KR20060038740A - 화학기계적 연마장치 및 이 장치를 이용한 연마 방법 - Google Patents

화학기계적 연마장치 및 이 장치를 이용한 연마 방법 Download PDF

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Abstract

본 발명은 화학기계적 연마 공정중에 발생하는 열을 연마 패드의 온도 조절을 통해 웨이퍼에 고르게 전달함으로써, 연마 균일도를 향상시킬 수 있는 화학기계적 연마장치 및 이 장치를 이용한 연마 방법에 관한 것으로, 본 발명의 화학기계적 연마장치는, 웨이퍼를 흡착하는 연마 헤드; 및 상기 웨이퍼를 연마하기 위한 연마 수단;을 포함하며, 상기 연마 수단은 플래튼과, 상기 플래튼의 상면에 장착되는 연마 패드와, 상기 연마 패드의 온도 분포를 균일하게 유지하는 열 전도체를 포함하고, 상기 열 전도체는 열 전도성이 우수한 금속선으로 이루어진다. 그리고, 평탄화 하고자 하는 대상 및 제품에 따라 상기 금속선의 배열 디자인, 구성 물질 및 선 굵기 등을 다양하게 조절할 수 있으며, 상기 금속선의 분포를 조절하여 원하는 부분으로만 열을 집중시킴으로써 화학기계적 연마 공정 전에 발생한 불균일을 개선할 수도 있다.
CMP, 연마 패드, 열전도, 온도 조절, 연마 제거율, 균일도, 금속선

Description

화학기계적 연마장치 및 이 장치를 이용한 연마 방법{CHEMICAL MECHANICAL POLISHING APPARATUS AND METHOD}
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 화학기계적 연마장치의 개략적인 구성도를 도시한 것이고,
도 2는 도 1의 연마 패드의 하면도를 도시한 것이다.
본 발명은 화학기계적 연마장치 및 이 장치를 이용한 연마 방법에 관한 것으로, 보다 상세하게는 웨이퍼의 표면을 기계적 마찰에 의해 연마시킴과 동시에 화학적 연마제에 의해 연마시키는 화학기계적 연마장치 및 이 장치를 이용한 연마 방법에 관한 것이다.
최근 반도체 소자는 고집적화에 따라 그 구조가 다층화되고 있다. 이에 따라 반도체 소자의 제조공정 중에는 반도체 웨이퍼의 각 층의 평탄화를 위한 연마 공정이 필수적으로 포함된다. 이러한 연마 공정에서는 주로 화학기계적 연마(Chemical Mechanical Polishing) 공정이 적용되고 있다.
상기한 화학기계적 연마 공정은 텅스텐이나 구리 등의 금속 물질 또는 산화 물 등이 입혀진 웨이퍼의 표면을 기계적 마찰에 의해 연마시킴과 동시에 화학적 연마제에 의해 연마시키는 공정으로서, 기계적 연마는 연마 헤드에 고정된 웨이퍼를 스테인레스 스틸(stainless steel) 또는 세라믹 플래튼(ceramic platen) 위에 부착된 폴리우레탄(polyurethane) 또는 폴리텍스(polytex) 재질의 연마 패드에 가압시킨 상태에서 회전시킴으로써 연마 패드와 웨이퍼 표면간의 마찰에 의해 웨이퍼 표면의 연마가 이루어지게 하는 것이고, 화학적 연마는 연마 패드와 웨이퍼 사이에 공급되는 화학적 연마제로서의 슬러리에 의해 웨이퍼 표면의 연마가 이루어지게 하는 것이다.
상기한 화학기계적 연마 공정에 있어서, 웨이퍼의 연마 균일도를 제어하기 위한 방법으로, 종래에는 플래튼 및 연마 헤드의 회전수를 조절함과 아울러, 연마 헤드에 가해지는 압력 등을 조절하고 있다.
게다가, 최근에는 구역(zone)별로 웨이퍼에 서로 다른 압력을 작용시키도록 연마 헤드에 가해지는 압력을 조절하여 연마 균일도 향상을 도모하고 있다.
그런데, 상기한 방법들만으로는 연마 균일도를 향상시키는 데 한계가 있는 바, 그 이유를 설명하면 다음과 같다.
화학기계적 연마 공정을 실시하는 동안에 웨이퍼 및 연마 패드에는 마찰에 의해 열이 발생되는데, 상기 열은 마찰 면적이 클수록 많이 발생된다.
적외선 카메라를 이용하여 온도 분포를 측정해 보면, 실제로 웨이퍼의 중심부 온도가 주변부 온도보다 더 높게 측정되는 것을 알 수 있는데, 이는, 웨이퍼의 중심부 영역이 주변부에 비해 마찰면이 가장 넓기 때문이다.
그런데, 상기한 화학기계적 연마 공정은 온도가 높아질수록 제거율이 증가하는 특성이 있으며, 이러한 현상은 웨이퍼가 대구경화할수록 웨이퍼의 중심부와 주변부간에 제거율 차이가 크게 발생하는 원인으로 작용한다. 더욱이, 금속 배선을 형성하기 위한 금속층 평탄화의 경우에는 산화막에 비해 마찰열이 더 크게 발생하기 때문에 연마 균일도가 더욱 저하된다.
이러한 문제점을 해결하기 위해, 종래에는 플래튼에 냉각수 배관을 설치하거나, 서로 다른 온도의 슬러리를 여러 지점에서 공급하여 마찰열을 제거하고자 하였다. 그러나, 종래의 방법은 웨이퍼 표면에서의 온도 분포를 균일하게 유지하는 것이 아니라, 플래튼 자체의 온도를 저하시키는 효과밖에 없기 때문에 연마 균일도 향상에 한계가 있다.
본 발명은 상기한 문제점을 해결하기 위한 것으로, 화학기계적 연마 공정중에 발생하는 열을 연마 패드의 온도 조절을 통해 웨이퍼에 고르게 전달함으로써, 연마 균일도를 향상시킬 수 있는 화학기계적 연마장치 및 이 장치를 이용한 연마 방법을 제공함에 목적이 있다.
상기한 목적을 달성하기 위하여 본 발명은,
웨이퍼를 흡착하는 연마 헤드; 및
상기 웨이퍼를 연마하기 위한 연마 수단;
을 포함하며, 상기 연마 수단은 플래튼과, 상기 플래튼의 상면에 장착되는 연마 패드와, 상기 연마 패드의 온도 분포를 균일하게 유지하는 열 전도체를 포함하는 화학기계적 연마장치를 제공한다.
본 발명의 바람직한 실시예에 의하면, 상기 열 전도체는 열 전도성이 우수한 금속선, 예컨대 구리선 또는 금선으로 이루어지며, 금속선은 세정수나 슬러리 등의 케미컬에 의한 부식을 방지할 수 있도록 하기 위해 단층형 패드의 경우에는 패드 하면에, 그리고 적층형 패드의 경우에는 상부 패드 밑면, 하부 패드 윗면, 또는 상부 패드와 하부 패드를 접착하는 접착제 부분에 설치하는 것이 바람직하다.
이러한 구성의 화학기계적 연마장치에 의하면, 웨이퍼의 중심부에서 발생한 열을 상기 금속선에 의해 빠른 속도로 주변부로 전달할 수 있으므로, 균일한 온도 분포를 형성할 수 있다.
또한, 상기 금속선의 배열 디자인, 구성 물질 및 선 굵기 등을 적절하게 조절함으로써 평탄화 하고자 하는 대상이 산화막인가 또는 금속 배선인가에 따라, 그리고 제품에 따라 다양하게 적용할 수 있으며, 금속선의 분포를 다양하게 하여 원하는 부분으로만 열을 집중시킴으로써 특정 부분의 제거율을 증가시켜 화학기계적 연마 공정 전에 발생한 불균일을 개선하는 것도 가능하다.
이하, 첨부도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 실시예를 상세히 설명하면 다음과 같다.
도 1은 본 발명의 실시예에 따른 화학기계적 연마장치의 개략적인 구성도를 도시한 것이고, 도 2는 도 1의 연마 패드의 하면도를 도시한 것이다.
도 1에 도시한 바와 같이, 본 실시예의 화학기계적 연마장치는 연마 헤드 어 셈블리(10)와 연마 스테이션(20)을 포함한다.
상기 연마 헤드 어셈블리(10)는 웨이퍼(W)를 고정하는 연마 헤드(12)와, 연마 헤드(12)에 연결된 아암(14)을 포함한다.
여기에서, 상기 연마 헤드(12)는 도시하지 않은 진공 발생부에 의해 생성된 진공에 의해 상기 웨이퍼(W)를 흡착 고정하도록 구성할 수 있으며, 이 경우 상기 연마 헤드(12)는 웨이퍼(W)의 후면과 직접적으로 면 접촉하여 캐리어의 유체 출입홀을 통해 공급되는 압축 공기의 압력에 의해 팽창함으로써 웨이퍼(W)의 후면으로 힘을 가하는 작용을 하는 멤브레인과, 연마 공정시에 웨이퍼(W)가 연마 헤드(12)에서 이탈하는 것을 방지하는 리테이너 링 및 상기 멤브레인과 리테이너 링이 설치되는 캐리어 등으로 이루어질 수 있다. 이 경우, 상기 연마 헤드에는 도시하지 않은 구동부에 의해 연마 헤드를 연마 스테이션으로 로딩/언로딩하는 아암이 연결될 수 있다. 물론, 상기 연마 헤드는 상기와는 다른 구성으로 이루어질 수도 있다.
그리고, 연마 스테이션(20)은 고정 또는 회전하는 플래튼(22)과, 상기 플래튼(22)의 상부에 설치되어 웨이퍼를 연마하는 연마 패드(24)를 포함한다. 도시하지는 않았지만, 상기한 연마 스테이션()은 연마 패드(24)에 슬러리를 공급하는 슬러리 공급 노즐와, 연마 패드(24)를 컨디셔닝하기 위한 컨디셔너를 구비하며, 도 1의 미설명 도면부호 26은 플래튼(22)을 지지하는 회전 지지축이다.
이러한 구성의 화학기계적 연마장치에 있어서, 상기 연마 패드(24)의 하면에는 도 2에 도시한 바와 같이 연마 패드(24)의 온도 분포를 균일하게 유지하는 열 전도체(28)가 부착된다.
상기 열 전도체(28)는 열 전도성이 우수한 금속선, 예컨대 구리선 또는 금선으로 이루어지거나, 금속 판형상으로 이루어질 수 있으며, 세정수나 슬러리 등의 케미컬에 의한 부식을 방지할 수 있도록 하기 위해 연마 패드(24)의 하면에 부착된다.
물론, 상기한 연마 패드가 적층형으로 이루어지는 경우에는 도시하지는 않았지만 상부 패드의 밑면, 하부 패드 윗면, 또는 상부 패드와 하부 패드를 접착하는 접착제 부분에 설치할 수도 있다.
또한, 상기 열 전도체(28), 예컨대 금속선의 배열 디자인, 구성 물질 및 선 굵기 등을 적절하게 조절함으로써 평탄화 하고자 하는 대상이 산화막인가 또는 금속 배선인가에 따라, 그리고 제품에 따라 다양하게 적용할 수 있다.
그리고, 금속선의 분포를 다양하게 조절하여 원하는 부분으로만 열을 집중시킴으로써 특정 부분의 제거율을 증가시켜 화학기계적 연마 공정 전에 발생한 불균일을 개선하는 것도 가능하다.
이러한 구성의 화학기계적 연마장치에 의하면, 웨이퍼의 중심부에서 발생한 열을 상기 금속선에 의해 빠른 속도로 주변부로 전달할 수 있으므로, 균일한 온도 분포를 형성할 수 있다.
이상에서는 본 발명의 바람직한 실시예를 설명하였지만, 본 발명은 상기 실시예로 한정되는 것이 아니고 특허청구범위와 발명의 상세한 설명 및 첨부한 도면의 범위 안에서 여러 가지로 변형하여 실시하는 것이 가능하고, 이 또한 본 발명의 범위에 속하는 것은 당연하다.
이상에서 설명한 바와 같은 본 발명에 의하면, 웨이퍼와의 마찰에 의해 연마 패드에 발생하는 열이 연마 패드의 전체 면에서 균일한 온도 분포를 형성하게 되므로, 온도 불균일성으로 인한 웨이퍼 중심부와 주변부 간의 연마 제거율 차이가 발생되는 것을 방지할 수 있으며, 연마 균일도를 향상시킬 수 있다.
따라서, 평탄화 후 잔류막의 두께를 균일하게 형성할 수 있고, 후속 공정, 예컨대 콘택 또는 비아 형성 공정에서의 공정 마진을 확대하여 수율 및 신뢰성을 향상시킬 수 있는 효과가 있다.

Claims (7)

  1. 웨이퍼를 흡착하는 연마 헤드; 및
    상기 웨이퍼를 연마하기 위한 연마 수단;
    을 포함하며, 상기 연마 수단은 플래튼과, 상기 플래튼의 상면에 장착되는 연마 패드와, 상기 연마 패드의 온도 분포를 균일하게 유지하는 열 전도체를 포함하는 화학기계적 연마장치.
  2. 제 1항에 있어서,
    상기 열 전도체는 열 전도성이 우수한 금속선으로 이루어지는 화학기계적 연마장치.
  3. 제 2항에 있어서,
    상기 금속선은 구리 또는 금으로 이루어지는 화학기계적 연마장치.
  4. 제 2항에 있어서,
    상기 연마 패드는 단층형 패드이며, 상기 금속선은 연마 패드의 하면에 부착되는 화학기계적 연마장치.
  5. 제 2항에 있어서,
    상기 연마 패드는 적층형 패드이며, 상기 금속선은 상부 패드의 밑면, 하부 패드의 윗면 또는 상부 패드와 하부 패드를 접착하는 접착제 부분에 부착되는 화학기계적 연마장치.
  6. 제 2항 내지 제 5항중 어느 한 항에 기재된 화학기계적 연마장치를 이용한 연마 방법에 있어서,
    평탄화 하고자 하는 대상 및 제품에 따라 상기 금속선의 배열 디자인, 구성 물질 및 선 굵기 등을 다양하게 조절하여 화학기계적 연마 공정을 수행하는 연마 방법.
  7. 제 6항에 있어서,
    상기 금속선의 분포를 조절하여 원하는 부분으로만 열을 집중시킴으로써 화학기계적 연마 공정 전에 발생한 불균일을 개선하는 연마 방법.
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Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR101067261B1 (ko) * 2003-10-14 2011-09-23 에보닉 데구사 게엠베하 세라믹 분리층을 포함하는 커패시터
DE102007041209B4 (de) * 2007-08-31 2017-11-23 Globalfoundries Dresden Module One Limited Liability Company & Co. Kg Polierkopf, der Zonenkontrolle verwendet
US8439723B2 (en) 2008-08-11 2013-05-14 Applied Materials, Inc. Chemical mechanical polisher with heater and method
US8764515B2 (en) * 2012-05-14 2014-07-01 United Technologies Corporation Component machining method and assembly
TWI642772B (zh) * 2017-03-31 2018-12-01 智勝科技股份有限公司 研磨墊及研磨方法
KR20190035241A (ko) * 2017-09-26 2019-04-03 삼성전자주식회사 화학 기계적 연마 공정의 온도 제어 방법, 이를 수행하기 위한 온도 제어 유닛, 및 이러한 온도 제어 유닛을 포함하는 화학 기계적 연마 장치
TWI674947B (zh) * 2018-04-19 2019-10-21 智勝科技股份有限公司 研磨墊、研磨墊的製造方法及研磨方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4508161A (en) * 1982-05-25 1985-04-02 Varian Associates, Inc. Method for gas-assisted, solid-to-solid thermal transfer with a semiconductor wafer
US4537244A (en) * 1982-05-25 1985-08-27 Varian Associates, Inc. Method for optimum conductive heat transfer with a thin flexible workpiece
US5871392A (en) * 1996-06-13 1999-02-16 Micron Technology, Inc. Under-pad for chemical-mechanical planarization of semiconductor wafers
US6832948B1 (en) 1999-12-03 2004-12-21 Applied Materials Inc. Thermal preconditioning fixed abrasive articles
US6736952B2 (en) * 2001-02-12 2004-05-18 Speedfam-Ipec Corporation Method and apparatus for electrochemical planarization of a workpiece
US6705923B2 (en) * 2002-04-25 2004-03-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd Chemical mechanical polisher equipped with chilled wafer holder and polishing pad and method of using
US20040248430A1 (en) * 2003-06-09 2004-12-09 Rennie Barber Wafer cooling chuck with direct coupled peltier unit

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