KR20060021673A - Plasma generation system - Google Patents

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Abstract

트랜스의 권선에 기생하는 커패시턴스(Capacitance)가 최소화되어 적은 권선으로 고효율을 얻을 수 있도록 하는 플라즈마 발생장치로,Plasma generator that minimizes the parasitic capacitance in the winding of the transformer to achieve high efficiency with less winding.

트랜스의 2차측에 다이오드 및 커패시터를 더 구성하여, 트랜스 코일의 권선비를 낮춤으로써 권선에 기생하는 커패시턴스를 최소화하여 플라즈마 방전에 안정성을 제공하고, 제작원가의 절감 및 경량화를 제공한다.By further configuring diodes and capacitors on the secondary side of the transformer, by lowering the winding ratio of the transformer coil, parasitic capacitances in the windings are minimized, thereby providing stability to plasma discharge, and reducing manufacturing cost and weight.

플라즈마, 커패시터, 트랜스, 음이온 플라즈마, 양이온 플라즈마Plasma, capacitor, trans, anion plasma, cationic plasma

Description

플라즈마 발생장치{Plasma Generation System}Plasma Generation System {Plasma Generation System}

도 1은 본 발명의 실시예에 따른 플라즈마 발생장치 구성도.1 is a block diagram of a plasma generating apparatus according to an embodiment of the present invention.

도 2는 도 2의 구성에서 각 포트별 전압 파형도.2 is a voltage waveform diagram for each port in the configuration of FIG. 2;

본 발명은 트랜스의 권선에 기생하는 커패시턴스(Capacitance)가 최소화되어 적은 권선으로 고효율을 얻을 수 있도록 하는 플라즈마 발생장치에 관한 것이다.The present invention relates to a plasma generating device that can achieve high efficiency with a small number of windings by minimizing the parasitic capacitance of the windings of the transformer.

각종 분야에서 다양한 용도로 활용되고 있는 플라즈마는 일정간격이 유지되고 있는 두 개의 전극에 서로 다른 전위를 갖는 고전압을 인가함으로써, 전극 사이에서의 고전압 방전에 의해 발생된다.Plasma, which is utilized for various purposes in various fields, is generated by high voltage discharge between electrodes by applying high voltages having different potentials to two electrodes at constant intervals.

이와 같이 플라즈마 방전을 위해서는 두 개의 전극에 매우 높은 고전압을 인가하여야 하므로, 고전압을 형성시켜주기 위한 트랜스가 요구된다.As such, since a very high high voltage must be applied to the two electrodes for plasma discharge, a transformer for forming a high voltage is required.

그러나, 고전압의 유기를 위하여 트랜스의 권선비에만 의존하여 2차측 코일의 권선을 수천 턴(Turn) 이상으로 권선하게 되는 경우 권선에 기생하는 커패시턴스의 영향으로 인하여 매우 큰 전압의 손실이 발생하게 되며, 권선에서 발생되는 열에 의해 주변 소자의 조속한 열화를 초래하게 되는 단점이 발생한다.However, if the winding of the secondary coil is over thousands of turns, depending on the winding ratio of the transformer to induce high voltage, very large voltage loss occurs due to the parasitic capacitance of the winding. The disadvantage is that the heat generated at causes rapid deterioration of the peripheral devices.

또한, 많은 권선에 따라 코일의 양이 증가하게 되어 상대적으로 제작에 소요되는 원가 상승을 초래하게 되며, 중량을 가중시키게 되는 단점이 발생한다. In addition, the amount of the coil increases with a large number of windings, which leads to a relatively high cost for manufacturing, and causes a disadvantage of weighting.

본 발명은 상기와 같은 문제점을 해결하기 위하여 발명한 것으로, 그 목적은 고전압을 유기시키는 트랜스의 2차측에 별도의 회로를 더 구성하여 트랜스 2차측에서의 적은 턴수의 권선으로 높은 고전압의 방전이 이루어질 수 있도록 하고, 권선에 기생하는 커패시턴스(Capacitance)가 최소화되어 고효율의 플라즈마가 구현되도록 한 것이다.The present invention has been invented to solve the above problems, the object of which is to further configure a separate circuit on the secondary side of the transformer to induce a high voltage to achieve a high high voltage discharge with a small number of turns winding on the secondary side of the transformer The parasitic capacitance of the winding is minimized to achieve high efficiency plasma.

또한, 최소의 권선을 사용함으로써 제작 원가를 절감하도록 한 것이다.In addition, by using the minimum winding to reduce the manufacturing cost.

상기와 같은 목적을 실현하기 위한 본 발명은 상용 교류전원에 포함된 노이즈를 제거하는 필터링수단과; 필터링된 교류 전원을 정류하는 제1정류수단과; 정류된 전원을 충전 및 방전하는 제1저장수단과; 제1저장수단에 충전 및 방전되는 전압에 의해 스위칭되는 스위칭수단과; 스위칭수단에 의해 공급 전압이 단속되는 경우 공급되는 전압을 2차측 코일로 유기시켜 고전압으로 승압시키는 전압변환수단과; 전압변환수단에서 공급되는 "+"상의 전압에 의해 충전되고, 방전 전압을 양이온 방전 단자에 공급하여 양이온 플라즈마 방전을 일으키는 제2저장수단과; 상기 전압변환수단에서 출력되는 "+"상의 전압에 도통되어 상기 제2저장수단에 충전 전압을 공급하는 제2정류수단과; 상기 전압변환수단에서 출력되는 "-"상의 전압에 의해 충전되는 제3저장수단과; 상기 전압변환수단에서 출력되는 "-"상의 전압에 도통되어 상 기 제3저장수단에 충전 전압을 공급하는 제3정류수단과; 상기 전압변환수단의 2차측 코일의 양단간에 직렬로 연결되는 제3저장수단과 제3정류수단의 사이에 연결되는 음이온 방전단자를 포함한다.The present invention for realizing the above object is filtering means for removing noise contained in a commercial AC power supply; First rectifying means for rectifying the filtered AC power; First storage means for charging and discharging the rectified power; Switching means switched by a voltage charged and discharged to the first storage means; Voltage conversion means for inducing the supplied voltage to the secondary coil and boosting the voltage to a high voltage when the supply voltage is interrupted by the switching means; Second storage means which is charged by a voltage of " + " Second rectifying means for supplying a charging voltage to the second storage means by being connected to a voltage of the "+" phase output from the voltage converting means; Third storage means which is charged by a voltage of "-" output from said voltage converting means; Third rectifying means for supplying a charging voltage to the third storage means by being connected to a voltage of the "-" phase output from the voltage converting means; And an anion discharge terminal connected between the third storage means and the third rectifying means connected in series between both ends of the secondary coil of the voltage conversion means.

이하, 첨부된 도면을 참조하여 본 발명의 바람직한 일 실시예를 상세하게 설명하면 다음과 같다.Hereinafter, exemplary embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the accompanying drawings.

도 1에 도시된 바와 같이 본 발명의 일 실시예에 따른 플라즈마 발생장치는, 라인필터(20)와, 제1다이오드(22), 저항(24), 사리스터(26), 제1커패시터(28), 트랜스(30), 제1전극(32), 제2커패시터(34), 제2다이오드(36), 제3커패시터(38), 제3다이드(40) 및 제2전극(42)을 포함하여 구성된다.As shown in FIG. 1, the plasma generator includes a line filter 20, a first diode 22, a resistor 24, a thyristor 26, and a first capacitor 28. ), The transformer 30, the first electrode 32, the second capacitor 34, the second diode 36, the third capacitor 38, the third daid 40 and the second electrode 42 It is configured to include.

상기 라인필터(20)는 상용 교류전원(AC100V ~220V/50~60Hz)과 연결되어, 공급되는 교류전원에 포함된 노이즈(Noise)를 제거하는 기능을 수행한다.The line filter 20 is connected to a commercial AC power source (AC100V ~ 220V / 50 ~ 60Hz), and performs a function to remove noise included in the supplied AC power.

제1다이오드(22)는 상기 라인필터(20)의 출력단에 애노드 단자가 연결되어 필터링된 교류 전원을 정류하여 직류 성분으로 출력한다.The first diode 22 has an anode terminal connected to the output terminal of the line filter 20 to rectify the filtered AC power to output the DC component.

저항(24)은 상기 제1다이오드(22)의 출력단에 일측단자가 접속되어 정류된 전원의 전류를 제한하는 기능을 담당한다.The resistor 24 has a function of limiting the current of the rectified power source by connecting one terminal to the output terminal of the first diode 22.

사리스터(28)는 양방향 사리스터로 이루어지며, 상기 저항(24)의 다른 일측단에 연결되어 제1커패시터(28)에 충전 및 방전되는 전압에 의해 스위칭 기능을 수행한다.The thyristor 28 is a bidirectional thyristor, and is connected to the other end of the resistor 24 to perform a switching function by a voltage charged and discharged to the first capacitor 28.

제1커패시터(28)는 상기 저항(24)과 사리스터(26)의 사이에 병렬로 접속되어, 저항(24)을 통해 공급되는 전원에 의해 충전되고 설정된 용량으로의 충전이 완 료되면 방전된다.The first capacitor 28 is connected in parallel between the resistor 24 and the thyristor 26, and is charged by the power supplied through the resistor 24 and discharged when the charging to the set capacity is completed. .

상기의 충전 및 방전은 저항(24)과 제1커패시터(28)의 용량으로 결정되는 시정수에 의해 반복된 동작을 실행한다.The above charging and discharging executes the repeated operation by the time constant determined by the capacity of the resistor 24 and the first capacitor 28.

트랜스(30)는 1차측 코일(30A)과 2차측 코일(30B)이 설정된 비로 권선되고, 상기 1차측 코일(30A)은 사리스터(26)의 출력단에 접속되어, 사리스터(26)가 온을 유지하고 있는 상태에서 오프되어 공급되는 전압이 단속되는 경우 공급되는 전압을 2차측 코일(30B)에 유기시킨다.The transformer 30 is wound at a ratio in which the primary side coil 30A and the secondary side coil 30B are set, and the primary side coil 30A is connected to the output terminal of the thyristor 26 so that the thyristor 26 is turned on. When the voltage supplied by being turned off in the state of maintaining is interrupted, the supplied voltage is induced in the secondary coil 30B.

제2커패시터(34)는 상기 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)에 일측단이 연결되고 다른 단자는 양이온 방전 단자(32)에 연결되며, 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)에서 유기되는 "+"상의 전압에 의해 충전 및 방전되며, 방전시 방전전압을 양이온 방전 단자(32)에 공급하여 양이온 플라즈마 방전이 일어나도록 한다.One end of the second capacitor 34 is connected to the secondary coil 30B of the transformer 30, and the other terminal of the second capacitor 34 is connected to the cation discharge terminal 32. In the secondary coil 30B of the transformer 30, It is charged and discharged by the induced "+" phase voltage, and during discharge, the discharge voltage is supplied to the cation discharge terminal 32 to cause a cation plasma discharge.

제2다이오드(36)는 상기 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)에 애노드 단자가 접속되고, 캐소드 단자는 양이온 방전 단자(32)에 연결되며, 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)에서 "+"상의 전압이 유기되는 경우 도통되어 제2커패시터(34)의 충방전이 이루어질 수 있도록 하여 준다.The second diode 36 has an anode terminal connected to the secondary coil 30B of the transformer 30, the cathode terminal is connected to the cation discharge terminal 32, and the secondary coil 30B of the transformer 30. In the case where the voltage of the "+" phase is induced, it is conducted so that the second capacitor 34 can be charged and discharged.

제3커패시터(38)는 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)의 일측단자에 일측단자가 연결되며, 상기 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)에서 유기되는 "-"상의 전압에 의해 충전 및 방전된다.The third capacitor 38 is connected to one terminal of one side of the secondary coil 30B of the transformer 30 by a voltage of "-" phase induced by the secondary coil 30B of the transformer 30. Charged and discharged.

제3다이오드(40)는 상기 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)의 일측단에 캐소드 단자가 연결되고, 상기 2차측 코일(30B)에서 "-"상의 전압이 유기되는 경우 도통되 어 상기 애노드 단자에 연결되어 있는 제3커패시터(38)에 "-"상의 전압을 공급하여 준다.The third diode 40 is connected to a cathode terminal at one end of the secondary coil 30B of the transformer 30, and is conducted when the voltage on the negative side of the secondary coil 30B is induced. The third capacitor 38 connected to the anode terminal is supplied with a voltage of "-".

상기 제3커패시터(38)와 제3다이오드(40)는 상기 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)의 양단간에서 직렬로 연결되고, 상기 제3커패시터(38)와 제3다이오드(40)의 사이에 음이온 방전단자(42)가 연결된다.The third capacitor 38 and the third diode 40 are connected in series between both ends of the secondary coil 30B of the transformer 30, and the third capacitor 38 and the third diode 40 are separated from each other. Anion discharge terminal 42 is connected between.

전술한 바와 같은 구조 및 기능을 포함하여 구성되는 본 발명에 따른 플라즈마 발생장치의 동작은 다음과 같이 실행된다.The operation of the plasma generating apparatus according to the present invention including the structure and function as described above is performed as follows.

도 2의 ⓐ와 같이 사인파로 이루어지는 50 ~ 60Hz의 상용 교류전원(110 ~ 220V)이 공급되어 라인필터(20)에 인가되면, 라인필터(20)는 인가되는 교류 전원에 포함되어 있는 노이즈를 필터링하여, 교류 전원에 포함된 노이즈 성분으로 인한 간섭이 발생되지 않도록 한다.As shown in ⓐ of FIG. 2, when a commercial AC power source 110 to 220V having a sine wave is supplied and applied to the line filter 20, the line filter 20 filters noise included in the applied AC power source. Thus, interference due to noise components included in the AC power source is not generated.

상기 라인필터(20)를 통과함으로써 노이즈 성분이 제거된 교류전원은 제1다이오드(22)에 인가되며, 제1다이오드(22)의 정류 기능에 의해 ⓐ와 같은 사인파는 ⓑ와 같이 플러스측의 반파형으로 형성되어 저항(24)을 통해 전류 제한된 다음 제1커패시터(28)에 인가되어 충전된다.AC power, from which noise components are removed by passing through the line filter 20, is applied to the first diode 22, and a sinusoidal wave like ⓐ is generated by the rectifying function of the first diode 22. It is formed into a waveform and is current limited through the resistor 24 and then applied to the first capacitor 28 to be charged.

이때, 제1커패시터(28)에 충전되는 전압이 사리스터(26)의 도통 전압에 도달하게 되면 사리스터(26)가 온 되며, 이에 따라 제1커패시터(28)에 충전된 전압은 트랜스(30)의 1차측 코일(30A)에 인가된다.At this time, when the voltage charged in the first capacitor 28 reaches the conduction voltage of the thyristor 26, the thyristor 26 is turned on, and thus the voltage charged in the first capacitor 28 is converted into a transformer 30. Is applied to the primary side coil 30A.

또한, 상기 제1커패시터(28)에 충전된 전압의 방전으로 사리스터(26)의 도통 전압에 미달되는 경우 사리스터(26)가 오프되며, 이에 따라 트랜스(30)의 1차측 코 일(30A)에 인가되는 전압이 단속되며, 2차측 코일(30B)로 유기된다.In addition, when the conduction voltage of the thyristor 26 is lowered due to the discharge of the voltage charged in the first capacitor 28, the thyristor 26 is turned off, and thus the primary coil 30A of the transformer 30 is turned off. Is applied to the secondary coil 30B.

상기 제1커패시터(28)의 충전과 방전의 동작은 RC 시정수에 의해 결정되어 ⓒ와 같은 파형으로 반복 동작된다.The charging and discharging operation of the first capacitor 28 is determined by the RC time constant and repeatedly operated in a waveform such as?.

또한, 상기한 RC 시정수에 의한 제1커패시터(28)의 충방전에 따라 사리스터(26)의 온/오프 스위칭이 반복되어, 트랜스(30)의 1차측 코일(30A)에 인가되는 전압을 ⓓ와 같이 V1의 전압을 갖는 50 ~ 60Hz의 스위칭 주파수 신호로 인가된다.In addition, the on / off switching of the thyristor 26 is repeated according to the charging / discharging of the first capacitor 28 by the RC time constant, and the voltage applied to the primary coil 30A of the transformer 30 is reduced. Like ⓓ is applied as a switching frequency signal of 50 ~ 60Hz having a voltage of V1.

상기 ⓓ와 같이 V1의 전압을 갖는 50 ~ 60Hz의 스위칭 주파수 신호가 사리스터(26)의 온/오프에 따른 단속에 의해 트랜스(30)의 2측 코일(30A)로 유기됨에 따라 2차측 코일(30A)에서는 설정된 권선비에 따라 승압된 ⓔ와 같은 V2의 전압으로 출력하게 된다.As shown in ⓓ above, the secondary frequency coil (50-60 Hz switching frequency signal having a voltage of V1 is induced into the two-side coil 30A of the transformer 30 by the interruption according to the on / off of the thyristor 26. 30A) outputs a voltage of V2 equal to ⓔ stepped up according to the set turns ratio.

상기에서 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)에서 "+"상의 전압이 발생되면 제2다이오드(36)가 도통되며, 이에 따라 제2커패시터(34)는 충전하게 된다.When the voltage "+" is generated in the secondary coil 30B of the transformer 30, the second diode 36 is turned on, and thus the second capacitor 34 is charged.

그리고, 트랜스(30)의 2차측 코일(30B)에서 "-"상의 전압이 발생하게 되면 제3다이오드(40)가 도통되어, 이에 따라 제3커패시터(38)가 충전하게 되며 이러한 동작의 반복에 따라 먼저 충전된 전압에 배의 전압을 얻게 된다.In addition, when a voltage "-" occurs in the secondary coil 30B of the transformer 30, the third diode 40 is turned on, thereby charging the third capacitor 38. Therefore, the voltage that is charged first is doubled.

이와 같이 제2커패시터(34)에 충전된 ⓕ와 같은 "+"상의 전압은 방전되어 양이온 방전단자(32)로 흐르면서 양이온을 방출하게 되고, 제3커패시터(38)에 충전된 ⓖ와 같은 "-"상의 전압은 방전되어 음이온 방전단자(42)로 흐르면서, 음이온을 방출하게 된다.As such, the voltage on the "+" phase, such as ⓕ charged in the second capacitor 34, is discharged and flows to the cation discharge terminal 32, thereby releasing the cation, and the same "-" as ⓖ charged in the third capacitor 38. The voltage of the phase is discharged and flows to the negative ion discharge terminal 42 to emit negative ions.

상술한 바와 같은 기능과 구성을 갖는 플라즈마 발생장치를 일 예를 들어 정수기에 적용하는 경우 정수기의 물받이 부에 양이온 방전단자와 음이온 방전단자를 접속함으로써, 이들 단자로부터 방출되는 이온들에 의해 물받이에 부유하는 각종 균류, 유해물질 및 악취 등을 일으키는 박테리아를 무해한 물질로 중화시켜 제거하여 주게 된다.In the case where the plasma generating apparatus having the above-described functions and configurations is applied to a water purifier, for example, a cationic discharge terminal and an anion discharge terminal are connected to the drip tray of the water purifier, thereby floating in the drip tray by the ions emitted from these terminals. The bacteria that cause various fungi, harmful substances and odors are neutralized and removed by harmless substances.

따라서, 보다 안전한 물을 먹을 수 있게 된다.Thus, safer water can be eaten.

이상에서 설명한 바와 같이 본 발명은 트랜스의 2차측에 다이오드 및 커패시터를 더 구성하여, 트랜스 코일의 권선비를 낮춤으로써 권선에 기생하는 커패시턴스를 최소화하여 플라즈마 방전에 안정성을 제공하고, 제작원가의 절감 및 경량화를 제공한다. As described above, the present invention further comprises a diode and a capacitor on the secondary side of the transformer, thereby lowering the winding ratio of the transformer coil, thereby minimizing the parasitic capacitance in the winding, providing stability to plasma discharge, and reducing manufacturing cost and weight. To provide.

Claims (5)

상용 교류전원과 연결되어 공급되는 교류전원에 포함된 노이즈를 제거하는 필터링수단과;Filtering means for removing noise included in an AC power supply connected to a commercial AC power supply; 상기 필터링수단의 출력단에 연결되어, 필터링된 교류 전원을 정류하는 제1정류수단과;First rectifying means connected to an output terminal of the filtering means for rectifying the filtered AC power; 상기 정류된 전원을 충전 및 방전하는 제1저장수단과;First storage means for charging and discharging the rectified power; 상기 제1저장수단에 충전 및 방전되는 전압에 의해 스위칭되는 스위칭수단과;Switching means switched by a voltage charged and discharged to the first storage means; 1차측 코일과 2차측 코일이 설정된 비로 권선되고, 상기 1차측 코일은 스위칭수단의 출력단에 접속되어, 스위칭수단에 의해 공급 전압이 단속되는 경우 공급되는 전압을 2차측 코일로 유기시켜 고전압으로 승압시키는 전압변환수단과;The primary side coil and the secondary side coil are wound at a set ratio, and the primary side coil is connected to the output terminal of the switching means, and when the supply voltage is interrupted by the switching means, the supply voltage is induced to the secondary side coil to boost the high voltage. Voltage conversion means; 상기 전압변환수단의 2차측 코일에 일측단이 연결되고 다른 단자는 양이온 방전 단자에 연결되며, 전압변환수단에서 공급되는 "+"상의 전압에 의해 충전되고, 방전 전압을 양이온 방전 단자에 공급하여 양이온 플라즈마 방전을 일으키는 제2저장수단과;One end is connected to the secondary coil of the voltage conversion means, the other terminal is connected to the cation discharge terminal, charged by the voltage of the "+" phase supplied from the voltage conversion means, the discharge voltage is supplied to the cation discharge terminal to the positive Second storage means for causing a plasma discharge; 상기 전압변환수단의 2차측 코일에 접속되어 "+"상의 전압에 도통되어 상기 제2저장수단에 충전 전압을 공급하는 제2정류수단과;Second rectifying means connected to a secondary side coil of said voltage converting means and conducting with a voltage of "+" to supply a charging voltage to said second storing means; 상기 전압변환수단의 2차측 코일에 접속되어, 전압변환수단에서 출력되는 "-"상의 전압에 의해 충전되는 제3저장수단과;Third storage means connected to the secondary coil of the voltage converting means and charged by a voltage of the "-" phase output from the voltage converting means; 상기 전압변환수단의 2차측 코일에 연결되어 "-"상의 전압에 도통되어 상기 제3저장수단에 충전 전압을 공급하는 제3정류수단과;Third rectifying means connected to the secondary coil of the voltage converting means and conducting a voltage on a "-" phase to supply a charging voltage to the third storing means; 상기 전압변환수단의 2차측 코일의 양단간에 직렬로 연결되는 제3저장수단과 제3정류수단의 사이에 연결되는 음이온 방전단자를 포함하는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치.And an anion discharge terminal connected between the third storage means and the third rectifying means connected in series between both ends of the secondary coil of the voltage conversion means. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1,제2,제3정류수단은 다이오드로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치.And said first, second and third rectifying means comprise a diode. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 제1저장수단의 충전 및 방전은 저항과 커패시터로 설정되는 RC 시정수로 결정되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치. And the charging and discharging of the first storage means is determined by an RC time constant set by a resistor and a capacitor. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 스위칭수단은 양방향 사리스터로 이루어지는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치.The switching means is a plasma generator, characterized in that consisting of a bidirectional thyristor. 제1항에 있어서, The method of claim 1, 상기 스위칭수단에 의한 스위칭 동작으로 정류된 전압이 50 ~ 60Hz의 스위칭 주파수로 변환되어 상기 전압변환수단에 공급되어지며, 이에 의해 양이온 플라즈마 방전 및 음이온 플라즈마 방전이 발생되는 것을 특징으로 하는 플라즈마 발생장치.And a voltage rectified by the switching operation by the switching means is converted into a switching frequency of 50 to 60 Hz and supplied to the voltage converting means, whereby a cationic plasma discharge and an anion plasma discharge are generated.
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Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US9799493B2 (en) * 2012-11-28 2017-10-24 Tibbar Plasma Technologies, Inc. Electrical transformer
JP5729514B1 (en) 2014-06-14 2015-06-03 プラスウェア株式会社 Plasma generator, liquid melting method and power supply device
US9899933B2 (en) 2015-07-24 2018-02-20 Tibbar Plasma Technologies, Inc. Electrical transformer
US10178749B2 (en) 2016-10-27 2019-01-08 Tibbar Plasma Technologies, Inc. DC-DC electrical transformer
US10172226B2 (en) 2016-10-28 2019-01-01 Tibbar Plasma Technologies, Inc. DC-AC electrical transformer
US10334713B2 (en) 2017-05-22 2019-06-25 Tibbar Plasma Technologies, Inc. DC to DC electrical transformer

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS63121471A (en) * 1986-11-11 1988-05-25 Ricoh Co Ltd Constant-current and high-tension power source
SE462253B (en) * 1988-10-14 1990-05-21 Philips Norden Ab FEEDING DEVICE IN A MICROWAVE OVEN AND USING THE DEVICE
US5321235A (en) * 1991-06-04 1994-06-14 Sanyo Electric Co., Ltd. Half-bridge converter switching power supply for magnetron
KR930010551B1 (en) * 1991-12-11 1993-10-28 오화영 Apparatus for generating negative ion
KR0124956Y1 (en) * 1992-09-15 1998-11-02 김회수 Power supply for plasma arc
JP3459672B2 (en) * 1993-12-01 2003-10-20 株式会社タクマ Gas treatment equipment
KR0121093B1 (en) * 1994-08-06 1997-11-10 이종수 Electric power control apparatus of plazma arc
JP3159000B2 (en) * 1995-10-17 2001-04-23 松下電器産業株式会社 Power supply for magnetron drive
JP3719352B2 (en) 1999-07-23 2005-11-24 三菱電機株式会社 Power supply device for plasma generation and method for manufacturing the same
TW505733B (en) * 1999-09-15 2002-10-11 Knite Inc Electronic circuits for plasma generating devices
JP4221847B2 (en) 1999-10-25 2009-02-12 パナソニック電工株式会社 Plasma processing apparatus and plasma lighting method

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