KR20060046103A - Spherical silver powder and method for producing same - Google Patents

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KR20060046103A KR1020050041948A KR20050041948A KR20060046103A KR 20060046103 A KR20060046103 A KR 20060046103A KR 1020050041948 A KR1020050041948 A KR 1020050041948A KR 20050041948 A KR20050041948 A KR 20050041948A KR 20060046103 A KR20060046103 A KR 20060046103A
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고조 오기
다까또시 후지노
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도와 고교 가부시키가이샤
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Abstract

본 발명은 양호한 분산성을 가지며, 페이스트를 형성하는데 사용하여 600 ℃ 이하의 저온에서 소성함으로써 도체를 형성할 경우에도 양호한 소결도를 얻을 수 있는, 구상 은 분말을 제공한다. 은 이온을 함유하는 수성 반응계에 환원제 함유 수용액을 첨가하여 은 입자를 환원 석출시킴으로써, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)가 5 내지 200이고, 결정자 직경이 40 nm 이하, 평균 입경이 5 ㎛ 이하, 탭 밀도가 2 g/cm3 이상, BET 비표면적이 5 m2/g 이하인 구상 은 분말을 제조한다.The present invention provides spherical silver powder, which has good dispersibility and is capable of obtaining good sintering degree even when a conductor is formed by firing at a low temperature of 600 ° C. or lower for use in forming a paste. By reducing precipitation of silver particles by adding a reducing agent-containing aqueous solution to an aqueous reaction system containing silver ions, the ratio (Dx / BET) of crystallite diameter Dx (nm) to BET specific surface area (m 2 / g) is 5 to 200. A spherical silver powder having a crystallite diameter of 40 nm or less, an average particle diameter of 5 μm or less, a tap density of 2 g / cm 3 or more and a BET specific surface area of 5 m 2 / g or less is produced.

구상 은 분말, 도전성 페이스트, 소성, 분산성 Spherical silver powder, conductive paste, firing, dispersibility

Description

구상 은 분말 및 그의 제조 방법 {Spherical Silver Powder and Method for Producing Same}Spherical Silver Powder and Method for Producing Same

[특허문헌 1] 일본 특허 공개 2000-1706호 공보 [Patent Document 1] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-1706

[특허문헌 2] 일본 특허 공개 2000-1707호 공보 [Patent Document 2] Japanese Unexamined Patent Publication No. 2000-1707

본 발명은 일반적으로 구상 은 분말 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. 보다 구체적으로, 본 발명은 전자 부품의 단자 전극, 회로 기판 패턴 등을 형성하는데 사용되는 구상 은 분말 및 그의 제조 방법에 관한 것이다. The present invention relates generally to spherical silver powders and methods for their preparation. More specifically, the present invention relates to spherical silver powder used to form terminal electrodes of electronic components, circuit board patterns, and the like, and methods for producing the same.

전자 부품 등의 전극 및 회로를 형성하기 위해서, 은 분말을 유기 성분 중에 분산시킨 도전성 페이스트가 사용되어 왔다. 일반적으로, 도전성 페이스트는 서멧형 페이스트(또는 소성형 페이스트)와 중합체형 페이스트(또는 수지형 페이스트)로 분류된다. 서멧형 페이스트와 중합체형 페이스트는 용도 및 구성요소가 다르다.In order to form electrodes and circuits, such as an electronic component, the electrically conductive paste which disperse | distributed silver powder in the organic component has been used. In general, the conductive paste is classified into a cermet paste (or calcined paste) and a polymer paste (or resin paste). Cermet pastes and polymeric pastes have different uses and components.

전형적인 서멧형 페이스트는 구성요소로서 은 분말, 유기 용매에 용해된 에틸셀룰로스 또는 아크릴 수지를 함유하는 비히클, 유리 프릿, 무기 산화물, 유기 용매, 분산제 등을 포함한다. 서멧형 페이스트는 침지 또는 인쇄에 의해 소정의 패턴으로 형성된 후, 소성되어 도체를 형성한다. 이러한 서멧형 페이스트는 하이브리드 IC, 적층 세라믹 컨덴서, 칩 저항기 등의 전극을 형성하는데 사용된다. Typical cermet-type pastes include silver powder, vehicles containing ethylcellulose or acrylic resins dissolved in organic solvents, glass frits, inorganic oxides, organic solvents, dispersants, and the like. The cermet paste is formed into a predetermined pattern by dipping or printing, and then fired to form a conductor. Such cermet pastes are used to form electrodes such as hybrid ICs, multilayer ceramic capacitors, chip resistors, and the like.

서멧형 페이스트의 소성 온도는 그 용도에 따라 다르다. 서멧형 페이스트를 하이브리드 IC에 사용되는 알루미나 기판이나 유리-세라믹 기판과 같은 내열성의 세라믹 기판 상에서 고온에서 소성함으로써 도체를 형성하는 경우와, 서멧형 페이스트를 내열성이 낮은 기판 상에서 저온에서 소성함으로써 도체를 형성하는 경우가 있다. The firing temperature of the cermet paste depends on its use. Conductors are formed by firing the cermet paste at high temperatures on heat-resistant ceramic substrates such as alumina substrates or glass-ceramic substrates used in hybrid ICs, and by firing the cermet paste on low heat resistant substrates at low temperatures. There is a case.

960 ℃인 은의 융점 미만의 가능한 고온에서 소성하면, 은의 소결체의 저항치가 낮아진다. 그러나, 소성 온도에 적합한 은 분말을 사용하지 않으면, 여러 가지 문제점이 생긴다. 예를 들면 페이스트를 세라믹 기판 상에서 고온에서 소성하는 경우, 일부의 경우 은의 소결체와 세라믹 기판 사이의 수축 차에 의해 균열이나 적층 박리 등의 문제점이 생긴다. 이러한 문제점을 해결하기 위해서 고결정질 은 분말이 제안되고 있다(예를 들면 일본 특허 공개 2000-1706호 및 2000-1707호 참조). When baking at the high temperature which is less than melting | fusing point of silver which is 960 degreeC, the resistance value of the sintered compact of silver will fall. However, various problems arise when no silver powder suitable for the firing temperature is used. For example, when the paste is fired at a high temperature on a ceramic substrate, in some cases, problems such as cracking and lamination peeling occur due to shrinkage difference between the sintered body of silver and the ceramic substrate. In order to solve this problem, high crystalline silver powder has been proposed (for example, see Japanese Patent Laid-Open Nos. 2000-1706 and 2000-1707).

한편, 전형적인 중합체형 페이스트는 관통 구멍 또는 막과 같은 배선재, 도전성 접착제 등으로서 사용되고 있다. 이러한 중합체형 페이스트는 구성요소로서 은 분말, 에폭시 수지나 우레탄 수지와 같은 열경화성 수지, 경화제, 유기 용매, 분산제 등을 포함한다. 중합체형 페이스트는 분배 또는 인쇄에 의해 소정의 도전성 패턴으로 형성된 후, 실온 내지 약 250 ℃의 온도에서 경화되어, 잔존하는 수지의 경화 및 수축에 의해 은 입자끼리 서로 접촉시킴으로써 도전성이 얻어진다. 따 라서, 은 입자 서로가 접촉하는 접촉 면적을 증가시키기 위해서, 일반적으로 은 분말을 비늘형으로 기계적으로 가공하여 얻어지는 박편형 은 분말이 사용된다. 또한, 300 ℃ 초과의 온도에서는 수지가 열화되어 도체의 저항 및 접착 강도가 악화된다. On the other hand, typical polymer pastes are used as wiring materials such as through holes or membranes, conductive adhesives, and the like. Such polymeric pastes include silver powder, thermosetting resins such as epoxy resins and urethane resins, curing agents, organic solvents, dispersants and the like. The polymer paste is formed into a predetermined conductive pattern by dispensing or printing, and then cured at a temperature of room temperature to about 250 ° C., thereby obtaining conductivity by bringing silver particles into contact with each other by curing and shrinking of the remaining resin. Therefore, in order to increase the contact area where silver particles come into contact with each other, flaky silver powder obtained by mechanically processing silver powder into scales is generally used. In addition, the resin deteriorates at a temperature above 300 ° C., and the resistance and adhesive strength of the conductor deteriorate.

그러나, 예를 들면 플라즈마 디스플레이 패널(PDP) 기판의 경우에는, 기판의 재료인 유리의 내열성이 낮아서, 세라믹 기판의 경우와 다르게, 페이스트를 약 750 내지 900 ℃의 고온에서 소성할 수 없다. 따라서, 페이스트를 보다 낮은 온도에서 소성할 필요가 있으며, 기판의 내열성의 관점에서 600 ℃ 이하의 온도, 실제로는 500 내지 600 ℃의 저온에서 소성함으로써 도체를 형성할 필요가 있다. 그러나, 도체의 저항치를 낮추는 것이 곤란하다. However, for example, in the case of a plasma display panel (PDP) substrate, the heat resistance of the glass, which is the material of the substrate, is low, and unlike the case of the ceramic substrate, the paste cannot be baked at a high temperature of about 750 to 900 ° C. Therefore, it is necessary to bake the paste at a lower temperature, and in view of the heat resistance of the substrate, it is necessary to form the conductor by firing at a temperature of 600 ° C. or less, in fact, at a low temperature of 500 to 600 ° C. However, it is difficult to lower the resistance of the conductor.

페이스트를 저온에서 소성할 경우, 소성 온도보다 낮은 연화점의 유리 프릿을 첨가하여 소결을 촉진시키면 도체의 저항치를 낮출 수 있다. 그러나, 반복 소성을 행하여 형성된 PDP 기판의 경우에는, 과도하게 낮은 연화점의 유리 프릿을 사용하는 것은, 도체의 저항치의 변동이 일어나기 때문에 바람직하지 않다. When the paste is baked at a low temperature, the resistance of the conductor can be lowered by adding a glass frit having a softening point lower than the firing temperature to promote sintering. However, in the case of a PDP substrate formed by repeated firing, it is not preferable to use a glass frit having an excessively low softening point because variations in the resistance value of the conductor occur.

또한, 은 분말을 감광성 페이스트를 형성하는데 사용하는 경우에는, 은 분말이 부정형이나 박편형이면 자외선의 산란 및(또는) 반사가 일어나 패터닝 불량이 일어난다. In the case where the silver powder is used to form the photosensitive paste, scattering and / or reflection of ultraviolet light occurs when the silver powder is in an amorphous or flaky form, resulting in poor patterning.

또한, 또다른 방법, 예를 들면 인쇄법이나 전사법에 의해 도체 패턴을 형성할 경우에는, 은 분말이 부정형이나 박편형이면 스크린판으로부터의 이형성 및 전사성의 관점에서 양호한 도체 패턴을 형성할 수 없다.In addition, when forming a conductor pattern by another method, for example, the printing method or the transfer method, if the silver powder is irregular or flaky, it is impossible to form a good conductor pattern in view of releasability from the screen plate and transferability. .

따라서, 본 발명의 목적은 상술한 문제점을 없애고, 페이스트를 형성하는데 사용하여 600 ℃ 이하의 저온에서 소성함으로써 도체를 형성할 경우에도 양호한 소결도를 얻을 수 있는 구상 은 분말 및 그의 제조 방법을 제공하는 것이다. 본 발명의 또다른 목적은 양호한 분산성을 갖는 구상 은 분말 및 그의 제조 방법을 제공하는 것이다. Accordingly, an object of the present invention is to provide a spherical silver powder and a method for producing the same, which can obtain a good sintering degree even when conductors are formed by eliminating the above-mentioned problems and firing at a low temperature of 600 ° C. or lower for use in forming a paste. will be. Another object of the present invention is to provide spherical silver powder having good dispersibility and a method for producing the same.

본 발명자들은 상술한 그리고 기타 목적을 달성하기 위해서 예의 연구한 결과, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)가 5 내지 200인 구상 은 분말, 바람직하게는 결정자 직경이 40 nm 이하이고 평균 입경이 5 ㎛ 이하인 구상 은 분말을 페이스트를 형성하는데 사용하여 소성함으로써 도체를 형성하면, 소성 온도가 600 ℃ 이하의 저온일 경우에도 양호한 소결도를 얻을 수 있고, 또한, 탭 밀도가 2 g/cm3 이상이고, BET 비표면적이 5 m2/g 이하인 분산성이 양호한 구상 은 분말을 사용한 페이스트로부터 감광성 페이스트법, 인쇄법 또는 전사법에 의해 양호한 도체 패턴을 얻을 수 있다는 것을 발견하여 본 발명을 완성하기에 이르렀다. The present inventors have made intensive studies to achieve the above-mentioned and other objects. As a result, spherical silver powder having a ratio (Dx / BET) of crystallite diameter Dx (nm) to BET specific surface area (m 2 / g) of 5 to 200, Preferably, when the spherical silver powder having a crystallite diameter of 40 nm or less and an average particle diameter of 5 μm or less is used for baking to form a conductor, a good sintering degree can be obtained even when the firing temperature is lower than 600 ° C. From the paste using spherical silver powder having a dispersibility having a tap density of 2 g / cm 3 or more and a BET specific surface area of 5 m 2 / g or less, a good conductor pattern by the photosensitive paste method, printing method or transfer method It was found that can be obtained to complete the present invention.

본 발명의 일 측면에 따르면, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)가 5 내지 200인 구상 은 분말이 제공된다. 이 구상 은 분말은 결정자 직경이 40 nm 이하이고, 평균 입경이 5 ㎛ 이하이다. 보다 바람직하게 는, 구상 은 분말은 탭 밀도가 2 g/cm3 이상이고, BET 비표면적이 5 m2/g 이하이다. According to one aspect of the invention, there is provided a spherical silver powder having a ratio (Dx / BET) of crystallite diameter Dx (nm) to BET specific surface area (m 2 / g) of 5 to 200. This spherical silver powder has a crystallite diameter of 40 nm or less and an average particle diameter of 5 μm or less. More preferably, the spherical silver powder has a tap density of 2 g / cm 3 or more and a BET specific surface area of 5 m 2 / g or less.

본 발명의 또다른 측면에 따르면, 은 이온을 함유하는 수성 반응계에 환원제 함유 수용액을 첨가하여 은 입자를 환원 석출시킴으로써 구상 은 분말을 제조하는, 상기 기재된 구상 은 분말의 제조 방법이 제공된다. 상기 방법에서, 바람직하게는 은 입자의 석출 전 또는 석출 후의 슬러리상 반응계에 분산제를 첨가한다. 이 분산제는 바람직하게는 지방산, 지방산염, 계면활성제, 유기 금속, 킬레이트 형성제 및 보호 콜로이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다. 환원제 함유 수용액에 함유되는 환원제는 바람직하게는 아스코르브산, 알칸올 아민, 히드로퀴논, 히드라진 및 포르말린으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다. 환원제 함유 수용액은, 바람직하게는 은 이온을 함유하는 수성 반응계 중의 은 함량에 대해 1 당량/분 이상의 속도로 첨가한다. 또한, 바람직하게는 구상 은 분말의 표면을, 입자끼리 서로 기계적으로 충돌시키는 표면 평활화 공정에 의해 평활화시킨다. 또한, 바람직하게는 표면 평활화 공정을 실시한 후에, 등급 분류에 의해 은 응집체를 제거한다. According to another aspect of the present invention, there is provided a method for producing the spherical silver powder described above, which produces spherical silver powder by reducing precipitation of silver particles by adding a reducing agent-containing aqueous solution to an aqueous reaction system containing silver ions. In this method, a dispersant is preferably added to the slurry phase reaction system before or after the precipitation of the silver particles. This dispersant is preferably at least one selected from the group consisting of fatty acids, fatty acid salts, surfactants, organometallics, chelate formers and protective colloids. The reducing agent contained in the reducing agent-containing aqueous solution is preferably at least one selected from the group consisting of ascorbic acid, alkanol amines, hydroquinone, hydrazine and formalin. The reducing agent-containing aqueous solution is preferably added at a rate of 1 equivalent / min or more relative to the silver content in the aqueous reaction system containing silver ions. Moreover, Preferably, the surface of spherical silver powder is smoothed by the surface smoothing process which mechanically collides particle | grains. Also, after the surface smoothing step is preferably performed, the silver aggregate is removed by grading.

본 발명에 따른 구상 은 분말의 바람직한 실시양태에서, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)는 5 내지 200이고, 바람직하게는 결정자 직경은 40 nm 이하이고, 평균 입경은 5 ㎛ 이하이다. 이러한 은 분말은, 페이스트를 형성하는데 사용하여 600 ℃ 이하의 저온에서 소성할 경우에도 양호한 소결도를 얻을 수 있기 때문에, 형성되는 도체의 저항치를 낮출 수 있다. In a preferred embodiment of the spherical silver powder according to the invention, the ratio (Dx / BET) of the crystallite diameter Dx (nm) to the BET specific surface area (m 2 / g) is 5 to 200, preferably the crystallite diameter is 40. It is nm or less and the average particle diameter is 5 micrometers or less. Such a silver powder can be used to form a paste, so that a good sintering degree can be obtained even when fired at a low temperature of 600 ° C. or lower, so that the resistance of the conductor formed can be lowered.

은 분말이 구상 형태일 경우, 감광성 페이스트법을 행하는데 적합하게 사용될 수 있다. 은 분말이 부정형이나 박편형인 경우, 자외선의 난반사 및(또는) 산란이 일어나기 때문에 은 분말의 감광 특성이 불량하게 되는 단점이 있다. 그러나, 은 분말이 구상 형태일 경우, 이는 또한 인쇄법이나 전사법을 행하는데 적합하게 사용된다. When silver powder is a spherical form, it can be used suitably for performing the photosensitive paste method. In the case where the silver powder is irregular or flake, there is a disadvantage in that the photosensitive characteristics of the silver powder are poor because diffuse reflection and / or scattering of ultraviolet light occur. However, when the silver powder is in spherical form, it is also suitably used for carrying out the printing method or the transferring method.

본 발명에 따른 구상 은 분말의 바람직한 실시양태에서, 탭 밀도는 2 g/cm3 이상이고, BET 비표면적은 5 m2/g 이하이다. 탭 밀도가 2 g/cm3 미만이면 은 분말 입자의 응집이 심하여 상기 기재된 어느 방법에 사용한 경우에도 정밀선을 형성하기 어렵다. BET 비표면적이 5 m2/g를 초과하면 페이스트의 점도가 지나치게 높아 작업성이 불량해진다. In a preferred embodiment of the spherical silver powder according to the invention, the tap density is at least 2 g / cm 3 and the BET specific surface area is at most 5 m 2 / g. Tap density 2 g / cm 3 If less, the aggregation of the silver powder particles is severe, and even when used in any of the above-described methods, it is difficult to form a precision line. If the BET specific surface area exceeds 5 m 2 / g, the viscosity of the paste is too high, resulting in poor workability.

본 발명에 따른 구상 은 분말의 제조 방법의 바람직한 실시양태에서, 은 이온을 함유하는 수성 반응계에 환원제 함유 수용액을 첨가하여 은 입자를 환원 석출시킨다. 은 입자의 환원 석출 전 또는 환원 석출 후의 슬러리상 반응계에 분산제를 첨가하는 것이 바람직하다. In a preferred embodiment of the method for producing spherical silver powder according to the present invention, silver particles are reduced to precipitate by adding a reducing agent-containing aqueous solution to an aqueous reaction system containing silver ions. It is preferable to add a dispersing agent to the slurry phase reaction system before reduction precipitation of silver particle or after reduction precipitation.

은 이온을 함유하는 수성 반응계로서는, 질산은, 은염 착체 또는 은 중간체를 함유하는 수용액 또는 슬러리를 사용할 수 있다. 은염 착체는 암모니아수, 암모니아염, 킬레이트 화합물 등을 첨가함으로써 생성할 수 있다. 은 중간체는 수산화나트륨, 염화나트륨, 탄산나트륨 등을 첨가함으로써 생성할 수 있다. 이들 중에서, 은 분말이 적당한 입경과 구상의 형태를 갖도록 하기 위해서는 질산은 수용액 에 암모니아수를 첨가하여 얻어지는 암민 착체를 사용하는 것이 바람직하다. 암민 착체의 배위수는 2이기 때문에, 은 1 몰당 암모니아를 2 몰 이상 첨가한다. As the aqueous reaction system containing silver ions, an aqueous solution or slurry containing silver nitrate or a silver intermediate can be used. Silver salt complexes can be produced by adding ammonia water, ammonia salts, chelate compounds and the like. Silver intermediates can be produced by adding sodium hydroxide, sodium chloride, sodium carbonate and the like. Among them, in order for the silver powder to have an appropriate particle size and spherical shape, it is preferable to use an ammine complex obtained by adding ammonia water to an aqueous solution of silver nitrate. Since the coordination number of the ammine complex is 2, 2 mol or more of ammonia is added per mol of silver.

환원제는 아스코르브산, 아황산염, 알칸올 아민, 과산화수소수, 포름산, 포름산암모늄, 포름산나트륨, 글리옥살, 타르타르산, 차아인산나트륨, 수소화붕소나트륨, 히드라진, 히드라진 화합물, 히드로퀴논, 피로갈롤, 글루코스, 갈산, 포르말린, 무수 황산나트륨, 롱갈라이트로부터 선택될 수 있다. 이들 중에서, 환원제는 바람직하게는 아스코르브산, 알칸올 아민, 히드로퀴논, 히드라진 및 포르말린으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다. 이들 환원제를 사용하면 적당한 결정성과 적당한 입경의 은 입자를 얻을 수 있다. The reducing agent is ascorbic acid, sulfite, alkanol amine, hydrogen peroxide, formic acid, ammonium formate, sodium formate, glyoxal, tartaric acid, sodium hypophosphite, sodium borohydride, hydrazine, hydrazine compounds, hydroquinone, pyrogallol, glucose, gallic acid, formalin , Anhydrous sodium sulfate, longgalite. Among them, the reducing agent is preferably at least one selected from the group consisting of ascorbic acid, alkanol amines, hydroquinone, hydrazine and formalin. By using these reducing agents, silver particles of suitable crystallinity and suitable particle size can be obtained.

환원제는 바람직하게는 은 분말의 응집을 방지하기 위해서 1 당량/분 이상의 속도로 첨가한다. 그 이유는 명확하지 않지만, 환원제를 단시간에 투입할 경우 은 입자의 환원 석출이 한번에 생기고 단시간에 환원 반응이 종료하여, 생성된 핵이 응집되기 어렵기 때문에 분산성이 향상된다고 생각된다. 환원시에는 보다 단시간에 반응이 종료하도록 반응될 용액을 교반하는 것이 바람직하다. The reducing agent is preferably added at a rate of 1 equivalent / minute or more in order to prevent aggregation of the silver powder. Although the reason is not clear, it is thought that dispersibility improves when reducing agent is injected in a short time, reduction reduction of silver particle occurs at once, reduction reaction is completed in a short time, and the produced nucleus is hard to aggregate. At the time of reduction, it is preferable to stir the solution to be reacted so that the reaction is completed in a shorter time.

분산제는 바람직하게는 지방산, 지방산염, 계면활성제, 유기 금속, 킬레이트 형성제 및 보호 콜로이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상이다. 지방산의 예로서, 프로피온산, 카프릴산, 라우르산, 미리스트산, 팔미트산, 스테아르산, 베헨산, 아크릴산, 올레산, 리놀산 및 아라키돈산을 들 수 있다. 지방산염의 예로서, 리튬, 나트륨, 칼륨, 바륨, 마그네슘, 칼슘, 알루미늄, 철, 코발트, 망간, 납, 아연, 주석, 스트론튬, 지르코늄, 은 및 구리와 같은 금속과 지방산에 의해 형 성된 염을 들 수 있다. 계면활성제의 예로서, 알킬벤젠술폰산염 및 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 인산염과 같은 음이온 계면활성제; 지방족 4급 암모늄염과 같은 양이온 계면활성제; 이미다졸리늄 베타인과 같은 양쪽성 계면활성제; 및 폴리옥시에틸렌 알킬 에테르 및 폴리옥시에틸렌 지방산 에스테르와 같은 비이온 계면활성제를 들 수 있다. 유기 금속의 예로서, 아세틸아세톤 트리부톡시지르코늄, 시트르산마그네슘, 디에틸아연, 디부틸산화주석, 디메틸아연, 테트라-n-부톡시지르코늄, 트리에틸인듐, 트리에틸갈륨, 트리메틸인듐, 트리메틸갈륨, 모노부틸 산화주석, 테트라이소시아네이트실란, 테트라메틸실란, 테트라메톡시실란, 폴리메톡시실록산, 모노메틸 트리이소시아네이트실란, 실란 커플링제, 티타네이트 커플링제, 알루미늄 커플링제를 들 수 있다. 킬레이트 형성제의 예로서, 이미다졸, 옥사졸, 티아졸, 셀레나졸, 피라졸, 이속사졸, 이소티아졸, 1H-1,2,3-트리아졸, 2H-1,2,3-트리아졸, 1H-1,2,4-트리아졸, 4H-1,2,4-트리아졸, 1,2,3-옥사디아졸, 1,2,4-옥사디아졸, 1,2,5-옥사디아졸, 1,3,4-옥사디아졸, 1,2,3-티아디아졸, 1,2,4-티아디아졸, 1,2,5-티아디아졸, 1,3,4-티아디아졸, 1H-1,2,3,4-테트라졸, 1,2,3,4-옥사트리아졸, 1,2,3,4-티아트리아졸, 2H-1,2,3,4-테트라졸, 1,2,3,5-옥사트리아졸, 1,2,3,5-티아트리아졸, 인다졸, 벤조이미다졸, 벤조트리아졸 및 이들의 염, 및 옥살산, 숙신산, 말론산, 글루타르산, 아디프산, 피멜산, 수베르산, 아젤라산, 세바스산, 디도데칸산, 말레산, 푸마르산, 프탈산, 이소프탈산, 테레프탈산, 글리콜산, 락트산, 히드록시부티르산, 글리세르산, 타르타르산, 말산, 타르트론산, 히드라크릴산, 만델산, 시트르산 및 아스코르브산을 들 수 있다. 보호 콜로이드의 예로서, 젤라틴, 알부민, 아라비아 검, 프로타르브산 및 리살브산을 들 수 있다. The dispersant is preferably at least one selected from the group consisting of fatty acids, fatty acid salts, surfactants, organometallics, chelate formers and protective colloids. Examples of fatty acids include propionic acid, caprylic acid, lauric acid, myristic acid, palmitic acid, stearic acid, behenic acid, acrylic acid, oleic acid, linoleic acid and arachidonic acid. Examples of fatty acid salts include salts formed by metals and fatty acids such as lithium, sodium, potassium, barium, magnesium, calcium, aluminum, iron, cobalt, manganese, lead, zinc, tin, strontium, zirconium, silver, and copper. Can be mentioned. Examples of surfactants include anionic surfactants such as alkylbenzenesulfonates and polyoxyethylene alkyl ether phosphates; Cationic surfactants such as aliphatic quaternary ammonium salts; Amphoteric surfactants such as imidazolinium betaine; And nonionic surfactants such as polyoxyethylene alkyl ethers and polyoxyethylene fatty acid esters. Examples of the organic metal include acetylacetone tributoxy zirconium, magnesium citrate, diethyl zinc, dibutyl tin oxide, dimethyl zinc, tetra-n-butoxy zirconium, triethyl indium, triethyl gallium, trimethyl indium, trimethyl gallium, Monobutyl tin oxide, tetraisocyanate silane, tetramethylsilane, tetramethoxysilane, polymethoxysiloxane, monomethyl triisocyanate silane, silane coupling agent, titanate coupling agent, aluminum coupling agent. Examples of chelate formers include imidazole, oxazole, thiazole, selenazole, pyrazole, isoxazole, isothiazole, 1H-1,2,3-triazole, 2H-1,2,3-triazole , 1H-1,2,4-triazole, 4H-1,2,4-triazole, 1,2,3-oxadiazole, 1,2,4-oxadiazole, 1,2,5-oxa Diazole, 1,3,4-oxadiazole, 1,2,3-thiadiazole, 1,2,4-thiadiazole, 1,2,5-thiadiazole, 1,3,4-thia Diazole, 1H-1,2,3,4-tetrazole, 1,2,3,4-oxatriazole, 1,2,3,4-thiatriazole, 2H-1,2,3,4- Tetrazole, 1,2,3,5-oxatriazole, 1,2,3,5-thiatriazole, indazole, benzimidazole, benzotriazole and salts thereof, and oxalic acid, succinic acid, malonic acid, Glutaric acid, adipic acid, pimelic acid, suberic acid, azelaic acid, sebacic acid, didodecanoic acid, maleic acid, fumaric acid, phthalic acid, isophthalic acid, terephthalic acid, glycolic acid, lactic acid, hydroxybutyric acid, glyceric acid, Tartaric acid, malic acid, tartronic acid, hydracrylic acid, mandelic acid, citric acid There may be mentioned ascorbic acid. Examples of protective colloids include gelatin, albumin, gum arabic, protarbic acid and risalvanic acid.

이렇게 얻어진 구상 은 분말을, 입자끼리 서로 기계적으로 충돌시키는 표면 평활화 공정에 의해 가공할 수 있고, 그 후, 등급 분류에 의해 은 응집체를 구상 은 분말로부터 제거할 수 있다. 이렇게 얻어진 구상 은 분말을 감광성 페이스트를 형성하는데 사용하면, 이렇게 형성된 감광성 페이스트의 감도가 양호하고, 이렇게 얻어지는 패턴의 직선성도 매우 양호해져, 정밀 패턴을 얻을 수 있다. 이렇게 얻어진 은 분말은 인쇄법을 행하는데 사용할 경우 인쇄판으로부터의 이형성이 우수하고, 전사법을 행하는데 사용할 경우 전사성이 우수하므로, 상기 은 분말은 각종 방법을 행하는데 적합하게 사용될 수 있다. The spherical silver powder thus obtained can be processed by a surface smoothing process in which particles collide mechanically with each other, and then silver aggregates can be removed from the spherical silver powder by grading. When the spherical silver powder thus obtained is used to form the photosensitive paste, the sensitivity of the thus formed photosensitive paste is good, the linearity of the thus obtained pattern is also very good, and a precise pattern can be obtained. The silver powder thus obtained is excellent in releasability from the printing plate when used for carrying out the printing method and excellent in transferability when used for carrying out the transfer method, so that the silver powder can be suitably used for carrying out various methods.

<실시예><Example>

본 발명에 따른 구상 은 분말 및 그의 제조 방법의 실시예는 이하에서 상세하게 기재될 것이다. Examples of the spherical silver powder and the method for producing the same according to the present invention will be described in detail below.

<실시예 1><Example 1>

은 이온으로서 질산 은 12 g/L을 함유하는 수용액 3600 mL에 공업용 암모니아수 30O mL을 첨가하여 은 암민 착체 수용액을 형성하였다. 이렇게 형성된 은 암민 착체 수용액에 수산화나트륨 60 g을 첨가하여 용액의 pH를 조정하였다. 그 후, 환원제로서 기능하는 공업용 포르말린 90 mL을 10초 내에 용액에 첨가하였다. 그 직후에, 스테아르산 에멀젼 0.5 g을 용액에 첨가하여 은 슬러리를 얻었다. 그 후, 이렇게 얻어진 은 슬러리를 여과하고, 수세하고, 건조하여 은 분말을 얻었다. 이렇게 얻어진 은 분말의 표면을 고속 혼합기를 이용한 표면 평활화 공정에 의해 평 활화시키고, 이렇게 평활화된 은 분말을 등급 분류하여 직경이 8 ㎛보다 큰 은 응집체를 제거하였다. 30O mL of industrial ammonia water was added to 3600 mL of an aqueous solution containing 12 g / L of silver nitrate as silver ions to form an aqueous silver ammine complex. The pH of the solution was adjusted by adding 60 g of sodium hydroxide to the silver ammine complex aqueous solution thus formed. Thereafter, 90 mL of industrial formalin functioning as a reducing agent was added to the solution within 10 seconds. Immediately thereafter, 0.5 g of stearic acid emulsion was added to the solution to obtain a silver slurry. Then, the silver slurry thus obtained was filtered, washed with water and dried to obtain a silver powder. The surface of the silver powder thus obtained was smoothed by a surface smoothing process using a high speed mixer, and the smoothed silver powder was classified to remove silver aggregates larger than 8 mu m in diameter.

이렇게 얻어진 은 분말의 결정자 직경을 산출하였다. 또한, 은 분말의 BET 비표면적, 탭 밀도 및 평균 입경 D50을 측정하고, 그의 도전성을 평가하였다. 또한, 본 실시예 및 이하에 기재된 실시예 및 비교예에서 얻어진 은 분말이 구상 은 분말임을 주사형 전자 현미경(SEM)에 의해 확인하였다. The crystallite diameter of the silver powder thus obtained was calculated. In addition, the BET specific surface area, tap density, and average particle diameter D 50 of the silver powder were measured, and their conductivity was evaluated. In addition, it was confirmed by the scanning electron microscope (SEM) that the silver powder obtained by the Example and the comparative example which were described in this Example and the following is spherical silver powder.

은 분말의 결정자 직경은 하기 쉐러(Scherrer)의 식에 의해서 구하였다. The crystallite diameter of silver powder was calculated | required by the following Scherrer formula.

Dhkl = Kλ/βcosθDhkl = Kλ / βcosθ

여기서, Dhkl은 결정자 직경(hkl에 수직인 방향의 결정자의 크기)(Å), λ는 측정 X선의 파장(Å)(Cu 표적 사용시 1.5405 Å),β는 결정자의 크기를 기준으로 한 회절선의 확대(rad)(반가폭(half-power band width)을 사용하여 나타냄), θ는 회절각의 브라그(Bragg) 각(rad)(입사각과 반사각이 동일할 때의 각도이고, 피크 정상에서의 각도를 사용함), K는 쉐러 상수 (D 및 β의 정의에 따라 변하고, β로서 반가폭을 사용할 경우 K = 0.94임)를 나타낸다. 또한, 측정에는 분말 X선 회절계를 사용하고, 계산에는 (200) 면의 피크 데이터를 사용하였다. Where Dhkl is the crystallite diameter (size of the crystallite in the direction perpendicular to hkl), λ is the wavelength of the measured X-ray (1.5405 Hz when using a Cu target), and β is an enlargement of the diffraction line based on the size of the crystallite. (rad) (indicated using half-power band width), θ is the Bragg angle of the diffraction angle (angle when the incident angle and the reflection angle are the same, and the angle at the peak top K denotes the Scherrer constant (varies according to the definitions of D and β, and K = 0.94 when using full width as β). In addition, the powder X-ray diffractometer was used for the measurement, and the peak data of the (200) plane was used for calculation.

도전성의 평가를 하기와 같이 수행하였다. 은 분말 65 중량부, 아크릴 수지(미쯔비시 레이온(주)로부터 시판되는 BR-105) 14 중량부, 유기 용매(디에틸렌글리콜 모노에틸 에테르 아세테이트 (시약)) 21 중량부 및 유리 프릿(닛뽄덴끼 가라스(주)로부터 시판되는 GA-8) 1 중량부를 계량하고, 3-롤 밀로 혼련하여 페이스트를 제조하였다. 그 후, 페이스트를 시판된 소다 유리 기판 상에 인쇄하고, 550 ℃에서 10 분간 소성하여 소결체를 얻었다. 이렇게 얻어진 소결체의 도전성을 평가하였다. 소결체의 저항치가 3×10-6 Ω·cm 이하이고 안정한 경우를 양호로, 3×10-6 Ω·cm을 초과하거나 안정하지 않은 경우를 불량으로 평가하였다. Evaluation of conductivity was performed as follows. 65 parts by weight of silver powder, 14 parts by weight of an acrylic resin (BR-105 commercially available from Mitsubishi Rayon Co., Ltd.), 21 parts by weight of an organic solvent (diethylene glycol monoethyl ether acetate (reagent)) and a glass frit (Nippon Denki Glass) 1 part by weight of commercially available GA-8) was measured and kneaded with a 3-roll mill to prepare a paste. Then, the paste was printed on the commercially available soda glass substrate, and baked at 550 degreeC for 10 minutes, and the sintered compact was obtained. The electrical conductivity of the sintered compact thus obtained was evaluated. The case where the resistance value of the sintered compact was 3x10 <-6> ohm * cm or less was stable, and the case where 3x10 <-6> ohm * cm was exceeded or it was not stable was evaluated as defect.

그 결과, 결정자 직경은 32.4 nm이고, BET 비표면적은 0.75 m2/g이었다. 또한, 탭 밀도는 5.0 g/cm3이고, 평균 입경 D50은 1.4 ㎛였다. 또한, 도전성은 양호하였다. 또한, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)는 43이었다.As a result, the crystallite diameter was 32.4 nm and the BET specific surface area was 0.75 m 2 / g. In addition, the tap density was 5.0 g / cm 3 and an average particle diameter D 50 was 1.4 ㎛. In addition, the conductivity was good. In addition, the ratio (Dx / BET) of the crystallite diameter Dx (nm) to the BET specific surface area (m 2 / g) was 43.

<실시예 2><Example 2>

은 이온으로서 질산 은 12 g/L을 함유하는 수용액 3600 mL에 공업용 암모니아수 180 mL을 첨가하여, 은 암민 착체 수용액을 형성하였다. 이렇게 형성된 은 암민 착체 수용액에 수산화나트륨 7 g을 첨가하여 용액의 pH를 조정하였다. 그 후, 환원제로서 기능하는 공업용 포르말린 192 mL을 10초 내에 용액에 첨가하였다. 그 직후에, 올레산 0.1 g을 용액에 첨가하여 은 슬러리를 얻었다. 그 후, 이렇게 얻어진 은 슬러리를 여과하고, 수세하고, 건조하여 은 분말을 얻었다. 이렇게 얻어진 은 분말을 식품 혼합기로 분쇄하였다. 180 mL of industrial ammonia water was added to 3600 mL of aqueous solution containing 12 g / L of silver nitrate as silver ions, and the aqueous solution of silver ammine complex was formed. The pH of the solution was adjusted by adding 7 g of sodium hydroxide to the silver ammine complex aqueous solution thus formed. Thereafter, 192 mL of industrial formalin functioning as a reducing agent was added to the solution within 10 seconds. Immediately thereafter, 0.1 g of oleic acid was added to the solution to obtain a silver slurry. Then, the silver slurry thus obtained was filtered, washed with water and dried to obtain a silver powder. The silver powder thus obtained was pulverized with a food mixer.

이렇게 얻어진 은 분말에 대해서, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 결정자 직경을 산출하고, BET 비표면적, 탭 밀도 및 평균 입경 D50을 측정하고, 도전성을 평 가하였다. 그 결과, 결정자 직경은 29.6 nm이고, BET 비표면적은 0.46 m2/g이었다. 또한, 탭 밀도는 4.7 g/cm3이고, 평균 입경 D50은 2.1 ㎛였다. 또한, 도전성은 양호하였다. 또한, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)는 64였다. Thus obtained is the crystallite size calculated by the same method as in Example 1 with respect to the powder, and measuring the BET specific surface area, tap density and mean particle diameter D 50, which was evaluated for conductivity. As a result, the crystallite diameter was 29.6 nm and the BET specific surface area was 0.46 m 2 / g. In addition, the tap density was 4.7 g / cm 3 , and the average particle diameter D 50 was 2.1 μm. In addition, the conductivity was good. In addition, the ratio (Dx / BET) of the crystallite diameter Dx (nm) to the BET specific surface area (m 2 / g) was 64.

<실시예 3><Example 3>

은 이온으로서 질산 은 12 g/L을 함유하는 수용액 3600 mL에 공업용 암모니아수 180 mL을 첨가하여 은 암민 착체 수용액을 형성하였다. 이렇게 형성된 은 암민 착체 수용액에 수산화나트륨 1 g을 첨가하여 용액의 pH를 조정하였다. 그 후, 환원제로서 기능하는 공업용 포르말린 192 mL을 15 초 내에 용액에 첨가하였다. 그 직후에, 스테아르산 O.1 g을 첨가하여 은 슬러리를 얻었다. 그 후, 이렇게 얻어진 은 슬러리를 여과하고, 수세하고, 건조하여 은 분말을 얻었다. 이렇게 얻어진 은 분말의 표면을 고속 혼합기를 이용한 표면 평활화 공정에 의해 평활화시키고, 이렇게 평활화된 은 분말을 등급 분류하여 11 ㎛보다 큰 은 응집체를 제거하였다. 180 mL of industrial ammonia water was added to 3600 mL of aqueous solution containing 12 g / L of silver nitrate as silver ions, to form an aqueous solution of silver ammine complex. 1 g of sodium hydroxide was added to the silver ammine complex aqueous solution thus formed to adjust the pH of the solution. Thereafter, 192 mL of industrial formalin functioning as a reducing agent was added to the solution within 15 seconds. Immediately thereafter, 0.1 g of stearic acid was added to obtain a silver slurry. Then, the silver slurry thus obtained was filtered, washed with water and dried to obtain a silver powder. The surface of the silver powder thus obtained was smoothed by a surface smoothing process using a high speed mixer, and the smoothed silver powder was classified to remove silver aggregates larger than 11 μm.

이렇게 얻어진 은 분말에 대해서, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 결정자 직경을 산출하고, BET 비교면적, 탭 밀도 및 평균 입경 D50을 측정하고, 도전성을 평가하였다. 그 결과, 결정자 직경은 33.3 nm이고, BET 비표면적은 0.28 m2/g이었다. 또한, 탭 밀도는 5.4 g/cm3이고, 평균 입경 D50은 3.1 ㎛였다. 또한, 도전성은 양호하였다. 또한, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)는 119였다. Thus obtained is the crystallite size calculated by the same method as in Example 1 with respect to powder, which was then compared to determine the BET surface area, tap density and mean particle diameter D 50, evaluating the conductivity. As a result, the crystallite diameter was 33.3 nm and the BET specific surface area was 0.28 m 2 / g. In addition, the tap density was 5.4 g / cm 3 and an average particle diameter D 50 was 3.1 ㎛. In addition, the conductivity was good. In addition, the ratio (Dx / BET) of the crystallite diameter Dx (nm) to the BET specific surface area (m 2 / g) was 119.

<실시예 4><Example 4>

은 이온으로서 질산 은 12 g/L을 함유하는 수용액 360O mL에 공업용 암모니아수 150 mL을 첨가하여 은 암민 착체 수용액을 형성하였다. 이렇게 형성된 은 암민 착체 수용액에 환원제로서 기능하는 공업용 히드라진 13 mL을 2 초 내에 첨가하였다. 그 직후에, 올레산 O.2 g을 용액에 첨가하여 은 슬러리를 얻었다. 그 후, 이렇게 얻어진 은 슬러리를 여과하고, 수세하고, 건조하여 은 분말을 얻었다. 그 후, 이렇게 얻어진 은 분말의 표면을 고속 혼합기를 이용한 표면 평활화 공정에 의해 평활화시켰다. 150 mL of industrial ammonia water was added to 360OmL of an aqueous solution containing 12 g / L of silver nitrate as silver ions to form an aqueous solution of silver ammine complex. 13 mL of industrial hydrazine functioning as a reducing agent was added to the silver ammine complex aqueous solution thus formed in 2 seconds. Immediately thereafter, 0.2 g of oleic acid was added to the solution to obtain a silver slurry. Then, the silver slurry thus obtained was filtered, washed with water and dried to obtain a silver powder. Then, the surface of the silver powder thus obtained was smoothed by the surface smoothing process using a high speed mixer.

이렇게 얻어진 은 분말에 대해서, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 결정자 직경을 산출하고, BET 비표면적, 탭 밀도 및 평균 입경 D50을 측정하고, 도전성을 평가하였다. 그 결과, 결정자 직경은 34.0 nm이고, BET 비표면적은 0.86 m2/g이었다. 또한, 탭 밀도는 4.0 g/cm3이고, 평균 입경 D50은 1.7 ㎛였다. 또한, 도전성은 양호하였다. 또한, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)는 39였다. Thus obtained was calculated from the crystallite size by the same method as in Example 1 with respect to the powder, and measuring the BET specific surface area, tap density and mean particle diameter D 50, evaluating the conductivity. As a result, the crystallite diameter was 34.0 nm and the BET specific surface area was 0.86 m 2 / g. In addition, the tap density was 4.0 g / cm 3 and an average particle diameter D 50 was 1.7 ㎛. In addition, the conductivity was good. In addition, the ratio (Dx / BET) of the crystallite diameter Dx (nm) to the BET specific surface area (m 2 / g) was 39.

<비교예 1>Comparative Example 1

은 이온으로서 질산 은 6 g/L을 함유하는 수용액 3600 mL에 공업용 암모니아수 50 mL을 첨가하여 은 암민 착체 수용액을 형성하였다. 이렇게 형성된 은 암민 착체 수용액에 환원제로서 기능하는 공업용 과산화수소수 60 mL을 15 초 내에 첨가하였다. 그 직후에, 스테아르산나트륨 0.1 g을 용액에 첨가하여 은 슬러리를 얻었다. 이렇게 얻어진 은 슬러리를 여과하고, 수세하고, 건조하여 은 분말을 얻었다. 50 mL of industrial ammonia water was added to 3600 mL of an aqueous solution containing 6 g / L of silver nitrate as silver ions to form a silver ammine complex aqueous solution. 60 mL of industrial hydrogen peroxide solution functioning as a reducing agent was added to the silver ammine complex aqueous solution thus formed in 15 seconds. Immediately thereafter, 0.1 g of sodium stearate was added to the solution to obtain a silver slurry. The silver slurry thus obtained was filtered, washed with water and dried to obtain a silver powder.

이렇게 얻어진 은 분말에 대해서, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 결정자 직경을 산출하고, BET 비표면적, 탭 밀도 및 평균 입경 D50을 측정하고, 도전성을 평가하였다. 그 결과, 결정자 직경은 47.8 nm이고, BET 비표면적은 0.15 m2/g이었다. 또한, 탭 밀도는 5.0 g/cm3이고, 평균 입경 D50은 6.5 ㎛였다. 또한, 도전성은 양호하지 않았다. 또한, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)는 318이었다. Thus obtained was calculated from the crystallite size by the same method as in Example 1 with respect to the powder, and measuring the BET specific surface area, tap density and mean particle diameter D 50, evaluating the conductivity. As a result, the crystallite diameter was 47.8 nm and the BET specific surface area was 0.15 m 2 / g. In addition, the tap density was 5.0 g / cm 3 and an average particle diameter D 50 was 6.5 ㎛. In addition, the conductivity was not good. Further, the ratio (Dx / BET) of the crystallite diameter Dx (nm) to the BET specific surface area (m 2 / g) was 318.

<비교예 2>Comparative Example 2

시판되는 분사 은 분말(5 ㎛)에 대해서, 실시예 1과 동일한 방법에 의해 결정자 직경을 산출하고, BET 비표면적, 탭 밀도 및 평균 입경 D50을 측정하고, 도전성을 평가하였다. 그 결과, 결정자 직경은 42.6 nm이고, BET 비표면적은 0.21 m2/g이었다. 또한, 탭 밀도는 5.2 g/cm3이고, 평균 입경 D50은 5.3 ㎛였다. 또한, 도 전성은 양호하지 않았다. 또한, BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)는 203이었다. Commercially available spraying was performed on the powder (5 μm), the crystallite diameter was calculated by the same method as in Example 1, the BET specific surface area, the tap density and the average particle diameter D 50 were measured, and the conductivity was evaluated. As a result, the crystallite diameter was 42.6 nm and the BET specific surface area was 0.21 m 2 / g. In addition, the tap density was 5.2 g / cm 3 and an average particle diameter D 50 was 5.3 ㎛. Also, the conductivity was not good. In addition, the ratio (Dx / BET) of the crystallite diameter Dx (nm) to the BET specific surface area (m 2 / g) was 203.

이들 결과를 표 1에 나타낸다. 표 1에서는, 도전성의 평가가 양호한 경우를 "양호"로, 양호하지 않은 경우를 "불량"으로 나타내었다. These results are shown in Table 1. In Table 1, the case where the evaluation of electroconductivity was favorable was shown "good", and the case where it was not favorable was shown "bad".

Figure 112005026190423-PAT00001
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본 발명에 따르면, 양호한 분산성을 가지며, 페이스트를 형성하는데 사용하여 600 ℃ 이하의 저온에서 소성함으로써 도체를 형성할 경우에도 양호한 소결도를 얻을 수 있는 구상 은 분말을 제조할 수 있다.  According to the present invention, spherical silver powder having good dispersibility and capable of obtaining good sintering degree even when a conductor is formed by firing at a low temperature of 600 ° C. or lower, used for forming a paste can be produced.

Claims (10)

BET 비표면적(m2/g)에 대한 결정자 직경 Dx(nm)의 비(Dx/BET)가 5 내지 200인 구상 은 분말. Spherical silver powder having a ratio (Dx / BET) of crystallite diameter Dx (nm) to BET specific surface area (m 2 / g) of 5 to 200. 제1항에 있어서, 결정자 직경이 40 nm 이하이고, 평균 입경이 5 ㎛ 이하인 구상 은 분말. The spherical silver powder of Claim 1 whose crystallite diameter is 40 nm or less and an average particle diameter is 5 micrometers or less. 제1항 또는 제2항에 있어서, 탭 밀도가 2 g/cm3 이상이고, BET 비표면적이 5 m2/g 이하인 구상 은 분말. The spherical silver powder according to claim 1 or 2, wherein the tap density is 2 g / cm 3 or more and the BET specific surface area is 5 m 2 / g or less. 은 이온을 함유하는 수성 반응계에 환원제 함유 수용액을 첨가하여 은 입자를 환원 석출시킴으로써 구상 은 분말을 제조하는, 제1항 내지 제3항 중 어느 한 항에 따른 구상 은 분말의 제조 방법.  The method for producing the spherical silver powder according to any one of claims 1 to 3, wherein spherical silver powder is produced by adding a reducing agent-containing aqueous solution to the aqueous reaction system containing silver ions to reduce precipitation of silver particles. 제4항에 있어서, 상기 은 입자의 환원 석출 전 또는 환원 석출 후의 슬러리상 반응계에 분산제를 첨가하는, 구상 은 분말의 제조 방법. The manufacturing method of the spherical silver powder of Claim 4 which adds a dispersing agent to the slurry phase reaction system before the reduction precipitation of the said silver particle, or after reduction precipitation. 제5항에 있어서, 상기 분산제가 지방산, 지방산염, 계면활성제, 유기 금속, 킬레이트 형성제 및 보호 콜로이드로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 구상 은 분말의 제조 방법. The method for producing spherical silver powder according to claim 5, wherein the dispersant is at least one selected from the group consisting of fatty acids, fatty acid salts, surfactants, organometallics, chelate formers and protective colloids. 제4항에 있어서, 상기 환원제 함유 수용액에 함유된 환원제가 아스코르브산, 알칸올 아민, 히드로퀴논, 히드라진 및 포르말린으로 이루어지는 군으로부터 선택되는 1종 이상인 구상 은 분말의 제조 방법.  The method for producing spherical silver powder according to claim 4, wherein the reducing agent contained in the reducing agent-containing aqueous solution is at least one member selected from the group consisting of ascorbic acid, alkanol amine, hydroquinone, hydrazine and formalin. 제4항에 있어서, 상기 환원제 함유 수용액을, 상기 은 이온을 함유하는 수성 반응계 중의 은 함량에 대해 1 당량/분 이상의 속도로 첨가하는, 구상 은 분말의 제조 방법.The manufacturing method of the spherical silver powder of Claim 4 which adds the said reducing agent containing aqueous solution at the rate of 1 equivalent / min or more with respect to silver content in the aqueous reaction system containing said silver ion. 제4항에 있어서, 상기 구상 은 분말을 입자끼리 서로 기계적으로 충돌시키는 표면 평활화 공정에 의해 평활화시키는, 구상 은 분말의 제조 방법. The manufacturing method of the spherical silver powder of Claim 4 which smoothens the said spherical silver powder by the surface smoothing process which mechanically collides particle | grains. 제9항에 있어서, 상기 표면 평활화 공정을 실시한 후, 등급 분류에 의해 은 응집체를 제거하는, 구상 은 분말의 제조 방법.The manufacturing method of the spherical silver powder of Claim 9 which removes silver aggregate by grading after performing the said surface smoothing process.
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