KR20060051227A - Bonding apparatus - Google Patents

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KR20060051227A
KR20060051227A KR1020050084939A KR20050084939A KR20060051227A KR 20060051227 A KR20060051227 A KR 20060051227A KR 1020050084939 A KR1020050084939 A KR 1020050084939A KR 20050084939 A KR20050084939 A KR 20050084939A KR 20060051227 A KR20060051227 A KR 20060051227A
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고헤이 세야마
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가부시키가이샤 신가와
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Abstract

본딩 장치에 있어서, 본딩에서의 위치 어긋남을 보다 적게 하는 것이다. Bonding apparatus WHEREIN: It makes position shift in bonding less.

제2카메라(28)에 대하여 제1카메라(26)가 +Xc 어긋나고, 본딩 툴(12)이 높이(Z1)로부터 높이(Z2)까지 이동할 때에 +Xn 벗어날 때는, 위치 결정에 있어서 △X=(Xn-Xc)을 보정하면 된다. 본딩 장치의 보정 포지션에 있어서 기판높이(Z1)에 타겟(32)을 설치하고, 그 하방으로 보정용 카메라(30)를 설치한다. 보정용 카메라(30)로부터 본 타겟(32)의 위치인 제1위치 편차(X1), 제2카메라(28)로부터 본 타겟(32)의 위치인 제2위치 편차(X2), 제1카메라(26)로부터 본 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 위치인 제3위치 편차(X3), 보정용 카메라(30)로부터 본 높이(Z1)에 있어서의 칩(10d)의 위치인 제4위치 편차(X4)에 근거해서, 보정량(△X)을 구할 수 있다. ΔX in positioning when the first camera 26 shifts + Xc with respect to the second camera 28 and the bonding tool 12 deviates by + Xn when the bonding tool 12 moves from the height Z 1 to the height Z 2 . It is enough to correct = (Xn-Xc). In the calibration position of the bonding device to install the target 32 to the substrate height (Z 1), and installing the correction camera 30 in the downward direction. First position deviation X 1 , which is the position of the target 32 as viewed from the camera 30 for correction, Second position deviation X 2 , which is the position of the target 32 as viewed from the second camera 28, and the first camera the location of chip (10u) in the height (Z 2) from 26 3 position deviations (X 3), location of the chip (10d) in the height (Z 1) from the calibration camera 30 Based on the fourth position deviation X 4 , the correction amount ΔX can be obtained.

본딩 장치, 본딩 툴, 측정용 부재, 카메라, 기판, 본딩 작업면, 타겟, 촬상 데이터, 촬상 기준위치, 산출수단, 측정수단 Bonding apparatus, bonding tool, measuring member, camera, substrate, bonding working surface, target, imaging data, imaging reference position, calculating means, measuring means

Description

본딩 장치{BONDING APPARATUS}Bonding Device {BONDING APPARATUS}

도 1은 본 발명의 원리를 설명하는 도면이다. 1 is a diagram illustrating the principle of the present invention.

도 2는 본 발명에 따른 실시형태에 있어서의 본딩 장치의 구성도이다. It is a block diagram of the bonding apparatus in embodiment which concerns on this invention.

도 3은 상하 카메라의 내부 구성을 도시하는 도면이다. 3 is a diagram illustrating an internal configuration of a vertical camera.

도 4는 타겟의 평면도이다. 4 is a plan view of the target.

도 5는 본 발명에 따른 실시형태에 있어서의 본딩 장치의 평면 배치를 모식적으로 도시하는 도면이다. It is a figure which shows typically the planar arrangement of the bonding apparatus in embodiment which concerns on this invention.

도 6은 본 발명에 따른 실시형태에 있어서의 본딩 장치의 측면배치를 모식적으로 도시하는 도면이다. It is a figure which shows typically the side arrangement of the bonding apparatus in embodiment which concerns on this invention.

도 7은 본 발명에 따른 실시형태에 있어서 제1위치 편차로부터 제3위치 편차를 구할 때의 측면배치도이다. FIG. 7 is a side arrangement diagram when a third position deviation is obtained from the first position deviation in the embodiment according to the present invention. FIG.

도 8은 본 발명에 따른 실시형태에 있어서 제1위치 편차를 구할 때의 촬상 데이터의 모양을 도시하는 도면이다. FIG. 8 is a diagram showing a state of the captured image data when the first positional deviation is obtained in the embodiment according to the present invention. FIG.

도 9는 본 발명에 따른 실시형태에 있어서 제2위치 편차를 구할 때의 촬상 데이터의 모양을 도시하는 도면이다. FIG. 9 is a diagram showing the shape of captured image data when the second positional deviation is obtained in the embodiment according to the present invention. FIG.

도 10은 본 발명에 따른 실시형태에 있어서 제3위치 편차를 구할 때의 촬상 데이터의 모양을 도시하는 도면이다. It is a figure which shows the shape of the imaging data at the time of obtaining the 3rd positional deviation in embodiment which concerns on this invention.

도 11은 본 발명에 따른 실시형태에 있어서 제4위치 편차를 구할 때의 측면배치도이다. Fig. 11 is a side elevation view when the fourth positional deviation is obtained in the embodiment according to the present invention.

도 12는 본 발명에 따른 실시형태에 있어서 제4위치 편차를 구할 때의 촬상 데이터의 형상을 도시하는 도면이다. It is a figure which shows the shape of the imaging data at the time of obtaining 4th positional deviation in embodiment which concerns on this invention.

도 13은 본 발명에 따른 실시형태에 있어서 보정량△(X,Y)의 처리를 행해서 위치 결정할 때의 촬상 데이터의 형상을 도시하는 도면이다. It is a figure which shows the shape of the imaging data at the time of positioning by performing correction amount (DELTA) (X, Y) in embodiment which concerns on this invention.

도 14는 2개의 카메라의 광축이 벗어나지 않고 있을 때의 칩과 기판과의 위치 결정의 방법을 도시하는 도면이다. FIG. 14 is a diagram illustrating a method of positioning a chip and a substrate when the optical axes of the two cameras do not deviate. FIG.

도 15는 2개의 카메라의 광축이 벗어났을 때의 칩과 기판과의 위치 결정의 방법을 도시하는 도면이다. FIG. 15 is a diagram illustrating a method of positioning a chip and a substrate when the optical axes of two cameras deviate. FIG.

도 16은 2개의 카메라의 광축이 벗어나지 않고 있지만, 본딩 툴의 이동에 의한 어긋남이 일어날 때의 칩과 기판과의 위치 결정의 방법을 도시하는 도면이다. 16 is a diagram illustrating a method of positioning a chip and a substrate when the optical axes of the two cameras do not deviate but a shift due to the movement of the bonding tool occurs.

(부호의 설명)(Explanation of the sign)

10, 10u, 10d 칩 12, 12u, 12d 본딩 툴 10, 10u, 10d chip 12, 12u, 12d bonding tool

14 기판 16 캐리어 14 boards 16 carriers

20,60 상하 카메라 22, 24, 31 광축 20,60 vertical camera 22, 24, 31 optical axis

26 제1카메라 28 제2카메라26 First Camera 28 Second Camera

30 보정용 카메라 32, 33 타겟 30 Calibration camera 32, 33 target

50 본딩 장치 52 공급 스테이션50 bonding devices 52 supply stations

54 타겟 이동기구 62,64 반사경54 Target Shifter 62,64 Reflector

66 양면 반사경 90 픽업 포지션 66 Duplex Reflector 90 Pickup Position

92 위치 결정·본딩 포지션 94 보정 포지션92 Positioning and Bonding Position 94 Correction Position

96 퇴피 포지션 100 제어 장치부 96 evacuation position 100 control unit

102 CPU 104 입력부 102 CPU 104 Input

106 출력부 108 기억 장치 106 Output 108 Memory

110 본딩 툴 제어부 112 보정용 카메라 제어부 110 Bonding tool control unit 112 Camera control unit for correction

114 타겟 제어부 116 상하 카메라 제어부 114 Target control unit 116 Up and down camera control unit

120 위치 어긋남 보정부 122 위치 결정부 120 Position shifter 122 Positioner

124 본딩 처리부 130 제1위치 편차측정 모듈 124 Bonding Process 130 First Position Deviation Measuring Module

132 제2위치 편차측정 모듈 134 제3위치 편차측정 모듈 132 2nd position deviation measuring module 134 3rd position deviation measuring module

136 제4위치 편차측정 모듈 138 위치 어긋남 산출 모듈 136 4th position deviation measuring module 138 Position shift calculation module

150, 156, 162 촬상 데이터 152, 158, 164 십자 패턴 154, 160 타겟의 패턴 166u, 168d 기준 패턴 150, 156, 162 Imaging Data 152, 158, 164 Cross Pattern 154, 160 Target Pattern 166u, 168d Reference Pattern

본 발명은, 본딩 장치에 관한 것이고, 특히, 본딩 툴의 위치와 기판의 위치의 위치 결정 기구를 갖는 본딩 장치에 관한 것이다. TECHNICAL FIELD This invention relates to a bonding apparatus. Specifically, It is related with the bonding apparatus which has the positioning mechanism of the position of a bonding tool, and the position of a board | substrate.

LSI 등의 칩의 본딩 패드와 기판의 본딩 리드를 접속하는 실장(實裝) 방법으로서, 와이어 본딩 외에 페이스 다운 본딩이 행하여진다. 페이스 다운 본딩은, 칩 의 이면측을 본딩 툴에서 보유하고, 보유된 칩의 표면측, 즉 전극 패드가 배열되는 측의 면과, 기판의 배선면을 대향하고, 칩의 전극 패드의 위치와 기판의 본딩 리드의 위치를 위치 결정하고, 열에너지 또는 초음파 에너지를 사용해서 접속하는 방법이다. 페이스 다운 본딩 장치로서, 플립 칩 본딩이나 C0F(Chip 0n Film) 본딩 등을 사용할 수 있다. As a mounting method for connecting a bonding pad of a chip such as an LSI and a bonding lead of a substrate, face down bonding is performed in addition to wire bonding. The face down bonding holds the back side of the chip in the bonding tool, and faces the surface side of the held chip, that is, the side on which the electrode pad is arranged, and the wiring surface of the substrate, and the position of the electrode pad of the chip and the substrate. Is a method of positioning the bonding lead and connecting using thermal energy or ultrasonic energy. As the face down bonding apparatus, flip chip bonding, C0F (Chip 0n Film) bonding, or the like can be used.

페이스 다운 본딩에 있어서의 위치 결정에는, 서로 마주 보는 칩의 표면의 전극 패드와 기판표면의 본딩 리드를 관찰하는 것이 필요하기 때문에, 칩의 위치측정용의 카메라와 기판의 위치측정용의 카메라를 사용할 수 있다. 예를 들면, 기판의 윗쪽에서 본딩 툴을 하강시켜서 칩을 실장할 경우에는, 기판 위치측정용 카메라로서 윗쪽에서 아래쪽을 관찰하는 하향 카메라를 사용하고, 칩 위치측정용 카메라로서는 아래쪽에서 윗쪽을 관찰하는 상향 카메라를 사용한다. In the face down bonding, it is necessary to observe the electrode pads on the surface of the chip and the bonding leads on the surface of the substrate facing each other. Therefore, a camera for positioning the chip and a camera for positioning the substrate can be used. Can be. For example, when mounting a chip by lowering a bonding tool from the upper side of a board | substrate, as a board | substrate position measuring camera, the downward camera which observes the upper side from the top is used, and the chip position measuring camera which observes the upper side from the lower side. Use an upward camera.

2 개의 카메라에 관한 배치방법의 하나는, 하향 카메라를 기판의 높이 위치보다 윗쪽에 설치하고, 이것과는 별도로 상향 카메라를 기판의 높이 위치보다 하방에 설치할 수 있다. 또, 특허문헌1에는, 2개의 반사면을 갖는 프리즘형 미러를 사용하고, 광선을 프리즘형 미러의 상방과 하방으로 나누어서, 칩 표면과 기판표면을 동시에 관찰할 수 있는 광학장치가 개시되어 있다. 이 경우에는, 칩과 기판과의 사이에 이 광학장치를 삽입배치해서, 칩과 기판을 동시에 관찰할 수 있다. 이러한 카메라는, 프로브 카메라라고 불린다. One of the arrangement methods regarding two cameras can provide a downward camera above a height position of a board | substrate, and can separate an upward camera below a height position of a board | substrate separately from this. In addition, Patent Document 1 discloses an optical device that can simultaneously observe a chip surface and a substrate surface by using a prism mirror having two reflective surfaces, dividing the light beams into upper and lower portions of the prism mirror. In this case, the optical device is inserted between the chip and the substrate so that the chip and the substrate can be simultaneously observed. Such a camera is called a probe camera.

어느 방법을 하더라도, 상기의 예로 하면, 칩을 관찰하는 광축은 상향이며, 기판을 관찰하는 광축은 하향이며, 별도의 광축이므로, 이들의 광축이 벗어나면, 위치 결정에 영향을 미치고, 본딩에 있어서의 위치 어긋남의 원인이 된다. 광축의 어긋남은, 예를 들면 본딩 작업에 있어서의 온도상승 등의 영향이나, 시간경과에 따른 변화에 의해 광학계 등의 설정이 어긋나는 것에 의해 생긴다. 이하에, 광축의 어긋남이 본딩에 있어서의 위치 어긋남에 어떻게 영향을 미치게 할지를 설명한다. In either case, in the above example, the optical axis for observing the chip is upward, and the optical axis for observing the substrate is downward, and is a separate optical axis. Therefore, when these optical axes deviate, it affects positioning and in bonding. This may cause misalignment of the. The deviation of the optical axis is caused by, for example, the setting of the optical system or the like being shifted due to the influence of a temperature rise or the like in the bonding operation or a change with time. The following describes how the deviation of the optical axis affects the positional deviation in bonding.

최초에, 광축이 벗어나지 않고 있을 때의 일반적인 칩과 기판과의 위치 결정의 방법을 도 14에 도시한다. 설명을 단순히 하기 위해서, 도면에 도시하는 X방향의 위치 결정만을 생각한다. 칩(10)은 본딩 툴(12)에 보유되고, 기판(14)은 캐리어(16)에 보유된다. 본딩 툴(12) 및 캐리어(16)는, 각각 도시되지않은 구동장치에 의해 X방향의 임의의 위치로 이동가능하다. 칩(10)과 기판(14)을 관찰하는 상하 카메라(20)는, 칩(10)과 기판(14)의 사이에 배치되고, 상향의 광축(22)을 갖는 제1카메라(26)에 의해 칩(10)의 위치를, 하향의 광축(24)을 갖는 제2카메라(28)에 의해 기판(14)의 위치를 측정할 수 있다. 또한, 위치 또는 위치 사이의 거리의 측정 시에는 각 카메라의 배율을 고려할 필요가 있지만, 이하에서는, 특히 한정하지 않는 한, 카메라에 의해 측정되는 위치 사이의 거리를 실제의 거리, 즉 물체면 위의 거리로 환산해서 설명을 진행시키는 것으로 한다. First, a method of positioning a general chip and a substrate when the optical axis is not deviating is shown in FIG. For simplicity of explanation, only the positioning in the X direction shown in the figure is considered. The chip 10 is held in the bonding tool 12 and the substrate 14 is held in the carrier 16. The bonding tool 12 and the carrier 16 are each movable to an arbitrary position in the X direction by a driving device not shown. The up-and-down camera 20 which observes the chip 10 and the board | substrate 14 is arrange | positioned between the chip | tip 10 and the board | substrate 14, by the 1st camera 26 which has an upward optical axis 22. The position of the chip | tip 10 can measure the position of the board | substrate 14 with the 2nd camera 28 which has the optical axis 24 of the downward direction. In addition, although it is necessary to consider the magnification of each camera at the time of measuring a position or the distance between positions, in the following, unless otherwise indicated, the distance between the positions measured by a camera is an actual distance, ie, on an object plane. The explanation will be made in terms of distance.

도 14는, 상향의 광축(22)과 하향의 광축(24)이 정확하게 축 맞춤되어 있는 경우이다. 이 경우에는, 제1카메라(26)의 시야의 중심과 제2카메라(28)의 시야의 중심이 일치하고 있으므로, 그 위치에 각각 칩(10)의 기준위치와 기판(14)의 기준위치를 맞추면 된다. 본딩을 위한 기준위치로서는, 칩(10)의 전극 패드의 에지 위 치와, 그것에 대응하는 기판(14)의 본딩 리드의 에지 위치 등을 선택할 수 있다. 도 14에 있어서, 가령, 상향의 광축(22)을 제1카메라(26)의 시야의 중심위치를 나타내는 것으로 하고, 하향의 광축(24)을 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 것으로 한다. 그 상태에서 칩(10)과 기판(14)의 위치를 측정한 바, 도 14의 파선으로 도시하는 바와 같이 어긋났다. 이 경우에는, 우선 기판(14)의 기준위치가 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 하향의 광축(24)에 일치할 때까지 캐리어(16)를 이동한다. 그리고, 칩(10)의 기준위치가 제1카메라(26)의 시야의 중심을 나타내는 상향의 광축(22)에 일치할 때까지 본딩 툴(12)을 이동한다. 이렇게 해서 칩(10)과 기판(14)이 위치 결정되고, 다른 원인이 없으면, 본딩에 있어서의 위치 어긋남은 일어나지 않는다. 14 is a case where the upward optical axis 22 and the downward optical axis 24 are exactly aligned. In this case, since the center of the field of view of the first camera 26 and the center of the field of view of the second camera 28 coincide with each other, the reference position of the chip 10 and the reference position of the substrate 14 are respectively positioned at the positions. That's right. As a reference position for bonding, the edge position of the electrode pad of the chip 10, the edge position of the bonding lead of the board | substrate 14 corresponding to it, etc. can be selected. In FIG. 14, for example, the upward optical axis 22 indicates the center position of the visual field of the first camera 26, and the downward optical axis 24 indicates the center of the visual field of the second camera 28. do. When the position of the chip | tip 10 and the board | substrate 14 was measured in that state, it shifted as shown by the broken line of FIG. In this case, the carrier 16 is first moved until the reference position of the substrate 14 coincides with the downward optical axis 24 representing the center of the field of view of the second camera 28. The bonding tool 12 is moved until the reference position of the chip 10 coincides with the upward optical axis 22 representing the center of the field of view of the first camera 26. In this way, the chip | tip 10 and the board | substrate 14 are positioned, and if there is no other cause, the position shift in bonding will not occur.

어떠한 원인으로, 제1카메라(26)의 시야의 중심을 나타내는 상향의 광축(22)과 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 상향의 광축(24)이 어긋나면, 도 14의 방법에서는 불충분이다. 즉, 기판(14)의 기준위치를 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 하향의 광축(24)에 일치시키고, 더욱이, 칩(10)의 기준위치가 제1카메라(26)의 시야의 중심을 나타내는 상향의 광축(22)에 일치시켰다고 해도, 칩(10)은 원하는 기판(14)의 위치에 본딩되지 않는다. 도 15는, 광축(24)을 기준에 광축(22)이 +Xc 벗어났을 경우에 대해서, 기판(14)의 기준위치를 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 하향의 광축(24)에 일치시킨 상태를 도시하는 도면이다. 칩(10)이 파선의 상태의 위치에 있다고 해서, 이것을 제1카메라(26)의 시야의 중심을 나타내는 상향의 광축(22)에 일치시켜도, 그 광축(22)은 광축(24)에 대하여 +Xc 벗 어나고 있으므로, 그것에 맞춘 칩(10)의 기준위치는, 기판(14)의 기준위치에 대하여 +Xc 어긋나 버린다. If for some reason, the upward optical axis 22 representing the center of the visual field of the first camera 26 and the upward optical axis 24 representing the center of the visual field of the second camera 28 are shifted, the method of FIG. Insufficient That is, the reference position of the substrate 14 coincides with the downward optical axis 24 representing the center of the field of view of the second camera 28, and further, the reference position of the chip 10 is the field of view of the first camera 26. Even if coincident with the upward optical axis 22 representing the center of the chip 10, the chip 10 is not bonded to the desired substrate 14 position. 15 shows a downward optical axis 24 showing the center of the field of view of the second camera 28 as a reference position of the substrate 14 with respect to the case where the optical axis 22 deviates from + Xc with respect to the optical axis 24. It is a figure which shows the state matched to. Even if the chip 10 is in the position of the broken line, even if it coincides with the upward optical axis 22 representing the center of the field of view of the first camera 26, the optical axis 22 is + relative to the optical axis 24. Since Xc is peeled off, the reference position of the chip 10 fitted thereto is shifted by + Xc with respect to the reference position of the substrate 14.

따라서 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 일으키지않고, 정확한 위치에 본딩을 행하기 위해서는, 어떠한 방법으로 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 광축(24)을 기준으로 하는 제1카메라(26)의 시야의 중심을 나타내는 광축(22)의 어긋난 양(+Xc)을 측정하는 것이 필요하다. 그리고 측정된 어긋난 양(+Xc)에 근거해서, 칩(10)의 기준위치를 제1카메라(26)의 시야의 중심을 기준으로서 -Xc만 보정한 위치에 맞춤으로써 2 카메라 사이에서 광축의 어긋남이 있어도 정확한 본딩을 행할 수 있다. Therefore, in order to bond to the correct position without causing a misalignment in the bonding, the first camera 26 based on the optical axis 24 representing the center of the field of view of the second camera 28 in some way is used. It is necessary to measure the shifted amount (+ Xc) of the optical axis 22 representing the center of the field of view. Based on the measured shift amount (+ Xc), the optical axis shifts between the two cameras by adjusting the reference position of the chip 10 to a position where only -Xc is corrected based on the center of the field of view of the first camera 26. Even in this case, accurate bonding can be performed.

제1카메라와 제2카메라의 어긋난 양의 측정방법으로서, 특허문헌2에는, 높이가 다른 2개의 표면 또는 기준표면에 각각 기준 마크를 배치하고, 미리 이 높이의 다른 2개의 기준 마크의 사이에 있어서의 위치관계를 조정해서 정렬시키고, 이것을 기준으로 하는 방법이 개시되어 있다. 즉, 칩 표면과 기판표면을 동시에 관찰할 수 있는 광학장치를 이 미리 위치관계를 정렬시킨 2개의 기준 마크의 사이에 삽입하고, 제1카메라와 제2카메라의 어긋난 양을 측정한다. As a measuring method of the shift | offset | difference amount of a 1st camera and a 2nd camera, patent document 2 arrange | positions a reference mark on two surfaces or reference surfaces from which height differs, respectively, beforehand between two other reference marks of this height Disclosed is a method of adjusting and aligning the positional relationship of and aligning the positional relationship. That is, an optical device capable of observing the chip surface and the substrate surface at the same time is inserted between two reference marks in which the positional relationship is arranged in advance, and the amount of deviation between the first camera and the second camera is measured.

또, 특허문헌3에는, 광축이 서로 마주 보는 방향을 갖는 제1인식 카메라와 제2인식 카메라를 갖는 반도체 위치맞춤 장치에 있어서, 제1인식 카메라의 높이와 제2인식 카메라의 높이의 사이에 설치된 타겟을 기준으로서, 2개의 인식 카메라에 있어서의 기준위치의 변화를 검출하는 방법이 개시되어 있다. 즉, 타겟을 끼워서 제1인식 카메라와 제2인식 카메라를 동축상에 위치할 수 있게 이들을 상대적으로 이동시켜, 타겟을 기준으로서 제1인식 카메라와 제2인식 카메라의 기준위치를 측정하여 기억한다. 다음에 통상의 본딩 작업을 행하고, 그 후 다시 전번의 기준위치측정과 같은 측정을 행하고, 그 측정위치가 기억된 기준위치로부터 변화되고 있는지를 봄으로써 2개의 인식 카메라에 있어서의 기준위치의 변화를 검출할 수 있다. In addition, Patent Literature 3 discloses a semiconductor positioning device having a first recognition camera and a second recognition camera having directions in which optical axes face each other, wherein the height of the first recognition camera and the height of the second recognition camera are provided. A method of detecting a change in a reference position in two recognition cameras as a target is disclosed. That is, the first recognition camera and the second recognition camera are moved relatively so that the first recognition camera and the second recognition camera can be coaxially positioned, and the reference positions of the first recognition camera and the second recognition camera are measured and stored with respect to the target. Then, the normal bonding operation is performed, and then the same measurement as the previous reference position measurement is performed again, and the change of the reference position in the two recognition cameras is checked by checking whether the measured position is changed from the stored reference position. Can be detected.

(특허문헌1) 일본 특개2001-176934호 공보(Patent Document 1) Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2001-176934

(특허문헌2) 일본 특공평6-28272호 공보(Patent Document 2) Japanese Unexamined Patent Publication No. 6-28272

(특허문헌3) 일본 특허 제2780000호(Patent Document 3) Japanese Patent No. 2780000

칩이나 기판 에 대한 다핀화 및 세밀화의 경향이 진전됨에 따라, 페이스 다운 본딩 장치에 있어서, 기판 위로 칩을 보다 고정밀도로 배치하는 것이 요구되어 왔다. 기판 위로 칩을 보다 고정밀도로 배치하기 위해서는, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 하는 것이 필요하다. 따라서, 상기한 바와 같이 2 카메라 사이의 어긋남을 더 정확하게 검출하는 것이 필요하다. As the trend of multipinning and miniaturization of chips and substrates has advanced, it has been required for face down bonding devices to place chips more precisely on substrates. In order to more accurately arrange the chip on the substrate, it is necessary to reduce the positional shift in the bonding. Thus, as described above, it is necessary to more accurately detect the deviation between the two cameras.

2 카메라 사이의 어긋남을 검출하는 종래기술의 방법 중, 특허문헌2의 방법은, 2개의 타겟이 필요하고, 더욱이 이들 타겟간의 위치관계의 조정정렬 작업을 요하고, 구성이 복잡해서 작업에 시간을 요한다. In the prior art method of detecting the deviation between two cameras, the method of Patent Document 2 requires two targets, and further requires adjustment and alignment of the positional relationship between these targets, and the configuration is complicated, so that the work takes time. It costs.

또, 특허문헌3의 방법은, 정확한 어긋남 검출을 행하기 위해서 인식 카메라의 초점맞춤 위치가 제약된다. 즉, 이 방법에 있어서는, 타겟을 인식할 때에, 제1인식 카메라의 초점맞춤 위치도 제2인식 카메라의 초점맞춤 위치도 타겟 위에 있는 것이 필요한 외에, 본딩시의 위치 결정에 있어서는 칩을 인식하는 카메라의 초점맞 춤 위치는 칩 위로, 기판을 인식하는 카메라의 초점맞춤 위치는 기판 위에 있는 것이 필요하다. Moreover, in the method of patent document 3, the focusing position of a recognition camera is restrict | limited in order to perform an accurate shift detection. That is, in this method, when recognizing a target, the focusing position of the first recognition camera and the focusing position of the second recognition camera are also required to be on the target, and the camera which recognizes the chip in positioning at the time of bonding. The focusing position of is on the chip, and the focusing position of the camera that recognizes the substrate needs to be on the substrate.

또한 타겟을 사용함으로써 기준위치를 설치할 수 있지만, 타겟 자신의 위치가, 예를 들면 본딩 작업에 있어서의 온도상승 등의 영향이나, 시간경과에 따른 변화에 의해 벗어날 수 있고, 경우에 따라서는 충분한 위치기준이 되지 않는다. In addition, although a reference position can be provided by using a target, the position of the target itself can be deviated by the influence of temperature rise, etc. in a bonding operation, or the change with time, and in some cases sufficient position It is not a standard.

거기에 더하고, 본딩 작업시에, 본딩 툴이 위치 결정 높이로부터 기판상의 본딩 높이까지 광축에 평행하게 이동하지 않을 때는, 본딩에 있어서의 위치 어긋남이 생긴다. 이것에 의하고, 가령, 제1카메라의 광축과 제2카메라의 광축의 어긋난 양(+Xc)을 정확하게 측정할 수 있어서 그 보정을 행해도, 기판 위로 칩을 정확하게 배치하는 것이 가능하지 않은 경우가 있다. 그 형상을 도 16에 도시한다. In addition, in the bonding operation, when the bonding tool does not move parallel to the optical axis from the positioning height to the bonding height on the substrate, positional shift in bonding occurs. Based on this, for example, the amount of deviation (+ Xc) between the optical axis of the first camera and the optical axis of the second camera can be accurately measured, and even if the correction is performed, it may not be possible to accurately place the chip on the substrate. . The shape is shown in FIG.

도 16에 있어서, 상향의 광축(22)과 하향의 광축(24)이 정확하게 축 맞춤되어 있다. 이 경우에, 본딩 툴(12)이, 기판상의 높이로부터 제1카메라(26)의 초점맞춤 위치의 높이까지 광축(22)과 평행하게 이동하면, 도 14에서 설명한 것 같이, 제2카메라(28)의 시야의 중심으로 기판(14)의 기준위치를 맞추고, 이어서 제1카메라(26)의 시야의 중심으로 칩(10)의 기준위치와 기판(14)의 기준위치를 맞추면 된다. 지금, 본딩 툴(12)이 기판상의 높이로부터 제1카메라(26)의 초점맞춤 위치의 높이까지 이동하는 사이에, 그 위치가 +Xn 벗어난다. 이 때, 기판(14)의 기준위치를 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 하향의 광축(24)에 일치시키고, 더욱이 칩(10)의 기준위치가 제1카메라(26)의 시야의 중심을 나타내는 상향의 광축(22)에 일치시켜도, 칩(10)은 원하는 기판(14)의 위치가 아니라, 기판(14) 위에서 -Xn 의 위치에 본딩되어버려, 본딩에 있어서의 위치 어긋남이 일어난다. In FIG. 16, the upward optical axis 22 and the downward optical axis 24 are accurately aligned. In this case, if the bonding tool 12 is moved in parallel with the optical axis 22 from the height on the substrate to the height of the focusing position of the first camera 26, the second camera 28 will be described with reference to FIG. 14. The reference position of the substrate 14 is aligned to the center of the field of view, and then the reference position of the chip 10 and the reference position of the substrate 14 are aligned to the center of the field of view of the first camera 26. Now, while the bonding tool 12 moves from the height on a board | substrate to the height of the focusing position of the 1st camera 26, the position is out of + Xn. At this time, the reference position of the substrate 14 coincides with the downward optical axis 24 representing the center of the field of view of the second camera 28, and the reference position of the chip 10 corresponds to the field of view of the first camera 26. Even if coincident with the upward optical axis 22 representing the center of the chip 10, the chip 10 is bonded at the position of -Xn on the substrate 14 instead of the desired position of the substrate 14, whereby the position shift in bonding is caused. Happens.

따라서 기판(14) 위의 정확한 위치에 칩(10)을 배치하기 위해서는, 어떠한 방법에서 본딩 툴(12)의 이동에 의한 어긋난 양, 즉, 기판상의 높이에 있어서의 위치를 기준으로서, 제1카메라(26)의 초점맞춤 위치의 높이까지 이동하는 사이에 벗어나는 양(+Xn)을 측정하는 것이 필요하다. 그리고 어긋난 양(+Xn)이 측정되면, 기판(14) 위에서 -Xn의 위치에 본딩되지 않도록, 칩(10)의 기준위치를 제1카메라(26)의 시야의 중심을 기준으로서 +Xn만 보정한 위치에 맞추는 것으로, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 억제하고, 기판(14) 위의 정확한 위치에 칩(10)을 배치할 수 있다. Therefore, in order to arrange the chip 10 at the correct position on the substrate 14, the first camera is based on the shifted amount of the bonding tool 12, that is, the position on the height of the substrate, in some way. It is necessary to measure the amount of deviation (+ Xn) between moving to the height of the focusing position of (26). When the amount of deviation (+ Xn) is measured, only the reference position of the chip 10 is corrected by reference to the center of the field of view of the first camera 26 so that the reference position of the chip 10 is not bonded to the position of -Xn on the substrate 14. By adjusting to one position, the position shift in bonding can be suppressed and the chip | tip 10 can be arrange | positioned in the exact position on the board | substrate 14.

특허문헌1 및 특허문헌2의 방법에서는, 본딩 툴의 이동에 의한 어긋난 양을 알 수 없다. 그러나, 일반적으로는, 시험 본딩을 행함으로써 어긋난 양(+Xn)을 측정할 수 있다. 즉, 어긋난 양(+Xn)을 알지 못해도, 기판(14)의 기준위치를 제2카메라(28)의 시야의 중심을 나타내는 하향의 광축(24)에 일치시키고, 더욱이 칩(10)의 기준위치가 제1카메라(26)의 시야의 중심을 나타내는 상향의 광축(22)에 일치시켜서 본딩을 행하면, 상기한 바와 같이, 기판(14) 위에서 칩(10)은 -Xn 벗어난다. 따라서 시험 본딩에 의해 검출되는 어긋난 양의 부호를 반전하면, 본딩 툴의 이동에 의한 어긋난 양(+Xn)을 구할 수 있다. In the method of patent document 1 and patent document 2, the shift | offset | difference amount by the movement of a bonding tool is unknown. However, in general, the amount of deviation (+ Xn) can be measured by performing test bonding. In other words, even if the shifted amount (+ Xn) is not known, the reference position of the substrate 14 is matched with the downward optical axis 24 representing the center of the field of view of the second camera 28, and further, the reference position of the chip 10. When bonding is performed by coinciding with the upward optical axis 22 representing the center of the field of view of the first camera 26, as described above, the chip 10 deviates by -Xn from the substrate 14. Therefore, if the sign of the shifted amount detected by the test bonding is reversed, the shifted amount (+ Xn) due to the movement of the bonding tool can be obtained.

그러나, 시험 본딩에 의해 측정할 수 있는 것은, 칩의 이면측의 외형과 기판과의 사이의 어긋난 양이며, 칩의 전극 패드와 기판의 본딩 리드의 사이의 어긋난 양을 정확하게 측정할 수는 없다. 또한 본딩 작업중에 시험 본딩을 행하기 위해서 는 기판 및 칩을 낭비할 가능성이 있어서, 오프라인에서 시험 본딩을 행하는 것은 효율이 좋지 않다. However, what can be measured by test bonding is the amount of the shift between the external shape on the back side of the chip and the substrate, and the amount of the shift between the electrode pad of the chip and the bonding lead of the substrate cannot be accurately measured. In addition, in order to perform test bonding during the bonding operation, there is a possibility of waste of the substrate and the chip, and it is not efficient to carry out the test bonding offline.

이렇게, 종래 기술에 있어서는, 2 카메라 사이의 어긋난 양을 측정하기 위해서는 위치기준에 사용하는 타겟을 포함하는 장치의 구성에 제약이 있고, 또, 본딩 툴의 이동에 의한 어긋난 양을 정확하게 측정할 수 없다. 따라서, 본딩에 있어서의 칩과 기판의 위치 결정시에, 이들의 어긋난 양을 보다 정확하게 보정하는 것이 곤란하고, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 없다. 또, 타겟의 위치의 시간경과에 따른 변화에 의해 충분한 정밀도로 어긋난 양을 검출할 수 없다. Thus, in the prior art, in order to measure the amount of deviation between two cameras, there is a limitation in the configuration of the apparatus including the target used for the position reference, and the amount of deviation due to the movement of the bonding tool cannot be measured accurately. . Therefore, at the time of positioning of the chip and the substrate in bonding, it is difficult to correct these misaligned amounts more accurately, and the positional deviation in the bonding cannot be made smaller. In addition, it is not possible to detect an amount that is shifted with sufficient precision due to a change over time of the position of the target.

본 발명의 목적은, 이러한 종래 기술의 과제를 해결하고, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 있는 본딩 장치를 제공하는 것이다. 다른 목적은, 본딩에 있어서의 칩과 기판의 위치 결정시에, 위치 결정용의 2 카메라 사이의 어긋난 양과 함께 본딩 툴의 이동의 어긋난 양도 보정할 수 있는 본딩 장치를 제공하는 것이다. 또, 다른 목적은, 어긋난 양의 보정에 있어서, 타겟위치의 시간경과에 따른 변화의 영향을 억제할 수 있는 본딩 장치를 제공하는 것이다. SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to solve the problems of the prior art and to provide a bonding apparatus which can reduce the positional shift in bonding. Another object is to provide a bonding apparatus capable of correcting a shifted amount of movement of a bonding tool together with a shifted amount between two cameras for positioning at the time of positioning a chip and a substrate in bonding. Another object is to provide a bonding apparatus capable of suppressing the influence of the change caused by the passage of time of the target position in correcting the shifted amount.

(본 발명의 원리)(Principle of the present invention)

이하에, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 있는 본 발명의 원리, 특히, 본딩에 있어서의 칩과 기판의 위치 결정시에, 위치 결정용의 2 카메라 사이의 어긋난 양과 함께 본딩 툴의 이동의 어긋난 양도 보정할 수 있는 원리를 설명한다. 여기에서는, 도 14 내지 도 16에서 설명한 바와 마찬가지로, 1차원 방향, 즉 X방향의 위치 결정에 관하여 설명하지만, 1차원의 벡터를 2차원의 벡터로 바꾸어서, 2차원의 위치 결정으로 확장하는 것은 용이하다. 또, 도 14 내지 도 16과 마찬가지로, 위치 또는 위치 사이의 거리의 측정시에 각 카메라의 배율을 고려할 필요가 있지만, 이하에 있어서도, 특히 한정하지 않는 한, 카메라에 의해 측정되는 위치 사이의 거리를 실제의 거리, 즉 물체면 위의 거리로 환산해서 설명을 진행하는 것으로 한다. In the following, the principle of the present invention which can reduce the positional shift in the bonding, in particular, in the positioning of the chip and the substrate in the bonding, the shift of the bonding tool together with the shifted amount between the two cameras for positioning Explain the principle of correcting misalignment. Here, as described with reference to Figs. 14 to 16, the positioning in the one-dimensional direction, that is, the X-direction is explained. However, it is easy to expand the two-dimensional positioning into a two-dimensional vector by changing the one-dimensional vector into a two-dimensional vector. Do. 14 to 16, it is necessary to consider the magnification of each camera when measuring the position or the distance between the positions, but the distance between the positions measured by the cameras is also defined below unless otherwise specified. The description will be made in terms of the actual distance, that is, the distance on the object plane.

최초에, 위치 결정용의 2 카메라 사이의 어긋난 양과 함께 본딩 툴의 이동의 어긋난 양이 존재할 경우에 있어서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 없애기 위해서, 칩과 기판의 위치 결정에 대해서 보정해야 할 보정량(△X)을 밝힌다. 각 요소의 배치, 어긋난 양 및 보정량에 대해서 도 14 내지 도 16과 같은 좌표계와 기호를 사용하면, 상기한 바와 같이, 2 카메라의 어긋난 양(+Xc)에 대한 보정량은 -Xc이며, 본딩 툴의 이동에 의한 어긋난 양(+Xn)에 대한 보정량은 +Xn이다. 그리고, 이 2개가 함께 존재할 때는, 도 15에 더 +Xn의 본딩 툴의 이동에 의한 어긋남이 일어난 경우에도, 도 16에 더 +Xc의 광축 어긋남이 일어났을 경우에도 같은 결론으로 되는 것에서도 이해할 수 있고, 그 경우의 보정해야 할 보정량은,(-Xc+Xn)이다. 따라서, 위치 결정용의 2 카메라 사이의 어긋난 양과 함께 본딩 툴의 이동의 어긋난 양이 존재할 경우에 있어서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 없애기 위해서 필요한 위치 결정에 대한 보정량(△X)은, 다음의 식(1)에서 주어진다. Initially, in the case where there is a shift amount of the movement of the bonding tool together with the shift amount between the two cameras for positioning, in order to eliminate the shift in the bonding, the amount of correction to be corrected for the positioning of the chip and the substrate ( ΔX). Using the coordinate system and symbols as shown in Figs. 14 to 16 for the arrangement, the shifted amount and the correction amount of each element, as described above, the correction amount for the shifted amount (+ Xc) of the two cameras is -Xc. The correction amount for the shifted amount (+ Xn) due to the shift is + Xn. And when these two exist together, even if the shift | offset | difference by the movement of the + Xn bonding tool in FIG. 15 arises, even if the optical axis shift | offset of + Xc occurs in FIG. In this case, the correction amount to be corrected is (-Xc + Xn). Therefore, when there exists an amount of shift | offset | difference of the movement of a bonding tool with the amount of shift | offset between two cameras for positioning, the correction amount ((DELTA) X) for positioning required in order to eliminate the position shift in bonding is a following formula. Is given in (1).

△X= -Xc+Xn...(1)ΔX = -Xc + Xn ... (1)

본 발명에 따른 본딩 장치는, 기판과 본딩 툴에 보유된 칩의 위치 결정을 행 하는 기능에 더해서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하기 위한 보정량(△X)을 구하는 보정기능을 갖는다. 즉, 위치 결정 및 본딩을 행하는 위치 결정·본딩 포지션과 달리, 보정량(△X)을 구하기 위한 보정 포지션이 설정된다. 보정 포지션에는, 보정용의 위치기준인 타겟과, 보정용 카메라가 설치되고, 칩의 위치를 측정하는 제1카메라와, 기판의 위치를 측정하는 제2카메라와, 칩를 보유하는 본딩 툴은, 보정 포지션으로 이동가능하다. The bonding apparatus according to the present invention has a correction function for obtaining a correction amount ΔX for correcting the positional shift in bonding in addition to the function of positioning the chip held in the substrate and the bonding tool. In other words, unlike the positioning and bonding positions for positioning and bonding, a correction position for obtaining the correction amount ΔX is set. In the correction position, a target that is a position reference for correction, a correction camera is provided, a first camera for measuring the position of the chip, a second camera for measuring the position of the substrate, and a bonding tool for holding the chip in the correction position. It is movable.

도 1은, 보정 포지션에 있어서의 각 요소의 위치관계를 도시하는 도면이다. 도 14 내지 도 16과 공통인 요소에는 동일한 부호를 붙였다. 좌표계는, 본딩이 이루어지는 본딩 면에 평행한 면을 XY면이라고 하고, 본딩 툴(12)이 상하방향으로 이동하는 방향을 XY면에 수직한 Z방향으로 해서, X축과 Z축을 나타낸다. Z축방향의 높이(Z1과 Z2)는 각각, 위치 결정·본딩 포지션에 있어서의 기판의 높이와 본딩 툴에 보유되는 칩의 높이다. 또한, 위치 결정·본딩 포지션에 있어서 위치 결정을 행할 때는 상하 카메라(20)가 그 포지션으로 이동하고, 제1카메라(26)의 초점맞춤 위치는 본딩 툴에 보유되는 칩의 면 위로, 즉 Z2의 높이에 설정되고, 제2카메라(28)의 초점맞춤 위치는 기판의 면 위로, 즉 Z1의 높이에 설정된다. 1 is a diagram illustrating the positional relationship of each element in the correction position. Elements common to Figs. 14 to 16 are given the same reference numerals. In the coordinate system, the plane parallel to the bonding surface on which the bonding is made is referred to as the XY plane, and the X-axis and the Z-axis are represented by a direction in which the bonding tool 12 moves in the vertical direction as a Z direction perpendicular to the XY plane. The heights Z 1 and Z 2 in the Z-axis direction are the heights of the substrates in the positioning and bonding positions and the heights of the chips held in the bonding tool, respectively. In addition, when performing positioning in the positioning and bonding position, the upper and lower cameras 20 move to the position, and the focusing position of the first camera 26 is on the surface of the chip held in the bonding tool, that is, Z 2. And the focusing position of the second camera 28 is set above the surface of the substrate, that is, at the height of Z 1 .

도 1에 나타나 있는 바와 같이, 보정 포지션이 있는 소정위치에, 보정용 카메라(30)와 보정용의 위치기준인 타겟(32)이 배치된다. 타겟(32)은, 높이(Z1)의 위치, 즉 기판(14)의 본딩 높이와 같은 높이의 위치에 설치된다. 보정용 카메라(30)는 타겟(32)을 관찰할 수 있고, 타겟(32)을 초점맞춤 위치로서 타겟(32)의 하방에 서 상향으로 배치된다. As shown in FIG. 1, the correction camera 30 and the target 32 which are the positional standards for correction | amendment are arrange | positioned in the predetermined position with a correction position. The target 32 is provided at the position of the height Z 1 , ie, at the same height as the bonding height of the substrate 14. The camera 30 for correction can observe the target 32, and is arrange | positioned upward from the target 32 below the target 32 as a focusing position.

또한, 도 1에 있어서, 타겟(32)은, 수평면, 즉 XY면 내에 길이방향 축을 갖는 기준 핀을 사용하고, 그 선단을 보정용의 위치기준으로 하지만, 보정용의 위치기준으로서는, 보정용 카메라(30) 및 제2카메라(28)의 쌍방으로부터 위치기준을 촬상할 수 있는 것이면 된다. In addition, in FIG. 1, although the target 32 uses the reference pin which has a longitudinal axis in a horizontal plane, ie, an XY plane, and makes the front end into the position reference for correction, the correction camera 30 is used as a position reference for correction. And the position reference can be picked up from both of the second cameras 28.

다음에, 보정량(△X)을 구하기 위한 각 요소의 동작과 그 때의 X축상의 위치관계를 설명한다. 최초에 본딩 툴(12)을 도시되지않은 위치 결정·본딩 포지션으로부터 소정거리 이동해서 보정 포지션에 옮기고, 더욱 윗쪽으로 끌어 올린다. Next, the operation of each element for obtaining the correction amount [Delta] X and the positional relationship on the X axis at that time will be described. Initially, the bonding tool 12 is moved to a correction position by moving a predetermined distance from a positioning / bonding position (not shown), and is pulled upwards further.

그 때의 본딩 툴(12u)에 보유된 칩(10u)의 높이를 제1카메라(26)의 초점맞춤 위치의 높이(Z2)로 한다. 또한, 첨자u는, 높이(Z2)에 있는 것을 나타내고, 후술의 높이(Z1)에 있을 때에는 첨자d를 첨부해서 구별하기 위해서다. 그 상태에서, 제1카메라(26)와 제2카메라(28)를 1조로서 도시되지 않은 위치 결정·본딩 포지션으로부터 소정거리 이동해서 보정 포지션에 옮기고, 제2카메라(28) 및 보정용 카메라(30)로 타겟(32)을 촬상하고, 제1카메라(26)에서 본딩 툴(12u)에 보유된 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)을 촬상한다. The height of the chip 10u held in the bonding tool 12u at that time is taken as the height Z 2 of the focusing position of the first camera 26. Further, the subscript u is, indicates that the height (Z 2), when in the height (Z 1) which will be described later wihaeseoda to identify and attach a subscript d. In this state, the first camera 26 and the second camera 28 are moved a predetermined distance from a positioning / bonding position (not shown) as one set to be moved to the correction position, and the second camera 28 and the camera 30 for correction are as follows. ) Target 32 is imaged, and chip 10u at height Z 2 held in bonding tool 12u by first camera 26 is imaged.

다음에, 각 요소의 위치관계를 계산하기 위해서, 좌표계는 도 1에 나타나 있는 바와 같이 지면의 오른쪽방향을 +X방향으로 하고, 각 요소의 위치는, 각 카메라의 촬상 중심을 기준으로서 고려한다. 도 1에는, 이하에 설명하는 X1, X2, X3, X4, Xc, Xn을 벡터로서, 그 정방향을 화살표 방향으로 도시한다. 여기에서, 제2카메라 (28)의 촬상 중심을 나타내는 광축(24)의 위치를 Xb라고 하고, 이것을 기준에 각 요소의 X축상의 위치관계를 나타내는 것으로 한다. 지금, X2를 광축(24)의 위치(Xb)로부터 본 타겟(32)의 선단위치까지의 거리라고 하면, 타겟(32)의 선단위치는, Xb+X2이다. X2는 제2카메라(28)의 촬상 데이터로부터 구할 수 있다. Next, in order to calculate the positional relationship of each element, as shown in FIG. In Fig. 1, the X 1, X 2, X 3 , X 4, Xc, Xn will be described below as a vector, there is shown that the forward direction of the arrow. Here, let the position of the optical axis 24 which shows the imaging center of the 2nd camera 28 be Xb , and let this represent the positional relationship on the X-axis of each element with reference. If X 2 is the distance from the position X b of the optical axis 24 to the tip position of the target 32, the line unit value of the target 32 is X b + X 2 . X 2 can be obtained from the imaging data of the second camera 28.

또, X1을 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 나타내는 광축(31)로부터 본 타겟(32)의 선단위치까지의 거리라고 하면, 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 나타내는 광축(31)의 위치는, Xb+X2-X1이다. X1의 부호가 마이너스가 되는 것은, 도 1의 예에서 벡터X1의 정방향의 방향이 -X방향이기 때문이다. X3는 보정용 카메라(30)의 촬상 데이터로부터 구할 수 있다. If X 1 is the distance from the optical axis 31 indicating the imaging center of the correction camera 30 to the tip position of the target 32, the position of the optical axis 31 indicating the imaging center of the correction camera 30 will be described. Is X b + X 2 -X 1 . The sign of X 1 becomes negative because, in the example of FIG. 1, the positive direction of the vector X 1 is the -X direction. X 3 can be obtained from the imaging data of the camera 30 for correction.

또, Xc를 제2카메라(28)의 촬상 중심을 나타내는 광축(24)으로부터 본 제1카메라(26)의 촬상 중심을 나타내는 광축(22)까지의 거리라고 하면, 제1카메라(26)의 촬상 중심을 나타내는 광축(22)의 위치는, Xb+Xc이다. 그리고, X3를 제1카메라(26)의 촬상 중심을 나타내는 상향의 광축(22)으로부터 본 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 기준위치까지의 거리라고 하면, 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 기준위치는, Xb+Xc+X3이다. X3는 제1카메라(26)의 촬상 데이터로부터 구할 수 있다. Moreover, supposing Xc is the distance from the optical axis 24 which shows the imaging center of the 2nd camera 28 to the optical axis 22 which shows the imaging center of the 1st camera 26, imaging of the 1st camera 26 is carried out. the position of the optical axis 22 represents the center is a, X b + X c. Then, when the X 3 as distance to the reference position of the chip (10u) in the height (Z 2) from the optical axis 22 of the upstream showing an imaging center of the first camera 26 and a height (Z 2) The reference position of the chip 10u in X is X b + X c + X 3 . X 3 can be obtained from the imaging data of the first camera 26.

다음에, 필요하다면 제1카메라(26)와 제2카메라(28) 및 타겟(32)을 적당히 퇴피시킨 후에, 본딩 툴(12)을 내리고, 기판(14)의 높이(Z1)와 같은 높이에 본딩 툴 (12d)에 보유된 칩(10d)의 높이를 가져 온다. 이 때 본딩 툴(12)의 Z축방향의 이동에 의한 위치 어긋남(Xn)이 생기지만, 그 상태에서, 본딩 툴(12d)에 보유된 칩(10d)을 보정용 카메라(30)로 촬상한다. X4를 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 나타내는 광축(31)으로부터 본 높이(Z1)에 있어서의 칩(10d)의 기준위치까지의 거리라고 하면, 높이(Z1)에 있어서의 칩(10d)의 기준위치는, Xb+X2-X1+X4이다. X4는 보정용 카메라(30)의 촬상 데이터로부터 구할 수 있다. Next, if necessary, the first camera 26, the second camera 28, and the target 32 are properly retracted, and then the bonding tool 12 is lowered to have a height equal to the height Z 1 of the substrate 14. The height of the chip 10d held in the bonding tool 12d is taken. At this time, the position shift Xn occurs due to the movement in the Z-axis direction of the bonding tool 12, but in this state, the chip 10d held in the bonding tool 12d is imaged by the correction camera 30. Chip in the X 4 in the calibration camera (30) when said distance to the reference position of the chip (10d) in the height (Z 1) from the optical axis 31 represents the image pickup center, the height (Z 1) of the ( The reference position of 10d) is X b + X 2 -X 1 + X 4 . X 4 can be obtained from the imaging data of the camera 30 for correction.

여기에서, 본딩 툴(12)의 이동에 의한 위치 어긋남(Xn)을, 높이(Z1)에 있어서의 칩(10d)의 기준위치(Xb+X2-X1+X4)로부터 본 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 기준위치까지의 거리라고 하면, 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 기준위치는, Xb+X2-X1+X4+Xn이다. Here, the height shifted position Xn by the movement of the bonding tool 12 was seen from the reference position X b + X 2 -X 1 + X 4 of the chip 10d at the height Z 1 . Suppose the distance to the reference position of the chip 10u in (Z 2 ), the reference position of the chip 10u in the height (Z 2 ) is X b + X 2 -X 1 + X 4 + Xn to be.

조금전에 제1카메라(26)에 의해 얻어진 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 기준위치는, Xb+Xc+X3이므로, 이것을 Xb+X2-X1+X4+Xn과 같고,Since the reference position of the chip 10u at the height Z 2 obtained by the first camera 26 is X b + X c + X 3 , this is X b + X 2- X 1 + X 4 + Same as Xn,

Xb+Xc+X3=Xb+X2-X1+X4+Xn 이 되고, 더욱이, Xc=X2-X1+X4+Xn-X3 가 된다. X b + X c + X 3 = X b + X 2 -X 1 + X 4 + Xn and, moreover, Xc = X 2 -X 1 + X 4 + Xn-X 3 Becomes

여기에서, 보정량(△X)=-Xc+Xn을 도입하면, 식(2)가 된다. Here, when the correction amount ΔX = -Xc + Xn is introduced, equation (2) is obtained.

-Xc+Xn=△X=X3-(X2-X1+X4)...(2)-Xc + Xn = △ X = X 3- (X 2 -X 1 + X 4 ) ... (2)

식(2)의 우변의 성분인 X3, X2, X1, X4는, 각각 촬상 데이터로부터 요청되는 위치 어긋난 양이므로, 보정량(△X)=-Xc+Xn은, 각 촬상 데이터에 기초하여 구할 수 있다. 이렇게, 본 발명의 구성에 의하면, 2 카메라의 어긋난 양(+Xc)과 본딩 툴의 이동에 의한 어긋난 양(+Xn)을 독립하여 측정하지 않아도, 4개의 위치 어긋난 양의 측정으로부터, 필요한 보정량(△X)을 구할 수 있다. Since X 3 , X 2 , X 1 , and X 4 , which are components on the right side of the formula (2), are positions shift amounts requested from the imaging data, respectively, the correction amount (ΔX) =-Xc + Xn is based on the respective imaging data. Can be obtained by Thus, according to the structure of this invention, although the amount of shift | deviation (+ Xc) of two cameras and the amount of shift | deviation (+ Xn) by the movement of a bonding tool are not measured independently, the required correction amount ( ΔX) can be obtained.

또, X3, X2, X1, X4은, 1개의 위치기준과, 본딩 툴(12)상의 기준위치를 사용함으로써 각각의 카메라의 촬상 데이터로부터 구할 수 있다. 따라서, 종래 기술과 같이, 미리 위치관계를 조정 정렬된 2개의 타겟을 사용할 필요도 없고, 또는 타겟에 대한 제1카메라 및 제2카메라의 초점맞춤 위치에 대한 제약도 없다.Further, X 3, X 2, X 1, X 4 is, by using the reference position on the one reference position, and the bonding tool 12 can be calculated from the image data of each camera. Therefore, as in the prior art, there is no need to use two targets in which the alignment relationship is adjusted in advance, or there is no restriction on the focusing positions of the first camera and the second camera with respect to the target.

또, 상기한 바와 같은 구성의 타겟(32)을 사용함으로써, 어긋난 양의 보정에 있어서, 타겟 위치의 시간경과에 따른 변화의 영향을 억제할 수 있다. 즉, 제1에, 타겟(32)의 선단위치의 측정은, 보정 포지션에 있어서 보정용 카메라(30) 및 제2카메라(28)에 의해 행하여지지만, 이것은 같은 타겟(32)의 선단위치를 상하방향으로부터 촬상하는 것으로 처리할 수 있으므로, 대략 동시에 실행할 수 있다. 이외에 타겟(32)의 측정은 필요없으므로, 타겟(32)의 위치는, 이 2개의 촬상처리의 사이에서 대부분 변화되지 않고, 따라서, 타겟(32)의 위치에 있어서의 시간경과에 따른 변화의 영향을 억제할 수 있다. Moreover, by using the target 32 of the above-mentioned structure, in the correction of the shift | offset | difference amount, the influence of the change with the passage of time of a target position can be suppressed. That is, first, the measurement of the tip position of the target 32 is performed by the correction camera 30 and the second camera 28 in the correction position, but this is the line unit value of the same target 32 in the vertical direction. Image processing can be performed by imaging from the camera, so that the processing can be performed at substantially the same time. In addition, since the measurement of the target 32 is not necessary, the position of the target 32 does not change mostly between these two imaging processes, and accordingly, the influence of the change with the passage of time in the position of the target 32 is determined. Can be suppressed.

또, 제2에, 타겟(32)의 선단위치의 촬상처리가 끝나면, 타겟(32)의 선단위치가 구해지고, 이 계산값을 보존해서 이후의 위치 어긋남 산출에 사용하므로, 타겟(32)은 적당한 위치에 퇴피해도 관계없다. 즉, 본딩 작업의 온도의 영향 등을 받 지 않는 곳에 타겟(32)을 퇴피시키고, 타겟(32)의 선단위치의 재현 정밀도에 영향을 미치게 하지 않도록 할 수 있다. Secondly, when the imaging process of the tip position of the target 32 is completed, the tip position of the target 32 is obtained, and the calculated value is stored and used for the subsequent misalignment calculation. You may evacuate to a suitable position. That is, the target 32 can be retracted out of the place which is not affected by the temperature of the bonding operation, and the like can be prevented from affecting the reproduction accuracy of the tip position of the target 32.

또한, X1의 측정에 있어서, 본딩 툴의 높이 위치를 기판(14)의 높이 위치(Z1)로 하지 않아도, 촬상 데이터로부터 X3, X2, X1, X4가 구해져서 식(2)을 계산할 수 있다. 상기한 바와 같이, X3, X2, X1, X4를 구할 때에, 종래 기술과 같은 장치상의 제약이 없으므로, 이 경우에도 식(2)의 계산값에 기초하여 위치 결정의 보정을 행하면, 종래에 비해서 더 정확하게 보정을 행할 수 있고, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 억제할 수 있다. In addition, in the measurement of X 1 , even if the height position of the bonding tool is not set to the height position Z 1 of the substrate 14, X 3 , X 2 , X 1 , and X 4 are obtained from the imaging data and the equation (2) is obtained. ) Can be calculated. As described above, when X 3 , X 2 , X 1 , and X 4 are obtained, there are no restrictions on the apparatus as in the prior art. Correction can be performed more accurately than in the prior art, and positional shift in bonding can be suppressed more.

다만, 본딩 툴의 높이 위치를 기판(14)의 높이 위치(Z1)로 하지 않을 경우에는, 본딩 툴의 상하방향의 이동에 의한 어긋남에 따르는 보정이 충분하지 않은 것이 있어서, 더 바람직하게는 시험 본딩을 병용하는 것이 된다. 예를 들면 식(2)에서 요청된 보정량에 기초하여 위치 결정을 보정하고, 더욱이 이 보정을 행한 상태에서 시험 본딩을 행하고, 이 보정 후에 있어서의 본딩 툴의 상하방향의 이동에 의한 어긋남에 따르는 보정량을 별도로 구한다. 이렇게 시험 본딩을 병용하는 것으로, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 더욱 억제할 수 있다. However, when the height position of the bonding tool is not set to the height position Z 1 of the substrate 14, there are not enough corrections due to the shift due to the vertical movement of the bonding tool, more preferably a test. Bonding is used together. For example, the positioning is corrected based on the correction amount requested in equation (2), and furthermore, test bonding is performed in the state where the correction is made, and the correction amount due to the shift caused by the vertical movement of the bonding tool after the correction. Obtain separately. By using test bonding together in this way, position shift in bonding can be further suppressed.

(과제 해결수단)(Solution Solution)

본 발명에 관한 본딩 장치는, 본딩 툴 또는 본딩 툴에 보유된 본딩 대상물 또는 본딩 툴에 보유된 측정용 부재의 적어도 1개를 본딩 툴에 관한 대상물로서, 본딩 툴에 관한 대상물의 위치를 측정하는 제1카메라와 기판의 위치를 측정하는 제 2카메라를 포함하는 위치 결정 기구를 갖추고, 위치 결정 기구에 의해, 본딩 툴에 보유된 본딩 대상물을 본딩 작업면에 배치된 기판의 결정된 위치에 위치 결정해서 본딩을 행하는 본딩 장치에 있어서, 위치 결정 기구는, 더욱이, 위치기준을 갖고 양측으로부터 관찰가능한 타겟과, 타겟의 일방측에 미리 정해진 위치관계로 배치되는 보정용 카메라와, 보정용 카메라에 의해, 타겟을 촬상하고, 촬상 데이터에서 타겟의 위치기준과 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제1위치 편차를 구하는 제1측정수단과, 미리 정해진 위치관계에서 제2카메라를 타겟의 타방측에 배치하고, 제2카메라에 의해 타겟을 촬상하고, 촬상 데이터에서 타겟의 위치기준과 제2카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제2위치 편차를 구하는 제2측정수단과, 미리 정해진 위치관계에서 제1카메라를 본딩 툴에 관한 대상물에 대향하고, 제1카메라에 의해 본딩 툴에 관한 대상물을 촬상하고, 촬상 데이터에서 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 제1카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제3위치 편차를 구하는 제3측정수단과, 미리 정해진 위치관계에서 본딩 툴에 관한 대상물을 타겟의 타방측에 배치하고, 보정용 카메라에 의해, 본딩 툴에 관한 대상물을 촬상하고, 촬상 데이터에서 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 간의 제4위치 편차를 구하는 제4측정수단과, 제1위치 편차와 제2위치 편차와 제3위치 편차와 제4위치 편차에 근거해서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 산출하는 산출 수단과, 산출 결과에 근거해서 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하여 위치 결정을 행하는 수단을 구비하고, 제1측정수단에 있어서의 타겟의 촬상과, 제2측정수단에 있어서의 타겟의 촬상은, 대략 동시에 행하여지는 것을 특징으로 한다. The bonding apparatus according to the present invention is a bonding tool or a bonding object held in the bonding tool, or at least one of the measuring members held in the bonding tool as an object relating to the bonding tool, and measuring the position of the object in relation to the bonding tool. A positioning mechanism including a first camera and a second camera for measuring the position of the substrate, and positioning the bonding object held in the bonding tool by the positioning mechanism at a determined position of the substrate arranged on the bonding work surface for bonding. In the bonding apparatus for performing the positioning, the positioning mechanism further captures the target by a target having a position reference and observable from both sides, a camera for correction disposed in a predetermined positional relationship on one side of the target, and a camera for correction. First measuring means for obtaining a first position deviation between the position reference of the target and the imaging reference position of the camera for correction in the image pickup data; The second camera is placed on the other side of the target in the established positional relationship, the target is photographed by the second camera, and the second position deviation between the positional reference of the target and the imaging reference position of the second camera is obtained from the imaging data. The second measuring means and the first camera are opposed to the object related to the bonding tool in a predetermined positional relationship, and the first camera captures the object related to the bonding tool, and the reference position and the reference position of the object relating to the bonding tool in the imaging data. The third measuring means for obtaining the third positional deviation between the imaging reference positions of the first camera, and the object relating to the bonding tool on the other side of the target in a predetermined positional relationship, and the correction camera Fourth measurement means for imaging the object and obtaining a fourth positional deviation between the reference position of the object with respect to the bonding tool and the imaging reference position of the camera for correction in the image pickup data; Calculation means for calculating the positional shift in bonding based on the value deviation, the second positional deviation, the third positional deviation and the fourth positional deviation, and the positional shift in the bonding is corrected based on the calculation result. And imaging means of the target in the first measuring means and imaging of the target in the second measuring means are performed substantially simultaneously.

또, 본 발명에 따른 본딩 장치에 있어서, 타겟의 촬상 데이터 또는 거기에 근거하는 데이터를 기억하는 기억수단을 갖추고, 타겟은, 그 촬상 데이터 또는 거기에 근거하는 데이터가 기억된 후에, 촬상위치로부터 퇴피 가능한 것이 바람직하다. Moreover, the bonding apparatus which concerns on this invention WHEREIN: The memory | storage means which stores the imaging data of a target or the data based on it is equipped, and a target is withdrawn from an imaging position after the imaging data or the data based thereon is stored. It is desirable that it is possible.

또, 본 발명에 따른 본딩 장치에 있어서, 타겟은, 높이 방향으로 이동하고, 보정용 카메라의 초점맞춤 위치로부터 벗어난 높이에 퇴피하는 것이 바람직하다. In the bonding apparatus according to the present invention, it is preferable that the target moves in the height direction and retracts at a height that is out of the focusing position of the correction camera.

또한 타겟은, 수평면 내에 길이방향 축이 배치되는 기준 핀인 것이 바람직하다. In addition, the target is preferably a reference pin having a longitudinal axis disposed in the horizontal plane.

또한 타겟은, 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 배치되는 것이 바람직하다.Moreover, it is preferable that a target is arrange | positioned at the height substantially equal to the height in which a board | substrate is arrange | positioned.

또한 제4측정수단은, 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 본딩 툴에 관한 대상물을 배치해서 제4위치 편차를 구하는 것이 바람직하다. Moreover, it is preferable that a 4th measuring means arrange | positions the object with respect to a bonding tool at the height substantially equal to the height where a board | substrate is arrange | positioned, and calculate | requires a 4th position deviation.

상기 구성에 의하면, 제1카메라와 제2카메라를 갖는 위치 결정 기구는, 그 위치 어긋남을 보정하기 위해서, 더욱 위치기준을 갖는 타겟과, 보정용 카메라를 구비하고, 타겟의 위치기준과 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제1위치 편차와, 타겟의 위치기준과 제2카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제2위치 편차와, 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 제1카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제3위치 편차와, 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제4위치 편차를 구한다. 제1위치 편차로부터 제4위치 편차는, 본 발명의 원 리에서 설명한 X1, X2, X3, X4에 대응하므로, 이들에 기초하여 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 구해서 그것을 보정한다. 따라서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 있다. According to the above configuration, the positioning mechanism having the first camera and the second camera further includes a target having a positional reference and a correcting camera, in order to correct the positional misalignment. The first positional deviation between the reference position, the second positional deviation between the positional reference of the target and the imaging reference position of the second camera, and between the reference position of the object with respect to the bonding tool and the imaging reference position of the first camera And a fourth positional deviation between the reference position of the object with respect to the bonding tool and the imaging reference position of the camera for correction. Since the fourth position deviation from the first position deviation corresponds to X 1 , X 2 , X 3 , X 4 described in the principles of the present invention, the position shift in bonding is obtained based on these and corrected. Therefore, positional shift in bonding can be made smaller.

이 때, 타겟은 제2카메라와 보정용 카메라에 의하여 촬상되지만, 이 촬상을 대략 동시에 행하기로 했으므로, 보정작업을 행하는 사이에 있어서의 타겟의 위치의 시간경과에 따른 변화가 촬상 데이터에 근거하는 위치 편차의 산출에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다. 예를 들면, 본딩 장치가 히터 등을 갖고 있을 경우 등은, 높은 환경온도에 의해 보정작업을 행하는 사이에 있어서도 타겟의 위치가 변화할 수 있다. 그러한 시간경과에 따른 변화에 관해서도, 타겟에 필요한 촬상의 모두를, 대략 동시에 행함으로써, 촬상 데이터의 취득시각의 차에 의한 영향을 없앨 수 있다. At this time, the target is picked up by the second camera and the correcting camera, but since the picking up is performed at substantially the same time, the position where the change over time of the target position during the correction operation is based on the picked-up data. Influence on the calculation of the deviation can be suppressed. For example, in the case where the bonding apparatus has a heater or the like, the position of the target may change even during the correction operation by the high environmental temperature. Regarding such a change over time, by performing all of the imaging required for the target at about the same time, the influence due to the difference in the acquisition time of the imaging data can be eliminated.

또, 타겟는, 촬상 데이터 등이 기억된 후에 촬상위치로부터 퇴피하는 것으로 했으므로, 제4위치 편차를 구할 때에, 본딩 툴에 관한 대상물의 높이 위치의 설정의 방해에도 불구하고, 예를 들면, 타겟의 촬상위치의 높이에 본딩 툴에 관한 대상물의 높이를 정확하게 설정하는 것도 가능해 진다. 더욱이, 타겟을 본딩 툴로부터 충분히 떼어 놓아서 퇴피시키므로써 예를 들면 본딩 툴이 고온의 경우 등에 있어서의 온도의 영향이 타겟에 미치지 못하게 할 수 있다. In addition, since the target is to be retracted from the imaging position after the imaging data and the like are stored, in order to obtain the fourth positional deviation, in spite of the disturbance of the setting of the height position of the object with respect to the bonding tool, for example, imaging of the target is performed. It is also possible to accurately set the height of the object with respect to the bonding tool at the height of the position. Furthermore, the target is sufficiently removed from the bonding tool to be retracted so that the influence of temperature, for example, when the bonding tool is at a high temperature, does not reach the target.

또한 타겟은, 높이 방향으로 이동해서 퇴피하는 것으로 했으므로, 타겟이 수평방향으로 퇴피하는 것에 비하여, 그 수평면 내의 위치의 재현성을 향상시킬 수 있다. 또, 보정용 카메라의 초점맞춤 위치로부터 벗어나는 높이에 퇴피하므로, 보정용 카메라의 촬상 데이터에 영향을 미치지 않는다. Furthermore, since the target moves in the height direction and retracts, the reproducibility of the position in the horizontal plane can be improved as compared with the target retracting in the horizontal direction. Moreover, since it retracts to the height which deviates from the focusing position of a correction camera, it does not affect the imaging data of a correction camera.

또, 타겟는, 수평면 내에 길이방향 축을 갖는 기준 핀으로 했으므로, 용이하게 위치기준으로서의 타겟을 제작할 수 있고, 또, 투명판의 타겟을 사용할 경우에 비하여, 광이 투명판을 통과할 때의 굴절 등의 영향이 없다. In addition, since the target is a reference pin having a longitudinal axis in the horizontal plane, the target can be easily produced as a position reference, and compared with the case where the target of the transparent plate is used, such as refraction when light passes through the transparent plate, etc. No influence

또, 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 타겟을 배치한다. 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 본딩 툴에 관한 대상물을 배치해서 제4위치 편차를 구한다. 이것에 의해, 본 발명의 원리에 있어서 설명한 바와 같이, 본딩 툴의 높이 방향의 이동에 의한 어긋남(+Xn)과, 위치 결정용의 2 카메라 사이의 어긋남(+Xc)이 함께 존재할 때의 보정량△X=Xc+Xn을 구하고, 이들을 보정한다. 따라서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 있다. Moreover, a target is arrange | positioned at the height substantially equal to the height where a board | substrate is arrange | positioned. The object with respect to a bonding tool is arrange | positioned at the height which is substantially the same as the height where a board | substrate is arrange | positioned, and a 4th position deviation is calculated | required. Thereby, as described in the principle of the present invention, the amount of correction when the shift (+ Xn) due to the movement in the height direction of the bonding tool and the shift (+ Xc) between the two cameras for positioning are present together X = Xc + Xn is found and these are corrected. Therefore, positional shift in bonding can be made smaller.

(발명을 실시하기 위한 최선의 형태)(The best mode for carrying out the invention)

이하에 도면을 사용해서 본 발명에 따른 실시형태에 대하여 상세하게 설명한다. 또한, 이하의 설명에 있어서는, 도 14 내지 도 16 및 도 1과 같은 요소에는 동일의 부호를 붙였다. 이하에 있어서, 본딩 장치는, 범프를 갖는 LSI칩을 필름 기판에 페이스 다운 본딩 하는 COF(Chip On Film) 본딩 장치로서 설명하지만, 칩은 LSI칩 이외의 반도체소자 또는 전자 디바이스라도 되고, 기판은 가라에포 기판, 필름의 개구 영역에 본딩 리드를 장출(張出)한 테이프 기판 등을 사용해도 된다. COF(Chip On Film) 본딩 장치는, 본딩 툴을 가열하고, 그 열에 의해 범프와 기판이 본딩되는 것으로서 설명하지만, 그 밖에 기판측을 가열해도 좋고, 본딩 툴과 기판 의 쌍방을 가열해도 된다. 또, 초음파 에너지를 병용해서, 가열온도를 낮게 하는 본딩 장치라도 된다. EMBODIMENT OF THE INVENTION Hereinafter, embodiment which concerns on this invention is described in detail using drawing. In addition, in the following description, the same code | symbol is attached | subjected to the element similar to FIGS. 14-16 and FIG. In the following description, the bonding apparatus is described as a COF (Chip On Film) bonding apparatus for face-down bonding an LSI chip having a bump to a film substrate, but the chip may be a semiconductor device or an electronic device other than the LSI chip, and the substrate is thin. You may use an epoxy board | substrate and the tape board | substrate which extended the bonding lead to the opening area | region of a film. Although a COF (Chip On Film) bonding apparatus heats a bonding tool and demonstrates that a bump and a board | substrate are bonded by the heat | fever, it may heat the board | substrate side elsewhere, and may heat both a bonding tool and a board | substrate. Moreover, the bonding apparatus which uses ultrasonic energy together and lowers a heating temperature may be sufficient.

도 2는 COF용의 본딩 장치(50)의 구성도이다. 본딩 장치(50)는, 칩(10)의 이면을 흡인 등으로 보유하는 본딩 툴(12)과, 기판(14)을 보유해서 반송하는 캐리어(16)와, 칩(10)을 공급하는 공급 스테이션(52)과, 기판(14)과 칩(10)의 위치를 검출하는 상하 카메라(60)와, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하기 위해서 사용할 수 있는 보정용 카메라(30)와, 타겟 이동기구(54)에 보유된 위치기준으로서의 타겟(32)과, 이들의 요소의 동작을 제어하는 제어 장치부(100)를 구비한다. 2 is a configuration diagram of a bonding device 50 for COF. The bonding apparatus 50 supplies the bonding tool 12 which holds the back surface of the chip 10 by suction, etc., the carrier 16 which holds and conveys the board | substrate 14, and the supply station which supplies the chip 10. 52, an up-and-down camera 60 for detecting positions of the substrate 14 and the chip 10, a correction camera 30 that can be used to correct positional shifts in bonding, and a target moving mechanism ( And a target device 32 as a positional reference held by 54, and a control device unit 100 for controlling the operation of these elements.

칩(10)은, LSI칩이며, 그 각 입출력단자의 패드에는 금을 주성분으로 하는 범프가 설치되어 있다. 기판(14)은, 전자부품용 플라스틱필름에 도체 패턴이 배선되어 있는 필름 기판으로, 칩(10)의 범프가 접속되는 배선 패턴 부분에는, 주석을 주성분으로 하는 금속층이 설치된다. 이 주석을 주성분으로 하는 금속층 위에 금을 주성분으로 하는 범프를 위치 결정하고, 약 500℃ 정도의 온도에서 가압하는 것으로 본딩을 행할 수 있다. 즉, COF용의 본딩 장치(50)는, 칩(10)과 기판(4)과의 사이의 위치 결정과, 가열 가압에 의해 칩(10)을 기판(14)에 본딩하는 기능을 갖는 본딩 장치이다. The chip 10 is an LSI chip, and bumps containing gold as a main component are provided on the pads of the input / output terminals. The board | substrate 14 is a film board | substrate with which the conductor pattern is wired to the plastic film for electronic components, The metal layer which has tin as a main component is provided in the wiring pattern part to which the bump of the chip 10 is connected. Bonding can be performed by positioning a bump containing gold as a main component on the metal layer containing tin as a main component and pressing at a temperature of about 500 ° C. That is, the bonding apparatus 50 for COF has the function of bonding the chip | tip 10 to the board | substrate 14 by positioning between the chip | tip 10 and the board | substrate 4, and heating pressurization. to be.

본딩 툴(12)는, 선단에 칩 유지부분을 갖는 4각 뿔형상의 부재로, 중심으로는 칩 유지부분에 통하는 진공흡인 구멍이 설치되고, 제어 장치부(100)의 제어에 의해 칩 유지부분에 있어서 칩(10)의 흡인 유지를 행할 수 있다. 또, 본딩 툴(12)은, 내부에 히터를 내장하고, 예를 들면 칩(10)을 약 500℃ 정도로 가열할 수 있 다. 온도의 제어도 제어 장치부(100)에 의해 행하여진다. The bonding tool 12 is a quadrangular horn-shaped member having a chip holding portion at its tip, and is provided with a vacuum suction hole through the chip holding portion at the center thereof. The chip holding portion is controlled by the controller 100. Suction holding of the chip 10 can be performed. In addition, the bonding tool 12 may incorporate a heater therein, and may heat the chip 10 at, for example, about 500 ° C. The control of the temperature is also performed by the controller 100.

본딩 툴(12)은, 도시되지않은 이동기구에 탑재되어 있고, 제어 장치부(100)의 제어 하에서, 도 2에 도시하는 X,Y,Z방향으로 이동할 수 있다. The bonding tool 12 is mounted in a moving mechanism not shown, and can move in the X, Y, and Z directions shown in FIG. 2 under the control of the control device unit 100.

구체적으로는, 공급 스테이션(52)으로부터 칩(10)을 픽업하는 위치인 픽업 포지션(90)과, 칩(10)과 기판(14)의 사이의 위치 결정을 행하고, 그 후 본딩을 행하는 위치인 위치 결정·본딩 포지션(92)과, 위치 결정에 대한 보정량을 구하기 위한 보정 포지션(94)의 사이를 이동할 수 있다. 각각의 포지션에 있어서, 본딩 툴(12)은 Z방향의 상하이동을 행할 수 있고, 각 포지션 사이에 있어서 수평이동 또는 기울기 이동을 행할 수 있다. Specifically, the position where the pick-up position 90 which is the position which picks up the chip 10 from the supply station 52, and the position between the chip | tip 10 and the board | substrate 14 is performed, and it is a position which performs bonding after that is The position can be moved between the positioning and bonding position 92 and the correction position 94 for obtaining a correction amount for positioning. In each position, the bonding tool 12 can carry out the shank movement of Z direction, and can perform a horizontal movement or inclination movement between each position.

캐리어(16)는, 기판(14)을 보유하는 치구로서, 도시되지않은 컨베이어 등의 반송 기구에 의해 Y방향으로 반송된다. 반송의 제어는, 제어 장치부(100)에 의해 행하여지고, 기판(14)은 공급구멍으로부터 반송되어서 위치 결정·본딩 포지션(92)에 멈춘다. The carrier 16 is a jig holding the substrate 14 and is conveyed in the Y direction by a conveyance mechanism such as a conveyor (not shown). The control of conveyance is performed by the control apparatus part 100, and the board | substrate 14 is conveyed from a supply hole and stops at the positioning and bonding position 92. FIG.

위치 결정·본딩 포지션(92)에 있어서 칩(10)과 기판(14)의 사이의 위치 결정 및 칩(10)의 본딩이 행하여진 후는, 반출구를 향해서 반송되고, 동시에 다음 기판이 반송되어 와서 위치 결정·본딩 포지션(92)에 멈춘다. After the positioning between the chip 10 and the substrate 14 and the bonding of the chip 10 are performed in the positioning and bonding position 92, the substrate is conveyed toward the discharge port and the next substrate is conveyed at the same time. It comes to a stop at the positioning and bonding position 92.

상하 카메라(60)는, 내부에 2대의 카메라를 구비하는 광학부품이다. 도 3에 상하 카메라(60)의 내부구성을 도시한다. The up-and-down camera 60 is an optical component provided with two cameras inside. 3 shows an internal configuration of the vertical camera 60.

상하 카메라(60)는, 적당한 하우징의 내부에 제1카메라(26)와 제2카메라(28)와, 반사경(62,64)과, 양면 반사경(66)을 구비한다. The upper and lower cameras 60 include a first camera 26, a second camera 28, reflectors 62 and 64, and a double-sided reflector 66 inside a suitable housing.

제1카메라(26)와 제2카메라(28)는, CCD(Charge Coupled Device)를 갖는 촬상장치에서, 그 개구부가 함께 +X축 방향을 향할 수 있고, 상하 카메라(60)의 X방향의 중심축에 대하여 대칭의 위치에 배치된다. In the imaging device having the CCD (Charge Coupled Device), the first camera 26 and the second camera 28 may have their openings facing the + X axis direction together, and the center of the upper and lower cameras 60 in the X direction. It is placed in a position symmetrical about the axis.

반사경(62,64)은, 그 반사면이 각각 X축에 대하여 Z축을 축으로서 -45도 및 +45도의 경사를 갖고, 상하 카메라(60)의 X방향의 중심축에 대하여 대칭으로 배치된다. The reflecting mirrors 62 and 64 have inclinations of -45 degrees and +45 degrees on the Z axis with respect to the X axis, respectively, and are disposed symmetrically with respect to the central axis in the X direction of the upper and lower cameras 60, respectively.

양면 반사경(66)은, 양면 반사면이, XY면에 대하여 45도의 경사를 갖고, 상하 카메라(60)의 X방향의 중심축과 반사경(62)과 반사경(64)을 잇는 선이 교차하는 위치에 배치된다. The double-sided reflector 66 has a 45-degree inclination with respect to the XY plane, and the position where the center axis in the X direction of the up-and-down camera 60 intersects the line connecting the reflector 62 and the reflector 64. Is placed on.

이러한 내부구성의 상하 카메라(60)의 작용을 설명한다. 제1카메라(26)의 촬상 중심을 나타내는 광축은, 그 개구부로부터 +X방향을 향하고, 반사경(62)에서 90도 방향이 변경되어서 일Y방향을 향하고, 양면 반사경(66)의 상측 반사면에서 90도방향이 변경되어 +Z방향을 향한다. 즉, 상향의 광축(22)이 되어서, 상하 카메라(60)의 외부를 향한다. 한편, 제2카메라(28)의 촬상 중심을 나타내는 광축은, 그 개구부로부터 +X방향을 향하고, 반사경(62)에서 90도 방향이 변경되어서 +Y방향을 향하고, 양면 반사경(66)의 하측 반사면에서 90도 방향이 변경되어 -Z방향을 향한다. 즉, 하향의 광축(24)이 되고, 상하 카메라(60)의 외부를 향한다. The operation of the upper and lower cameras 60 of such an internal configuration will be described. The optical axis representing the imaging center of the first camera 26 faces the + X direction from its opening, the 90 degree direction is changed in the reflecting mirror 62, and the one direction is directed toward the Y reflecting surface. The 90 degree direction is changed to face the + Z direction. That is, it becomes the upward optical axis 22, and faces the exterior of the up-and-down camera 60. FIG. On the other hand, the optical axis indicating the imaging center of the second camera 28 faces the + X direction from the opening, the 90 degree direction is changed in the reflecting mirror 62 to the + Y direction, and the lower half of the double-side reflecting mirror 66. The 90 degree direction changes from the slope to the -Z direction. That is, it becomes the downward optical axis 24 and faces the exterior of the up-and-down camera 60.

이렇게, 상하 카메라(60)는, 제1카메라(26)의 촬상 중심을 나타내는 광축(22)을 상향에, 제2카메라(28)의 촬상 중심을 나타내는 광축(24)을 하향으로 하여, 외부를 향하는 기능을 갖는다. 상하 카메라(60)는, 미리 광축(22)과 광축(24)을 방향이 역으로, 그 축이 조립시에는 일치하도록 하우징 내에 붙일 수 있다. In this way, the up-and-down camera 60 moves the optical axis 22 indicating the imaging center of the first camera 26 upward and the optical axis 24 indicating the imaging center of the second camera 28 downward. Has the function of heading. The up-and-down camera 60 can attach the optical axis 22 and the optical axis 24 to the housing so that a direction may reverse in the reverse direction, and that axis may coincide at the time of assembly.

제1카메라(26)와 제2카메라(28)를 같은 성능의 것으로 할 때는, 상하 카메라(60)의 높이 위치는, 기판(14)의 높이 위치(Z1)와, 기판(14)과의 위치 결정에 있어서의 칩(10)의 높이 위치(Z2)의 중간의 높이 위치에 설정된다. 그리고, 기판(14)과 본딩 툴(12)에 보유된 칩(10)의 위치 결정에 있어서는, 제1카메라(26)가 칩(10)의 표면에 초점맞춤하고, 제2카메라(28)가 기판(14)의 표면에 초점맞춤하도록, 전체의 광학계가 설계된다. When the first camera 26 and the second camera 28 have the same performance, the height position of the upper and lower cameras 60 is the height position Z 1 of the substrate 14 and the substrate 14. It is set at the mid-height position of the height position (Z 2) of the chip 10 in the positioning. In the positioning of the chip 10 held by the substrate 14 and the bonding tool 12, the first camera 26 focuses on the surface of the chip 10, and the second camera 28 In order to focus on the surface of the substrate 14, the whole optical system is designed.

상하 카메라(60)는, 통상은 본딩 작업의 방해가 안되는 퇴피 포지션(96)에 퇴피하고 있고, 제어 장치부(100)의 제어에 의해, 그 위치로부터 X방향으로 이동가능하다. 구체적으로는, 위치 결정·본딩 포지션(92) 및 보정 포지션(94)으로 이동할 수 있다. The up-and-down camera 60 is usually retracted to the retracted position 96 which does not interfere with a bonding operation, and can move to the X direction from the position by control of the control apparatus part 100. FIG. Specifically, it can move to the positioning and bonding position 92 and the correction position 94. FIG.

보정용 카메라(30)는, CCD를 갖는 촬상장치에서, 보정 포지션(94)에 배치된다. 그 개구부는 위를 향하고, 즉 +Z방향을 향하고, 그 높이 위치는, 기판(14)의 표면의 높이(Z1)에 초점맞춤 위치가 오도록 설정된다. 또는, 보정용 카메라(30)를 텔레센트릭 광학계로 해도 된다. The camera 30 for correction is arrange | positioned in the correction position 94 in the imaging device which has a CCD. The opening faces upward, that is, in the + Z direction, and the height position is set so that the focusing position is at the height Z 1 of the surface of the substrate 14. Alternatively, the correction camera 30 may be a telecentric optical system.

타겟(32)은, 타겟 이동기구(54)에 보유되고, 선단이 위치기준이 되는 기준 핀이다. 타겟(32)은, 와이어 본딩에 사용할 수 있는 캐필러리와 같이, 선단이 가늘게 되는 테이퍼 형상의 핀으로, 선단은, 예를 들면 직경 15μm정도의 원형면 또는 반구 형상으로 정확하게 마무리된 것을 사용할 수 있다. 타겟(32)은, 그 길이 방향 축이 XY평면에 평행하게 배치된다. 타겟(32)의 길이방향 축의 방향은, 도 2에 나타나 있는 바와 같이, 예를 들면 Y축과 평행하게 할 수 있다. 이러한 타겟(32)은, 금속재료나 세라믹 재료를 소정의 형상으로 가공한 것을 사용할 수 있다. The target 32 is a reference pin held by the target movement mechanism 54 and whose tip is the position reference. The target 32 is a tapered pin with a tapered tip, such as a capillary that can be used for wire bonding, and the tip 32 can be used, for example, a round or hemispherical shape having a diameter of about 15 μm. have. The target 32 has its longitudinal axis arranged in parallel with the XY plane. The direction of the longitudinal axis of the target 32 can be made parallel to the Y axis, for example, as shown in FIG. As the target 32, a metal material or a ceramic material processed into a predetermined shape can be used.

타겟 이동기구(54)는, 타겟(32)을 제어 장치부(100)의 제어 하에서, Z방향으로 이동시키는 기구에서, 예를 들면 모터 등을 사용할 수 있다. 타겟(32)의 이동범위는, 기판(14)의 높이 위치(Z1)와, 보정용 카메라(30)의 상부의 사이이다. The target movement mechanism 54 can use a motor etc. in the mechanism which moves the target 32 to Z direction under control of the control apparatus part 100. FIG. The movement range of the target 32 is between the height position Z 1 of the substrate 14 and the upper portion of the correction camera 30.

타겟은, 보정용 카메라(30)와 제2카메라(28)의 쌍방으로부터 위치기준으로서 관찰할 수 있으면, 기준 핀 형상 이외의 것이라도 된다. 다른 예로서, 도 4에 도시하는 엷은 투명판 위에 위치기준이 되는 크로스 헤어 패턴이 설치된 타겟(33)을 사용해도 된다. 이 타겟(33)은, 엷은 플라스틱판, 엷은 유리판 등의 엷은 투명판에, 에칭 등에서 크로스 헤어 패턴을 설치한 것이다. 위치기준은, 충분한 정밀도로 측정할 수 있는 안정한 패턴이면, 크로스 헤어 패턴 이외의 패턴이라도 된다. 크로스 헤어 패턴 등의 위치기준은, 타겟(33)의 윗면, 즉 본딩 툴(12)을 서로 대향하는 면에 설치되고, 그 높이 위치를 기판(14)의 높이 위치(Z1)에 설정되는 것이 된다. The target may be other than the reference pin shape as long as the target can be observed as a position reference from both the camera 30 for correction and the second camera 28. As another example, you may use the target 33 in which the cross hair pattern used as a position reference | standard is provided on the thin transparent board shown in FIG. The target 33 is provided with a cross hair pattern by etching or the like on a thin transparent plate such as a thin plastic plate or a thin glass plate. The position reference may be a pattern other than the cross hair pattern as long as it is a stable pattern that can be measured with sufficient accuracy. Positional reference such as a cross hair pattern is provided on the upper surface of the target 33, that is, the surface where the bonding tool 12 faces each other, and the height position is set at the height position Z 1 of the substrate 14. do.

그 밖의 타겟으로서, 예를 들면, 타겟(32)의 모재를 엷게 불투명한 판으로 하고, 그 양면에 위치기준을 설치한 것이라도 된다. As another target, for example, the base material of the target 32 may be made a thin opaque plate, and the position reference may be provided on both surfaces.

다음에 제어 장치부(100)의 구성을 설명한다. 제어 장치부(100)는, 본딩 장치를 구성하는 각 요소를 제어하는 기능을 갖고, 특히 상하 카메라(60) 내부의 제1 카메라(26)와 제2카메라(28) 및 보정용 카메라(30)로부터 촬상 데이터를 취득하고, 이들의 데이터에 기초하여 위치 결정 및 위치 결정에 있어서의 보정을 행하는 기능을 갖는 장치로, 일반적인 컴퓨터로 구성할 수 있다. Next, the structure of the control apparatus part 100 is demonstrated. The control device 100 has a function of controlling each element constituting the bonding device, and in particular, from the first camera 26 and the second camera 28 and the correction camera 30 inside the upper and lower cameras 60. A device having a function of acquiring image data and performing correction in positioning and positioning based on these data can be configured by a general computer.

구체적으로는, 보정 포지션(94)에 있어서, 상하 카메라(60)와 본딩 툴(12)의 동작을 제어하고, 보정용 카메라(30)와 상하 카메라(60)의 3개의 카메라로부터 필요한 촬상 데이터를 취득하고, 이들의 데이터를 처리해서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 산출하는 기능을 갖는다. 또한 타겟 이동기구(54) 동작의 제어에 의해, 타겟(32)을 촬상이 끝난 후 퇴피시키는 기능을 갖는다. 또한 위치 결정·본딩 포지션(92)에 있어서, 상하 카메라(60)와 본딩 툴(12)로 필요할 경우 캐리어(16)의 동작을 제어하고, 상하 카메라(60)로부터 필요한 촬상 데이터를 취득하고, 보정 포지션(94)에 있어서 산출된 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하도록, 기판(14)과 본딩 툴(12)에 보유된 칩(10)의 상대적인 위치 결정을 행하고, 본딩 작업을 실행시키는 기능을 갖는다. 이들의 기능에 대응하는 처리를 행하기 위해서는, 소프트웨어를 사용할 수 있고, 대응하는 위치 어긋남 보정 프로그램 및 본딩 프로그램을 실행하는 것으로 소정의 처리를 행할 수 있다. 처리의 일부를 하드웨어로 실행시킬 수도 있다. Specifically, in the correction position 94, the operation of the up-and-down camera 60 and the bonding tool 12 is controlled, and the required imaging data is acquired from three cameras of the correction camera 30 and the up-and-down camera 60. FIG. Then, these data are processed and the position shift in bonding is calculated. In addition, by controlling the operation of the target moving mechanism 54, the target 32 has a function of evacuating after the imaging is completed. In addition, in the positioning and bonding position 92, the upper and lower cameras 60 and the bonding tool 12 control the operation of the carrier 16 when necessary, acquire necessary correction data from the upper and lower cameras 60, and correct them. It has a function of performing relative positioning of the chip | tip 10 held by the board | substrate 14 and the bonding tool 12, and performing a bonding operation so that the position shift in the bonding calculated in the position 94 may be corrected. . In order to perform the processing corresponding to these functions, software can be used, and predetermined processing can be performed by executing a corresponding position shift correction program and a bonding program. Some of the processing may be performed in hardware.

제어 장치부(100)는, CPU(102)와, 키보드 등의 입력부(104)와, 표시반(盤) 등의 디스플레이인 출력부(106)와, 기억 장치(108)와, 본딩 툴(12)의 동작을 제어하는 본딩 툴 제어부(110)와, 보정용 카메라(30)의 촬상동작을 제어하여 촬상 데이터를 받아들이는 보정용 카메라 제어부(112)와, 타겟(32)의 상하이동을 제어하는 타겟 제어부(114)와, 상하 카메라(60)의 동작을 제어하고, 그 내부의 제1카메라(26)와 제2카메라(28)의 촬상 동작을 제어해서 촬상 데이터를 받는 상하 카메라 제어부(116)를 포함하고, 이들은 내부 버스에서 서로 맺어진다. The control unit 100 includes a CPU 102, an input unit 104 such as a keyboard, an output unit 106 that is a display such as a display panel, a storage device 108, and a bonding tool 12. Bonding tool control unit 110 for controlling the operation of the control unit, a correction camera control unit 112 for controlling the imaging operation of the correction camera 30 to receive the imaging data, and a target control unit for controlling the movement of the target 32. 114 and an up-and-down camera controller 116 that controls the operation of the up-and-down camera 60 and controls the imaging operation of the first camera 26 and the second camera 28 therein to receive the imaging data. And they are joined together in an internal bus.

CPU(102)는, 위치 어긋남 보정부(120)와, 위치 결정부(122)와, 본딩 처리부(124)를 포함한다. 위치 어긋남 보정부(120)안의 제1위치 편차측정 모듈(130) 내지 위치 어긋남 산출 모듈(138)은, 본 발명의 원리에서 설명한 X1, X2, X3, X4에 해당하는 4개의 위치 편차 벡터를 산출하고, 2차원의 보정량△(X,Y)을 구하는 기능을 갖는다. 이들에 대해서, 도 5 내지 도 13을 사용하여 설명한다. The CPU 102 includes a position shift correction unit 120, a positioning unit 122, and a bonding processing unit 124. The first position deviation measuring module 130 to the position shift calculating module 138 in the position shift correcting unit 120 include four positions corresponding to X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 described in the principles of the present invention. The deviation vector is calculated and a two-dimensional correction amount? (X, Y) is obtained. These are demonstrated using FIGS. 5-13.

도 5는, 본딩 장치(50)의 구성요소 중, 상하 카메라(60), 캐리어(16)에 보유된 기판(14), 타겟(32)과 그 하부에 있는 보정용 카메라(30) 및 칩(10)을 보유한 본딩 툴(12)의 평면배치를 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 6은, 이들의 구성요소의 측면배치를 모식적으로 도시하는 도면이다. 도 5 및 도 6은, 본딩 장치(50)의 초기 상태를 도시한다. 즉, 기판(14)은 위치 결정·본딩 포지션(92)에 있어서, 타겟(32) 및 보정용 카메라(30)는 보정 포지션(94)에 설치되어 있다. 또한 상하 카메라(60)는 퇴피 포지션(96)에 있어서, 본딩 툴(12)은 픽업 포지션(90) 등에 있어도 좋지만, 초기 상태인 것을 나타내기 위해서 위치 결정·본딩 포지션(92)의 이웃에 후퇴하고 있는 것으로 하고 있다. 또한, 참고로, 위치 결정·본딩 포지션(92)에 있어서의 본딩 툴(12)과 상하 카메라(60)의 배치상태를 파선으로 도시했다. FIG. 5 shows the top and bottom cameras 60, the substrate 14 held in the carrier 16, the target 32, and the calibration camera 30 and the chip 10 underneath the components of the bonding apparatus 50. It is a figure which shows typically the planar arrangement of the bonding tool 12 which has (). Fig. 6 is a diagram schematically showing the side arrangement of these components. 5 and 6 show an initial state of the bonding apparatus 50. That is, in the positioning and bonding position 92, the board | substrate 14 is provided in the correction position 94 with the target 32 and the camera 30 for correction | amendment. In addition, the upper and lower cameras 60 may be in the retracted position 96, and the bonding tool 12 may be in the pickup position 90 or the like. However, the upper and lower cameras 60 retreat to the neighboring position of the positioning and bonding position 92 in order to indicate that the initial state. I assume that there is. In addition, the arrangement | positioning state of the bonding tool 12 and the up-and-down camera 60 in the positioning and bonding position 92 is shown with the broken line.

CPU(102)의 제1위치 편차측정 모듈(130), 제2위치 편차측정 모듈(132), 제3 위치 편차측정 모듈(134)은, 어느 것이나 보정 포지션(94)에 있어서 거의 동시에 처리가 행해지는데, 편의상 제1위치 편차측정 모듈(130)로부터 제2위치 편차측정, 제3위치 편차측정의 순서로 처리가 행하여지는 것으로서 설명한다. The first position deviation measurement module 130, the second position deviation measurement module 132, and the third position deviation measurement module 134 of the CPU 102 are all processed at the same time in the correction position 94. For the sake of convenience, the processing is performed in the order of the second position deviation measurement and the third position deviation measurement from the first position deviation measurement module 130.

이들의 처리를 위해서, 본딩 툴(12)과 상하 카메라(60)가 보정 포지션(94)으로 이동되고, 타겟(32)이 기판(14)의 높이(Z1)의 높이에 설정된다. 구체적으로는, 제어 장치부(100)의 기능, 특히 최초에 보정에 관한 처리를 행하는 제1위치 편차측정 모듈(130)의 기능에 의해, 다음이 실행된다. 즉, 본딩 툴 제어부(110)에 지령을 주고, 본딩 툴(12)을 보정 포지션(94)에 이동시킨다. 본딩 툴(12)의 높이는, 제1카메라(26)의 초점맞춤 위치의 높이인 Z2에 칩(10)의 본딩 면이 이르도록 설정된다. 그리고, 상하 카메라 제어부(116)에 지령을 주어, 상하 카메라(60)를 보정 포지션(94)에 이동시킨다. 상하 카메라(60)의 높이 위치는, 제1카메라(26)가 상기한 바와 같이 본딩 툴(12)의 칩(10)의 본딩 면에 초점맞춤하고, 제2카메라(28)는 기판(14)의 높이(Z1)에 초점맞춤하도록 설정된다. 더욱이 타겟 제어부(114)에 지령을 주고, 타겟 이동기구(54)를 구동해서 타겟(32)을 기판(14)의 높이 위치인 Z1의 높이에 세팅한다. 도 7은, 그렇게 해서 설정된 보정 포지션(94)에 있어서의 각 요소의 배치상황을 도시하는 도면이다. For these processes, the bonding tool 12 and the vertical camera 60 are moved to the correction position 94, and the target 32 is set at the height of the height Z 1 of the substrate 14. Specifically, the following is executed by the function of the control device unit 100, in particular, by the function of the first position deviation measuring module 130 that first performs a process relating to correction. That is, a command is given to the bonding tool control unit 110 and the bonding tool 12 is moved to the correction position 94. The height of the bonding tool 12 is set so that the bonding surface of the chip 10 may reach Z 2 , which is the height of the focusing position of the first camera 26. Then, the upper and lower camera control unit 116 is instructed to move the upper and lower cameras 60 to the correction position 94. The height position of the upper and lower cameras 60 is focused on the bonding surface of the chip 10 of the bonding tool 12 by the first camera 26 as described above, and the second camera 28 is the substrate 14. Is set to focus on the height Z 1 . Furthermore, a command is given to the target control unit 114, and the target moving mechanism 54 is driven to set the target 32 at the height of Z 1 , which is the height position of the substrate 14. FIG. 7 is a diagram showing the arrangement status of each element in the correction position 94 thus set.

그 상태에 있어서, 제1위치 편차측정 모듈(130)은, 더욱, 타겟(32)을 보정용 카메라(30)로 촬상시켜, 그 촬상 데이터에 기초하여 제1위치 편차를 구하는 기능을 갖는다. 구체적으로는, 보정용 카메라 제어부(112)에 지령을 주고, 촬상 지시를 내고, 촬상 데이터를 취득시켜, 취득한 촬상 데이터를 제1위치 편차측정 모듈(130)에 전송시킨다. 그리고, 전송된 촬상 데이터에 기초하여 제1위치 편차를 구한다. In this state, the first position deviation measuring module 130 further has a function of imaging the target 32 with the correction camera 30 and calculating the first position deviation based on the captured image data. Specifically, a command is given to the correction camera control unit 112, an image capturing instruction is issued, image data is acquired, and the captured image data is transmitted to the first position deviation measurement module 130. Then, the first positional deviation is obtained based on the transferred image data.

도 8은, 보정용 카메라(30)에 의해 촬상된 촬상 데이터로부터 제1위치 편차(X1,Y1)를 구하는 형상을 설명하는 도면이다. 촬상 데이터는, 실제로는 보정용 카메라(30)가 위를 향하여(+Z방향) 타겟(32)과 칩(10)을 촬상한 데이터이지만, 도 8에서는 설명의 편의상, 보정 포지션(94)의 윗쪽에서 보았을 때의 데이터로 변환해서 도시했다. 마찬가지로, 이하의 도 10, 도 12 등의 촬상 데이터에 있어서도 보정 포지션(94)의 윗쪽에서 보았을 때의 데이터에 통일해서 도시했다. 도 8의 촬상 데이터(150)에 있어서, 시야의 중앙에 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(152)이 있고, 그 좌측 밑에, 기판(14)의 높이 위치(Z1)에 있어서의 타겟(32)의 촬상된 패턴(154)이 있다. 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(152)의 교점은, 보정용 카메라(30)의 촬상 기준위치이며, 타겟의 패턴(154)의 선단은, 타겟(32)의 위치기준(P0)를 도시하는 것이다.8 is a view from the image pickup data obtained by the correction camera 30 describes the image to obtain the first position deviation (X 1, Y 1). The captured image data is actually data obtained by capturing the target 32 and the chip 10 with the correction camera 30 facing upward (+ Z direction). However, in FIG. 8, for convenience of description, the upper portion of the correction position 94 The figure is converted into the data when viewed. Similarly, also in the imaging data of FIG. 10, FIG. 12, etc. below, it showed uniformly to the data when it sees from the upper side of the correction position 94. As shown in FIG. In the imaging data 150 of FIG. 8, there is a cross pattern 152 showing the imaging center of the correction camera 30 at the center of the field of view, and at the lower left of the substrate 14 at the height position Z 1 of the substrate 14. There is an image picked up pattern 154 of the target 32. The intersection of the cross pattern 152 showing the imaging center of the correction camera 30 is an imaging reference position of the correction camera 30, and the tip of the target pattern 154 is the position reference P of the target 32. 0 ).

제1위치 편차(X1,Y1)는, 십자 패턴(152)의 교점을 기준위치로서, 기준위치로부터, 타겟의 패턴(154)의 위치기준(P0)를 향하는 벡터로 주어진다. 1차원의 경우에는, 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 나타내는 광축(31)의 위치로부터 본 타겟(32)의 위치기준까지의 거리가 되고, 본 발명의 원리에서 설명한 X1이 된다. The first positional deviations X 1 and Y 1 are given as the reference position using the intersection point of the cross pattern 152 as a vector from the reference position toward the position reference P 0 of the pattern 154 of the target. For one-dimensional, then the distance to the reference position of the target 32 from the position of the optical axis 31 represents the image sensing center of the correction camera 30, and X 1 is described in the principles of the invention.

제2위치 편차측정 모듈(132)은, 보정 포지션(94)의 도 7의 상태에 있어서, 타겟(32)을 제2카메라(28)에서 촬상시켜, 그 촬상 데이터에 기초하여 제2위치 편차를 구하는 기능을 갖는다. 구체적으로는, 상하 카메라 제어부(116)에 지령을 주고, 제2카메라(28)에 촬상 지시를 내게 하고, 촬상 데이터를 취득시켜, 취득한 촬상 데이터를 제2위치 편차측정 모듈(132)에 전송시킨다. 그리고, 전송된 촬상 데이터에 기초하여 제2위치 편차를 구한다. In the state of FIG. 7 of the correction position 94, the 2nd position deviation measuring module 132 picks up the target 32 with the 2nd camera 28, and makes the 2nd position deviation based on the imaging data. Has the function to obtain. Specifically, a command is given to the upper and lower camera control unit 116, an imaging instruction is given to the second camera 28, the imaging data is acquired, and the acquired imaging data is transmitted to the second position deviation measurement module 132. . Then, the second positional deviation is obtained based on the transferred image data.

도 9는, 제2카메라(28)에 의해 촬상된 촬상 데이터로부터 제2위치 편차(X2,Y2)를 구하는 형상을 설명하는 도면이다. 9 is a second diagram from the image pickup data obtained by the camera 28 is described for the shape to obtain a second position deviation (X 2, Y 2).

도 9의 촬상 데이터(156)에 있어서, 시야의 중앙에 제2카메라(28)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(158)이 있어서, 그 오른쪽 위에 타겟(32)의 촬상된 패턴(160)이 있다. In the imaging data 156 of FIG. 9, there is a cross pattern 158 showing the imaging center of the second camera 28 at the center of the field of view, and the image 160 of the target 32 is captured on the right side thereof. have.

제2카메라(28)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(158)의 교점은, 제2카메라(28)의 촬상 기준위치이며, 타겟의 패턴(160)의 선단은, 타겟(32)의 위치기준(P1)을 도시하는 것이다. The intersection of the cross pattern 158 showing the imaging center of the second camera 28 is the imaging reference position of the second camera 28, and the tip of the target pattern 160 is the reference of the position of the target 32. (P 1 ) is shown.

제2위치 편차(X2,Y2)는, 제2카메라(28)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(158)의 교점을 기준위치로서, 기준위치로부터, 타겟의 패턴(160)의 위치기준(P1)을 향하는 벡터로 주어진다. 1차원의 경우에는, 제2카메라(28)의 촬상 중심을 나타내는 광축(24)의 위치로부터 본 타겟(32)의 위치기준까지의 거리가 되어, 본 발명의 원리에서 설명한 X2가 된다. The second position deviation X 2 , Y 2 is based on the intersection of the cross pattern 158 showing the imaging center of the second camera 28 as a reference position, and from the reference position, the position reference of the pattern 160 of the target. Given as a vector towards (P 1 ). For one-dimensional, the second is the distance to the reference position of the target 32 from the position of the optical axis (24) indicating the image pickup center of the second camera 28, and the X 2 described in the principles of the invention.

제3위치 편차측정 모듈(134)은, 보정 포지션(94)의 도 7의 상태에 있어서, 칩(10)을 보유한 본딩 툴(12)을 제1카메라(26)에서 촬상시켜, 그 촬상 데이터에 기초하여 제3위치 편차를 구하는 기능을 갖는다. 구체적으로는, 상하 카메라 제어부(116)에 지령을 주어, 제1카메라(26)에 촬상 지시를 내게 하고, 촬상 데이터를 취득시켜, 취득한 촬상 데이터를 제3위치 편차측정 모듈(134)에 전송시킨다. 그리고, 전송된 촬상 데이터에 기초하여 제3위치 편차를 구한다. In the state of FIG. 7 of the correction position 94, the 3rd position deviation measuring module 134 makes the bonding tool 12 which hold | maintains the chip | tip 10 image with the 1st camera 26, and inputs it to the image data. It has a function to calculate the third position deviation on the basis. Specifically, a command is given to the up-and-down camera control unit 116 to issue an imaging instruction to the first camera 26, to acquire the imaging data, and to transmit the acquired imaging data to the third position deviation measurement module 134. . Then, the third positional deviation is obtained based on the transferred image data.

도 10은, 제1카메라(26)에 의해 촬상된 촬상 데이터로부터 제3위치 편차(X3,Y3)를 구하는 형상을 설명하는 도면이다. 도 10의 촬상 데이터(162)에 있어서, 시야의 중앙에 제1카메라(26)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(164)이 있어서, 그 오른쪽 위에, 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 촬상된 기준 패턴(166u)의 에지가 있다. 여기에서 상기한 바와 같이, 첨자의 u는, 후술의 제4위치 편차를 구할 때의 칩과 높이 위치가 다른 것을 구별하기 위해서 사용하고 있다. 칩(10u)의 기준 패턴으로서는, 후술하는 제4위치 편차측정의 때와 같은 것이 사용될 수 있으면 된다. 예를 들면, 특정의 전극 패드의 형상 패턴, 또는 칩(10)의 특정한 에지 형상 패턴을 사용할 수 있다. 제1카메라(26)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(164)의 교점은, 제1카메라(26)의 촬상 기준위치이며, 칩의 기준 패턴(166u)의 에지는, 칩(10u)의 기준위치를 도시하는 것이다. 10 is a view for explaining the first to obtain a third position error (X 3, Y 3) from the image pickup data obtained by the camera (26) shape. In the imaging data 162 of FIG. 10, there is a cross pattern 164 showing the imaging center of the first camera 26 at the center of the field of view, and the chip 10u at the height Z 2 on the right side thereof. Is the edge of the captured reference pattern 166u. As described above, the subscript u is used to distinguish between the chip and the height position when determining the fourth positional deviation described later. As a reference pattern of the chip 10u, the same thing as the case of the 4th position deviation measurement mentioned later should just be used. For example, the shape pattern of a specific electrode pad or the specific edge shape pattern of the chip 10 can be used. The intersection of the cross pattern 164 showing the imaging center of the first camera 26 is the imaging reference position of the first camera 26, and the edge of the reference pattern 166u of the chip is the reference of the chip 10u. To show the location.

제3위치 편차(X3,Y3)는, 제1카메라(26)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(164)의 교점을 기준위치로서, 기준위치로부터, 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 기 준 패턴(166u)의 에지를 향하는 벡터로 주어진다. 1차원의 경우에는, 제1카메라(26)의 촬상 중심을 나타내는 광축(22)의 위치로부터 본 높이(Z2)에 있어서의 칩(10u)의 기준위치까지의 거리가 되어, 본 발명의 원리에서 설명한 X3이 된다. The third position deviation X 3 , Y 3 is based on the intersection of the cross pattern 164 showing the imaging center of the first camera 26 as a reference position, and the chip at the height Z 2 from the reference position. It is given as a vector facing the edge of the reference pattern 166u of (10u). In the one-dimensional case, the distance is from the position of the optical axis 22 representing the imaging center of the first camera 26 to the reference position of the chip 10u at the height Z 2 , which is the principle of the present invention. X 3 is explained.

상기에 있어서, 제1위치 편차를 구하는 처리와, 제2위치 편차를 구하는 처리는, 함께 높이(Z1)에 있는 타겟(32)의 촬상 처리를 포함한다. 타겟(32)은, 본 발명의 원리에서 설명한 것 같이, 제1카메라(26)의 광축(22)과 제2카메라의 광축(24)의 사이의 위치 어긋남(Xc)과, 본딩 툴(12)이 상하 이동할 때의 위치 어긋남(Xn)을 구할 때의 위치기준이 되는 것이므로, 위치 어긋남 보정 처리의 사이에 있어서 그 위치가 변화되지 않는 것이 요구된다. In the above, the processing to obtain the first position deviation, and a process to obtain a second position deviation, and with an imaging process of the target 32 in the height (Z 1). As described in the principles of the present invention, the target 32 includes the position shift Xc between the optical axis 22 of the first camera 26 and the optical axis 24 of the second camera, and the bonding tool 12. Since it becomes a position reference | standard when calculating position shift Xn at the time of vertical movement, it is calculated | required that the position does not change between position shift correction processes.

실제로는, 타겟(32)을 보유하는 타겟 이동기구(54)의 유지의 시간경과에 따른 변화나, 고온의 본딩 툴(12)로부터의 열로, 타겟(32)의 위치는 위치 어긋남 보정 처리의 사이에 보정 처리에 영향을 미치게 하는 정도의 변화가 생길 것이다. 거기에서, 제1위치 편차를 구하기 위한 타겟(32)의 촬상처리와, 제2위치 편차를 구하기 위한 타겟(32)의 촬상처리는, 동시에 행하는 것이 바람직하다. 구체적으로는, 상하 카메라 제어부(116)로부터의 제2카메라(28)에 대한 촬상 지시와, 보정용 카메라 제어부(112)로부터의 보정용 카메라(30)에 대한 촬상 지시를, 가능하면 동시에, 동시 처리를 할 수 없을 때는, 가능한 한 근접한 시간 경과에서 행한다. 그리고, 촬상한 데이터를 기억 장치(108) 등에 일단 기억하고, 그 후에 각 위치 편차를 구하는 화상 데이터 처리 및 필요한 연산처리를 행한다. In practice, the position of the target 32 is changed during the position shift correction process by the change with the passage of time of the holding of the target moving mechanism 54 holding the target 32 and the heat from the high temperature bonding tool 12. There will be a change in the degree that affects the correction process. There, it is preferable to perform the imaging process of the target 32 for obtaining the 1st position deviation, and the imaging process of the target 32 for obtaining the 2nd position deviation simultaneously. Specifically, simultaneous image processing instruction for the second camera 28 from the upper and lower camera control unit 116 and the imaging instruction for the camera 30 for correction from the camera control unit 112 for correction are simultaneously and simultaneously performed. If not possible, the process is performed at the closest time possible. Then, the imaged data is stored once in the storage device 108 or the like, and thereafter, image data processing for obtaining each position deviation and necessary arithmetic processing are performed.

제1위치 편차로부터 제3위치 편차를 구하는 처리에 계속해서, 적어도 제1위치 편차로부터 제3위치 편차를 구하기 위한 각 촬상 처리가 끝나면, 제4위치 편차측정 모듈(136)은, 기판(14)의 높이(Z1)에 있어서, 칩(10d)을 보유한 본딩 툴(12d)을 보정용 카메라(30)로 촬상시켜, 그 촬상 데이터에 기초하여 제4위치 편차를 구하는 기능을 갖는다. 구체적으로는, 이하의 복수의 처리를 행한다. 즉, 상하 카메라 제어부(116)에 지령을 주고, 상하 카메라(60)를 퇴피 포지션(96)에 이동시킨다. 그리고, 타겟 제어부(114)에 지령을 주고, 타겟 이동기구(54)를 구동해서 타겟(32)을 보정용 카메라(30)의 상부측에 가까이 하도록 강하시킨다. 그 후, 본딩 툴 제어부(110)에 지령을 주어, 본딩 툴(12)의 높이가, 기판(14)의 높이인 Z1에 칩(10)의 본딩 면이 이르도록 강하시킨다. 도 11은, 그렇게 해서 설정된 보정 포지션(94)에 있어서의 각 요소의 배치상황을 도시하는 도면이다. Subsequent to the process of calculating the third position deviation from the first position deviation, after each imaging process for obtaining the third position deviation from at least the first position deviation, the fourth position deviation measuring module 136 performs the substrate 14. At the height Z 1 , the bonding tool 12d having the chip 10d is imaged by the correction camera 30, and has a function of determining the fourth positional deviation based on the captured image data. Specifically, the following plurality of processes are performed. That is, a command is given to the up-and-down camera control unit 116, and the up-and-down camera 60 is moved to the retracted position 96. Then, a command is given to the target control unit 114, and the target moving mechanism 54 is driven to lower the target 32 closer to the upper side of the camera 30 for correction. Thereafter, a command is given to the bonding tool control unit 110 so that the height of the bonding tool 12 is lowered so that the bonding surface of the chip 10 reaches Z 1 , which is the height of the substrate 14. FIG. 11 is a diagram showing the arrangement status of each element in the correction position 94 thus set.

타겟(32)을 기판(14)의 높이인 Z1으로부터 보정용 카메라(30)의 상부측에 가까이 하도록 강하시키는 것은, 1개에는 높이(Z1)에 본딩 툴(12)이 강하하는데 방해가 안되도록 하기 위해서이다. 이것에 의해, 칩(10)의 본딩 면이 높이(Z1)에 정확하게 설정할 수 있다. 이 하나의 목적은, 강하해 오는 본딩 툴(12)로부터 타겟(32)을 가능한 한 떼어 놓고, 고온의 본딩 툴(12)로부터의 열의 영향을 퇴피중이여도 보다 적게 하기 위해서이다. 또한 보정용 카메라(30)의 상부측에 가까이 하는 것은, 이렇게 하여도, 보정용 카메라(30)의 초점맞춤 위치로부터 타겟(32)이 맞지 않는 것으로, 보정용 카메라(30)에 의한 본딩 툴(12)의 촬상을 방해하는 것이 안되기 때문이다. 또한 타겟(32)의 퇴피를 수평방향의 이동이 아니고, 높이 방향의 이동에 의해 행하는 것으로 하는 것은, 타겟(32)의 퇴피의 전후에 있어서의 XY평면 내의 위치의 재현성이, 수평방향의 이동의 방법과 비교하면, 보다 좋기 때문이다. Dropping the target 32 closer to the upper side of the correction camera 30 from Z 1 , which is the height of the substrate 14, does not prevent the bonding tool 12 from descending at a height Z 1 . To make it possible. As a result, a bonding surface of the chip 10 can be accurately set at a height (Z 1). This object is to separate the target 32 from the bonding tool 12 which descends as much as possible, and to reduce the influence of the heat from the high temperature bonding tool 12 even if it is evacuating. In addition, the target 32 is not aligned from the focusing position of the correction camera 30 even when it is in this way as close to the upper side of the correction camera 30, so that the bonding tool 12 of the correction camera 30 This is because it does not disturb the imaging. Further, the retraction of the target 32 is performed by the movement in the height direction instead of the movement in the horizontal direction, so that the reproducibility of the position in the XY plane before and after the retraction of the target 32 is determined by the horizontal movement. It is because it is better compared with a method.

그 상태에 있어서, 제4위치 편차측정 모듈(136)은, 더욱이, 칩(10)을 보유한 본딩 툴(12)을 보정용 카메라(30)로 촬상시키고, 그 촬상 데이터에 기초하여 제4위치 편차를 구하는 기능을 갖는다. In this state, the fourth position deviation measuring module 136 further captures the bonding tool 12 holding the chip 10 with the correction camera 30 and detects the fourth position deviation based on the captured image data. Has the function to obtain.

구체적으로는, 보정용 카메라 제어부(112)에 지령을 주고, 보정용 카메라(30)에 촬상 지시를 내게 하고, 촬상 데이터를 취득시켜, 취득한 촬상 데이터를 제4위치 편차측정 모듈(134)에 전송시킨다. 그리고, 전송된 촬상 데이터에 기초하여 제4위치 편차를 구한다. Specifically, a command is given to the correction camera control unit 112, an image capturing instruction is issued to the correction camera 30, the image capturing data is acquired, and the acquired image capturing data is transmitted to the fourth position deviation measuring module 134. Then, the fourth positional deviation is obtained based on the transferred image data.

도 12는, 보정용 카메라(30)에 의해 촬상된 촬상 데이터로부터 제4위치 편차(X4,Y4)를 구하는 형상을 설명하는 도면이다. 도 12의 촬상 데이터(150)에 있어서, 시야의 중앙에 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(152)이 있다. 이것은 도 8에 있어서의 보정용 카메라(30)의 시야의 경우와 같다. 그리고, 그 오른쪽 위에, 높이(Z1)에 있어서의 칩(10d)의 촬상된 기준 패턴(168d)의 에지가 있다. 여기에서 첨자의 d는, 전술한 제3위치 편차를 구할 때의 칩과 높이 위치가 다른 것을 구별하기 위해서 사용하고 있다. 칩(10d)의 기준 패턴으로서는, 상기의 제3위치 편차측정의 때와 같은 것을 사용한다. 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 도시 하는 십자 패턴(152)의 교점은, 보정용 카메라(30)의 촬상 기준위치이며, 칩의 기준 패턴(168d)의 에지는, 칩(10d)의 기준위치를 도시하는 것이다. 또한, 도 8에서 측정한 타겟(32)의 위치기준(P0)를 참고로 나타냈다. 12 is a view from the image pickup data obtained by the correction camera 30 describes the image to obtain a fourth position deviations (X 4, Y 4). In the imaging data 150 of FIG. 12, there is a cross pattern 152 showing the imaging center of the correction camera 30 at the center of the field of view. This is the same as the case of the field of view of the correction camera 30 in FIG. On the right side thereof, there is an edge of the captured reference pattern 168d of the chip 10d at the height Z 1 . Here, the subscript d is used to distinguish between the chip and the height position when the above-described third positional deviation is obtained. As the reference pattern of the chip 10d, the same one as in the above-described third position deviation measurement is used. The intersection of the cross pattern 152 showing the imaging center of the correction camera 30 is the imaging reference position of the correction camera 30, and the edge of the reference pattern 168d of the chip indicates the reference position of the chip 10d. It is to illustrate. In addition, with appropriately located standard (P 0) of the target 32 is measured at 8 as a reference.

제4위치 편차(X4,Y4)는, 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 도시하는 십자 패턴(152)의 교점을 기준위치로서, 기준위치로부터, 높이(Z1)에 있어서의 칩(10d)의 기준 패턴(168d)의 에지를 향하는 벡터로 주어진다. 1차원의 경우에는, 보정용 카메라(30)의 촬상 중심을 나타내는 광축(31)의 위치로부터 본 높이(Z1)에 있어서의 칩(10d)의 기준위치까지의 거리가 되어, 본 발명의 원리에서 설명한 X4가 된다. The fourth position deviation X 4 , Y 4 is based on the intersection of the cross pattern 152 showing the imaging center of the correction camera 30 as a reference position, and the chip at the height Z 1 from the reference position. 10d) as the vector facing the edge of the reference pattern 168d. In the one-dimensional case, the distance is from the position of the optical axis 31 indicating the imaging center of the correction camera 30 to the reference position of the chip 10d at the height Z 1 . X 4 is described.

이렇게 하여 구해진 제1위치 편차(X1,Y1), 제2위치 편차(X2,Y2), 제3위치 편차(X3,Y3) 및 제4위치 편차(X4,Y4)는, 위치 어긋남 산출 모듈(138)에 보내진다. 위치 어긋남 산출 모듈(138)은, 이들의 데이터를 사용해서 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하는 보정량△(X,Y)을 구하는 기능을 갖는다. 보정량△(X,Y)은, 본 발명의 원리에서 설명한 식(2)를 2차원에 확장한 (3)식에서 주어진다. The first position deviation (X 1 , Y 1 ), the second position deviation (X 2 , Y 2 ), the third position deviation (X 3 , Y 3 ) and the fourth position deviation (X 4 , Y 4 ) obtained in this way Is sent to the position shift calculation module 138. The position shift calculation module 138 has a function of calculating correction amounts Δ (X, Y) for correcting the position shift in bonding using these data. Correction amount (DELTA) (X, Y) is given by Formula (3) which extended Formula (2) demonstrated by the principle of this invention to two dimensions.

△(X,Y)=(X3,Y3)-[(X2,Y2)-(X1,Y1)+(X4,Y4)]...(3)△ (X, Y) = (X 3 , Y 3 )-[(X 2 , Y 2 )-(X 1 , Y 1 ) + (X 4 , Y 4 )] ... (3)

다음에 위치 결정부(122)는, 본딩에 있어서의 위치 어긋남이 없도록, 상기한 바와 같이 해서 요청된 보정량△(X,Y)을 사용하고, 기판(14)과 칩(10)을 위치 결정하는 기능을 갖는다. 구체적으로는, 다음의 몇 개의 기능을 포함한다. 우선, 본딩 툴 제어부(110)에 지령을 주어, 본딩 툴(12)을 위치 결정·본딩 포지션(92)에 이동시킨다. 본딩 툴(12)에 보유된 칩(10)의 표면의 높이 위치는 Z2에 설정된다. 또한 상하 카메라 제어부(116)에 지령을 주어, 상하 카메라(60)도 위치 결정·본딩 포지션(92)에 이동시킨다. 그리고, 상하 카메라(60)에 포함되는 제1카메라(26) 및 제2카메라(28)에 촬상 지시를 내고, 제1카메라(26)에 대하여, 본딩 툴(12)에 보유된 칩(10)의 촬상과, 제2카메라(28)에 기판(14)의 촬상을 행하게 하고, 그들의 촬상 데이터를 위치 결정부(122)에 전송시킨다. 전송된 촬상 데이터와, 조금전에 요청된 보정량△(X,Y)에 근거해서, 위치 어긋남을 보정하고, 그 결과를 본딩 툴 제어부(110)에 지령을 주고, 그에 따라서, 기판(14)의 기준위치와, 본딩 툴(12)에 보유된 칩(10)의 기준위치를 위치 결정한다. 또한, 위치 결정시에 칩(10)을 보유하는 본딩 툴(12)과, 기판(14)과, 상하 카메라(60)의 위치관계는, 상기의 도 6에 있어서 파선으로 도시했다. Next, the positioning unit 122 positions the substrate 14 and the chip 10 by using the correction amounts Δ (X, Y) requested as described above so that there is no positional shift in the bonding. Has the function. Specifically, it includes some of the following functions. First, a command is given to the bonding tool control unit 110 to move the bonding tool 12 to the positioning / bonding position 92. The height position of the surface of the chip 10 held in the bonding tool 12 is set at Z 2 . In addition, a command is given to the vertical camera control unit 116 to move the vertical camera 60 to the positioning / bonding position 92. Then, the imaging instruction is given to the first camera 26 and the second camera 28 included in the upper and lower cameras 60, and the chip 10 held in the bonding tool 12 with respect to the first camera 26. Image pickup and the second camera 28 are imaged on the substrate 14, and the image pickup data is transferred to the positioning unit 122. Based on the transferred image data and the correction amount Δ (X, Y) requested a while ago, the position shift is corrected, and the result is commanded to the bonding tool control unit 110, whereby the reference of the substrate 14 The position and the reference position of the chip 10 held in the bonding tool 12 are positioned. In addition, the positional relationship of the bonding tool 12 holding the chip | tip 10, the board | substrate 14, and the up-and-down camera 60 at the time of positioning is shown with the broken line in FIG.

도 13은, 제1카메라(26)의 시야의 안에서, 보정량△(X,Y)의 처리를 행해서 위치 결정하는 형상을 설명하는 도면이다. 지금, 보정 포지션(94)으로부터 위치 결정·본딩 포지션(92)에 이동했을 때, 위치 결정·본딩 포지션(92)에 있어서의 제1카메라(26)의 촬상 데이터(162)가, 보정 포지션(94)에 있어서의 도 10과 같도록 한다. 이 경우, 제1카메라(26)의 촬상 중심을 나타내는 십자 패턴(164)의 교점과, 칩(10u)의 기준위치인 기준 패턴(166u)의 에지의 사이가, 제3위치 편차(X3,Y3)만큼 떨어져 있다. 지금, 설명을 간단하게 하기 위해서, 기판(14)의 기준위치는 제2카메라(28)의 촬상 중심과 일치하는 것으로 한다. 이 경우, 제1카메라(26)의 촬상 중심과 칩(10)의 기준위치의 위치 결정은, 제3위치 편차(X3,Y3) 만큼을 보정하는 것이 아니고, 제1카메라(26)의 촬상 중심으로부터 보아서, 보정량△(X,Y)의 위치에 칩(10)의 기준위치를 이동시켜서 행한다. 이렇게 하는 것으로, 식(3)을 따른 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하는 위치 결정을 행할 수 있다. FIG. 13: is a figure explaining the shape which positions and processes correction amount (DELTA) (X, Y) in the visual field of the 1st camera 26. FIG. Now, when moving from the correction position 94 to the positioning bonding position 92, the imaging data 162 of the 1st camera 26 in the positioning bonding position 92 is a correction position 94 In Fig. 10). In this case, between the intersection of the cross pattern 164 indicating the imaging center of the first camera 26 and the edge of the reference pattern 166u which is the reference position of the chip 10u, the third position deviation X 3 ,. Y 3 ) away. Now, for the sake of simplicity, the reference position of the substrate 14 is assumed to coincide with the imaging center of the second camera 28. In this case, the positioning of the imaging center of the first camera 26 and the reference position of the chip 10 does not correct only the third positional deviations X3 and Y3, but the imaging center of the first camera 26. From the above, the reference position of the chip 10 is moved to the position of the correction amounts Δ (X, Y). By doing in this way, the positioning which correct | amends the position shift in bonding according to Formula (3) can be performed.

보정량△(X,Y)과의 관계를 나타내기 위해서, 도 13에, 도 8, 도 9, 도 12에서 각각 구해진 제1위치 편차(X1,Y1), 제2위치 편차(X2, X2), 제4위치 편차(X4, X4)도 맞추어서 도시했다. 또한, 기판(14)의 기준위치가 제2카메라(28)의 촬상 중심으로 일치하지 않고 있을 때는, 그 불일치 만큼 제1카메라(26)의 기준위치를 비켜 놓는 것으로 같은 보정을 행할 수 있다. In order to show the relationship with the correction amounts Δ (X, Y), the first position deviations X 1 , Y 1 and the second position deviations X 2 , obtained in FIG. 13, respectively in FIGS. 8, 9, and 12, respectively. X 2 ) and the fourth positional deviations X 4 , X 4 are also shown. In addition, when the reference position of the board | substrate 14 does not correspond with the imaging center of the 2nd camera 28, the same correction | amendment can be performed by moving the reference position of the 1st camera 26 as much as the mismatch.

본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하는 위치 결정을 행한 뒤, 본딩 처리부(124)는, 칩(10)을 기판(14)에 본딩하는 기능을 갖는다. 구체적으로는, 다음의 몇개의 기능을 포함한다. 위치 결정·본딩 포지션(92)에 있어서 상기의 위치 결정이 행하여진 후, 상하 카메라 제어부(116)에 지령을 주고, 상하 카메라(60)를 퇴피 포지션(96)에 퇴피시킨다. 다음에 본딩 툴 제어부(110)에 지령을 주고, 칩(10)을 보유한 본딩 툴(12)을 강하시키고, 기판(14)에 칩(10)의 범프를 접촉시켜, 가압 가열에 의해 본딩을 행하게 한다. 본딩 처리가 종료하면, 본딩 툴(12)의 진공흡인을 멈추고 본딩 툴(12)을 상승시킨다. After performing the positioning to correct the positional shift in the bonding, the bonding processing unit 124 has a function of bonding the chip 10 to the substrate 14. Specifically, it includes some of the following functions. After the above positioning is performed in the positioning and bonding position 92, the upper and lower camera control unit 116 is instructed, and the upper and lower camera 60 is retracted to the retracted position 96. Next, a command is given to the bonding tool control unit 110, the bonding tool 12 holding the chip 10 is dropped, the bumps of the chip 10 are brought into contact with the substrate 14, and bonding is performed by pressure heating. do. When the bonding process is finished, vacuum suction of the bonding tool 12 is stopped and the bonding tool 12 is raised.

이렇게 하여, 타겟(32)의 촬상 처리를 대략 동시에 행하도록 하는 것으로, 위치 기준인 타겟(32)의 보정 처리의 사이에 있어서의 위치의 시간경과에 따른 변 화의 영향을 억제할 수 있다. 즉, 일단 타겟(32)의 위치에 관한 데이터 수집이 끝나면, 그 데이터에 의하여, 환경 또는 시간적으로 변화한 적이 없는 가상적으로 보편적인 타겟(32)의 위치를 정할 수 있다. 그리고, 이후는, 이 가상적인 타겟(32)의 위치에 기초하여 위치 틀어짐 보정량을 구할 수 있다. In this way, the imaging process of the target 32 is performed substantially simultaneously, and the influence of the change with the passage of time of the position between the correction processes of the target 32 which is a position reference | standard can be suppressed. That is, once data collection regarding the position of the target 32 is completed, the position of the virtually universal target 32 which has never changed environment or time can be determined by the data. Subsequently, the position shift correction amount can be obtained based on the position of this virtual target 32.

또, 이와 같이 일단 가상적인 타겟(32)의 위치가 정해지면, 타겟(32)을 임의의 곳에 퇴피시켜도 된다. 따라서, 칩(10)을 보유한 본딩 툴(12)을 기판(14)의 높이(Z1)의 위치에 하강시키는 것을 방해하지 않는 곳에 타겟(32)을 퇴피시킬 수 있다. 이것으로, 제4위치 편차를 구할 때에, 칩(10)을 보유한 본딩 툴(12)을 기판(14)의 높이(Z1)의 위치에 정확하게 하강시킬 수 있다. 또, 이것으로 타겟(32)이 고온의 본딩 툴(12)에 접촉하고, 그 위치정밀도를 열화시키는 일도 없다. In addition, once the position of the virtual target 32 is determined in this way, the target 32 may be evacuated to an arbitrary position. Therefore, the target 32 can be retracted where it does not prevent the bonding tool 12 holding the chip 10 from lowering to the position of the height Z 1 of the substrate 14. Thus, when the fourth positional deviation is obtained, the bonding tool 12 holding the chip 10 can be accurately lowered to the position of the height Z 1 of the substrate 14. Moreover, the target 32 does not contact the high temperature bonding tool 12 by this, and it does not deteriorate the position precision.

따라서, 본딩에 있어서의 칩과 기판의 위치 결정시에, 2 카메라 사이의 어긋난 양 및 본딩 툴의 이동에 의한 어긋난 양을 정확하게 보정하고, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 있다. Therefore, at the time of positioning a chip | tip and a board | substrate in bonding, the amount of shift | offset | difference between two cameras and the amount of shift | offset | difference by the movement of a bonding tool can be corrected correctly, and the position shift in bonding can be made smaller.

상기 구성에 의하면, 제1카메라와 제2카메라를 갖는 위치 결정 기구는, 그 위치 어긋남을 보정하기 위해서, 더욱 위치기준을 갖는 타겟과, 보정용 카메라를 구비하고, 타겟의 위치기준과 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제1위치 편차와, 타겟의 위치기준과 제2카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제2위치 편차와, 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 제1카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제3위치 편차와, 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제4위치 편차를 구한다. 제1위치 편차로부터 제4위치 편차는, 본 발명의 원리에서 설명한 X1, X2, X3, X4에 대응하므로, 이들에 기초하여 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 구해서 그것을 보정한다. 따라서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 있다. According to the above configuration, the positioning mechanism having the first camera and the second camera further includes a target having a positional reference and a correcting camera, in order to correct the positional misalignment. The first positional deviation between the reference position, the second positional deviation between the positional reference of the target and the imaging reference position of the second camera, and between the reference position of the object with respect to the bonding tool and the imaging reference position of the first camera And a fourth positional deviation between the reference position of the object with respect to the bonding tool and the imaging reference position of the camera for correction. Since the fourth position deviation from the first position deviation corresponds to X 1 , X 2 , X 3 , and X 4 described in the principles of the present invention, the position shift in bonding is obtained based on these and corrected. Therefore, positional shift in bonding can be made smaller.

이 때, 타겟은 제2카메라와 보정용 카메라에 의하여 촬상되지만, 이 촬상을 대략 동시에 행하므로, 보정작업을 행하는 사이에 있어서의 타겟의 위치의 시간경과에 따른 변화가 촬상 데이터에 근거하는 위치 편차의 산출에 영향을 주는 것을 억제할 수 있다. 예를 들면, 본딩 장치가 히터 등을 갖고 있을 경우 등은, 높은 환경온도에 의해 보정작업을 행하는 사이에 있어서도 타겟의 위치가 변화할 수 있다. 그러한 시간경과에 따른 변화에 관해서도, 타겟에 필요한 촬상의 모두를, 대략 동시에 행함으로써, 촬상 데이터의 취득시각의 차에 의한 영향을 없앨 수 있다. At this time, the target is picked up by the second camera and the correction camera, but the imaging is performed at substantially the same time. Therefore, the change in the position of the target during the correction operation is changed in accordance with the image pickup data. Influence on output can be suppressed. For example, in the case where the bonding apparatus has a heater or the like, the position of the target may change even during the correction operation by the high environmental temperature. Regarding such a change over time, by performing all of the imaging required for the target at about the same time, the influence due to the difference in the acquisition time of the imaging data can be eliminated.

또, 타겟는, 촬상 데이터 등이 기억된 후에 촬상위치로부터 퇴피하는 것으로 했으므로, 제4위치 편차를 구할 때에, 본딩 툴에 관한 대상물의 높이 위치의 설정의 방해에도 불구하고, 예를 들면, 타겟의 촬상위치의 높이에 본딩 툴에 관한 대상물의 높이를 정확하게 설정하는 것도 가능해 진다. 더욱, 타겟을 본딩 툴로부터 충분히 떼어 놓아서 퇴피시키므로써 예를 들면 본딩 툴이 고온의 경우 등에 있어서의 온도의 영향이 타겟에 미치지 못하게 할 수 있다. In addition, since the target is to be retracted from the imaging position after the imaging data and the like are stored, in order to obtain the fourth positional deviation, in spite of the disturbance of the setting of the height position of the object with respect to the bonding tool, for example, imaging of the target is performed. It is also possible to accurately set the height of the object with respect to the bonding tool at the height of the position. Further, the target is sufficiently separated from the bonding tool to be evacuated, so that the influence of temperature, for example, when the bonding tool is at a high temperature, does not reach the target.

또한 타겟은, 높이 방향으로 이동해서 퇴피하는 것으로 했으므로, 타겟이 수 평방향으로 퇴피하는 것에 비하여, 그 수평면 내의 위치의 재현성을 향상시킬 수 있다. 또, 보정용 카메라의 초점맞춤 위치로부터 빠지는 높이에 퇴피하므로, 보정용 카메라의 촬상 데이터에 영향을 미치지 않는다. Further, since the target moves in the height direction and retracts, the reproducibility of the position in the horizontal plane can be improved as compared with the target retracting in the horizontal direction. In addition, since it retracts to the height deviating from the focusing position of the camera for correction, it does not affect the imaging data of the camera for correction.

또, 타겟는, 수평면 내에 길이방향 축을 갖는 기준 핀으로 했으므로, 용이하게 위치기준으로서의 타겟을 제작할 수 있고, 또, 투명판의 타겟을 사용할 경우에 비하여, 광이 투명판을 통과할 때의 굴절 등의 영향이 없다. In addition, since the target is a reference pin having a longitudinal axis in the horizontal plane, the target can be easily produced as a position reference, and compared with the case where the target of the transparent plate is used, such as refraction when light passes through the transparent plate, etc. No influence

또, 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 타겟을 배치한다. 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 본딩 툴에 관한 대상물을 배치해서 제4위치 편차를 구한다. 이것에 의해, 본 발명의 원리에 있어서 설명한 바와 같이, 본딩 툴의 높이 방향의 이동에 의한 어긋남(+Xn)과, 위치 결정용의 2 카메라 사이의 어긋남(+Xc)이 함께 존재할 때의 보정량△X=Xc+Xn을 구하고, 이들을 보정한다. 따라서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보다 적게 할 수 있다. Moreover, a target is arrange | positioned at the height substantially equal to the height where a board | substrate is arrange | positioned. The object with respect to a bonding tool is arrange | positioned at the height which is substantially the same as the height where a board | substrate is arrange | positioned, and a 4th position deviation is calculated | required. Thereby, as described in the principle of the present invention, the amount of correction when the shift (+ Xn) due to the movement in the height direction of the bonding tool and the shift (+ Xc) between the two cameras for positioning are present together X = Xc + Xn is found and these are corrected. Therefore, positional shift in bonding can be made smaller.

Claims (6)

본딩 툴 또는 본딩 툴에 보유된 본딩 대상물 또는 본딩 툴에 보유된 측정용 부재의 적어도 1개를 본딩 툴에 관한 대상물로서, 본딩 툴에 관한 대상물의 위치를 측정하는 제1카메라와 기판의 위치를 측정하는 제2카메라를 포함하는 위치 결정 기구를 갖추고, 위치 결정 기구에 의해, 본딩 툴에 보유된 본딩 대상물을 본딩 작업면에 배치된 기판의 결정된 위치에 위치 결정해서 본딩을 행하는 본딩 장치에 있어서,Measuring the position of the first camera and the substrate measuring the position of the object with respect to the bonding tool as at least one of the bonding object held by the bonding tool or the bonding tool or the measuring member held by the bonding tool. In the bonding apparatus provided with the positioning mechanism containing the 2nd camera to perform, and positioning by the positioning mechanism the bonding object hold | maintained by a bonding tool at the determined position of the board | substrate arrange | positioned at the bonding work surface, and bonding. 위치 결정 기구는, 더욱이,Positioning mechanism, moreover, 위치기준을 갖고 양측으로부터 관찰가능한 타겟과,Targets that can be viewed from both sides with positional criteria, 타겟의 일방측에 미리 정해진 위치관계로 배치되는 보정용 카메라와,A camera for correction arranged in a predetermined positional relationship on one side of the target, 보정용 카메라에 의해, 타겟을 촬상하고, 촬상 데이터에서 타겟의 위치기준과 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제1위치 편차를 구하는 제1측정수단과,First measuring means for picking up the target by the camera for correction and obtaining a first positional deviation between the target position reference and the image pickup reference position of the correction camera in the image pickup data; 미리 정해진 위치관계에서 제2카메라를 타겟의 타방측에 배치하고, 제2카메라에 의해 타겟을 촬상하고, 촬상 데이터에서 타겟의 위치기준과 제2카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제2위치 편차를 구하는 제2측정수단과,The second camera is placed on the other side of the target in a predetermined positional relationship, the target is imaged by the second camera, and the second positional deviation between the positional reference of the target and the imaging reference position of the second camera in the imaging data. The second measuring means obtained; 미리 정해진 위치관계에서 제1카메라를 본딩 툴에 관한 대상물에 대향하고, 제1카메라에 의해 본딩 툴에 관한 대상물을 촬상하고, 촬상 데이터에서 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 제1카메라의 촬상 기준위치의 사이의 제3위치 편차를 구 하는 제3측정수단과,The first camera is opposed to the object relating to the bonding tool in a predetermined positional relationship, the first camera captures an object related to the bonding tool, and the reference position of the object relating to the bonding tool in the imaging data and the imaging reference of the first camera. Third measuring means for obtaining a third positional deviation between the positions; 미리 정해진 위치관계에서 본딩 툴에 관한 대상물을 타겟의 타방측에 배치하고, 보정용 카메라에 의해, 본딩 툴에 관한 대상물을 촬상하고, 촬상 데이터에서 본딩 툴에 관한 대상물의 기준위치와 보정용 카메라의 촬상 기준위치의 간의 제4위치 편차를 구하는 제4측정수단과,The object relating to the bonding tool is disposed on the other side of the target in a predetermined positional relationship, the object for the bonding tool is imaged by the camera for correction, and the reference position of the object for the bonding tool in the imaging data and the imaging reference for the camera for correction. Fourth measuring means for obtaining a fourth positional deviation between the positions; 제1위치 편차와 제2위치 편차와 제3위치 편차와 제4위치 편차에 근거해서, 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 산출하는 산출 수단과,Calculating means for calculating a positional shift in bonding based on the first positional deviation, the second positional deviation, the third positional deviation, and the fourth positional deviation; 산출 결과에 근거해서 본딩에 있어서의 위치 어긋남을 보정하여 위치 결정을 행하는 수단을 구비하고,A means for correcting the positional shift in bonding and performing positioning based on the calculation result; 제1측정수단에 있어서의 타겟의 촬상과, 제2측정수단에 있어서의 타겟의 촬상은, 대략 동시에 행하여지는 것을 특징으로 하는 본딩 장치. The bonding apparatus according to claim 1, wherein the imaging of the target in the first measuring means and the imaging of the target in the second measuring means are performed at substantially the same time. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 타겟의 촬상 데이터 또는 거기에 근거하는 데이터를 기억하는 기억수단을 구비하고,Storage means for storing the imaging data of the target or data based thereon; 타겟은, 그 촬상 데이터 또는 거기에 근거하는 데이터가 기억된 후에, 촬상위치로부터 퇴피 가능한 것을 특징으로 하는 본딩 장치. The target device can be retracted from an imaging position after the imaging data or the data based thereon is stored. 제 2 항에 있어서,The method of claim 2, 타겟은, 높이 방향으로 이동하고, 보정용 카메라의 초점맞춤 위치로부터 벗 어난 높이에 퇴피하는 것을 특징으로 하는 본딩 장치. And the target moves in the height direction and retracts at a height deviated from the focusing position of the correction camera. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 타겟은, 수평면 내에 길이방향 축이 배치되는 기준 핀인 것을 특징으로 하는 본딩 장치. And the target is a reference pin having a longitudinal axis disposed in the horizontal plane. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 타겟은, 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 배치되는 것을 특징으로 하는 본딩 장치. The target is arranged at a height substantially equal to the height at which the substrate is placed. 제 1 항에 있어서,The method of claim 1, 제4측정수단은, 기판이 배치되는 높이와 대략 같은 높이에 본딩 툴에 관한 대상물을 배치해서 제4위치 편차를 구하는 것을 특징으로 하는 본딩 장치. The 4th measuring means arrange | positions the object with respect to a bonding tool in the height which is substantially the same height as the board | substrate is arrange | positioned, and the bonding apparatus characterized by the above-mentioned.
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