KR20060051029A - 디스플레이 표면용 적층체와 그의 제조방법 - Google Patents

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KR20060051029A
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미도리 나카조
노리나가 나카무라
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다이니폰 인사츠 가부시키가이샤
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Abstract

디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서, 상기 적층체의 표면에 저굴절률층이 형성되어 있고, 저굴절률층측의 막면측 5°시감반사율이 3% 이하이며, 면내의 평균색도(b*)가 +1.00 ~ -5.00의 범위인 적층체.
디스플레이, 저굴절률층, 적층체

Description

디스플레이 표면용 적층체와 그의 제조방법{LAMINATE FOR DISPLAY SURFACE AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME}
본 발명은, 각종 디스플레이 표면에 사용할 수 있는 적층체 및 그것을 사용한 화상표시장치와 그의 제조방법에 관한 것이다.
CRT, 액정판넬, 플라즈마 디스플레이, EL 디스플레이 등의 각종 디스플레이에는 그 표면 특성을 향상시키기 위한 각종 적층체가 사용되고 있다. 이러한 적층체로는, 예를 들면, 외광의 반사에 의한 표시품질의 저하를 줄이기 위하여 표면에 저굴절률층을 가진 적층체, 대전에 의한 먼지 등의 부착을 방지하는 대전방지층을 가진 적층체, 찰과창이나 긁힌 상처를 방지하는 하드코트(hard coat)층을 가진 적층체 등을 들 수 있다.
이러한 적층체에 있어서, 각 층의 두께가 불균일한 것이 원인이 되어 얼룩이 발생하는 경우가 있다. 예를 들면, 인쇄법 등의 습식법에 의해 요철 표면에 층을 형성하는 경우, 요철의 곡(谷) 부분과 산(山) 부분의 두께 불균일에 의해, 푸른 빛깔과 노란 빛깔이 생기는 얼룩이 발생하기 쉽다. 이러한 적층체를 디스플레이의 전면판에 사용하는 경우에는 시인성을 현저하게 저하시킬 뿐만 아니라, 디스플레이의 제품 품위도 떨어뜨려 버린다.
따라서, 종래부터 이러한 얼룩을 줄인 적층체가 요구되고 있다. 이러한 얼룩은 각층의 두께를 균일하게 하면 해소할 수 있으나, 현재로서는 고비용의 형성방법이 아니면 두께 균일성은 실현할 수 없고, 인쇄법 등 저비용 습식형성방법에 의해 이러한 균일성을 실현하는 것은 곤란하다. 그래서, 허용범위 내의 얼룩을 가진 적층체와, 그 허용범위 내로 하기 위한 층두께를 가진 적층체와, 저비용의 방법이면서 그 허용범위 내에서 얻을 수 있는 층 형성방법의 개발이 요구되고 있다. 그리고, 이 분야의 종래기술로서, 예를 들면 특개 2002-79600호 공보, 특개 2003-292831호 공보가 있다.
본 발명의 목적은 상기 과제를 해결하는 것, 즉, 디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서, 허용범위 내의 얼룩을 가진 적층체와, 그 허용범위 내로 하기 위한 층두께를 가진 적층체와, 저비용의 방법이면서 그 허용범위 내에서 얻을 수 있는 층 형성방법을 제공하는 것이다.
본 발명자는, 디스플레이 표면에 사용하는 적층체에 있어서 얼룩 허용수치 범위와 그 허용범위 내로 하기 위한 층두께를 가진 적층체와, 저비용의 방법이면서 그 허용범위 내에서 얻을 수 있는 층 형성방법을 견출하여 본 발명을 완성하였다.
즉, 본 발명은 디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서, 상기 적층체의 표면에 저굴절률층이 형성되어 있고, 저굴절률층측의 막면측 5°시감반사율이 3% 이하이며, 면내의 평균색도(b*)가 +1.00 ~ -5.00의 범위인 것을 특징으로 하는 적층체이다.
본 발명의 적층체는 바람직하게는 상기 적층체가 적어도 기재층, 하드코트층을 가지고, 상기 하드코트층의 표면에 저굴절률층이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 적층체는 바람직하게는 상기 평균색도(b*)가 0.00 ~ -3.00의 범위인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 적층체는 바람직하게는 동일면 내 1 m 각 내의 b*의 최대치와 최소치의 차가, b*가 0을 넘을 때에는 2.50 이하, 넘지 않을 때에는 4.00 이하인 것을 특징으로 한다.
본 발명의 적층체는 바람직하게는 상기 적층체 표면이 요철상이고, 방현성(防眩性)을 갖는 것을 특징으로 한다.
본 발명의 적층체는 바람직하게는 상기 저굴절률층이 습식형성되는 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 적층체는 디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서, 상기 적층체의 표면에는 저굴절률층이 형성되어 있고, 상기 저굴절률층의 두께를 나노미터로 표시한 d가, 다음 식,
50 ≤ d ≤ 150, 및
100 - 0.75 ／ (1.46 - n) ≤ d ≤ 100 + 0.75 ／ (1.46 - n)
(식중 n은 저굴절률층의 굴절률이며, 1.3 ≤ n ≤ 1.45 임)
을 만족하는 적층체이다.
본 발명의 적층체는 바람직하게는 상기 적층체의 저굴절률층측의 막면측 5°시감반사율이 3% 이하이고, 면내의 평균색도(b*)가 +1.00 ~ -5.00의 범위인 것을 특징으로 한다.
또한, 본 발명의 화상표시장치는 디스플레이의 표면에 상기 적층체를 갖는 것을 특징으로 한다.
또한, 상기 적층체를 제조하는 본 발명의 방법은, 마이크로그라비아법을 사용하여 상기 적층체의 저굴절률층을 형성하는 적층체의 제조방법이다.
또한, 상기 적층체를 제조하는 본 발명의 방법은, 레벨링제를 첨가한 조성물을 사용하여 상기 적층체의 저굴절률층을 형성하는 적층체의 제조방법이다.
또한, 상기 적층체를 제조하는 본 발명의 방법은, 저굴절률층 형성용 조성물을 도포한 다음, 상기 저굴절률층 형성용 조성물의 도포면을 건조후드 내에서 상하 반전시키는 공정을 포함하는 적층체의 제조방법이다.
또한, 상기 적층체를 제조하는 본 발명의 방법은, 점도의존성이 높은 저굴절률층 형성용 조성물을 사용하여 상기 적층체의 저굴절률층을 형성하는 적층체의 제조방법이다.
본 발명에 의하여, 디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서 허용범위 내의 얼룩을 가진 적층체와, 그 허용범위 내로 하기 위한 층두께를 가진 적층체와, 저비용의 방법이면서 그 허용범위 내에서 얻을 수 있는 층 형성방법을 제공할 수 있다.
적층체
본 발명의 적층체는 디스플레이 표면에 사용할 수 있는 것이라면 특별히 한정되지 않으나, 바람직하게는 적층체 표면이 요철상인 것, 예를 들면 방현성 적층체가 바람직하다. 예를 들면, 철(凸)의 평균간격(Sm) 20 ~ 200 ㎛, 중심선 평균 조도(Ra) 0.05 ~ 0.2 ㎛인 표면 요철을 가진 방현성 적층체이다.
본 발명의 적층체의 층 구성은 표면에 저굴절률층이 형성되어 있으면 특별히 한정되지 않으나, 예를 들면, 순차적으로 기재층, 하드코트층, 저굴절률층이 적층되어 있을 수 있다. 적층체를 구성하는 이들 층은 디스플레이 표면용 적층체에 사용되는 일반적인 것을 사용할 수 있다. 예를 들면, 기재층의 소재로는 TAC나 PET를 사용할 수 있다. 하드코트층으로는 반응성 경화형 수지, 즉, 열경화형 수지 및／또는 전리방사선 경화형 수지 등을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 열경화형 수지에는 페놀수지, 요소수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민-요소 공축합수지, 규소슈지, 폴리실록산 수지 등이 사용되며, 필요에 따라서는 이들 수지에 가교제, 중합개시제, 중합촉진제, 용제, 점도조정제 등을 첨가하여 사용한다.
저굴절률층
본 발명의 적층체를 구성하는 저굴절률층은, 적층 후의 특성으로서 막면측 5°시감반사율이 3% 이하이고, 면내의 평균색도(b*)가 +1.00 ~ -5.00의 범위인 것을 특징으로 한다. 평균색도(b*)는 바람직하게는 0.00 ~ -3.00의 범위로 하는 것을 특징으로 한다. 또한, 바람직하게는 동일면 내 1 m 각 내의 b*의 최대치와 최소치의 차가, b*가 0을 넘을 때에는 2.50 이하, 넘지 않을 때에는 4.00 이하인 것을 특징으로 한다. 이렇게 함으로써, 육안에 의한 얼룩이 허용범위 내인 적층체를 수득하게 된다.
또한, 본 발명의 또다른 태양으로, 적층체를 구성하는 저굴절률층의 두께를 나노미터로 표시한 d는, 식, 50 ≤ d ≤ 150, 및 100 - 0.75 ／ (1.46 - n) ≤ d ≤ 100 + 0.75 ／ (1.46 - n), (식중 n은 저굴절률층의 굴절률로서, 1.3 ≤ n ≤ 1.45 임)을 만족하는 것으로 한다. 이렇게 함으로써, 육안에 의한 얼룩이 허용범위 내인 적층체를 수득하게 된다.
제조방법
본 발명의 적층체의 제조는, 저굴절률층의 형성 이외에는 통상의 디스플레이용 적층체의 제조방법에 의해 행할 수 있다.
본 발명의 방현층으로서는 투명성 수지를 사용할 수 있는데, 예를 들면, 열가소성 수지, 열경화형 수지, 전리방사선 경화형 수지 등을 사용할 수 있다. 방현층의 두께는 0.5 ㎛ 이상, 바람직하게는 3 ㎛ 이상인 것에 의해 내찰상성을 부여할 수 있다.
또한, 방현층의 내찰상성을 보다 향상시키기 위해서는 방현층에 사용하는 투명성 수지로서, 반응성 경화형 수지, 즉, 열경화형 수지 및／또는 전리방사선 경화형 수지 등을 사용하는 것이 바람직하다. 상기 열경화형 수지에는 페놀수지, 요소수지, 디알릴프탈레이트 수지, 멜라민 수지, 구아나민 수지, 불포화 폴리에스테르 수지, 폴리우레탄 수지, 에폭시 수지, 아미노알키드 수지, 멜라민-요소 공축합수지, 규소수지, 폴리실록산 수지 등이 사용되며, 필요에 따라서는 이들 수지에 가교제, 중합개시제, 중합촉진제, 용제, 점도조정제 등을 첨가하여 사용한다.
상기 전리방사선 경화형 수지로는, 전리방사선에 의해 가교중합반응 등을 일으켜 고체화하는 폴리머, 프리폴리머 또는 모노머가 사용된다. 구체적으로는, (메타)아크릴아미드, (메타)아크릴니트릴, (메타)아크릴산, (메타)아크릴산 에스테르 등의 (메타)아크릴로일기를 가진 화합물로 된 라디칼중합체(여기에서 (메타)아크릴로일 이라함은 아크릴로일 또는 메타아크릴로일을 의미함), 에폭시, 환상 에테르, 환상 아세탈, 락톤, 비닐 모노머, 환상 실록산과 알릴디아조늄염, 디알릴요오도늄염 등과의 조합으로 된 양이온 중합체, 티올기를 가진 화합물, 예를 들면, 트리메틸올프로판트리티오글리콜레이트, 트리메틸올프로판트리프로필레이트, 펜타에리스리톨테트라티오글리콜과 폴리엔 화합물로 된 폴리엔·티올계 등을 사용할 수 있다.
전리방사선 경화형 수지의 반응촉진제로서, 라디칼 발생제나 탈산소제를 첨가해도 좋다. 또한, 자외선에 의한 경화에 있어서의 광반응 개시제로는, 벤조인, 벤조인메틸에테르, 아세토페논, 벤조페논, 미힐러케톤, 디페닐설파이드, 디벤질설 파이드, 디에틸옥사이드, 트리페닐비이미다졸, 이소프로필-N,N-디메틸아미노벤조에이트 등의 1 종류 또는 2 종류 이상을 당해 전리방사선 경화형 수지 100 중량부에 대하여 0.1 ~ 10 중량부를 혼합하여 사용할 수 있다.
게다가, 상기 전리방사선 경화형 수지에는 필요에 따라 열가소성 수지를 첨가해도 좋다. 예를 들면, 폴리에틸렌, 폴리스티렌, 폴리메틸메타크릴레이트, 폴리부틸메타크릴레이트 등을 들 수 있다. 또한, 탄산칼슘, 실리카, 알루미나 등의 충전제나 감점제, 레벨링제, 착색제, 광휘성 안료 등을 첨가해도 좋다. 또한, 왁스, 실리콘, 불소계 화합물이나 실리콘 아크릴레이트나 불화 아크릴레이트 등의 반응성 화합물 등을 첨가할 수 있다.
본 발명의 방현성 필름 제조방법인 당해 방현층 표면의 요철면을 형성하는 방법에는, 유기 및／또는 미립자 등의 염소제(艶消劑)를 결착제에 첨가한 도료를 기재에 도포하여 도막을 형성한다.
본 발명에 있어서, 전리방사선으로는 전자파나 하전입자선 사이에 분자를 중합 또는 가교할 수 있는 에너지 양자를 가진 것을 의미하고, 이러한 것에는 가시광선, 자외선, X선 등의 전자파, 또는 전자선 등의 입자선이 있으나, 통상은 자외선 또는 전자선이 사용된다.
본 발명의 전리방사선 경화형 수지를 경화시키기 위하여 사용되는 전리방사선 조사장치로는, 자외선을 조사하는 경우, 초고압 수은등, 고압 수은등, 저압 수은등, 카본아크, 블랙라이트램프, 메탈할라이드램프 등의 광원을 사용할 수 있다. 또한, 전자선을 조사하는 경우에는 코크로프트월트형, 반데라프형, 공진변압기형, 절록(絶綠)코어변압기형, 또는 직선형, 다이나미트론형, 고주파형 등의 각종 전자선 가속기 등을 사용한다. 일반적으로 전자선을 조사하는 경우, 통상 100 ~ 1000 KeV, 바람직하게는 100 ~ 300 KeV의 에너지를 가진 전지를 0.1 ~ 30 Mrad 정도의 조사량으로 조사한다.
또한, 전리방사선 경화형 수지를 투명기재에 도포하는 방법으로는, 그라비아, 그라비아리버스, 롤코팅, 콤마코팅 등을 들 수 있다. 이러한 도포시의 전리방사선 경화형 수지의 점도는 1000 cps 이하가 바람직하다. 휘발성용제를 포함하지 않은 무용제형으로서의 사용과 휘발성용제를 사용하는 쌍방을 선택할 수 있다. 무용제형의 경우에는 상온에서 고점도 전리방사선 경화형 수지를 40 ℃ ~ 70 ℃ 정도로 가온하여 점도를 1000 cps 이하로 낮추는 방법을 취할수도 있다.
본 발명의 적층체의 저굴절률층의 형성은 인쇄법 등의 습식형성이 바람직하다. 원하는 저굴절률층을 얻을 수 있다면 특별히 한정되지는 않으나, 예를 들면, 마이크로그라비아법, 레벨링제를 첨가한 조성물을 사용하는 방법, 저굴절률층 형성용 조성물을 도포한 후 저굴절률층 형성용 조성물의 도포면을 건조후드 안에서 상하반전시키는 공정을 포함하는 방법, 건조시 점도 상승이 심한(점도의 고형분 농도 의존성이 높은) 저굴절률층 형성용 조성물을 사용하여 형성하는 방법 등을 들 수 있다.
화상표시장치
본 발명의 적층체는 CRT, 액정판넬, 플라즈마 디스플레이, EL 디스플레이 등 의 표면에 사용하며, 예를 들면, 텔레비젼, 퍼스널 컴퓨터, PDA, 휴대전화, 디지털 카메라, 디지털 비디오, 그 외의 화상표시장치로서 사용할 수 있다.
[실시예]
실시예 1
상술한 바와 같은 방법으로 기본적인 요철(방현)필름을 얻었다(HC굴절률 약 1.50, 평균두께 6000 nm, 평균요철부 두께차 200 nm, 요(凹)부의 평균간격 100 ㎛).
그런 다음, 저굴절률층을 이하의 요령으로 형성하였다.
하기 조성성분을 혼합하여 저굴절률층 형성용 조성물을 조제하였다.
표면처리중공실리카졸
(20% 메틸이소부틸케톤 용액) 12.85 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.43 중량부
이르가큐어907(치바스페샬리티케미칼즈 사제) 0.1 중량부
F3035(상품명, 일본 유지(주)제) 0.4 중량부
메틸이소부틸케톤 85.22 중량부
저굴절률층 형성용 조성물을 바코팅하고 건조시켜 용제를 제거한 후, 자외선 조사장치(퓨전UV시스템제팬(주), 광원H벨브)를 사용하여 조사선량 200 mJ／cm2로 자 외선을 조사하고, 도막을 경화시켜 기재／하드코트／저굴절률층의 적층체를 얻었다.
색도「b*」는 분광측색계(미놀타(주)제, CM-3700d)를 사용하며, 투과모드, 조명조건 ; D65, 시야각 ; 2°의 조건에서 저반사층면을 입광면으로서 측정하였다.
얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.
실시예 2
실시예 1과 같은 방법으로 기본적인 방현필름을 얻은 후, 저굴절률층을 이하의 요령으로 형성하였다.
하기 조성의 성분을 혼합하여 저굴절률층 형성용 조성물을 조제하였다.
표면처리중공실리카졸
(20% 메틸이소부틸케톤 용액) 10.65 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 3.55 중량부
이르가큐어907(치바스페샬리티케미칼즈 사제) 0.1 중량부
F3035(상품명, 일본 유지(주)제) 0.4 중량부
메틸이소부틸케톤 85.22 중량부
저굴절률층 형성용 조성물을 바코팅하고 건조시켜 용제를 제거한 후, 자외선 조사장치(퓨전UV시스템제팬(주), 광원H벨브)를 사용하여 조사선량 200 mJ／cm2로 자 외선을 조사하고, 도막을 경화시켜 기재／하드코트／저굴절률층의 적층체를 얻었다.
측정은 실시예 1과 동일한 방법으로 행하고, 얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.
실시예 3
실시예 1과 같은 방법으로 기본적인 방현필름을 얻은 후, 저굴절률층을 이하의 요령으로 형성하였다.
하기 조성의 성분을 혼합하여 저굴절률층 형성용 조성물을 조제하였다.
표면처리중공실리카졸
(20% 메틸이소부틸케톤 용액) 10.65 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 3.55 중량부
이르가큐어907(치바스페샬리티케미칼즈 사제) 0.1 중량부
F3035(상품명, 일본 유지(주)제) 0.4 중량부
이소부틸알콜 85.22 중량부
저굴절률층 형성용 조성물을 바코팅하고 건조시켜 용제를 제거한 후, 자외선 조사장치(퓨전UV시스템제팬(주), 광원H벨브)를 사용하여 조사선량 200 mJ／cm2로 자외선을 조사하고, 도막을 경화시켜 기재／하드코트／저굴절률층의 적층체를 얻었 다.
측정은 실시예 1과 동일한 방법으로 행하고, 얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.
비교예 1
실시예 1과 같은 방법으로 기본적인 방현필름을 얻은 후, 저굴절률층을 이하의 요령으로 형성하였다.
하기 조성의 성분을 혼합하여 저굴절률층 형성용 조성물을 조제하였다.
표면처리중공실리카졸
(20% 메틸이소부틸케톤 용액) 12.85 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.43 중량부
이르가큐어907(치바스페샬리티케미칼즈 사제) 0.1 중량부
F3035(상품명, 일본 유지(주)제) 0.4 중량부
이소부틸알콜 85.22 중량부
저굴절률층 형성용 조성물을 바코팅하고 건조시켜 용제를 제거한 후, 자외선 조사장치(퓨전UV시스템제팬(주), 광원H벨브)를 사용하여 조사선량 200 mJ／cm2로 자외선을 조사하고, 도막을 경화시켜 기재／하드코트／저굴절률층의 적층체를 얻었다.
측정은 실시예 1과 동일한 방법으로 행하고, 얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.
비교예 2
하기 조성의 성분을 혼합하여 저굴절률층 형성용 조성물을 조제하였다.
표면처리중공실리카졸
(20% 메틸이소부틸케톤 용액) 12.85 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 1.43 중량부
이르가큐어907(치바스페샬리티케미칼즈 사제) 0.1 중량부
F3035(상품명, 일본 유지(주)제) 0.4 중량부
아논 85.22 중량부
저굴절률층 형성용 조성물을 바코팅하고 건조시켜 용제를 제거한 후, 자외선 조사장치(퓨전UV시스템제팬(주), 광원H벨브)를 사용하여 조사선량 200 mJ／cm2로 자외선을 조사하고, 도막을 경화시켜 기재／하드코트／저굴절률층의 적층체를 얻었다.
측정은 실시예 1과 동일한 방법으로 행하고, 얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.
비교예 3
하기 조성의 성분을 혼합하여 저굴절률층 형성용 조성물을 조제하였다.
표면처리중공실리카졸
(20% 메틸이소부틸케톤 용액) 10.65 중량부
펜타에리스리톨트리아크릴레이트(PETA) 3.55 중량부
이르가큐어907(치바스페샬리티케미칼즈 사제) 0.1 중량부
F3035(상품명, 일본 유지(주)제) 0.4 중량부
아논 85.22 중량부
저굴절률층 형성용 조성물을 바코팅하고 건조시켜 용제를 제거한 후, 자외선 조사장치(퓨전UV시스템제팬(주), 광원H벨브)를 사용하여 조사선량 200 mJ／cm2로 자외선을 조사하고, 도막을 경화시켜 기재／하드코트／저굴절률층의 적층체를 얻었다.
측정은 실시예 1과 동일한 방법으로 행하고, 얻어진 결과를 표 1에 나타내었다.
저굴절률층 5°반사물성 b*차이 육안 색판정
굴절률 철(凸)막 두께 요(凹)막 두께 철(凸) 반사율 철(凸) b* 요(凹) 반사율 요(凹) b*
실시예1 1.36 101 101 1.43% -1.985 1.01% -4.416 2.431 ○
실시예2 1.40 98 98 2.17% -0.857 1.64% -2.690 1.833 ○
실시예3 1.40 93 103 2.19% -0.167 1.65% -4.204 4.037 ○
비교예1 1.36 96 106 1.45% -0.640 1.02% -6.649 6.009 ○△
비교예2 1.36 91 111 1.49% 0.639 1.07% -8.531 9.170 ×
비교예3 1.40 88 108 2.22% 0.469 1.69% -5.553 6.022 ○△
본 발명은 디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서, 허용범위 내의 얼룩을 가진 적층체와, 그 허용범위 내로 하기 위한 층두께를 가진 적층체와, 저비용의 방법이면서 그 허용범위 내에서 얻을 수 있는 층 형성방법을 제공한다.

Claims (13)

  1. 디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서,
    상기 적층체의 표면에 저굴절률층이 형성되어 있고, 저굴절률층측의 막면측 5°시감반사율이 3% 이하이며, 면내의 평균색도(b*)가 +1.00 ~ -5.00의 범위인
    적층체.
  2. 제1항에 있어서,
    상기 적층체는 적어도 기재층, 하드코트층을 가지고, 상기 적층체 표면에 저굴절률층이 형성되어 있는
    적층체.
  3. 제1항에 있어서,
    상기 평균색도(b*)가 0.00 ~ -3.00의 범위인
    적층체.
  4. 제1항에 있어서,
    상기 적층체는 동일면 내 1 m 각 내의 b*의 최대치와 최소치의 차가, b*가 0을 넘을 때에는 2.50 이하, 넘지 않을 때에는 4.00 이하인
    적층체.
  5. 제1항에 있어서,
    상기 적층체 표면이 요철상이고, 방현성을 갖는
    적층체.
  6. 제1항에 있어서,
    상기 저굴절률층이 습식형성된
    적층체.
  7. 디스플레이 표면에 사용하는 적층체로서, 상기 적층체의 표면에는 저굴절률층이 형성되어 있고, 상기 저굴절률층의 두께를 나노미터로 표시한 d가, 다음 식,
    50 ≤ d ≤ 150, 및
    100 - 0.75 ／ (1.46 - n) ≤ d ≤ 100 + 0.75 ／ (1.46 - n)
    을 만족하는 것을 특징으로 하는
    적층체.
  8. 제7항에 있어서,
    상기 적층체의 저굴절률층측의 막면측 5°시감반사율이 3% 이하이고, 면내의 평균색도(b*)가 +1.00 ~ -5.00의 범위인
    적층체.
  9. 디스플레이의 표면에 제1항에 기재된 적층체를 갖는
    화상표시장치.
  10. 제1항에 따른 적층체의 제조방법으로서,
    마이크로그라비아법을 사용하여 상기 적층체의 저굴절률층을 형성하는
    적층체의 제조방법.
  11. 제1항에 따른 적층체의 제조방법으로서,
    레벨링제를 첨가한 조성물을 사용하여 상기 적층체의 저굴절률층을 형성하는
    적층체의 제조방법.
  12. 제1항에 따른 적층체의 제조방법으로서,
    저굴절률층 형성용 조성물을 도포한 다음, 상기 저굴절률층 형성용 조성물의 도포면을 건조후드 내에서 상하 반전시키는 공정을 포함하는
    적층체의 제조방법.
  13. 제1항에 따른 적층체의 제조방법으로서,
    점도의 고형분농도 의존성이 높은 저굴절률층 형성용 조성물을 사용하여 상기 적층체의 저굴절률층을 형성하는
    적층체의 제조방법.
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