 변경하는 방법이 연구되고 있으나, 화학처리의 경우 물질 자체가 유해한 경우가 많고 공정 단계를 복잡하게 증가시키는 원인이 된다.However, according to the related art, physical etching of the surface of the coated object does not increase the adhesive strength as desired. Accordingly, a method of changing the bonding state of the surface by chemical treatment of the surface of the coated material has been studied, but in the case of chemical treatment, the material itself is often harmful and causes a complicated increase in the process steps.

따라서, 본 발명은 상술한 바와 같은 종래 기술의 문제점을 해소하기 위해 안출된 것으로, 그 목적은 반응성 가스를 포함하는 분위기에서 이온빔을 조사하여 무선 단말기의 케이스를 친수성으로 표면 개질하고 그 상부에 전자파 차폐를 위한 금속박막을 증착하기 위한 무선 단말기를 전자파로부터 차폐하는 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.Accordingly, the present invention has been made to solve the problems of the prior art as described above, the object of which is to irradiate an ion beam in an atmosphere containing a reactive gas to surface-modify the case of the wireless terminal hydrophilically and shield the electromagnetic wave thereon The present invention provides a device and method for shielding a wireless terminal from electromagnetic waves for depositing a metal thin film.

본 발명의 다른 목적은 표면 개질 처리와 전자파 차폐를 위한 금속박막 증착 공정을 하나의 장치에서 진행하도록 함으로써, 공정의 효율 및 공간 활용을 보다 효율적으로 할 수 있는 장치 및 방법을 제공하기 위한 것이다.Another object of the present invention is to provide an apparatus and method for more efficient use and space utilization of the process by performing a metal thin film deposition process for surface modification and electromagnetic shielding in one device.

상기와 같은 목적을 이루기 위한 본 발명의 일 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅장치는, 중공의 실린더형 진공챔버와, 상기 진공챔버의 입구를 밀폐시키는 적어도 하나의 도어와, 복수개의 고분자 케이스를 장착하기 위한 지지부들이 서로 연결된 실린더형으로 구성되고 실린더 외주면을 따라 회전 가능한 케이스 장착부와, 진공챔버의 일측에 구비되어 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 주입구와, 실린더의 길이 방향으로 배치되며 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하는 이온 건을 구비하여 상기 고분자 케이스의 표면을 친수성으로 개질시키기 위한 표면개질부와, 실린더의 길이 방향으로 배치되며 표면이 개질된 고분자 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 증착부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Electromagnetic shielding film coating apparatus according to an embodiment of the present invention for achieving the above object, a hollow cylindrical vacuum chamber, at least one door for sealing the inlet of the vacuum chamber, and a plurality of polymer cases The support parts are formed in a cylindrical shape connected to each other and rotatable along the outer circumferential surface of the cylinder, provided on one side of the vacuum chamber, a reactive gas inlet for supplying a reactive gas to the surface of the polymer case, and arranged in the longitudinal direction of the cylinder The surface of the case is provided with an ion gun irradiating an ion beam to modify the surface of the polymer case hydrophilic, and the vacuum is deposited on the polymer case is disposed in the longitudinal direction of the cylinder and the surface is modified Including a metal thin film deposition unit for coating a thin film It features.

본 발명의 다른 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅장치는, 하나의 진공챔버 내에 고정 배치되며, 중공의 실린더형 진공챔버와, 상기 진공챔버의 입구를 밀폐시키는 적어도 하나의 도어와, 복수개의 고분자 케이스를 장착하기 위한 지지부들이 서로 연결된 실린더형으로 구성되고, 실린더 외주면을 따라 회전 가능한 케이스 장착부; 진공챔버의 일측에 구비되어 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 주입구와, 실린더의 길이 방향으로 배치되며 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하는 이온 건을 구비하여 고분자 케이스의 표면을 친수성으로 개질시키기 위한 표면개질부; 및 실린더의 길이 방향으로 배치되며, 표면이 개질된 고분자 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 증착부를 포함하며; 이온 건은 상기 실린더 외측에 배치되며, 금속박막 증착부는 실린더의 내측 중앙에 배치되는 것을 특징으로 한다.Electromagnetic shielding film coating apparatus according to another embodiment of the present invention is fixedly disposed in one vacuum chamber, a hollow cylindrical vacuum chamber, at least one door for sealing the inlet of the vacuum chamber, and a plurality of polymer cases A case mounting portion configured to have a cylindrical portion connected to each other for mounting, and rotatable along an outer circumferential surface of the cylinder; It is provided on one side of the vacuum chamber to supply a reactive gas inlet for supplying a reactive gas to the surface of the polymer case, and an ion gun disposed in the longitudinal direction of the cylinder and irradiating an ion beam on the surface of the polymer case to make the surface of the polymer case hydrophilic Surface modification for modifying the surface; And a metal thin film deposition unit disposed in the longitudinal direction of the cylinder and coating the thin film by vacuum depositing a metal material on a polymer case having a modified surface. The ion gun is disposed outside the cylinder, and the metal thin film deposition unit is disposed at the inner center of the cylinder.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅장치는, 중공의 실린더형 진공챔버와; 상기 진공챔버의 입구를 밀폐시키는 적어도 하나의 도어와; 복수개의 고분자 케이스를 장착하기 위한 지지부들이 서로 연결된 실린더형으로 구성되고 실린더 외주면을 따라 회전 가능한 케이스 장착부와; 진공챔버의 일측에 구비되어 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 주입구와, 실린더의 길이 방향으로 배치되며 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하는 이온 건을 구비하여 상기 고분자 케이스의 표면을 친수성으로 개질시키기 위한 표면개질부와; 실린더의 길이 방향으로 배치되며 표면이 개질된 고분자 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 증착부와; 이온 건과 금속박막 증착부는 각각의 진공챔버 내측 중앙에 배치되고, 이온 건의 진공챔버와 금속박막 증착부의 진공챔버 사이에 설치되어 케이스 장착부가 표면개질부 및 금속박막 증착부 사이를 왕복 이송가능 하도록 하는 이송부를 구비하는 것을 특징으로 한다.Electromagnetic shielding film coating apparatus according to another embodiment of the present invention, the hollow cylindrical vacuum chamber; At least one door sealing an inlet of the vacuum chamber; A case mounting part configured to have a cylindrical shape in which support parts for mounting a plurality of polymer cases are connected to each other and rotatable along an outer circumference of the cylinder; A reactive gas inlet provided at one side of the vacuum chamber to supply a reactive gas to the surface of the polymer case, and an ion gun disposed in the longitudinal direction of the cylinder and irradiating an ion beam to the surface of the polymer case to provide a surface of the polymer case. A surface modification portion for modifying hydrophilicity; A metal thin film deposition unit for coating a thin film by vacuum depositing a metal material on a polymer case having a surface modified in a longitudinal direction of the cylinder; The ion gun and the metal thin film deposition unit are disposed in the center of the respective vacuum chambers, and are installed between the vacuum chamber of the ion gun and the vacuum chamber of the metal thin film deposition unit so that the case mount can reciprocate between the surface modification unit and the metal thin film deposition unit. It is characterized by comprising a transfer unit.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅장치는, 중공의 실린더형 진공챔버와; 상기 진공챔버의 입구를 밀폐시키는 적어도 하나의 도어와; 하나의 진공챔버 내에 고정 배치되며, 복수개의 고분자 케이스를 장착하기 위한 지지부들이 서로 연결된 실린더형으로 구성되고 실린더 외주면을 따라 회전 가능한 케이스 장착부와; 진공챔버의 일측에 구비되어 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 주입구와, 실린더의 길이 방향으로 배치되며 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하는 이온 건을 구비하여 상기 고분자 케이스의 표면을 친수성으로 개질시키기 위한 표면개질부와; 실린더의 길이 방향으로 배치되며 표면이 개질된 고분자 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 증착부와; 이온 건을 케이스 장착부의 일측으로부터 이송하여, 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 하는 제1 이송부와; 금속박막 증착부를 케이스 장착부의 타측으로부터 이송하여, 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 하는 제2 이송부를 포함하는 것을 특징으로 한다.Electromagnetic shielding film coating apparatus according to another embodiment of the present invention, the hollow cylindrical vacuum chamber; At least one door sealing an inlet of the vacuum chamber; A case mounting portion fixedly disposed in one vacuum chamber, the support portion for mounting a plurality of polymer cases being configured in a cylindrical shape and rotatable along an outer circumferential surface of the cylinder; A reactive gas inlet provided at one side of the vacuum chamber to supply a reactive gas to the surface of the polymer case, and an ion gun disposed in the longitudinal direction of the cylinder and irradiating an ion beam to the surface of the polymer case to provide a surface of the polymer case. A surface modification portion for modifying hydrophilicity; A metal thin film deposition unit for coating a thin film by vacuum depositing a metal material on a polymer case having a surface modified in a longitudinal direction of the cylinder; A first transfer part which transfers the ion gun from one side of the case mounting part and is arranged in the longitudinal direction of the cylinder at the inner center of the case mounting part; And a second transfer part configured to transfer the metal thin film deposition part from the other side of the case mounting part to be disposed in the longitudinal direction of the cylinder at the inner center of the case mounting part.

본 발명의 또 다른 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅방법은, 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하면서, 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하여 표면을 친수성으로 개질시키는 이온빔 조사단계와; 표면이 개질된 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 코팅단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.Electromagnetic shielding film coating method according to another embodiment of the present invention, the ion beam irradiation step of modifying the surface hydrophilic by irradiating an ion beam to the surface of the polymer case while supplying a reactive gas to the surface of the polymer case; It characterized in that it comprises a metal thin film coating step for coating a thin film by vacuum depositing a metal material on the case where the surface is modified.

상기 이온빔 조사단계 및 금속박막 코팅단계는 각각 다른 진공챔버에서 수행될 수 있으며, 이때 이들 단계의 사이에 케이스 장착부를 이온 빔을 조사하기 위한 진공챔버에서 금속박막을 코팅하기 위한 진공챔버로 이송된다.The ion beam irradiation step and the metal thin film coating step may be performed in different vacuum chambers, respectively, during which the case mounting portion is transferred from the vacuum chamber for irradiating the ion beam to the vacuum chamber for coating the metal thin film.

상기 이온빔 조사단계 및 상기 금속박막 코팅단계는 동일한 진공챔버에서 수행될 수 있으며; 이온빔 조사단계의 전에 상기 이온빔을 조사하기 위한 이온 건을 상기 케이스 장착부의 일측으로부터 이송하여 상기 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 하고, 금속박막 코팅단계 전에는 상기 이온 건을 상기 케이스 장착부의 일측으로 이송하고 금속박막을 증착하기 위한 스퍼터링 건을 상기 케이스 장착부의 타측으로부터 이송하여 상기 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 한다.The ion beam irradiation step and the metal thin film coating step may be performed in the same vacuum chamber; Before the ion beam irradiation step, the ion gun for irradiating the ion beam is transferred from one side of the case mounting portion to be disposed in the longitudinal direction of the cylinder in the inner center of the case mounting portion, and before the metal thin film coating step, the ion gun is the case mounting portion The sputtering gun for transferring to one side of and depositing the metal thin film is transferred from the other side of the case mounting portion to be disposed in the longitudinal direction of the cylinder at the inner center of the case mounting portion.

상술한 본 발명의 양상은 첨부된 도면을 참조하여 설명되는 바람직한 실시예들을 통하여 더욱 명백해질 것이다. 이하에서는 바람직한 실시예를 통해 당업자가 본 발명을 용이하게 이해하고 재현할 수 있도록 상세히 설명하기로 한다.Aspects of the present invention described above will become more apparent through preferred embodiments described with reference to the accompanying drawings. Hereinafter, the present invention will be described in detail so that those skilled in the art can easily understand and reproduce the present invention.

도 3은 본 발명에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 제1 실시예를 보인 사시도이고, 도 4는 도 3의 단면도이다.3 is a perspective view showing a first embodiment of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus according to the present invention, Figure 4 is a cross-sectional view of FIG.

도시된 바와 같이, 제1 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅장치(100)는, 케이스 장착부(20), 이온 건(30)과 스퍼터링 건(40)이 모두 하나의 진공챔버(10) 내에 구비되도록 하는 것이다.As shown, the electromagnetic wave shielding film coating apparatus 100 according to the first embodiment, the case mounting portion 20, the ion gun 30 and the sputtering gun 40 are all provided in one vacuum chamber 10 will be.

케이스 장착부(20)는 도 5에 도시된 바와 같이, 전방 및 후방에 배치되는 한 쌍의 원형 림(21)과, 이들 림 사이를 연결하는 적어도 하나의 지지대(22)로 구성되며, 전체적으로 실린더의 형상을 갖는다. 또한 한 쌍의 원형 림 사이에는 실린더의 길이 방향을 따라, 고분자 케이스(S)를 장착하기 위한 지지체(23)가 탈착 가능하도록 배치된다. 지지체(23)는 림(21)에 설치된 구동 기어(21a)의 구동에 의하여 180°회전 가능하도록 하여, 지지체에 장착된 고분자 케이스의 일면이 그 반대면으로 뒤집힐 수 있도록 구성한다. The case mount 20 is composed of a pair of circular rims 21 arranged at the front and rear, and at least one support 22 connecting the rims, as shown in FIG. It has a shape. In addition, between the pair of circular rims, along the longitudinal direction of the cylinder, a support 23 for mounting the polymer case S is arranged to be detachable. The support 23 is configured to be rotatable 180 ° by the drive of the drive gear 21a installed on the rim 21, so that one surface of the polymer case mounted on the support can be turned over to the opposite side thereof.

한편, 중공형의 진공챔버(10)의 내측에는 케이스 장착부(20)의 외주면을 축지하여 그 외주면을 따라 회전 가능하도록 하는 회전구동부(11)가 설치된다. 이는 후술하는 이온 건 및 스퍼터링 건이 진공챔버의 일측에 고정 배치되기 때문에 일부의 고분자 케이스만이 이온 건 및 스퍼터링 건에 노출되므로, 모든 고분자 케이스가 이들에 노출될 수 있도록 하기 위함이다.On the other hand, the inner side of the hollow vacuum chamber 10 is provided with a rotation driving unit 11 for rotatable along the outer circumferential surface of the case mounting portion 20 to the axis. This is because only some polymer cases are exposed to the ion gun and the sputtering gun because the ion gun and the sputtering gun, which will be described later, are fixedly disposed on one side of the vacuum chamber, so that all the polymer cases can be exposed to them.

이온 건(30)은 중공형의 진공챔버(10)의 내측 외주면에 그 길이 방향을 따라 설치되고, 진공챔버의 또 다른 일측에는 반응성 가스 주입관(미도시)가 연결된다. 이에 따라 진공상태에서 반응성 가스를 고분자 케이스의 표면에 집적 불어 넣어 주면서, 이온 건으로부터 발생되는 고에너지를 갖는 이온 입자를 고분자 케이스의 표면에 조사함으로써, 고분자 표면의 상태를 개질하게 된다. The ion gun 30 is installed along the longitudinal direction on the inner circumferential surface of the hollow vacuum chamber 10, and a reactive gas injection tube (not shown) is connected to another side of the vacuum chamber. Accordingly, while the reactive gas is blown into the surface of the polymer case in a vacuum, the state of the polymer surface is modified by irradiating the surface of the polymer case with ion particles having high energy generated from the ion gun.

반응성 가스는 친수성 작용기를 만들 수 있는 가스가 적합하며, 산소, 수소, 질소, 암모니아, 일산화탄소 및 이들의 혼합가스이다. 한편, 입자를 구성하는 원자는 이온을 형성하는 것이면 족하며, 바람직하게는 아르곤, 산소, 크립톤, 질소 및 이들의 혼합가스이다. 이온 입자의 에너지는 0.5∼2.5KeV 범위를 가지며, 바람직하게는 약 1KeV로서, 너무 에너지가 높으면 고분자 표면의 성분들이 떨어져 나가거나 고분자 사이의 연결고리가 필요 이상으로 끊어지는 문제가 발생된다. Reactive gases are suitably gases which can make hydrophilic functional groups, and are oxygen, hydrogen, nitrogen, ammonia, carbon monoxide and mixtures thereof. On the other hand, the atoms constituting the particles are sufficient to form ions, and preferably argon, oxygen, krypton, nitrogen, and a mixed gas thereof. The energy of the ion particles is in the range of 0.5 to 2.5 KeV, preferably about 1 KeV. If the energy is too high, components on the surface of the polymer may fall off or the connection between the polymers may be broken more than necessary.

이온 건에는 다수개의 이온 소스가 실린더형의 케이스 장착부를 향하도록 구비되며, 이온원으로는 카우프만형(Kaufman), 콜드 할로우 캐소드형(Cold Hallow Cathode), 전자 사이클러트론 공진형(Electron Cyclotron Resonance), 무선주파수형(Radio Frequency) 등이 사용된다. The ion gun is equipped with a plurality of ion sources facing the cylindrical case mount, and the ion source is Kaufman, Cold Hallow Cathode, Electron Cyclotron Resonance , Radio frequency, etc. are used.

이에 따라, 고분자 표면은 그 접촉각이 감소됨과 아울러, 고분자 표면의 결합 상태는 수산화기(OH)가 풍부해져서 친수성으로 변화되기 때문에, 후속 증착되는 금속박막이 보다 강한 접착력으로 밀착되도록 한다. As a result, the contact surface of the polymer surface is reduced, and the bonding state of the polymer surface is changed to hydrophilicity due to the enrichment of hydroxyl groups (OH), thereby allowing the metal thin film to be deposited to be adhered with stronger adhesion.

스퍼터링 건(40)은 양단부가 열려져 있는 형상의 중공의 실린더형 진공챔버의 일측으로부터 이송되며, 중공형의 진공챔버(10)의 내측 중앙에 그 길이 방향을 따라 설치된다. 진공챔버의 타측에는 진공챔버의 입구를 밀폐시키는 도어(12)가 구비되어 공정 중의 진공 상태를 유지하도록 한다. 한편, 스퍼터링 건을 진공챔버의 일측으로 이송 혹은 배출하기 위한 이송롤러(41) 및 이송롤러를 가이드하는 이송대(42), 및 스퍼터링 건에 전원을 공급하기 위한 전원부(43)이 구비된다. The sputtering gun 40 is transported from one side of the hollow cylindrical vacuum chamber of which the both ends are open, and is installed along the longitudinal direction in the inner center of the hollow vacuum chamber 10. The other side of the vacuum chamber is provided with a door 12 for sealing the inlet of the vacuum chamber to maintain the vacuum state in the process. On the other hand, a feed roller 41 for transferring or discharging the sputtering gun to one side of the vacuum chamber, a feed table 42 for guiding the feed roller, and a power supply unit 43 for supplying power to the sputtering gun is provided.

스퍼터링 건에는 다수개의 스퍼터링 타겟들(44)이 실린더형의 케이스 장착부 를 향하도록 구비되며, 이온빔 스퍼터(Ion Beam Sputter)용 이온원으로 ECR(Electron Cyclotron Resonance) 소스를 사용한다. 필요에 따라서는 마그네트론 스퍼터링 혹은 DC 스퍼터링 방법을 사용할 수도 있으며, 이들은 주지된 기술이므로 자세한 설명은 생략하기로 한다.The sputtering gun is provided with a plurality of sputtering targets 44 facing the cylindrical case mount, and uses an ECR (Electron Cyclotron Resonance) source as an ion source for the ion beam sputter. If necessary, magnetron sputtering or DC sputtering may be used, and since these are well known technologies, detailed descriptions thereof will be omitted.

이와 같은 제1 실시예에서는 이온 건은 케이스 장착부의 외부, 스퍼터링 건은 내부에 설치되는 것을 설명하고 있으나, 이에 한정되지 않으며, 그 반대의 경우도 가능하다. 즉, 스프터링 건이 중공형의 진공챔버(10)의 내측 외주면에 그 길이 방향을 따라 설치되고, 이온 건이 양단부가 열려져 있는 형상의 중공의 실린더형 진공챔버의 일측으로부터 이송되어 중공형의 진공챔버(10)의 내측 중앙에 그 길이 방향을 따라 설치된다. 이를 위해서는 이온 건이 이송되는 측으로 진공챔버의 입구를 밀폐시키는 도어(12)가 구비되어 공정 중의 진공 상태를 유지하도록 한다. 도면에 도시된 도어는 상하로 회전하도록 하여 개폐되는 것이지만, 진공챔버의 좌우 방향으로 여닫는 방식도 가능한 것으로, 반드시 도면에 도시된 것만으로 구성되지는 않는다. 한편, 이온 건을 진공챔버의 일측으로 이송 혹은 배출하기 위한 이송롤러 및 이송롤러를 가이드하는 이송대 등이 구비된다.In this first embodiment, the ion gun is described as being installed outside the case mounting unit and the sputtering gun is installed inside, but the present invention is not limited thereto and vice versa. That is, the sputtering gun is installed on the inner circumferential surface of the hollow vacuum chamber 10 along its longitudinal direction, and the ion gun is transferred from one side of the hollow cylindrical vacuum chamber of which the both ends are open to open the hollow vacuum chamber ( 10) is installed along its longitudinal direction in the inner center. To this end, a door 12 is provided to seal the inlet of the vacuum chamber to the side where the ion gun is transferred to maintain the vacuum state in the process. Although the door shown in the drawing is opened and closed to rotate up and down, a method of opening and closing in the left and right directions of the vacuum chamber is also possible, and is not necessarily configured only as shown in the drawing. On the other hand, a feed roller for transferring or discharging the ion gun to one side of the vacuum chamber and a feed table for guiding the feed roller are provided.

도 6은 본 발명에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 제2 실시예를 보인 측면도이다.Figure 6 is a side view showing a second embodiment of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus according to the present invention.

도시된 바와 같이, 제2 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅장치(200)는, 이온 건(30)과 스퍼터링 건(40)는 각각의 진공챔버(10a, 10b) 내에 구비되며, 케이스 장착부는 이들 두개의 진공챔버 사이에 위치하여, 케이스 장착부가 표면개질부 및 금 속박막 증착부 사이를 왕복 이송가능 하도록 한다. As shown, the electromagnetic shielding film coating apparatus 200 according to the second embodiment, the ion gun 30 and the sputtering gun 40 is provided in each of the vacuum chamber (10a, 10b), the case mounting portion these two Located between the vacuum chamber of the, the case mounting portion to enable the reciprocating transfer between the surface modification and the metal thin film deposition portion.

이온 건(30)은 실시예 1과 유사하게 중공형의 진공챔버의 내측 중앙부에 고정 설치되며, 스퍼터링 건 역시 또 다른 진공챔버의 내측 중앙부에 고정 설치된다. Similarly to the first embodiment, the ion gun 30 is fixedly installed at the inner central part of the hollow vacuum chamber, and the sputtering gun is also fixedly installed at the inner central part of another vacuum chamber.

케이스 장착부 이송수단(50)은 케이스 장착부(20)의 양측에서 림과 지지대를 지지할 수 있는 한 쌍의 받침대(51)와, 받침대에 부착되고 이를 이송하기 의한 이송롤러(52)와, 이송롤러를 가이드하는 한 쌍의 레일(53)로 구성된다. 한편, 각각의 진공챔버의 양 가장자리에는 또 다른 한 쌍의 레일(53a, 53b)이 구비되어, 이송롤러가 진공챔버로 이송되어 진공챔버 속을 이동할 수 있도록 한다.The case mounting portion transfer means 50 includes a pair of pedestals 51 capable of supporting the rim and the support on both sides of the case mounting portion 20, a feed roller 52 attached to the pedestal and conveyed thereto, and a feed roller. It consists of a pair of rails (53) for guiding. On the other hand, the other edge of each of the vacuum chamber is provided with another pair of rails (53a, 53b), so that the transfer roller is transferred to the vacuum chamber to move in the vacuum chamber.

이에 따라, 케이스 장착부는 공정 단계의 필요에 따라 이온 건의 진공챔버와 스퍼터링 건의 진공챔버 사이를 왕복하여 이송될 수 있다. 즉, 고분자 케이스를 케이스 장착부(20)에 장착한 후, 케이스 장착부 이송수단의 구동에 의하여 이온 건의 진공챔버(10a)에 로딩하여 이온 빔의 조사에 의한 표면 개질을 한다. 이후, 케이스 장착부를 케이스 장착부 이송수단의 구동에 의하여 스퍼터링 건의 진공챔버(10b)에 로딩하여 금속박막을 코팅한다.Accordingly, the case mount may be transported reciprocally between the vacuum chamber of the ion gun and the vacuum chamber of the sputtering gun as required by the process step. That is, after the polymer case is mounted in the case mounting portion 20, the polymer case is loaded into the vacuum chamber 10a of the ion gun by driving the case mounting portion transfer means, thereby performing surface modification by irradiation of the ion beam. Thereafter, the case mounting portion is loaded into the vacuum chamber 10b of the sputtering gun by driving the case mounting portion transfer means to coat the metal thin film.

도 7은 본 발명에 따른 전자파 차폐막 코팅장치의 제3 실시예를 보인 측면도이다.Figure 7 is a side view showing a third embodiment of the electromagnetic wave shielding film coating apparatus according to the present invention.

도시된 바와 같이, 제3 실시예에 따른 전자파 차폐막 코팅장치(300)는, 하나의 진공챔버(10)에 케이스 장착부(미도시)가 고정 설치되며, 이온 건(30)과 스퍼티링 건(40)이 진공챔버의 양측면으로부터 각각 이송되도록 구성한다. 즉, 케이스 장착부 및 스퍼터링 건의 구성은 제1 실시예와 동일하며, 이온 건(30)은 이송될 수 있는 구조로 변형된다. 스퍼터링 건을 진공챔버의 일측으로 이송 혹은 배출하기 위한 이송롤러(41) 및 이송롤러를 가이드하는 이송대(42), 이온 건을 진공챔버의 일측으로 이송 혹은 배출하기 위한 이송롤러(31) 및 이송롤러를 가이드하는 이송대(32)가 구비된다.As shown, in the electromagnetic shielding film coating apparatus 300 according to the third embodiment, a case mounting unit (not shown) is fixedly installed in one vacuum chamber 10, and the ion gun 30 and the sputtering gun ( 40) are respectively transported from both sides of the vacuum chamber. That is, the configuration of the case mounting portion and the sputtering gun is the same as in the first embodiment, and the ion gun 30 is transformed into a structure that can be transferred. A feed roller 41 for transferring or discharging the sputtering gun to one side of the vacuum chamber, a feed table 42 for guiding the feeding roller, a feed roller 31 for transferring or discharging the ion gun to one side of the vacuum chamber, and a feed A transfer table 32 for guiding the roller is provided.

이에 따라, 이온 건 및 스퍼터링 건은 공정 단계의 필요에 따라 케이스 장착부가 고정된 진공챔버로 이송될 수 있다. 즉, 고분자 케이스를 케이스 장착부(20)에 장착한 후, 이온 건을 진공챔버로 이송하여 이온 빔의 조사에 의한 표면 개질한다. 이후, 이온 건을 진공챔버로부터 배출하고 스퍼터링 건을 진공챔버로 이송하여 금속박막을 코팅한다.Accordingly, the ion gun and the sputtering gun can be transferred to the vacuum chamber in which the case mount is fixed as required by the process step. That is, the polymer case is mounted on the case mounting portion 20, and then the ion gun is transferred to the vacuum chamber to modify the surface by irradiation of the ion beam. Thereafter, the ion gun is discharged from the vacuum chamber and the sputtering gun is transferred to the vacuum chamber to coat the metal thin film.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명에 따르면, 반응성 가스를 포함하는 분위기에서 이온빔을 조사하여 무선 단말기의 케이스를 친수성으로 표면 개질하고 그 상부에 전자파 차폐를 위한 금속박막을 증착함으로써 보다 접착력이 높은 차폐막을 증착할 수 있으며, 표면 개질 처리와 전자파 차폐를 위한 금속박막 증착 공정을 하나의 장치에서 진행 하도록 함으로써, 공정을 보다 간단하게 할 수 있게 된다. As described in detail above, according to the present invention, by shielding the surface of the wireless terminal with hydrophilicity by irradiating an ion beam in an atmosphere containing a reactive gas and depositing a metal thin film for shielding electromagnetic waves thereon, It can be deposited, and the metal thin film deposition process for surface modification treatment and electromagnetic shielding in one device, it is possible to simplify the process.

앞에서 설명되고 도면에 도시된 본 발명의 실시예는 본 발명의 기술적 사상을 한정하는 것으로 해석되어서는 안 된다. 본 발명의 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자는 본 발명의 기술적 사상을 다양한 형태로 개량 변경하는 것이 가능하므로, 개량 및 변경은 통상의 지식을 가진 자에게 자명한 것인 한 본 발명의 보호 범위에 속하게 될 것이다.Embodiments of the present invention described above and illustrated in the drawings should not be construed as limiting the technical spirit of the present invention. Those skilled in the art of the present invention can change and change the technical spirit of the present invention in various forms, and the improvement and modification are within the protection scope of the present invention as long as it is obvious to those skilled in the art. Will belong.

Claims (12)

고분자 케이스의 표면에 전자파 차폐를 위한 금속박막을 코팅 처리하는 전자파 차폐막 코팅장치에 있어서,In the electromagnetic shielding film coating apparatus for coating a metal thin film for electromagnetic shielding on the surface of the polymer case, 중공의 실린더형 진공챔버;Hollow cylindrical vacuum chamber; 상기 진공챔버의 입구를 밀폐시키는 적어도 하나의 도어;At least one door sealing an inlet of the vacuum chamber; 복수개의 고분자 케이스를 장착하기 위한 지지부들이 서로 연결된 실린더형으로 구성되고, 실린더 외주면을 따라 회전 가능한 케이스 장착부;A support for mounting a plurality of polymer cases is configured in a cylindrical shape connected to each other, the case mounting portion rotatable along the outer peripheral surface of the cylinder; 상기 진공챔버의 일측에 구비되어 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하는 반응성 가스 주입구와, 상기 실린더의 길이 방향으로 배치되며 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하는 이온 건을 구비하여 상기 고분자 케이스의 표면을 친수성으로 개질시키기 위한 표면개질부; 및A reactive gas injection port provided at one side of the vacuum chamber to supply a reactive gas to a surface of the polymer case, and an ion gun disposed in the longitudinal direction of the cylinder and irradiating an ion beam to a surface of the polymer case; Surface modifications for modifying the surface to be hydrophilic; And 상기 실린더의 길이 방향으로 배치되며, 상기 표면이 개질된 고분자 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 증착부를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.Electromagnetic shielding film coating apparatus disposed in the longitudinal direction of the cylinder, characterized in that it comprises a metal thin film deposition unit for coating a thin film by vacuum deposition of a metal material on the polymer case is modified surface. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 케이스 장착부는 하나의 진공챔버 내에 고정 배치되며;The case mount is fixedly disposed in one vacuum chamber; 상기 이온 건은 상기 실린더 외측에 배치되며, 상기 금속박막 증착부는 상기 실린더의 내측 중앙에 배치되는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.The ion gun is disposed outside the cylinder, the metal thin film deposition unit is characterized in that the electromagnetic shielding film coating apparatus is disposed in the inner center of the cylinder. 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 이온 건과 상기 금속박막 증착부는 각각의 진공챔버 내측 중앙에 배치되며;The ion gun and the metal thin film deposition unit are disposed in the center of each vacuum chamber; 상기 이온 건의 진공챔버와 상기 금속박막 증착부의 진공챔버 사이에 설치되어, 상기 케이스 장착부가 표면개질부 및 금속박막 증착부 사이를 왕복 이송가능 하도록 하는 이송부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.The electromagnetic shielding film coating apparatus further comprises a transfer unit installed between the vacuum chamber of the ion gun and the vacuum chamber of the metal thin film deposition unit to enable the case mounting unit to reciprocate between the surface modification unit and the metal thin film deposition unit. . 제1항에 있어서,The method of claim 1, 상기 케이스 장착부는 하나의 진공챔버 내에 고정 배치되며;The case mount is fixedly disposed in one vacuum chamber; 상기 이온 건을 상기 케이스 장착부의 일측으로부터 이송하여, 상기 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 하는 제1 이송부; 및A first transfer part configured to transfer the ion gun from one side of the case mount to be disposed in the longitudinal direction of the cylinder at an inner center of the case mount; And 상기 금속박막 증착부를 상기 케이스 장착부의 타측으로부터 이송하여, 상기 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 하는 제2 이송부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.And a second transfer part configured to transfer the metal thin film deposition part from the other side of the case mounting part to be disposed in the longitudinal direction of the cylinder in the inner center of the case mounting part. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 케이스의 전후면이 반전되도록 상기 지지부를 회전시키는 회전구동부를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.Electromagnetic shielding film coating apparatus further comprises a rotary driving unit for rotating the support so that the front and rear surfaces of the case is reversed. 제1항 내지 제4항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 1 to 4, 상기 반응성 가스는 산소, 질소, 암모니아, 일산화탄소 및 이들의 혼합가스 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.The reactive gas is an electromagnetic shielding film coating apparatus, characterized in that any one selected from oxygen, nitrogen, ammonia, carbon monoxide and a mixture thereof. 제6항에 있어서,The method of claim 6, 상기 이온 빔을 구성하는 입자는 0.5∼2.5KeV 범위의 에너지를 가진 이온 입자인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅장치.Particles constituting the ion beam is an electromagnetic shielding film coating apparatus, characterized in that the ion particles having an energy in the range of 0.5 to 2.5 KeV. 고분자 케이스의 표면에 전자파 차폐를 위한 금속박막을 코팅 처리하는 전자파 차폐막 코팅방법에 있어서,In the electromagnetic shielding film coating method for coating a metal thin film for electromagnetic shielding on the surface of the polymer case, 상기 고분자 케이스의 표면에 반응성 가스를 공급하면서, 상기 고분자 케이스의 표면에 이온 빔을 조사하여 표면을 친수성으로 개질시키는 이온빔 조사단계; 및An ion beam irradiation step of modifying the surface to be hydrophilic by irradiating an ion beam to the surface of the polymer case while supplying a reactive gas to the surface of the polymer case; And 상기 표면이 개질된 케이스에 금속물질을 진공 증착하여 박막을 코팅하기 위한 금속박막 코팅단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅방법.And a metal thin film coating step of coating a thin film by vacuum depositing a metal material on the case where the surface is modified. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 이온빔 조사단계 및 상기 금속박막 코팅단계는 각각 다른 진공챔버에서 수행되며; 이들 단계의 사이에, 상기 케이스 장착부를 이온 빔을 조사하기 위한 진공챔버에서 금속박막을 코팅하기 위한 진공챔버로 이송하는 단계를 더 포함하는 것 을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅 방법.The ion beam irradiation step and the metal thin film coating step are performed in different vacuum chambers; Between these steps, further comprising the step of transferring the case mounting portion from the vacuum chamber for irradiating the ion beam to the vacuum chamber for coating the metal thin film. 제8항에 있어서,The method of claim 8, 상기 이온빔 조사단계 및 상기 금속박막 코팅단계는 동일한 진공챔버에서 수행되며; 상기 이온빔 조사단계의 전에 상기 이온빔을 조사하기 위한 이온 건을 상기 케이스 장착부의 일측으로부터 이송하여 상기 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 하고, 상기 금속박막 코팅단계 전에 상기 이온 건을 상기 케이스 장착부의 일측으로 이송하고 금속박막을 증착하기 위한 스퍼터링 건을 상기 케이스 장착부의 타측으로부터 이송하여 상기 케이스 장착부의 내부 중심에 실린더의 길이 방향으로 배치되도록 하는 단계를 더 포함하는 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅 방법.The ion beam irradiation step and the metal thin film coating step are performed in the same vacuum chamber; Transfer the ion gun for irradiating the ion beam from one side of the case mounting portion before the ion beam irradiation step to be disposed in the longitudinal direction of the cylinder in the inner center of the case mounting portion, and the ion gun before the metal film coating step And transferring a sputtering gun for transferring to one side of the case mounting portion and depositing a metal thin film from the other side of the case mounting portion so that the sputtering gun is disposed in the longitudinal direction of the cylinder at the inner center of the case mounting portion. Coating method. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 8 to 10, 상기 반응성 가스는 산소, 질소, 암모니아, 일산화탄소 및 이들의 혼합가스 중에서 선택된 어느 하나인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅방법.The reactive gas is an electromagnetic shielding film coating method, characterized in that any one selected from oxygen, nitrogen, ammonia, carbon monoxide and a mixture thereof. 제8항 내지 제10항 중 어느 한 항에 있어서,The method according to any one of claims 8 to 10, 상기 이온 빔을 구성하는 입자는 0.5∼2.5KeV 범위의 에너지를 가진 이온 입자인 것을 특징으로 하는 전자파 차폐막 코팅방법.Particles constituting the ion beam is an electromagnetic shielding film coating method, characterized in that the ion particles having an energy in the range of 0.5 to 2.5 KeV.
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