KR20060061088A - Flash memory device and method for supplying program voltage thereof - Google Patents
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Abstract
여기에 개시되는 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법에서는, 프로그램될 블록의 모든 워드라인들로 패스 전압(Vpass)을 인가하여 상기 워드라인들을 소정의 레벨로 프리챠지한 후, 프로그램될 셀의 워드라인으로 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 인가하되, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)과 패스 전압(Vpass)을 각각 소정의 저항비로 분압하고, 상기 분압 결과들의 크기를 비교하여 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 인가 시점을 제어한다. 그 결과, 선택된 워드라인으로 인가되는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은 항상 패스 전압(Vpass) 보다 높은 값을 가지게 되어, 부스팅 효율을 높일 수 있고, 프로그램의 신뢰도를 높일 수 있게 된다.In the flash memory device and a program method thereof disclosed herein, after precharging the word lines to a predetermined level by applying a pass voltage Vpass to all word lines of a block to be programmed, the word lines of the cell to be programmed. The program voltage Vpgm_ramp is applied, and the program voltage Vpgm_ramp and the pass voltage Vpass are divided at predetermined resistance ratios, respectively, and the timing of applying the program voltage Vpgm_ramp is controlled by comparing the magnitudes of the divided voltage results. As a result, the program voltage Vpgm_ramp applied to the selected word line always has a higher value than the pass voltage Vpass, thereby increasing the boosting efficiency and increasing the program reliability.
Description
도 1은 일반적인 프로그램 방법에 따른 워드라인 전압 변화를 보여주는 도면;1 is a diagram illustrating a word line voltage change according to a general program method;
도 2는 프로그램시 목표로 하는 워드라인 전압의 레벨에 따른 워드라인 전압의 변화를 보여주는 도면;2 is a view illustrating a change of a word line voltage according to a level of a target word line voltage during programming;
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플래시 메모리 장치의 블록도;3 is a block diagram of a flash memory device according to a preferred embodiment of the present invention;
도 4는 도 3에 도시된 메모리 셀 어레이의 회로도;4 is a circuit diagram of the memory cell array shown in FIG. 3;
도 5는 도 3에 도시된 워드라인 드라이브 회로의 상세 블록도; 5 is a detailed block diagram of the wordline drive circuit shown in FIG. 3;
도 6은 본 발명에 따른 프로그램시의 각 제어 신호와 고전압의 타이밍도; 그리고6 is a timing diagram of each control signal and a high voltage during programming according to the present invention; And
도 7은 본 발명에 따른 프로그램시 워드라인으로 인가되는 전압의 변화를 보여주는 도면이다.7 is a view illustrating a change in voltage applied to a word line during programming according to the present invention.
*도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명** Description of the symbols for the main parts of the drawings *
10 : 메모리 셀 어레이 20 : Y-게이트10: memory cell array 20: Y-gate
30 : 페이지 버퍼회로 40 : Y-디코더30: page buffer circuit 40: Y-decoder
50 : X-디코더 60 : 워드라인 드라이브 회로50: X-decoder 60: word line drive circuit
70 : 고전압 램프회로 80 : 고전압 발생회로70: high voltage lamp circuit 80: high voltage generating circuit
90 : 프로그램 제어부 100 : 플래시 반도체 메모리90: program controller 100: flash semiconductor memory
본 발명은 불휘발성 반도체 메모리 장치에 관한 것으로서, 좀 더 구체적으로는 낸드형 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 전압 인가 방법에 관한 것이다.The present invention relates to a nonvolatile semiconductor memory device, and more particularly, to a NAND flash memory device and a method of applying a program voltage thereof.
불휘발성 메모리 장치는 전원이 공급되지 않아도 셀에 기록된 데이터가 소멸되지 않고 남아있다. 불휘발성 메모리들 중에서도 플래시 메모리는 전기적으로 셀의 데이터를 일괄적으로 소거하는 기능을 가지고 있기 때문에, 컴퓨터 및 메모리 카드 등에 널리 사용되고 있다.In a nonvolatile memory device, data written in a cell remains undeleted even when power is not supplied. Among nonvolatile memories, flash memory has a function of electrically erasing data of cells collectively, and thus is widely used in computers and memory cards.
플래시 메모리는 셀과 비트라인의 연결 상태에 따라 노어형과 낸드형으로 구분된다. 일반적으로, 노어형 플래시 메모리는 전류 소모가 크기 때문에 고집적화에는 불리하지만, 고속화에 용이하게 대처할 수 있는 장점이 있다. 그리고, 낸드형 플래시 메모리는 노어형 플래시 메모리에 비해 적은 셀 전류를 사용하기 때문에, 고집적화에 유리한 장점이 있다. Flash memory is divided into NOR type and NAND type according to the connection state of cells and bit lines. In general, NOR flash memory is disadvantageous for high integration because of the large current consumption, but there is an advantage that can easily cope with high speed. In addition, since the NAND flash memory uses less cell current than the NOR flash memory, there is an advantage in that it is advantageous for high integration.
낸드 플래시 메모리는, 정보를 저장하기 위한 저장 영역으로서 메모리 셀 어레이를 포함한다. 메모리 셀 어레이는 복수 개의 블록으로 구성되고, 각각의 블록은 복수 개의 셀 스트링들(또는 낸드 스트링(NAND string)이라 불림)로 구성된다. 메모리 셀 어레이에 데이터를 저장하거나, 그것으로부터 데이터를 읽기 위해서 플 래시 메모리에는 페이지 버퍼 회로가 제공된다. 잘 알려진 바와 같이, 낸드형 플래시 메모리의 메모리 셀은 F-N 터널링 전류(Fowler-Nordheim tunneling current)를 이용하여 소거 및 프로그램된다. 낸드형 플래시 EEPROM의 소거 및 프로그램 방법들은 미국특허공보 5,473,563호에 "Nonvolatile Semiconductor Memory"라는 제목으로, 미국특허공보 5,696,717호에 "Nonvolatile Integrated Circuit Memory Devices Having Adjustable Erase/Program Threshold Voltage Verification Capability"라는 제목으로 각각 게재되어 있다.The NAND flash memory includes a memory cell array as a storage area for storing information. The memory cell array is composed of a plurality of blocks, and each block is composed of a plurality of cell strings (or called NAND strings). The flash memory is provided with a page buffer circuit to store data in or read data from the memory cell array. As is well known, memory cells of a NAND flash memory are erased and programmed using F-Nordheim tunneling current. Methods for erasing and programming NAND flash EEPROMs are entitled "Nonvolatile Semiconductor Memory" in U.S. Patent No. 5,473,563 and "Nonvolatile Integrated Circuit Memory Devices Having Adjustable Erase / Program Threshold Voltage Verification Capability" in U.S. Patent No. 5,696,717. Each is published.
도 1은 플래시 메모리 장치의 워드라인 전압 변화를 보여주는 도면이다. 1 is a diagram illustrating a change in a word line voltage of a flash memory device.
도 1을 참조하면, 플래시 메모리 셀들의 문턱 전압 산포를 정확하게 제어하기 위해, 플래시 메모리 셀들은 증가형 스텝 펄스 프로그래밍(incremental step pulse programming: ISPP) 방식에 의해 프로그램 된다. ISPP 방식에 따라 프로그램 전압을 생성하는 회로는, 미국특허공보 5,642,309호에 "AUTO-PROGRAM CIRCUIT IN A NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE"라는 제목으로 게재되어 있다.Referring to FIG. 1, in order to accurately control threshold voltage distribution of flash memory cells, flash memory cells are programmed by an incremental step pulse programming (ISPP) scheme. A circuit for generating a program voltage according to the ISPP method is disclosed in US Patent Publication No. 5,642,309 entitled "AUTO-PROGRAM CIRCUIT IN A NONVOLATILE SEMICONDUCTOR MEMORY DEVICE".
ISPP 프로그래밍 방식에 따른 프로그램 전압(Vpgm)은, 도 1에 도시된 바와 같이 프로그램 사이클의 프로그램 루프들이 반복됨에 따라 단계적으로 증가된다. 각 프로그램 루프는, 잘 알려진 바와 같이, 프로그램 구간과 프로그램 검증 구간으로 이루어진다. 프로그램 전압(Vpgm)은 정해진 증가분(△Vpgm)만큼 증가하게 되며, 프로그램 시간은 각 프로그램 루프에 대하여 일정하게 유지된다. The program voltage Vpgm according to the ISPP programming scheme is increased step by step as the program loops of the program cycle are repeated as shown in FIG. 1. Each program loop, as is well known, consists of a program interval and a program verification interval. The program voltage Vpgm increases by a predetermined increment DELTA Vpgm, and the program time is kept constant for each program loop.
하지만, 각 프로그램 단계별로 수직적으로 증가된 프로그램 전압(Vpgm)이 발생하는 경우에는, 커플링 노이즈가 증가하게 된다. 커플링 노이즈는, 메모리 장치 의 집적도가 증가하고 인접한 신호 라인들간의 간격이 감소함에 따라, 인접한 신호 라인들(예컨대, 인접한 워드라인들, 스트링 선택 라인(SSL), 또는 그라운드 선택 트랜지스터들(GST)) 사이에 커패시턴스 커플링(Capacitance Coupling)이 증가함에 따라 발생된다. 이와 같은 문제를 해결하기 위해, 플래시 메모리 장치에서는 수직적으로 증가된 프로그램 전압(Vpgm)을 발생하는 대신, 고전압 램프 회로(high voltage ramping circuit)를 이용하여 순차적으로 상승된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 발생한다. However, when a vertically increased program voltage Vpgm occurs for each program step, coupling noise increases. Coupling noise may be caused by increasing the degree of integration of the memory device and decreasing the spacing between adjacent signal lines, such as adjacent word lines (eg, adjacent word lines, string select lines SSL, or ground select transistors GST). This occurs as the capacitance coupling between the capacitors increases. In order to solve this problem, instead of generating a vertically increased program voltage Vpgm, a flash memory device generates a sequentially increased program voltage Vpgm_ramp using a high voltage ramping circuit. .
도 2는 프로그램시 목표로 하는 워드라인 전압의 레벨에 따른 워드라인 전압의 변화를 보여주는 도면이다. 도 2에는 셀프 부스팅 스킴(Self-Boosting Scheme)을 이용한 프로그램 방지(program inhibit) 기법이 적용된 경우의 워드라인 전압의 변화가 도시되어 있다.2 is a diagram illustrating a change in a word line voltage according to a level of a target word line voltage during programming. 2 illustrates a change in the word line voltage when a program inhibit technique using a self-boosting scheme is applied.
도 2를 참조하면, 셀프 부스팅 스킴을 이용한 프로그램 방지 기법에 따르면, 먼저 프로그램될 블록을 선택하고, 선택된 블록의 모든 워드라인들로 패스 전압(Vpass)을 인가한다. 워드라인들로 인가된 패스 전압(Vpass)에 의해 상기 블록에 포함된 메모리 셀들은 모두 소정의 레벨로 프리챠지 된다. 그리고 나서, 상기 메모리 셀들 중 프로그램될 셀의 워드라인으로 단계적으로 상승된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 인가된다. 이 때 인가되는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은 도 1에 도시된 바와 같은 ISPP 스킴에 따라 단계적으로 발생된다. 그리고, ISPP의 각 단계별로 목표로 하는 프로그램 전압(Target Vpgm)은, 고전압 램프 회로에 의해 계단 형태로 순차적으로 상승된다. Referring to FIG. 2, according to a program protection scheme using a self-boosting scheme, first, a block to be programmed is selected, and a pass voltage Vpass is applied to all word lines of the selected block. The memory cells included in the block are all precharged to a predetermined level by the pass voltage Vpass applied to the word lines. Then, a stepped-up program voltage Vpgm_ramp is applied to the word line of the cell to be programmed. The program voltage Vpgm_ramp applied at this time is generated step by step according to the ISPP scheme as shown in FIG. 1. Then, the target program voltage Target Vpgm in each step of the ISPP is sequentially raised in a stepped form by the high voltage ramp circuit.
도 2에서는 목표로 하는 프로그램 전압(Target Vpgm)의 레벨이 14V인 경우와 20V인 경우가 각각 도시되어 있다. 목표로 하는 프로그램 전압들(Target Vpgm)은 각각 5 단계에 걸친 램핑(ramping) 과정을 통해 발생된다. 바람직하게는, 램핑된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 레벨은 워드라인들로 인가된 패스 전압(Vpass) 보다는 높아야 한다. 그러나, 도 2에 도시되어 있는 바와 같이, 목표로 하는 프로그램 전압(Target Vpgm)의 레벨이 낮아짐에 따라, 램핑된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 오히려 패스 전압(Vpass)의 레벨 보다 낮아지게 되는 문제가 발생한다(도 2의 점선으로 표시된 부분 참조). 이와 같은 문제는, 목표로 하는 프로그램 전압(Target Vpgm)의 레벨이 낮음에도 불구하고, 고전압 램프 회로에서 램핑하는 단계는 소정의 레벨로 정해져 있기 때문에 발생된다. 이처럼 램핑된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 패스 전압(Vpass)의 레벨 보다 낮아지게 되는 경우에는, 부스팅 효율이 떨어지게 되고, 이로 인해 프로그램의 신뢰성이 낮아지게 되는 문제점이 있다.In FIG. 2, the target program voltage Target Vpgm has a level of 14V and a case of 20V, respectively. The target program voltages (Target Vpgm) are generated through a ramping process in five steps, respectively. Preferably, the level of the ramped program voltage Vpgm_ramp should be higher than the pass voltage Vpass applied to the word lines. However, as illustrated in FIG. 2, as the level of the target program voltage Target Vpgm is lowered, a problem arises in that the ramped program voltage Vpgm_ramp becomes lower than the level of the pass voltage Vpass. (See the dotted line in Fig. 2). This problem occurs because the step of ramping in the high voltage ramp circuit is set to a predetermined level despite the low level of the target program voltage Target Vpgm. When the ramped program voltage Vpgm_ramp is lower than the level of the pass voltage Vpass, the boosting efficiency is lowered, thereby lowering the reliability of the program.
본 발명의 목적은 상술한 제반 문제점을 해결하기 위해 제안된 것으로, 높은 프로그램 신뢰도를 갖는 낸드형 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법을 제공하는데 있다.SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the above-mentioned problems and to provide a NAND flash memory device having a high program reliability and a program method thereof.
상술한 제반 목적을 달성하기 위한 본 발명의 특징에 따르면, 플래시 메모리 장치의 프로그램 전압 인가 방법은, 프로그램될 메모리 블록의 모든 워드라인들로 패스 전압을 인가하는 단계; 상기 패스 전압이 인가되는 동안, 상기 패스 전압의 레벨 및 프로그램 전압의 레벨을 모니터링하는 단계; 그리고 상기 모니터링 결과, 상기 프로그램 전압이 상기 패스 전압 보다 높으면 상기 프로그램 전압을 선택된 워드라인으로 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to a feature of the present invention for achieving the above object, a method of applying a program voltage of a flash memory device, the method comprising: applying a pass voltage to all the word lines of the memory block to be programmed; Monitoring the level of the pass voltage and the level of the program voltage while the pass voltage is applied; And if the program voltage is higher than the pass voltage, applying the program voltage to a selected word line.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 프로그램 전압이 상기 패스 전압 보다 낮으면, 상기 패스 전압을 상기 선택된 워드라인으로 인가하는 것을 특징으로 한다.In example embodiments, when the program voltage is lower than the pass voltage, the pass voltage is applied to the selected word line.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 프로그램 전압을 모니터링하는 단계는, 상기 패스 전압 및 상기 프로그램 전압을 분압하는 단계; 상기 분압 결과들의 크기를 비교하는 단계; 그리고 상기 비교 결과에 응답해서, 상기 프로그램 전압 및 상기 패스 전압 중 어느 하나를 상기 선택된 워드라인으로 인가하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, monitoring the program voltage comprises: dividing the pass voltage and the program voltage; Comparing the magnitudes of the partial pressure results; And in response to the comparison result, applying one of the program voltage and the pass voltage to the selected word line.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 비교 결과, 상기 프로그램 전압의 분압 결과가 상기 패스 전압의 분압 결과 보다 낮으면 상기 패스 전압을 상기 선택된 워드라인으로 인가하는 것을 특징으로 한다.In example embodiments, the pass voltage may be applied to the selected word line if the divided voltage result of the program voltage is lower than the divided voltage result of the pass voltage.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 프로그램 전압은, 프로그램 루프별로 단계적으로 증가되는 증가형 스텝 펄스 프로그래밍(incremental step pulse programming: ISPP) 방식에 의해 발생되며, 상기 프로그램 루프별 프로그램 전압은, 복수 회의 램핑 동작을 통해 소정의 전압 레벨까지 단계적으로 상승하는 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, the program voltage is generated by an incremental step pulse programming (ISPP) scheme that is incremented step by step for each program loop, and the program voltage for each program loop includes a plurality of ramping operations. Step by step up to a predetermined voltage level is characterized in that.
상술한 목적을 달성하기 위한 본 발명의 다른 특징에 따르면, 플래시 메모리 장치의 프로그램 전압 인가 방법은, 복수 개의 메모리 셀들로 구성된 메모리 셀 어 레이; 상기 메모리 셀들에 대한 프로그램을 제어하는 프로그램 제어부; 상기 프로그램 제어부의 제어에 의해 패스 전압 및 프로그램 전압을 발생하는 고전압 발생부; 그리고 상기 프로그램 전압의 레벨을 모니터링하고, 상기 모니터링 결과에 따라 상기 패스 전압 및 상기 프로그램 전압 중 어느 하나를 선택된 워드라인으로 출력하는 워드라인 드라이브 회로를 포함하는 것을 특징으로 한다.According to another aspect of the present invention for achieving the above object, a program voltage application method of a flash memory device, the memory cell array consisting of a plurality of memory cells; A program controller for controlling a program for the memory cells; A high voltage generator configured to generate a pass voltage and a program voltage under control of the program controller; And a word line driver circuit for monitoring the level of the program voltage and outputting any one of the pass voltage and the program voltage to a selected word line according to the monitoring result.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 고전압 발생부는, 상기 프로그램 제어부의 제어에 의해 상기 패스 전압 및 상기 프로그램 전압을 발생하는 고전압 발생회로; 그리고 상기 고전압 발생회로로부터 발생된 상기 프로그램 전압을 단계적으로 상승시키는 고전압 램핑 회로를 포함하는 것을 특징으로 한다.In an exemplary embodiment, the high voltage generation unit may include: a high voltage generation circuit configured to generate the pass voltage and the program voltage under control of the program controller; And a high voltage ramping circuit for gradually raising the program voltage generated from the high voltage generating circuit.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 워드라인 드라이브 회로는, 상기 프로그램 제어부로부터 입력된 패스 전압 활성화 신호에 응답해서 상기 패스 전압을 출력하는 제 1 스위치; 상기 프로그램 전압의 레벨을 모니터링하고, 상기 모니터링 결과에 따라 프로그램 전압 활성화 신호를 발생하는 고전압 모니터링부; 그리고 상기 고전압 모니터링부로부터 발생된 상기 프로그램 전압 활성화 신호에 응답해서 상기 프로그램 전압을 상기 워드라인으로 출력하는 제 2 스위치를 포함하는 것을 특징으로 한다.The word line driver circuit may include: a first switch configured to output the pass voltage in response to a pass voltage activation signal input from the program controller; A high voltage monitoring unit for monitoring a level of the program voltage and generating a program voltage activation signal according to the monitoring result; And a second switch configured to output the program voltage to the word line in response to the program voltage activation signal generated from the high voltage monitoring unit.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 고전압 모니터링부는, 상기 모니터링 결과 상기 프로그램 전압이 상기 패스 전압 보다 낮으면, 상기 프로그램 전압 활성화 신호를 비활성화 시키는 것을 특징으로 한다.The high voltage monitoring unit may deactivate the program voltage activation signal when the program voltage is lower than the pass voltage as a result of the monitoring.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 고전압 모니터링부는, 상기 프로그램 전압 및 상기 패스 전압을 분압하는 분압부; 상기 분압 결과들의 크기를 비교하는 비교기; 상기 비교 결과를 근거로 하여 상기 프로그램 전압 인에이블 신호를 발생하는 제 1 신호 출력부; 그리고 상기 비교 결과를 근거로 하여 상기 패스 전압 인에이블 신호를 발생하는 제 2 신호 출력부를 포함하는 것을 특징으로 한다.In a preferred embodiment, the high voltage monitoring unit, a voltage divider for dividing the program voltage and the pass voltage; A comparator for comparing the magnitudes of the partial pressure results; A first signal output unit configured to generate the program voltage enable signal based on the comparison result; And a second signal output unit configured to generate the pass voltage enable signal based on the comparison result.
바람직한 실시예에 있어서, 상기 제 1 신호 출력부 및 상기 제 2 신호 출력부로부터 발생된 상기 프로그램 전압 인에이블 신호 및 상기 패스 전압 인에이블 신호는, 서로 상보적인 값을 가지는 것을 특징으로 한다. In a preferred embodiment, the program voltage enable signal and the pass voltage enable signal generated from the first signal output unit and the second signal output unit have complementary values.
(실시예)(Example)
이하 본 발명에 따른 실시예를 첨부된 도면을 참조하여 상세히 설명한다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.
본 발명의 신규한 플래시 메모리 장치 및 그것의 프로그램 방법에서는, 프로그램될 블록의 모든 워드라인들로 패스 전압(Vpass)을 인가하여 상기 워드라인들을 소정의 레벨로 프리챠지한 후, 프로그램될 셀의 워드라인으로 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 인가한다. 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은, 활성화 된 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_EN)가 입력될 때 곧바로 해당 워드라인으로 인가되지 않고, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 패스 전압(Vpass) 보다 높은 것으로 확인된 후에야, 비로소 선택된 워드라인으로 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 인가된다. 그 결과, 선택된 워드라인으로 인가되는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은 항상 패스 전압(Vpass) 보다 높은 값을 가지게 되어, 부스팅 효율을 높일 수 있고, 프로그램의 신뢰도를 높일 수 있게 된다.In the novel flash memory device and its programming method of the present invention, after precharging the word lines to a predetermined level by applying a pass voltage Vpass to all word lines of the block to be programmed, the word of the cell to be programmed. The program voltage Vpgm_ramp is applied to the line. The program voltage Vpgm_ramp is not applied to the corresponding word line immediately when the activated program voltage enable signal Vpgm_EN is input, and is not selected until the program voltage Vpgm_ramp is higher than the pass voltage Vpass. The program voltage Vpgm_ramp is applied to the word line. As a result, the program voltage Vpgm_ramp applied to the selected word line always has a higher value than the pass voltage Vpass, thereby increasing the boosting efficiency and increasing the program reliability.
도 3은 본 발명의 바람직한 실시예에 따른 플래시 메모리 장치(100)의 블록 도이다. 상기 플래시 메모리 장치(100)는 낸드형 플래시 메모리 장치로서, 도 3에는 플래시 메모리 장치(100)에 구비된 복수 개의 어레이 블록들 중 하나의 어레이 블록과, 이와 관련된 주변 회로들(특히, 프로그램에 관련된 주변회로들)만을 도시하였다.3 is a block diagram of a
도 3을 참조하면, 본 발명에 따른 플래시 메모리 장치(100)는, 메모리 셀 어레이(memory cell array ; 10), Y-게이트 회로(Y-gate circuit ; 20), 페이지 버퍼회로(page buffer circuit ; 30), Y-디코더(40), X-디코더(50), 워드라인 드라이브 회로(word line drive circuit ; 60), 고전압 램프회로(70), 고전압 발생회로(80) 및 프로그램 제어부(90)를 포함한다. Referring to FIG. 3, a
메모리 셀 어레이(10)는 복수 개의 메모리 블록들로 구성된다. 복수 개의 메모리 블록들에는 복수 개의 비트라인들(BL1-BLm)이 병렬로 배열된다. 각 메모리 블록에는, 상기 비트라인들(BL1-BLm)에 각각 대응되는 복수의 스트링들이 포함된다. 각 메모리 블록에 포함된 각 스트링의 구성은 도 4를 참조하여 상세히 설명될 것이다.The
페이지 버퍼회로(30)는 복수 개의 비트라인을 통해 메모리 셀 어레이(10)와 연결된다. 페이지 버퍼회로(30) 내에는 복수 개의 페이지 버퍼들이 포함된다. Y-게이트(20)와 Y-디코더(40)는, 외부로부터 입력된 Y-어드레스(Y_Add)에 응답해서 페이지 버퍼회로(30)에 포함된 복수 개의 버퍼들 중 일부를 선택한다. 선택된 페이지 버퍼에는 프로그램될 데이터가 저장된다. 상기 데이터(DQi)는 Y-게이트(20)를 통해 해당 페이지 버퍼로 전달된다.The
한편, 고전압 발생회로(80)는 트랜지스터들(미 도시됨)과 펌핑 커패시터(미 도시됨)로 구성된 고전압 펌핑 회로이다. 고전압 발생회로(80)는 프로그램 제어부(90)로부터 발생된 프로그램 활성화 신호(PGM_EN)에 응답해서 프로그램에 사용될 고전압(Vpgm)과, 패스 전압(Vpass)을 발생한다. 고전압 발생회로(80)로부터 발생된 고전압(Vpgm)은 고전압 램프 회로(70)로 인가되고, 패스 전압(Vpass)은 워드라인 드라이브 회로(60)로 인가된다. Meanwhile, the high
고전압 램프 회로(70)는 제어부(90)로부터 발생된 램프 활성화 신호(Ramp_EN)와, 고전압 발생회로(80)로부터 발생된 고전압(Vpgm)에 응답해서, 계단 형태로 순차적으로 증가된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 발생한다. 고전압 램프 회로(70)는, 예컨대 직렬로 연결된 복수 개의 다이오드를 이용하여 고전압(Vpgm)을 순차적으로 분배한다. 그 결과, 고전압 램프 회로(70)는 다이오드의 문턱 전압(Vth) 만큼씩 순차적으로 증가된 전압 레벨을 갖는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 발생할 수 있게 된다. 이와 같은 순차적인 고전압의 발생 기능을 램핑(ramping)이라 한다. 고전압 램프 회로(70)로부터 발생된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은, 워드라인 드라이브 회로(60)를 통해 프로그램될 셀의 워드라인으로 인가된다. The high
워드라인 드라이브 회로(60)는 고전압 램프 회로(70)로부터 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 받아들이고, 고전압 발생회로(80)로부터 패스 전압(Vpass)을 받아들여, 상기 전압들(Vpgm_ramp, Vpass)이 워드라인으로 인가될 수 있도록 스위칭한다. 워드라인 드라이브 회로(60) 내에는 고전압 모니터링 회로(65)가 포함되어 있어, 패스 전압(Vpass)과 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 레벨을 모니터링한다. 고전압 모 니터링 회로(65)는, 처음에는 프로그램 제어부(90)로부터 발생된 활성화 된 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_EN)에 응답해서 프로그램될 블록의 모든 워드라인들로 패스 전압(Vpass)이 인가되도록 한다. 그리고 나서, 고전압 램프 회로(70)로부터 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 발생되면, 곧바로 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 해당 워드라인으로 인가하지 않고, 상기 모니터링 결과를 근거로 하여 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 또는 패스 전압(Vpass)을 해당 워드라인으로 인가한다. 예를 들면, 프로그램 제어부(90)로부터 활성화 된 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_EN)가 입력되고, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 패스 전압(Vpass) 보다 높은 것으로 확인되면, 모니터링 회로(65)는 비로소 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 선택된 워드라인으로 인가되도록 제어한다. 그 결과, 선택된 워드라인으로 인가되는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은 항상 패스 전압(Vpass) 보다 높은 값을 가지게 되어, 부스팅 효율을 높일 수 있고, 프로그램의 신뢰도를 높일 수 있게 된다. 이와 같은 프로그램 전압의 인가 방법은 아래에서 상세히 설명될 것이다.The word
X-디코더(50)는, 외부로부터 입력된 X-어드레스(X_Add)에 응답해서 프로그램될 셀의 워드라인을 선택한다. 그리고, X-디코더(50)는 워드라인 드라이브 회로(60)로부터 전달된 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 또는 패스 전압(Vpass)을 선택된 워드라인에게 인가한다.The X-decoder 50 selects a word line of a cell to be programmed in response to an X-address X_Add input from the outside. The X-decoder 50 applies the program voltage Vpgm_ramp or the pass voltage Vpass transferred from the word
이와 같은 일련의 동작은 프로그램 제어부(90)의 제어에 의해 수행된다. 프로그램 제어부(90)는 외부로부터 입력된 프로그램 커맨드(PGM_CMD)와 어드레스 정보(X_Add, Y_Add)에 응답해서, 플래시 메모리장치(100)에 대한 프로그램 동작을 제 어한다. 프로그램 제어부(90)는 ISPP 프로그래밍 방식에 따라 각 프로그램 루프별 프로그램 전압(Target Vpgm)이 발생될 수 있도록, 고전압 발생회로(80)의 고전압 발생 동작을 제어한다. 그리고, 인접한 신호 라인들간의 커플링 현상을 방지하기 위해, 각 프로그램 루프별 프로그램 전압(Target Vpgm)의 라이징 슬롭을 제어한다. 이를 위해, 프로그램 제어부(90)는 고전압 램프 회로(70)의 램핑 동작을 제어한다. 고전압 램프 회로(70)는 프로그램 제어부(90)로부터 발생된 램핑 활성화 신호(Ramp_EN)에 응답해서 계단 형태로 증가하는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 발생한다.This series of operations is performed by the control of the
또한, 프로그램 제어부(90)는 프로그램시 동일한 워드라인에 연결되어 있는 메모리 셀들 중 원하지 않는 셀들이 프로그램되지 않도록 하기 위해서, 셀프-부스팅 스킴에 따라 워드라인에게 전압을 인가한다. 이를 위해, 프로그램 제어부(90)는 먼저 프로그램을 위해 선택된 블록의 모든 워드라인으로 패스 전압(Vpass)을 인가하여 상기 워드라인들을 프리챠지 시킨 후, 선택된 워드라인으로 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 인가되도록 한다. 선택된 워드라인으로 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 인가되는 시점은, 워드라인 드라이브 회로(60)의 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 모니터링 결과에 따라 결정된다. 프로그램될 메모리 셀 어레이의 구조를 살펴보면 다음과 같다.In addition, the
도 4는 도 3에 도시된 메모리 셀 어레이(10)의 회로도이다.4 is a circuit diagram of the
도 4를 참조하면, 메모리 셀 어레이(10)는 복수의 메모리 블록들로 구성된다. 각 메모리 블록에는 복수 개의 비트라인들(BL1-BLm)이 병렬로 배열된다. 또한, 각 메모리 블록에는 상기 복수 개의 비트라인들(BL1-BLm)에 각각 대응되는 복수의 스트링들이 포함된다. Referring to FIG. 4, the
도 4에 도시된 바와 같이, 각각의 스트링은 스트링 선택 트랜지스터(SST), 그라운드 선택 트랜지스터(GST), 그리고 상기 스트링 선택 트랜지스터(SST)의 소오스와 상기 그라운드 선택 트랜지스터(GST)의 드레인 사이에 직렬 연결된 복수 개의 플래시 EEPROM 셀 트랜지스터들(예를 들면, 16개의 플래시 EEPROM 셀 트랜지스터들(M15-M0))로 구성된다. 도 4에는 각각의 스트링이 16개의 플래시 EEPROM 셀 트랜지스터들(M15-M0)로 구성되는 경우가 도시되어 있으나, 이는 일 예에 불과하며, 스트링을 구성하는 플래시 EEPROM 셀 트랜지스터들의 개수는 조절 가능하다. As shown in FIG. 4, each string is connected in series between a string select transistor SST, a ground select transistor GST, and a source of the string select transistor SST and a drain of the ground select transistor GST. It is composed of a plurality of flash EEPROM cell transistors (eg, 16 flash EEPROM cell transistors M15-M0). 4 illustrates a case where each string is composed of 16 flash EEPROM cell transistors M15-M0, but this is only an example, and the number of flash EEPROM cell transistors constituting the string is adjustable.
각 스트링의 스트링 선택 트랜지스터(GST)의 드레인은, 대응하는 비트라인에 연결된다. 그리고, 각 스트링의 그라운드 선택 트랜지스터(GST)의 소오스는, 공통 소오스 라인(common source line; CSL)에 연결된다. 각 스트링 내의 스트링 선택 트랜지스터들(SST)의 게이트들은 스트링 선택 라인(SSL)에 공통으로 연결되고, 그라운드 선택 트랜지스터들(GST)의 게이트들은 그라운드 선택 라인(GSL)에 공통으로 연결된다. 각 스트링의 플래시 EEPROM 셀 트랜지스터들의 제어 게이트들은, 워드라인들(WL0-WL15) 중 대응하는 워드라인에 공통으로 연결된다. 각 비트라인(BL1-BLm)은 도 3에 도시된 페이지 버퍼 회로(30)에 포함된 해당 페이지 버퍼(미 도시됨)에 전기적으로 연결된다.The drain of the string select transistor GST of each string is connected to the corresponding bit line. The source of the ground select transistor GST of each string is connected to a common source line CSL. Gates of the string select transistors SST in each string are commonly connected to the string select line SSL, and gates of the ground select transistors GST are commonly connected to the ground select line GSL. The control gates of the flash EEPROM cell transistors of each string are commonly connected to the corresponding word line of the word lines WL0-WL15. Each bit line BL1-BLm is electrically connected to a corresponding page buffer (not shown) included in the
상기 그라운드 선택 라인(GSL), 상기 워드라인들(WL0-WL15), 및 상기 스트링 선택 라인(SSL)은, 대응하는 블럭 선택 트랜지스터들(BS0-BS17)을 통해 대응하는 선택 신호 라인들(GS, Si0-Si15, SS)에 각각 연결된다. 상기 블럭 선택 트랜지스터들(BS0-BS17)은 도 3의 X-디코더(50)에 포함되며, 블럭 선택 제어 신호(BS)에 의해서 공통으로 제어되도록 연결되어 있다. The ground select line GSL, the word lines WL0-WL15, and the string select line SSL may be connected to the corresponding select signal lines GS, through the corresponding block select transistors BS0-BS17. Si0-Si15, SS) respectively. The block select transistors BS0-BS17 are included in the X-decoder 50 of FIG. 3, and are connected to be commonly controlled by the block select control signal BS.
상기 선택 신호 라인들(GS, Si0-Si15, SS)은, 프로그램 동작이 수행될 때 각각 대응하는 선택 회로들(또는, 구동 회로들)에 의해서 요구되는 전압들로 구동된다. 여기서, 선택된 블럭 선택 제어 신호(BS)는, 선택 신호 라인들(Si0-Si15)을 통해 전달되는 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 또는 패스 전압(Vpass)이 해당 워드라인들(WL0-WL15)로 충분히 전달될 수 있도록, 고전압 레벨을 갖는다. 상기 신호 라인들(Si0-Si15)에게 워드라인(WL0-WL15)으로 전달되는 신호(즉, 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 또는 패스 전압(Vpass))를 출력하는 워드라인 드라이브 회로(60)의 구성은 다음과 같다. The selection signal lines GS, Si0-Si15, SS are driven at voltages required by corresponding selection circuits (or driving circuits), respectively, when a program operation is performed. Here, the selected block selection control signal BS may sufficiently transfer the program voltage Vpgm_ramp or the pass voltage Vpass transmitted through the selection signal lines Si0-Si15 to the corresponding word lines WL0-WL15. So that it has a high voltage level. The configuration of the word
도 5는 도 3에 도시된 워드라인 드라이브 회로(60)의 상세 블록도이다.FIG. 5 is a detailed block diagram of the
도 5를 참조하면, 워드라인 드라이브 회로(60)는 선택된 블록의 각 워드라인에 대응되는 선택 신호 라인들(Sii-Sij)로 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 또는 패스 전압(Vpass)을 선택적으로 인가하는 복수 개의 워드라인 드라이버들(60i-60j)을 포함한다. 각각의 워드라인 드라이버(60i-60j)는, 패스 전압(Vpass)의 출력을 제어하는 제 1 스위치(61i, 61j)와, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 출력을 제어하는 제 2 스위치(63i, 63j), 그리고 패스 전압(Vpass)과 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 모니터링하여, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 인가 시점을 제어하는 고전압 모니터링부(65i, 65j)를 포함한다. Referring to FIG. 5, the word
고전압 모니터링부(65i, 65j)는, 프로그램 제어부(90)로부터 활성화 된 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_ENi, Vpass_ENj)가 입력되면, 프로그램될 블록의 모든 워드라인들로 패스 전압(Vpass)이 인가될 수 있도록 제 1 스위치(61i, 61j)에게 활성화 된 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_ENi', Vpass_ENj')를 발생한다. When the pass voltage enable signals Vpass_ENi and Vpass_ENj are activated from the
그리고 나서, 고전압 램프 회로(70)로부터 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 발생되면, 제 1 및 제 2 분압회로(651, 652)를 통해 패스 전압(Vpass)과 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 각각 소정 레벨로 분압한다. 제 1 및 제 2 분압회로(651, 652)로부터 발생된 분압 결과(Vdvd_pgm, Vdvd_pass)는 비교기(653)로 입력된다. 비교기(653)는 상기 분압 결과(Vdvd_pgm, Vdvd_pass)를 비교하고, 하이 또는 로우 레벨의 비교 결과(Level_Detect)를 발생한다. 비교기(653)로부터 발생된 비교 결과(Level_Detect)는 제 1 및 제 2 신호 출력부(654, 657)로 입력된다. 제 1 및 제 2 신호 출력부(654, 657)는, 비교기(653)로부터 발생된 비교 결과(Level_Detect)에 응답해서, 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_ENi', Vpass_ENj')와 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_ENi', Vpgm_ENj')를 각각 발생한다. 이를 위해 제 1 및 제 2 신호 출력부(654, 657)는, NAND 게이트(655, 658)와, 인버터(656, 659)를 각각 포함한다. 제 1 신호 출력부(654)는, NAND 게이트(655)를 통해 상기 비교 결과(Level_Detect)와 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_EN)의 논리 NAND 연산을 수행한다. 그리고, 상기 논리 NAND 연산 결과는 인버터(656)를 통해 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_ENi', Vpass_ENj')로서 출력된다. 한편, 상기 NAND 게이트(655)의 출력 신호는, 제 2 신호 출력부(657)의 NAND 게이트(658)로 입력된다. 제 2 신호 출력부 (657)에 포함된 NAND 게이트(658)는, 제 1 신호 출력부(654)로부터 입력된 NAND 연산 결과와 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_EN)와의 논리 NAND 연산을 수행한다. 상기 논리 NAND 연산 결과는 제 2 신호 출력부(657)에 포함된 인버터(659)로 출력된다. 인버터(659)는, 상기 NAND 게이트(658)의 출력을 반전하여 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_ENi', Vpgm_ENj')로서 출력한다. 이 때, 제 1 및 제 2 신호 출력부(654, 657)를 통해 출력되는 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_ENi', Vpass_ENj') 및 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_ENi', Vpgm_ENj')는 서로 상보적인 값을 갖는다. Then, when the program voltage Vpgm_ramp is generated from the high
예를 들어, 프로그램 제어부(90)로부터 활성화 된 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_ENi)가 입력되었을 때, 상기 비교 결과 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 패스 전압(Vpass) 보다 낮은 것으로 확인되면, 모니터링 회로(65)는 활성화 된 패스 전압 인에이블 신호(Vpass_ENi')를 제 1 스위치(61i)로 출력한다. 그 결과, 활성화 된 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_EN)가 입력되었음에도 불구하고, 선택된 워드라인으로는 패스 전압(Vpass)이 인가된다. 그 결과, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 패스 전압(Vpass) 보다 낮아지게 되는 문제가 방지된다.For example, when the activated program voltage enable signal Vpgm_ENi is input from the
그리고, 프로그램 제어부(90)로부터 활성화 된 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_ENi)가 입력되었을 때, 상기 비교 결과 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 패스 전압(Vpass) 보다 높은 것으로 확인되면, 모니터링 회로(65)는 활성화 된 프로그램 전압 인에이블 신호(Vpgm_ENi')를 제 2 스위치(63i)로 출력한다. 그 결과, 선택된 워드라인으로 프로그램 전압(Vpgn_ramp)이 인가될 수 있게 된다. 이와 같은 프로그 램 전압의 인가 방법에 따르면, 선택된 워드라인으로 인가되는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은 항상 패스 전압(Vpass) 보다 높은 값을 가지게 되어, 부스팅 효율을 높일 수 있고, 프로그램의 신뢰도를 높일 수 있게 된다. When the activated program voltage enable signal Vpgm_ENi is input from the
이상에서, 본 발명에 따른 플래시 메모리 장치는, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)과 패스 전압(Vpass)을 각각 소정의 저항비로 분압하고, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 분압 결과와 패스 전압(Vpass)의 분압 결과를 비교하여, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 인가 시점을 제어하는 것으로 설명되었으나, 이는 일 예에 불과하며, 본 발명의 기술적 사상을 벗어나지 않는 범위 내에서 다양한 변화 및 변경이 가능함은 이 분야에 대한 통상의 지식을 가진 이들에 있어서 자명하다.In the above description, the flash memory device divides the program voltage Vpgm_ramp and the pass voltage Vpass into predetermined resistance ratios, respectively, and divides the divided voltage result of the program voltage Vpgm_ramp and the divided voltage result of the pass voltage Vpass. In comparison, it has been described as controlling the application time of the program voltage Vpgm_ramp, but this is only an example, and various changes and modifications can be made without departing from the technical spirit of the present invention. It is self-evident for those with.
예를 들면, 본 발명에 따른 플래시 메모리 장치는, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)과 패스 전압(Vpass) 자체의 레벨을 비교하여, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 인가 시점을 제어하도록 구성될 수 있다. 또는, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 레벨을 분압한 결과를 소정의 기준 전압과 비교하여, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 인가 시점을 제어하도록 구성될 수 있다.For example, the flash memory device according to the present invention may be configured to control the application timing of the program voltage Vpgm_ramp by comparing the level of the program voltage Vpgm_ramp and the pass voltage Vpass itself. Alternatively, the timing of applying the program voltage Vpgm_ramp may be controlled by comparing the result of dividing the level of the program voltage Vpgm_ramp with a predetermined reference voltage.
도 6은 본 발명에 따른 프로그램시의 각 제어 신호와 고전압의 타이밍도이다. 그리고, 도 7은 본 발명에 따른 프로그램시 워드라인으로 인가되는 전압의 변화를 보여주는 도면이다.6 is a timing diagram of each control signal and a high voltage during programming according to the present invention. 7 is a view showing a change in voltage applied to a word line during programming according to the present invention.
도 6 및 도 7을 참조하면, 먼저 활성화된 패스전압 인에이블 신호(Vpass_EN)에 응답해서 프로그램될 블록의 모든 워드라인들에게 패스 전압(Vpass)이 인가된다. 소정 구간 동안 제공된 패스 전압(Vpass)에 의해, 선택된 블록의 모든 워드라 인이 프리챠지 되고 나면, 고전압 램프 회로(70)는 제어부(90)로부터 발생된 램프 활성화 신호(Ramp_EN<0>-Ramp_EN<4>)에 응답해서, 램핑된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 단계적으로 발생하게 된다. 이 때 발생된 상기 램핑된 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은, 워드라인 드라이브 회로(60)에 구비되어 있는 고전압 모니터링부(65)에 의해 모니터링된다. 모니터링 결과, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 레벨이 패스 전압(Vpass) 보다 낮은 것으로 판단되면, 비록 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 인가될 타이밍이라 하더라도, 워드라인 드라이브 회로(60)는 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 대신 패스 전압(Vpass)을 선택된 워드라인으로 인가한다. 그리고, 모니터링 결과, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 레벨이 패스 전압(Vpass) 보다 높은 것으로 판단되면, 그제서야 워드라인 드라이브 회로(60)는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)을 선택된 워드라인으로 인가한다. 도 6에서 알 수 있는 바와 같이, 패스 전압(Vpass)은 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 인가되는 도중에도 항상 일정 레벨을 유지하고 있다. 따라서, 프로그램 전압(Vpgm_ramp)이 인가되는 도중에라도, 어떠한 이유에 의해서 프로그램 전압(Vpgm_ramp)의 레벨이 일정 레벨 이하로 낮아지게 되면, 낮아진 프로그램 전압(Vpgm_ramp) 대신 패스 전압(Vpass)을 선택된 워드라인으로 인가하게 된다. 그 결과, 선택된 워드라인으로 인가되는 프로그램 전압(Vpgm_ramp)은 항상 일정 레벨 이상의 값을 가지게 되어, 부스팅 효율을 높일 수 있고, 프로그램의 신뢰도를 높일 수 있게 된다.6 and 7, a pass voltage Vpass is applied to all word lines of a block to be programmed in response to an activated pass voltage enable signal Vpass_EN. After all the word lines of the selected block are precharged by the pass voltage Vpass provided during the predetermined period, the high
이상에서와 같이 도면과 명세서에서 최적 실시예가 개시되었다. 여기서 특정한 용어들이 사용되었으나, 이는 단지 본 발명을 설명하기 위한 목적에서 사용된 것이지 의미한정이나 특허청구범위에 기재된 본 발명의 범위를 제한하기 위하여 사용된 것은 아니다. 그러므로 본 기술 분야의 통상의 지식을 가진 자라면 이로부터 다양한 변형 및 균등한 타 실시예가 가능하다는 점을 이해할 것이다. 따라서, 본 발명의 진정한 기술적 보호 범위는 첨부된 특허청구범위의 기술적 사상에 의해 정해져야 할 것이다.As described above, optimal embodiments have been disclosed in the drawings and the specification. Although specific terms have been used herein, they are used only for the purpose of describing the present invention and are not intended to limit the scope of the invention as defined in the claims or the claims. Therefore, those skilled in the art will understand that various modifications and equivalent other embodiments are possible from this. Therefore, the true technical protection scope of the present invention will be defined by the technical spirit of the appended claims.
이상과 같은 본 발명에 의하면, 선택된 워드라인으로 인가되는 프로그램 전압은 항상 일정 레벨 이상의 값을 가지게 되어, 부스팅 효율을 높일 수 있고, 프로그램의 신뢰도를 높일 수 있게 된다.According to the present invention as described above, the program voltage applied to the selected word line always has a value of a predetermined level or more, so that the boosting efficiency can be increased and the reliability of the program can be increased.
Claims (13)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040099956A KR100591772B1 (en) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | Flash memory device and method for supplying program voltage thereof |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR1020040099956A KR100591772B1 (en) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | Flash memory device and method for supplying program voltage thereof |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR20060061088A true KR20060061088A (en) | 2006-06-07 |
KR100591772B1 KR100591772B1 (en) | 2006-06-26 |
Family
ID=37157679
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1020040099956A KR100591772B1 (en) | 2004-12-01 | 2004-12-01 | Flash memory device and method for supplying program voltage thereof |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
KR (1) | KR100591772B1 (en) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100967010B1 (en) * | 2007-07-30 | 2010-06-30 | 주식회사 하이닉스반도체 | Non volatile memory device and program method thereof |
US7800950B2 (en) | 2006-08-10 | 2010-09-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory devices and methods using selective self-boost programming operations |
KR20120130588A (en) * | 2011-05-23 | 2012-12-03 | 삼성전자주식회사 | Flash memory device and program method thereof |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102307063B1 (en) | 2017-06-26 | 2021-10-01 | 삼성전자주식회사 | Memory device |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100207452B1 (en) * | 1995-12-19 | 1999-07-15 | 윤종용 | The programming method of nand type eeprom |
JP3829088B2 (en) * | 2001-03-29 | 2006-10-04 | 株式会社東芝 | Semiconductor memory device |
-
2004
- 2004-12-01 KR KR1020040099956A patent/KR100591772B1/en not_active IP Right Cessation
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US7800950B2 (en) | 2006-08-10 | 2010-09-21 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Memory devices and methods using selective self-boost programming operations |
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KR20120130588A (en) * | 2011-05-23 | 2012-12-03 | 삼성전자주식회사 | Flash memory device and program method thereof |
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Publication number | Publication date |
---|---|
KR100591772B1 (en) | 2006-06-26 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A201 | Request for examination | ||
E701 | Decision to grant or registration of patent right | ||
GRNT | Written decision to grant | ||
FPAY | Annual fee payment |
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