KR20060040087A

KR20060040087A - Exposure apparatus for manufacturing of plasma display panel

Info

Publication number: KR20060040087A
Application number: KR1020040089295A
Authority: KR
Inventors: 조윤래
Original assignee: 엘지전자 주식회사
Priority date: 2004-11-04
Filing date: 2004-11-04
Publication date: 2006-05-10

Abstract

본 발명은 노광공정 시 소정의 광으로 기판과 마스크를 정렬시켜 노광공정을 수행하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 노광장치에 관한 것으로, 공정 시간을 줄이고, 공정의 안정성을 높이고, 이에 따라 제조 단가를 낮추는 효과가 있다.BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel in which an exposure process is performed by aligning a substrate and a mask with a predetermined light during an exposure process. The present invention has an effect of reducing process time, increasing process stability, and thus lowering manufacturing cost. have.

이러한 목적을 이루기 위한 본 발명은, 소정의 광을 소정의 패턴이 형성된 마스크를 통해 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판에 조사하여 상기 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판 상에 소정의 패턴을 형성하기 위한 노광부와, 소정의 광으로 상기 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판과 상기 마스크를 정렬시키기 위한 기준선을 제공하는 기준선 제공부를 포함하는 것을 특징으로 한다.The present invention for achieving the above object is an exposure portion for forming a predetermined pattern on the plasma display panel manufacturing substrate by irradiating a predetermined light on the substrate for plasma display panel manufacturing through a mask having a predetermined pattern, and And a reference line providing unit providing a reference line for aligning the mask for manufacturing the plasma display panel with the light.

플라즈마 디스플레이 패널, 노광 장치, 노광 공정, 기준선, 정렬, 레이저광, 패턴, 마스크Plasma Display Panel, Exposure Device, Exposure Process, Baseline, Alignment, Laser Light, Pattern, Mask

Description

Exposure device for plasma display panel manufacturing {Exposure Apparatus for Manufacturing of Plasma Display Panel}

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도.1 is a view showing the structure of a typical plasma display panel.

도 2는 종래의 노광장치로 노광공정을 수행하는 일예를 설명하기 위한 도.2 is a view for explaining an example of performing an exposure process with a conventional exposure apparatus.

도 3a 내지 도 3b는 종래 노광장치로 수행되는 노광공정에서 기판과 마스크를 정렬시키는 작업의 일예를 설명하기 위한 도.3A to 3B are views for explaining an example of an operation of aligning a substrate and a mask in an exposure process performed by a conventional exposure apparatus.

도 4a 내지 도 4b는 기판과 마스크의 정렬이 맞지 않는 경우의 일예를 설명하기 위한 도.4A to 4B are diagrams for explaining an example where a substrate is misaligned with a mask.

도 5는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 노광장치의 구조를 나타낸 도.5 is a diagram showing the structure of an exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel of the present invention;

도 6은 도 5의 본 발명의 노광장치로 노광공정을 수행하는 일예를 설명하기 위한 도.6 is a view for explaining an example of performing an exposure process with the exposure apparatus of the present invention of FIG.

도 7a 내지 도 7b는 도 5의 노광장치로 수행되는 노광공정에서 기판과 마스크를 정렬시키는 작업의 일예를 설명하기 위한 도.7A to 7B are views for explaining an example of an operation of aligning a substrate and a mask in an exposure process performed by the exposure apparatus of FIG.

도 8은 도 5의 본 발명의 노광장치로 수행되는 노광공정을 통해 형성된 패턴의 일예를 나타낸 도.8 is a view showing an example of a pattern formed through an exposure process performed by the exposure apparatus of the present invention of FIG.

<도면의 주요 부분에 대한 부호의 설명> <Explanation of symbols for the main parts of the drawings>

50 : 노광 장치 51 : 노광부50 exposure apparatus 51 exposure unit

52 : 기준선 제공부 53 : 기준광 발산부52: reference line providing unit 53: reference light diverging unit

54 : 기준광 수광부54: reference light receiving unit

본 발명은 플라즈마 디스플레이 패널에 관한 것으로, 보다 상세하게는 노광공정 시 소정의 광으로 기판과 마스크를 정렬시켜 노광공정을 수행하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 노광장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma display panel, and more particularly, to an exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel which performs an exposure process by aligning a substrate and a mask with predetermined light during an exposure process.

일반적으로 플라즈마 디스플레이 패널은 전면기판과 후면기판 사이에 형성된 격벽이 하나의 단위 셀을 이루는 것으로, 각 셀 내에는 네온(Ne), 헬륨(He) 또는 네온 및 헬륨의 혼합기체(Ne+He)와 같은 주 방전 기체와 소량의 크세논(Xe)을 함유하는 불활성 가스가 충진되어 있다. 고주파 전압에 의해 방전이 될 때, 불활성 가스는 진공자외선(Vacuum Ultraviolet rays)을 발생하고 격벽 사이에 형성된 형광체를 발광시켜 화상이 구현된다. 이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 얇고 가벼운 구성이 가능하므로 차세대 표시장치로서 각광받고 있다.In general, a plasma display panel is a partition wall formed between a front substrate and a rear substrate to form a unit cell, and each cell includes neon (Ne), helium (He), or a mixture of neon and helium (Ne + He) and The same main discharge gas and an inert gas containing a small amount of xenon (Xe) are filled. When discharged by a high frequency voltage, the inert gas generates vacuum ultraviolet rays and emits phosphors formed between the partition walls to realize an image. Such a plasma display panel has a spotlight as a next generation display device because of its thin and light configuration.

도 1은 일반적인 플라즈마 디스플레이 패널의 구조를 나타낸 도이다.1 illustrates a structure of a general plasma display panel.

도 1에 도시된 바와 같이, 플라즈마 디스플레이 패널은 화상이 디스플레이 되는 표시면인 전면 글라스(100)에 스캔 전극(101)과 서스테인 전극(102)이 쌍을 이뤄 형성된 복수의 유지전극쌍이 배열된 전면기판(10) 및 배면을 이루는 후면 글 라스(110) 상에 전술한 복수의 유지전극쌍과 교차되도록 복수의 어드레스 전극(112)이 배열된 후면기판(11)이 일정거리를 사이에 두고 평행하게 결합된다.As shown in FIG. 1, a plasma display panel includes a front substrate on which a plurality of sustain electrode pairs formed by pairing a scan electrode 101 and a sustain electrode 102 on a front glass 100 that is a display surface on which an image is displayed. 10 and the rear substrate 11 on which the plurality of address electrodes 112 are arranged so as to intersect the plurality of sustain electrode pairs on the rear glass 110 forming the rear surface, are coupled in parallel with a predetermined distance therebetween. do.

전면기판(10)은 하나의 방전셀에서 상호 방전시키고 셀의 발광을 유지하기 위한 스캔 전극(101) 및 서스테인 전극(102), 즉 투명한 ITO 물질로 형성된 투명 전극(a)과 금속재질로 제작된 버스 전극(b)으로 구비된 스캔 전극(101) 및 서스테인 전극(102)이 쌍을 이뤄 포함된다. 스캔 전극(101) 및 서스테인 전극(102)은 방전 전류를 제한하며 전극 쌍 간을 절연시켜주는 하나 이상의 유전체층(103)에 의해 덮혀지고, 유전체층(103) 상면에는 방전 조건을 용이하게 하기 위하여 산화마그네슘(MgO)을 증착한 보호층(104)이 형성된다.The front substrate 10 is made of a scan electrode 101 and a sustain electrode 102, that is, a transparent electrode (a) formed of a transparent ITO material and a metal material to mutually discharge and maintain light emission of the cells in one discharge cell. The scan electrode 101 and the sustain electrode 102 provided as the bus electrode b are included in pairs. The scan electrode 101 and the sustain electrode 102 are covered by one or more dielectric layers 103 which limit the discharge current and insulate the electrode pairs, and the magnesium oxide top surface of the dielectric layer 103 to facilitate the discharge conditions. A protective layer 104 on which (MgO) is deposited is formed.

후면기판(11)은 복수개의 방전 공간 즉, 방전셀을 형성시키기 위한 스트라이프 타입(또는 웰 타입)의 격벽(111)이 평행을 유지하여 배열된다. 또한, 어드레스 방전을 수행하여 진공자외선을 발생시키는 다수의 어드레스 전극(112)이 격벽(111)에 대해 평행하게 배치된다. 후면기판(11)의 상측면에는 어드레스 방전시 화상표시를 위한 가시광선을 방출하는 R, G, B 형광체층(113)이 형성된다. 어드레스 전극(112)과 형광체층(113) 사이에는 어드레스 전극(112)을 보호하고 형광체층(113)에서 방출되는 가시광선을 전면기판(10)으로 반사시키는 백색 유전체(114)가 형성된다.The rear substrate 11 is arranged in such a manner that a plurality of discharge spaces, that is, barrier ribs 111 of a stripe type (or well type) for forming discharge cells are maintained in parallel. In addition, a plurality of address electrodes 112 which perform address discharge to generate vacuum ultraviolet rays are arranged in parallel with the partition wall 111. On the upper side of the rear substrate 11, R, G, and B phosphor layers 113 emitting visible light for image display during address discharge are formed. A white dielectric 114 is formed between the address electrode 112 and the phosphor layer 113 to protect the address electrode 112 and reflect visible light emitted from the phosphor layer 113 to the front substrate 10.

이와 같은 플라즈마 디스플레이 패널은 대형 마더(mother) 유리기판 전체에 유전층이나 전극 등을 형성한 후 패널별로 절단하는 다면취 방식으로 제조되는 것이 일반적이다. Such a plasma display panel is generally manufactured by a multi-sided method of forming a dielectric layer, an electrode, etc. on a large mother glass substrate, and then cutting each panel.

예로서, 대형 마더 유리기판 한장을 3개의 구역으로 설계한 다음, 각각의 패널을 동시에 만들고, 최종 공정에서 한장을 3분할하여 3장의 패널을 생산한다.For example, one large mother glass substrate is designed into three zones, each panel is made simultaneously, and one panel is divided into three in the final process to produce three panels.

따라서 이와 같은 다면취 기술에 의하면, 동시에 다수의 패널을 만들게 되므로, 인건비, 공장 가동비, 설비투자비 등의 면에서 매우 유리하기 때문에 생산량과 직결되어 매우 높은 가치를 갖고 있다.Therefore, according to this multi-sided chamfering technology, since many panels are made at the same time, it is very advantageous in terms of labor cost, plant operation cost, equipment investment cost, etc., and therefore has a very high value in direct connection with the production volume.

한편, 이러한 플라즈마 디스플레이 패널을 제조하는 제조공정은 전공정, 후공정 및 모듈공정으로 구분할 수 있다. 전공정은 전극용 페이스트 인쇄, 노광, 현상 및 소성 등의 과정을 통해 전면기판과 후면기판을 제조할 수 있도록 소정의 유리 기판에 필요로 하는 여러 가지의 막을 입히는 공정이고, 후공정은 전면기판과 후면기판의 합착, 배기, 방전 가스 주입 및 팁 오프, 에이징, 검사 단계로 구성되어 있다. 또, 모듈공정은 플라즈마 디스플레이 패널을 완성하는 최종 공정으로서 회로의 실장, 세트를 조립하는 단계로 구성되어 있다.On the other hand, the manufacturing process for manufacturing such a plasma display panel can be divided into a pre-process, a post-process and a module process. The previous process is to apply various films needed for a given glass substrate so that the front substrate and the back substrate can be manufactured through the process of electrode paste printing, exposure, development and firing. It consists of bonding, exhaust, discharge gas injection and tip off, aging, and inspection of the substrate. In addition, the module process is a final process of completing a plasma display panel, and is comprised of the steps of mounting and assembling a circuit.

여기서 전술한 노광공정은 플라즈마 디스플레이 패널, LCD 등을 제조하는 공정 중에 하나로서, 이러한 노광공정에는 미세한 패턴을 형성할 수 있도록 마스크(Mask)의 패턴을 기판에 형성된 감광막에 전사하기 위한 노광장치가 필수적으로 사용된다. 이러한 노광장치로 노광공정을 수행하는 일예를 살펴보면 다음 2와 같다.The exposure process described above is one of the processes for manufacturing a plasma display panel, an LCD, and the like, and an exposure apparatus for transferring a pattern of a mask to a photosensitive film formed on a substrate is essential for such an exposure process. Used as An example of performing an exposure process with such an exposure apparatus is as follows.

도 2는 종래의 노광장치로 노광공정을 수행하는 일예를 설명하기 위한 도면이다.2 is a view for explaining an example of performing an exposure process with a conventional exposure apparatus.

도 2에 도시된 바와 같이, 종래의 노광장치로 수행되는 노광공정은 소정의 감광막(23), 예컨대 투명전극(ITO)제조용 감광막이 상부에 형성된 소정의 기판(24) 상에 원하는 패턴을 형성하기 위해 노광장치(20)에서 발산된 빛을 소정의 패턴(22)이 형성된 마스크(21)로 선택적으로 투과 또는 차단하여 소정의 기판(24) 상에 형성된 소정의 감광막(23), 예컨대 투명전극제조용 감광막상에 원하는 패턴을 인쇄한다. 이러한 종래의 노광장치에 의해 수행되는 노광공정에서는 소정의 패턴이 형성된 마스크(21)와 소정의 기판 사이의 정렬(Align)이 주요 관심사이다. 즉, 원하는 패턴을 기판 상의 원하는 위치에 형성하기 위해서는 패턴을 형성하기 위한 마스크(21)가 소정의 기판과 상대적으로 작은 오차범위 내에서 일치하도록 정렬되어야 한다. 이에 따라, 플라즈마 디스플레이 패널의 방전셀의 크기가 마이크로미터(㎛)의 단위를 가지기 때문에 전술한 마스크(21)와 기판의 정렬 시 허용 오차 또한 마이크로 단위로 상대적으로 매우 작다. 특히 종래 노광장치로 수행되는 노광공정에서는 통상 작업자가 눈으로 전술한 마스크(21)와 기판의 정렬을 확인한다. 이에 따라 소정의 기판 상에 투명전극제조용 감광막(ITO막)으로 ITO패턴을 형성시키고자 하는 경우에는 전술한 ITO막이 투명한 성질을 가지기 때문에 전술한 마스크(21)와 기판의 정렬이 더욱 어렵다.As shown in FIG. 2, the exposure process performed by the conventional exposure apparatus is to form a desired pattern on a predetermined substrate 24 having a predetermined photosensitive film 23, for example, a photosensitive film for manufacturing a transparent electrode (ITO). The light emitted from the exposure apparatus 20 is selectively transmitted or blocked by the mask 21 on which the predetermined pattern 22 is formed, so that the predetermined photosensitive film 23 formed on the predetermined substrate 24, for example, for manufacturing a transparent electrode. The desired pattern is printed on the photosensitive film. In the exposure process performed by such a conventional exposure apparatus, alignment between the mask 21 on which a predetermined pattern is formed and a predetermined substrate is a major concern. That is, in order to form a desired pattern at a desired position on the substrate, the mask 21 for forming the pattern must be aligned so as to coincide with the predetermined substrate within a relatively small error range. Accordingly, since the size of the discharge cell of the plasma display panel has a unit of micrometer (µm), the tolerance in the alignment of the mask 21 and the substrate is also very small in micro units. In particular, in the exposure process performed by the conventional exposure apparatus, the operator usually checks the alignment of the mask 21 and the substrate by eye. Accordingly, in the case where the ITO pattern is to be formed of a transparent electrode manufacturing photoresist film (ITO film) on a predetermined substrate, the above-described mask 21 and the substrate are more difficult to align because the ITO film has a transparent property.

이러한 종래의 노광장치로 수행되는 노광공정에서 기판과 마스크를 정렬시키는 작업의 일예를 살펴보면 다음 도 3a 내지 도 3b와 같다.An example of an operation of aligning a substrate and a mask in an exposure process performed by such a conventional exposure apparatus will be described with reference to FIGS. 3A to 3B.

도 3a 내지 도 3b는 종래 노광장치로 수행되는 노광공정에서 기판과 마스크를 정렬시키는 작업의 일예를 설명하기 위한 도면이다.3A to 3B are views for explaining an example of an operation of aligning a substrate and a mask in an exposure process performed by a conventional exposure apparatus.

먼저 도 3a를 살펴보면, 종래 노광장치로 수행되는 노광공정에서 기판과 마스크를 정렬시키는 방법은 소정의 패턴(22)이 형성된 마스크(21)에 기판(31)과의 정렬을 확인할 수 있도록 소정 개수의 정렬 창(30, Align Window)을 형성한다. 이에 따라 작업 시 작업자로 하여금 전술한 정렬 창(30)을 통해 마스크(21)의 아래에 위치하는 소정의 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(31)의 가장자리(Edge)를 확인하면서 소정의 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(31)과 마스크(21)를 정렬시킬 수 있도록 한다. 예를 들면, 도3a의 경우처럼 소정의 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(31) 전체를 하나의 마스크(21)로 패터닝하는 경우에 기판(31)의 4개의 모서리 부분 각각에 대응되는 마스크(21)의 각 지점에 2개씩, 총 8개의 정렬 창(30)을 형성하여, 작업자는 8개의 정렬 창(30)으로 기판(31)의 모서리 부분을 확인하면서 소정의 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(31)과 마스크(21)를 정렬시키는 것이다. 여기 도 3a에는 플라즈마 디스플레이 패널의 공정 중 3면취 공정을 예로 들어 설명한 것으로 기판(31)의 A, B, C는 소정의 마더(Mother)유리기판 상에 형성된 각각의 패널 제조용 기판을 의미한다.First, referring to FIG. 3A, a method of aligning a substrate and a mask in an exposure process performed by a conventional exposure apparatus includes a predetermined number of masks so as to confirm alignment with the substrate 31 on a mask 21 on which a predetermined pattern 22 is formed. An alignment window 30 is formed. Accordingly, a predetermined photoresist film is formed while a worker checks an edge of the substrate 31 for manufacturing a plasma display panel on which a predetermined photoresist film is formed below the mask 21 through the alignment window 30 described above. The substrate 31 for manufacturing the plasma display panel and the mask 21 may be aligned. For example, as shown in FIG. 3A, when the entire substrate 31 for manufacturing a plasma display panel on which a predetermined photosensitive film is formed is patterned with one mask 21, a mask corresponding to each of four corners of the substrate 31 is formed. A total of eight alignment windows 30 are formed, two at each point of 21, so that the operator can check the edges of the substrate 31 with the eight alignment windows 30, and the plasma display panel for which a predetermined photosensitive film is formed. The substrate 31 and the mask 21 are aligned. Here, in FIG. 3A, three chamfering processes of the plasma display panel are described as an example. A, B, and C of the substrate 31 mean substrates for manufacturing panels formed on predetermined mother glass substrates.

도 3b를 살펴보면 도 3a의 경우와 유사하게, 소정의 패턴(22)이 형성된 마스크(21)에 기판(31)과의 정렬을 확인할 수 있도록 소정 개수의 정렬 창(30)을 형성한다. 이에 따라 작업 시 작업자로 하여금 전술한 정렬 창(30)을 통해 마스크(21)의 아래에 위치하는 기판(31)의 가장자리(Edge)를 확인하면서 기판(31)과 마스크(21)를 정렬시킬 수 있도록 한다. 그러나 여기 도 3b는 도 3a와는 다르게 각각의 A, B, C 기판을 각각 따로 패터닝하는 예로서 각각의 A, B, C 기판과 마스크(21)의 정렬을 각각 맞춘다. Referring to FIG. 3B, similar to the case of FIG. 3A, a predetermined number of alignment windows 30 are formed in the mask 21 on which the predetermined pattern 22 is formed so as to confirm the alignment with the substrate 31. Accordingly, the operator can align the substrate 31 with the mask 21 while checking the edge of the substrate 31 positioned below the mask 21 through the alignment window 30 described above. Make sure However, FIG. 3B is an example of patterning each of the A, B, and C substrates separately from FIG. 3A, respectively, to align the alignment of each of the A, B, and C substrates and the mask 21.

그러나 이러한 종래 노광장치로 수행되는 노광공정에서는 작업자가 직접 눈으로 기판과 마스크의 정렬을 맞추어야 하기 때문에 상대적으로 정렬도가 떨어질 수 있다는 문제점이 있다. 또한, 정렬 작업에 소모되는 시간이 증가하고, 작업자에 따라 작업 내용이 서로 달라질 수 있어 작업의 안정성이 떨어지고, 이에 따라 플라즈마 디스플레이 패널의 제조단가가 상승하는 문제점이 있다. 예를 들어, 커팅(Cutting) 또는 그라인딩(Grinding) 공정상의 오류로 인해 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(31)의 모서리 부분이 오차범위 이상으로 울퉁불퉁한 형상으로 형성되는 경우에는 전술한 정렬 창(30)으로 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(31)의 모서리 부분을 정확히 확인하더라도 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(31)과 마스크(21)의 정렬도는 상당부분 감소할 수밖에 없다.However, in the exposure process performed by the conventional exposure apparatus, there is a problem that the degree of alignment may be relatively low because the operator must directly align the substrate with the mask. In addition, the time consumed for the alignment work is increased, the work contents may be different according to the operator, and thus the stability of the work is lowered, thereby increasing the manufacturing cost of the plasma display panel. For example, when an edge portion of the substrate 31 for manufacturing a plasma display panel is formed into an uneven shape beyond an error range due to an error in a cutting or grinding process, the alignment window 30 is used. Even if the edges of the plasma display panel manufacturing substrate 31 are correctly identified, the alignment degree of the plasma display panel manufacturing substrate 31 and the mask 21 is inevitably reduced.

이렇게 기판과 마스크가 정렬되지 못하면 기판위에 형성되는 패턴 또한 심각한 결점을 갖게 되는 것은 당연하다. 이러한 종래의 노광장치에 의해 수행되는 노광공정에서 기판과 마스크의 정렬도가 감소하는 경우를 도 4a 내지 도 4b를 결부하여 살펴보면 다음과 같다.If the substrate and the mask are not aligned, it is natural that the pattern formed on the substrate also has serious drawbacks. A case in which the alignment degree of the substrate and the mask is reduced in the exposure process performed by the conventional exposure apparatus will be described with reference to FIGS. 4A to 4B.

도 4a를 살펴보면, 도 3a의 경우에서 기판(31)과 마스크(21)가 제대로 정렬되지 못하여 기판(31) 전체에 걸쳐 잘못된 위치에 마스크(21)의 패턴(22)이 위치한다. 결국, 이후의 패터닝공정에서 기판(31)상의 잘못된 위치에 소정의 패턴이 형성되어 플라즈마 디스플레이 패널 특성을 심각하게 감소시킨다.Referring to FIG. 4A, in the case of FIG. 3A, the substrate 31 and the mask 21 may not be properly aligned, and thus the pattern 22 of the mask 21 may be positioned at an incorrect position over the entire substrate 31. As a result, a predetermined pattern is formed at a wrong position on the substrate 31 in a subsequent patterning process, thereby seriously reducing the characteristics of the plasma display panel.

도 4b를 살펴보면, 도 3b의 경우에서 각각의 A, B, C 기판과 마스크(21)가 제대로 정렬되지 못하여 각각의 A, B, C 기판 상에 형성된 패턴이 각각의 A, B, C 기판마다 상이하게 된다.Referring to FIG. 4B, in the case of FIG. 3B, each of the A, B, and C substrates and the mask 21 are not properly aligned so that patterns formed on each of the A, B, and C substrates are formed for each of the A, B, and C substrates. Will be different.

이렇게 기판과 마스크가 오차범위 내에서 정확히 정렬되지 못하면, 기판 상에 형성되는 패턴이 틀어지게 되고, 결국은 플라즈마 디스플레이 패널의 패널 특성을 심각하게 감소시키는 문제점이 있다.If the substrate and the mask are not exactly aligned within the error range, the pattern formed on the substrate is distorted, resulting in a serious reduction in panel characteristics of the plasma display panel.

이러한 문제점을 해결하기 위해 본 발명은 노광공정 시 작업자로 하여금 기판과 마스크를 보다 효과적으로 정렬시킴으로써, 보다 효율적인 노광공정을 수행하도록 하는 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 노광장치를 제공하는데 그 목적이 있다.In order to solve this problem, an object of the present invention is to provide an exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel that allows an operator to more effectively align a substrate and a mask during an exposure process, thereby performing a more efficient exposure process.

상기 기준선 제공부는 노광공정의 공정진행방향으로 상기 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판의 양옆에 위치하는 것을 특징으로 한다.The reference line providing unit may be positioned at both sides of the substrate for manufacturing the plasma display panel in the process progress direction of the exposure process.

상기 기준선 제공부는 상기 기준선을 발생시키기 위한 기준광을 발산하는 기준광 발산부와, 상기 기준광 발산부가 발산한 기준광을 수광하는 기준광 수광부를 포함하는 것을 특징으로 한다. The reference line providing unit may include a reference light emitting unit for emitting a reference light for generating the reference line, and a reference light receiving unit for receiving the reference light emitted by the reference light emitting unit.

상기 기준광은 레이저 광인 것을 특징으로 한다.The reference light is characterized in that the laser light.

이하 첨부된 도면을 첨부하여 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 노광장치를 상세히 설명한다.Hereinafter, an exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 5는 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 노광장치의 구조를 나타낸 도면이다.5 is a view showing the structure of an exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel of the present invention.

도 5에 도시된 바와 같이, 본 발명의 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 노광장치(50)는 소정의 광을 소정의 패턴이 형성된 마스크를 통해 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판에 조사하여 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판 상에 소정의 패턴을 형성하기 위한 노광부(51)와, 소정의 광으로 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판과 마스크를 정렬시키기 위한 기준선을 제공하는 기준선 제공부(52)를 포함한다.As shown in FIG. 5, the exposure apparatus 50 for manufacturing a plasma display panel of the present invention irradiates a predetermined light onto a substrate for manufacturing a plasma display panel through a mask on which a predetermined pattern is formed. An exposure unit 51 for forming a pattern, and a reference line providing unit 52 for providing a reference line for aligning the mask and the substrate for manufacturing a plasma display panel with predetermined light.

여기서 전술한 기준선 제공부(52)는 노광공정의 공정진행방향, 즉 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판의 진행방향으로 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판의 양옆에 위치한다. 또한 이러한 기준선 제공부(52)는 기준선을 발생시키기 위한 기준광을 발산하는 기준광 발산부(53)와, 기준광 발산부(53)가 발산한 기준광을 수광하는 기준광 수광부(54)를 포함한다. 이러한 기준광 발산부(53)는 노광공정 시에 기준광을 발산하고, 이렇게 기준광 발산부(53)가 발산한 기준광을 기준광 수광부(54)가 수광함으로써, 기준선을 생성한다. 이에 따라, 본 발명의 노광장치(50)에 의해 노광공정이 수행되는 경우에 작업자는 전술한 기준광 발산부(53)와 기준광 수광부(54) 사이에 형성된 기준선을 보면서 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판과 마스크를 정렬시킬 수 있다.Here, the above-described reference line providing unit 52 is located on both sides of the plasma display panel manufacturing substrate in the process progress direction of the exposure process, that is, the traveling direction of the substrate for manufacturing the plasma display panel. In addition, the reference line providing unit 52 includes a reference light emitting unit 53 for emitting a reference light for generating a reference line, and a reference light receiving unit 54 for receiving the reference light emitted by the reference light emitting unit 53. The reference light diverter 53 emits reference light during the exposure process, and the reference light receiver 54 receives the reference light emitted by the reference light diverter 53 so as to generate a reference line. Accordingly, in the case where the exposure process is performed by the exposure apparatus 50 of the present invention, the operator looks at the reference line formed between the above-mentioned reference light diverging portion 53 and the reference light receiving portion 54 and looks at the substrate and mask for plasma display panel manufacturing. Can be aligned.

이때, 전술한 기준광 발산부(53)가 발산하는 기준광은 작업자가 식별 가능한 광이다. 만일 기준광 발산부(53)가 발산하는 기준광이 사람의 가시 영역을 벗어나는 광이어서 작업자가 기준광을 볼 수 없다면 기판과 마스크를 정렬시키기가 어렵게 된다. 따라서 기준광이 작업자가 볼 수 없는 광이라면 의미가 없다.At this time, the reference light emitted by the reference light diverter 53 is light that can be identified by the operator. If the reference light emitted by the reference light diverter 53 is light out of the visible region of the person, it is difficult to align the substrate and the mask if the operator cannot see the reference light. Therefore, if the reference light is light that is not visible to the operator, it is meaningless.

바람직하게는 이러한 기준광 발산부(53)가 발산하는 기준광은 레이저 광이다.Preferably, the reference light emitted by the reference light diverging unit 53 is laser light.

이러한 본 발명의 노광장치(50)로 수행되는 노광공정의 일예를 살펴보면 다음 도 6과 같다.An example of the exposure process performed by the exposure apparatus 50 of the present invention will be described with reference to FIG. 6.

도 6은 도 5의 본 발명의 노광장치로 노광공정을 수행하는 일예를 설명하기 위한 도면이다.6 is a view for explaining an example of performing an exposure process with the exposure apparatus of the present invention of FIG.

도 6에 도시된 바와 같이, 도 5의 본 발명의 노광장치(50)로 수행되는 노광공정은 소정의 감광막(61), 예컨대 투명전극(ITO)제조용 감광막이 상부에 형성된 소정의 기판(60 : 소정의 감광막(61)이 투명전극제조용 감광막이라고 가정하면 유리기판) 상에 원하는 패턴을 형성하기 위해 노광부(51)에서 발산된 빛을 소정의 패턴(63)이 형성된 마스크(62)로 선택적으로 투과 또는 차단하여 소정의 기판(60) 상에 형성된 소정의 감광막(61), 예컨대 투명전극 제조용 감광막상에 원하는 패턴을 인쇄한다. 여기서, 전술한 소정의 기판(60)과 마스크(62)의 정렬은 기준선 제공부(52)가 제공하는 기준선을 이용하여 작업자가 눈으로 확인하면서 전술한 소정의 기판(60)과 마스크(62)를 정렬시킨다. As shown in FIG. 6, the exposure process performed by the exposure apparatus 50 of the present invention of FIG. 5 includes a predetermined substrate 60 having a predetermined photosensitive film 61, for example, a photosensitive film for manufacturing a transparent electrode (ITO). Assuming that the predetermined photoresist film 61 is a photoresist film for manufacturing a transparent electrode, light emitted from the exposure part 51 may be selectively used as a mask 62 having a predetermined pattern 63 to form a desired pattern on a glass substrate. A desired pattern is printed on a predetermined photosensitive film 61, for example, a photosensitive film for manufacturing a transparent electrode, formed on a predetermined substrate 60 by being transmitted or blocked. Here, the alignment of the predetermined substrate 60 and the mask 62 described above is performed by the operator using the reference line provided by the reference line providing unit 52 to visually check the predetermined substrate 60 and the mask 62. Align.

이러한 기준선 제공부(52)가 제공하는 기준선을 이용하여 소정의 기판(60)과 마스크(62)를 정렬시키는 일예를 살펴보면 다음 도 7a 내지 도 7b와 같다.An example of aligning a predetermined substrate 60 with a mask 62 using a reference line provided by the reference line providing unit 52 will be described with reference to FIGS. 7A through 7B.

도 7a 내지 도 7b는 도 5의 노광장치로 수행되는 노광공정에서 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판과 마스크를 정렬시키는 작업의 일예를 설명하기 위한 도면이다.7A to 7B are views for explaining an example of an operation of aligning a mask with a substrate for manufacturing a plasma display panel in an exposure process performed by the exposure apparatus of FIG. 5.

도 7a를 살펴보면, 본 발명의 노광장치로 수행되는 노광공정에서 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)과 마스크(62)를 정렬시키는 방법은 소정의 패턴(63)이 형성된 마스크(62)에 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)과의 정렬을 확인할 수 있도록 소정 개수의 정렬 창(70, Align Window)을 형성한다. 그리고 소정의 이동수단, 예컨대 컨베이어 벨트로 전술한 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)이 이송되어 오면 기준선 제공부(52)의 기준광 발산부(53)가 기준광을 발산하고, 기준광 발산부(53)가 발산한 기준광을 기준광 수광부(54)가 기준광을 수광함으로써, 기준광 발산부(53)와 기준광 수광부(54) 사이에 소정의 기준선(72)이 발생된다. 이에 따라 작업 시 작업자는 전술한 정렬 창(70)을 통해 마스크(62)의 아래에 위치하는 기판(71)의 가장자리(Edge)와 전술한 기준선(72)을 매칭(Matching)시키면서 기판(71)과 마스크(62)를 정렬시킨다. 예를 들면, 도 7a의 경우처럼 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71) 전체를 하나의 마스크(62)로 패터닝하는 경우에 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)의 4개의 모서리 부분 각각에 대응되는 마스크(62)의 각 지점에 2개씩, 총 8개의 정렬 창(70)을 형성하여, 작업자는 8개의 정 렬 창(70)으로 감광막이 형성된 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)의 모서리 부분과 기준선(72)을 매칭시키면서 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)과 마스크(62)를 정렬시키는 것이다. 전술한 기준선(72)은 소정의 광, 예컨대 레이저로 형성되기 때문에 높은 직진성을 가진다. 이에 따라, 만약 커팅(Cutting) 또는 그라인딩(Grinding) 공정상의 오류로 인해 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)의 모서리 부분이 울퉁불퉁한 형상으로 형성되더라도, 전술한 정렬 창(70)을 통해 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)의 모서리 부분과 기준선(72)을 매칭시키는 방법으로 울퉁불퉁한 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)과 마스크(62)를 정렬시킬 수 있다. 여기 도 7a에는 플라즈마 디스플레이 패널의 공정 중 3면취 공정을 예로 들어 설명한 것으로 기판(71)의 A, B, C는 소정의 마더(Mother)유리기판 상에 형성된 각각의 패널 제조용 기판을 의미한다. 여기서는 노광공정 시 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)이 소정의 이송수단에 의해 이송되어 오는 것을 설명하였지만, 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)은 고정된 상태에서 전술한 기준선 제공부(52)가 이동하면서 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)과 마스크(62)을 정렬시키기 위한 기준선을 제공할 수도 있다.Referring to FIG. 7A, in the exposure process performed by the exposure apparatus of the present invention, the method of aligning the mask 62 with the substrate 71 for manufacturing the plasma display panel on which the photosensitive film is formed may be performed on the mask 62 having the predetermined pattern 63. A predetermined number of alignment windows 70 are formed to confirm the alignment with the substrate 71 for manufacturing the plasma display panel on which the photosensitive film is formed. When the above-described substrate 71 for manufacturing the plasma display panel is transferred to a predetermined moving means, for example, a conveyor belt, the reference light diverging part 53 of the reference line providing part 52 emits reference light, and the reference light diverging part 53 The reference light receiving unit 54 receives the reference light for the emitted reference light, so that a predetermined reference line 72 is generated between the reference light diverging unit 53 and the reference light receiving unit 54. Accordingly, in operation, the operator matches the edge of the substrate 71 positioned below the mask 62 and the reference line 72 with the substrate 71 through the alignment window 70 described above. And mask 62 are aligned. For example, as shown in FIG. 7A, when the entirety of the substrate 71 for manufacturing a plasma display panel on which the photoresist film is formed is patterned with one mask 62, each of four corner portions of the substrate 71 for manufacturing a plasma display panel on which the photoresist film is formed is formed. A total of eight alignment windows 70 are formed, two at each point of the mask 62 corresponding to the operator, so that an operator can use the eight alignment windows 70 to form the edge of the substrate 71 for forming a photosensitive film. The substrate 71 for manufacturing the plasma display panel and the mask 62 are aligned while matching the portion and the reference line 72. The reference line 72 described above has a high straightness because it is formed by a predetermined light, such as a laser. Accordingly, even if the corner portion of the substrate 71 for manufacturing the plasma display panel is formed in an uneven shape due to an error in a cutting or grinding process, the plasma display panel for manufacturing the plasma display panel may be formed through the alignment window 70 described above. The uneven plasma display panel manufacturing substrate 71 and the mask 62 may be aligned by matching the edge portion of the substrate 71 with the reference line 72. In FIG. 7A, three chamfering processes of the plasma display panel are described as an example. A, B, and C of the substrate 71 refer to substrates for manufacturing each panel formed on a predetermined mother glass substrate. Here, it has been described that the substrate 71 for manufacturing the plasma display panel is transferred by a predetermined transfer means during the exposure process. However, the above-described reference line providing unit 52 moves while the substrate 71 for manufacturing the plasma display panel is fixed. A reference line for aligning the mask 71 and the substrate 71 for manufacturing a plasma display panel may be provided.

특히, 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71) 상에 투명전극막(ITO막)만이 형성된 상태에서 ITO패턴을 형성시키고자 하는 경우, 전술한 ITO막은 투명한 성질을 가지더라도, 상대적으로 높은 직진성을 갖는 소정의 광, 예컨대 레이저로 형성되는 기준선(72)을 이용해 용이하게 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)과 마스크(62)를 정렬시킬 수 있다. In particular, in the case where the ITO pattern is to be formed in the state where only the transparent electrode film (ITO film) is formed on the substrate 71 for manufacturing a plasma display panel, the above-described ITO film may have a relatively high linearity even though it has a transparent property. The substrate 71 for manufacturing a plasma display panel and the mask 62 can be easily aligned using a reference line 72 formed of light, for example, a laser.

도 7b를 살펴보면 도 7a의 경우와 유사하게, 소정의 패턴(63)이 형성된 마스크(62)에 기판(71)과의 정렬을 확인할 수 있도록 소정 개수의 정렬 창(70)을 형성한다. 이에 따라 작업 시 작업자로 하여금 전술한 정렬 창(70)을 통해 마스크(62)의 아래에 위치하는 기판(71)의 가장자리와 기준선(72)을 매칭시키면서 기판(71)과 마스크(62)를 정렬시킬 수 있도록 한다. 그러나 여기 도 7b는 도 7a와는 다르게 각각의 A, B, C 기판을 각각 따로 따로 패터닝하는 예로서 각각의 A, B, C 기판과 마스크(62)의 정렬을 각각 맞춘다.Referring to FIG. 7B, similarly to the case of FIG. 7A, a predetermined number of alignment windows 70 are formed in the mask 62 on which the predetermined pattern 63 is formed so as to confirm the alignment with the substrate 71. Accordingly, the operator aligns the substrate 71 with the mask 62 while matching the reference line 72 with the edge of the substrate 71 positioned below the mask 62 through the alignment window 70 described above. Make it work. However, here FIG. 7B is an example of patterning each of the A, B, and C substrates separately from FIG. 7A to align the alignment of each of the A, B, and C substrates with the mask 62.

이러한 본 발명의 노광장치로 수행되는 노광공정을 통해 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)상의 지정된 위치에 원하는 패턴을 오차범위 내에서 정확히 형성시킨다. 이러한 본 발명의 노광장치로 수행되는 노광공정을 통해 형성된 패턴의 일예를 살펴보면 다음 도 8과 같다.Through the exposure process performed by the exposure apparatus of the present invention, a desired pattern is precisely formed at a designated position on the substrate 71 for manufacturing a plasma display panel within an error range. An example of a pattern formed through an exposure process performed by the exposure apparatus of the present invention will be described with reference to FIG. 8.

도 8은 도 5의 본 발명의 노광장치로 수행되는 노광공정을 통해 형성된 패턴의 일예를 나타낸 도면이다.8 is a diagram illustrating an example of a pattern formed through an exposure process performed by the exposure apparatus of the present invention of FIG. 5.

도 8에 도시된 바와 같이, 본 발명의 노광장치로 수행되는 노광공정을 통해 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판(71)상의 지정된 위치에 오차범위 내에서 정확히 소정의 패턴이 형성된다.As shown in FIG. 8, a predetermined pattern is formed exactly within an error range at a designated position on the substrate 71 for manufacturing a plasma display panel through an exposure process performed by the exposure apparatus of the present invention.

결국, 본 발명의 노광장치로 수행되는 노광공정에서는 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판과 마스크가 오차범위 내에서 정확히 정렬되어 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판 상의 지정된 위치에 오차범위 내에서 정확히 소정의 패턴이 형성된다. As a result, in the exposure process performed by the exposure apparatus of the present invention, the plasma display panel manufacturing substrate and the mask are exactly aligned within the error range, so that a predetermined pattern is formed within the error range at a predetermined position on the plasma display panel manufacturing substrate.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이, 본 발명의 기술적 구성은 본 발명이 속하는 기술분야의 당업자가 본 발명의 그 기술적 사상이나 필수적 특징을 변경하지 않고서 다른 구체적인 형태로 실시될 수 있다는 것을 이해할 수 있을 것이다.As described in detail above, it will be understood by those skilled in the art that the present invention may be implemented in other specific forms without changing the technical spirit or essential features of the present invention.

그러므로 이상에서 기술한 실시 예들은 모든 면에서 예시적인 것이며 한정적인 것이 아닌 것으로서 이해되어야 하고, 본 발명의 범위는 상기 상세한 설명보다는 후술하는 특허청구범위에 의하여 나타내어지며, 특허청구범위의 의미 및 범위 그리고 그 등가개념으로부터 도출되는 모든 변경 또는 변형된 형태가 본 발명의 범위에 포함되는 것으로 해석되어야 한다.Therefore, the exemplary embodiments described above are to be understood as illustrative and not restrictive in all respects, and the scope of the present invention is indicated by the following claims rather than the detailed description, and the meaning and scope of the claims and All changes or modifications derived from the equivalent concept should be interpreted as being included in the scope of the present invention.

이상에서 상세히 설명한 바와 같이 본 발명은, 소정의 광으로 형성되는 기준선으로 플라즈마 디스플레이 패널 제조용 기판과 마스크를 정렬시켜 노광공정을 수행함으로써, 공정 시간을 줄이고, 공정의 안정성을 높이고, 이에 따라 제조 단가를 낮추는 효과가 있다.As described in detail above, the present invention performs an exposure process by aligning a substrate and a mask for manufacturing a plasma display panel with a reference line formed of predetermined light, thereby reducing process time, increasing process stability, and thus manufacturing cost. It has a lowering effect.

Claims

An exposure unit for irradiating a predetermined light onto a substrate for plasma display panel manufacturing through a mask having a predetermined pattern to form a predetermined pattern on the substrate for plasma display panel manufacturing;

Reference line providing unit for providing a reference line for aligning the mask and the substrate for manufacturing the plasma display panel with a predetermined light

Exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel comprising a.

The method of claim 1,

The baseline provider

An exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel, wherein the exposure apparatus is positioned at both sides of the substrate for manufacturing the plasma display panel in the process progress direction of the exposure process.

The method of claim 2,

The baseline provider

A reference light diverging unit for emitting a reference light for generating the reference line;

A reference light receiver configured to receive the reference light emitted by the reference light diverter

Exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel comprising a.

The method of claim 1,

The reference light is

An exposure apparatus for manufacturing a plasma display panel, which is laser light.